CN105814529A - 触摸屏、显示装置及触摸屏的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供可以实现布线的细化且抑制布线显现、改善外观的触摸屏、显示装置以及触摸屏的制造方法。采用如下技术方案：第1电极组沿在俯视时与第2电极组交叉的方向延伸，第1布线的大部分或全部以在俯视时其线宽整体与遮光部重叠的方式配置，在以显示器装置为基准时，第1电极部位于介电部的外侧，第1布线和/或第2布线的线宽根据高度而不同，最外侧部位的线宽小于最内侧部位的线宽。

Description

触摸屏、显示装置及触摸屏的制造方法
技术领域
本发明涉及触摸屏。尤其，本发明涉及投影型静电容量方式的触摸屏。并且，本发明涉及具备该触摸屏的显示装置。进而，本发明涉及该触摸屏的制造方法。
背景技术
一直以来，作为电脑、便携式信息终端等电子设备的输入装置，已知有投影型静电容量方式的触摸屏。
该投影型静电容量方式的触摸屏分别内置有多个沿规定的方向(以下称为X轴方向)延伸的X轴电极和相对于前述规定的方向沿正交方向(以下称为Y轴方向)延伸的Y轴电极。此外，这些X轴电极和Y轴电极配置成矩阵状，各X轴电极和各Y轴电极上连接有控制器。并且，其结构为：在使用者用手指等进行操作时，检测各电极与手指等之间的静电容量值，确定使用者的操作位置。
然而，为了用于大屏幕的显示器装置等，已知有这些X轴电极和Y轴电极使用金等细金属丝的触摸屏(例如专利文献1、2)。
使用该细金属丝的触摸屏通过对层叠有金等的金属层的基板进行图案化而在基板上形成有多条微细的细金属丝。
例如，在使用该细金属丝的触摸屏中，有的通过制作以相互平行的方式配置有多条细金属丝的2块基板并将这些基板重叠而形成上述X轴电极和Y轴电极。
使用该细金属丝的触摸屏由于用细金属丝平行形成多条布线，因此可以使布线低电阻化，即使是大屏幕的显示器装置等也可以适宜地使用。此外，该触摸屏的周边布线也可以用与细金属丝相同的物质在同一平面上一次性形成，还可以减少制造工序。
然而，常规显示器装置的显示面上具备具有红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的各亚像素的像素部和将各亚像素隔开的网格状的黑色矩阵。
上述触摸屏中，细金属丝会沿X轴方向和Y轴方向铺成网格状。因此，在显示器装置的显示面上设置该触摸屏时，细金属丝会与显示颜色信息的像素部重叠，细金属丝会阻断来自亚像素部的光。即，该触摸屏由于像素部的一部分被细金属丝阻塞、像素部的开口率降低，因此存在显示器装置的亮度降低的问题。此外，由于具有规则的重复形状的细金属丝和同样具有规则的重复形状的黑色矩阵以平面方式斜着重叠，使得细金属丝与黑色矩阵产生周期性的交叉部分，该周期性产生的交叉部位会阻挡来自像素部的光。因此，存在产生波纹、品质变差的问题。
因此，该专利文献1提出了通过以比黑色矩阵的宽度窄的方式形成细金属丝、与黑色矩阵重叠配置来提高细金属丝的不可见性、防止显示器装置的亮度降低的手段。另外，除了上述以外，作为记载了与本发明相关的现有技术的文献，有专利文献3、4。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-259063号公报
专利文献2：日本特开平09-258894号公报
专利文献3：日本特开2012-103761号公报
专利文献4：日本特开2013-069257号公报
发明内容
发明所要解决的问题
近年来，显示器装置不断高精细化，亚像素部的大小减小，黑色矩阵的宽度也越来越细。即，为了维持细金属丝的不可见性，需要配合黑色矩阵的宽度的减少来使细金属丝细化。
因此，本发明人试制了如图29所示的触摸屏200，以实现细金属丝的细化。
该试制的触摸屏200如图29、图30所示，用透明光学粘合薄膜207将在单面具有多条细金属丝201、202的2块薄膜基板205、206以细金属丝201、202彼此对置的方式粘贴而形成。
该试制的触摸屏200以铜等有色金属形成细金属丝201、202，如图30所示，在俯视时将细金属丝201和细金属丝202配置成网格状。然后，在细金属丝201、202上连接未图示的控制器，制成通过分别对细金属丝201、202检测静电容量来确定使用者的操作位置的结构。
该试制的触摸屏200由于使细金属丝201、202细化得比常规的细金属丝还要细，因此通过在减小细金属丝201、202的线宽的同时增加厚度而实现了确保导电通路。然后，将该试制的触摸屏200如图29所示，以细金属丝201、202沿厚度方向与黑色矩阵209重叠的方式设置于显示装置208中，形成显示装置210。
对该显示装置210进行了研究，结果发现了如下问题。
即，试制的触摸屏200为了确保足够的布线电阻而增加了细金属丝201、202的厚度。当然，如果增加细金属丝201、202的厚度，则截面积增大，因此能够降低触摸屏200中的布线电阻。
然而，试制的触摸屏200由于细金属丝201、202的厚度厚，因此来自显示装置208的像素的一部分光会在细金属丝201、202的侧面被反射而朝向使用者。因此，触摸屏200中产生了细金属丝201、202的颜色显眼、外观(品质)变差的问题。
因此，本发明的目的在于提供可以使布线细化、并且抑制布线显现、改善了外观的触摸屏及使用其的显示装置。并且，其目的在于提供可以使布线细化、并且抑制布线显现、改善了外观的触摸屏的制造方法。
用于解决问题的手段
用于解决上述问题的本发明的一个方式为一种触摸屏，所述触摸屏安装于显示器装置，所述显示器装置具备具有多个亚像素部、显示颜色信息的像素部和将前述亚像素部间隔开的遮光部，所述触摸屏以覆盖前述像素部和前述遮光部的方式设置，其中，所述触摸屏具有第1电极部、第2电极部和夹在第1电极部与第2电极部之间的介电部，前述第1电极部具有由1个或多个第1布线形成的第1电极组，前述第2电极部具有由1个或多个第2布线形成的第2电极组，前述第1电极组沿在俯视时与前述第2电极组交叉的方向延伸，前述第1布线的大部分或全部以在俯视时其线宽整体与遮光部重叠的方式配置，在以前述显示器装置为基准时，前述第1电极部位于介电部的外侧，前述第1布线和/或前述第2布线的线宽根据高度而不同，最外侧部位的线宽小于最内侧部位的线宽。
此处所说的“线宽”表示与俯视时的延伸方向正交的长度。
此处所说的“大部分”是指第1布线整体的80百分比(％)以上的部分。
此处所说的“介电部”是指由介电性优于导电性的物质形成的部位或构件。
根据本方式，形成从显示器装置侧依次为第2电极部、介电部、第1电极部的位置关系，相对于第2电极部，第1电极部处于离使用者侧更近的位置。
此外，根据本方式，第1布线和/或第2布线由于沿来自显示器装置的光发生扩散的方向(朝向使用者的方向)变细，因此来自像素部的光不容易到达第1布线和/或第2布线的侧面，能够提高第1布线和/或第2布线的不可见性。
进而，根据本方式，第1布线和/或第2布线由于最外侧(使用者侧)的线宽比最内侧的线宽小，因此第1布线和/或第2布线的厚度方向的外侧端部的面积与内侧端部的面积相比较小。因此，来自使用者侧的光不容易在该外侧端部发生反射，还能够抑制由反射造成的眩光。
根据本方式，由1个或多个第1布线形成的第1电极组和由1个或多个第2布线形成的第2电极组在俯视时为相互交叉的关系。即，在使用者进行操作时，通过检测各电极组下的静电容量，能够确定使用者的操作位置。
根据本方式，第1布线的大部分或全部以在俯视时其线宽整体与遮光部重叠的方式配置。即，由于在不会被来自显示器装置的光照射的部位配置第1布线，因此与以往相比，透射率提高，可以实现低耗电量化。此外，根据本方式，与以往相比，能够提高第1布线的不可见性，还能够提高显示品质。
优选的方式是，前述第1布线以前述显示器装置为基准，其线宽根据高度而不同，最外侧部位的线宽小于最内侧部位的线宽，进而，线宽从外侧端部开始向内侧逐渐增大。
根据本方式，在第1布线的侧面的一部分或全部具有至少从外侧端部开始向内侧倾斜的倾斜部位。因此，第1布线的不可见性的效果更显著地显现。
优选的方式是，前述第1布线的最大线宽小于前述第2布线的最大线宽。
根据本方式，离使用者的眼睛近的一侧的第1布线的最大线宽小于离使用者的眼睛远的一侧的第2布线的最大线宽。即，利用基于位置关系的使用者的观察方式，由于使第2布线的最大线宽大于第1布线的最大线宽，因此与第1布线相比，能够抑制第2布线的厚度。因此，能够抑制触摸屏整体的厚度。
优选的方式是，前述第2布线以前述显示器装置为基准，其线宽根据高度而不同，最外侧部位的线宽小于最内侧部位的线宽，进而，线宽从外侧端部开始向内侧逐渐增大。
根据本方式，在第2布线的侧面的一部分或全部具有至少从外侧端部开始向内侧倾斜的倾斜部位。因此，第2布线的不可见性的效果更显著地显现。
另外，试制的触摸屏200中，作为在如上所述进行组装时使薄膜基板205、206一体化的手段，使用了透明光学粘合薄膜207进行粘接。
然而，在如上所述地试制的触摸屏200中，增加了细金属丝201、202的厚度。因此，如图31所示，在粘贴透明光学粘合薄膜207时，透明光学粘合薄膜207会与细金属丝201、202的角部接触。即，透明光学粘合薄膜207被挡在细金属丝201、202的角部，在细金属丝201、202的侧面与透明光学粘合薄膜207之间了形成间隙211。因此，试制的触摸屏200由于该间隙211的存在，使得细金属丝201、202与透明光学粘合薄膜207未充分密合，出现了能看到进入了大的气泡等、形成外观差的产品的情况。因此，试制的触摸屏200的成品率差。
因此，更优选的方式是，前述介电部具有薄膜状的粘合部，前述粘合部以前述显示器装置为基准，从外侧被覆前述第2布线，在前述第2布线的侧面实质上无间隙地密合。
此处所说的“实质上无间隙地密合”表示没有进入直径为100nm以上的大小的气泡等地密合的状态。
根据本方式，薄膜状的粘合部在线宽从外侧端部开始向内侧逐渐增大的第2布线的侧面上被覆并实质上无间隙地密合。因此，在第2布线与介电部之间不容易进入气泡，外观良好。此外，还能够抑制次品的产生，成为成品率良好的触摸屏。
优选的方式是，前述第1电极组具有至少2条第1布线，前述2条第1布线隔开规定间隔而并排配置，前述第1电极组具备连接前述2条第1布线的第1冗余线。
根据本方式，由于属于一个第1电极组的2条第1布线通过第1冗余线连接，因此形成2条第1布线通过第1冗余线并联电连接的关系。因此，即使第1布线的一部分发生断线，也能够通过第1冗余线补偿通电，能够确保第1电极组整体的导电通路。因此，能够抑制检测次品的产生，能够提高成品率。
然而，从确保第1电极组的导电通路的角度来看，第1冗余线并不一定需要与第1布线同样的截面积。即，第1冗余线与第1布线等主要布线相比，可以进行一定程度的细化。
因此，更优选的方式是，前述第1冗余线在俯视时线宽整体与第2布线重叠，前述第1冗余线的最大线宽小于前述第2布线的最大线宽。
根据本方式，将在俯视时离使用者近的一侧的第1冗余线与离使用者远的一侧的第2布线重叠配置，使第1冗余线的最大线宽小于第2布线的最大线宽。因此，在防止由第1冗余线的存在而导致的开口率降低的同时，能够确保第1冗余线的设置位置。
优选的方式是，前述第2电极组具有至少2条第2布线，前述2条第2布线隔开规定间隔而并排配置，前述第2电极组具备连接前述2条第2布线的第2冗余线。
根据本方式，由于属于一个第2电极组的2条第2布线通过第2冗余线连接，因此形成2条第2布线通过第2冗余线并联电连接的关系。因此，即使第2布线的一部分发生断线，也能够通过第2冗余线补偿通电，能够确保第2电极组整体的导电通路。因此，能够抑制检测次品的产生，能够提高成品率。
上述方式中，前述第1布线的一部分在俯视时，线宽整体也可以与第2冗余线重叠。
根据该方式，能够确保第2冗余线的设置位置。
更优选的方式是，前述第1布线由金属形成，是不透明的。
此处所说的“不透明”是指光的透射率为5％以下的状态。
根据本方式，第1布线为金属制、具有达到不透明的程度的厚度。即使在这种情况下，根据本方式，第1布线的不可见性仍高。
上述方式可以是第2布线由金属形成，是不透明的。
根据该方式，第2布线为金属制、具有达到不透明的程度的厚度。即使在这种情况下，第2布线的不可见性仍高。
上述方式也可以是在以前述显示器装置为基准时，前述第1布线和/或前述第2布线具有作为最外侧部位的外侧端面和作为最内侧部位的内侧端面，在俯视时，外侧端面位于内侧端面的宽度方向的中央。
与上述发明相关的方案为一种显示装置，所述显示装置具有显示器部和触摸屏部，所述显示器部具备具有多个亚像素部、显示颜色信息的像素部和将前述亚像素部间隔开的遮光部，所述触摸屏部以覆盖前述像素部和前述遮光部的方式配置，其中，具有第1电极部、第2电极部和夹在第1电极部与第2电极部之间的介电部，前述第1电极部具有由1个或多个第1布线形成的第1电极组，前述第2电极部具有由1个或多个第2布线形成的第2电极组，前述第1电极组沿在俯视时与前述第2电极组交叉的方向延伸，前述第1布线的大部分或全部以在俯视时其线宽整体与遮光部重叠的方式配置，在以前述显示器部为基准时，前述第1电极部位于介电部的外侧，前述第1布线和/或第2布线的线宽根据高度而不同，最外侧部位的线宽小于最内侧部位的线宽。
根据该方式，能够提高第1布线和/或第2布线的不可见性，并且来自使用者侧的光不容易在该外侧端部发生反射，能够抑制由反射造成的眩光、外观变差。
根据该方式，与以往相比，透射率提高、低耗电量化成为可能。此外，与以往相比，能够提高第1布线的不可见性，还能够提高显示品质。
本发明的一个方式为一种显示装置，所述显示装置具有上述方式的触摸屏和显示器装置，所述显示器装置具备像素部和遮光部。
根据本方式，能够形成触摸屏的第1电极组和第2电极组不容易被看到的显示装置。
然而，为液晶面板等显示器装置的情况下，一般视场角窄。因此，为了扩宽其视场角，有时会使来自液晶的光折射并显示在触摸屏上。这种情况下，调节像素部与触摸屏之间的构件的折射率，或新导入构件，使自液晶发出的光折射，使其在扩宽至规定角度的状态下入射至触摸屏。
由此，使得视场角扩宽，但另一方面，在光以锐角入射至触摸屏的情况下，变得容易在位于使用者侧的第1布线的侧面被反射。即，存在使用者变得容易看到第1布线的问题。
因此，优选的方式是，具有使来自前述亚像素部的光折射的折射构件，前述折射构件夹在前述触摸屏与前述亚像素部之间，前述第1布线具有与介电部接触的第1端部和沿与第1端部交叉的方向延伸的侧面部，前述侧面部为相对于第1端部倾斜的倾斜面，当光从亚像素部相对于折射构件垂直入射，设被前述折射构件折射的光相对于触摸屏的入射角为σ时，该倾斜面相对于第1端部的倾斜角为(90-σ)度以下。
根据本方式，被折射构件折射的光避开第1布线而透过，因此能够防止由第1布线在侧面部处发生反射而导致的品质变差。并且，由于能够防止第1布线处的反射，因此能够提高光的透射率。
此外，上述方式可以是，前述第1布线具有与介电部接触的第1端部和沿与第1端部交叉的方向延伸的侧面部，前述侧面部为相对于第1端部倾斜的倾斜面，在设来自前述显示器装置侧的光相对于触摸屏的入射角为δ时，该倾斜面相对于第1端部的倾斜角为(90-δ)度以下。
上述方式也可以以在俯视时第1布线的90％以上的部位与遮光部重叠的方式配置。
上述方式也可以以在俯视时第2布线的90％以上的部位与遮光部重叠的方式配置。
上述方式中，第1布线和/或第2布线的与长度方向正交的剖面形状可以是三角形、梯形、半圆形、半椭圆形、六边形中的任一形状。
本发明的一个方式为上述方式的触摸屏的制造方法，所述触摸屏具有支撑前述第1电极组或第2电极组的基材，由前述基材支撑的第1布线或第2布线至少其侧面由导电层形成，所述制造方法具有在前述基材上形成第1电极组或第2电极组的电极组形成工序，前述电极组形成工序包括下述工序：在前述基材上形成基底层的基底层形成工序，在前述基底层上形成抗蚀层的抗蚀层形成工序，在前述抗蚀层中形成贯穿孔的贯穿孔形成工序，通过前述贯穿孔在基底层上形成导电层的导电层形成工序，以及自前述基底层去除抗蚀层的抗蚀剂去除工序，前述贯穿孔为沿规定方向延伸的长槽，与贯穿孔的延伸方向正交的剖面中的内侧面间的间隔沿抗蚀层的厚度方向逐渐变化。
此处所说的“与贯穿孔的延伸方向正交的剖面”是相对于抗蚀层正交的方向的剖面，是由贯穿孔的宽度方向成分和深度方向成分形成的平面。
根据本方式，在贯穿孔形成工序中使第1布线或第2布线的内侧面的至少一部倾斜，因此在导电层形成工序中能够反映该内侧面的倾斜而形成第1布线或第2布线的侧面。因此，能够容易地控制第1布线或第2布线的侧面形状。此外，在触摸屏具备多个第1布线或第2布线的情况下，通过形成抗蚀层的多个贯穿孔，能够同时形成多个第1布线或第2布线的侧面形状，因此可以缩短制造时间。
本发明的一个方式为上述方式的触摸屏的制造方法，所述触摸屏具有支撑前述第1电极组或前述第2电极组的基材，由前述基材支撑的第1布线或第2布线至少其侧面由导电层形成，所述制造方法具有在前述基材上形成第1电极组或第2电极组的电极组形成工序，前述电极组形成工序包括下述工序：在基材上形成导电层的导电层形成工序，在前述导电层上形成被图案化为规定形状的抗蚀层的抗蚀层形成工序，通过蚀刻液对前述导电层的一部分或全部进行蚀刻的蚀刻工序，以及从前述导电层去除抗蚀层的抗蚀剂去除工序，在前述蚀刻工序中，形成第1布线或第2布线的侧面形状。
根据本方式，在蚀刻工序中形成第1布线或第2布线的侧面形状，因此能够容易地控制侧面形状。此外，在触摸屏具备多个第1布线或第2布线的情况下，能够同时形成多个第1布线或第2布线的侧面形状，因此可以缩短制造时间。
本发明的一个方式为上述方式的触摸屏的制造方法，所述触摸屏具有支撑前述第1电极组或前述第2电极组的基材，由前述基材支撑的第1布线或第2布线至少其侧面由导电层形成，所述制造方法具有在前述基材上形成第1电极组或第2电极组的电极组形成工序，前述电极组形成工序包括下述工序：在前述基材上形成导电层的导电层形成工序，以及照射激光来去除前述导电层的一部分的激光工序，在前述激光工序中，通过激光的强度分布形成第1布线或第2布线的侧面形状。
此处所说的“激光的强度分布”是指即将从激光产生装置照射激光前的强度分布。
根据本方式，通过激光的强度分布形成第1布线或第2布线的侧面形状，因此即使不使用抗蚀剂等也可以实现第1布线或第2布线的图案化。因此，能够降低制造成本。
发明效果
根据本发明的触摸屏和显示装置，能够提高第1布线和/或第2布线的不可见性，随之能够提高显示品质。并且，能够抑制由第1布线和/或第2布线的存在而导致的光的遮蔽，因此还能够提高透射率。进而，可以实现布线的细化，并且抑制布线显现，改善外观。
根据本发明的触摸屏的制造方法，能够容易地形成第1布线的侧面形状。
附图说明
图1是示意性示出本发明的第1实施方式的显示装置的立体图。
图2是图1的显示装置的立体分解图。
图3是图1的触摸屏的立体分解图。
图4是图3的触摸屏的主要部分的立体分解图。
图5是图4的触摸屏的说明图，(a)是触摸屏的主要部分的A-A剖视图，(b)是触摸屏的主要部分的B-B剖视图。
图6是图4的触摸屏的说明图，(a)是触摸屏的主要部分的C-C剖视图，(b)是触摸屏的主要部分的D-D剖视图。
图7是图3的触摸屏的说明图，(a)是示出第1电极部的俯视图，(b)是示出第2电极部的俯视图。
图8是示出图4的触摸屏的主要部分的说明图，是示意性示出第1电极组与第2电极组的位置关系的立体图。
图9是示意性示出图2的显示器装置的一部分的立体图。
图10是示出本发明的第1实施方式中的显示器装置的显示面与第1电极组和第2电极组的位置关系的说明图。
图11是本发明的第1实施方式的触摸屏的制造方法的说明图，(a)～(e)是示出第1电极组形成工序的各制造工序中的剖视图。
图12是本发明的第1实施方式的触摸屏的制造方法的说明图，(a)～(d)是示出第1电极组形成工序的各制造工序中的剖视图。
图13是图2的显示器装置的剖视图，为了易于理解，除了遮光部和薄膜晶体管以外的部位省略了剖面线。
图14是本发明的第1实施方式的触摸屏的说明图，是在第2电极部上粘贴有介电构件时的剖视图。
图15是对本发明的第1实施方式的显示装置的功能进行说明的概念图，(a)是在第1布线的侧面部具有倾斜面时的说明图，(b)是不在第1布线的侧面部具有倾斜面时的说明图。
图16是对本发明的第1实施方式的显示装置的功能进行说明的概念图，(a)是在第1布线的侧面部具有倾斜面时的说明图，(b)是不在第1布线的侧面部具有倾斜面时的说明图。
图17是第2实施方式的触摸屏的制造方法的说明图，(a)～(f)示出第1电极组形成工序的各工序中的剖视图。
图18是第2实施方式的触摸屏的制造方法的说明图，(a)～(d)示出第1电极组形成工序的各工序中的剖视图。
图19是第2实施方式的触摸屏的制造方法的说明图，(a)～(c)示出第2电极组形成工序的各工序中的剖视图。
图20是第3实施方式的触摸屏的制造方法的说明图，(a)～(d)示出第1电极组形成工序的各制造工序中的剖视图。
图21是第3实施方式的触摸屏的制造方法的说明图，(a)～(d)示出第2电极组形成工序的各制造工序中的剖视图。
图22是本发明的其他实施方式中的第1布线的说明图，(a)～(d)分别示出不同的实施方式中的剖视图。
图23是示意性示出本发明的其他实施方式中的显示装置的剖视图。
图24是图23的显示装置内的光路的说明图。
图25是本发明的其他实施方式中的触摸屏的说明图，(a)是剖视图，(b)是(a)的A-A剖视图。
图26是本发明的其他实施方式中的触摸屏的说明图，(a)是剖视图，(b)是(a)的A-A剖视图。
图27是本发明的其他实施方式中的触摸屏的说明图，(a)是剖视图，(b)是(a)的A-A剖视图。
图28是本发明的其他实施方式中的触摸屏的剖视图。
图29是示意性示出试制的显示装置的剖视图。
图30是示出试制的细金属丝的位置关系的俯视图。
图31是在试制的触摸屏中在细金属丝上粘贴有透明光学粘合薄膜时的剖视图。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式详细进行说明。
本发明涉及显示装置1。以下，上下位置关系在没有特别声明的情况下以图1的姿势为基准进行说明。即，触摸屏2侧为上且显示器装置3侧为下。此外，在以下说明中，物性在没有特别声明的情况下为标准状态(1个大气压、摄氏25度)下的值。
本实施方式的显示装置1如图1、图2所示，具备触摸屏2和显示器装置3。
触摸屏2是投影型静电容量方式的触摸屏，可以检测指尖等的操作并输入显示器装置3、电脑等外部设备。此外，触摸屏2在投影型静电容量方式的触摸屏中为矩阵型的触摸屏。
触摸屏2如图3所示，具有第1电极部10、介电构件11(介电部)和第2电极部12。
第1电极部10如图7(a)所示，在第1基材15(基材)上多个第1电极组20成面状扩散分布。第1电极部10的各第1电极组20沿纵向Y隔开规定间隔而并列。并且，各第1电极组20相互平行。
第1基材15是支撑第1电极组20的透明基材，是片状或薄膜状的绝缘基材。
作为第1基材15，如果具有绝缘性则并没有特别限定，例如可以采用由玻璃、聚酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等透明材料形成的绝缘基材。
此外，第1基材15的折射率优选为1.40～1.70。
本实施方式的第1基材15使用PET薄膜，其折射率为1.58左右。
第1电极组20如图3所示，具备至少一根第1布线21。
对构成第1电极组20的第1布线21的根数没有特别限定，优选为2根以上，更优选为3根以上。
通过由多根第1布线21形成第1电极组20，使得伴随使用者的操作的静电容量的检测更加准确。并且，由于各第1布线21相互并联电连接，布线电阻降低，响应速度提高。
另一方面，1个第1电极组20所具有的第1布线21的根数过多时，会因第1电极组20阻断来自显示器装置3的光，由于显示器装置3的亮度降低和自使用者侧看得到第1布线21而导致外观变差。因此，虽然还要取决于显示器装置3的尺寸，但构成各第1电极组20的第1布线21的根数优选为50根以下，更优选为20根以下，进一步优选为10根以下。
需要说明的是，本实施方式中，各第1电极组20实际上具备19根第1布线21，但为了易于理解，各附图对于1个第1电极组20，分别仅绘制了3根第1布线21。
此外，第1电极组2如图4、图7(a)所示，具有多根第1布线21。进而，第1电极组20具有将邻接的第1布线21、21间连接的第1冗余线22和第1连接部23、24。
第1布线21是发挥检测使用者的操作位置的功能的部位，是在横向X上沿直线延伸的导电线。各第1布线21在纵向Y上隔开规定间隔而平行排列。
第1布线21只要是导电体则并没有特别限定。例如可以由铜或银、金、铂、铝、铬等金属、或金属合金、金属复合体等形成。
本实施方式中，第1布线21由有色金属的铜形成，为一定以上的厚度，是不透明的。
从进一步减小电阻的角度来看，第1布线21中的非导体成分的含有率优选为全部成分的0％以上且10％以下，更优选为2％以下。
此处所说的“非导体成分”是指导体以外的成分，表示树脂、有机物等实质上不具有导电性的杂质成分。
第1连接部23、24是将邻接的第1布线21、21的端部间连接的部位，是将各第1布线21并联电连接的部位。
第1冗余线22如图4、图7(a)所示，是沿与第1布线21交叉的方向延伸的导电线，其将邻接的第1布线21、21的中间部连接。
本实施方式的第1冗余线22与第1布线21的长度方向正交，沿纵向Y(与横向X正交的方向)延伸。
需要说明的是，此处所说的“中间部”是指长度方向的中间的部位，是端部以外的部位。
第1冗余线22只要是导电体则并没有特别限定。例如可以由铜或银、金、铂、铝、铬等金属、或金属合金、金属复合体等形成。
本实施方式中，第1冗余线22由与第1布线21相同的材料形成。
在此，对第1电极组20的各部位的剖面形状进行说明。
第1布线21如图5(a)的放大图所示，剖面形状(与长度方向正交的剖面)为等腰梯形，从第1基材15侧起具有基端面30、侧面部31、32和前端面33(第1端部)。
需要说明的是，在以下的第1布线21、第1冗余线22、第2布线26和第2冗余线27的说明中，将离基材近的一侧的面也称为基端面，将距基材远的一侧的面也称为前端面。
基端面30是与第1基材15接合、形成界面的部位。即，基端面30是以第1基材15为基准，位于第1布线21的最内侧(距显示器装置3远的一侧)的部位。
侧面部31、32是形成第1布线21的侧面的部位，至少具有倾斜面35、36。
倾斜面35、36是沿与基端面30交叉的方向倾斜的部位，随着从基端面30侧到前端面33侧而相互背离。即，第1布线21随着从基端面30侧到前端面33侧，与厚度方向正交的截面积逐渐增大。从另一角度来看的话，第1布线21的剖面形状可以说是相对于第1基材15为倒锥形。即，第1布线21的线宽根据高度而不同。
此外，本实施方式的倾斜面35、36从基端面30直到前端面33形成在侧面部31、32整体。
图5(a)所示的前端面33与倾斜面35所成的角度θ1和前端面33与倾斜面36所成的角度θ2分别优选为25度以上，更优选为30度以上。
通过使角度θ1、θ2在该范围，使得来自使用者侧的光(环境光)在倾斜面35、36发生反射，由此能够抑制从使用者侧看到第1布线21。因此，显示装置1的外观改善。
此外，倾斜面35、36的倾斜角度θ1、θ2优选为80度以下，更优选为70度以下。
通过使角度θ1、θ2在该范围，能够抑制来自显示器装置3侧的光被倾斜面35、36阻断，因此能够防止显示器装置3的亮度的降低，抑制从使用者侧看到第1布线21。因此，显示装置1的外观改善。
需要说明的是，本实施方式中，倾斜面35、36的角度θ1、θ2均为60度。
前端面33是与基端面30相对置的部位，是以第1基材15为基准，位于第1布线21的最外侧(图5中的下侧)的部位。
前端面33的线宽W1大于基端面30的线宽W2，优选为基端面30的线宽W2的1.1倍以上且3倍以下，更优选为1.2倍以上且2倍以下。
此外，从确保足够的导电通路的角度来看，图5(a)的放大图所示的第1布线21的厚度D1(基端面30到前端面33的距离)优选为0.5μm以上，更优选为0.8μm以上。
从抑制来自显示器装置3的光在侧面部31、32的反射的角度来看，第1布线21的厚度D1优选为2μm以下，更优选为1.5μm以下。
需要说明的是，本实施方式中，第1布线21的厚度D1为1μm左右。
第1冗余线22如图6(b)的放大图所示，为与第1布线21大致同样的形状。即，第1冗余线22从第1基材15侧起具有基端面40、侧面部41、42和前端面43。
基端面40是与第1基材15接合、形成界面的部位，是以第1基材15为基准，位于第1冗余线22的最内侧的部位。
侧面部41、42是形成第1冗余线22的侧面的部位，至少具有倾斜面45、46。
倾斜面45、46沿与基端面40交叉的方向倾斜，随着从基端面40侧到前端面43侧而相互背离。
此外，本实施方式的倾斜面45、46为倒锥形，从基端面40直到前端面43形成在侧面部41、42整体。
图6(b)所示的前端面43与倾斜面45所成的角度θ3和前端面43与倾斜面46所成的角度θ4分别优选为25度以上，更优选为30度以上。
通过使角度θ3、θ4在该范围，使得来自使用者侧的光(环境光)在倾斜面45、46发生反射，由此能够抑制从使用者侧看到第1冗余线22。因此，显示装置1的外观改善。
此外，倾斜面45、46的倾斜角度θ3、θ4分别优选为80度以下，更优选为70度以下。
通过使角度θ3、θ4在该范围，能够抑制来自显示器装置3侧的光被倾斜面45、46阻断，因此能够防止显示器装置3的亮度的降低，抑制从使用者侧看到第1冗余线22。因此，显示装置1的外观改善。
需要说明的是，本实施方式中，倾斜面45、46的角度θ3、θ4均为60度。
前端面43是与基端面40相对置的部位，是以第1基材15为基准，位于第1冗余线22的最外侧的部位。
前端面43的线宽W3优选大于基端面40的线宽W4，更优选为基端面40的线宽W4的1.1倍以上且3倍以下，进一步优选为1.2倍以上且2倍以下。
此外，从确保足够的导电通路的角度来看，第1冗余线22的厚度D2(基端面40到前端面43的距离)优选为0.5μm以上，更优选为0.8μm以上。
从抑制来自显示器装置3的光在侧面部41、42的反射的角度来看，第1冗余线22的厚度D2优选为2μm以下，更优选为1μm以下。
本实施方式中，第1冗余线22的厚度D2为与第1布线21的厚度D1同等程度的厚度。
如果着眼于将第1电极部10与第2电极部12连接的介电构件11，则介电构件11是具有透明性、且介电性优于导电性的构件。
介电构件11的介电常数优选在标准状态下为2以上且4以下。
此外，介电构件11如图4所示，为片状或薄膜状，具有粘接性或粘合性。
介电构件11可以是在表面具备具有粘合功能的薄膜状或片状的粘合剂的片状体或薄膜状体，也可以使流动体的粘接剂固化而形成薄膜状或片状。
此外，介电构件11的折射率可根据第1基材15、第2基材16的材质等而适当设定，优选为1.40～1.60。
本实施方式中，采用折射率1.48的透明光学粘合薄膜(OCA薄膜)，在两面具有粘合部。
关于介电构件11的平均厚度，从确实地防止第1电极部10与第2电极部12间的导电的角度来看，优选为10μm以上，从抑制噪声等的影响的角度来看，更优选为20μm以上。
此外，关于介电构件11的平均厚度，从通过第2电极部12准确感知静电容量的角度来看，优选为120μm以下，从通过第2电极部12确实地感知静电容量的角度来看，更优选为100μm以下。
第2电极部12如图4所示，在第2基材16(基材)上多个第2电极组25成面状扩散分布。第2电极部12如图7(b)所示，各第2电极组25沿横向X(与纵向Y正交的方向，且与厚度方向正交的方向)隔开规定间隔而并列。并且，各第2电极组25相互平行。
第2基材16是支撑第2电极组25的透明基材，是片状或薄膜状的绝缘基材。
作为第2基材16，只要具有绝缘性则并没有特别限定。例如可以采用由玻璃、聚酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等的透明材料形成的绝缘基材。
第2基材16的折射率优选为1.40～1.70。
本实施方式的第2基材16与第1基材15同样采用PET薄膜，其折射率为1.58左右。即，第2基材16的折射率大于介电构件11的折射率。
各第2电极组25如图7(b)所示，具备至少一根第2布线26。
对构成各第2电极组25的第2布线26的根数没有特别限定，优选为2根以上，更优选为3根以上。
通过由多根第2布线26形成第2电极组25，使得伴随使用者的操作的静电容量的检测更加准确。并且，由于各第2布线26并联电连接，布线电阻降低，响应速度提高。
另一方面，1个第2电极组25所具有的第2布线26的根数过多时，会因第2电极组25阻断来自显示器装置3的光，由于显示器装置3的亮度降低和从使用者侧看到第2布线26而导致外观变差。因此，虽然还要取决于显示器装置3的尺寸，但构成各第2电极组25的第2布线26的根数优选为50根以下，更优选为20根以下，进一步优选为10根以下。
需要说明的是，本实施方式中，各第2电极组25实际上具备19根第2布线26，但为了易于理解，各附图对于1个第2电极组25，分别仅绘制了3根第2布线26。
第2电极组25如图7(b)所示，具有多根第2布线26。进而，第2电极组25具有将邻接的第2布线26、26间连接的第2冗余线27和第2连接部28、29。
第2布线26是发挥检测使用者的操作位置的功能的部位，是在纵向Y上沿直线延伸的导电线。各第2布线26在横向X上隔开规定间隔而平行排列。
第2布线26只要是导电体则并没有特别限定。例如与第1布线21同样，可以由铜或银、金、铂、铝、铬等金属、或金属合金、金属复合体等形成。
本实施方式中，第2布线26由有色金属的铜形成，为一定以上的厚度，是不透明的。
从进一步减小电阻的角度来看，第2布线26中的非导体成分的含有率优选为全部成分的0％以上且10％以下，更优选为2％以下。
第2连接部28、29是将邻接的第2布线26、26的端部间连接的部位，是将各第2布线26并联电连接的部位。
第2冗余线27是沿与第2布线26交叉的方向延伸的导电线，其将邻接的第2布线26、26的中间部连接。
本实施方式的第2冗余线27与第2布线26正交，沿横向X延伸。
第2冗余线27只要是导电体则并没有特别限定。例如可以由铜或银、金、铂、铝、铬等金属、或金属合金、金属复合体等形成。
本实施方式中，第2冗余线27由与第2布线26相同的材料形成。
在此，对第2电极组25的各部位的剖面形状进行说明。
第2布线26如图6(a)的放大图所示，为将第1布线21上下颠倒的形状，剖面形状(与长度方向正交的剖面)为等腰梯形。
第2布线26从第2基材16侧起具有基端面50、侧面部51、52和前端面53。
基端面50是与第2基材16接合、形成界面的部位，是以第2基材16为基准，位于第2布线26的最内侧(离显示器装置3近的一侧)的部位。
侧面部51、52是形成第2布线26的侧面的部位，至少具有倾斜面55、56。
倾斜面55、56是沿与基端面50交叉的方向倾斜的部位，随着从基端面50侧到前端面53侧而相互接近。即，第2布线26随着从基端面50侧到前端面53侧，与厚度方向正交的截面积逐渐减小。
从另一角度来看的话，第2布线26的剖面形状可以说是为锥形。即，第2布线26的线宽根据高度而不同。
此外，本实施方式的倾斜面55、56从基端面50直到前端面53形成在侧面部51、52整体。即，前端面53与倾斜面55、56所成的角度为钝角。换言之，前端面53与侧面部51、52所成的角部与前端面53与侧面部51、52正交的情况(前端面53与侧面部51、52所成的角为90度)相比较缓。
基端面50与倾斜面55所成的角度θ5和基端面50与倾斜面56所成的角度θ6分别优选为25度以上，更优选为30度以上。
通过使角度θ5、θ6在该范围，使得来自使用者侧的光(环境光)在倾斜面55、56发生反射，由此能够抑制从使用者侧看到第2布线26。因此，显示装置1的外观改善。
此外，倾斜面55、56的倾斜角度θ5、θ6优选为80度以下，更优选为70度以下。
通过使角度θ5、θ6在该范围，能够抑制来自显示器装置3侧的光被倾斜面55、56阻断，因此能够防止显示器装置3的亮度的降低，抑制从使用者侧看到第2布线26。因此，显示装置1的外观改善。
此外，倾斜面55、56的角度θ5、θ6优选与第1冗余线22的倾斜面45、46的角度θ3、θ4(参见图6(b))为相同角度，或优选在角度θ3、θ4±5％以内的范围。
需要说明的是，本实施方式中，倾斜面55、56的角度θ5、θ6均为60度，与第1冗余线22的倾斜面45、46的角度θ3、θ4(参见图6(b))为相同角度。
前端面53是与基端面50相对置的部位，是以第2基材16为基准，位于第2布线26的最外侧的部位。
基端面50的线宽W6优选大于前端面53的线宽W5，更优选为前端面53的线宽W5的1.1倍以上且3倍以下，进一步优选为1.2倍以上且2倍以下。
此外，从确保足够的导电通路的角度来看，第2布线26的厚度D3(基端面50到前端面53的距离)优选为0.3μm以上，更优选为0.5μm以上。
从抑制来自显示器装置3的光在侧面部51、52的反射的角度来看，第2布线26的厚度D3优选为1.5μm以下，更优选为1.2μm以下。
需要说明的是，本实施方式中，为了使第2布线26的电阻率与第1布线21的电阻率为同等程度，第2布线26的厚度D3小于第1布线21的厚度D1(参见图5(a))和第1冗余线22的厚度D2(参见图6(b))。具体而言，第2布线26的厚度D3为0.8μm左右。
第2冗余线27如图5(b)的放大图所示，为与第2布线26大致相同的形状，从第2基材16侧起具有基端面60、侧面部61、62和前端面63。
基端面60是以第2基材16为基准，位于第2冗余线27的最内侧的部位。
侧面部61、62是形成第2冗余线27的侧面的部位，至少具有倾斜面65、66。
倾斜面65、66是沿与基端面60交叉的方向倾斜的部位，随着从基端面60侧到前端面63侧而相互接近。
此外，本实施方式的倾斜面65、66为锥形，从基端面60直到前端面63形成在侧面部61、62整体。
基端面60与倾斜面65所成的角度θ7和基端面60与倾斜面66所成的角度θ8分别优选为25度以上，更优选为30度以上。
通过使角度θ7、θ8在该范围，使得来自使用者侧的光(环境光)在倾斜面65、66发生反射，由此能够抑制从使用者侧看到第2冗余线27。因此，显示装置1的外观改善。
此外，倾斜面65、66的倾斜角度θ7、θ8优选为80度以下，更优选为70度以下。
通过使角度θ7、θ8在该范围，能够抑制来自显示器装置3侧的光被倾斜面65、66阻断，因此能够防止显示器装置3的亮度的降低，抑制从使用者侧看到第2冗余线27。因此，显示装置1的外观改善。
此外，倾斜面65、66的角度θ7、θ8优选与第1布线21的倾斜面35、36的角度θ1、θ2(参见图5(a))为相同角度，或优选在角度θ1、θ2±5％以内的范围。
需要说明的是，本实施方式中，倾斜面65、66的角度θ7、θ8均为60度，与第1布线21的倾斜面35、36的角度θ1、θ2(参见图5(a))为相同角度。
前端面63如图5(b)所示，是与基端面60相对置的部位，是以第2基材16为基准，位于第2冗余线27的最外侧的部位。
基端面60的线宽W8优选大于前端面63的线宽W7，更优选为前端面63的线宽W7的1.1倍以上且3倍以下，进一步优选为1.2倍以上且2倍以下。
此外，从确保足够的导电通路的度来看，第2冗余线27的厚度D4(基端面60到前端面63的距离)优选为0.5μm以上，更优选为0.8μm以上。
从抑制来自显示器装置3的光在侧面部61、62的反射的角度来看，第2冗余线27的厚度D4优选为2μm以下，更优选为1.5μm以下。
本实施方式的第2冗余线27的厚度D4为与第2布线26的厚度D3同等程度的厚度，要薄于第1布线21的厚度D1。
在此，对触摸屏2的各部位的位置关系进行说明。
触摸屏2如图3所示，采用介电构件11夹在第1电极部10与第2电极部12之间的层叠结构。
即，第1基材15与第2基材16之间，如图4所示，在厚度方向(层叠方向)上，依次夹有第1电极组20、介电构件11、和第2电极组25。
第1布线21在俯视时与第2布线26交叉，第1冗余线22与第2冗余线27交叉。本实施方式中，第1布线21与第2布线26正交，第1冗余线22与第2冗余线27正交。
本实施方式如以下说明，基本上第1布线21与第2冗余线27的位置关系和第1冗余线22与第2布线26的位置关系相同。
第1布线21如图8所示，在厚度方向上与第2冗余线27重叠。第1布线21的侧面部31、32如图5(b)所示，比第2冗余线27的侧面部61、62更位于内侧(中央侧)。即，第1布线21被收在第2冗余线27的厚度方向的投影面上。
图5(a)所示的第1布线21的最大线宽W1优选与图5(b)所示的第2冗余线27的最大线宽W8相同、或小于最大线宽W8。
具体而言，第1布线21的最大线宽W1优选为第2冗余线27的最大线宽W8的50％以上且100％以下，优选为75％以上且90％以下。
为该范围时，在作为第1布线21确保充分的导电的同时，不容易妨碍通过第2冗余线27的附近的光的光路。
同样，第1冗余线22如图8所示，在厚度方向上与第2布线26重叠。第1冗余线22的侧面部41、42如图6(b)所示，位于第2布线26的侧面部51、52的内侧(中央侧)。即，第1冗余线22被收在第2布线26的厚度方向的投影面上。
图6(b)所示的第1冗余线22的最大线宽W3优选与图6(a)所示的第2布线26的最大线宽W6相同、或小于最大线宽W6。
具体而言，第1冗余线22的最大线宽W3优选为第2布线26的最大线宽W6的50％以上且100％以下，优选为75％以上且90％以下。
为该范围时，在作为第1冗余线22确保充分的导电的同时，不容易妨碍通过第2布线26的附近的光的光路。
接着，对显示器装置3进行说明。
显示器装置3如图9所示，至少在单面具有显示所期望的图像、文字等的显示面70。
显示面70具有像素部71和遮光部72。
像素部71是可显示所期望的颜色信息的部位。像素部71是由进行R(红色)、G(绿色)、B(蓝色)等的单色发光的亚像素部73配置成棋盘状而形成的。
遮光部72是以隔开亚像素部73间的方式配置的部位，是网格状的部位。并且，遮光部72是对各亚像素部73之间进行遮光的部位，是着色成黑色、白色等规定颜色的部位。
本实施方式的遮光部72着色成黑色，被称为所谓的黑色矩阵。
遮光部72如图9所示，由第1遮光部76和第2遮光部77形成。
第1遮光部76是沿横向X直线状延伸的部位，是对各亚像素部73在纵向Y上进行划分的部位。
图9所示的第1遮光部76的宽度W9大于第1布线21的最大线宽W1(图5(a)的前端面33的宽度)，大于第2冗余线27的最大线宽W8(图5(b)的基端面60的宽度)。第1遮光部76的宽度W9优选为第2冗余线27的最大线宽W8的1.2倍以上且2倍以下。
第2遮光部77是沿纵向Y直线状延伸的部位，是对各亚像素部73在横向X上进行划分的部位。
图9所示的第2遮光部77的宽度W10大于第1冗余线22的最大线宽W3(图6(b)的前端面43的宽度)，大于第2布线26的最大线宽W6(图6(a)的基端面50的宽度)。第2遮光部77的宽度W10优选为第2布线26的线宽W6的1.2倍以上且2倍以下。
接着，对显示装置1的各构成构件的位置关系进行说明。
触摸屏2如图2所示，以覆盖显示器装置3的显示面70的方式配置。
第1遮光部76的厚度方向的投影面如图5、图10所示，覆盖第2冗余线27的基端面60。此外，第2遮光部77的厚度方向的投影面如图6、图10所示，覆盖第2布线26的基端面50。
第1布线21的一部分如图10所示，与第2冗余线27重叠，并进一步与第1遮光部76重叠。此外，第1布线21的线宽整体与第2冗余线27重叠，第2冗余线27的线宽整体与第1遮光部76重叠。即，第1布线21的线宽整体与第1遮光部76重叠。
此外，从另一角度来看的话，在将第1布线21、第2冗余线27、第1遮光部76投影到与显示器装置3的显示面70平行的平面上的情况下，第1布线21的一部分位于第2冗余线27的外缘的内侧(中央侧)。并且，第2冗余线27位于第1遮光部76的外缘(与亚像素部73的边界部位)的内侧。
第1冗余线22的一部分如图10所示，与第2布线26重叠，第2布线26与第2遮光部77重叠。并且，第1冗余线22的线宽整体与第2布线26重叠，第2布线26的线宽整体与第2遮光部77重叠。即，第1冗余线22的线宽整体与第2遮光部77重叠。
此外，从另一角度来看的话，在将第1冗余线22、第2布线26、第2遮光部77投影到与显示器装置3的显示面70平行的平面上的情况下，第1冗余线22的一部分位于第2布线26的外缘的内侧(中央侧)。并且，第2布线26位于第2遮光部77的外缘(与亚像素部73的边界部位)的内侧。
在俯视显示器装置3的显示面70时，如图10所示，3个亚像素部73位于邻接的第1布线21、21之间，6个亚像素部73位于邻接的第1冗余线22、22之间。3个亚像素部73位于邻接的第2布线26、26之间，6个亚像素部73位于邻接的第2冗余线27、27之间。在第1电极组20的第1布线21当中，存在与第2冗余线27重叠的部位和不重叠的部位，在第2电极组25的第2布线26当中，存在与第1冗余线22重叠的部位和不重叠的部位。
接着，对显示装置1的制造方法进行说明。特别是对作为本发明的特征之一的触摸屏2进行重点说明。
[使用半添加法的触摸屏2的制造方法]
首先，从触摸屏2的制造方法开始说明。
本实施方式的触摸屏2的制造方法使用半添加法，在第1基材15上形成第1电极组20(第1电极组形成工序(电极组形成工序))。
第1电极组形成工序中，首先进行在第1基材15上形成基底层84的基底层形成工序。具体而言，如图11(a)、图11(b)所示，对第1基材15的单面赋予金属催化剂而形成种子层80(种子层形成工序)。
此时，种子层80形成在第1基材15的整面。
此时所形成的种子层80的平均膜厚优选为1nm以上且100nm以下。
构成种子层80的金属催化剂例如可以采用钯等。
接着，首先如图11(c)所示，通过化学镀法在形成有种子层80的第1基材15(以下，包括层叠结构在内也称为基材)上形成第1镀层81(第1镀覆工序)。
此时，第1镀层81形成在种子层80的整面，形成由种子层80和第1镀层81构成的基底层84。
此时所形成的第1镀层81的平均膜厚优选为100nm以上且5μm以下。
接着，如图11(d)所示，在基底层形成工序中，在形成有基底层84的基材上形成抗蚀层82(抗蚀层形成工序)。
此时，抗蚀层82在形成基底层84的表面的第1镀层81上的整面形成。
另外，本实施方式中使用的抗蚀层82是由感光性树脂形成的正型光刻胶层。
接着，进行对抗蚀层82形成规定形状的贯穿孔90的贯穿孔形成工序。
具体而言，如图11(e)所示，配置光掩膜86，从光掩膜86的外侧对抗蚀层82照射紫外线(曝光工序)。
另外，该光掩膜86具备以覆盖抗蚀层82的方式形成有所期望的图案的开口85。
此时，从开口85对抗蚀层82照射紫外线，抗蚀层82的一部分感光，形成感光部87。
然后，如图12(a)所示，去掉光掩膜86，进行显影，去除抗蚀层82的感光部87(显影工序)。
此时，在抗蚀层82上形成有规定的图案状的贯穿孔90，第1镀层81的一部分从该贯穿孔90露出。
并且，此时，贯穿孔90是延伸为狭缝状的长槽，在内侧面形成有倾斜面91。即，贯穿孔90的与延伸方向正交的剖面形状是内侧面间的间隔沿抗蚀层82的厚度方向逐渐变化。
接着，如图12(b)所示，对于通过贯穿孔形成工序形成有贯穿孔90的基材，通过镀覆法形成第2镀层83(第2镀覆工序)。
此时，以作为基底的第1镀层81的从抗蚀层82露出的部位作为基点进行镀覆，形成被图案化为规定形状的第2镀层83(导电层)。
并且，此时，倾斜面91的形状得到反映，在第2镀层83的侧面形成倾斜面。即，形成第1布线21的倾斜面35、36和第1冗余线22的倾斜面45、46。
另外，此时进行的镀覆法可以是电镀法，也可以是化学镀法。
本实施方式通过电镀法形成第2镀层83。
然后，如图12(b)、图12(c)所示，使用抗蚀剂去除剂从形成有第2镀层83的基材去除抗蚀层82(抗蚀剂去除工序)，如图12(d)所示，去除通过该抗蚀层82的去除而露出的基底层84。
然后，进行水洗等，由此在第1基材15上形成所期望的第1电极组20，结束第1电极组形成工序。
本实施方式的触摸屏2的制造方法中，通过另一工序，进行通过半添加法在第2基材16上形成第2电极组25的第2电极组形成工序(电极组形成工序)。
该第2电极组形成工序与上述第1电极组形成工序同样，因而省略说明。
利用介电构件11将通过上述的第1电极组形成工序和第2电极组形成工序而安装有第1电极组20的第1基材15和安装有第2电极组25的第2基材16以使得第1电极组20与第2电极组25相对置的方式粘接(粘接工序)，形成触摸屏2。
具体而言，以覆盖第2电极组25的方式粘接介电构件11的单面，然后，以覆盖第1电极组20方式粘接介电构件11的另一面。
此时，第2布线26的侧面部51、52具有从与介电构件11接触的前端面53到基端面50倾斜的倾斜面55、56，因此前端面53与倾斜面55、56所成的角部较缓。因此，在将介电构件11的粘合部粘贴于第2电极部12上时，如图14所示，介电构件11容易贴合倾斜面55、56，在第2布线26与介电构件11的粘合部之间不容易进入气泡。
同样，第2冗余线27的侧面部61、62具有从与介电构件11接触的前端面63到基端面60倾斜的倾斜面65、66，因此前端面63与倾斜面65、66所成的角部较缓。因此，在粘贴介电构件11的粘合部时，介电构件11容易贴合倾斜面65、66，在第2冗余线27与介电构件11之间不容易进入气泡。
如此，介电构件11的粘合部在与第2电极组25之间实质上无间隙地密合，因此一体化强度高。
接着，在通过另一工序制造的显示器装置3上载置触摸屏2，通过未图示的粘接剂相互粘接。
此时，触摸屏2的各电极组20、25如图10所示，以在厚度方向上与显示器装置3的遮光部72重叠的方式配置。即，第1布线21和第2冗余线27位于第1遮光部76的上方，第2布线26和第1冗余线22位于第2遮光部77的上方。
本实施方式的显示装置1可以经过以上的工序制造。
接着，对于本实施方式的显示器装置3的内部结构，基于图13进行说明。
显示器装置3是采用了所谓的TFT方式的液晶显示器，由液晶部100和光源部101形成。
液晶部100如图13所示，具备第1偏振构件102、第1绝缘基板103、第1透明电极层105、薄膜晶体管106、第1取向层107、液晶层108、第2取向层110、第2透明电极层111、遮光层112、滤色器113、第2绝缘基板114和第2偏振构件115。
具体而言，液晶部100如图13所示，在第1绝缘基板103的下表面(光源部101侧的面)形成有第1偏振构件102，在第1绝缘基板103的上表面(触摸屏2侧的面)形成有第1透明电极层105和薄膜晶体管106。
此外，在第1透明电极层105和薄膜晶体管106的上表面形成有第1取向层107，在第1取向层107的上表面形成有液晶层108。
进而，在液晶层108的上表面形成有第2取向层110，在第2取向层110的上表面形成有第2透明电极层111。
在第2透明电极层111的上表面形成有遮光层112和滤色器113，在遮光层112和滤色器113的上表面载置有第2绝缘基板114。在第2绝缘基板114的上表面形成有第2偏振构件115。
第1偏振构件102是对来自光源部101的入射光进行限制的构件，仅使规定的振动方向的光通过。
第1绝缘基板103是具有透明性、将通过第1透明电极层105的电与外部阻断的透明绝缘基板。
第1透明电极层105是具有导电性的导电层，是用于对液晶层108施加电压的电极层。
薄膜晶体管106是公知的薄膜晶体管。
第1取向层107是用于使液晶层108内的液晶分子按一定方向排列的层。
液晶层108由处于液体与固体的中间状态的液晶分子形成，在自然状态下，液晶分子以松散的规则性排列。
液晶层108具有如果施加电压则液晶分子的排列方式会改变的性质，通过在第1透明电极层105与第2透明电极层111之间施加电压，可以使分子的排列方式变化。
本实施方式的液晶层108具有负的介电各向异性，液晶分子的长轴方向的介电率小于短轴方向的介电率。
第2取向层110是用于使液晶层108的液晶分子按一定方向排列的层。
第1取向层107和第2取向层110可以由相同材料形成，也可以由不同材料形成。
第2透明电极层111是具有导电性的导电层，是与第1透明电极层105成对的层，是用于对液晶层108施加电压的电极层。
遮光层112是在俯视时覆盖隐藏薄膜晶体管106的层，是构成显示面70的遮光部72的层。
并且，遮光层112是对滤色器113的不需要的光进行遮光、提高对比度的层。
滤色器113是在俯视时构成显示面70的亚像素部73的滤波器。
此外，滤色器113是将通过的可见光限制为特定的波长区域的光的滤波器，可以取出R(红)G(绿)B(蓝)的三原色的光当中所期望的颜色的光。
第2绝缘基板114是具有透明性、将通过第2透明电极层111的电与外部阻断的透明绝缘基板。
第2偏振构件115是对来自第2绝缘基板114的透射光进行限制的构件，仅使规定的振动方向的光通过。
光源部101是朝液晶部100照射光的部位。
光源部101如果具有作为光源的功能则并没有特别限定，例如可以使用LED装置、有机EL装置等发光装置。
接着，对第1实施方式的显示装置1的功能进行说明。
显示装置1中，从显示器装置3的滤色器113照射的光的一部分透过第2绝缘基板114而到达第2偏振构件115。接着，仅特定的振动方向的光通过第2偏振构件115，在第2偏振构件115与触摸屏2的第1基材15的界面处发生折射，被导入触摸屏2。
在第1布线21的侧面部32(侧面部31)相对于前端面33直立的情况下，如图15(b)所示，光在侧面部32(侧面部31)被反射。因此，在侧面部32的反射光被传至使用者侧，有时从使用者侧能看到第1布线21的侧面部32，外观变差。
另一方面，在本实施方式的触摸屏2中，在第1布线21的侧面部32(侧面部31)具有倾斜面36(倾斜面35)，因此如图15(a)所示，光能够不被侧面部32(侧面部31)反射而通过。因此，能够防止侧面部31、32的倾斜面35、36处的反射光传至使用者侧。
此外，如果着眼于来自使用者侧的光入射的情况的话，本实施方式的显示装置1中，离使用者侧近的基端面30的线宽要窄于距使用者侧远的前端面33的线宽。因此，与图16(b)所示的第1布线21的侧面部32(侧面部31)相对于前端面33直立的情况相比，如图16(a)所示，在基端面30不容易发生全反射，反射光不容易到达使用者。因此，能够抑制由于第1布线21的基端面30处的反射而从使用者侧看到第1布线21。
根据第1实施方式的显示装置1的制造方法，通过半添加法形成各电极组20、25，因此能够减少金属用量。
第1实施方式的触摸屏2中，第2布线26的最大线宽W6大于第1布线21的最大线宽W1。因此，触摸屏2能够在确保第2布线26与第1布线21为同等程度的导电面积时，使得第2布线26的厚度D3小于第1布线21的厚度D1，能够控制触摸屏2整体的厚。
根据第1实施方式的显示装置1，第1遮光部76的宽度W9大于第1布线21的最大线宽W1、第2冗余线27的最大线宽W8，因此能够抑制波纹的产生，能够防止品质变差。
同样，根据第1实施方式的显示装置1，第2遮光部77的宽度W10大于第1冗余线22的最大线宽W3、第2布线26的最大线宽W6，因此能够抑制波纹的产生，能够防止品质变差。
接着，对第2实施方式中的显示装置进行说明。需要说明的是，对于与第1实施方式同样的构成，标以相同的附图标记，省略说明。
第2实施方式的显示装置与第1实施方式的显示装置1在触摸屏的制造方法上不同。
即，第2实施方式的触摸屏120通过减成法形成第1电极组20和/或第2电极组25。
[使用减成法的触摸屏120的制造方法]
以下，对第2实施方式中的触摸屏120的制造方法进行说明。
本第2实施方式的第1电极组形成工序(电极组形成工序)首先进行在第1基材15上形成导电层124的导电层形成工序。
具体而言，首先，如图17(a)、图17(b)所示，对第1基材15的单面赋予金属催化剂而形成种子层80(种子层形成工序)。
然后，如图17(c)所示，通过化学镀法在形成有种子层80的第1基材15上形成第1镀层81(第1镀覆工序)。
然后，如图17(d)所示，在第1镀覆工序中，在形成有第1镀层81的基材上用电镀法形成第2镀层121(第2镀覆工序)。
此时，第2镀层121形成在第1镀层81的整面，形成由种子层80、第1镀层81和第2镀层121构成的导电层124。
接着，进行在导电层124上形成被图案化为规定形状的抗蚀层122的抗蚀剂工序。
具体而言，如图17(e)所示，在形成有第2镀层121的基材上形成抗蚀层122(抗蚀层形成工序)。
此时，抗蚀层122是正型光刻胶层，在形成导电层124的表面的第2镀层121上的整面上形成。
然后，如图17(f)所示，配置光掩膜126，该光掩膜126具备以覆盖抗蚀层122的方式形成有所期望的图案的开口125，从光掩膜126的外侧对抗蚀层122照射紫外线(曝光工序)。
此时，从开口125对抗蚀层122照射紫外线，抗蚀层122的一部分感光，形成感光部123。
此外，开口125的位置与第1实施方式的光掩膜86的开口85的位置相反。
然后，如图18(a)所示，去掉光掩膜126，进行显影，去除抗蚀层122的感光部123(显影工序)。
此时，在抗蚀层122上形成有规定的图案状的贯穿孔127，形成第2镀层121的一部分从该贯穿孔露出的露出部128。
接着，如图18(b)所示，将通过抗蚀剂工序形成有图案化的抗蚀层122的基材浸渍在蚀刻液中，使第2镀层121的露出部128暴露于蚀刻液，局部去除导电层124。通过如此操作，对导电层124进行图案化(第1蚀刻工序)。
此时，在导电层124上形成有溶解孔130。该溶解孔130的侧面131、132大致为平面，相对于基材直立。
然后，洗掉蚀刻液，如图18(c)所示，以规定比率向溶解孔130内导入蚀刻液，进行蚀刻(第2蚀刻工序)。
此时，溶解孔130的侧面131、132从底部侧(第1基材15侧)开始被侵蚀，在导电层124的侧面形成倾斜面144。即，形成第1布线21的倾斜面35、36和第1冗余线22的倾斜面45、46。
然后，如图18(d)所示，使用抗蚀剂去除剂去除抗蚀层122(抗蚀剂去除工序)，进行水洗等，在第1基材15上形成所期望的第1电极组20，结束第1电极组形成工序。
本实施方式的触摸屏120的制造方法中，通过另一工序，进行通过减成法在第2基材16上形成第2电极组25的第2电极组形成工序(电极组形成工序)。
该第2电极组形成工序的基本工序与上述第1电极组形成工序的基本工序大致相同，因此对不同的工序进行说明。
如图19(a)、图19(b)所示，将通过抗蚀剂工序形成有图案化的抗蚀层136的基材浸渍在蚀刻液中，使第2镀层121的露出部138暴露于蚀刻液，局部去除导电层124。通过如此操作，对导电层124进行图案化(第3蚀刻工序)。
此时，控制蚀刻速度等对导电层124进行侧蚀，在导电层124的侧面形成倾斜面145。即，形成第2布线26的倾斜面55、56和第2冗余线27的倾斜面65、66。
此外，此时的蚀刻因子优选为0.47以上且5.67以下。
另外，此处所说的“蚀刻因子”是指导体的厚度方向中的蚀刻深度与导体的宽度方向中的蚀刻深度之比。即，蚀刻因子是用厚度方向中的蚀刻深度T除以宽度方向中的蚀刻深度D而得到的值。
然后，如图19(c)所示，使用抗蚀剂去除剂，去除抗蚀层136(抗蚀剂去除工序)，进行水洗等，由此在第2基材16上形成所期望的第2电极组25，结束第2电极组形成工序。
根据本第2实施方式的触摸屏120的制造方法，通过侧蚀形成第2电极组25的倾斜面55、56，65、66，因此能够一次性地同时形成多个倾斜面。
接着，对第3实施方式中的显示装置进行说明。需要说明的是，对于与第1、2实施方式同样的构成，标以相同的附图标记，省略说明。
第3实施方式的显示装置与第1实施方式的显示装置1在触摸屏的制造方法上不同。
具体而言，通过激光划片进行第3实施方式的触摸屏150的各电极组20、25的图案化。
以下，对第3实施方式的触摸屏150的制造方法进行说明。需要说明的是，除了形成第1电极组20的第1电极组形成工序和形成第2电极组25的第2电极组形成工序以外，与第1实施方式的触摸屏2的制造方法相同，因而省略说明。
[使用了激光产生装置的触摸屏2的制造方法]
首先，第3实施方式的第1电极组形成工序(电极组形成工序)如图20(a)、图20(b)所示，在第1基材15上形成导电层151(导电层形成工序)。
对此时的导电层151的形成方法并没有特别限定。例如可以采用溅射法、真空蒸镀法、镀覆法等。
然后，使用激光划片装置(激光产生装置)，如图20(c)所示，从第1基材15侧对导电层151照射激光，去除导电层151的一部分(第1激光工序)。
此时使用的激光使用强度分布呈高斯分布的高斯光束。
因此，残留的导电层151的面方向的端面如图20(d)所示，形成倾斜面152。即，形成第1布线21的倾斜面35、36和第1冗余线22的倾斜面45、46。
需要说明的是，激光划片装置具有X·Y工作台、激光产生装置和光学系构件。第1激光划片工序通过将基材设置在X·Y工作台上，在照射激光线的同时使基材以一定的速度沿纵向直线移动来进行。然后，通过使X·Y工作台沿横向移动，使激光线的照射位置错开，在照射激光线的同时再次使基材沿纵向直线移动来进行。
然后，进行水洗等，形成第1电极组20。
此外，通过另一工序进行第2电极组形成工序(电极组形成工序)。
首先，第2电极组形成工序如图21(a)、图21(b)所示，在第2基材16上形成导电层155(导电层形成工序)。
对此时的导电层155的形成方法并没有特别限定。例如可以采用溅射法、真空蒸镀法、镀覆法等。
然后，使用激光划片装置，如图21(c)所示，从导电层155的表面侧(与第2基材16相反的一侧)照射激光，去除导电层155的一部分，形成第2电极组25(第2激光工序)。
即，第2激光工序的激光的照射从与第1激光工序相反的一侧进行照射。因此，残留的导电层155的面方向的端面如图21(d)所示，形成倾斜面154。即，形成第2布线26的倾斜面55、56和第2冗余线27的倾斜面65、66。
然后，进行水洗等，形成第2电极组25。
根据第3实施方式的触摸屏150的制造方法，能够无需化学蚀刻地进行图案化，因此各电极组20、25不容易受碱等的影响。
此外，根据第3实施方式的触摸屏150的制造方法，无需使用抗蚀层，因此与使用抗蚀层的情况相比，能够削减成本。
上述实施方式中，将第1布线21、第1冗余线22、第2布线26和第2冗余线27的剖面形状均制成等腰梯形，但本发明并不限定于此。例如，第1布线21、第1冗余线22、第2布线26和第2冗余线27的剖面形状可以如图22(a)所示为三角形，也可以如图22(b)所示为六边形。此外，也可以如图22(c)所示，前端面略圆，也可以为各个腰的长度不同的梯形。进而，第1布线21、第1冗余线22、第2布线26和第2冗余线27的剖面形状可以是半圆形，也可以是半椭圆形。
这些当中，从为容易与粘合剂粘接、不容易发生来自显示器装置3侧和使用者侧的光的反射的形状的角度来看，第1布线21、第1冗余线22、第2布线26和第2冗余线27的剖面形状优选为等腰梯形、三角形。
上述实施方式中，第1布线21、第1冗余线22、第2布线26和第2冗余线27的各自的剖面形状为等腰梯形，因此在俯视时，使用者侧的面(外侧端面)位于显示器装置3侧的端面(内侧端面)的宽度方向(与长度方向正交的方向)的中央，但本发明并不限定于此，如图22(d)所示，外侧端面也可以处于从内侧端面的中央偏离的位置。
上述实施方式中，唯一地确定了第1布线21、21间的间距、第2布线26、26间的间距，但本发明并不限定于此。
例如在实际的显示装置1的制造中，有时需要配合多种显示器装置来制造触摸屏2。
在这种情况下，如果将冗余线22、27设置在全部的遮光部72内，则冗余线22、27的根数增多，较为困难。
并且，根据显示器装置的种类不同，存在固有的遮光部72的间隔(第1遮光部76、76间的间隔、第2遮光部77、77间的间隔)。因此，要想将冗余线22、27设置在全部的遮光部72内，需要配合各自的显示器装置的遮光部72的间隔来设计冗余线22、27。
因此，关于本发明的触摸屏2，在设M种的显示器装置的遮光部72、72的间距分别为N1，N2，N3，…，NM(N、M均为整数)时，可以将第1冗余线22、22间的间距和/或第2冗余线27、27间的间距设定为其各自的遮光部72的间隔N1，N2，N3，…，NM的最小公倍数LCM(N1，N2，N3，…，NM)的长度。
例如，对于使触摸屏2对应于2种(M种)的显示器装置的情况进行说明。
即，在将触摸屏2应用于第2遮光部77、77间的间距(N1)为2mm的显示器装置和第2遮光部77、77间的间距(N2)为3mm的显示器装置中的情况下，将触摸屏2的第1冗余线22、22间的间距设定为2mm(N1)和3mm(N2)的最小公倍数即6mm(LCM(N1，N2))。通过如此，能够使触摸屏2对应2种显示器装置。
通过如此设定触摸屏2的冗余线22、27的间隔，能够提高生产率。
上述实施方式中，使第1布线21的最大线宽W1与第2冗余线27的最大线宽W8基本相同或更小，但本发明并不限定于此，也可以使第1布线21的最大线宽W1大于第2冗余线27的最大线宽W8。
该情况下，第2冗余线27被第1布线21挡住而从使用者侧看不到，因此能够防止由第2冗余线27的存在导致的开口率的降低。
上述实施方式设有第1冗余线22和第2冗余线27，但本发明并不限定于此，也可以不设置第1冗余线22和第2冗余线27。
上述实施方式中将第1冗余线22和第2冗余线27以与显示器装置3的遮光部72重叠的方式设置，但本发明并不限定于此，也可以以在俯视时第1冗余线22和第2冗余线27与亚像素部73重叠的方式配置。
上述实施方式中，在显示器装置3上直接载置触摸屏2，但本发明并不限定于此，也可以在显示器装置3与触摸屏2之间夹有其他构件。
例如可以如图23所示，设置使来自显示器装置3的光发生折射的折射片190(折射构件)来扩大显示器装置3的视场角。
该情况下，优选配合来自折射片190的光路来形成各电极组20、25的侧面形状。
具体而言，如图24所示，当光从显示器装置3相对于折射片190垂直入射，设透过折射片190的光对于触摸屏2的入射角为σ时，各倾斜面的倾斜角度θ1～θ8优选为角度(90-σ)以下。
通过如此，能够防止透过折射片190的光在倾斜面发生反射。
需要说明的是，即使在不夹有折射片190的情况下，基于相同理由，在设触摸屏2的入射角为δ时，也可以将各倾斜面的倾斜角度θ1～θ8设定为角度(90-δ)以下。
上述实施方式中，通过赋予金属催化剂形成种子层80、在种子层80上形成第1镀层81，由此制成第2镀层83的形成时的基底层，但本发明并不限定于此，对基底层的形成方法并没有特别限定。例如可以通过溅射法形成基底层。此外，基底层可以是3层以上的多层结构，也可以是单层结构。
上述第1实施方式中，利用介电构件11将第1电极部10和第2电极部12以第1电极组20与第2电极组25相对置的方式粘接而形成触摸屏2，但第1电极部10与第2电极部12的各部位的位置关系并不限定于此。
例如可以如图25所示，制成第1基材15位于第1电极组20与第2电极组25之间的结构。
该情况下，第1电极组20中，如图25(a)所示，位于使用者侧的前端面33的线宽小于距使用者侧远的基端面30的线宽。即，关于第1电极组20的剖面形状，侧面部31、32(侧面部41、42)为锥形。
即，第1布线21在厚度方向上从基端侧到前端侧，截面积逐渐减小，基端面30的线宽大于前端面33的线宽。同样，第1冗余线22在厚度方向上从基端侧到前端侧，截面积也逐渐减小，基端面40的线宽大于前端面43的线宽。
此外，第2电极组25中，如图25(b)所示，位于使用者侧的前端面53的线宽小于距使用者侧远的基端面50的线宽。即，关于第2电极组25的剖面形状，侧面部51、52(侧面部61、62)为锥形。
即，第2布线26在厚度方向上从基端侧到前端侧，截面积逐渐减小，基端面50的线宽大于前端面53的线宽。同样，第2冗余线27在厚度方向上从基端侧到前端侧，截面积也逐渐减小，基端面60的线宽大于前端面63的线宽。
上述实施方式中，使2块基材15、16支撑各电极组20、25而形成触摸屏2，但本发明并不限定于此。
例如可以如图26所示，在基材180的两面上形成第1电极组20和第2电极组25。
该情况下，第1电极组20中，如图26(a)所示，位于使用者侧的前端面33的线宽小于距使用者侧远的基端面30的线宽。
此外，第2电极组25中，如图26(b)所示，位于使用者侧的基端面50的线宽小于距使用者侧远的前端面53的线宽。
即，关于第1电极组20的剖面形状，侧面部31、32(侧面部41、42)为锥形，关于第2电极组25的剖面形状，侧面部51、52(侧面部61、62)为倒锥形。
上述实施方式中，将第1电极部10与第2电极部12贴合而形成触摸屏2，但本发明并不限定于此，可以如图27的触摸屏184所示，在一块基材185上依次层叠来形成。
该触摸屏184在基材185上依次层叠有第2电极组25、绝缘片186和第1电极组20。
该情况下，第1电极组20中，如图27(a)所示，位于使用者侧的前端面33的线宽小于距使用者侧远的基端面30的线宽。
此外，第2电极组25中，如图27(b)所示，位于使用者侧的前端面53的线宽小于距使用者侧远的基端面50的线宽。
即，关于第1电极组20和第2电极组25的剖面形状，侧面部31、32(侧面部41、42)和侧面部51、52(侧面部61、62)均为锥形。
上述实施方式中，在俯视时，第1布线21位于第2冗余线27的宽度方向(纵向Y)的中央，第1冗余线22位于第2布线26的宽度方向(横向X)的中央，但本发明并不限定于此。例如可以如图28所示，将第1布线21配置在从第2冗余线27的中央向宽度方向偏离的位置。同样，可以将第2布线26配置在从第1冗余线22的中央向宽度方向偏离的位置。
上述实施方式中，为了使第1布线21与第2布线26的电阻为大致同等程度，使第2布线26的厚度薄于第1布线21的厚度，但本发明并不限定于此，第1布线21与第2布线26的厚度也可以相同。该情况下，优选以第1布线21的布线根数多于第2布线26的布线根数的方式形成。
上述第1实施方式中，第1布线21和第2布线26沿纵横方向排列，但本发明并不限定于此，第1布线21和第2布线26也可以沿斜向排列。即，第1布线21和第2布线26可以相互交叉成菱形状排列。
上述第1实施方式中，通过相同方法对第1电极部10和第2电极部12进行图案化，但本发明并不限定于此，也可以通过不同方法形成。
例如，可以通过激光划片对第1电极部10进行图案化、通过减成法对第2电极部12进行图案化。
上述第1、2实施方式中，作为抗蚀层，采用了正型的抗蚀剂材料，但本发明并不限定于此，也可以采用负型的抗蚀剂材料。该情况下，抗蚀层的图案化位置与正型的情况颠倒。
上述第3实施方式中，利用强度分布呈高斯分布的激光去除导电层151的一部分，但本发明并不限定于此，对激光的强度分布没有限定。此外，也可以根据激光对导电层151的入射角而形成倾斜面。
上述实施方式中，介电构件11由一个构件形成，但本发明并不限定于此，也可以多个构件形成。
上述实施方式中，是显示器装置与触摸屏作为不同个体形成、在显示器装置上载置有触摸屏的、所谓的外置型的显示装置，但也可以是在显示器装置(显示器部)内组装有触摸屏(触摸屏部)的、内置型的显示装置。
从加工容易的角度来看，如上述实施方式所示，优选为外置型的显示装置。
上述实施方式中，利用镀覆法形成第1布线21、第1冗余线22、第2布线和第2冗余线，但本发明并不限定于此，可以通过印刷法等其他方法形成。此外，镀覆法的种类也不限。可以是电镀法，也可以是化学镀法。
此外，第1布线21与第1冗余线22可以如上述实施方式那样同时形成，也可以另外形成。同样，第2布线26与第2冗余线27可以如上述实施方式那样同时形成，也可以另外形成。
上述实施方式中，对使用TFT方式的液晶显示器作为显示器装置3的情况进行了说明，但本发明并不限定于此，显示器装置也可以是有机EL显示器、等离子体显示器等自发光型的显示器。
符号说明
1显示装置
2，120，150触摸屏(触摸屏部)
3显示器装置(显示器部)
10第1电极部
11介电构件(介电部)
12第2电极部
15第1基材(基材)
16第2基材(基材)
20第1电极组
21第1布线
22第1冗余线
25第2电极组
26第2布线
27第2冗余线
31、32侧面部
33前端面(第1端部)
35、36倾斜面
71像素部
72遮光部
73亚像素部
76第1遮光部
77第2遮光部
82，122抗蚀层
83第2镀层(导电层)
84基底层
90贯穿孔
124，151,155导电层
190折射片(折射构件)

Claims (14)

1.一种触摸屏，所述触摸屏安装于显示器装置中，所述显示器装置具备具有多个亚像素部且显示颜色信息的像素部、和将所述亚像素部间隔开的遮光部，所述触摸屏以覆盖所述像素部和所述遮光部的方式设置，其特征在于，
所述触摸屏具有第1电极部、第2电极部和夹在第1电极部与第2电极部之间的介电部，
所述第1电极部具有由1个或多个第1布线形成的第1电极组，
所述第2电极部具有由1个或多个第2布线形成的第2电极组，
所述第1电极组沿在俯视时与所述第2电极组交叉的方向延伸，
所述第1布线的大部分或全部以在俯视时其线宽整体与遮光部重叠的方式配置，
在以所述显示器装置为基准时，所述第1电极部位于介电部的外侧，
所述第1布线和/或前述第2布线的线宽根据高度而不同，最外侧部位的线宽小于最内侧部位的线宽。
2.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，以所述显示器装置为基准，所述第1布线的线宽根据高度而不同，最外侧部位的线宽小于最内侧部位的线宽，进而，线宽从外侧端部开始向内侧逐渐增大。
3.根据权利要求1或2所述的触摸屏，其特征在于，所述第1布线的最大线宽小于所述第2布线的最大线宽。
4.根据权利要求1～3中的任一项所述的触摸屏，其特征在于，以所述显示器装置为基准，所述第2布线的线宽根据高度而不同，最外侧部位的线宽小于最内侧部位的线宽，进而，线宽从外侧端部开始向内侧逐渐增大。
5.根据权利要求4所述的触摸屏，其特征在于，
所述介电部具有薄膜状的粘合部，
以所述显示器装置为基准，所述粘合部从外侧被覆所述第2布线，
所述粘合部在所述第2布线的侧面中实质上无间隙地密合。
6.根据权利要求1～5中的任一项所述的触摸屏，其特征在于，
所述第1电极组具有至少2条第1布线，
所述2条第1布线隔开规定间隔而并排配置，
所述第1电极组具备连接所述2条第1布线的第1冗余线。
7.根据权利要求6所述的触摸屏，其特征在于，
所述第1冗余线在俯视时线宽整体与第2布线重叠，
所述第1冗余线的最大线宽小于所述第2布线的最大线宽。
8.根据权利要求1～7中的任一项所述的触摸屏，其特征在于，
所述第2电极组具有至少2条第2布线，
所述2条第2布线隔开规定间隔而并排配置，
所述第2电极组具备连接所述2条第2布线的第2冗余线。
9.根据权利要求1～8中的任一项所述的触摸屏，其特征在于，所述第1布线由金属形成，是不透明的。
10.一种显示装置，其特征在于，其具有权利要求1～9中的任一项所述的触摸屏和显示器装置，所述显示器装置具备像素部和遮光部。
11.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于，具有使来自所述亚像素部的光折射的折射构件，
所述折射构件夹在所述触摸屏与所述亚像素部之间，
所述第1布线具有与介电部接触的第1端部和沿与第1端部交叉的方向延伸的侧面部，
所述侧面部是相对于第1端部倾斜的倾斜面，
当光从亚像素部相对于折射构件垂直入射，设被所述折射构件折射的光相对于触摸屏的入射角为σ时，
该倾斜面相对于第1端部的倾斜角为(90-σ)度以下。
12.一种触摸屏的制造方法，其特征在于，其为权利要求1～9中的任一项所述的触摸屏的制造方法，
所述触摸屏具有支撑所述第1电极组或第2电极组的基材，
由所述基材支撑的第1布线或第2布线至少其侧面由导电层形成，
所述制造方法具有在所述基材上形成第1电极组或第2电极组的电极组形成工序，
所述电极组形成工序包括下述工序：在所述基材上形成基底层的基底层形成工序，在所述基底层上形成抗蚀层的抗蚀层形成工序，在所述抗蚀层中形成贯穿孔的贯穿孔形成工序，通过所述贯穿孔在基底层上形成导电层的导电层形成工序，以及从所述基底层去除抗蚀层的抗蚀剂去除工序，
所述贯穿孔为沿规定方向延伸的长槽，与贯穿孔的延伸方向正交的剖面中的内侧面间的间隔沿抗蚀层的厚度方向逐渐变化。
13.一种触摸屏的制造方法，其特征在于，其为权利要求1～9中的任一项所述的触摸屏的制造方法，
所述触摸屏具有支撑所述第1电极组或所述第2电极组的基材，
由所述基材支撑的第1布线或第2布线至少其侧面由导电层形成，
所述制造方法具有在所述基材上形成第1电极组或第2电极组的电极组形成工序，
所述电极组形成工序包括下述工序：在基材上形成导电层的导电层形成工序，在所述导电层上形成被图案化为规定形状的抗蚀层的抗蚀层形成工序，通过蚀刻液对所述导电层的一部分或全部进行蚀刻的蚀刻工序，以及从所述导电层去除抗蚀层的抗蚀剂去除工序，
在所述蚀刻工序中，形成第1布线或第2布线的侧面形状。
14.一种触摸屏的制造方法，其特征在于，其为权利要求1～9中的任一项所述的触摸屏的制造方法，
所述触摸屏具有支撑所述第1电极组或所述第2电极组的基材，
由所述基材支撑的第1布线或第2布线至少其侧面由导电层形成，
所述制造方法具有在所述基材上形成第1电极组或第2电极组的电极组形成工序，
所述电极组形成工序包括下述工序：在所述基材上形成导电层的导电层形成工序，以及照射激光来去除所述导电层的一部分的激光工序，
在所述激光工序中，通过激光的强度分布形成第1布线或第2布线的侧面形状。
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