WO2013164876A1 - 半導体パッケージ - Google Patents

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    • H01S5/183Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]

Definitions

  • the present invention relates to a semiconductor package for optical communication.
  • Conventional semiconductor packages for optical communication include a metal package and a CAN package.
  • the metal package is a combination of a multilayer ceramic substrate and a metal box.
  • a metal rod is passed through an opening hole portion of a metal plate, airtight and insulated with glass, and a cap with a window is welded.
  • Metal package has excellent high frequency characteristics because it uses a multilayer ceramic substrate.
  • the structure is complicated, the number of parts is large, and the cost is high.
  • it is a box shape, and components can be mounted only from the opening side (upper side) before the lid is closed.
  • the CAN package can be mounted on the top surface of the metal plate from any direction, and the metal plate and cap can be instantly joined by electric welding, resulting in excellent productivity.
  • the lead for supplying the signal is fixed to the metal plate by glass sealing, impedance matching is difficult to obtain and the high frequency characteristics are inferior.
  • the base part was inferior in heat dissipation compared to a metal CAN package.
  • the present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to obtain a semiconductor package capable of improving high-frequency characteristics, productivity, and heat dissipation.
  • a semiconductor package according to the present invention includes a multilayer ceramic substrate, a metal ring provided on the multilayer ceramic substrate, an optical semiconductor element provided in the metal ring on the multilayer ceramic substrate, and the metal A metal cap with a window that is bonded to a ring and covers the optical semiconductor element, and an external heat sink that is bonded to an outer surface of the metal cap.
  • FIG. 1 is a side view showing the inside of a cap of a semiconductor package according to Embodiment 1 of the present invention.
  • a metal ring 2 such as Fe or Ni is provided on a laminated ceramic substrate 1 made of alumina or the like.
  • An electrode 3 is provided in a metal ring 2 on the multilayer ceramic substrate 1. The electrode 3 is connected to a via 4 that penetrates the multilayer ceramic substrate 1.
  • An internal heat sink 5 is provided in the metal ring 2 on the multilayer ceramic substrate 1.
  • a surface emitting semiconductor laser 6 is provided on the internal heat sink 5. Instead of the surface emitting semiconductor laser 6, a surface light receiving element may be used. Wiring 7 is provided on the surface of the internal heat sink 5. The semiconductor laser 6 and the wiring 7 are connected by a wire.
  • the internal heat sink 5 is disposed on the multilayer ceramic substrate 1 so that a part of the electrode 3 and a part of the wiring 7 overlap. A part of the electrode 3 and a part of the wiring 7 are joined by a conductive joining member 8 such as solder or conductive resin. Since wire bonding is not performed in this way, high-frequency characteristics can be improved by reducing high-frequency transmission loss at the joint between the electrode 3 and the wiring 7. And since a wire bond process can be skipped, productivity improves.
  • a metal cap 10 with a glass window 9 is electrically welded to the metal ring 2.
  • the metal cap 10 is made of thin Fe or Fe—Ni alloy.
  • the metal ring 2 covers the internal heat sink 5 and the semiconductor laser 6.
  • An external heat sink 11 is joined to the outer surface of the metal cap 10.
  • the gap between the two is filled with adhesive 12 or solder.
  • the gap between the two may be filled with heat radiation grease or the like.
  • the external heat sink 11 extends to the lower surface of the multilayer ceramic substrate 1.
  • the external heat sink 11 has bonding planes 13 and 14 bonded to an external housing.
  • the joining plane 13 exists on the side surface of the external heat sink 11.
  • the joining plane 14 exists on the lower surface side of the multilayer ceramic substrate 1.
  • FIGS. 2 and 3 are cross-sectional views showing a state in which the external heat sink of the semiconductor package according to Embodiment 1 of the present invention is joined to an external housing.
  • the joining flat surface 13 that is the side surface of the external heat sink 11 is joined to the housing 15 of the customer.
  • FIG. 3 the joining flat surface 14 which is the lower surface of the external heat sink 11 is joined to the housing 15 of the customer.
  • the gap between the external heat sink 11 and the housing 15 is filled with heat radiation grease 16 or a soft heat radiation sheet. Heat generated by the semiconductor laser 6 is radiated to the external casing 15 through the internal heat sink 5, the multilayer ceramic substrate 1, the metal ring 2, the metal cap 10, and the external heat sink 11.
  • the high frequency characteristics can be improved by using the multilayer ceramic substrate 1. Then, the metal ring 2 and the metal cap 10 on the multilayer ceramic substrate 1 can be instantly welded. Since the multilayer ceramic substrate 1 before the metal cap 10 is welded has no obstacle such as a side wall, it is easy to mount the semiconductor laser 6 or the like. Therefore, productivity can be improved.
  • the metal cap 10 itself functions as a kind of heat sink, but the heat dissipation effect is low because the material is thin.
  • the external heat sink 11 is joined to the outer surface of the metal cap 10, heat dissipation can be improved.
  • FIG. 4 is a side view showing the inside of the cap of Modification 1 of the semiconductor package according to Embodiment 1 of the present invention.
  • a surface emitting semiconductor laser 6 or a surface light receiving light receiving element
  • the same effect as described above can be obtained.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state in which the external heat sink of Modification 2 of the semiconductor package according to Embodiment 1 of the present invention is joined to an external housing.
  • the joining flat surface 13 that is the side surface of the external heat sink 11 is joined to the housing 15 of the customer, the lower surface of the external heat sink 11 and the lower surface of the multilayer ceramic substrate 1 do not have to coincide. Therefore, in the second modification, heat dissipation is improved by making the external heat sink 11 larger without matching the two.
  • FIG. FIG. 6 is a side view showing the inside of the cap of the semiconductor package according to Embodiment 2 of the present invention.
  • the metal ring 2 is thicker than the electrode 3. Thereby, the heat dissipation from a product side surface can be improved.
  • the inner end of the metal ring 2 is in contact with the internal heat sink 5.
  • heat can be transmitted from the internal heat sink 5 to the metal ring 2 having high thermal conductivity without going through the multilayer ceramic substrate 1 having low thermal conductivity.
  • the heat dissipation can be further improved.
  • the outer end of the metal ring 2 is aligned with the outer end of the multilayer ceramic substrate 1.
  • heat dissipation can be further improved by expanding the area of the metal ring 2 to the same size as the multilayer ceramic substrate 1.
  • FIG. FIG. 7 is a side view showing the inside of the cap of the semiconductor package according to Embodiment 3 of the present invention.
  • an external heat sink 11 similar to that of the first embodiment is added to the configuration of the second embodiment.
  • the external heat sink 11 is joined to the outer surface of the metal cap 10 and the outer end of the metal ring 2. Thereby, heat dissipation can be further improved.
  • AlN having a higher thermal conductivity than alumina As the material of the multilayer ceramic substrate 1. Since AlN has a thermal conductivity eight times or more that of alumina, a semiconductor package having excellent heat dissipation can be obtained.
  • the glass window 9 may be changed to a lens.
  • the light emitted from the semiconductor laser 6 diffuses with distance but can be condensed by the lens, so that the light coupling efficiency can be increased.

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Abstract

 積層セラミック基板(1)上に金属製リング(2)が設けられている。積層セラミック基板(1)上において金属製リング(2)内に半導体レーザ(6)が設けられている。ガラス窓(9)付きの金属製キャップ(10)が金属製リング(2)に接合されている。金属製リング(2)は半導体レーザ(6)を覆う。金属製キャップ(10)の外側面に外部ヒートシンク(11)が接合されている。これらの構成により、高周波特性、生産性、及び放熱性を向上させることができる。

Description

半導体パッケージ
 本発明は、光通信用の半導体パッケージに関する。
 従来の光通信用の半導体パッケージにはメタルパッケージとCANパッケージがある。メタルパッケージは、積層セラミック基板と金属製の箱を組み合わせたものである。CANパッケージは、金属板の開口穴部に金属製の棒を通しガラスで気密と絶縁を行い、窓付きのキャップを溶接したものである。
 メタルパッケージは、積層セラミック基板を用いるため高周波特性に優れる。しかし、構造が複雑で部品点数が多くコストが高い。また、箱型形状でありフタをする前の開口部側(上側)からしか部品実装ができない。
 CANパッケージは、金属板の上面にあらゆる方向から部品が実装でき、また金属板とキャップを電気溶接により瞬時に接合でき生産性に優れる。しかし、信号を供給するリードが金属板に対しガラス封止で固定されているためインピーダンスマッチングが取り難く高周波特性に劣る。
 これに対して、積層セラミック基板の上面の凹部に光半導体素子を実装し、それを窓付きの金属製キャップで覆った半導体パッケージが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2003-163382号公報
 積層セラミック基板はアルミナセラミックであるために、ベース部が金属製のCANパッケージに比べて放熱性に劣っていた。
 本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、その目的は高周波特性、生産性、及び放熱性を向上させることができる半導体パッケージを得るものである。
 本発明に係る半導体パッケージは、積層セラミック基板と、前記積層セラミック基板上に設けられた金属製リングと、前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた光半導体素子と、前記金属製リングに接合され、前記光半導体素子を覆う窓付きの金属製キャップと、前記金属製キャップの外側面に接合された外部ヒートシンクとを備えることを特徴とする。
 本発明により、高周波特性、生産性、及び放熱性を向上させることができる。
本発明の実施の形態1に係る半導体パッケージのキャップ内部を示す側面図である。 本発明の実施の形態1に係る半導体パッケージの外部ヒートシンクが外部の筐体に接合された状態を示す断面図である。 本発明の実施の形態1に係る半導体パッケージの外部ヒートシンクが外部の筐体に接合された状態を示す断面図である。 本発明の実施の形態1に係る半導体パッケージの変形例1のキャップ内部を示す側面図である。 本発明の実施の形態1に係る半導体パッケージの変形例2の外部ヒートシンクが外部の筐体に接合された状態を示す断面図である。 本発明の実施の形態2に係る半導体パッケージのキャップ内部を示す側面図である。 本発明の実施の形態3に係る半導体パッケージのキャップ内部を示す側面図である。
 本発明の実施の形態に係る半導体パッケージについて図面を参照して説明する。同じ又は対応する構成要素には同じ符号を付し、説明の繰り返しを省略する場合がある。
実施の形態1.
 図1は、本発明の実施の形態1に係る半導体パッケージのキャップ内部を示す側面図である。アルミナなどからなる積層セラミック基板1上に、FeやNiなどの金属製リング2が設けられている。積層セラミック基板1上において金属製リング2内に電極3が設けられている。電極3は積層セラミック基板1を貫通するビア4に接続されている。積層セラミック基板1上において金属製リング2内に内部ヒートシンク5が設けられている。
 内部ヒートシンク5上に面発光型の半導体レーザ6が設けられている。なお、面発光型の半導体レーザ6の代わりに、面受光型の受光素子を用いてもよい。内部ヒートシンク5の表面に配線7が設けられている。半導体レーザ6と配線7はワイヤにより接続されている。
 内部ヒートシンク5は、電極3の一部と配線7の一部が重なるように積層セラミック基板1上に配置されている。そして、電極3の一部と配線7の一部は、はんだや導電性樹脂などの導電性接合部材8により接合されている。このようにワイヤボンドを行わないため、電極3と配線7の接合部分での高周波伝送ロスを低減して高周波特性を改善することができる。そして、ワイヤボンド工程を省略できるため、生産性が向上する。
 ガラス窓9付きの金属製キャップ10が金属製リング2に電気溶接されている。金属製キャップ10は薄いFe又はFe-Ni合金からなる。金属製リング2は内部ヒートシンク5及び半導体レーザ6を覆う。金属製キャップ10の外側面に外部ヒートシンク11が接合されている。両者の隙間を接着剤12又ははんだを用いて充填している。なお、金属製キャップ10と外部ヒートシンク11を溶接した後、両者の隙間を放熱グリス等で充填してもよい。
 外部ヒートシンク11は、積層セラミック基板1の下面まで延びている。外部ヒートシンク11は、外部の筐体に接合される接合平面13,14を有する。接合平面13は外部ヒートシンク11の側面に存在する。接合平面14は、積層セラミック基板1の下面側に存在する。
 図2及び図3は、本発明の実施の形態1に係る半導体パッケージの外部ヒートシンクが外部の筐体に接合された状態を示す断面図である。図2では、外部ヒートシンク11の側面である接合平面13が客先の筐体15に接合されている。図3では、外部ヒートシンク11の下面である接合平面14が客先の筐体15に接合されている。外部ヒートシンク11と筐体15の隙間は放熱グリス16又は柔らかい放熱シートで埋める。半導体レーザ6で発生した熱は、内部ヒートシンク5、積層セラミック基板1、金属製リング2、金属製キャップ10、及び外部ヒートシンク11を介して外部の筐体15に放熱される。
 本実施の形態では、積層セラミック基板1を用いることで高周波特性を向上させることができる。そして、積層セラミック基板1上の金属製リング2と金属製キャップ10は瞬時に電気溶接できる。金属製キャップ10を溶接する前の積層セラミック基板1は側壁等の障害物がないため、半導体レーザ6などを実装しやすい。従って、生産性を向上させることができる。
 また、金属製キャップ10自体も一種のヒートシンクとして機能するが、材質の厚みが薄いため放熱効果は低い。これに対して、本実施の形態では、金属製キャップ10の外側面に外部ヒートシンク11が接合されているため、放熱性を向上させることができる。
 図4は、本発明の実施の形態1に係る半導体パッケージの変形例1のキャップ内部を示す側面図である。変形例1では、面発光型の半導体レーザ6(又は面受光型の受光素子)が積層セラミック基板1上に直接に実装されている。このように内部ヒートシンク5を省略した場合でも上記と同様の効果を得ることができる。
 図5は、本発明の実施の形態1に係る半導体パッケージの変形例2の外部ヒートシンクが外部の筐体に接合された状態を示す断面図である。外部ヒートシンク11の側面である接合平面13が客先の筐体15に接合される場合には、外部ヒートシンク11の下面と積層セラミック基板1の下面が一致している必要は無い。そこで、変形例2では、両者を一致させず、外部ヒートシンク11を大きくすることで放熱性を向上させている。
実施の形態2.
 図6は、本発明の実施の形態2に係る半導体パッケージのキャップ内部を示す側面図である。本実施の形態では、金属製リング2の厚みが電極3よりも厚い。これにより、製品側面からの放熱性を向上させることができる。
 また、金属製リング2の内端部が内部ヒートシンク5に接触している。これにより、熱伝導率が低い積層セラミック基板1を介さずに内部ヒートシンク5から熱伝導率が高い金属製リング2に熱を伝えることができる。この結果、放熱性を更に向上させることができる。
 また、金属製リング2の外端部は積層セラミック基板1の外端部に合わされている。このように積層セラミック基板1と同じ大きさまで金属製リング2の面積を広げることで、放熱性を更に向上させることができる。
実施の形態3.
 図7は、本発明の実施の形態3に係る半導体パッケージのキャップ内部を示す側面図である。本実施の形態は、実施の形態2の構成に、実施の形態1と同様の外部ヒートシンク11を追加したものである。外部ヒートシンク11は、金属製キャップ10の外側面及び金属製リング2の外端部に接合されている。これにより、放熱性を更に向上させることができる。
 なお、実施の形態1~3において、積層セラミック基板1の材料として、アルミナよりも熱伝導率が高いAlNを用いることが好ましい。AlNはアルミナに比べて8倍以上の熱伝導率を有するため、放熱性に優れた半導体パッケージを得ることができる。
 また、光半導体素子が半導体レーザ6の場合には、ガラス窓9をレンズに変えてもよい。半導体レーザ6から放出された光は距離とともに拡散していくがレンズにより集光できるため、光の結合効率を高めることができる。
1 積層セラミック基板
2 金属製リング
3 電極
5 内部ヒートシンク
6 半導体レーザ(光半導体素子)
7 配線
9 ガラス窓(窓)
10 金属製キャップ
11 外部ヒートシンク
13,14 接合平面
15 筐体

Claims (8)

  1.  積層セラミック基板と、
     前記積層セラミック基板上に設けられた金属製リングと、
     前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた光半導体素子と、
     前記金属製リングに接合され、前記光半導体素子を覆う窓付きの金属製キャップと、
     前記金属製キャップの外側面に接合された外部ヒートシンクとを備えることを特徴とする半導体パッケージ。
  2.  前記外部ヒートシンクは、外部の筐体に接合される接合平面を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ。
  3.  前記外部ヒートシンクは、前記積層セラミック基板の下面まで延びており、
     前記接合平面は、前記積層セラミック基板の下面側に存在することを特徴とする請求項2に記載の半導体パッケージ。
  4.  積層セラミック基板と、
     前記積層セラミック基板上に設けられた金属製リングと、
     前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた電極と、
     前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられ、前記電極に接続された光半導体素子と、
     前記金属製リングに接合され、前記光半導体素子を覆う窓付きの金属製キャップとを備え、
     前記金属製リングの厚みは前記電極よりも厚いことを特徴とする半導体パッケージ。
  5.  前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた内部ヒートシンクを更に備え、
     前記光半導体素子は前記内部ヒートシンク上に設けられ、
     前記金属製リングの内端部は前記内部ヒートシンクに接触していることを特徴とする請求項4に記載の半導体パッケージ。
  6.  積層セラミック基板と、
     前記積層セラミック基板上に設けられた金属製リングと、
     前記積層セラミック基板上において前記金属製リング内に設けられた内部ヒートシンクと、
     前記内部ヒートシンク上に設けられた光半導体素子と、
     前記金属製リングに接合され、前記光半導体素子を覆う窓付きの金属製キャップとを備え、
     前記金属製リングの内端部は前記内部ヒートシンクに接触していることを特徴とする半導体パッケージ。
  7.  前記金属製リングの外端部は前記積層セラミック基板の外端部に合わされていることを特徴とする請求項4~6の何れか1項に記載の半導体パッケージ。
  8.  前記金属製リングの外端部に接合された外部ヒートシンクを更に備えることを特徴とする請求項4~7の何れか1項に記載の半導体パッケージ。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015145608A1 (ja) * 2014-03-26 2015-10-01 株式会社島津製作所 レーザ装置
JP2018041839A (ja) * 2016-09-07 2018-03-15 セイコーエプソン株式会社 発光素子モジュール、原子発振器、電子機器および移動体
WO2023248983A1 (ja) * 2022-06-20 2023-12-28 ローム株式会社 半導体発光ユニット
KR200498127Y1 (ko) * 2021-03-23 2024-07-04 에즈콘 코포레이션 티오캔형 패키징 레이저 다이오드 및 그 방열 베이스

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110612645B (zh) * 2017-05-17 2021-04-02 三菱电机株式会社 半导体封装件
CN108172633A (zh) * 2018-02-22 2018-06-15 河北中瓷电子科技有限公司 一种半导体器件的封装结构
CN108390255A (zh) * 2018-02-22 2018-08-10 青岛海信宽带多媒体技术有限公司 光学次模块及光模块
CN109586165B (zh) * 2019-01-25 2020-04-07 维沃移动通信有限公司 一种激光模组及电子设备
CN112072458A (zh) * 2019-06-11 2020-12-11 南昌欧菲生物识别技术有限公司 底座、光发射模组、3d识别装置及智能终端
FR3123733B1 (fr) * 2021-06-08 2024-06-21 St Microelectronics Grenoble 2 Boîtier optique de circuit integre

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04286179A (ja) * 1991-03-14 1992-10-12 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体レーザ用パッケージ
JPH10112520A (ja) * 1996-10-07 1998-04-28 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JP2003163382A (ja) 2001-11-29 2003-06-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 受光素子または発光素子用パッケージ
JP2005086094A (ja) * 2003-09-10 2005-03-31 Okano Electric Wire Co Ltd レーザダイオードモジュール
JP2005285234A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Pioneer Electronic Corp 半導体レーザ回動調整装置および光ピックアップ装置
JP2008235744A (ja) * 2007-03-23 2008-10-02 Nichia Corp 半導体レーザ装置
JP2011002477A (ja) * 2009-06-16 2011-01-06 Renesas Electronics Corp 光通信モジュール
JP2011018800A (ja) * 2009-07-09 2011-01-27 Sharp Corp 半導体レーザ装置
JP2011243600A (ja) * 2010-05-14 2011-12-01 Sanyo Electric Co Ltd 半導体レーザ装置および光装置
JP2011249447A (ja) * 2010-05-25 2011-12-08 Sumitomo Electric Device Innovations Inc 光モジュール

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3322432B2 (ja) 1992-03-11 2002-09-09 株式会社東芝 多層配線基板
US5506755A (en) 1992-03-11 1996-04-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Multi-layer substrate
JP2793568B2 (ja) 1996-06-25 1998-09-03 静岡日本電気株式会社 電子部品の放熱構造
JP2001196488A (ja) * 1999-10-26 2001-07-19 Nec Corp 電子部品装置及びその製造方法
US7201521B2 (en) * 2003-12-11 2007-04-10 Intel Corporation Method and apparatus for manufacturing a transistor-outline (TO) can having a ceramic header
JP4906496B2 (ja) 2006-12-25 2012-03-28 新光電気工業株式会社 半導体パッケージ
JP2009094179A (ja) 2007-10-05 2009-04-30 Sony Corp レーザモジュール及び光ピックアップ装置
US20110222567A1 (en) * 2010-03-09 2011-09-15 Avago Technologies Fiber Ip (Singapore) Pte. Ltd. optoelectronic transistor outline (to)-can header assembly having a configuration that improves heat dissipation and reduces thermal resistance
TWM423922U (en) * 2011-10-21 2012-03-01 Advanced Connection Tech Inc LED stand and LED heat dissipation device
JP5835470B2 (ja) * 2012-04-04 2015-12-24 三菱電機株式会社 半導体パッケージ

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04286179A (ja) * 1991-03-14 1992-10-12 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体レーザ用パッケージ
JPH10112520A (ja) * 1996-10-07 1998-04-28 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JP2003163382A (ja) 2001-11-29 2003-06-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 受光素子または発光素子用パッケージ
JP2005086094A (ja) * 2003-09-10 2005-03-31 Okano Electric Wire Co Ltd レーザダイオードモジュール
JP2005285234A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Pioneer Electronic Corp 半導体レーザ回動調整装置および光ピックアップ装置
JP2008235744A (ja) * 2007-03-23 2008-10-02 Nichia Corp 半導体レーザ装置
JP2011002477A (ja) * 2009-06-16 2011-01-06 Renesas Electronics Corp 光通信モジュール
JP2011018800A (ja) * 2009-07-09 2011-01-27 Sharp Corp 半導体レーザ装置
JP2011243600A (ja) * 2010-05-14 2011-12-01 Sanyo Electric Co Ltd 半導体レーザ装置および光装置
JP2011249447A (ja) * 2010-05-25 2011-12-08 Sumitomo Electric Device Innovations Inc 光モジュール

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2846423A4

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015145608A1 (ja) * 2014-03-26 2015-10-01 株式会社島津製作所 レーザ装置
JPWO2015145608A1 (ja) * 2014-03-26 2017-04-13 株式会社島津製作所 レーザ装置
JP2018041839A (ja) * 2016-09-07 2018-03-15 セイコーエプソン株式会社 発光素子モジュール、原子発振器、電子機器および移動体
KR200498127Y1 (ko) * 2021-03-23 2024-07-04 에즈콘 코포레이션 티오캔형 패키징 레이저 다이오드 및 그 방열 베이스
WO2023248983A1 (ja) * 2022-06-20 2023-12-28 ローム株式会社 半導体発光ユニット

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