WO2016158850A1 - 導電性フィルム、これを備える表示装置及び導電性フィルムの評価方法 - Google Patents

導電性フィルム、これを備える表示装置及び導電性フィルムの評価方法 Download PDF

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一央 岩見
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    • G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material

Definitions

  • the present invention relates to a conductive film, a display device including the conductive film, and a method for evaluating the conductive film.
  • a conductive film installed on a display unit (hereinafter also referred to as a display) of a display device for example, a conductive film for a touch panel can be given.
  • a conductive film as shown in FIG. 23A, the mesh of the conductive film with respect to the frequency peak 120 of the black matrix (BM) of the display arranged in a square lattice pattern.
  • BM black matrix
  • moire to make a mesh pattern with excellent visibility is high frequency and low intensity, so there are multiple frequency peaks 120 of the black matrix of the display and frequency peaks of the mesh pattern.
  • various proposals have been made (for example, see Patent Documents 1 and 2).
  • Patent document 1 has a transparent base material and an electrically conductive pattern as a conductive film, and the electrically conductive pattern has a straight line where 30% or more of the entire area of the transparent base material intersects the electrically conductive pattern.
  • the ratio of the standard deviation (distance distribution ratio) to the average value of the distance between the adjacent intersections of the straight line and the conductive pattern is 2% or more, and has a pattern in the form of a boundary line of a figure forming a Voronoi diagram A conductor is disclosed.
  • Patent Document 1 states that the field of view is not obstructed, the conductivity is excellent, and the moire phenomenon can be prevented.
  • Patent Document 2 relating to the application of the present applicant has a transparent base and a conductive portion having a mesh-like wiring pattern, and the wiring pattern has a peak frequency and a peak intensity of the two-dimensional Fourier spectrum of the transmittance image data.
  • the moire frequency obtained by applying the human visual response characteristics to the frequency information and intensity information of the moire calculated from the peak frequency and peak intensity of the two-dimensional Fourier spectrum of the transmittance image data of the pixel array pattern, respectively.
  • a conductive film is disclosed in which the sum of the moiré intensities within a predetermined frequency range in which the moiré frequency is determined according to the visual response characteristics with respect to the frequency and the intensity is equal to or less than a predetermined value. In this way, in Patent Document 2, the generation of moire can be suppressed and the visibility can be greatly improved.
  • Patent Document 1 provides a robust random mesh pattern because a random mesh pattern based on Voronoi polygons is used as an electrically conductive pattern in maximizing the distance between peaks, which is a problem of the conductive film. can do.
  • the frequency peak 122 of the Voronoi random mesh pattern has low peak intensity, low directivity, and isotropic property. There is a problem that it is difficult to control because it spreads in a two-dimensional isotropic manner around the frequency peak 120.
  • the design of the mesh pattern according to the black matrix of the display becomes unnecessary, but there has been a problem that it is difficult to greatly improve the image quality.
  • Patent Document 2 since a random pattern in which anisotropy is controlled one-dimensionally is used as a mesh pattern to maximize the distance between peaks, which is the above problem, a mesh pattern having excellent visibility. Can be provided.
  • the frequency peak 124 of the mesh pattern is at the maximum separation distance from the frequency peak 120 of the BM, but the peak intensity is strong. Since the directivity is strong, the pitch of the mesh pattern becomes random, so that the blur generated in the dotted direction 126 passing through the frequency peak 124 of the mesh pattern is limited to the one-dimensional direction, and thus the visibility to the noise is deteriorated. There was a problem that there was a case.
  • the present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, makes the image quality of the transmission image generated when the metal mesh type transparent conductive film is mounted on the display excellent in visibility without causing moire, To provide a conductive film having a wiring pattern that can be improved robustly without depending on a display pixel structure such as a display resolution and a color filter structure, a display device including the same, and a method for evaluating the conductive film Objective.
  • the “visibility” for moire or the visibility of moire is good or excellent means that the wiring of the conductive film superimposed on the display
  • the moire caused by the pattern is not visually recognized or difficult to visually recognize
  • “visibility” for noise, or noise visibility is good or excellent means that the wiring pattern of the conductive film superimposed on the display
  • the noise for example, the wiring itself or the wiring pattern is not visually recognized or difficult to visually recognize.
  • “visibility” refers to the degree to which moiré and / or noise cannot be visually recognized, that is, the degree to which human vision is not perceived.
  • a conductive film according to a first aspect of the present invention is a conductive film installed on a display unit of a display device, and includes a transparent substrate and at least one surface of the transparent substrate.
  • a conductive portion made of a plurality of fine metal wires, and the conductive portion has a wiring pattern formed by meshing a plurality of fine metal wires and having a plurality of openings arranged therein.
  • the normalized spectral intensity of the spectral peak of the entire image obtained by two-dimensional Fourier transform of the transmittance image data of the entire image is obtained, and the spectrum having the normalized spectral intensity greater than the specified value is extracted and extracted.
  • the angle formed by the straight line connecting the origin of the two-dimensional Fourier coordinates and the coordinates of the extracted spectrum and one coordinate axis of the two-dimensional Fourier coordinates is a specific angle.
  • a display device includes a display unit and the conductive film according to the first aspect that is installed on the display unit.
  • the evaluation method of the electroconductive film which concerns on the 3rd aspect of this invention is installed on the display unit of a display apparatus, and was formed in the mesh form by the several metal fine wire.
  • a method for evaluating a conductive film having a wiring pattern in which openings are arranged, obtaining transmittance image data of a wiring pattern of all images of the conductive film, and performing two-dimensional Fourier transform on the transmittance image data of all images The normalized spectrum intensity of the spectrum peak of all images obtained in this way is obtained, the spectrum having the normalized spectrum intensity equal to or greater than the specified value is extracted, and the extracted spectrum is extracted from the origin in the two-dimensional Fourier coordinates.
  • the angle between the straight line connecting the spectrum coordinates and one coordinate axis of the two-dimensional Fourier coordinates is calculated in specific angle units, and the extracted spectrum is calculated.
  • the intensity difference obtained from the maximum and minimum values of the normalized spectrum intensity for each angle is calculated, and the normalized spectrum
  • the second sample standard deviation representing the variation of the first sample standard deviation representing the variation in intensity at one angle in all angles is calculated as a quantitative value of the wiring pattern, and a histogram of the intensity differences of all the calculated points is taken.
  • the wiring pattern in which one or more blocks of the column representing the frequency of the histogram above the average value of the intensity difference exist in isolation from the other blocks and the calculated quantitative value falls within a specific numerical range is evaluated. It is characterized by that.
  • the normalized spectral intensity is a standard value normalized by the average value and the image size of the spectral intensity of the spectrum of all images, and the specified value is:
  • the value obtained by multiplying the logarithmic value of the normalized spectral intensity value by 10,000 is ⁇ 4.0, the specific angle unit is 1 degree, and the intensity difference is the maximum and minimum normalized spectral intensity values at one angle.
  • the logarithmic value of the value difference is 10,000 times the range of the intensity difference on the horizontal axis of the histogram is ⁇ 4.0 to 0, the step width is 0.1, and a specific numerical range Is preferably ⁇ 5.29 to ⁇ 5.05. Further, it is preferable that the angle is obtained up to the second decimal place, the rounding process is performed on the second decimal place, and the first decimal place is obtained.
  • the wiring pattern generates a plurality of dodds regularly arranged on a rectangular plane, and moves the arranged dods in an arbitrary direction of 360 degrees using random numbers to impart randomness. It is preferable to form a polygon centered on randomly arranged dodds and thin the region existing between the polygons.
  • the wiring pattern is preferably superimposed on the pixel array pattern of the display unit, and the pixel array pattern is preferably a black matrix pattern.
  • the image quality of a transmission image generated when a transparent conductive film having a metal mesh wiring pattern is mounted on a display depends on the display pixel structure such as the display resolution and the color filter structure. It can be improved robustly without.
  • the display pixel structure such as the display resolution and the color filter structure.
  • it can be improved robustly without.
  • as a characteristic of the wiring pattern of the conductive film it is possible to provide a random pattern having anisotropy in the frequency space and having directivity. Such a random pattern having directivity Can provide a mesh pattern that is robust to display resolution and display pixel structure.
  • the present invention it is possible to improve image quality robustly for different display resolutions and different pixel (color filter) structures.
  • the present invention particularly when compared with the regular pattern disclosed in Patent Document 2, it is possible to design an image quality that is robust with respect to display resolution and pixel (particularly, sub-pixel, for example, color filter) structure,
  • the Voronoi random pattern it is possible to give a degree of freedom in design to some extent, so that it is possible to suppress image quality deterioration due to moire visibility.
  • FIG. 1 is a partial cross-sectional view schematically showing an example of a conductive film according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a plan view schematically showing an example of a random mesh wiring pattern of the wiring portion of the conductive film shown in FIG.
  • FIG. 3A is an example of a dot cutout image showing seed points (dots) generated at an arbitrary interval in one plane region in order to generate a polygon forming the random mesh pattern shown in FIG.
  • FIG. 3B is a schematic explanatory diagram of an example of a rhombus pattern image obtained by convolving a rhombus pattern at the position of the dot in the dot cutout image illustrated in FIG.
  • FIG. 1 is a partial cross-sectional view schematically showing an example of a conductive film according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a plan view schematically showing an example of a random mesh wiring pattern of the wiring portion of the conductive film shown in FIG.
  • FIG. 3A
  • FIG. 4 is a schematic partial cross-sectional view of an example of a conductive film according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a schematic partial cross-sectional view of an example of a conductive film according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a schematic partial cross-sectional view of an example of a conductive film according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is an explanatory diagram showing a distribution state of noise components distributed around the frequency peak of the random mesh pattern of the conductive film according to the present invention arranged with respect to the frequency peak of the black matrix of the display.
  • 8A is a plan view schematically showing another example of the random mesh pattern according to the present invention, and FIG. 8B is the intensity of the FFT spectrum of the random mesh pattern shown in FIG.
  • FIG. 8A It is a schematic diagram which shows an example of a characteristic.
  • FIG. 9A is a graph showing an example of a difference value between the maximum value and the minimum value in one angular direction of the FFT spectrum intensity of the random mesh pattern according to the present invention shown in FIG. Yes
  • FIG. 9B is a histogram of the difference between the maximum value and the minimum value shown in FIG.
  • FIG. 10 is a graph showing an example of the variation in the angular direction of the variation in one angular direction of the FFT spectrum intensity shown in FIG. 11 (A) and 11 (D) are plan views schematically showing another example of the random mesh pattern according to the present invention, respectively
  • FIGS. 11 (B) and 11 (E) are respectively FIG. 11 (A).
  • FIGS. 11 (C) and 11 (F) are respectively graphs of FIGS. )
  • FIGS. 11 (C) and 11 (F) are respectively graphs of FIGS. )
  • (D) are histograms of the difference between the maximum value and the minimum value for each angle of the FFT spectrum intensity of the random mesh pattern.
  • 12 (A) and 12 (D) are plan views schematically showing another example of the random mesh pattern according to the present invention, respectively, and FIGS. 12 (B) and 12 (E) are respectively shown in FIG. 12 (A).
  • FIGS. 12 (B) and 12 (E) are respectively shown in FIG. 12 (A).
  • FIGS. 12 (B) and 12 (E) are graphs showing an example of the variation in the angular direction of the variation in one angular direction of the FFT spectrum intensity of the random mesh pattern, and FIGS.
  • FIG. 13 is a schematic explanatory diagram illustrating an example of a partial pixel arrangement pattern of a display unit to which the conductive film according to the present invention is applied.
  • 14 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of a display device incorporating the conductive film shown in FIG.
  • FIGS. 15A and 15B are schematic explanatory diagrams showing an example of a pixel arrangement pattern of a part of a display unit to which the conductive film according to the present invention is applied.
  • FIG. It is the elements on larger scale of the pixel arrangement pattern of 15 (A).
  • FIGS. 16A to 16C are schematic explanatory diagrams showing examples of structural units of pixel arrangement patterns in which at least one of the shapes and periods of three subpixels applied to the present invention is different.
  • FIGS. 17A and 17B are explanatory diagrams schematically showing an example of variations in intensity of three sub-pixels in the pixels of the pixel array pattern of the display unit shown in FIG.
  • FIGS. 18A to 18I are schematic diagrams showing an example of a repeating unit of 2 ⁇ 2 pixels of the representative sub-pixels of the pixel arrangement pattern of the display units having different resolutions and shapes.
  • FIG. 19 is an explanatory diagram for explaining the calculation of the angle of the FFT spectrum intensity of the random mesh pattern according to the present invention.
  • FIG. 19 is an explanatory diagram for explaining the calculation of the angle of the FFT spectrum intensity of the random mesh pattern according to the present invention.
  • FIG. 20A is a graph showing an example of a sample standard deviation representing a variation in the difference between the maximum value and the minimum value of the FFT spectrum intensity for each angle of the random mesh pattern according to the present invention
  • FIG. FIG. 21 is a histogram of the difference between the maximum value and the minimum value for each angle of the FFT spectrum intensity of the random mesh pattern shown in FIG.
  • FIG. 21 is a flowchart showing an example of a method for calculating a quantitative value of a random mesh pattern of a conductive film according to the present invention.
  • FIG. 22 is a flowchart showing an example of a method for evaluating the quantitative value of the random mesh pattern of the conductive film of the present invention.
  • FIG. 23A is an explanatory diagram showing frequency peaks of a black matrix of a display arranged in a square lattice pattern
  • FIGS. 23B and 23C show the black peaks shown in FIG. It is explanatory drawing shown in the distribution state of the frequency peak of the random pattern which controlled the Voronoi random mesh pattern arrange
  • the conductive film of the present invention is characterized in that a black pattern of a display unit (hereinafter also referred to as a display) of a display device is obtained by using a random pattern having anisotropy as a mesh-like wiring pattern (hereinafter also simply referred to as a mesh pattern).
  • a black pattern of a display unit hereinafter also referred to as a display
  • a mesh pattern a mesh-like wiring pattern
  • the frequency peak intensity is strong and the directivity is too strong. Therefore, the distance from the frequency peak depending on the resolution and the pixel structure of the display is maximized.
  • the frequency peak intensity is weak and the directivity is too weak, so it does not depend much on the resolution and pixel structure of the display.
  • Random with directivity in the middle between the regular pattern and the Voronoi random pattern to solve simultaneously the problem that the design is unnecessary but the distance to the frequency peak cannot be controlled and the image quality cannot be greatly improved
  • a random mesh pattern that is robust to the resolution and pixel structure of the display is provided.
  • the Voronoi polygon has a condition that there is at least one isolated island on the stronger side, that is, one or more chunks of a column representing the frequency of the histogram are isolated from other chunks. It has been found that the regular pattern can be distinguished by the fact that the Voronoi random pattern can be distinguished and that the directivity angle variation is within a specific numerical range.
  • the variation of the Fourier spectrum intensity is made smaller than the regular pattern, such as a Voronoi random pattern, and the variation in the radial direction from the origin (first sample standard deviation) in the Fourier space coordinates.
  • the directional angle variation (second sample standard deviation) which is the variation in radial direction, is larger than the Voronoi random pattern like the regular pattern, so that the moiré is visually recognized with respect to the resolution and pixel structure of the display. Therefore, it is possible to provide a conductive film of the present invention and an evaluation method thereof.
  • the regular pattern such as a Voronoi random pattern
  • the conductive film for touch panels is demonstrated as a representative example about the conductive film for touchscreens.
  • the present invention is not limited to this, and at least one of the wiring patterns disposed on both sides of the transparent substrate or disposed on one side via an insulating layer is formed from random polygonal cells (openings).
  • Any conductive film can be used as long as it has a wiring portion having a random mesh-like wiring pattern (random mesh pattern) and is installed on a display unit with various emission intensities of the display device.
  • a conductive film for electromagnetic wave shielding may be used.
  • the display unit of the display device on which the conductive film according to the present invention is superimposed is not particularly limited.
  • a liquid crystal display Liquid Crystal Display
  • a plasma display PDP: Plasma Display Panel
  • Organic EL Organic Light Emitting Diode
  • OEL Organic Electro-Luminescence
  • organic EL display OELD: Organic Electro-Luminescence Display
  • inorganic Electro-Luminescence Display Inorganic Electro-Luminescence Display
  • electronic paper For example, a liquid crystal display (LCD: Liquid Crystal Display), a plasma display (PDP: Plasma Display Panel), Organic EL (Organic Light Emitting Diode) using organic electro-luminescence (OEL) (OEL: Organic Electro-Luminescence), organic EL display (OELD: Organic Electro-Luminescence Display), inorganic EL display ( Inorganic Electro-Luminescence Display) and electronic paper.
  • OEL Organic Electro-Luminescence
  • OELD Organic Electro-Luminescence Display
  • the display unit of the display device on which the conductive film of the present invention is superimposed emits light of a plurality of colors including at least three different colors, for example, three colors of red, green, and blue. It is arranged in a pixel arrangement pattern (hereinafter also referred to as BM pattern) of pixels including a plurality of sub-pixels, and the luminance (brightness) of each sub-pixel (color filter) according to the emission intensity (luminance) is determined by a conductive film.
  • BM pattern pixel arrangement pattern
  • luminance (brightness) of each sub-pixel (color filter) according to the emission intensity (luminance) is determined by a conductive film.
  • the repetition period and intensity (shape, size) of the sub-pixel (color filter), that is, the sub-pixel arrangement pattern (sub-pixel shape, size, period) is a plurality of colors such as RGB as in the past.
  • the display unit may be a display unit having a BM pattern that is not the same in a plurality of colors, that is, has a different subpixel arrangement pattern for at least two colors, like the OELD described above.
  • the display of the display device targeted by the present invention may be a display with high emission intensity such as a high-resolution smartphone or tablet terminal, or a low-resolution desktop personal computer or television (TV).
  • a display with low emission intensity may be used, or a display with medium emission intensity such as a medium resolution notebook may be used.
  • FIG. 1 is a partial sectional view schematically showing an example of a conductive film according to the first embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is a wiring pattern of a wiring portion of the conductive film shown in FIG. It is a top view which shows an example typically.
  • the conductive film 10 of this embodiment is installed on a display unit of a display device, and suppresses the occurrence of moire with respect to a black matrix (BM) of the display unit.
  • BM black matrix
  • 1 is a conductive film having a wiring pattern that is excellent in the visibility of moire, especially when it is superimposed on a BM pattern, and has a transparent substrate 12 and one surface of the transparent substrate 10 (FIG. 1).
  • the first wiring portion 16a serving as the first electrode portion and the first wiring portion 16a on the substantially entire surface are formed of a plurality of metal thin wires (hereinafter referred to as metal thin wires) 14.
  • the first protective layer 20a bonded via the first adhesive layer 18a and the other surface (the lower surface in FIG. 1) of the transparent substrate 10 are formed so as to cover the thin wire 14, and are made of a plurality of metals.
  • the second electrode It has a second wiring portion (the electrodes) 16b made, and a second protective layer 20b which is adhered via a second adhesive layer 18b over substantially the entire surface of the second wiring portion 16b.
  • the wiring portion 16 is simply referred to.
  • the adhesive layer 18a and the second adhesive layer 18b are collectively referred to
  • the first protective layer 20a and the second protective layer 20b are simply referred to as the protective layer 20 when collectively referred to.
  • the transparent substrate 12 is made of a material having insulating properties and high translucency, and examples thereof include materials such as resin, glass, and silicon.
  • the resin include PET (Polyethylene Terephthalate), PMMA (Polymethyl methacrylate), PP (polypropylene), PS (polystyrene) and the like.
  • the metal thin wire 14 is not particularly limited as long as it is a metal thin wire having high conductivity, and examples thereof include a wire made of gold (Au), silver (Ag), or copper (Cu).
  • the line width of the fine metal wire 14 is preferably narrower from the viewpoint of visibility, but may be, for example, 30 ⁇ m or less.
  • the line width of the fine metal wire 14 is preferably 0.1 ⁇ m or more and 15 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m or more and 9 ⁇ m or less, and further preferably 2 ⁇ m or more and 7 ⁇ m or less.
  • the wiring portion 16 (16a, 16b) has a plurality of fine metal wires 14 having wiring patterns 24 (24a, 24b) formed by mesh wirings 21 (21a, 21b) arranged in a mesh shape.
  • the wiring pattern 24 (24a, 24b) has a predetermined random shape formed by intersecting a plurality of fine metal wires 14 with each other, for example, random polygonal openings (cells). ) 22 (22a, 22b) are arranged in a mesh pattern.
  • the wiring portion 16 (16 a and 16 b) is a random mesh-shaped wiring pattern 24 (22) formed by the metal thin wire 14 and the opening (cell) 22 (22 a and 22 b) between the adjacent metal thin wires 14.
  • the wiring patterns 24a and 24b are wiring patterns in which openings formed of a plurality of fine metal wires have anisotropy, that is, random mesh patterns 25.
  • the random mesh pattern 25 may be a random polygonal shape in which the shape of the opening 22 formed by the fine metal wires 14 is two or more different types and the number of vertices is two or more. For example, any random mesh pattern may be used.
  • the anisotropic random mesh pattern 25 shown in FIG. 2 can be produced as follows. First, as shown in FIG. 3A, a plurality of positions randomly selected at arbitrary intervals, such as random numbers, are used as points that become the center of gravity of a closed space such as a rhombus in one plane region 100. A dot cutout image 102 in which seed points (dods) p are arranged at a plurality of positions at arbitrary intervals is used. Note that the seed points p may be arranged by arranging dods regularly in the plane region 100 in advance and shifting the distance between the dods in an arbitrary direction of 360 degrees using a standard deviation or the like. . Next, as shown in FIG.
  • the diamond pattern 104 that becomes the opening 22 at the position of the seed point p shown in FIG. are separated from each other, and are convolved so that a boundary region 106 exists between them, and a rhombus pattern image 108 is produced.
  • the rhombus pattern 104 is convoluted at the seed point p, but the present invention is not limited to the rhombus, but is a triangle such as an equilateral triangle, an isosceles triangle, a square, a rectangle (rectangle), a parallelogram, or the like. Further, it may be a polygon including a regular polygon such as a pentagon such as a regular pentagon and a hexagon such as a regular hexagon.
  • thinning processing for example, matlab thinning processing by mathworks is performed.
  • the boundary region 106 is contracted by removing pixels at the edge of the boundary region 106, and the rhombus pattern 104 is expanded by removing pixels at the edge of the rhombus pattern 104.
  • it is thinned so that it becomes a thin line consisting of random line segments of the same line width.
  • the random mesh pattern 25 shown in FIG. 2 can be formed.
  • the metal thin wire 14 having such a shape can be easily formed by a known method such as etching of a metal layer such as silver.
  • the combined wiring pattern 24 of the upper and lower wiring patterns 24a and 24b is a random mesh pattern 25 having excellent moire visibility regardless of the resolution and pixel structure of the display unit.
  • the random mesh pattern having excellent moire visibility means a group of one or more random patterns in which moire is not perceived by human vision regardless of the resolution and pixel structure of the display unit.
  • the visibility of moire refers to the extent that moire cannot be visually recognized as described above.
  • the spectral peaks of all the images obtained by two-dimensional Fourier transform of the transmittance image data of all the images of the random mesh pattern 25 are normalized.
  • Obtain the spectrum intensity extract the spectrum with the normalized spectrum intensity above the specified value, calculate the angle in 2D Fourier coordinates for each extracted spectrum in specific angle units, and specify the angle for the extracted spectrum
  • the intensity difference obtained from the maximum and minimum values of the normalized spectrum intensity for each angle is calculated, and the sample standard deviation of the intensity difference is calculated from the pattern.
  • a random mesh pattern quantitative value falls within a specific numerical range.
  • Such a random mesh pattern 25 is excellent in terms of moiré visibility, which can sufficiently suppress the occurrence of moiré and can improve visibility regardless of the display screen of any display. It can be said that the random mesh pattern is robust to the structure.
  • the structure of the random mesh pattern of the electroconductive film of this invention is mentioned later.
  • the break may enter the side (mesh wiring 21) of the metal fine wire 14 which comprises the opening part 22.
  • FIG. As such a mesh wiring pattern having a break, the conductive property described in the specification of Japanese Patent Application No. 2012-276175 (filed as PCT / JP2013 / 083001 and published as WO2014 / 097921A1) related to the applicant's application A film-like wiring pattern of a film can be applied.
  • the first protective layer 20a is adhered to substantially the entire surface of the wiring layer 28a including the first wiring portion 16a by the first adhesive layer 18a so as to cover the fine metal wires 14 of the first wiring portion 16a.
  • the second protective layer 20b is adhered to substantially the entire surface of the wiring layer 28b formed of the second wiring portion 16b by the second adhesive layer 18b so as to cover the fine metal wires 14 of the second wiring portion 16b.
  • examples of the material of the adhesive layer 18 include a wet laminate adhesive, a dry laminate adhesive, or a hot melt adhesive, but the first adhesive layer 18a.
  • the material of and the material of the second adhesive layer 18b may be the same or different.
  • the protective layer 20 (the first protective layer 20a and the second protective layer 20b) is made of a material having high translucency including resin, glass, and silicon, like the transparent substrate 12, but the first protective layer 20a
  • the material and the material of the second protective layer 20b may be the same or different.
  • Both the refractive index n1 of the first protective layer 20a and the refractive index n2 of the second protective layer 20b are preferably equal to or close to the refractive index n0 of the transparent substrate 12.
  • the relative refractive index nr1 of the transparent substrate 12 with respect to the first protective layer 20a and the relative refractive index nr2 of the transparent substrate 12 with respect to the second protective layer 20b are both close to 1.
  • the refractive index in this specification means a refractive index in light having a wavelength of 589.3 nm (sodium D-line).
  • ISO 14782: 1999 is an international standard.
  • the relative refractive index nr1 and the relative refractive index nr2 may be in the range of 0.86 to 1.15, more preferably 0.91 to 1.08.
  • the wiring portions 16 (16 a and 16 b) on both the upper side and the lower side of the transparent substrate 12 are electrode portions each including a plurality of fine metal wires 14.
  • the present invention is not limited to this, and at least one of the first and second wiring portions 16a and 16b may be constituted by an electrode portion and a non-electrode portion (dummy electrode portion).
  • FIG. 4 is a schematic partial cross-sectional view showing an example of a conductive film according to the second embodiment of the present invention.
  • the plan view of the wiring pattern of the conductive film of the second embodiment shown in FIG. 4 is the same as the plan view of the wiring pattern shown in FIG.
  • the conductive film 11 of the second embodiment is a first electrode portion 17a and a dummy electrode portion 26 formed on one surface (upper side in FIG. 4) of the transparent substrate 12.
  • 1 wiring part 16a, 2nd wiring part 16b which consists of the 2nd electrode part 17b formed in the other side (lower side of Drawing 4) of transparent substrate 12, and it consists of the 1st electrode part 17a and dummy electrode part 26
  • the first protective layer 20a bonded to the substantially entire surface of the first wiring portion 16a via the first adhesive layer 18a, and the substantially entire surface of the second wiring portion 16b including the second electrode portion 17b via the second adhesive layer 18b. And a second protective layer 20b adhered thereto.
  • the first electrode portion 17 a and the dummy electrode portion 26 are each composed of a plurality of fine metal wires 14, and both are formed as a wiring layer 28 a on one surface (the upper side in FIG. 4) of the transparent substrate 12.
  • the second electrode portion 17b is composed of a plurality of fine metal wires 14, and is formed as a wiring layer 28b on the other surface (lower side in FIG. 4) of the transparent substrate 12.
  • the dummy electrode portion 26 is formed on one surface (the upper side in FIG. 4) of the transparent substrate 12 similarly to the first electrode portion 17a, but the other (the lower side in FIG. 4) as in the illustrated example. ) Of the second electrode portion 17b formed on the surface of the second electrode portion 17b.
  • the dummy electrode portion 26 is disposed at a predetermined interval from the first electrode portion 17a and is in a state of being electrically insulated from the first electrode portion 17a.
  • the second electrode portion formed on one surface (the upper side in FIG. 4) of the transparent substrate 12 and on the other surface (the lower side in FIG. 4) of the transparent substrate 12. Since the dummy electrode portion 26 composed of the plurality of thin metal wires 14 corresponding to the plurality of thin metal wires 14b of 17b is formed, the scattering by the thin metal wires on one surface (the upper side in FIG. 4) of the transparent substrate 12 is controlled. Electrode visibility can be improved.
  • the first electrode portion 17 a and the dummy electrode portion 26 of the wiring layer 28 a have a metal thin wire 14 and a mesh-like wiring pattern 24 a formed by the opening 22.
  • the second electrode portion 17b of the wiring layer 28b has a mesh-like wiring pattern 24b formed by the fine metal wires 14 and the opening portions 22 in the same manner as the first electrode portion 17a.
  • the transparent substrate 12 is made of an insulating material, and the second electrode portion 17b is in a state of being electrically insulated from the first electrode portion 17a and the dummy electrode portion 26.
  • the 1st, 2nd electrode parts 17a and 17b and the dummy electrode part 26 can each be similarly formed with the material similar to the wiring part 16 of the electroconductive film 10 shown in FIG.
  • the first protective layer 20a is formed by the first adhesive layer 18a and the dummy so as to cover the respective thin metal wires 14 of the first electrode portion 17a and the dummy electrode portion 26 of the first wiring portion 16a.
  • the wiring layer 28a composed of the electrode part 26 is bonded to substantially the entire surface.
  • the second protective layer 20b is formed on the substantially entire surface of the wiring layer 28b including the second electrode portion 17b by the second adhesive layer 18b so as to cover the fine metal wires 14 of the second electrode portion 17b of the second wiring portion 16b. It is glued.
  • the first and second adhesive layers 18a and 18b and the first and second protective layers 20a and 20b of the conductive film 11 shown in FIG. 4 are the same as the conductive film 10 shown in FIG. Description is omitted.
  • the second wiring part 16b including the second electrode part 17b does not have a dummy electrode part, but the present invention is not limited to this, and the second wiring part 16b.
  • the metal wire is in a state electrically spaced from the first electrode portion 17a and electrically insulated from the second electrode portion 17b at a position corresponding to the first electrode portion 17a of the first wiring portion 16a.
  • a dummy electrode portion consisting of 14 may be arranged.
  • the dummy electrode portion 26a is provided in the first wiring portion 16a, and the dummy electrode portion is provided in the second wiring portion 16b.
  • each mesh wiring of the 2nd electrode part 17b of the 1st electrode part 17a and the 2nd wiring part 16b can be arranged correspondingly, one side (for example, the upper side or the lower side of Drawing 4) of transparent substrate 12 Scattering by fine metal wires can be controlled, and electrode visibility can be improved.
  • wiring portions 16 (16 a and 16 b) are formed on both the upper and lower sides of the transparent substrate 12, respectively.
  • the present invention is not limited to this, and a plurality of films on one surface (upper surface in FIG. 5) of the transparent substrate 12 like the conductive film 11A of the third embodiment of the present invention shown in FIG.
  • a structure in which a wiring portion 16 made of a thin metal wire 14 is formed, and two conductive film elements each having a protective layer 20 bonded thereto are bonded to the substantially entire surface of the wiring portion 16 with an adhesive layer 18 so as to cover the thin metal wire 14. It is also good.
  • 5 includes a lower transparent substrate 12b and a plurality of fine metal wires 14 formed on the upper side surface of the transparent substrate 12b in FIG. 2 wiring part 16b, 2nd protective layer 20b adhere
  • all or part of at least one of the fine metal wires 14 of the first wiring portion 16a and / or the second wiring portion 16b is the random mesh pattern 25 shown in FIG.
  • wiring portions are provided on both sides of the transparent substrate 12 or the upper side and the lower side, respectively.
  • 16 (16a and 16b) is formed, but the present invention is not limited to this, and one surface of the transparent substrate 12 as in the conductive film 11B of the fourth embodiment of the present invention shown in FIG.
  • a wiring portion 16 composed of a plurality of fine metal wires 14 is formed only on the upper surface in FIG. 6, and the protective layer 20 is interposed via an adhesive layer 18 so as to cover the fine metal wires 14 on substantially the entire surface of the wiring portion 16.
  • a single-layer wiring structure may be used.
  • the fine metal wire 14 of the wiring part 16 is the random mesh pattern 25 shown in FIG.
  • the random mesh pattern of the conductive film of the present invention is a random mesh pattern of the conductive film according to the present invention arranged with respect to the frequency peak 120 of the black matrix (BM) of the display.
  • BM black matrix
  • the risk of moiré perception is reduced by dispersing the intensity of the Fourier spectrum peak around the frequency peak 128 to blur it.
  • the random mesh pattern of the present invention the Fourier spectrum intensity is prevented from being widely dispersed as in the Voronoi random mesh pattern shown in FIG.
  • the regular mesh pattern shown in FIG. 23C the Fourier spectrum is localized, and the moire is prevented from being visually recognized strongly.
  • the peak intensity is stronger than the Voronoi random mesh pattern and has directivity, and the peak intensity is weaker and the directivity is weaker than the regular pattern.
  • a random mesh pattern 25a having a structure as shown in FIG. FIG. 8B shows the intensity characteristics of the FFT spectrum of the random mesh pattern 25a of the present invention.
  • the mesh pattern 25a of the present invention having the structure shown in FIG. 8A has a feature that the FFT spectrum of the pattern has a peak at a specific position, and the noise component spreads two-dimensionally around the peak.
  • Such a mesh pattern of the present invention can be specified as follows.
  • a value that is 10,000 times the common logarithm of the absolute value is ⁇ 4.0 or more, taking a predetermined angle unit, preferably every 0.1 °, a graph as shown in FIG. 9A is obtained.
  • the spectral intensity difference (intensity difference) ⁇ Isp for one angle can be obtained by the following equation (1).
  • a histogram of spectrum intensity difference ⁇ Isp (k) obtained as described above is obtained. Then, the horizontal axis of the histogram is the spectral intensity difference in the unit of 0.1 (the above formula (1)), and the frequency corresponding thereto is plotted on the vertical axis. For convenience of display, this can be expressed as shown in FIG. 9B when a common logarithm value 10 times the difference in spectral intensity is multiplied by 10,000. In the histogram shown in FIG. 9B, the average value Ispa is also shown. In the illustrated example, the average value Ispa is ⁇ 3.2. In the random mesh pattern 25a according to the present invention, in the histogram shown in FIG.
  • the variation in the angular direction (second sample standard deviation) of the common logarithm of the absolute value of the absolute value of the FFT spectrum of the random mesh pattern is within a specific numerical range. Need to fit in.
  • FIG. 10 shows variation in one direction of the FFT spectrum of the random mesh pattern.
  • the absolute value of the Fourier spectrum intensity at the maximum frequency of the image data for each angle of the random mesh pattern is calculated.
  • this sample standard deviation S is used as a pattern quantitative value (also simply referred to as a quantitative value) representing the characteristics of the random mesh pattern of the present invention. Since this quantitative value S is represented by the sample standard deviation, it represents the variation in the angular direction of the variation in one direction of the FFT spectrum. In the regular pattern described above, the variation in one angular direction is large, and in the random mesh pattern, the variation in one angular direction is small. Therefore, it is understood that the quantitative value S of the present invention needs to be within a specific numerical range.
  • the quantitative value (sample standard deviation) S is taken at a predetermined angle unit, preferably every 0.1 °, over an angle of 0 to 360 °. In this case, ⁇ 5.29 to ⁇ 5.05 ( ⁇ 5.29 ⁇ S ⁇ ⁇ 5.05) is preferable, and ⁇ 5.29 to ⁇ 5.11 ( ⁇ 5.29 ⁇ S ⁇ ⁇ 5. 11) is more preferable.
  • the random mesh pattern 25a shown in FIG. 8 is the random mesh pattern of the present invention.
  • the random mesh pattern 25a is a mesh pattern 13 according to an example of the present invention in an embodiment described later.
  • the quantitative value (sample standard deviation) S of the variation in angular direction of the FFT spectral intensity shown in FIG. 11 (B) in one angular direction is ⁇ 5.07.
  • the average value is ⁇ 3.23, and the island of the frequency peak value exists above this average value, so that it can be seen that the random mesh pattern of the present invention.
  • This random mesh pattern is the mesh pattern 24 of the present invention example in the examples described later.
  • the random mesh pattern shown in FIG. 11D has an average value of ⁇ 3.59 in the histogram shown in FIG. 11F, and there are islands of frequency peak values above this average value.
  • the quantitative value (sample standard deviation) S of the variation in the angular direction of the variation in one angular direction of the FFT spectrum intensity shown in the figure is ⁇ 4.90, which is outside the preferable range of the present invention.
  • This random mesh pattern is a mesh pattern 27 of a comparative example in an example described later.
  • the quantitative value (sample standard deviation) S of the variation in the angular direction of the FFT spectral intensity variation in the angular direction shown in FIG. 12B is ⁇ 5.18.
  • the average value is ⁇ 3.57, and since the island of the frequency peak value exists above the average value, it can be seen that the random mesh pattern of the present invention is obtained.
  • This random mesh pattern is the mesh pattern 20 of the present invention example in the examples described later.
  • the random mesh pattern shown in FIG. 12D has an angular direction variation quantitative value (sample standard deviation) S of the FFT spectrum intensity variation in one angular direction shown in FIG.
  • the average value is ⁇ 3.11, and since the island of the frequency peak value exists above this average value, it can be seen that this is the random mesh pattern of the present invention.
  • This random mesh pattern is the mesh pattern 14 of the present invention example in the examples described later.
  • a random mesh pattern with excellent moire visibility means that at least one point of view displays light of each color of a plurality of sub-pixels independently. Regardless of resolution and pixel structure, it refers to a group of one or two or more groups of random mesh patterns in which moire is not perceived by human vision when the random mesh pattern 25 is used as a composite wiring pattern for the BM pattern of the color.
  • a random mesh that is excellent in moire visibility regardless of the resolution and pixel structure of the display, and is less likely to be perceived from a random mesh pattern in which moire is least perceived.
  • the patterns can be ordered and one random mesh pattern with the least perceived moire can be determined and evaluated.
  • the conductive film of the present invention is basically configured as described above.
  • FIG. 13 is a schematic explanatory diagram schematically showing an example of a partial pixel arrangement pattern of a display unit to which the conductive film of the present invention is applied.
  • the display unit 30 includes a plurality of pixels 32 arranged in a matrix to form a predetermined pixel arrangement pattern.
  • One pixel 32 includes three subpixels (a red subpixel 32r, a green subpixel 32g, and a blue subpixel 32b) arranged in the horizontal direction.
  • One sub-pixel has a rectangular shape that is vertically long in the vertical direction.
  • the horizontal arrangement pitch of pixels 32 (horizontal pixel pitch Ph) and the vertical arrangement pitch of pixels 32 (vertical pixel pitch Pv) are substantially the same.
  • a shape configured by one pixel 32 and a black matrix (BM) 34 (pattern material) surrounding the one pixel 32 is a square.
  • the aspect ratio of one pixel 32 is not 1, but the length in the horizontal direction (horizontal)> the length in the vertical direction (vertical).
  • the pixel arrangement pattern constituted by the sub-pixels 32r, 32g and 32b of each of the plurality of pixels 32 is defined by the BM pattern 38 of the BM 34 surrounding the sub-pixels 32r, 32g and 32b, respectively.
  • the moire generated when the display unit 30 and the conductive film 10, 11, 11A, or 11B are overlapped is the BM pattern 38 of the BM 34 of the display unit 30 and the wiring pattern 24 of the conductive film 10, 11, 11A, or 11B.
  • the BM pattern 38 is an inverted pattern of the pixel arrangement pattern, but is treated as a similar pattern here.
  • the wiring of the conductive film 10, 11, 11A, or 11B is disposed on the display panel of the display unit 30 having the BM pattern 38 constituted by the BM 34, the wiring of the conductive film 10, 11, 11A, or 11B.
  • the pattern 24 (or the combined wiring pattern of the wiring patterns 24a and 24b) is at least one of the wiring patterns 24a and 24b is the random mesh pattern 25, and is optimal in terms of moire visibility with respect to the BM (pixel array) pattern 38. Therefore, the interference of the spatial frequency between the arrangement period of the pixels 32 and the wiring arrangement of the thin metal wires 14 of the conductive film 10, 11, 11A or 11B is weakened, and the generation of moire is suppressed. It will be excellent in visibility.
  • the conductive film 10 is demonstrated as a representative example, the same may be said of the conductive film 11, 11A, or 11B.
  • the display unit 30 shown in FIG. 13 may be configured by a display panel such as a liquid crystal panel, a plasma panel, an organic EL panel, or an inorganic EL panel, and the light emission intensity may be different depending on the resolution. .
  • the BM pattern of the display applicable to the present invention and the light emission intensity thereof are not particularly limited, and may be any conventionally known BM pattern of the display and the light emission intensity thereof.
  • FIG. B as shown in FIGS. 16 (A), (B), and (C), the periods and intensities of RGB colors such as OLEDs may be different, or FIGS. 16 (A) and (B).
  • RGB sub-pixels of the same shape as shown in FIG. 5 and those with large intensity variations within the sub-pixels, or those with only small intensity variations within the sub-pixels and the highest intensity G sub-pixel (channel).
  • a high-strength display such as a smartphone or a tablet may be used.
  • FIG. 15A is a schematic explanatory view schematically showing an example of a pixel arrangement pattern of a display unit to which the conductive film of the present invention is applied, and a partial enlarged view of a part thereof.
  • the display unit 30a has a plurality of pixels 32 arranged in a matrix to form a predetermined pixel arrangement pattern.
  • one pixel 32 includes three subpixels (a red subpixel 32r, a green subpixel 32g, and a blue subpixel 32b) arranged in the horizontal direction.
  • the pixel arrangement pattern of the display unit has a shape in which a plurality of pixels in one pixel, in the illustrated example, at least two subpixels out of three subpixels have different shapes, or a plurality (3
  • the period of the subpixel arrangement pattern formed by the arrangement of each subpixel is different for at least two of the subpixels, or a plurality of (three) subpixels in one pixel are aligned in one direction. It is necessary to satisfy one of three conditions.
  • the period of the subpixel arrangement pattern that is, the period of the subpixel (color filter) includes the period of the subpixel in one pixel.
  • the sub-pixel 32r has a rhombus shape that is vertically long in the y (vertical) direction in the drawing, and is disposed on the left side of the square pixel 32 in the drawing, and the sub-pixel 32g. Is formed in a circular shape and arranged on the lower right side of the pixel 32 in the drawing, and the sub-pixel 32b is formed in a rectangular shape (square shape) and arranged on the upper right side of the pixel 32 in the drawing.
  • 15A and 15B corresponds to a case where the pixel arrangement pattern 38 has three subpixels 32r, 32g and 32b in one pixel having different shapes and different intensities, and This corresponds to a case where a plurality of (three) subpixels in one pixel do not form a line in one direction.
  • the horizontal arrangement pitch (horizontal pixel pitch Ph) of the pixels 32 and the vertical arrangement pitch (vertical pixel pitch Pv) of the pixels 32 are substantially the same, and can be represented by the pixel pitch Pd.
  • a pixel area region composed of an area composed of three subpixels 32r, 32g, and 32b of one pixel 32 and a black matrix (BM) 34 (pattern material) surrounding these subpixels 32r, 32g, and 32b. 36 is a square. Since the pixel area 36 corresponds to one pixel 32, the pixel area 36 is also referred to as a pixel below.
  • the pixel pitch Pd horizontal and vertical pixel pitches Ph and Pv
  • the shapes of the sub-pixels 32r, 32g, and 32b in one pixel are a rhombus, a circle, and a square, respectively, but the present invention is not limited to this, and as shown in FIG.
  • the pixel arrangement pattern 38 may be the same. Alternatively, it may be subpixels (color filters) 32r, 32g, and 32b having an aperture shape called a pin tile structure shown in FIGS. 16A to 16C, and a pixel array including these subpixels 32r, 32g, and 32b. It may have a pattern.
  • the three sub-pixels 32r, 32g, and 32b of the pixel 32 may have different shapes (the shape is rectangular but the size is different). This case corresponds to a case where the strengths are different. In this case, it can be said that the periods of the sub-pixels are the same. That is, in the example shown in FIG. 13A, the pixel array pattern 38a is formed by using three subpixels 32r, 32g, and 32b having different shapes as one pixel, and each of the three subpixels 32r, 32g, and 32b is formed. The sub-pixel array pattern has the same period as the pixel array pattern 38a. In the present invention, the difference in the shape of the subpixel is defined to include not only the case where the shape of the subpixel is different but also the case where the size of the subpixel is different.
  • the repetition period of the subpixel 32g and the subpixels 32r and 32b may be different.
  • the period of the sub-pixel 32g is half of the period of the sub-pixels 32r and 32b.
  • the intensity of the sub-pixels is the same. That is, in the example shown in FIG. 16B, a pixel array pattern 38b is formed by using four subpixels of two subpixels 32g and subpixels 32r and 32b as one pixel 32, and each of the subpixels 32r and 32b.
  • the subpixel array pattern has the same period as the pixel array pattern 38a, but the subpixel array pattern of the subpixel 32g has half the period of the pixel array pattern 38a.
  • the sub-pixel 32g and the sub-pixels 32r and 32b may have different repetition periods (sub-pixel pattern periods) and shapes (both shape and size). This case corresponds to a case where the period and the intensity of the sub-pixel are different. That is, in the example shown in FIG. 16C, as in the example shown in FIG. 16C, the four subpixels of the two subpixels 32g and the subpixels 32r and 32b are set as one pixel 32, and the pixel arrangement pattern 38c is formed, and the period of each subpixel array pattern of the subpixels 32r and 32b is the same as the period of the pixel array pattern 38a, but the period of the subpixel array pattern of the subpixel 32g is the pixel array pattern. It becomes half of the period of 38a.
  • FIG. 17A shows a BM structure of pixels composed of RGB subpixels having the same shape with a large intensity variation in the GBR subpixel
  • FIG. 17B shows the same BM structure with a small intensity variation in the GBR subpixel.
  • the BM structure of a pixel composed of RGB sub-pixels having a shape is shown, and the wiring pattern of the conductive film can be designed by considering only the strongest G sub-pixel.
  • the resolutions and shapes of 2 ⁇ 2 pixel BM1 to BM9 of the display that can be used in the present invention are shown in FIGS.
  • Each of BM1 to BM9 shown in FIGS. 18A to 18I is different in either resolution or shape. In FIGS.
  • FIG. 18A shows four G subpixels having a strip shape with a resolution of 98 dpi, and the BMNo. This corresponds to 1 BM1.
  • FIG. 18B shows four G sub-pixels having a resolution of 151 dpi, slightly curved in the drawing, and a part of the lower end thereof being missing, and the BMNo. It corresponds to BM2 of 2.
  • 18C shows four G sub-pixels having a resolution of 151 dpi and arranged by the left side of a flat plate shape that is slightly curved in the figure, and the BMNo. This corresponds to 3 BM3.
  • FIG. 18D shows four G subpixels in which a strip having a resolution of 151 dpi and a plurality of thin strips inclined in the horizontal direction in the figure are inclined in the upside down direction. . 4 BM4.
  • FIG. 18E shows four G subpixels arranged symmetrically in a flat plate shape having a resolution of 151 dpi and partially lacking the upper and lower ends in the figure, and the BMNo. This corresponds to 5 BM5.
  • FIG. 18F shows four G subpixels having a resolution of 218 dpi and arranged by the left side of a flat plate elongated in the vertical direction in the figure, and the BMNo. This corresponds to 6 BM6.
  • FIG. 18G shows four G subpixels arranged with a flat plate-like right side having a resolution of 218 dpi and being long in the vertical direction in the figure, and the BMNo. 7 corresponds to BM7.
  • FIG. 18H shows four flat G subpixels having a resolution of 245 dpi and a part of the lower end of which is omitted in the figure. This corresponds to 8 BM8.
  • FIG. 18I shows four flat G subpixels having a resolution of 265 dpi and extending in the horizontal direction in the figure, and the BMNo. This corresponds to 9 BM9.
  • the wiring pattern thereof 24 is a random mesh pattern which is excellent in terms of moire visibility regardless of the resolution and shape of the BM (pixel array) pattern 38 including the RGB sub-pixel array pattern. Therefore, the arrangement period of the pixels 32 and the conductive film There is almost no spatial frequency interference with the wiring arrangement of the 10, 11, 11A, or 11B fine metal wires 14, and the occurrence of moire is suppressed.
  • the display device 40 includes a display unit 30 (see FIG. 13) that can display a color image and / or a monochrome image, and a touch panel that detects a contact position from the input surface 42 (arrow Z1 direction side). 44 and a housing 46 that accommodates the display unit 30 and the touch panel 44. The user can access the touch panel 44 through a large opening provided on one surface of the housing 46 (arrow Z1 direction side).
  • the touch panel 44 has a cover member 48 laminated on one surface (arrow Z1 direction side) of the conductive film 10 and a conductive film via a cable 50. 10, a flexible substrate 52 electrically connected to 10, and a detection control unit 54 disposed on the flexible substrate 52.
  • the conductive film 10 is bonded to one surface (arrow Z1 direction side) of the display unit 30 via an adhesive layer 56.
  • the conductive film 10 is disposed on the display screen with the other main surface side (the second wiring portion 16b side) facing the display unit 30.
  • the cover member 48 exhibits a function as the input surface 42 by covering one surface of the conductive film 10.
  • the material of the cover member 48 may be glass or a resin film, for example. You may make it closely_contact
  • the flexible substrate 52 is an electronic substrate having flexibility. In the illustrated example, it is fixed to the inner wall of the side surface of the housing 46, but the arrangement position may be variously changed.
  • the detection control unit 54 captures a change in capacitance between the contact body 58 and the conductive film 10 when the contact body 58 that is a conductor contacts (or approaches) the input surface 42, and detects the contact position.
  • An electronic circuit for detecting (or a proximity position) is configured.
  • the display device to which the conductive film of the present invention is applied is basically configured as described above.
  • FIG. 21 is a flowchart showing an example of a method for evaluating a conductive film of the present invention.
  • a random mesh wiring pattern (random mesh pattern) of the conductive film is produced.
  • a seed point p that is the center of gravity of a closed section such as a rhombus is set at an arbitrary interval using, for example, a random number or a standard deviation. Generate at multiple locations selected for the purpose.
  • a rhombus pattern image 108 is created by convolving the rhombus pattern 104 that becomes the opening 22 at the position of the seed point p arranged in the planar region 100.
  • thinning processing for example, matlab thinning processing by mathworks, is performed, and random as shown in FIG. A mesh pattern 25 is produced.
  • the central portion is cut out. In Examples described later, the central portion was cut out and 5589 pix ⁇ 5589 pix was used.
  • step S12 transmittance data of the random mesh pattern 25 created in step S10 is created in order to quantify the random mesh pattern.
  • step S14 two-dimensional fast Fourier transform (2DFFT (base 2)) is performed on the transmittance image data of the random mesh pattern created in step S12, and the transmittance image data is quantified.
  • the spatial frequency and spectral intensity of the spectral peak are calculated.
  • the spectral intensities of all the images to be calculated are preferably normalized by an average value and an image size (width (width) ⁇ height (height)). After normalization, the calculated average value should not be used.
  • step S16 a spectrum intensity equal to or greater than a specified value is extracted from the spectrum intensity calculated in step S14.
  • the spectrum intensity required for the quantification calculated in step S14 has a logarithm of 10 times the intensity of ⁇ 4.0 or more, that is, log 10 (intensity) ⁇ ⁇ 4.0. The reason is that a weak signal smaller than ⁇ 4.0 is noise, which causes an error in a quantitative value calculated later, and should be ignored.
  • step S18 as shown in FIG. 19, the angle ⁇ is calculated for the spectrum having the spectral intensity ( ⁇ 4.0 or more) extracted in step S16.
  • the angle ⁇ is calculated to the second decimal place (two decimal places), rounded to the second decimal place, and rounded to the first decimal place (one decimal place).
  • the angle ⁇ is an angle obtained by obtaining ⁇ 2 to the second decimal place
  • the rounding function “round” is expressed by a matlab function.
  • Y round (X) rounds the elements of X to the nearest integer. A positive element with a fractional part of 0.5 is rounded to the nearest positive integer.
  • Negative elements with a decimal part of -0.5 are rounded to the nearest negative integer.
  • X is a complex number
  • the real part and the imaginary part are individually rounded.
  • rounding function round refer to http://jp.mathworks.com/help/matlab/ref/round.html.
  • step S20 the angle ⁇ calculated in step S18 is swung in increments of 0.1 °, and the difference between the maximum value and the minimum value of the spectral intensity for each angle at all angle increment points of 0 to 360 degrees.
  • Intensity difference maximum value ⁇ minimum value
  • FIG. 20B shows a histogram of the intensity difference (maximum value ⁇ minimum value) calculated in this way.
  • step S22 the sample representing the angular direction variation of one angular direction variation at all the angular step points of 0 to 360 degrees, while swinging the angle ⁇ calculated in step S18 in increments of 0.1 °.
  • the standard deviation is calculated as a quantitative value of the pattern.
  • the standard deviation of the calculated spectrum intensity for each angle is shown in FIG. In this way, the sample standard deviation representing the angle variation of the standard deviation of the spectrum intensity for each angle is obtained from the standard deviation of the spectrum intensity for each angle shown in FIG.
  • step S24 from the histogram of intensity difference (maximum value-minimum value) shown in FIG. 20B obtained in step S20, whether or not there is a peak value island above the average value of the intensity difference.
  • the target random mesh pattern is evaluated with the size of the pattern quantitative value (sample standard deviation) obtained from FIG. 20A obtained in step S20.
  • a random mesh in which islands of peak values exist above the average value of the intensity difference and the pattern quantitative value (sample standard deviation) falls within a predetermined numerical range, for example, a range of ⁇ 5.29 to ⁇ 5.05.
  • a pattern is determined and evaluated as a wiring pattern of the conductive film of the present invention.
  • the random mesh pattern 25 shown in FIG. 2 thus evaluated can be determined and evaluated as the wiring pattern of the conductive film of the present invention.
  • the method for determining the wiring pattern of the conductive film of the present invention is completed, and the evaluated random mesh pattern can be evaluated as the wiring pattern of the conductive film of the present invention.
  • the conductive film of the present invention having a pattern can be produced.
  • the conductive film according to the present invention has been described with reference to various embodiments and examples.
  • the invention is not limited to the examples, and various improvements and design changes may be made without departing from the gist of the present invention.
  • Mesh patterns 1 to 9 are Voronoi random patterns based on Voronoi polygons, each having an average pitch of 200 ⁇ m to 300 ⁇ m and a line width of 2 ⁇ m to 6 ⁇ m.
  • the mesh patterns 10 to 11 were regular patterns having an opening shape of hexagon, a side length of 100 ⁇ m to 200 ⁇ m, a line width of 2 ⁇ m, and a center of gravity of the opening not varying.
  • Mesh patterns 12 to 21 have an opening shape of rhombus, an oblique side angle of 20 ° to 40 °, an oblique side length of 50 ⁇ m to 200 ⁇ m, a line width of 2 ⁇ m, and the center of gravity of the opening being an average value.
  • the random pattern varied by 5%.
  • the mesh patterns 22 to 23 were random patterns in which the opening shape was hexagonal, the length of one side was 100 ⁇ m to 200 ⁇ m, the line width was 2 ⁇ m, and the center of gravity of the opening varied by 5% on average.
  • the opening shape is a parallelogram, the hypotenuse angle is 30 ° with respect to the base, the length of one side (base) is 100 ⁇ m to 200 ⁇ m, the line width is 2 ⁇ m, and the center of gravity of the opening is an average value. It was a random pattern with 5% variation.
  • the mesh patterns 26 to 29 were random patterns in which the opening shape was a square, the length of one side was 50 ⁇ m to 200 ⁇ m, the line widths were all 2 ⁇ m, and the center of gravity of the opening varied by 5% on average.
  • the mesh patterns 30 to 40 have a rhombus opening shape, the angle of the hypotenuse is 20 ° to 40 °, the length of the hypotenuse is 50 ⁇ m to 200 ⁇ m, the line width is 2 ⁇ m, and the center of gravity of the opening varies. There was no regular pattern.
  • the mesh patterns 41 to 42 have an opening shape of a parallelogram, an oblique side angle of 30 ° with respect to the base, a length of one side (base) of 100 ⁇ m to 200 ⁇ m, a line width of 2 ⁇ m, and the center of gravity of the opening does not vary. It was a regular pattern.
  • the mesh patterns 43 to 46 were regular patterns in which the opening shape was square, the length of one side was 50 ⁇ m to 200 ⁇ m, the line widths were all 2 ⁇ m, and the center of gravity of the opening did not vary.
  • Table 2 shows nine different types of displays BM1 to BM9 having different resolutions, different aperture shapes (pixel structures) shown in FIGS. 18A to 18I, 1.0 as a transmissive portion, and 0 as a shielding portion.
  • Image data was created at 12700 dpi.
  • Table 2 shows the resolutions of the nine types of displays BM BM1 to BM9. A superimposed image of the display BM and the mesh pattern indicated by the pattern quantitative value was created, and three researchers conducted a sensory evaluation on the following degradation scales by three researchers.
  • Table 3 shows the moire evaluation results expressed by a combination of 48 types of mesh pattern examples and 9 types of display BM types. Table 3 shows the BM type on the horizontal axis and the pattern example on the vertical axis, the pattern quantitative value, and the evaluation results based on the respective degradation scales.
  • random mesh patterns 12 to 25 having pattern quantification values of ⁇ 5.29 to ⁇ 5.05 have a high deterioration scale in any of BM1 to BM9, and BM1 to BM9. It can be seen that this is an example of the present invention with excellent moiré visibility or an extremely excellent example of the present invention regardless of the type of BM (resolution, pixel structure).
  • random mesh patterns 1 to 11 and 26 to 46 whose pattern quantitative values are out of the range of ⁇ 5.29 to ⁇ 5.11 are degradation scales in any of BM1 to BM9. It can be seen that this is a comparative example in which at least one of the BM types BM1 to BM9 (resolution, pixel structure) includes inferior moiré visibility. From the above, the effect of the present invention is clear.
  • Conductive film 12 Transparent support 14
  • Metal fine wire (metal fine wire) 16, 16a, 16b Wiring portions 18, 18a, 18b

Landscapes

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Abstract

　導電性フィルムは、全画像の透過率画像データを２次元フーリエ変換して得られたスペクトルピークの規格化スペクトル強度が規定値以上であるスペクトルについて、角度を特定角度単位刻みで振り、各角度毎の規格化スペクトル強度の最大値と最小値との強度差を算出し、強度差のヒストグラムを取った時に強度差の平均値以上で度数を表わす柱の１以上の塊が他の塊から孤立して存在し、かつ規格化スペクトル強度の１つの角度におけるばらつきの第１標本標準偏差の全角度方向のばらつきを表わす第２標本標準偏差を配線パターンの定量値として算出した時、定量値が特定の数値範囲に収まる配線パターンを持つ。

Description

導電性フィルム、これを備える表示装置及び導電性フィルムの評価方法
　本発明は、導電性フィルム、これを備える表示装置及び導電性フィルムの評価方法に関する。
　表示装置の表示ユニット（以下、ディスプレイともいう）上に設置される導電性フィルムとして、例えばタッチパネル用の導電性フィルム等が挙げられる。
　このような導電性フィルムにおいては、図２３（Ａ）に示されるように、正方格子状に配置されるディスプレイのブラックマトリックス（ＢＭ：Black Matrix）の周波数ピーク１２０に対して、導電性フィルムのメッシュパターンのピークをどのように配置すれば、モアレに対して視認性に優れたメッシュパターンにすることができるのかが求められている。視認性に優れたメッシュパターンとするためのモアレの定義は、高周波、低強度であることから、複数存在する、ディスプレイのブラックマトリックスの周波数ピーク１２０と、メッシュパターンの周波数ピークとを、それぞれピーク同士の距離が最大となるように配置する必要があるという課題があり、その課題を解決するために種々の提案がなされている（例えば、特許文献１及び２参照）。
　特許文献１は、導電性フィルムとして、透明基材と電気伝導性パターンとを有し、電気伝導性パターンが、透明基材の全体面積の３０％以上が、電気伝導性パターンと交差する直線を描いた時、直線と電気伝導性パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）が２％以上であり、ボロノイダイアグラムをなす図形の境界線形態のパターンを有する伝導体を開示している。
　こうして、特許文献１では、視野を遮られず、伝導性に優れるだけでなく、モアレ現象を防止することができるとしている。
　一方、本出願人の出願に係る特許文献２では、透明基体とメッシュ状配線パターンを持つ導電部とを有し、配線パターンが、その透過率画像データの２次元フーリエスペクトルのピーク周波数及びピーク強度と、画素配列パターンの透過率画像データの２次元フーリエスペクトルのピーク周波数及びピーク強度とから、それぞれ算出されるモアレの周波数情報及び強度情報に人間の視覚応答特性を作用させて得られたモアレの周波数及び強度に対し、モアレの周波数が視覚応答特性に応じて定まる所定の周波数範囲に入るモアレの強度の和が所定値以下である導電性フィルムを開示している。
　こうして、特許文献２では、モアレの発生を抑止でき、視認性を大幅に向上させることができるとしている。
米国特許公開２０１３／０２４８２３９Ａ１（対応日本公表特表２０１２－５３３８８７号公報） 特開２０１３－２１３８５８号公報
　ところで、特許文献１は、上記導電性フィルムの課題であるピーク同士の距離を最大化するに当たって、電気伝導性パターンとしてボロノイ多角形によるランダムメッシュパターンを用いているので、ロバストなランダムメッシュパターンを提供することができる。しかしながら、特許文献１に開示の伝導体では、図２３（Ｂ）に示すように、ボロノイランダムメッシュパターンの周波数ピーク１２２は、ピーク強度が弱く、指向性が弱く等方性を有し、ＢＭの周波数ピーク１２０を中心に２次元等方的に広がるため、制御することが困難であるという問題があった。ディスプレイのブラックマトリックスに応じたメッシュパターンの設計は、不要になるが、画質の大幅改善は困難であるという問題があった。
また、特許文献２では、上記課題であるピーク同士の距離を最大化するに当たって、メッシュパターンとして、異方性を１次元的に制御したランダムパターンを用いているので、視認性に優れたメッシュパターンを提供することができる。しかしながら、特許文献２に開示の導電性フィルムでは、図２３（Ｃ）に示すように、メッシュパターンの周波数ピーク１２４は、ＢＭの周波数ピーク１２０に対して最大離間距離にあるが、ピーク強度が強く、指向性が強いことから、メッシュパターンのピッチがランダムになるのでメッシュパターンの周波数ピーク１２４を通る点線方向１２６にボケ、生じるノイズが１次元方向に限定されるため、ノイズに対する視認性が悪化するケースがあるという問題があった。
　本発明は、上記従来技術の問題点を解消し、メタルメッシュ方式透明導電膜をディスプレイに搭載した際に生じる透過画像の画質を、モアレを生じさせずに視認性を優れたものにすると共に、ディスプレイ解像度、及びカラーフィルタ構造等のディスプレイ画素構造に依存することなく、ロバストに改善することができる配線パターンを持つ導電性フィルム、それを備える表示装置及び導電性フィルムの評価方法を提供することを目的とする。
　本発明において、メタルメッシュ方式透明導電膜をディスプレイに搭載した際に、モアレに対する「視認性」、又はモアレの視認性が良い、又は優れているとは、ディスプレイに重畳された導電性フィルムの配線パターンに起因するモアレが視認されない、又は視認され難いことを言い、ノイズに対する「視認性」、又はノイズ視認性が良い、又は優れているとは、ディスプレイに重畳された導電性フィルムの配線パターンに起因するノイズ、例えば配線自体、又は配線パターンが視認されない、又は視認され難いことを言う。即ち、「視認性」とは、モアレ及び／又はノイズが視認できない程度、即ち人間の視覚に知覚されない度合をいう。
　上記目的を達成するために、本発明の第１の態様に係る導電性フィルムは、表示装置の表示ユニット上に設置される導電性フィルムであって、透明基体と、透明基体の少なくとも一方の面に形成され、複数の金属細線からなる導電部と、を有し、導電部は、複数の金属細線によりメッシュ状に形成された、複数の開口部を配列した配線パターンを有し、配線パターンは、その全画像の透過率画像データを２次元フーリエ変換して得られた全画像のスペクトルピークの規格化スペクトル強度を求め、規定値以上の規格化スペクトル強度を持つスペクトルを抽出し、抽出されたスペクトル各々について、２次元フーリエ座標における原点と抽出されたスペクトルの座標とを結んだ直線と２次元フーリエ座標の１つの座標軸とのなす角度を特定角度単位で算出し、抽出されたスペクトルについて、角度を特定角度単位刻みで振りながら抽出されたスペクトルの全ての点において、各角度毎の規格化スペクトル強度の最大値と最小値とから得られる強度差を算出し、全ての点の強度差のヒストグラムを取った時に強度差の平均値以上におけるヒストグラムの度数を表わす柱の１以上の塊が他の塊から孤立して存在し、かつ規格化スペクトル強度の１つの角度におけるばらつきを表わす第１標本標準偏差の全角度方向のばらつきを表わす第２標本標準偏差を配線パターンの定量値として算出した時、定量値が特定の数値範囲に収まることを特徴とする。
　上記目的を達成するために、本発明の第２の態様に係る表示装置は、表示ユニットと、この表示ユニットの上に設置される、上記第１の態様に係る導電性フィルムとを備えることを特徴とする。
　また、上記目的を達成するために、本発明の第３の態様に係る導電性フィルムの評価方法は、表示装置の表示ユニット上に設置され、複数の金属細線によりメッシュ状に形成された、複数の開口部を配列した配線パターンを有する導電性フィルムの評価方法であって、導電性フィルムの全画像の配線パターンの透過率画像データを取得し、全画像の透過率画像データを２次元フーリエ変換して得られた全画像のスペクトルピークの規格化スペクトル強度を求め、規定値以上の規格化スペクトル強度を持つスペクトルを抽出し、抽出されたスペクトル各々について、２次元フーリエ座標における原点と抽出されたスペクトルの座標とを結んだ直線と２次元フーリエ座標の１つの座標軸とのなす角度を特定角度単位で算出し、抽出されたスペクトルについて、角度を特定角度単位刻みで振りながら抽出されたスペクトルの全ての点において、各角度毎の規格化スペクトル強度の最大値と最小値とから得られる強度差を算出し、かつ規格化スペクトル強度の１つの角度におけるばらつきを表わす第１標本標準偏差の全角度方向のばらつきを表わす第２標本標準偏差を配線パターンの定量値として算出し、算出された全ての点の強度差のヒストグラムを取った時に強度差の平均値以上におけるヒストグラムの度数を表わす柱の１以上の塊が他の塊から孤立して存在し、かつ、算出された定量値が特定の数値範囲に収まる配線パターンを評価することを特徴とする。
　上記第１の態様、第２の態様及び第３の態様において、規格化スペクトル強度は、全画像のスペクトルのスペクトル強度の平均値及び画像サイズで規格化された規格値であり、規定値は、規格化スペクトル強度値の対数値の１００００倍した値として、－４．０であり、特定角度単位は、１度であり、強度差は、１つの角度において、規格化スペクトル強度の最大値と最小値の差の値の対数値の１００００倍であり、ヒストグラムの横軸となる強度差の範囲は、－４．０～０であり、そのステップ幅は、０．１であり、特定の数値範囲は、－５．２９～－５．０５であることが好ましい。
　また、角度は、小数点以下第２位まで求め、小数点以下第２位に対して丸め処理を行い、少数点第１位まで求められることが好ましい。
　また、配線パターンは、四角形形状の平面上に規則的に配置された複数のドッドを発生させ、配置されたドッドを、乱数を用いて３６０度の任意の方向に移動してランダム性を付与し、ランダムに配置されたドッドを中心とする多角形を発生させ、多角形間に存在する領域を細線化することにより形成されることが好ましい。
　また、配線パターンは、表示ユニットの画素配列パターンに重畳されるものであることが好ましく、また、画素配列パターンは、ブラックマトリックスパターンであることが好ましい。
　以上説明したように、本発明によれば、メタルメッシュ方式配線パターンを有する透明導電膜をディスプレイに搭載した際に生じる透過画像の画質を、ディスプレイ解像度、及びカラーフィルタ構造等のディスプレイ画素構造に依存することなくロバストに改善することができる。
　また、本発明によれば、導電性フィルムの配線パターンの特徴として、周波数空間において異方性を有し、指向性のあるランダムパターンを提供することができ、このような指向性のあるランダムパターンにより、ディスプレイ解像度、及びディスプレイ画素構造にロバストなメッシュパターンを提供することができる。
　また、本発明によれば、異なるディスプレイ解像度、及び異なる画素（カラーフィルタ）構造に対して、ロバストに画質改善を行うことができる。
　本発明によれば、特に、特許文献２に開示の規則パターンと比較した場合、ディスプレイ解像度、及びピクセル（特に、サブピクセル、例えばカラーフィルタ等）構造に対してロバストな画質設計が可能となり、一方、ボロノイランダムパターンと比較した場合、ある程度設計に自由度を持たせることが可能であるため、モアレ視認性による画質劣化を抑制することができる。
図１は、本発明の第１の実施形態に係る導電性フィルムの一例を模式的に示す部分断面図である。 図２は、図１に示す導電性フィルムの配線部のランダムなメッシュ状配線パターンの一例を模式的に示す平面図である。 図３（Ａ）は、図２に示すランダムメッシュパターンを形成する多角形を生成させるために、１つの平面領域内に任意の間隔で発生させたシード点（ドット）を示すドット切り出し画像の一例の概略説明図であり、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）に示すドット切り出し画像のドッドの位置に菱形パターンを畳み込んだ菱形パターン画像の一例の概略説明図である。 図４は、本発明の第２の実施形態に係る導電性フィルムの一例の模式的部分断面図である。 図５は、本発明の第３の実施形態に係る導電性フィルムの一例の模式的部分断面図である。 図６は、本発明の第４の実施形態に係る導電性フィルムの一例の模式的部分断面図である。 図７は、ディスプレイのブラックマトリックスの周波数ピークに対して配置される本発明に係る導電性フィルムのランダムメッシュパターンの周波数ピークの周辺に分布するノイズ成分の分布状態を示す説明図である。 図８（Ａ）は、本発明に係るランダムメッシュパターンの他の一例を模式的に示す平面図であり、図８（Ｂ）は、図８（Ａ）に示すランダムメッシュパターンのＦＦＴスペクトルの強度特性の一例を示す模式図である。 図９（Ａ）は、それぞれ図８（Ａ）に示す本発明に係るランダムメッシュパターンのＦＦＴスペクトル強度の１つの角度方向の最大値と最小値の差の値の一例を角度毎に示すグラフであり、図９（Ｂ）は、図９（Ａ）に示す最大値と最小値の差のヒストグラムである。 図１０は、図９（Ａ）示すＦＦＴスペクトル強度の１つの角度方向のばらつきの、角度方向のばらつきの一例を示すグラフである。 図１１（Ａ）及び（Ｄ）は、それぞれ本発明に係るランダムメッシュパターンの他の一例を模式的に示す平面図であり、図１１（Ｂ）及び（Ｅ）は、それぞれ図１１（Ａ）及び（Ｄ）に示すランダムメッシュパターンのＦＦＴスペクトル強度の１つの角度方向のばらつきの、角度方向のばらつきの一例を示すグラフであり、図１１（Ｃ）及び（Ｆ）は、それぞれ図１１（Ａ）及び（Ｄ）に示すランダムメッシュパターンのＦＦＴスペクトル強度の角度毎の最大値と最小値の差のヒストグラムである。 図１２（Ａ）及び（Ｄ）は、それぞれ本発明に係るランダムメッシュパターンの他の一例を模式的に示す平面図であり、図１２（Ｂ）及び（Ｅ）は、それぞれ図１２（Ａ）及び（Ｄ）に示すランダムメッシュパターンのＦＦＴスペクトル強度の１つの角度方向のばらつきの、角度方向のばらつきの一例を示すグラフであり、図１２（Ｃ）及び（Ｆ）は、それぞれ図１２（Ａ）及び（Ｄ）に示すランダムメッシュパターンのＦＦＴスペクトル強度の角度毎の最大値と最小値の差のヒストグラムである。 図１３は、本発明に係る導電性フィルムが適用される表示ユニットの一部の画素配列パターンの一例を表す概略説明図である。 図１４は、図１に示す導電性フィルムを組み込んだ表示装置の一実施例の概略断面図である。 図１５（Ａ）及び（Ｂ）は、それぞれ本発明に係る導電性フィルムが適用される表示ユニットの一部の画素配列パターンの一例を表す概略説明図であり、図１５（Ｂ）は、図１５（Ａ）の画素配列パターンの部分拡大図である。 図１６（Ａ）～（Ｃ）は、それぞれ本発明に適用される３つの副画素の形及び周期の少なくとも１つが異なる画素配列パターンの構成単位の一例を示す概略説明図である。 図１７（Ａ）及び（Ｂ）は、それぞれ図１３に示す表示ユニットの画素配列パターンの画素中の３つの副画素の強度のばらつきの一例を模式的に示す説明図である。 図１８（Ａ）～（Ｉ）は、それぞれ解像度、及び形状が異なる表示ユニットの画素配列パターンの代表副画素の２×２画素の繰り返し単位の一例を示す模式図である。 図１９は、本発明に係るランダムメッシュパターンのＦＦＴスペクトル強度の角度の算出を説明する説明図である。 図２０（Ａ）は、本発明に係るランダムメッシュパターンのＦＦＴスペクトル強度の角度毎の最大値と最小値の差のばらつきを表す標本標準偏差の一例を示すグラフであり、図２０（Ｂ）は、図２０（Ａ）に示すランダムメッシュパターンのＦＦＴスペクトル強度の角度毎の最大値と最小値の差のヒストグラムである。 図２１は、本発明に係る導電性フィルムのランダムメッシュパターンの定量値算出方法の一例を示すフローチャートである。 図２２は、本発明の導電性フィルムのランダムメッシュパターンの定量値の評価方法の一例を示すフローチャートである。 図２３（Ａ）は、正方格子状に配置されるディスプレイのブラックマトリックスの周波数ピークを示す説明図であり、図２３（Ｂ）及び図２３（Ｃ）は、それぞれ図２３（Ａ）に示すブラックマトリックスの周波数ピークに対して配置されるボロノイランダムメッシュパターン及び異方性を１次元的に制御したランダムパターンの周波数ピークの分布状態に示す説明図である。
　以下に、本発明に係る導電性フィルム、これを備える表示装置及び導電性フィルムの評価方法を添付の図面に示す好適な実施形態を参照して詳細に説明する。
　本発明の導電性フィルムの特徴は、メッシュ状配線パターン（以下、単にメッシュパターンとも言う）として異方性を有するランダムパターンを用いることにより、表示装置の表示ユニット（以下、ディスプレイともいう）のブラックマトリックス（以下、ＢＭともいう）の解像度、及びディスプレイのカラーフィルタ構造に依存することなく、ディスプレイの表示画像にモアレを生じさせずに視認性を優れたものにして、ロバストな画質改善を提供することができる点にある。
　このように、本発明は、メッシュパターンが規則パターンの場合には、周波数ピーク強度が強く、指向性も強すぎるため、ディスプレイの解像度及び画素構造に依存する周波数ピークとの距離を最大化して画質改善を図るための設計が必要となる問題点と、メッシュパターンがボロノイランダムパターンの場合には、周波数ピーク強度が弱く、指向性も弱すぎるため、ディスプレイの解像度及び画素構造にはあまり依存せず、設計は不要であるが、周波数ピークとの距離を制御できず、大幅な画質改善が図れない問題点とを同時に解決するために、規則パターンとボロノイランダムパターンとの中間の指向性のあるランダムパターンとして、ディスプレイの解像度や画素構造にロバストなランダムメッシュパターンを提供するものである。
　このため、本発明者らは、メッシュパターンの高速フーリエ変換（FFT：Fast Fourier Transform）のスペクトルの指向性角度ばらつきのヒストグラム(固定条件：下記式（１）参照)を見た場合、その平均値より強度が強い側に、孤立した島を少なくとも１つ持つ、即ちヒストグラムの度数を表わす柱の１以上の塊が他の塊から孤立して１つ以上存在するという条件が、ボロノイ多角形からなるボロノイランダムパターンを区別できること、及びこの指向性角度ばらつきが特定の数値範囲に収まっているという条件が、規則パターンを区別できることを知見した。この知見に基づき、本発明では、フーリエスペクトル強度のばらつきは、ボロノイランダムパターンのように規則パターンより小さくし、フーリエ空間座標で、原点から放射線状の１方向のばらつき（第１標本標準偏差）の、動径方向のばらつきである指向性角度ばらつき（第２標本標準偏差）は、規則パターンのようにボロノイランダムパターンより大きくすることにより、ディスプレイの解像度、及び画素構造に対してロバストにモアレの視認性に関する画質改善を行うことができ、本発明の導電性フィルム及びその評価方法を提供することができる。
　なお、
　以下では、本発明に係る導電性フィルムについて、タッチパネル用の導電性フィルムを代表例として説明する。本発明は、これに限定されず、透明基体の両側に配置される、もしくは片側に絶縁層を介して配置される配線パターンの内、少なくとも一方が、ランダムな多角形状のセル（開口部）からなるランダムなメッシュ状配線パターン（ランダムメッシュパターン）を持つ配線部を有するものであり、表示装置の様々な発光強度の表示ユニット上に設置される導電性フィルムであれば、どのようなものでも良い。例えば、電磁波シールド用の導電性フィルム等であっても良いのはもちろんである。
　なお、本発明に係る導電性フィルムが重畳される表示装置の表示ユニットとしては、特に制限的ではないが、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）（ＯＥＬ：Organic Electro-Luminescence）を利用した有機ＥＬ（発光）ダイオード（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）や有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ：Organic Electro-Luminescence Display）、無機ＥＬディスプレイ（Inorganic Electro-Luminescence Display）、電子ペーパ等を挙げることができる。
　なお、詳細は後述するが、本発明の導電性フィルムの重畳される表示装置の表示ユニットは、互いに異なる少なくとも３色、例えば、赤、緑及び青の３色を含む複数色の光を射出する複数の副画素を含む画素の画素配列パターン（以下、ＢＭパターンともいう）で配列されてなり、その発光強度（輝度）のよる各副画素（カラーフィルタ）の輝度（明度）を、導電性フィルムの重畳によるモアレの視認性の評価において考慮できるものであれば、特に制限的ではない。上記表示ユニットは、例えば、従来のように、副画素（カラーフィルタ）の繰り返し周期及び強度（形状、サイズ）、即ち副画素配列パターン（副画素の形状及びサイズ、周期）がＲＧＢ等の複数色において全て同じであり、Ｇ副画素で代表させることができるＢＭパターンを持つ表示ユニットであっても良い。また、上記表示ユニットは、前述したＯＥＬＤのように、複数色において全て同じでない、即ち、少なくとも２つの色について異なる副画素配列パターンを含むＢＭパターンを持つ表示ユニットであっても良い。
　また、本発明の対象となる表示装置のディスプレイは、高解像度スマートフォンやタブレット端末等のように、発光強度の高いディスプレイであっても良いし、低解像度のデスクトップパソコンやテレビ（ＴＶ）等のように、発光強度の低いディスプレイであっても良いし、中解像度ノートブック等のように、発光強度の中程度のディスプレイであっても良い。
　図１は、本発明の第１の実施形態に係る導電性フィルムの一例を模式的に示す部分断面図であり、図２は、それぞれ、図１に示す導電性フィルムの配線部の配線パターンの一例を模式的に示す平面図である。
　これらの図に示すように、本実施形態の導電性フィルム１０は、表示装置の表示ユニット上に設置されるもので、表示ユニットのブラックマトリックス（ＢＭ：Black Matrix）に対してモアレの発生の抑止の点で優れた配線パターン、特に、ＢＭパターンに重畳した際にもモアレの視認性に優れた配線パターンを持つ導電性フィルムであり、透明基体１２と、透明基体１０の一方の面（図１中上側の面）に形成され、複数の金属製の細線（以下、金属細線という）１４からなり、第１電極部となる第１配線部１６ａと、第１配線部１６ａの略全面に、金属細線１４を被覆するように、第１接着層１８ａを介して接着された第１保護層２０ａと、透明基体１０の他方の面（図１中下側の面）に形成され、複数の金属製の細線１４からなり、第２電極部となる第２配線部（電極）１６ｂと、第２配線部１６ｂの略全面に第２接着層１８ｂを介して接着された第２保護層２０ｂとを有する。
　なお、以下では、第１配線部１６ａ及び第２配線部１６ｂを総称する際には単に配線部１６といい、第１接着層１８ａ及び第２接着層１８ｂを総称する際には単に接着層１８といい、第１保護層２０ａ及び第２保護層２０ｂを総称する際には単に保護層２０という。
　透明基体１２は、絶縁性を有し、かつ透光性が高い材料からなり、例えば、樹脂、ガラス、シリコン等の材料を挙げることができる。樹脂としては、例えば、ＰＥＴ（Polyethylene Terephthalate）、ＰＭＭＡ（Polymethyl methacrylate）、ＰＰ（polypropylene）、ＰＳ（polystyrene）等が挙げられる。
　金属細線１４は、導電性の高い金属製の細線であれば特に制限的ではなく、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）又は銅（Ｃｕ）の線材等からなるものを挙げることができる。金属細線１４の線幅は、視認性の点からは細い方が好ましいが、例えば、３０μｍ以下であれば良い。なお、タッチパネル用途では、金属細線１４の線幅は０．１μｍ以上１５μｍ以下が好ましく、１μｍ以上９μｍ以下がより好ましく、２μｍ以上７μｍ以下がさらに好ましい。
　配線部１６（１６ａ，１６ｂ）は、メッシュ状に配列したメッシュ配線２１（２１ａ，２１ｂ）によって形成される配線パターン２４（２４ａ，２４ｂ）を持つ複数の金属細線１４を有する。配線パターン２４（２４ａ，２４ｂ）は、詳細には、図２に示すように、複数の金属細線１４同士を互いに交差させて形成された所定のランダム形状、例えばランダムな多角形状の開口部（セル）２２（２２ａ，２２ｂ）が配列されたメッシュパターンである。
　配線部１６（１６ａ及び１６ｂ）は、図２に示すように、金属細線１４と、隣接する金属細線１４間の開口部（セル）２２（２２ａ及び２２ｂ）によるランダムなメッシュ形状の配線パターン２４（２４ａ及び２４ｂ）とを有する配線層２８（２８ａ及び２８ｂ）からなる。配線パターン２４ａ及び２４ｂは、複数の金属細線で形成される開口部が異方性を有する配線パターン、即ちランダムメッシュパターン２５である。このランダムメッシュパターン２５は、金属細線１４によって形成される開口部２２の形状が、異なる２種類以上の開口形状であり、その頂点の数が２種類以上となるランダムな多角形状となるものであれば、どのようなランダムメッシュパターンであっても良い。
　ここで、図２に示す異方性ランダムメッシュパターン２５は、以下のようにして作製することができる。
　先ず、図３（Ａ）に示すように、１つの平面領域１００内において、菱形などの閉空間の重心となる点として、任意の間隔で無作為に選択された複数の位置、例えば乱数等を用いて任意の間隔で複数の位置にシード点（ドッド）ｐを配置したドット切り出し画像１０２を作製する。なお、予め平面領域１００内に規則的にドッドを配置しておき、そのドッド間の間隔を、標準偏差等を用いて３６０度任意の方向にずらすことにより、シード点ｐを配置しても良い。
　次に、図３（Ｂ）に示すように、平面領域１００内に配置された、図３（Ａ）に示すシード点ｐの位置に開口部２２となる菱形パターン１０４を、隣接する菱形パターン１０４が互いに離間し、両者の間に境界領域１０６が存在するように、畳み込んで、菱形パターン画像１０８を作製する。図示例では、シード点ｐに菱形パターン１０４を畳み込んでいるが、本発明は菱形に限定されず、正三角形、二等辺三角形等の三角形、正方形、長方形（矩形）、平行四辺形等の四角形、正五角形等の五角形、正六角形等六角形などの正多角形を含む多角形であっても良い。
　次に、図３（Ｂ）に示す菱形パターン画像１０８の境界領域１０６を細線化するために、細線化処理、例えばmathworks社製 matlabの細線化処理を実施する。
　ここで、細線化処理は、境界領域１０６の縁部のピクセルを除去することにより境界領域１０６を収縮させ、菱形パターン１０４の縁部にピクセルを除去することにより菱形パターン１０４を膨張させることを繰り返して、同一線幅のランダムな線分からなる細線となるように細線化する。
　こうして、図２に示すランダムメッシュパターン２５を形成することができる。
　このような形状の金属細線１４は、銀などの金属層をエッチング等の公知方法により、容易に形成することができる。
　なお、本発明の導電性フィルム１０は、上側及び下側の配線パターン２４ａ及び２４ｂの合成配線パターン２４は、表示ユニットの解像度及び画素構造によらず、モアレ視認性が優れたランダムメッシュパターン２５である。なお、モアレ視認性が優れたランダムメッシュパターンとは、本発明では、表示ユニットの解像度及び画素構造によらず、モアレが人間の視覚に知覚されない１又は２以上の１群のランダムパターンを言う。なお、モアレの視認性とは、本明細書では、上述したようにモアレが視認できない程度をいう。
　したがって、図２に示すランダムメッシュパターン２５は、合成配線パターン２４とした時に、ランダムメッシュパターン２５の全画像の透過率画像データを２次元フーリエ変換して得られた全画像のスペクトルピークの規格化スペクトル強度を求め、規定値以上の規格化スペクトル強度を持つスペクトルを抽出し、抽出されたスペクトル各々について、２次元フーリエ座標における角度を特定角度単位で算出し、抽出されたスペクトルについて、角度を特定角度単位刻みで振りながら抽出されたスペクトルの全ての点において、各角度毎の規格化スペクトル強度の最大値と最小値とから得られる強度差を算出すると共に、強度差の標本標準偏差をパターンの定量値として算出した時、全ての点の強度差のヒストグラムを取った時に強度差の平均値以上にピーク値の島が存在し、定量値が特定の数値範囲に収まるランダムメッシュパターンである。このようなランダムメッシュパターン２５は、いかなるディスプレイの表示画面に重畳しても、十分にモアレの発生を抑制でき、視認性を向上させることができるモアレ視認性の点で優れ、ディスプレイの解像度及び画素構造に対してロバストなランダムメッシュパターンであるということができる。
　なお、本発明の導電性フィルムのランダムメッシュパターンの構成については、後述する。
　なお、このようなランダムメッシュパターン２５には、開口部２２を構成する金属細線１４の辺（メッシュ配線２１）に断線(ブレーク)が入っていてもよい。このようなブレークのあるメッシュ状配線パターンとしては、本出願人の出願に係る特願２０１２－２７６１７５号（ＰＣＴ／ＪＰ２０１３／０８３００１として出願され、ＷＯ２０１４／０９７９２１Ａ１として公開）の明細書に記載の導電性フィルムのメッシュ状配線パターンを適用することができる。
　上述したように、第１保護層２０ａは、第１配線部１６ａの金属細線１４を被覆するように、第１接着層１８ａによって第１配線部１６ａからなる配線層２８ａの略全面に接着されている。また、第２保護層２０ｂは、第２配線部１６ｂの金属細線１４を被覆するように、第２接着層１８ｂによって第２配線部１６ｂからなる配線層２８ｂの略全面に接着されている。
　ここで、接着層１８（第１接着層１８ａ及び第２接着層１８ｂ）の材料としては、ウェットラミネート接着剤、ドライラミネート接着剤、又はホットメルト接着剤等が挙げられるが、第１接着層１８ａの材質と第２接着層１８ｂの材質とは、同一であってもよいし、異なってもよい。
　また、保護層２０（第１保護層２０ａ及び第２保護層２０ｂ）は、透明基体１２と同様に、樹脂、ガラス、シリコンを含む透光性が高い材料からなるが、第１保護層２０ａの材質と第２保護層２０ｂの材質とは、同一であってもよいし、異なってもよい。
　第１保護層２０ａの屈折率ｎ１及び第２保護層２０ｂの屈折率ｎ２は、いずれも、透明基体１２の屈折率ｎ０に等しいか、これに近い値であるのが好ましい。この場合、第１保護層２０ａに対する透明基体１２の相対屈折率ｎｒ１及び第２保護層２０ｂに対する透明基体１２の相対屈折率ｎｒ２は、共に１に近い値となる。
　ここで、本明細書における屈折率は、波長５８９．３ｎｍ（ナトリウムのＤ線）の光における屈折率を意味し、例えば樹脂では、国際標準規格であるＩＳＯ　１４７８２：１９９９（ＪＩＳ　Ｋ　７１０５に対応）で定義される。また、第１保護層２０ａに対する透明基体１２の相対屈折率ｎｒ１は、ｎｒ１＝（ｎ１／ｎ０）で定義され、第１保護層２０ｂに対する透明基体１２の相対屈折率ｎｒ２は、ｎｒ２＝（ｎ２／ｎ０）で定義される。
　ここで、相対屈折率ｎｒ１及び相対屈折率ｎｒ２は、０．８６以上１．１５以下の範囲にあればよく、より好ましくは、０．９１以上１．０８以下である。
　なお、相対屈折率ｎｒ１及び相対屈折率ｎｒ２の範囲をこの範囲に限定して、透明基体１２と保護層２０（２０ａ、２０ｂ）との部材間の光の透過率を制御することにより、モアレの視認性をより向上させ、改善することができる。
　図１に示す実施の形態の導電性フィルム１０では、透明基体１２の上側及び下側の両側の配線部１６（１６ａ及び１６ｂ）は、いずれも複数の金属細線１４を備える電極部となっているが、本発明はこれに限定されず、第１及び第２配線部１６ａ及び１６ｂの少なくとも一方を電極部と非電極部（ダミー電極部）とによって構成しても良い。
　図４は、本発明の第２の実施形態に係る導電性フィルムの一例を示す模式的部分断面図である。なお、図４に示す本第２の実施形態の導電性フィルムの配線パターンの平面図は、図２に示す配線パターンの平面図と同様であるのでここでは省略する。
　同図に示すように、本第２の実施形態の導電性フィルム１１は、透明基体１２の一方（図４の上側）の面に形成された第１電極部１７ａ及びダミー電極部２６からなる第１配線部１６ａと、透明基体１２の他方（図４の下側）の面に形成された第２電極部１７ｂからなる第２配線部１６ｂと、第１電極部１７ａ及びダミー電極部２６からなる第１配線部１６ａの略全面に第１接着層１８ａを介して接着された第１保護層２０ａと、第２電極部１７ｂからなる第２配線部１６ｂの略全面に第２接着層１８ｂを介して接着された第２保護層２０ｂとを有する。
　導電性フィルム１１においては、第１電極部１７ａ及びダミー電極部２６は、それぞれ複数の金属細線１４からなり、共に、透明基体１２の一方（図４の上側）の面に配線層２８ａとして形成され、第２電極部１７ｂは、複数の金属細線１４からなり、透明基体１２の他方（図４下側）の面に配線層２８ｂとして形成されている。ここで、ダミー電極部２６は、第１電極部１７ａと同様に、透明基体１２の一方（図４の上側）の面に形成されるが、図示例のように、他方（図４の下側）の面に形成された第２電極部１７ｂの複数の金属細線１４に対応する位置に同様に配列された複数の金属細線１４からなる。
　ダミー電極部２６は、第１電極部１７ａと所定間隔だけ離間して配置されており、第１電極部１７ａと電気的に絶縁された状態下にある。
　本実施形態の導電性フィルム１１においては、透明基体１２の一方（図４の上側）の面にも、透明基体１２の他方（図４の下側）の面に形成されている第２電極部１７ｂの複数の金属細線１４に対応する複数の金属細線１４からなるダミー電極部２６を形成しているので、透明基体１２の一方（図４の上側）の面での金属細線による散乱を制御することができ、電極視認性を改善することができる。
　ここで、配線層２８ａの第１電極部１７ａ及びダミー電極部２６は、金属細線１４と開口部２２によるメッシュ状の配線パターン２４ａとを有する。また、配線層２８ｂの第２電極部１７ｂは、第１電極部１７ａと同様に、金属細線１４と開口部２２によるメッシュ状の配線パターン２４ｂを有する。上述したように、透明基体１２は絶縁性材料からなり、第２電極部１７ｂは、第１電極部１７ａ及びダミー電極部２６と電気的に絶縁された状態下にある。
　なお、第１、第２電極部１７ａ、１７ｂ及びダミー電極部２６は、それぞれ図１に示す導電性フィルム１０の配線部１６と同様の材料で同様に形成することができる。
　なお、第１保護層２０ａは、第１配線部１６ａの第１電極部１７ａ及びダミー電極部２６のそれぞれの金属細線１４を被覆するように、第１接着層１８ａによって第１電極部１７ａ及びダミー電極部２６からなる配線層２８ａの略全面に接着されている。
　また、第２保護層２０ｂは、第２配線部１６ｂの第２電極部１７ｂの金属細線１４を被覆するように、第２接着層１８ｂによって第２電極部１７ｂからなる配線層２８ｂの略全面に接着されている。
　なお、図４に示す導電性フィルム１１の第１及び第２接着層１８ａ及び１８ｂ、並びに第１及び第２保護層２０ａ及び２０ｂは、図１に示す導電性フィルム１０と同様であるので、その説明は省略する。
　なお、本実施形態の導電性フィルム１１では、第２電極部１７ｂを備える第２配線部１６ｂは、ダミー電極部を有していないが、本発明はこれに限定されず、第２配線部１６ｂにおいて、第１配線部１６ａの第１電極部１７ａに対応する位置に、第１電極部１７ａから所定間隔だけ離間して、第２電極部１７ｂと電気的絶縁された状態下にある、金属細線１４からなるダミー電極部を配置しても良い。
　本実施形態の導電性フィルム１１においても、上記第１配線部１６ａにダミー電極部２６ａを設け、また、第２配線部１６ｂにこのようなダミー電極部を設けることにより、第１配線部１６ａの第１電極部１７ａと第２配線部１６ｂの第２電極部１７ｂの各メッシュ配線を対応して配置することができるので、透明基体１２の一方（例えば、図４の上側又は下側）の面での金属細線による散乱を制御することができ、電極視認性を改善することができる。
　図１及び図４に示す第１及び第２の実施形態の導電性フィルム１０及び１１では、透明基体１２の上側及び下側の両側に、それぞれ配線部１６（１６ａ及び１６ｂ）が形成されているが、本発明はこれに限定されず、図５に示す本発明の第３の実施形態の導電性フィルム１１Ａのように、透明基体１２の一方の面（図５中上側の面）に複数の金属細線１４からなる配線部１６を形成し、配線部１６の略全面に、金属細線１４を被覆するように、接着層１８を介して保護層２０を接着した導電性フィルム要素を２つ重ねる構造としても良い。
　図５に示す本発明の第３の実施形態の導電性フィルム１１Ａは、図５中、下側の透明基体１２ｂと、この透明基体１２ｂの上側面に形成された複数の金属細線１４からなる第２配線部１６ｂと、第２配線部１６ｂ上に第２接着層１８ｂを介して接着される第２保護層２０ｂと、第２保護層２０ｂ上に、例えば接着剤等により接着されて配置される上側の透明基体１２ａと、この透明基体１２ａの上側面に形成された複数の金属細線１４からなる第１配線部１６ａと、第１配線部１６ａ上に接着層１８ａを介して接着される保護層２０ａとを有する。
　ここで、第１配線部１６ａ及び又は第２配線部１６ｂの金属細線１４の少なくとも一方の全部又は一部は、図２に示すランダムメッシュパターン２５である。
　図１、図４及び図５に示す第１、第２及び第３の実施形態の導電性フィルム１０、１１及び１１Ａでは、透明基体１２、または１２ａの上側及び下側の両側に、それぞれ配線部１６（１６ａ及び１６ｂ）が形成されているが、本発明はこれに限定されず、図６に示す本発明の第４の実施形態の導電性フィルム１１Ｂのように、透明基体１２の一方の面（図６中上側の面）のみに複数の金属細線１４からなる配線部１６を形成し、配線部１６の略全面に、金属細線１４を被覆するように、接着層１８を介して保護層２０を接着した、一層配線構造としても良い。
　ここで、配線部１６の金属細線１４は、図２に示すランダムメッシュパターン２５である。
　ここで、本発明の導電性フィルムのランダムメッシュパターンの構造について説明する。
　なお、本発明の導電性フィルムのランダムメッシュパターンは、図７に示すように、ディスプレイのブラックマトリックス（ＢＭ）の周波数ピーク１２０に対して配置される本発明に係る導電性フィルムのランダムメッシュパターンの周波数ピーク１２８の周辺にフーリエスペクトルピークの強度を分散させてぼかすことにより、モアレ視認のリスクを低減している。こうすることにより、本発明のランダムメッシュパターンでは、図２３（Ｂ）に示すボロノイランダムメッシュパターンのように、フーリエスペクトル強度が広く分散してしまうことを防止する。更に、図２３（Ｃ）に示す規則メッシュパターンのように、フーリエスペクトルが局在し、モアレが強く視認されることを防止する。
　このため、本発明では、ボロノイランダムメッシュパターンよりはピーク強度が強く、指向性があり、規則パターンよりは、ピーク強度が弱く、指向性も弱い、両者の中間のピーク強度及び指向性を持つ図８（Ａ）に示すような構造のランダムメッシュパターン２５ａを提供する。このような本発明のランダムメッシュパターン２５ａのＦＦＴスペクトルの強度特性を図８（Ｂ）に示す。
　以上のように、図８（Ａ）に示すような構造の本発明のメッシュパターン２５ａは、パターンのＦＦＴスペクトルが特定の位置にピークを持ち、そのピーク周辺にノイズ成分が２次元的に広がる特徴を有する。
　このような本発明のメッシュパターンは、以下のようにして特定することできる。
　図８（Ａ）に示す本発明のメッシュパターン２５ａのスペクトル強度(絶対値)Ｉspの、１つの角度方向の最大値と最小値との差の常用対数ΔＩspを、０～３６０°に渡って、絶対値の常用対数の１００００倍の値が、－４．０以上のものについて、所定の角度単位、好ましくは、０．１°毎に取ると、図９（Ａ）に示すようなグラフとなる。ここでは、１つの角度について、スペクトル強度の差（強度差）ΔＩspは、下記式（１）によって求めることができる。以下、スペクトルの絶対値の常用対数の１００００倍の値が－４．０以上のみ取り扱うこととする。
　　　ΔＩsp＝１００００×｛ｌｏｇ１０（ＩspMAX－ＩspMIN）｝　　　…（１）
　こうして、ΔＩspを０～３６０°に渡って、所定の角度単位、好ましくは、０．１°毎に求めることができ、図９（Ａ）に示すグラフを得ることができる。
　ここで、角度ｉにおける差ＩspをＩsp（ｉ）（ｉ＝１、２、３…、３６０）と置くと、この強度差Ｉspの角度０～３６０度にわたる平均値Ｉspａは、下記式（２）で表すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
　以上のようにして求められたスペクトルの強度差＝ΔＩsp（ｋ）のヒストグラムを求める。そして、ヒストグラムの横軸にスペクトルの強度差を、０．１刻みで（上記式（１））取り、それに対応する度数を柱として縦軸に取る。これを、表示の都合上、スペクトル強度の差の１０倍の常用対数値を１００００倍して示すと、図９（Ｂ）のように表すことができる。図９（Ｂ）に示すヒストグラムにおいて、平均値Ｉspａも同時に示す。なお、図示例では、平均値Ｉspａは－３．２である。
　本発明のランダムメッシュパターン２５ａでは、図９（Ｂ）に示すヒストグラム（上記式（１）参照）において、平均値以上、即ちＩspａ以上において、ヒストグラムの不連続な刻み部分、他の度数を表わす柱の塊から孤立した１以上の柱からなる塊、即ち、分布部分（島）が存在する。
　以上から、本発明のランダムメッシュパターンでは、０～３６０度の全ての角度点のスペクトルの強度差のヒストグラムを取った時に強度差の平均値以上に度数の島が存在する。
　次に、本発明においては、ランダムメッシュパターンのＦＦＴスペクトルの絶対値の常用対数の１方向のばらつき(第１標本標準偏差)の、角度方向ばらつき(第２標本標準偏差)が特定の数値範囲以内に収まる必要がある。
　ここで、図１０は、ランダムメッシュパターンのＦＦＴスペクトルの１方向のばらつきを示す。
　ここで、１方向、すなわちｉ方向のばらつき（標本標準偏差）ｘ（ｉ）（ｉ＝０．１、０．２、…、３６０）は、ランダムメッシュパターンのＦＦＴスペクトルの０[ｃｙｃｌｅ／ｍｍ]から、ランダムメッシュパターンの各角度に対して画像データが持つ最大の周波数における、フーリエスペクトル強度の絶対値を算出する。１方向のばらつきは、その値の標本標準偏差を取得し、常用対数で表した値で定義する。
　角度ｉに対する１方向のばらつきをｘ（ｉ）（ｉ＝０．１、０．２、…、３６０）とする標本として抽出したとすると、３６０個の標本の平均値ｘａは、下記式（３）で表され、標本の分散をＳ２とすると、標本の分散Ｓ２は、下記式（４）で表すことができる。こうして得られる標本の分散Ｓ２の平方根Ｓを標本標準偏差として下記式（５）で求めることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
　本発明においては、この標本標準偏差Ｓを本発明のランダムメッシュパターンの特徴を表わすパターン定量値（単に定量値ともいう）とする。この定量値Ｓは、標本標準偏差で表されるので、ＦＦＴスペクトルの１方向のばらつきの、角度方向ばらつきを表わす。
　上述した規則パターンにおいては、１つの角度方向のばらつきが大きく、ランダムメッシュパターンにおいては、１つの角度方向のばらつきが小さい、その間に本発明のばらつきが入る。
　したがって、本発明の定量値Ｓは、特定の数値範囲以内に収まる必要があることが分かる。
　ここで、本発明においては、詳細は後述するが、定量値（標本標準偏差）Ｓは、角度を０～３６０°に渡って、所定の角度単位、好ましくは、０．１°毎に取った時、－５．２９～－５．０５（－５．２９≦Ｓ≦－５．０５）であることが好ましく、－５．２９～－５．１１（－５．２９≦Ｓ≦－５．１１）であることがより好ましい。
　なお、図１０に示す例では、定量値（標本標準偏差）Ｓは、－５．０５であり、また、図９（Ｂ）のヒストグラムには平均値－３．２以上に周波数ピーク値の島が存在するので、図８に示すランダムメッシュパターン２５ａは、本発明のランダムメッシュパターンであることが分かる。なお、このランダムメッシュパターン２５ａは、後述する実施例の本発明例のメッシュパターン１３である。
　図１１（Ａ）に示すランダムメッシュパターンは、図１１（Ｂ）示すＦＦＴスペクトル強度の１つの角度方向のばらつきの、角度方向のばらつきの定量値（標本標準偏差）Ｓは、－５．０７であり、図１１（Ｃ）示すヒストグラムでは、平均値が－３．２３であり、この平均値以上に周波数ピーク値の島が存在するので、本発明のランダムメッシュパターンであることが分かる。なお、このランダムメッシュパターンは、後述する実施例における本発明例のメッシュパターン２４である。
　なお、図１１（Ｄ）に示すランダムメッシュパターンは、図１１（Ｆ）示すヒストグラムでは、平均値が－３．５９であり、この平均値以上に周波数ピーク値の島が存在するが、図１１（Ｅ）示すＦＦＴスペクトル強度の１つの角度方向のばらつきの、角度方向のばらつきの定量値（標本標準偏差）Ｓは、－４．９０であり、本発明の好ましい範囲から外れている。なお、このランダムメッシュパターンは、後述する実施例における比較例のメッシュパターン２７である。
　図１２（Ａ）に示すランダムメッシュパターンは、図１２（Ｂ）示すＦＦＴスペクトル強度の１つの角度方向のばらつきの、角度方向のばらつきの定量値（標本標準偏差）Ｓは、－５．１８であり、図１２（Ｃ）示すヒストグラムでは、平均値が－３．５７であり、この平均値以上に周波数ピーク値の島が存在するので、本発明のランダムメッシュパターンであることが分かる。なお、このランダムメッシュパターンは、後述する実施例における本発明例のメッシュパターン２０である。
　なお、図１２（Ｄ）に示すランダムメッシュパターンは、図１２（Ｅ）示すＦＦＴスペクトル強度の１つの角度方向のばらつきの、角度方向のばらつきの定量値（標本標準偏差）Ｓは、－５．１７であり、図１２（Ｆ）示すヒストグラムでは、平均値が－３．１１であり、この平均値以上に周波数ピーク値の島が存在するので、本発明のランダムメッシュパターンであることが分かる。なお、このランダムメッシュパターンは、後述する実施例における本発明例のメッシュパターン１４である。
　上述した本発明の第１、第２、第３及び第４の実施形態の導電性フィルム１０、１１、１１Ａ及び１１Ｂは、例えば、図１３に模式的に示す表示ユニット３０（ディスプレイ）のタッチパネル（４４：図１４参照）に適用されるが、ディスプレイの解像度及び画素構造によらず、モアレ視認性に優れたランダムメッシュパターン２５を持つものである。
　なお、本発明では、モアレ視認性に優れたランダムメッシュパターン（ランダムメッシュパターン）とは、少なくとも１視点において、ディスプレイの複数の副画素の各色の光を単独で点灯した時にいずれにおいても、ディスプレイの解像度及び画素構造によらず、当該色のＢＭパターンに対して合成配線パターンとしてランダムメッシュパターン２５とした時にモアレが人間の視覚に知覚されない１又は２以上の１群のランダムメッシュパターンを言う。なお、本発明では、ディスプレイの解像度及び画素構造によらず、モアレの視認性に優れた、２以上の１群のランダムメッシュパターンにおいても、モアレが最も知覚されないランダムメッシュパターンから知覚されにくいランダムメッシュパターンまで序列を付けることができ、最もモアレが知覚されない１つのランダムメッシュパターンを決定し、評価することもできる。
　本発明の導電性フィルムは、基本的に以上のように構成される。
　図１３は、本発明の導電性フィルムが適用される表示ユニットの一部の画素配列パターンの一例を模式的に表す概略説明図である。
　図１３にその一部を示すように、表示ユニット３０には、複数の画素３２がマトリクス状に配列されて所定の画素配列パターンが構成されている。１つの画素３２は、３つの副画素（赤色副画素３２ｒ、緑色副画素３２ｇ及び青色副画素３２ｂ）が水平方向に配列されて構成されている。１つの副画素は垂直方向に縦長とされた長方形状とされている。画素３２の水平方向の配列ピッチ（水平画素ピッチＰｈ）と画素３２の垂直方向の配列ピッチ（垂直画素ピッチＰｖ）は略同じとされている。つまり、１つの画素３２とこの１つの画素３２を囲むブラックマトリクス（ＢＭ）３４（パターン材）にて構成される形状（網掛けにて示す領域３６を参照）は正方形となっている。また、１つの画素３２のアスペクト比は１ではなく、水平方向（横）の長さ＞垂直方向（縦）の長さとなっている。
　図１３から明らかなように、複数の画素３２の各々の副画素３２ｒ、３２ｇ及び３２ｂによって構成される画素配列パターンは、これらの副画素３２ｒ、３２ｇ及び３２ｂをそれぞれ囲むＢＭ３４のＢＭパターン３８によって規定され、表示ユニット３０と導電性フィルム１０、１１、１１Ａ又は１１Ｂとを重畳した時に発生するモアレは、表示ユニット３０のＢＭ３４のＢＭパターン３８と導電性フィルム１０、１１、１１Ａ又は１１Ｂの配線パターン２４との干渉によって発生するので、厳密には、ＢＭパターン３８は、画素配列パターンの反転パターンであるが、ここでは、同様のパターンを表すものとして扱う。
　上記したＢＭ３４によって構成されるＢＭパターン３８を有する表示ユニット３０の表示パネル上に、例えば、導電性フィルム１０、１１、１１Ａ又は１１Ｂを配置する場合、導電性フィルム１０、１１、１１Ａ又は１１Ｂの配線パターン２４（又は配線パターン２４ａと２４ｂの合成配線パターン）は、配線パターン２４ａと２４ｂとの少なくとも一方がランダムメッシュパターン２５であり、ＢＭ（画素配列）パターン３８に対してモアレ視認性の点で最適化されているので、画素３２の配列周期と、導電性フィルム１０、１１、１１Ａ又は１１Ｂの金属細線１４の配線配列との間における空間周波数の干渉が弱まり、モアレの発生が抑制され、モアレの視認性に優れたものとなる。以下では、導電性フィルム１０を代表例として説明するが、導電性フィルム１１、１１Ａ又は１１Ｂでも同様である。
　なお、図１３に示す表示ユニット３０は、液晶パネル、プラズマパネル、有機ＥＬパネル、無機ＥＬパネル等の表示パネルで構成されても良く、その発光強度は、解像度に応じて異なるものであって良い。
　本発明に適用可能なディスプレイのＢＭパターン及びその発光強度は、特に制限的ではなく、従来公知のいかなるディスプレイのＢＭパターン及びその発光強度であっても良いが、例えば、図１５（Ａ）及び（Ｂ）、並びに図１６（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）に示すような、ＯＬＥＤ等のＲＧＢの各色の周期や強度が異なるものであっても良いし、図１６（Ａ）及び（Ｂ）に示すような同一形状のＲＧＢ副画素からなり、副画素内の強度ばらつきが大きいものや、副画素内の強度ばらつきが小さく、最も強度の高いＧ副画素（チャネル）だけ考慮すればよいものであっても良いし、特に、スマートフォンやタブレット等のような強度の高いディスプレイ等であっても良い。
　図１５（Ａ）は、それぞれ本発明の導電性フィルムが適用される表示ユニットの画素配列パターンの一例を模式的に表す概略説明図及びその一部の部分拡大図である。
　図１５（Ａ）に示すように、表示ユニット３０ａには、複数の画素３２がマトリクス状に配列されて所定の画素配列パターンが構成されている。図１５（Ａ）に示すように、１つの画素３２は、３つの副画素（赤色副画素３２ｒ、緑色副画素３２ｇ及び青色副画素３２ｂ）が水平方向に配列されて構成されている。
　本発明においては、表示ユニットの画素配列パターンが、１画素内の複数、図示例では３つの副画素の内の少なくとも２つの副画素が異なる形状を有しているか、１画素内の複数（３つ）の副画素の内の少なくとも２つについて各副画素の配列によって形成される副画素配列パターンの周期が異なるか、１画素内の複数（３つ）の副画素が１つの方向に一列に並んでいないか、３つの条件のいずれかを満たす必要がある。なお、本発明においては、副画素配列パターンの周期、すなわち、副画素（カラーフィルタ）の周期には、一画素内の副画素の周期も含まれる。
　図１５（Ｂ）示す例においては、副画素３２ｒは、図中ｙ（垂直）方向に縦長とされた菱形形状とされて、正方形の画素３２の図中左側に配置されており、副画素３２ｇは、円形状とされて、画素３２の図中右下側に配置されており、副画素３２ｂは、矩形状（正方形状）とされて、画素３２の図中右上側に配置されている。図１５（Ａ）及び（Ｂ）に示す表示時ユニット３０は、その画素配列パターン３８が１画素内の３つの副画素３２ｒ、３２ｇ及び３２ｂの形が異なり、強度が異なる場合に相当し、かつ１画素内の複数（３つ）の副画素が１つの方向に一列をなさない場合に相当する。
　図示例では、画素３２の水平方向の配列ピッチ（水平画素ピッチＰｈ）と画素３２の垂直方向の配列ピッチ（垂直画素ピッチＰｖ）は略同じとされており、画素ピッチＰｄで表すことができる。即ち、１つの画素３２の３つの副画素３２ｒ、３２ｇ及び３２ｂからなる領域と、これらの副画素３２ｒ、３２ｇ及び３２ｂを囲むブラックマトリクス（ＢＭ）３４（パターン材）にて構成される画素域領域３６は正方形となっている。なお、画素域領域３６は、１つの画素３２に対応するものであるので、以下では、画素域領域３６を画素ともいう。
　なお、画素ピッチＰｄ（水平及び垂直画素ピッチＰｈ、Ｐｖ）は、表示ユニット３０の解像度に応じたピッチであれば、如何なるピッチでも良く、例えば、８４μｍ～２６４μｍの範囲内のピッチを挙げることができる。
　なお、図示例では、１つの画素内の副画素３２ｒ、３２ｇ、３２ｂの形状は、それぞれ菱形、円形、正方形であるが、本発明はこれに限定されず、図１６（Ａ）に示すような同じ形の３つの副画素が図中水平方向に一列に並んだ１つの画素３２が図中水平方向及び垂直方向に繰り返され、副画素（カラーフィルタ）の周期及び強度がＲＧＢの３つの副画素で全て同じになる画素配列パターン３８を持つものであっても良い。
　又は、図１６（Ａ）～（Ｃ）に示すピンタイル構造と呼ばれる開口形状の副画素（カラーフィルタ）３２ｒ、３２ｇ、３２ｂであっても良く、これらの副画素３２ｒ、３２ｇ、３２ｂからなる画素配列パターンを持つものであっても良い。
　図１６（Ａ）に示すように、画素３２の３つの副画素３２ｒ、３２ｇ、３２ｂの形が異なって（形状は長方形であるが、大きさが異なって）いても良い。この場合は、強度が異なる場合に相当する。なお、この場合には、副画素の周期は同一であると言える。
　即ち、図１３（Ａ）に示す例では、このような形が異なる３つの副画素３２ｒ、３２ｇ、３２ｂを１画素として画素配列パターン３８ａが形成され、３つの副画素３２ｒ、３２ｇ、３２ｂのそれぞれの副画素配列パターンの周期は、いずれも画素配列パターン３８ａの周期と同じになる。
　なお、本発明においては、副画素の形が異なるとは、副画素の形状が異なる場合のみならず、副画素の大きさが異なる場合も含まれるものと定義される。
　また、図１６（Ｂ）に示すように、３つの副画素３２ｒ、３２ｇ、３２ｂの形が同じであっても、副画素３２ｇと、副画素３２ｒ、３２ｂとの繰り返し周期（副画素配列パターンの周期）は異なっていても良い。この例では、副画素３２ｇの周期は、副画素３２ｒ、３２ｂの周期の半分である。なお、この場合には、副画素の強度は同一であると言える。
　即ち、図１６（Ｂ）に示す例では、２つの副画素３２ｇと、副画素３２ｒ、３２ｂとの４つの副画素を１画素３２として画素配列パターン３８ｂが形成され、副画素３２ｒ、３２ｂのそれぞれの副画素配列パターンの周期は、いずれも画素配列パターン３８ａの周期と同じになるが、副画素３２ｇの副画素配列パターンの周期は、画素配列パターン３８ａの周期の半分となる。
　さらに、図１６（Ｃ）に示すように、副画素３２ｇと、副画素３２ｒ、３２ｂとは、繰り返し周期（副画素パターンの周期）も、形（形状も大きさも）も異なっていても良い。この場合は、副画素の周期も、強度も異なる場合に相当する。
　即ち、図１６（Ｃ）に示す例では、図１６（Ｃ）に示す例と同様に、２つの副画素３２ｇと、副画素３２ｒ、３２ｂとの４つの副画素を１画素３２として画素配列パターン３８ｃが形成され、副画素３２ｒ、３２ｂのそれぞれの副画素配列パターンの周期は、いずれも画素配列パターン３８ａの周期と同じになるが、副画素３２ｇの副画素配列パターンの周期は、画素配列パターン３８ａの周期の半分となる。
　また、図１７（Ａ）は、ＧＢＲ副画素内の強度ばらつきが大きい同一形状のＲＧＢ副画素からなる画素のＢＭ構造を示し、図１７（Ｂ）は、ＧＢＲ副画素内の強度ばらつきが小さい同一形状のＲＧＢ副画素からなる画素のＢＭ構造を示し、最も強度の高いＧ副画素だけ考慮すれば導電性フィルムの配線パターンの設計が可能なものである。
　なお、本発明に用いることのできるディスプレイの２×２画素のＢＭ１～ＢＭ９の解像度及び形状を図１８（Ａ）～（Ｉ）に示す。図１８（Ａ）～（Ｉ）に示す各ＢＭ１～ＢＭ９は、それぞれ、解像度、及び形状のいずれかが異なるものである。図１８（Ａ）～（Ｉ）においては、Ｇチャネル（Ｇ副画素）のみが示され、Ｂチャネル（Ｂ副画素）及びＲチャネル（Ｒ副画素）は示されていないが、その解像度及び形状は同一であるのは勿論である。
　図１８（Ａ）は、解像度が９８ｄｐｉで、短冊形状の４つのＧ副画素を示し、後述する実施例において用いたＢＭＮｏ．１のＢＭ１に相当する。
　図１８（Ｂ）は、解像度が１５１ｄｐｉで、図中少し湾曲し、下端が一部欠けた平板状の４つのＧ副画素を示し、後述する実施例において用いたＢＭＮｏ．２のＢＭ２に相当する。
　図１８（Ｃ）は、解像度が１５１ｄｐｉで、図中少し湾曲する平板形状の左側によって配置された４つのＧ副画素を示し、後述する実施例において用いたＢＭＮｏ．３のＢＭ３に相当する。
　図１８（Ｄ）は、解像度が１５１ｄｐｉで、図中横方向に傾斜した細い帯形状が複数並ぶ帯状体が上下逆向きに傾斜した４つのＧ副画素を示し、後述する実施例において用いたＢＭＮｏ．４のＢＭ４に相当する。
　図１８（Ｅ）は、解像度が１５１ｄｐｉで、図中上下端が一部欠けた平板状の対称に配置された４つのＧ副画素を示し、後述する実施例において用いたＢＭＮｏ．５のＢＭ５に相当する。
　図１８（Ｆ）は、解像度が２１８ｄｐｉで、図中縦方向に細長い平板状の左側によって配置された４つのＧ副画素を示し、基後述する実施例において用いたＢＭＮｏ．６のＢＭ６に相当する。
　図１８（Ｇ）は、解像度が２１８ｄｐｉで、図中縦方向に長い平板状の右側によって配置された４つのＧ副画素を示し、後述する実施例において用いたＢＭＮｏ．７のＢＭ７に相当する。
　図１８（Ｈ）は、解像度が２４５ｄｐｉで、図中下端が一部欠けた平板状の４つのＧ副画素を示し、後述する実施例において用いたＢＭＮｏ．８のＢＭ８に相当する。
　図１８（Ｉ）は、解像度が２６５ｄｐｉで、図中横方向にはちされた平板状の４つのＧ副画素を示し、後述する実施例において用いたＢＭＮｏ．９のＢＭ９に相当する。
　上述したＲＧＢの副画素配列パターンを定義するＢＭ３４によって構成されるＢＭパターン３８を有する表示ユニット３０の表示パネル上に、例えば、導電性フィルム１０、１１、１１Ａ又は１１Ｂを配置する場合、その配線パターン２４は、ＲＧＢの副画素配列パターンを含むＢＭ（画素配列）パターン３８の解像度及び形状よらず、モアレ視認性の点で優れたランダムメッシュパターンであるので、画素３２の配列周期と、導電性フィルム１０、１１、１１Ａ又は１１Ｂの金属細線１４の配線配列との間における空間周波数の干渉が殆どなく、モアレの発生が抑制されることになる。
　次に、本発明の導電性フィルムを組み込んだ表示装置について、図１４を参照しながら説明する。図１４では、表示装置４０として、本発明の第１の実施の形態に係る導電性フィルム１０を組み込んだ投影型静電容量方式のタッチパネルを代表例に挙げて説明するが、本発明はこれに限定されないことは言うまでもない。
　図１４に示すように、表示装置４０は、カラー画像及び／又はモノクロ画像を表示可能な表示ユニット３０（図１３参照）と、入力面４２（矢印Ｚ１方向側）からの接触位置を検出するタッチパネル４４と、表示ユニット３０及びタッチパネル４４を収容する筐体４６とを有する。筐体４６の一面（矢印Ｚ１方向側）に設けられた大きな開口部を介して、ユーザは、タッチパネル４４にアクセス可能である。
　タッチパネル４４は、上記した導電性フィルム１０（図１及び図２参照）の他、導電性フィルム１０の一面（矢印Ｚ１方向側）に積層されたカバー部材４８と、ケーブル５０を介して導電性フィルム１０に電気的に接続されたフレキシブル基板５２と、フレキシブル基板５２上に配置された検出制御部５４とを備える。
　表示ユニット３０の一面（矢印Ｚ１方向側）には、接着層５６を介して、導電性フィルム１０が接着されている。導電性フィルム１０は、他方の主面側（第２配線部１６ｂ側）を表示ユニット３０に対向させて、表示画面上に配置されている。
　カバー部材４８は、導電性フィルム１０の一面を被覆することで、入力面４２としての機能を発揮する。また、接触体５８（例えば、指やスタイラスペン）による直接的な接触を防止することで、擦り傷の発生や、塵埃の付着等を抑止可能であり、導電性フィルム１０の導電性を安定させることができる。
　カバー部材４８の材質は、例えば、ガラス、樹脂フィルムであってもよい。カバー部材４８の一面（矢印Ｚ２方向側）を酸化珪素等でコートした状態で、導電性フィルム１０の一面（矢印Ｚ１方向側）に密着させてもよい。また、擦れ等による損傷を防止するため、導電性フィルム１０及びカバー部材４８を貼り合わせて構成してもよい。
　フレキシブル基板５２は、可撓性を備える電子基板である。本図示例では、筐体４６の側面内壁に固定されているが、配設位置は種々変更してもよい。検出制御部５４は、導体である接触体５８を入力面４２に接触する（又は近づける）際、接触体５８と導電性フィルム１０との間での静電容量の変化を捉えて、その接触位置（又は近接位置）を検出する電子回路を構成する。
　本発明の導電性フィルムが適用される表示装置は、基本的に以上のように構成される。
　次に、本発明において、表示装置の画素配列（ＢＭ）パターンの解像度及び画素（カ副画素またはカラーフィルタ）構造によらず、モアレ視認性に優れた導電性フィルムの配線パターンの評価方法及び決定方法、並びに導電性フィルムの評価方法の手順について説明する。即ち、本発明の導電性フィルムにおいて、表示装置の所定の画素配列（ＢＭ）パターンによらず、モアレが人間の視覚に知覚されないランダムメッシュ状配線パターンを評価して決定し、それによって導電性フィルムを評価する手順について説明する。
　図２１は、本発明の導電性フィルムの評価方法の一例を示すフローチャートである。
　本発明の導電性フィルムの配線パターンの評価方法では、まず始めに、ステップＳ１０において、導電性フィルムのランダムメッシュ状配線パターン（ランダムメッシュパターン）を作製する。
　先ず、上述した図３（Ａ）に示すように、１つの平面領域１００内において、菱形などの閉区間の重心となるシード点ｐを、例えば乱数や標準偏差等を用いて任意の間隔で無作為に選択された複数の位置に発生させる。
　次に、図３（Ｂ）に示すように、平面領域１００内に配置されたシード点ｐの位置に開口部２２となる菱形パターン１０４を畳み込んで菱形パターン画像１０８を作製する。
　次に、図３（Ｂ）に示す菱形パターン画像１０８の境界領域１０６を細線化するために、細線化処理、例えばmathworks社製 matlabの細線化処理を実施して、図２に示すようなランダムメッシュパターン２５を作製する。
　ここで、画像端は、閉区間が形成されないため、中央部を切り出す。
なお、後述する実施例では、中央部を切り出して、５５８９ｐｉｘ×５５８９ｐｉｘを用いた。
　こうして、ステップＳ１０で作製されたランダムメッシュパターン２５のパターン定量値を算出する。
　まず、ステップＳ１２において、ランダムメッシュパターンの定量化のために、ステップＳ１０で作製されたランダムメッシュパターン２５の透過率データを作成する。
　次に、ステップＳ１４において、ステップＳ１２で作成したランダムメッシュパターンの透過率画像データに対して、２次元高速フーリエ変換（２ＤＦＦＴ（基底２））を行い、透過率画像データの定量化を行って、スペクトルピークの空間周波数、及びスペクトル強度を算出する。この際、計算する全ての画像のスペクトル強度は、平均値、及び画像サイズ(幅(width)×高さ(height))で規格化しておくことが好ましい。なお、規格化後、算出した平均値は使用しないのが良い。
　次に、ステップＳ１６において、ステップＳ１４で算出されたスペクトル強度から、規定値以上のスペクトル強度を抽出する。ここで、ステップＳ１４で算出した定量化に定量化に必要なスペクトル強度は、強度の１０倍の対数が－４．０以上、即ちｌｏｇ１０（強度)≦－４．０とする。その理由は、－４．０より小さい微弱な信号はノイズであり、後に算出する定量値の誤差要因となるため、無視する方が良いからである。
　次に、ステップＳ１８において、ステップＳ１６で抽出されたスペクトル強度（－４．０以上）を持つスペクトルについて、図１９に示すように、角度θを算出する。角度θは、小数第２位（小数点以下２桁）まで算出し、小数第２位に丸め処理を施し、小数第１位（小数点以下１桁）に丸める。
　ここで、角度θは、θ２を小数第２位まで求めた角度であり、θ１を小数第１位まで求めた角度であるとすると、θ１は、θ１＝round（１０θ２）／１０として、最も近い整数への丸めた後に、小数第１位に戻す。
　なお、丸め関数roundは、matlabの関数で表される。ここで、Y = round(X)は、Xの要素を最も近い整数に丸める。小数部が、０．５の正の要素は、最も近い正の整数に丸められる。小数部が、－０．５の負の要素は、最も近くの負の整数に四捨五入される。Xが複素数の場合は、実数部と虚数部を個々に丸めるものである。なお、丸め関数roundは、http://jp.mathworks.com/help/matlab/ref/round.htmlを参照する。
　次に、ステップＳ２０において、ステップＳ１８で算出した角度θを０．１°刻みに振りながら、０～３６０度の全ての角度刻み点において、角度毎にスペクトル強度の最大値と最小値との差（強度差＝最大値－最小値）を算出し、その強度差の平均値を算出する。
こうして算出された強度差（最大値－最小値）のヒストグラムを図２０（Ｂ）に示す。
　同時に、ステップＳ２２において、ステップＳ１８で算出した角度θを０．１°刻みに振りながら、０～３６０度の全ての角度刻み点において、１つの角度方向のばらつきの、角度方向のばらつきを表わす標本標準偏差をパターンの定量値として算出する。
　算出された角度毎のスペクトル強度の標準偏差を図２０（Ａ）に示す。こうして、パターン定量値として、図２０（Ａ）に示す角度毎のスペクトル強度の標準偏差から、角度毎のスペクトル強度の標準偏差の角度ばらつきを表わす標本標準偏差を求める。
　最後に、ステップＳ２４において、ステップＳ２０で得られた図２０（Ｂ）に示す強度差（最大値－最小値）のヒストグラムから、強度差の平均値以上にピーク値の島が存在するか否か、及びステップＳ２０で得られた図２０（Ａ）から求められたパターン定量値（標本標準偏差）の大きさで、対象とするランダムメッシュパターンを評価する。
　ここで、強度差の平均値以上にピーク値の島が存在し、パターン定量値（標本標準偏差）が所定数値範囲、例えば－５．２９～－５．０５の範囲内に入っているランダムメッシュパターンを、本発明の導電性フィルムの配線パターンとして決定し、評価する。
　こうして評価された図２に示すランダムメッシュパターン２５を、本発明の導電性フィルムの配線パターンとして決定し評価することができる。
　こうして、本発明の導電性フィルムの配線パターンの決定方法は、終了し、評価されたランダムメッシュパターンを本発明の導電性フィルムの配線パターンとして評価することができる。
　その結果、表示装置の表示ユニットのＢＭパターンに重畳しても、その解像度及び画素構造に依存せず、異なる解像度、異なる画素構造の表示装置であっても、モアレの視認性に優れたランダムメッシュパターンを持つ本発明の導電性フィルムを作製することができる。
　以上に、本発明に係る導電性フィルム、それを備える表示装置及び導電性フィルムのパターンの評価方法について種々の実施形態及び実施例を挙げて説明したが、本発明は、上述の実施形態及び実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しないかぎり、種々の改良や設計の変更を行っても良いことはもちろんである。
（実験例）
　以下に、本発明を実験例に基づいて具体的に説明する。
　本実施例においては、図２１に示す本発明の導電性フィルムの評価方法のフローに従って、上述のようにして、以下のように実験を行った。
　図２１に示す導電性フィルムの評価方法のフローに従って、４６種類のメッシュパターン１～４６を作製し、作製された４６種のメッシュパターンのスペクトル異方性(指向性)の定量化を行った。作製された４６種類のメッシュパターン１～４６を表１に示す。
　表１に示すメッシュパターン１～４６の概要は、以下の通りであった。
　メッシュパターン１～９は、ボロノイ多角形によるボロノイランダムパターンであり、それぞれ平均ピッチが２００μｍ～３００μｍで、線幅が２μｍ～６μｍのものであった。
　メッシュパターン１０～１１は、開口形状が六角形であり、一辺の長さが１００μｍ～２００μｍで、線幅が２μｍであり、開口重心がばらついていない規則パターンであった。
　メッシュパターン１２～２１は、開口形状が菱形であり、その斜辺の角度が２０°～４０°で、斜辺の長さが５０μｍ～２００μｍで、線幅がいずれも２μｍであり、開口重心が平均値で５％ばらついているランダムパターンであった。
　メッシュパターン２２～２３は、開口形状が六角形であり、一辺の長さが１００μｍ～２００μｍで、線幅が２μｍであり、開口重心が平均値で５％ばらついているランダムパターンであった。
　メッシュパターン２４～２５は、開口形状が平行四辺形であり、底辺に対する斜辺角度３０°で、一辺（底辺）の長さが１００μｍ～２００μｍで、線幅が２μｍであり、開口重心が平均値で５％ばらついているランダムパターンであった。
　メッシュパターン２６～２９は、開口形状が正方形であり、一辺の長さが５０μｍ～２００μｍで、線幅がいずれも２μｍであり、開口重心が平均値で５％ばらついているランダムパターンであった。
　メッシュパターン３０～４０は、開口形状が菱形であり、その斜辺の角度が２０°～４０°で、斜辺の長さが５０μｍ～２００μｍで、線幅がいずれも２μｍであり、開口重心がばらついていない規則パターンであった。
　メッシュパターン４１～４２は、開口形状が平行四辺形であり、底辺に対する斜辺角度３０°で、一辺（底辺）の長さが１００μｍ～２００μｍで、線幅が２μｍであり、開口重心がばらついていない規則パターンであった。
　メッシュパターン４３～４６は、開口形状が正方形であり、一辺の長さが５０μｍ～２００μｍで、線幅がいずれも２μｍであり、開口重心がばらついていない規則パターンであった。
　続いて、画質によい数値範囲を明確にする必要があるので、以下の点をシミュレーションで確認した。
　表２に異なる解像度、図１８（Ａ）～（Ｉ）に示す異なる開口形状（画素構造）を有し、透過部を１．０、遮蔽部を０としたＢＭ１～ＢＭ９の９種類のディスプレイＢＭ画像データを、１２７００ｄｐｉで作成した。ＢＭ１～ＢＭ９の９種類のディスプレイＢＭの解像度を表２に示す。
　ディスプレイＢＭと、パターン定量値で示されるメッシュパターンとの重畳画像を作成し、モアレを３名の研究員が以下の劣化尺度で官能評価した。
　５：劣化が認められない、４：劣化が認められるが気にならない、３：劣化が認められ、わずかに気になる、２：劣化が認められ、気になる、１：劣化が認められ非常に気になる。
　視認性が良いと判定される境界は３．３とした。
　メッシュパターンのパターン例４８種、ディスプレイＢＭ種類９種の組み合わせで表現されるモアレ評価結果を表３に示す。表３は、横軸にＢＭ種、縦軸にパターン例を取り、パターン定量値、及びそれぞれ劣化尺度による評価結果を記載している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 
　表３から明らかなように、パターン定量値が、－５．２９～－５．０５であるランダムメッシュパターン１２～２５は、ＢＭ１～ＢＭ９のいずれの場合も、劣化尺度が高く、ＢＭ１～ＢＭ９のＢＭの種類（解像度、画素構造）によらず、モアレの視認性に優れている本発明例、または極めて優れている本発明例であることが分かる。
　また、表３から明らかなように、パターン定量値が、－５．２９～－５．１１の範囲から外れたランダムメッシュパターン１～１１及び２６～４６は、ＢＭ１～ＢＭ９のいずれかで劣化尺度が３．０以下であるものを含み、ＢＭ１～ＢＭ９のＢＭの種類（解像度、画素構造）の少なくとも１つに、モアレの視認性に劣っているものを含む比較例であることが分かる。
　以上から、本発明の効果は明らかである。
１０、１１、１１Ａ、１１Ｂ　導電性フィルム
１２　透明支持体
１４　金属製の細線（金属細線）
１６、１６ａ、１６ｂ　配線部
１８、１８ａ、１８ｂ　接着層
２０、２０ａ、２０ｂ　保護層
２１　メッシュ状配線
２２　開口部
２３ａ　電極部
２３ｂ　ダミー電極部（非電極部）
２４　合成配線パターン
２４ａ　第１（上側）の配線パターン
２４ｂ　第２（下側）の配線パターン
２５、２５ａ　ランダムメッシュパターン
２６　ダミー電極部
２８、２８ａ、２８ｂ　配線層
３０　表示ユニット
３２、３２ｒ、３２ｇ、３２ｂ　画素
３４　ブラックマトリクス（ＢＭ）
３８　ＢＭパターン
４０　表示装置
４４　タッチパネル

Claims (12)

  1. 　表示装置の表示ユニット上に設置される導電性フィルムであって、
    　透明基体と、
    　該透明基体の少なくとも一方の面に形成され、複数の金属細線からなる導電部と、
    を有し、
    　前記導電部は、前記複数の金属細線によりメッシュ状に形成された、複数の開口部を配列した配線パターンを有し、
    　前記配線パターンは、その全画像の透過率画像データを２次元フーリエ変換して得られた前記全画像のスペクトルピークの規格化スペクトル強度を求め、規定値以上の前記規格化スペクトル強度を持つ前記スペクトルを抽出し、該抽出されたスペクトル各々について、２次元フーリエ座標における原点と前記抽出されたスペクトルの座標とを結んだ直線と前記２次元フーリエ座標の１つの座標軸とのなす角度を特定角度単位で算出し、前記抽出されたスペクトルについて、前記角度を前記特定角度単位刻みで振りながら前記抽出されたスペクトルの全ての点において、各角度毎の前記規格化スペクトル強度の最大値と最小値とから得られる強度差を算出し、前記全ての点の前記強度差のヒストグラムを取った時に前記強度差の平均値以上における前記ヒストグラムの度数を表わす柱の１以上の塊が他の塊から孤立して存在し、かつ前記規格化スペクトル強度の１つの角度におけるばらつきを表わす第１標本標準偏差の全角度方向のばらつきを表わす第２標本標準偏差を前記配線パターンの定量値として算出した時、前記定量値が特定の数値範囲に収まることを特徴とする導電性フィルム。
  2. 　前記規格化スペクトル強度は、前記全画像のスペクトルのスペクトル強度の平均値及び画像サイズで規格化された規格値であり、
    　前記規定値は、前記規格化スペクトル強度値の対数値を１００００倍した値として、－４．０であり、
    　前記特定角度単位は、１度であり、
    　前記強度差は、１つの角度において、前記規格化スペクトル強度の最大値と最小値の差の値の対数値の１００００倍であり、
    　前記ヒストグラムの横軸となる前記強度差の範囲は、－４．０～０であり、そのステップ幅は、０．１であり、
    　前記特定の数値範囲は、－５．２９～－５．０５である請求項１に記載の導電性フィルム。
  3. 　前記角度は、小数点以下第２位まで求め、小数点以下第２位に対して丸め処理を行い、少数点第１位まで求められる請求項２に記載の導電性フィルム。
  4. 　前記配線パターンは、四角形形状の平面上に規則的に配置された複数のドッドを発生させ、配置されたドッドを、乱数を用いて３６０度の任意の方向に移動してランダム性を付与し、ランダムに配置されたドッドを中心とする多角形を発生させ、多角形間に存在する領域を細線化することにより形成される請求項１～３のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
  5. 　前記配線パターンは、前記表示ユニットの画素配列パターンに重畳されるものである請求項１～４のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
  6. 　前記画素配列パターンは、前記ブラックマトリックスパターンである請求項５に記載の導電性フィルム。
  7. 　表示ユニットと、
    　この表示ユニットの上に設置される、請求項１～６のいずれか１項に記載の導電性フィルムと、を備えることを特徴とする表示装置。
  8. 　表示装置の表示ユニット上に設置され、複数の金属細線によりメッシュ状に形成された、複数の開口部を配列した配線パターンを有する導電性フィルムの評価方法であって、
    　前記導電性フィルムの全画像の前記配線パターンの透過率画像データを取得し、
    　前記全画像の透過率画像データを２次元フーリエ変換して得られた前記全画像のスペクトルピークの規格化スペクトル強度を求め、
    　規定値以上の前記規格化スペクトル強度を持つ前記スペクトルを抽出し、
    　該抽出されたスペクトル各々について、２次元フーリエ座標における原点と前記抽出されたスペクトルの座標とを結んだ直線と前記２次元フーリエ座標の１つの座標軸とのなす角度を特定角度単位で算出し、
    　前記抽出されたスペクトルについて、前記角度を前記特定角度単位刻みで振りながら前記抽出されたスペクトルの全ての点において、各角度毎の前記規格化スペクトル強度の最大値と最小値とから得られる強度差を算出し、かつ前記規格化スペクトル強度の１つの角度におけるばらつきを表わす第１標本標準偏差の全角度方向のばらつきを表わす第２標本標準偏差を前記配線パターンの定量値として算出し、
    　算出された前記全ての点の前記強度差のヒストグラムを取った時に前記強度差の平均値以上における前記ヒストグラムの度数を表わす柱の１以上の塊が他の塊から孤立して存在し、かつ、算出された前記定量値が特定の数値範囲に収まる配線パターンを評価することを特徴とする導電性フィルムの評価方法。
  9. 　前記規格化スペクトル強度は、前記全画像のスペクトルのスペクトル強度の平均値及び画像サイズで規格化された規格値であり、
    　前記規定値は、前記規格化スペクトル強度値の対数値を１００００倍した値として、－４．０であり、
    　前記特定角度単位は、１度であり、
    　前記強度差は、１つの角度において、前記規格化スペクトル強度の最大値と最小値の差の値の対数値の１００００倍であり、
    　前記ヒストグラムの横軸となる前記強度差の範囲は、－４．０～０であり、そのステップ幅は、０．１であり、
    　前記特定の数値範囲は、－５．２９～－５．０５である請求項８に記載の導電性フィルムの評価方法。
  10. 　前記角度は、小数点以下第２位まで求め、小数点以下第２位に対して丸め処理を行い、少数点第１位まで求められる請求項９に記載の導電性フィルムの評価方法。
  11. 　前記配線パターンは、四角形形状の平面上に規則的に配置された複数のドッドを発生させ、配置されたドッドを、乱数を用いて３６０度の任意の方向に移動してランダム性を付与し、ランダムに配置されたドッドを中心とする多角形を発生させ、多角形間に存在する領域を細線化することにより形成される請求項８～１０のいずれか１項に記載の導電性フィルムの評価方法。
  12. 　前記配線パターンは、前記表示ユニットの画素配列パターンに重畳されるものである請求項８～１１のいずれか１項に記載の導電性フィルムの評価方法。
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