TW201435923A - 導電膜、具備該導電膜的顯示裝置與觸控面板顯示裝置以及導電膜之圖案的決定方法 - Google Patents

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Abstract

本發明的目的在於提供一種可抑制疊紋的產生且可大幅提高視認性的導電膜、以及導電膜之圖案的決定方法。本發明的導電膜中，由至少正面觀察時的網狀配線的網孔圖案的空間頻率特性與顯示單元的畫素陣列圖案的空間頻率特性的卷積來表示的疊紋的最低頻率的頻譜強度，以常用對數計為-3.6以下。網孔圖案亦可為具有多個斷線部的圖案。

Description

導電膜、具備該導電膜的顯示裝置以及導電膜之圖案的決定方法
本發明是有關於一種導電膜、具備該導電膜的顯示裝置以及導電膜之圖案的決定方法，詳細而言，是有關於一種被用作網(mesh)透明導電膜且具有網孔圖案的導電膜、具備該導電膜的顯示裝置以及導電膜之圖案的決定方法，在該網孔圖案的設計中藉由在設計時將電極考慮在內而使被視認到的疊紋的頻譜(spectrum)強度以及頻率存在於規定的頻率以及強度範圍內。
作為設置於顯示裝置(以下，亦稱作顯示器)的顯示單元上的導電膜，例如可列舉電磁波屏蔽用的導電膜或觸控感測器(觸控面板)用的導電膜等(例如，參照專利文獻1、專利文獻2以及專利文獻3)。
本申請人的申請案的專利文獻1中揭示了具有包含網狀導電性金屬薄膜的電磁波屏蔽圖案的電磁波屏蔽用導電膜，亦揭示了如下內容：例如顯示器的畫素陣列圖案(例如，黑色矩陣(black matrix)(以下亦稱作BM)圖案)等第1圖案、以及例如電磁波 屏蔽圖案等第2圖案各自的圖案資料的2維傅里葉頻譜(two-dimensional Fourier spectrum，2DFFTSp)的頻譜波峰間的相對距離，會自動地選定藉由超過規定的空間頻率，例如8cm-1的第2圖案資料而生成的第2圖案。
另外，專利文獻1中亦揭示了如下內容：在上述相對距離不超過規定的空間頻率的情況下，重複進行使第2圖案資料的旋轉角度、間距、圖案寬度中的任一個以上發生變化而生成新的第2圖案資料，直至上述相對距離超過規定的空間頻率為止。
這樣，在專利文獻1中，可自動地選定可抑制疊紋的產生且亦可避免表面電阻率的增大或透明性的劣化的電磁波屏蔽圖案。
另一方面，就迅速的響應性、高解析力、大尺寸化、低製造成本化等方面而言，觸控面板用導電膜中，使用金屬等不透明的導電性材料來代替現有的透明氧化銦錫(Indium Tin Oxides，ITO)而作為網狀配線材料。為了使用此種導電膜實現觸控面板，導電膜必須具有用以對所觸控的位置進行檢測的解析度。在利用導電膜的網狀導體配線而具備ITO等透明導電膜功能的情況下，對整個面總體的網狀配線，在特定的網狀配線中設置切斷部而附加斷線，藉此必須將與上述解析度相當的檢測用配線區域，與無助於檢測的虛設配線區域分隔開來。
專利文獻2中揭示的觸控面板中，在藉由介隔絕緣層而在兩側以交叉方式設置的2種金屬(不透明的導電性材料)製檢測用配線而包圍的多個虛設配線區域，將孤立配線與檢測用配線平行 或垂直或者傾斜45°而配置，從而在包含2種檢測用配線的檢測用配線區域與虛設配線區域之間形成切斷部(斷線(break))而將兩者分離。
這樣，專利文獻2中，可獲得響應速度快、可減少顯示不均或疊紋且視認性高而容易大型化的觸控面板。
而且，在揭示有靜電電容式觸控面板(觸控開關)用的導電膜(面狀體)的專利文獻3中，將包含導體線的網眼(網)狀電極劃分為：隔開規定間隔而大致平行地配置的多個導電部區域，及配置於各導電部區域之間的非導電部區域，非導電部區域具備將導體線切斷為島狀的多個切斷部(斷線)，可藉由該些切斷部使非導電部區域(虛設配線區域)與鄰接的導電部區域(檢測配線區域)之間絕緣。
這樣，專利文獻3中，提供一種防止產生網眼密度的不均(網眼的偏在)而視認性下降，從而可提高視認性，並且可高效地製造的面狀體以及觸控開關。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2009-117683號公報
[專利文獻2]日本專利特開2010-097536號公報
[專利文獻3]日本專利特開2010-262529號公報
然而，專利文獻1雖為如下技術，即，當生成導電膜的配線圖案時，僅根據顯示器的BM(黑色矩陣)/配線圖案的頻率 資訊控制疊紋頻率，而提供視認性優異的配線圖案，但因視認到/未視認到疊紋的判定僅依存於頻率，故專利文獻1中即便在判定為未視認到疊紋的頻率的情況下，人對疊紋的知覺不僅受到頻率影響亦受到強度影響，因此有時會根據強度而視認到疊紋，從而存在疊紋的視認性未得到充分提高的問題。
尤其在將專利文獻1中揭示的技術應用於觸控面板用的導電膜的情況下，必須在網狀導體配線中設置多個切斷部(斷線)，然而若設置該些切斷部，則亦會存在如下問題，即，網狀導體配線的配線圖案的空間頻率特性發生變化，或因被人的手指等按壓，故在BM/配線圖案間產生微小的變形，從而助長因強度而視認到疊紋，從而有疊紋的視認性的提高不充分的問題。
因此，為了設計疊紋視認性優異的圖案，重要的是在設計時將切斷部(斷線)考慮在內，但該現有技術中並未涉及到該方面。
而且，專利文獻2中，在由包含2種檢測用配線的檢測用配線區域所包圍的多個虛設配線區域，將孤立配線與檢測用配線平行或垂直或者傾斜45°而配置，因此2種檢測用配線與孤立配線之間的切斷部所引起的斷線，被有規則地設置著，因此該規則的斷線的週期會對被視認到的疊紋造成影響，從而存在無法充分提高疊紋的視認性的問題。
進而，專利文獻3中，為了使導電部區域與非導電部區域之間絕緣，而切斷網眼狀電極的導體線的多個切斷部設置於網眼狀電極的導體線的交叉部。因此，該些切斷部基本上有規則地設置 於網眼狀電極，因而該規則的斷線的週期會對被視認到的疊紋造成影響，從而存在無法充分提高疊紋的視認性的問題。
尤其若觸控面板大尺寸(大型)化，則必須使用金屬等不透明的導電性材料，但為了要求規定的解析力或者高的解析力，則疊紋的視認性成為大問題。
進而，本申請人在日本專利特願2012-082711號說明書中，提出有如下導電膜，即，算出顯示器的BM(畫素矩陣)以及導電膜的網狀配線的配線圖案(網孔圖案)的空間頻率波峰，藉由根據各個空間頻率波峰差分、波峰強度積算值而獲得的疊紋的2維頻率以及頻譜強度、與視覺傳遞函數(visual transfer function)的卷積(convolution)，來算出評價值，且所述導電膜具有該評價值滿足預先設定的條件的配線圖案。
在將此種導電膜用於觸控面板的情況下，與上述專利文獻2以及專利文獻3等中記載的現有技術的觸控面板用導電膜同樣地，必須將用以隔開確保網狀配線的解析度的檢測用配線區域與虛設配線區域的多個斷線部(切斷部：斷線)設置於網狀配線而附加多個斷線。如上述現有技術般，為了滿足觸控面板所要求的特定的解析度，而且，為了將解析度區域的靜電電容設為固定，一般而言有規則地賦予該些斷線部。然而，存在該規則的斷線的週期成為視認到疊紋的主要原因的問題。這樣，規則的斷線的週期會對被視認到的疊紋造成影響，從而產生無法充分提高疊紋的視認性的問題，但在本申請人先前提出的技術中、上述現有技術 中均未涉及到該方面。
本發明的目的在於消除上述現有技術的問題，而提供一種可抑制疊紋的產生且可大幅提高視認性的導電膜、具備該導電膜的顯示裝置以及導電膜之圖案的決定方法。
而且，本發明的目的在於尤其提供一種如下的導電膜、具備該導電膜的顯示裝置以及導電膜之圖案的決定方法，上述導電膜即便在網狀配線具有多個斷線部的情況下亦可抑制疊紋的產生且可大幅提高視認性，上述網狀配線具有包含設置於顯示裝置的顯示單元上的導電膜的金屬細線的網孔圖案。
進而，本發明的目的在於尤其提供一種如下的導電膜、具備該導電膜的顯示裝置以及導電膜的圖案之決定方法，上述導電膜在將包括具有多個斷線部的網狀配線的透明導電膜用作必須進行大尺寸化、高解析度化的觸控面板用電極的情況下，可抑制將導電膜重疊於顯示裝置的顯示單元的黑色矩陣而視認時成為大的畫質障礙的疊紋的發生，從而可大幅提高觸控面板上的顯示的視認性。
為了達成上述目的，本發明者對即便對於顯示單元的黑色矩陣進行重疊亦未視認到疊紋的導電膜的網孔圖案，反覆進行了積極研究，結果發現：在現有技術或本申請人的先前申請案的導電膜中，因規則的週期的斷線而視認到疊紋的原因為如圖17(A)以及圖17(B)所示，於僅網孔圖案(無斷線)的情況下與具有 規則的週期的斷線的網孔圖案(有斷線)的情況下存在空間頻率特性之差，從而可利用該差對上述原因進行說明。
此處，圖17(A)以及圖17(B)分別表示無斷線(斷線部)且疊紋的視認性得以適當化的網孔圖案(無斷線)以及具有規則的週期的斷線的網孔圖案(有斷線)的情況下的空間頻率特性的圖。根據圖17(A)以及圖17(B)可知，在具有規則的週期的斷線的網孔圖案中，頻譜強度並非特別高，而頻譜波峰的數量增加。
這樣，本發明者根據圖17(A)以及圖17(B)而發現，藉由有無斷線，而網孔圖案的空間頻率特性發生變化，該變化會對疊紋的視認性造成影響，因此為了設計疊紋視認性優異的圖案，重要的是在設計時將斷線考慮在內，從而完成了本發明。
亦即，本發明的第1形態的導電膜設置於顯示裝置的顯示單元上，其特徵在於包括：透明基體；以及網狀配線，形成於透明基體的至少一面，具有包含圖案化的多個金屬細線的網孔圖案，網狀配線的網孔圖案重疊於顯示單元的畫素陣列圖案，疊紋的最低頻率的頻譜強度以常用對數計為-3.6以下，上述疊紋由至少正面觀察時的網孔圖案的空間頻率特性與顯示單元的畫素陣列圖案的空間頻率特性的卷積來表示。
此處，較佳為網狀配線包括：電極部，具備由多個金屬細線以連續的方式形成為網狀的電極配線圖案；以及非電極部，具備由多個金屬細線形成為網狀且具有多個斷線部而非連續的非電極配線圖案，且與電極部絕緣，網狀配線的網孔圖案包含電極部的 電極配線圖案、及與該電極配線圖案絕緣的非電極部的非電極配線圖案，網孔圖案的空間頻率特性為至少正面觀察時的包含多個斷線部的網孔圖案的空間頻率特性。
而且，為了達成上述目的，本發明的第2形態的導電膜之配線圖案的決定方法中，上述導電膜設置於顯示裝置的顯示單元上且形成有網狀配線，上述網狀配線具有由圖案化的多個金屬細線以連續的方式形成為網狀的網孔圖案，上述導電膜的網孔圖案的決定方法的特徵在於：獲取網孔圖案的透過率週期圖像資料、與重疊有網孔圖案的顯示單元的畫素陣列圖案的透過率週期圖像資料，對獲取的網孔圖案的透過率週期圖像資料以及畫素陣列圖案的透過率週期圖像資料進行2維傅里葉變換，獲得至少正面觀察時的網孔圖案的空間頻率特性以及畫素陣列圖案的空間頻率特性，根據所獲得的網孔圖案的空間頻率特性與畫素陣列圖案的空間頻率特性，算出由兩者的卷積表示的疊紋的頻率以及頻譜強度，求出所算出的疊紋的頻率內的最低頻率，將該最低頻率的頻譜強度與以常用對數計的-3.6相比，當由常用對數定義的疊紋的頻譜強度為-3.6以下時，將網孔圖案設定為導電膜的網孔圖案，當疊紋的頻譜強度超過-3.6時，將網孔圖案的透過率週期圖像資料變更為新的網孔圖案的透過率週期圖像資料，並重複進行空間頻率特性的獲取、疊紋的頻率以及頻譜強度的算出、以及疊紋的最低頻率的頻譜強度與-3.6的比較的各步驟，直至疊紋的最低頻率的頻譜強度為-3.6以下為止。
此處，較佳為網狀配線具有網孔圖案，上述網孔圖案包括：電極配線圖案，由多個金屬細線以連續的方式形成為網狀；以及非電極配線圖案，由多個金屬細線形成為網狀、具有多個斷線部且與電極配線圖案非連續地絕緣，網孔圖案的透過率週期圖像資料為具備具有多個斷線部的非電極配線圖案的網孔圖案的透過率週期圖像資料，網孔圖案的空間頻率特性為至少正面觀察時的包含多個斷線部的網孔圖案的空間頻率特性。
而且，較佳為根據所獲得的網孔圖案的空間頻率特性，從網孔圖案的透過率週期圖像資料的2維傅里葉頻譜的多個頻譜波峰內抽出其波峰強度以常用對數計為-4.5以上的頻譜波峰，並算出所抽出的所有頻譜波峰的波峰頻率以及波峰強度，並且根據所獲得的畫素陣列圖案的空間頻率特性，從畫素陣列圖案的透過率週期圖像資料的2維傅里葉頻譜的多個頻譜波峰內抽出其波峰強度以常用對數計為-4.5以上的頻譜波峰，並算出所抽出的所有頻譜波峰的波峰頻率以及波峰強度，根據如此所算出的網孔圖案的波峰頻率以及波峰強度與畫素陣列圖案的波峰頻率以及波峰強度，而分別算出疊紋的頻率以及頻譜強度。
上述第1形態中，較佳為疊紋的頻率由網孔圖案的波峰頻率與畫素陣列圖案的波峰頻率的差分而賦予，疊紋的頻譜強度由網孔圖案的波峰強度與畫素陣列圖案的波峰強度的乘積而賦予。
而且，上述第2形態中，較佳為求出網孔圖案的波峰頻率與 畫素陣列圖案的波峰頻率的波峰頻率彼此的差分，來作為疊紋的頻率，求出網孔圖案的波峰強度與畫素陣列圖案的波峰強度的2組向量強度的乘積，來作為疊紋的頻譜強度。
而且，上述第1形態及第2形態中，較佳為波峰強度為波峰位置周邊的多個畫素內的強度之和，而且，較佳為波峰強度由網孔圖案以及畫素陣列圖案的透過率週期圖像資料而得以標準化。
為了達成上述目的，本發明的第3形態的導電膜設置於顯示裝置的顯示單元上，其特徵在於包括：透明基體；以及網狀配線，形成於透明基體的至少一面，且具有包含圖案化的多個金屬細線的網孔圖案，網狀配線包括：電極部，具備由多個金屬細線以連續的方式形成為網狀的電極配線圖案；以及非電極部，具備由多個金屬細線形成為網狀且具有多個斷線部而非連續的非電極配線圖案，且與電極部絕緣，網狀配線的網孔圖案包含電極部的電極配線圖案、及與該電極配線圖案絕緣的非電極部的非電極配線圖案，並重疊於顯示單元的畫素陣列圖案，在使非電極部的非電極配線圖案的多個斷線部連接的情況下，網狀配線的網孔圖案不會視認到疊紋，非電極部的非電極配線圖案為無規地配置著多個斷線部的無規配線圖案。
而且，上述第1形態、第2形態以及第3形態中，較佳為疊紋的頻率為3週期/毫米以下。
而且，較佳為非電極部的非電極配線圖案在除電極部以外的區域內由多個金屬細線形成為網狀。
而且，較佳為畫素陣列圖案為黑矩陣圖案。
為了達成上述目的，本發明的第4形態的顯示裝置的特徵在於包括：顯示單元；以及如上述第1形態及第3形態的導電膜，設置於該顯示單元上。
為了達成上述目的，本發明的第5形態的觸控面板顯示裝置的特徵在於包括：第4形態的顯示裝置；以及透明基板，配置於顯示裝置的導電膜的上側，且在導電膜的相反側具備觸控面。
根據本發明，因如以上般構成，故即便在使用設置於顯示裝置的顯示單元上的導電膜的情況下，且即便在具備包含金屬細線的網孔圖案的網狀配線具有多個斷線部的情況下，亦可抑制疊紋的產生，從而可大幅提高視認性。
根據本發明，尤其在將包括具有多個斷線部的網狀配線的透明導電膜用作必須進行大尺寸化、高解析度化的觸控面板用電極的情況下，可抑制將導電膜重疊於顯示裝置的顯示單元的黑色矩陣而視認時成為大的畫質障礙的疊紋的發生，從而可大幅提高觸控面板上的顯示的視認性。
10、11‧‧‧導電膜
12‧‧‧透明基體
14、82‧‧‧金屬製的細線(金屬細線)
16、16a、16b‧‧‧配線層
18、18a、18b‧‧‧黏接層
20、20a、20b‧‧‧保護層
22、28‧‧‧網狀配線
22a、28a‧‧‧電極部
22b、28b‧‧‧虛設電極部(非電極部)
23、29、80‧‧‧開口部
24、30、70‧‧‧網孔圖案
24a、30a、74‧‧‧電極配線圖案
24b、30b、78‧‧‧虛設電極配線圖案
26、84‧‧‧斷線部(斷線)
31‧‧‧顯示單元
32‧‧‧畫素
32r、32g、32b‧‧‧子畫素
34‧‧‧黑色矩陣(BM)
36‧‧‧區域
38‧‧‧BM圖案
40‧‧‧顯示裝置
42‧‧‧輸入面
44‧‧‧觸控面板
46‧‧‧框體
48‧‧‧蓋構件
50‧‧‧電纜
52‧‧‧可撓性基板
54‧‧‧檢測控制部
56‧‧‧黏接層
58‧‧‧接觸體
72‧‧‧X電極
76a、76b、76c、76d‧‧‧虛設電極
、‧‧‧2維基本頻率向量成分
P‧‧‧2維傅里葉頻譜的強度的波峰
Ph‧‧‧水平畫素間距
Pv‧‧‧垂直畫素間距
S10~S26‧‧‧步驟
Sp‧‧‧2維傅里葉頻譜的強度
x、y‧‧‧方向
Z1、Z2‧‧‧箭頭
圖1是示意性地表示本發明的第1實施形態的導電膜的一例的平面圖。
圖2是圖1所示的導電膜的部分放大平面圖。
圖3是圖2所示的導電膜的部分放大平面圖，且是表示其網孔圖案的多個斷線部的一例的示意圖。
圖4是圖3所示的導電膜的示意性部分剖面圖。
圖5是示意性地表示本發明的第2實施形態的導電膜的一配線層的一例的平面圖。
圖6是圖5所示的導電膜的配線層的部分放大平面圖，且是表示其網孔圖案的多個斷線部的一例的示意圖。
圖7是圖6所示的導電膜的示意性部分剖面圖。
圖8是表示應用本發明的導電膜的顯示單元的一部分的畫素陣列圖案的一例的概略說明圖。
圖9是裝入圖7所示的導電膜的顯示裝置的一實施例的概略剖面圖。
圖10是表示本發明的導電膜之網孔圖案的決定方法的一例的流程圖。
圖11(A)是表示應用本發明的導電膜的顯示單元的畫素陣列圖案的一例的概略說明圖，圖11(B)是表示重疊於圖11(A)的畫素陣列圖案的導電膜的配線圖案的一例的概略說明圖，圖11(C)是圖11(A)的畫素陣列圖案的部分放大圖。
圖12(A)以及圖12(B)分別是表示圖11(A)所示的畫素陣列圖案以及圖11(B)所示的配線圖案的各透過率週期圖像資料的2維傅里葉頻譜的強度特性的圖。
圖13是表示圖11(A)所示的顯示單元的畫素陣列圖案的頻 率波峰位置的圖表
圖14(A)以及圖14(B)分別是將2維傅里葉頻譜的強度特性的一例由曲線表示的圖表以及由條形表示的條形圖。
圖15是示意性地表示藉由圖11(A)所示的畫素陣列圖案與圖11(B)所示的配線圖案的干涉而產生的疊紋頻率資訊以及疊紋的頻譜強度的概略說明圖。
圖16是表示比較例1的網孔圖案的模擬樣本的平面圖。
圖17(A)以及圖17(B)分別是表示無斷線(斷線部)的網孔圖案(無斷線)以及具有規則週期的斷線的網孔圖案(有斷線)的情況下的空間頻率特性的圖。
以下，參照隨附圖式所示的較佳的實施形態對本發明的導電膜以及導電膜之圖案的決定方法進行詳細說明。
以下，對本發明的導電膜，以在網狀配線中具備斷線部的觸控面板用的導電膜作為代表例進行說明，但本發明並不限定於此，只要為設置於液晶顯示器(LCD：Liquid Crystal Display)或電漿顯示器(PDP：Plasma Display Panel)或有機電致發光(Electro Luminescence，EL)顯示器(OELD：Organic Electro Luminescence Display)或無機EL顯示器等顯示裝置的顯示單元上的導電膜，則為任一者均可，例如，只要在網狀配線中具備斷線部，則當然亦可為電磁波屏蔽用的導電膜等。
圖1、圖2以及圖3分別是示意性地表示本發明的第1 實施形態的導電膜的一例的整體平面圖，其部分放大平面圖以及進一步放大而示意性地表示其網孔圖案的多個斷線部的一例的部分平面示意圖，圖4是圖3所示的導電膜的示意性部分剖面圖。另外，圖1中，為了容易理解，將導電膜的網狀配線的電極部表示為由粗線包圍的區域，將虛設電極部表示為斜線區域。而且，圖2~圖3中，為了容易理解，在導電膜的網狀配線的網孔圖案內，由粗線表示電極配線圖案，由細線表示虛設電極圖案，但該些為由相同而不透明的金屬細線形成，就粗細而言，當然並無不同。
如該些圖所示，本實施形態的導電膜10設置於顯示裝置的顯示單元上，是形成有網狀配線的導電膜，該網狀配線具有在抑制相對於顯示單元的黑色矩陣(BM：Black Matrix)而產生疊紋方面優異的網孔圖案(配線圖案)，尤其在重疊於BM圖案時相對於BM圖案而疊紋的視認性方面得以最佳化的網孔圖案。該導電膜10包括：透明基體12；配線層16，形成於透明基體12的一面(圖4中上側的面)的大致整個面，且包含圖案化的多個不透明的金屬製的細線(以下稱作金屬細線)14；以及保護層20，以被覆金屬細線14的方式經由黏接層18而黏接於配線層16的金屬細線14的大致整個面。
透明基體12包含具有絕緣性且透光性高的材料，例如可列舉樹脂，玻璃、矽等材料。作為樹脂，例如可列舉聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene Terephthalate，PET)、聚甲基丙烯酸甲 酯(Polymethyl methacrylate，PMMA)、聚丙烯(polypropylene，PP)、聚苯乙烯(polystyrene，PS)等。
配線層16具備包含多個金屬細線14的網狀配線22。金屬細線14只要為導電性高的金屬製的細線則不作特別限制，例如可列舉包含金(Au)、銀(Ag)或銅(Cu)的線材等的細線。就金屬細線14的線寬而言，自視認性方面考慮，細線寬較佳，例如，為30μm以下即可。另外，觸控面板用途中，金屬細線14的線寬較佳為0.1μm以上、15μm以下，更佳為1μm以上、9μm以下，進而較佳為2μm以上、7μm以下。
詳細而言，網狀配線22具有將2個方向的多個金屬細線14以交叉方式配線而成的配線圖案，亦即，將多個金屬細線14以網狀排列而成的網孔圖案24。圖示例中，由網孔圖案24形成的開口部23的網形狀為菱形，可稱作菱形圖案，但本發明並不限定於此，只要可構成相對於後述的規定的BM圖案而疊紋視認性最佳化的網孔圖案24，且只要為具有至少3邊的多邊形狀，則可為任一形狀，而且，可為相同的網形狀，亦可為不同的網形狀，例如，可列舉正三角形、等腰三角形等三角形，或正方形、長方形等四邊形(矩形)或五邊形或六邊形等相同或不同的多邊形等。亦即，只要為相對於規定的BM圖案而疊紋視認性最佳化的網孔圖案，則亦可為由具有規則性的開口部23的排列而構成的網孔圖案，還可為由不同形狀的開口部23的排列而無規化的網孔圖案。
網狀配線22包括：電極部22a，具備由多個金屬細線 14以連續方式形成為網狀的電極配線圖案24a；以及虛設電極部(非電極部)22b，具備由多個金屬細線同樣地形成為網狀且具有多個斷線部26而非連續的虛設電極(非電極)配線圖案24b，且與電極部22a絕緣。此處，電極部22a的電極配線圖案24a與虛設電極部22b的虛設電極配線圖案24b在圖示例中，為具有相同網形狀(菱形)的配線圖案，將兩者合成而形成為網狀配線22的網孔圖案24。
此處，圖示例的電極部22a的電極配線圖案24a為構成X電極的電極圖案，但本發明並不限定於此，只要為用於靜電電容式觸控感測器(面板)的電極圖案，則可為任一圖案，例如，亦可為條狀電極、條帶狀(Bar and Stripe)電極、菱形電極、雪花狀(snowflake)電極等現有公知的電極圖案。
電極部22a中形成為網狀的金屬細線14不具有斷線部26而連續，與此相對，虛設電極部22b中形成為網狀的金屬細線14中設置著多個斷線部(切斷部)26，從而附加有多個斷線。在電極部22a中的金屬細線14與虛設電極部22b中的金屬細線14之間，必須設置斷線部26，電極部22a的金屬細線14與虛設電極部22b的金屬細線14斷線而不連續。亦即，虛設電極部22b與電極部22a電性絕緣。
根據以上，網狀配線22的網孔圖案24成為包含多個斷線部26的網孔圖案。另外，關於本發明的導電膜10的網狀配線22的網孔圖案24所需的構成，將於以下進行敘述。
作為黏接層18的材料，可列舉濕式積層(wet laminate)黏接劑、乾式積層(dry laminate)黏接劑、或熱熔(hot melt)黏接劑等。
保護層20與透明基體12同樣地，包含含樹脂、玻璃、矽的透光性高的材料。保護層20的折射率n1較佳為與透明基體12的折射率n0相等或為與其接近的值。該情況下，透明基體12相對於保護層20的相對折射率nr1為接近於1的值。
此處，本說明書中的折射率是指波長589.3nm(鈉的D線)的光的折射率，例如對於樹脂而言，由作為國際標準規格的國際標準化組織(International Organization for Standardization，ISO)14782：1999(與日本工業規格(Japanese Industrial Standards，JIS)K7105相對應)而定義。而且，透明基體12相對於保護層20的相對折射率nr1由nr1=(n1/n0)定義。此處，相對折射率nr1處於0.86以上、1.15以下的範圍即可，更佳為0.91以上、1.08以下。
藉由將相對折射率nr1的範圍限定為該範圍，以控制透明基體12與保護層20的構件間的光的透過率，藉此可進一步提高、改善疊紋的視認性。
上述第1實施形態的導電膜10僅在透明基體12的一面具有配線層16，但本發明並不限定於此，亦可於透明基體12的兩面具有配線部。
圖5以及圖6分別是示意性地表示本發明的第2實施形態的 導電膜的一側，亦即下側的第2配線層的一例的平面圖，以及部分放大平面示意圖，且示意性地表示其網孔圖案的多個斷線部的一例，圖7是示意性地表示圖6所示的導電膜的部分剖面圖。另外，圖5中，為了容易理解，將導電膜的網狀配線的電極部表示為斜線區域，將虛設電極部表示為由一點鏈線包圍的區域。而且，圖6中，為了容易理解，在導電膜的網狀配線的網孔圖案內，由粗線表示電極配線圖案，由細線表示虛設電極圖案，但該些為由相同而不透明的金屬細線形成，就粗細而言，當然並無不同。
另外，圖7所示的本第2實施形態的導電膜的另一側，亦即上側的第1配線層的平面圖中，因與圖1~圖3所示的本第1實施形態的導電膜的平面圖相同，故此處省略。
如圖7所示，本第2實施形態的導電膜11包括：形成於透明基體12的一(圖7的上側)面的第1配線層16a，形成於透明基體12的另一(圖7的下側)面的第2配線層16b，經由第1黏接層18a而黏接於第1配線層16a的大致整個面的第1保護層20a，以及經由第2黏接層18b而黏接於第2配線層16b的大致整個面的第2保護層20b。
另外，如上述般，透明基體12包含絕緣性材料，第2配線層16b處於與第1配線層16a電性絕緣的狀態。而且，第1配線層16a、以及第2配線層16b可分別由與圖4所示的導電膜10的配線層16相同的材料而相同地形成。
本實施形態的導電膜11的第1配線層16a此處並未圖 示，但與圖1~圖3所示的配線層16同樣地包括網狀配線22，該網狀配線22具有：電極部22a，包含多個金屬細線14，且具備電極配線圖案24a；以及虛設電極部22b，具備具有多個斷線部26的虛設電極配線圖案24b；且具有電極配線圖案24a與虛設電極配線圖案24b的合成圖案即網孔圖案24。
此處，導電膜11的第1配線層16a具有與圖1~圖4所示的導電膜10的配線層16相同的構成，因而省略其詳細說明。
導電膜11中，第2配線層16b包含多個不透明的金屬細線14，且形成於透明基體12的另一(圖7的下側)面。
如圖5以及圖6所示，第2配線層16b具備包含多個金屬細線14的網狀配線28。
網狀配線28與圖1~圖3所示的網狀配線22同樣地，詳細而言，具有將2個方向的多個金屬細線14以交叉方式配線而成的配線圖案，亦即，將多個金屬細線14以網狀排列而成的網孔圖案30。圖示例中，由網孔圖案30形成的開口部29的網形狀為菱形，可稱作菱形圖案。另外，網狀配線28的網孔圖案30的開口部29因具有與圖1~圖3所示的網狀配線22的網孔圖案24的開口部23相同的網形狀，故省略其詳細說明。
網狀配線28包括：電極部28a，具備由多個金屬細線14以連續方式形成為網狀的電極配線圖案30a；以及虛設電極部28b，具備由多個金屬細線同樣地形成為網狀且具有多個斷線部26而非連續的虛設電極配線圖案30b，且與電極部28a絕緣。此處， 電極部28a的電極配線圖案30a與虛設電極部28b的虛設電極配線圖案30b在圖示例中，為具有相同網形狀(菱形)的配線圖案，將兩者合成而形成網狀配線28的網孔圖案30。
此處，圖示例的虛設電極部28b的虛設電極配線圖案30b為線狀，電極部22a的電極配線圖案24a為構成條狀電極的電極圖案，但本發明並不限定於此，只要為用於靜電電容式觸控感測器(面板)的電極圖案，則可為任一者，例如亦可為X電極、條帶狀電極、菱形電極、雪花狀電極等現有公知的電極圖案。
電極部28a中形成為網狀的金屬細線14不具有斷線部26而連續，與此相對，虛設電極部28b中形成為網狀的金屬細線14中設置著多個斷線部(切斷部)26，從而附加有多個斷線。在電極部28a中的金屬細線14與虛設電極部28b中的金屬細線14之間，必須設置斷線部26，電極部28a的金屬細線14與虛設電極部28b的金屬細線14斷線，而不連續。亦即，虛設電極部28b與電極部28a電性絕緣。
根據以上，網狀配線28的網孔圖案30成為包含多個斷線部26的網孔圖案。另外，關於本發明的導電膜11的網狀配線28的網孔圖案30所需的構成，將於以下進行敘述。
第1保護層20a以被覆第1配線層16a的金屬細線14的方式，經由第1黏接層18a而黏接於第1配線層16a的大致整個面。
而且，第2保護層20b以被覆第2配線層16b的金屬細線14 的方式，經由第2黏接層18b而黏接於第2配線層16b的大致整個面。
此處，第1黏接層18a以及第2黏接層18b可分別由與圖4所示的導電膜10的黏接層18相同的材料而相同地形成，而第1黏接層18a的材質與第2黏接層18b的材質可相同，亦可不同。
而且，第1保護層20a以及第2保護層20b可分別由與圖4所示的導電膜10的保護層20相同的材料而相同地形成，而第1保護層20a的材質與第2保護層20b的材質可相同，亦可不同。
第1保護層20a的折射率n2以及第2保護層20b的折射率n3均與上述第1實施形態的導電膜10的保護層20同樣地，與透明基體12的折射率n0相等或為與其接近的值。該情況下，透明基體12相對於第1保護層20a的相對折射率nr2以及透明基體12相對於第2保護層20b的相對折射率nr3均為接近1的值。此處，折射率以及相對折射率的定義為如上述第1實施形態的定義。因此，透明基體12相對於第1保護層20a的相對折射率nr2由nr2=(n2/n0)而定義，透明基體12相對於第1保護層20b的相對折射率nr3由nr2=(n3/n0)而定義。
此處，相對折射率nr2以及相對折射率nr3與上述相對折射率nr同樣地，為0.86以上、1.15以下的範圍即可，更佳為0.91以上、1.08以下。
另外，藉由將相對折射率nr2、以及相對折射率nr3的範圍限定為該範圍，而可與相對折射率nr1的範圍的限定同樣地，進一 步提高疊紋的視認性。
上述本發明的第1實施形態的導電膜10以及第2實施形態的導電膜11被應用於例如圖8中示意性地表示有其一部分的顯示單元(顯示部)31的觸控面板中，且具有相對於顯示單元31的畫素陣列圖案，亦即黑色矩陣(以下，亦稱作BM)圖案而疊紋視認性方面最佳化的網孔圖案(24，30)。
此處，本發明中，所謂相對於BM(畫素陣列)圖案而疊紋視認性方面最佳化的網孔圖案，是指相對於規定的BM圖案而人的視覺上未察覺到疊紋的1個或由2個以上構成的1個群組的網孔圖案。另外，本發明中，即便在已最佳化的由2個以上構成的1個群組的網孔圖案中，亦可從最不會被察覺到的網孔圖案到不易察覺到的網孔圖案為止附上順序，還可決定出最不會被察覺到疊紋的1個網孔圖案。
此處，本發明中，由至少正面觀察時的網孔圖案的空間頻率特性與顯示單元的BM圖案的空間頻率特性的卷積來表示的疊紋的最低頻率的頻譜強度，必須以常用對數計為-3.6(以反對數計為10-3.6)以下。此處，以導電膜的網孔圖案為包含多個斷線部的網孔圖案的情況為代表例進行說明，而如圖17(A)以及圖17(B)所示，包含多個斷線部的網孔圖案比不包含斷線部的網孔圖案更容易視認到疊紋，因而本發明當然可應用於不包含斷線部的網孔圖案。亦即，本發明無論有無斷線部，均可應用於如下的網孔圖案，即由網孔圖案與顯示單元的BM圖案的兩空間頻率特性 的卷積表示的疊紋的最低頻率的頻譜強度以常用對數計為-3.6(以反對數計為10-3.6)以下的網孔圖案。
另外，本發明中，作為對象的疊紋的頻率較佳為3週期/毫米以下。其理由在於，據經驗可知，官能評價方面成為問題的疊紋的頻率為3週期/毫米以內。
另一方面，本發明中，在以即便不包含斷線部的網孔圖案與顯示單元的BM圖案重疊亦不會視認到疊紋的方式使疊紋的視認性得以適當化的情況下，在對該網孔圖案附加多個斷線部時，藉由以斷線部的位置、長度、配置(數)等至少一個具有無規則性而使其為無規性的方式，亦即，藉由無規地配置多個斷線部，而形成包含多個斷線部的網孔圖案，從而即便重疊於BM圖案，亦可提高疊紋的視認性。
另外，在具有包含多個斷線部的網孔圖案的導電膜中，當多個斷線部連接著(不包含斷線部)的情況下的網孔圖案的疊紋的視認性得到適當化時，網孔圖案內的虛設電極配線圖案成為無規地配置著多個斷線部的無規配線圖案，藉此可提高疊紋的視認性。
此處，作為不包含疊紋的視認性得以適當化的斷線部的網孔圖案，可使用本申請人申請的日本專利特願2012-82711號說明書中所述的導電膜的網孔圖案。其中所揭示的網孔圖案為相對於如下的疊紋的頻率以及強度，而疊紋的頻率處於根據視覺響應特性而規定的規定頻率範圍內時疊紋的頻譜強度之和為規定值以下的配線圖案，上述疊紋的頻率以及強度是使人的視覺響應特性 作用於如下的疊紋的頻率以及頻譜強度所得，即根據上述網孔圖案的透過率圖像資料的2維傅里葉頻譜的多個頻譜波峰的波峰頻率以及波峰強度、與畫素陣列圖案的透過率圖像資料的2維傅里葉頻譜的多個頻譜波峰的波峰頻率以及波峰強度而分別算出的疊紋的頻率以及頻譜強度。
另外，作為不包含疊紋的視認性得以適當化的斷線部的網孔圖案，並不限定於上述說明書中記載的內容，亦可為現有公知的不包含疊紋的視認性得以適當化的斷線部的網孔圖案，應用本申請人的申請案的日本專利特願2011-221432號、日本專利特願2011-221434號、日本專利特願2012-82706號以及日本專利特願2012-166946號等中記載的網孔圖案即可。
因此，本發明的導電膜10以及導電膜11中，相對於顯示單元31的畫素陣列圖案，亦即黑色矩陣(以下，亦稱作BM)圖案而疊紋視認性方面最佳化的網孔圖案24以及網孔圖案30、以及兩者的合成網孔圖案，滿足上述條件中的至少一個。
另外，關於相對於規定的BM圖案的網孔圖案的疊紋視認性最佳化的詳情，將於以後進行敍述。
本發明的導電膜基本上如以上般構成。
圖8是示意性地表示應用本發明的導電膜的顯示單元的一部分的畫素陣列圖案的一例的概略說明圖。
如圖8中表示其一部分所示，在顯示單元31上，多個畫素32矩陣狀地排列而構成規定的畫素陣列圖案。1個畫素32是將3個 子畫素(紅色子畫素32r、綠色子畫素32g以及藍色子畫素32b)沿水平方向排列而構成。1個子畫素設為垂直方向上縱長的長方形狀。畫素32的水平方向的陣列間距(水平畫素間距Ph)與畫素32的垂直方向的陣列間距(垂直畫素間距Pv)大致相同。即，由1個畫素32及包圍該1個畫素32的黑色矩陣(BM)34(圖案材料)構成的形狀(參照由陰影表示的區域36)設為正方形。而且，1個畫素32的縱橫比不為1，而為水平方向(橫)的長度>垂直方向(縱)的長度。
如根據圖8可知般，包含多個畫素32的各自的子畫素32r、子畫素32g以及子畫素32b的畫素陣列圖案藉由分別包圍該些子畫素32r、子畫素32g以及子畫素32b的BM34的BM圖案38而規定，顯示單元31與導電膜10或導電膜11重疊時產生的疊紋，因顯示單元31的BM34的BM圖案38與導電膜10或導電膜11的網孔圖案24、網孔圖案30的干涉而產生，因而嚴格來說，BM圖案38為畫素陣列圖案的反轉圖案，但此處，作為表示相同的圖案者而進行處理。
當在具有包含上述BM34的BM圖案38的顯示單元31的顯示面板上，例如配置導電膜10或導電膜11時，導電膜11的網孔圖案24相對於BM(畫素陣列)圖案38而疊紋視認性方面最佳化，因此幾乎不會有畫素32的陣列週期與導電膜10或導電膜11的金屬細線14的配線陣列之間的空間頻率的干涉，從而抑制了疊紋的產生。
另外，圖8所示的顯示單元31亦可包含液晶面板、電漿面板、有機EL面板、無機EL面板等顯示面板。
其次，一邊參照圖9一邊對裝入了本發明的導電膜的顯示裝置進行說明。圖9中，作為顯示裝置40，列舉裝入了本發明的第2實施形態的導電膜11的投影型靜電電容方式的觸控面板為代表例進行說明，但本發明當然並不限定於此。
如圖9所示，顯示裝置40包括：可顯示彩色圖像以及/或單色圖像的顯示單元31(參照圖8)，對來自輸入面42(箭頭Z1方向側)的接觸位置進行檢測的觸控面板44，以及收容顯示單元31以及觸控面板44的框體46。用戶可經由設置於框體46的一面(箭頭Z1方向側)的大的開口部觸及觸控面板44。
觸控面板44除上述導電膜11(參照圖5、圖6以及圖7)之外，還包括：積層於導電膜11的一面(箭頭Z1方向側)的蓋構件48，經由電纜50而電性連接於導電膜11的可撓性基板52，以及配置於可撓性基板52上的檢測控制部54。
在顯示單元31的一面(箭頭Z1方向側)，經由黏接層56而黏接導電膜11。導電膜11使另一主面側(第2配線層16b側)與顯示單元31對向，而配置於顯示畫面上。
蓋構件48藉由被覆導電膜11的一面，而發揮作為輸入面42的功能。而且，藉由防止接觸體58(例如手指或觸控筆)的直接接觸，而可抑制擦傷的發生或塵埃的附著等，從而使導電膜11的導電性穩定。
蓋構件48的材質例如亦可為玻璃、樹脂膜。亦可在利用氧化矽等塗佈蓋構件48的一面(箭頭Z2方向側)的狀態下，密接於導電膜11的一面(箭頭Z1方向側)。而且，為防止由摩擦等所致的損傷，亦可貼合導電膜11以及蓋構件48而構成。
可撓性基板52為具備可撓性的電子基板。本圖示例中，其固定於框體46的側面內壁，但配設位置亦可進行各種變更。檢測控制部54構成如下的電子電路，即，在使作為導體的接觸體58與輸入面42接觸(或靠近)時，捕捉接觸體58與導電膜11之間的靜電電容的變化，而檢測其接觸位置(或接近位置)。
應用本發明的導電膜的顯示裝置基本上如以上般構成。
其次，本發明中，說明對相對於顯示裝置的規定的BM圖案的導電膜的網孔圖案的疊紋視認性進行評價以及使其最佳化的順序。亦即，本發明的導電膜中，說明相對於顯示裝置的規定的BM圖案而疊紋以不被人的視覺所察覺的方式得以最佳化的網孔圖案的決定順序。
圖10是表示本發明的導電膜之網孔圖案的決定方法的一例的流程圖。
本發明的導電膜之網孔圖案的決定方法為如下：根據藉由使用了顯示裝置的顯示單元的BM(畫素陣列)圖案與導電膜的網孔圖案的高速傅里葉變換(Fast Fourier Transformation，FFT)的頻率解析所獲得的波峰頻率以及波峰強度，來算出疊紋的頻率以及頻譜強度，將所算出的疊紋的頻率以及頻譜強度與根據經驗 而決定的不會視認到疊紋的疊紋的頻率以及頻譜強度的條件相比，將滿足了該些條件的網孔圖案決定為以不會視認到疊紋的方式而得以最佳化的網孔圖案。上述本發明法中，關於疊紋的頻率以及頻譜強度一般而言利用FFT，對象物的頻率以及頻譜強度根據利用方法的不同而大幅變化，因此規定以下的順序。
本發明法中，首先，作為順序1，進行BM圖案以及網孔圖案的透過率週期圖像資料(以下，亦稱作透過率圖像資料)的製作。亦即，如圖10所示，步驟S10中，製作並獲取圖9所示的顯示裝置40的顯示單元31的BM圖案38(BM34)(參照圖8)的透過率週期圖像資料、與導電膜60的包含斷線部26的網孔圖案62(金屬細線14)(參照圖11(B))的透過率週期圖像資料。另外，在預先準備或儲存了BM圖案38的透過率圖像資料與包含多個斷線部26的網孔圖案62的透過率圖像資料的情況下，亦可從已準備或者儲存的圖像資料中獲取。
顯示單元31的BM圖案38例如如圖11(A)以及作為其部分放大圖的圖11(C)所示，每1畫素32，形成包含RGB的3色的子畫素32r、子畫素32g以及子畫素32b的圖案，當利用單色，例如僅利用G通道的子畫素32g時，R通道以及B通道的透過率圖像資料較佳設為0。本發明中，作為BM34的圖像資料，亦即BM圖案38的透過率圖像資料，如圖11(A)所示，不限定為具有BM34的長方形的開口(子畫素32r、子畫素32g以及子畫素32b)的圖像資料，只要為可使用的BM圖案則亦可為不具有BM34的 長方形的開口的圖案，還可指定並使用具有任意的BM開口的BM圖案。例如，不限定於單純的矩形狀的圖案，亦可為以不複雜的字符狀彎曲的圖案或鉤狀的圖案。另外，BM圖案38的透過率圖像資料例如設為以12700dpi左右的解析度，將開口部設為1.0，將其他部分設為0.0而成的2值化資料。
另一方面，導電膜60的網孔圖案62例如如圖11(B)所示為如下的配線圖案，即，可設為成為配線的金屬細線14以45°[deg]傾斜而成的正方格子，且多個金屬細線14藉由多個斷線部26而斷線。該網孔圖案62的透過率圖像資料作為包含斷線部(斷線)26而形成週期的圖像資料而製作。另外，網孔圖案62的透過率圖像資料例如設為如下的2值化資料，即，以12700dpi左右的解析度，將網形狀內的開口部23、開口部29內設為0.0，將成為配線的金屬細線14的部分設為1.0。
另外，此處，規定網孔圖案62以及BM圖案38的透過率圖像資料的尺寸，例如，設為5020(畫素)×2423(畫素)。而且，為了防止或減少後述的順序2的FFT處理時的週期的偽影(artifact)，較佳為以保持連續性的方式按照重複週期切下。例如，圖像尺寸較佳設為4圖像的區域內的圖像。
其次，作為順序2，對於以順序1製作的網孔圖案62以及BM圖案38的透過率圖像資料，進行2維高速傅里葉變換(2DFFT(基底2))，並抽出規定強度的頻譜(波峰)。
亦即，如圖10所示，步驟S12中，對步驟S10中製作的網孔 圖案62以及BM圖案38的各透過率圖像資料進行2DFFT處理，獲取至少正面觀察時的包含斷線部(斷線)26的網孔圖案62以及BM圖案38的各空間頻率特性(2維傅里葉頻譜)。此時，網孔圖案62以及BM圖案38的各透過率圖像資料的2維傅里葉頻譜由複數(包含相位資訊)表示，將頻譜(複數)除以圖像尺寸(縱×橫(pix2))而使其標準化。以圖像尺寸(pix2)標準化的頻譜，例如由頻譜(複數)/圖像尺寸(5020×2433pix2)而賦予。
其次，作為順序3，根據由順序2獲取的網孔圖案62以及BM圖案38的空間頻率特性，算出由兩者的卷積表示的疊紋的頻率以及頻譜強度。
亦即，如圖10所示，步驟S14中，根據步驟S12中獲取的網孔圖案62的空間頻率特性與BM圖案38的空間頻率特性，算出由兩空間頻率特性的卷積(積分)表示的疊紋的頻率以及頻譜強度。
另外，該步驟14的疊紋的頻率以及頻譜強度的算出可藉由以下的步驟16以及步驟18來進行。
此處，2維傅里葉頻譜的頻譜強度為了配合人的視覺，而由常用對數來定義複數的絕對值。
如圖10所示，步驟S16中，根據步驟S12中獲取的網孔圖案62以及BM圖案38的各空間頻率特性，從各圖案62以及圖案38的頻譜內，抽出所有由常用對數定義而定義的頻譜強度(Log10(頻譜的絕對值))為-4.5以上的頻譜(波峰)的空間頻率。 亦即，從網孔圖案62以及BM圖案38的2維傅里葉頻譜的多個頻譜波峰內，抽出所有其波峰強度以常用對數計為-4.5以上的頻譜波峰，並算出所抽出的所有頻譜波峰的波峰頻率以及波峰強度。
該時間點所獲得的資訊為頻譜的波峰值的空間頻率fx、fy、複數(a+bi)資訊。另外，此處，波峰強度作為絕對值而處理。
此處，圖12(A)以及圖12(B)分別是表示網孔圖案62以及BM圖案38的各透過率圖像資料的2維傅里葉頻譜的強度特性的圖。
另外，圖12(A)以及圖12(B)中，白色部分的強度高，顯示出頻譜波峰，因而根據圖12(A)以及圖12(B)所示的結果，關於各個網孔圖案62以及BM圖案38，算出各頻譜波峰的波峰頻率以及波峰強度。亦即，圖12(A)以及圖12(B)中分別所示的網孔圖案62以及BM圖案38的2維傅里葉頻譜的強度特性中的頻譜波峰於頻率座標上的位置，亦即波峰位置表示波峰頻率，該波峰位置上的2維傅里葉頻譜的強度為波峰強度。
此處，網孔圖案62以及BM圖案38的各頻譜波峰的波峰的頻率以及強度如以下般算出並獲取。
首先，波峰頻率的獲取中，算出波峰時根據網孔圖案62以及BM圖案38的基本頻率而求出頻率波峰。這是因為進行2DFFT處理的透過率圖像資料為離散值，因而波峰頻率依存於圖像尺寸的倒數。頻率波峰位置如圖13所示，可基於獨立的2維基本頻率向量成分以及而加以組合來表示。因此，當然，所獲得的波峰 位置為格子狀。另外，圖13是表示BM圖案38的情況下的頻率波峰位置的圖表，網孔圖案62亦可同樣地求出。
另一方面，波峰強度的獲取中，為了在獲取上述波峰頻率時求出波峰位置，因此獲取波峰位置所具有的2維傅里葉頻譜的強度(絕對值)。此時，對數位資料進行FFT處理，因而有波峰位置跨越多個畫素(pixel)的情況。例如，2維傅里葉頻譜的強度(Sp)特性由圖14(A)所示的曲線(類比(analog)值)表示時，經數位處理的相同的2維傅里葉頻譜的強度特性由圖14(B)所示的條形圖(數位值)表示，而圖14(A)所示的2維傅里葉頻譜的強度的波峰P在對應的圖14(B)中，跨越2個畫素。因此，當獲取存在於波峰位置的強度時，較佳為將包含波峰位置周邊的多個畫素的區域內內的多個畫素的頻譜強度自上位算起的多個點之和，例如，將5×5畫素的區域內的畫素的頻譜強度自上位算起的5點之和設為波峰強度(絕對值)。
此處，所獲得的波峰強度較佳為由圖像尺寸加以標準化。上述例中，如上述般，較佳為由圖像尺寸(5020×2433pix2)而加以標準化(巴色伐定理(Parseval's theorem))。
其次，如圖10所示，步驟S18中，根據步驟S16中所算出的網孔圖案62以及BM圖案38的兩2維傅里葉頻譜的波峰頻率以及波峰強度而分別算出疊紋的頻率以及頻譜強度。另外，此處，波峰強度以及疊紋的頻譜強度亦作為絕對值而進行處理。
實際空間中，疊紋本來由網孔圖案62與BM圖案38的透過 率週期圖像資料的相乘而引起，因此空間頻率空間中，進行兩者的卷積積分(convolution)。然而，步驟S16中，算出網孔圖案62以及BM圖案38的兩2維傅里葉頻譜的波峰頻率以及波峰強度，因而求出兩者的各自的頻率波峰彼此的差分(差的絕對值)，將所求出的差分作為疊紋的頻率，並求出兩者組合而成的2組向量強度的乘積，將所求出的乘積設為疊紋的頻譜強度(絕對值)。
如此而求出的疊紋的頻率以及疊紋的頻譜強度可以說是步驟S12中獲取的網孔圖案62與BM圖案38的各空間頻率特性的卷積積分的結果。
此處，圖12(A)以及圖12(B)中分別所示的網孔圖案62以及BM圖案38兩者的2維傅里葉頻譜的強度特性的各自的頻率波峰彼此的差分，在將兩者的2維傅里葉頻譜的強度特性重合而獲得的強度特性中，相當於兩者的各自的頻率波峰於頻率座標上的波峰位置間的相對距離。
另外，網孔圖案62以及BM圖案38的兩2維傅里葉頻譜的頻譜波峰分別存在多個，因而其相對距離的值即頻率波峰彼此的差分，亦即疊紋的頻率亦求出多個。因此，若兩2維傅里葉頻譜的頻譜波峰存在多個，則所求出的疊紋的頻率亦為多數，從而計算處理耗費時間。此種情況下，亦可預先在兩2維傅里葉頻譜的頻譜波峰中，分別僅選定波峰強度強者。該情況下，因僅求出所選定的波峰彼此的差分，故可縮短計算時間。
將如此求出的疊紋的頻率以及疊紋的頻譜強度表示於 圖15中。圖15是示意性地表示由圖11(A)所示的畫素陣列圖案與圖11(B)所示的網孔圖案的干涉而產生的疊紋的頻率以及疊紋的頻譜強度的概略說明圖，亦可稱作圖12(A)以及圖12(B)所示的2維傅里葉頻譜的強度特性的卷積積分的結果。
圖15中，疊紋的頻率由縱橫軸的位置而表示，疊紋的頻譜強度由灰色(無彩色)濃淡而表示，顯示出顏色越濃則頻譜強度越小，顏色越淡，亦即越白則頻譜強度越大。
其次，作為順序4，進行疊紋的視認性的判定。
亦即，如圖10所示，步驟S20中，求出步驟S18(S14)中所算出的疊紋的頻率內的最低頻率，從而求出疊紋的最低頻率的頻譜強度。此處，所考慮的疊紋的頻率僅為3週期/毫米(cycle/mm)以內的資料。亦即，步驟S18(S14)中所算出的疊紋的頻率內，使用3cycle/mm以內的疊紋的頻率並對其附上順序，求出最低的疊紋的頻率，並求出其頻譜強度。
另外，疊紋的視認性的判定等中，對疊紋的頻率以及頻譜強度，卷積以表示人的標準視覺響應特性的杜利肖(Dooley Shaw)函數等為基礎的視覺傳遞函數(Visual Transfer Function，VTF)，但在本發明中，並不使用VTF。其理由在於：VTF為依存於觀察距離的函數，在包含應用了本發明的導電膜的觸控面板等的顯示裝置中，在實際的觀察時並不將觀察距離固定。
其次，如圖10所示，步驟S22中，將步驟S20中求出的疊紋的最低頻率的頻譜強度與-3.6相比，從而判定疊紋的頻譜 強度是否為-3.6以上。
另外，對於多數的網孔圖案62，在後述實施例的虛設電極部22b的具有多個斷線部26的虛設電極配線圖案24b的多個不同樣本中求出疊紋的最低頻率的頻譜強度，3名研究員對網孔圖案62與疊紋的最低頻率的頻譜強度進行評價後，如後述表1所示，當疊紋的最低頻率的頻譜強度以常用對數計為-3.8以下(以反對數計為10-3.8以下)時，官能評價中亦未視認到疊紋而為A，當該頻譜強度以常用對數計為超過-3.8且-3.6以下(以反對數計為超過10-3.8且10-3.6以下)時，官能評價中雖視認到少量疊紋但為不會引起注意的程度，從而為B，當該頻譜強度以常用對數計為超過-3.6(以反對數計為超過10-3.6)時，官能評價中視認到疊紋C(無法使用)。
因此，本發明中，將疊紋的最低頻率的頻譜強度限定為以常用對數計為-3.6以下(以反對數計為10-3.6以下)。
其結果，在疊紋的最低頻率的頻譜強度以常用對數計為超過-3.6(以反對數計為超過10-3.6)的情況下，轉至步驟S24，將網孔圖案62的透過率圖像資料更新為新的網孔圖案的透過率圖像資料，並返回到步驟S12中。
此處，更新的新的網孔圖案可為預先準備者，亦可為新製作者。另外，在新製作的情況下，亦可使網孔圖案的透過率圖像資料，詳細而言，可使虛設電極配線圖案24b的多個斷線部(斷線)26的位置、間距、寬度中的任一個以上發生變化，亦可變更網孔 圖案自身的形狀或尺寸。進而，亦可使該些具有無規性。
然後，重複進行步驟S12的空間頻率特性的獲取、步驟S14(S18)的疊紋的頻率以及頻譜強度的算出、以及步驟20的疊紋的最低頻率的頻譜強度的算出、步驟22的疊紋的最低頻率的頻譜強度與以常用對數計的-3.6(以反對數計為10-3.6)的比較、以及步驟24的網孔圖案的透過率圖像資料的更新的各步驟，直至疊紋的最低頻率的頻譜強度以常用對數計為-3.6(以反對數計為10-3.6)以下為止。
另一方面，在疊紋的最低頻率的頻譜強度以常用對數計為-3.6(以反對數計為10-3.6)以下的情況下，轉至步驟S26，將網孔圖案62決定為最佳化網孔圖案，並設定為本發明的導電膜10或導電膜11的網孔圖案24(30)。
如此，本發明的導電膜之網孔圖案的決定方法結束，可製作本發明的導電膜，該導電膜即便重疊於顯示裝置的顯示單元的BM圖案亦可抑制疊紋的產生，疊紋的視認性優異且具有最佳化的網孔圖案。
[實施例]
將圖16(A)所示的網孔圖案70作為比較例1的模擬樣本而製作。比較例1的網孔圖案70為如下的配線圖案，即，包括構成有效的電極區域的X電極72的電極配線圖案74，及4個虛設電極76a、虛設電極76b、虛設電極76c以及虛設電極76d的虛設電極配線圖案78，且具有多個斷線部84，該多個斷線部84 分別有規則地設置在由虛設電極配線圖案78形成的所有開口部80的呈菱形的網形狀且包含金屬細線82的4邊的中心。另外，亦在電極配線圖案74與虛設電極配線圖案78之間的邊上，在兩者間的各1邊的金屬細線82的中心位置設置著斷線部84。另外，圖示例中，為了簡化圖式，僅在1個虛設電極76c的虛設電極配線圖案78中圖示斷線部84，而3個虛設電極76a、虛設電極76b以及虛設電極76d的虛設電極配線圖案78中，省略斷線部84的圖示。
另外，作為參考例，將不包含斷線部的網狀配線的網孔圖案作為模擬樣本而製作。
以上述比較例1為基準，改變斷線部84的長度、位置、配置、數量，而將實施例1~實施例6以及比較例2~比較例4的網孔圖案作為模擬樣本而製作。
各網孔圖案70等的包含菱形的所有網形狀的1邊的長度為144μm，菱形的內角設為76°以及104°。而且，構成各網孔圖案的邊的金屬細線82的粗度使用線寬6μm的細線。
此處，比較例1的網孔圖案70中，將斷線部(斷線)82的長度(斷線長、或斷線間隔)設為20μm。
與此相對，實施例1以及實施例2的網孔圖案分別為相對於比較例1的網孔圖案70而變更了斷線部(斷線)84的長度(斷線長、或斷線間隔)所得者，根據比較例1中的20μm，實施例1中設為5μm，實施例2中設為10μm，除此以外，實施例1以及 實施例2均與比較例1的網孔圖案70相同。
其次，實施例3~實施例5的網孔圖案是將斷線部84的位置從比較例1的網孔圖案的菱形的網形狀的邊的中心位置變更為無規配置所得。
實施例3中，在4個虛設電極76a、虛設電極76b、虛設電極76c以及虛設電極76d的虛設電極配線圖案78的1個菱形的網形狀的4邊，將斷線部84的位置從比較例1的中心位置變更為中心位置以外的無規的位置，因而該圖案為在其他菱形的網形狀中重複的配線圖案。
實施例4中，在虛設電極配線圖案78的所有菱形的網形狀的4邊，將斷線部84的位置從比較例1的中心位置毫無規則地變更位置。
實施例5中，不僅在虛設電極配線圖案78的所有菱形的網形狀的4邊，亦在電極配線圖案74與虛設電極配線圖案78之間的各邊，將斷線部84的位置從比較例1的中心位置毫無規則地變更位置。
實施例6中，在比較例1的網孔圖案70中，從4個虛設電極76a、虛設電極76b、虛設電極76c以及虛設電極76d的虛設電極配線圖案78中消除所有斷線部84並進行連接，變更為僅電極配線圖案74與虛設電極配線圖案78之間的各邊具有斷線部84。
比較例2~比較例3中，在所有虛設電極76a、虛設電極76b、虛設電極76c以及虛設電極76d的虛設電極配線圖案78 中，使斷線部84的數量相比於比較例1而有所減少。
比較例2中，在所有虛設電極配線圖案78中，將列方向(圖16中水平方向：xy座標的x方向)的斷線部84減去一半而每隔一條金屬細線82來設置。
比較例3中，在所有虛設電極配線圖案78中，將行方向(圖16中垂直方向：xy座標的y方向)的斷線部84減去一半而每隔一條金屬細線82來設置。
比較例4中，在所有虛設電極配線圖案78中，將行方向(圖16中垂直方向：xy座標的y方向)的斷線部84減去一半而每隔一條金屬細線82來設置。
比較例5中，在所有虛設電極配線圖案78中，僅在一條線方向((圖16中交叉的金屬細線82一側)上設置斷線部84。
當將具有以上的實施例1~實施例6、比較例1~4以及參考例的網孔圖案的導電膜的模擬樣本重疊於具有圖11所示的BM圖案38的顯示單元31的模擬樣本時，對各網孔圖案與BM圖案38的干涉進行模擬，求出由各網孔圖案與BM圖案38的兩者的空間頻率特性的卷積來表示的疊紋的最低頻率的頻譜強度，並且顯示由兩者的干涉而產生的疊紋(兩者的干涉的模擬結果)，由3名研究員進行可能評價。
另外，構成顯示單元31的BM圖案38的畫素的尺寸因解析度為250dpi，從而為102μm×102μm，子畫素的尺寸為26μm×78μm。
將其結果表示於表1。
另外，對於3名研究員而言，可能評價結果為將未視認到疊紋者評價為A，將視認到少量疊紋但為不會引起注意的程度者評價為B，將視認到疊紋者評價為C。
根據表1的結果可知，疊紋的最低頻率的頻譜強度以常用對數計為-3.8以下(以反對數計為10-3.8以下)的實施例1以及實施例3~實施例5中，官能評價結果為A，未視認到疊紋，疊紋的最低頻率的頻譜強度以常用對數計為超過-3.8且-3.6以下(以反對數計為超過10-3.8且10-3.6以下)的實施例2以及實施例6中，官能評價結果為B，視認到少量疊紋但為不會引起注意的程度，與此相對，疊紋的最低頻率的頻譜強度以常用對數計為超過-3.6(以反對數計為超過10-3.6)的比較例1~比較例4中，官能評價結果為C，視認到疊紋從而無法使用。
根據以上，可知本發明的效果。
以上，對本發明的導電膜、具備該導電膜的顯示裝置以及導電膜之圖案的決定方法列舉各種實施形態以及實施例進行了說明，但本發明並不限定於上述實施形態以及實施例，只要不脫離本發明的主旨，則當然可進行各種改良或設計的變更。
10‧‧‧導電膜
14‧‧‧金屬製的細線(金屬細線)
16‧‧‧配線層
18‧‧‧黏接層
22‧‧‧網狀配線
22a‧‧‧電極部
22b‧‧‧虛設電極部(非電極部)
23‧‧‧開口部
24‧‧‧網孔圖案
24a‧‧‧電極配線圖案
24b‧‧‧虛設電極配線圖案
26‧‧‧斷線部(斷線)

Claims (17)

  1. 一種導電膜，設置於顯示裝置的顯示單元上，其特徵在於包括：透明基體；以及網狀配線，形成於上述透明基體的至少一面，具有包含圖案化的多個金屬細線的網孔圖案，上述網狀配線的上述網孔圖案重疊於上述顯示單元的畫素陣列圖案，疊紋的最低頻率的頻譜強度以常用對數計為-3.6以下，上述疊紋由至少正面觀察時的上述網孔圖案的空間頻率特性與上述顯示單元的上述畫素陣列圖案的空間頻率特性的卷積來表示。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的導電膜，其中上述網狀配線包括：電極部，具備由上述多個金屬細線以連續的方式形成為網狀的電極配線圖案；以及非電極部，具備由上述多個金屬細線形成為網狀且具有多個斷線部而非連續的非電極配線圖案，且與上述電極部絕緣，上述網狀配線的上述網孔圖案包含上述電極部的上述電極配線圖案、及與上述電極配線圖案絕緣的上述非電極部的上述非電極配線圖案，上述網孔圖案的空間頻率特性為至少正面觀察時的包含上述多個斷線部的上述網孔圖案的空間頻率特性。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電膜，其中上述 疊紋的頻率由上述網孔圖案的上述空間頻率特性的頻譜波峰的波峰頻率與上述畫素陣列圖案的上述空間頻率特性的頻譜波峰的波峰頻率的差分而賦予，上述疊紋的頻譜強度由上述網孔圖案的上述頻譜波峰的波峰強度與上述畫素陣列圖案的上述頻譜波峰的波峰強度的積而賦予。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的導電膜，其中上述波峰強度為波峰位置周邊的多個畫素內的強度之和。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電膜，其中上述波峰強度由上述網孔圖案以及上述畫素陣列圖案的透過率週期圖像資料而得以標準化。
  6. 一種導電膜，設置於顯示裝置的顯示單元上，其特徵在於包括：透明基體；以及網狀配線，形成於上述透明基體的至少一面，且在一面具有包含圖案化的多個金屬細線的網孔圖案，上述網狀配線包括：電極部，具備由上述多個金屬細線以連續的方式形成為網狀的電極配線圖案；以及非電極部，具備由上述多個金屬細線形成為網狀且具有多個斷線部而非連續的非電極配線圖案，且與上述電極部絕緣，上述網狀配線的上述網孔圖案包含上述電極部的上述電極配線圖案、及與上述電極配線圖案絕緣的上述非電極部的上述非電極配線圖案，並重疊於上述顯示單元的畫素陣列圖案， 在使上述非電極部的上述非電極配線圖案的上述多個斷線部連接的情況下，上述網狀配線的上述網孔圖案不會視認到疊紋，上述非電極部的上述非電極配線圖案為無規地配置著上述多個斷線部的無規配線圖案。
  7. 如申請專利範圍第1項或第6項所述的導電膜，其中上述疊紋的頻率為3週期/毫米以下。
  8. 如申請專利範圍第1項或第6項所述的導電膜，其中上述非電極部的上述非電極配線圖案在除上述電極部以外的區域內由上述多個金屬細線形成為網狀。
  9. 如申請專利範圍第1項或第6項所述的導電膜，其中上述畫素陣列圖案為黑色矩陣圖案。
  10. 一種顯示裝置，其特徵在於包括：顯示單元；以及如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述的導電膜，設置於上述顯示單元上。
  11. 一種觸控面板顯示裝置，其特徵在於包括：如申請專利範圍第10項所述的顯示裝置；以及透明基板，配置於上述顯示裝置的上述導電膜的上側，且在上述導電膜的相反側具備觸控面。
  12. 一種導電膜之網孔圖案的決定方法，上述導電膜設置於顯示裝置的顯示單元上且形成有網狀配線，上述網狀配線具有由圖案化的多個金屬細線以連續的方式形成為網狀的網孔圖案，上述 導電膜之網孔圖案的決定方法的特徵在於：獲取上述網孔圖案的透過率週期圖像資料、與重疊有上述網孔圖案的上述顯示單元的畫素陣列圖案的透過率週期圖像資料，對獲取的上述網孔圖案的上述透過率週期圖像資料以及上述畫素陣列圖案的上述透過率週期圖像資料進行2維傅里葉變換，獲得至少正面觀察時的上述網孔圖案的空間頻率特性以及上述畫素陣列圖案的空間頻率特性，根據所獲得的上述網孔圖案的上述空間頻率特性與上述畫素陣列圖案的上述空間頻率特性，算出由兩者的卷積表示的疊紋的頻率以及頻譜強度，求出所算出的上述疊紋的頻率內的最低頻率，將上述最低頻率的頻譜強度與以常用對數計的-3.6相比，當由上述常用對數定義的上述疊紋的上述頻譜強度為-3.6以下時，將上述網孔圖案設定為上述導電膜的網孔圖案，當上述疊紋的上述頻譜強度超過-3.6時，將上述網孔圖案的上述透過率週期圖像資料變更為新的網孔圖案的透過率週期圖像資料，並重複進行上述空間頻率特性的獲取、上述疊紋的頻率以及上述頻譜強度的算出、以及上述疊紋的最低頻率的頻譜強度與-3.6的比較的各步驟，直至上述疊紋的上述最低頻率的頻譜強度為-3.6以下為止。
  13. 如申請專利範圍第12項所述的導電膜之網孔圖案的決定方法，其中上述網狀配線具有上述網孔圖案，上述網孔圖案包括： 電極配線圖案，由上述多個金屬細線以連續的方式形成為網狀；以及非電極配線圖案，由上述多個金屬細線形成為網狀、具有多個斷線部且與上述電極配線圖案非連續地絕緣，上述網孔圖案的上述透過率週期圖像資料為具備具有上述多個斷線部的上述非電極配線圖案的上述網孔圖案的透過率週期圖像資料，上述網孔圖案的上述空間頻率特性為至少正面觀察時的包含上述多個斷線部的上述網孔圖案的空間頻率特性。
  14. 如申請專利範圍第12項或第13項所述的導電膜之網孔圖案的決定方法，其中根據所獲得的上述網孔圖案的上述空間頻率特性，從上述網孔圖案的上述透過率週期圖像資料的2維傅里葉頻譜的多個頻譜波峰內抽出其波峰強度以上述常用對數計為-4.5以上的頻譜波峰，並算出所抽出的所有上述頻譜波峰的波峰頻率以及波峰強度，並且根據所獲得的上述畫素陣列圖案的上述空間頻率特性，從上述畫素陣列圖案的上述透過率週期圖像資料的2維傅里葉頻譜的多個頻譜波峰內抽出其波峰強度以上述常用對數計為-4.5以上的頻譜波峰，並算出所抽出的所有上述頻譜波峰的波峰頻率以及波峰強度，根據如此所算出的上述網孔圖案的上述波峰頻率以及上述波峰強度與上述畫素陣列圖案的上述波峰頻率以及上述波峰強度，而分別算出上述疊紋的頻率以及上述頻譜強度。
  15. 如申請專利範圍第14項所述的導電膜之配線圖案的決定方法，其中求出上述網孔圖案的上述波峰頻率與上述畫素陣列圖案的上述波峰頻率的波峰頻率彼此的差分，來作為上述疊紋的頻率，求出上述網孔圖案的上述波峰強度與上述畫素陣列圖案的上述波峰強度的2組向量強度的乘積，來作為上述疊紋的上述頻譜強度。
  16. 如申請專利範圍第12項或第13項所述的導電膜之網孔圖案的決定方法，其中上述疊紋的頻率為3週期/毫米以下。
  17. 如申請專利範圍第12項或第13項所述的導電膜之網孔圖案的決定方法，其中上述非電極配線圖案在未形成有上述電極配線圖案的區域內由上述多個金屬細線形成為網狀。
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