WO2013161859A1 - 金属酸化物分散体、金属酸化物分散体含有重合性組成物、およびその重合物 - Google Patents

金属酸化物分散体、金属酸化物分散体含有重合性組成物、およびその重合物 Download PDF

Info

Publication number
WO2013161859A1
WO2013161859A1 PCT/JP2013/062022 JP2013062022W WO2013161859A1 WO 2013161859 A1 WO2013161859 A1 WO 2013161859A1 JP 2013062022 W JP2013062022 W JP 2013062022W WO 2013161859 A1 WO2013161859 A1 WO 2013161859A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
metal oxide
group
oxide dispersion
cured product
polymerizable composition
Prior art date
Application number
PCT/JP2013/062022
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
松川 公洋
星児 渡瀬
平田 学
Original Assignee
地方独立行政法人 大阪市立工業研究所
大八化学工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 地方独立行政法人 大阪市立工業研究所, 大八化学工業株式会社 filed Critical 地方独立行政法人 大阪市立工業研究所
Priority to EP13781398.6A priority Critical patent/EP2842975B1/en
Priority to JP2014512637A priority patent/JP6368240B2/ja
Priority to KR1020147032726A priority patent/KR102138638B1/ko
Priority to CN201380022330.4A priority patent/CN104271617A/zh
Priority to US14/396,181 priority patent/US9890264B2/en
Publication of WO2013161859A1 publication Critical patent/WO2013161859A1/ja

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/49Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/51Phosphorus bound to oxygen
    • C08K5/53Phosphorus bound to oxygen bound to oxygen and to carbon only
    • C08K5/5317Phosphonic compounds, e.g. R—P(:O)(OR')2
    • C08K5/5333Esters of phosphonic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/106Esters of polycondensation macromers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G19/00Compounds of tin
    • C01G19/02Oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G23/00Compounds of titanium
    • C01G23/04Oxides; Hydroxides
    • C01G23/047Titanium dioxide
    • C01G23/053Producing by wet processes, e.g. hydrolysing titanium salts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G25/00Compounds of zirconium
    • C01G25/02Oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G27/00Compounds of hafnium
    • C01G27/02Oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G9/00Compounds of zinc
    • C01G9/02Oxides; Hydroxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F130/00Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F130/02Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/42Nitriles
    • C08F20/44Acrylonitrile
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/102Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
    • C08F222/1025Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate of aromatic dialcohols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/103Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of trialcohols, e.g. trimethylolpropane tri(meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/02Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F30/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F30/02Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L43/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium or a metal; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L43/02Homopolymers or copolymers of monomers containing phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K23/00Use of substances as emulsifying, wetting, dispersing, or foam-producing agents
    • C09K23/002Inorganic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K23/00Use of substances as emulsifying, wetting, dispersing, or foam-producing agents
    • C09K23/14Derivatives of phosphoric acid
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/111Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/61Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/62Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/64Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2237Oxides; Hydroxides of metals of titanium
    • C08K2003/2241Titanium dioxide
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S526/00Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
    • Y10S526/923Ethylenic monomers containing at least one salt group

Definitions

  • the present invention relates to a metal oxide dispersion, a polymerizable composition containing the dispersion, and a polymer thereof. More specifically, the present invention relates to an organic-inorganic hybrid polymer having a high refractive index, which is very excellent in transparency and less deteriorated in scratch resistance, and a metal oxide dispersion and a polymerizable composition as a raw material thereof.
  • Optical materials are used in various applications such as lenses, films, optical fibers, light guide plates for liquid crystal displays, and waveguides.
  • the optical polymer material plays an important role as a material that supports the fundamentals of the electronics field and communication technology such as information display, information storage, and information transmission. Therefore, not only optical properties such as high transparency, high refractive index, and precise refractive index control, but also physical properties such as durability and scratch resistance must be satisfied at a high level.
  • a method of increasing the refractive index of an optical polymer material a method of introducing a substituent such as a halogen, a sulfur element, or an aromatic group into a polymer is known.
  • the method of introducing halogen has problems that the optical material is colored and the transparency is lowered, and the environmental load is high.
  • the method of introducing sulfur element has problems such as generation of sulfur-derived odor and deterioration of stability due to disulfide by-produced from impurities.
  • the method of introducing an aromatic group has problems such as an increase in chromatic aberration due to a decrease in Abbe number.
  • a method for increasing the refractive index of an optical polymer a method in which inorganic fine particles such as titanium oxide and zirconium oxide are combined with an organic component has attracted attention.
  • the present invention provides an organic-inorganic hybrid polymer having higher transparency and less deterioration in scratch resistance in an organic-inorganic hybrid acrylic polymer having a high refractive index, and metal oxidation as a raw material for the polymer It is an object to provide a product dispersion and a polymerizable composition. Furthermore, the present invention also provides the organic-inorganic hybrid polymer that can prevent the occurrence of cracks during production, and also provides an antireflection film having high performance using the organic-inorganic hybrid polymer. To do.
  • R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkynyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aliphatic heterocyclic group, or an aromatic heterocyclic group
  • R 2 is an organic residue, n Is 1 or 2.
  • [2] The metal oxide dispersion according to [1], wherein R 1 is a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • R 2 represents the following formula (2) (In formula (2), Y is a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and p is an integer of 1 to 10.)
  • [5] The metal oxide dispersion according to any one of [1] to [4], wherein the metal oxide is a sol.
  • the number of moles of phosphorus atoms contained in the phosphorus compound is 0.04 to 1.00 with respect to 1 mole of metal atoms contained in the metal oxide
  • a polymerizable composition comprising the metal oxide dispersion according to any one of [1] to [9].
  • the metal oxide dispersion of the present invention can provide a cured product (organic-inorganic hybrid polymer) having a high refractive index, higher transparency, and less deterioration in scratch resistance.
  • Metal oxide dispersion of the present invention has the following formula (1):
  • R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkynyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aliphatic heterocyclic group, or an aromatic heterocyclic group
  • R 2 is an organic residue, n Is 1 or 2.
  • the alkyl group represented by R 1 may be either linear or branched, and examples thereof include linear or branched alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms.
  • Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, and tert-pentyl.
  • the alkyl group preferably has 1 to 12 carbon atoms, and more preferably 1 to 5 carbon atoms.
  • the alkynyl group represented by R 1 may be linear or branched, and examples thereof include alkynyl groups having 2 to 15 carbon atoms.
  • Examples of the alkynyl group include ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 1-butynyl group, 3-butynyl group, pentynyl group, hexynyl group and the like.
  • the alkynyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms, and more preferably 2 to 6 carbon atoms.
  • the alkenyl group represented by R 1 may be either linear or branched, and examples thereof include alkenyl groups having 2 to 15 carbon atoms.
  • Examples of the alkenyl group include a vinyl group, 1-propenyl group, allyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, isopropenyl group, and 2-methyl-2-propenyl group.
  • the alkynyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms, and more preferably 2 to 6 carbon atoms.
  • Examples of the aryl group represented by R 1 include an aryl group having 6 to 20 carbon atoms.
  • Examples of the aryl group include phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, 2-biphenyl group, 3-biphenyl group, 4-biphenyl group, terphenyl group and the like.
  • the aliphatic heterocyclic group represented by R 1 has, for example, 2 to 14 carbon atoms and includes at least one, preferably 1 to 3, hetero atoms such as nitrogen atom, oxygen atom, sulfur atom and the like as hetero atoms. And a 5- to 8-membered, preferably 5- or 6-membered monocyclic aliphatic heterocyclic group, polycyclic or condensed aliphatic heterocyclic group.
  • Examples of the aliphatic heterocyclic group include pyrrolidyl-2-one group, piperidino group, piperazinyl group, morpholino group, tetrahydrofuryl group, tetrahydropyranyl group, tetrahydrothienyl group and the like.
  • the aromatic heterocyclic group represented by R 1 has, for example, 2 to 15 carbon atoms and contains at least one, preferably 1 to 3 hetero atoms such as nitrogen, oxygen and sulfur atoms as hetero atoms. And a 5- to 8-membered, preferably 5- or 6-membered monocyclic heteroaryl group or a polycyclic or fused-ring heteroaryl group.
  • aromatic heterocyclic group examples include furyl group, thienyl group, pyrrolyl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, pyridazyl group, pyrazolyl group, imidazolyl group, oxazolyl group, thiazolyl group, benzofuryl group, benzothienyl group, quinolyl group.
  • any hydrogen atom of the above alkyl group, alkynyl group, alkenyl group, aryl group, aliphatic heterocyclic group or aromatic heterocyclic group may be substituted with a substituent.
  • the substituent is not particularly limited.
  • an alkyl group, an alkynyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an alkylenedioxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, a heteroaryloxy group, an alkylthio group, Cycloalkyl group, aliphatic heterocyclic group, aromatic heterocyclic group, arylthio group, aralkylthio group, heteroarylthio group, amino group, substituted amino group, cyano group, hydroxyl group, oxo group, nitro group, mercapto group or A halogen atom etc. are mentioned.
  • the number of the substituents is preferably 1 to 3, more
  • R 1 is preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, Particularly preferred is a hydrogen atom or a methyl group.
  • the organic residue of R 2 is not particularly limited as long as it is a partial structure of a functional group introduced into the phosphorus compound.
  • the organic residues include alkylene groups, cycloalkylene groups, alkynylene groups, alkenylene groups, arylene groups, heteroarylene groups, aralkylene groups, oxyalkylene groups, cycloalkyleneoxy groups, aryleneoxy groups, aralkyleneoxy groups, heteroarylenes. Examples thereof include an oxy group, an alkylenethio group, an arylenethio group, an aralkylenethio group, and a heteroarylenethio group.
  • the organic residue of R 2 is preferably a group represented by the following formula (2).
  • Y is a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and p is an integer of 1 to 10.
  • Y is a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, such as a methylene group, an ethylene group, a methylethylene group, an ethylethylene group, an n-propylene group, or 1-methyl. Examples thereof include a propylene group, a 2-methylpropylene group, an n-butylene group, an n-hexylene group, an n-heptylene group, and an n-octylene group.
  • Y is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, particularly preferably a methylene group or an ethylene group.
  • p is an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 5, and particularly preferably an integer of 1 to 3.
  • Examples of the phosphorus compound represented by the formula (1) include 2-acryloyloxyethyl acid phosphate, 3-acryloyloxypropyl acid phosphate, 2-acryloyloxypropyl acid phosphate, 6-acryloyloxyhexyl acid phosphate, 10-acryloyloxy Decyl acid phosphate, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, 3-methacryloyloxypropyl acid phosphate, 2-methacryloyloxypropyl acid phosphate, 6-methacryloyloxyhexyl acid phosphate, 10-methacryloyloxydecyl acid phosphate, and the like can be used.
  • the phosphorus compound used in the present invention may be a commercially available product or may be produced by a known method. Examples of commercially available phosphorus compounds include MR-200 manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.
  • the metal oxide of the present invention is a compound mainly composed of metal atoms and oxygen atoms, and the metal oxide fine particles may be used as they are, or a metal oxide sol may be produced by a known method and used. Good.
  • a metal oxide sol can be produced by a method in which a solvent is added to a metal alkoxide or metal halide, followed by hydrolysis and condensation.
  • a solvent used for the production of the metal oxide sol any of an inorganic solvent such as water, an organic solvent as described later, or a mixture thereof may be used.
  • organic solvent examples include, but are not limited to, lower alcohols such as methanol, ethanol, propanol and isopropanol; linear amides such as dimethylformamide and N, N′-dimethylacetamide; N-methyl-2-pyrrolidone and the like. Cyclic amides; glycols such as ethyl cellosolve, butyl cellosolve and ethylene glycol; esters; ketones; hydrocarbons such as toluene and hexane.
  • Specific examples of the solvent that is a mixture include a mixture of toluene, isopropyl alcohol, and water.
  • the average particle diameter of the metal oxide sol is not particularly limited, but may be, for example, 30 nm to 500 nm.
  • the solid content of the metal oxide sol is not particularly limited, but may be, for example, 2 to 50% by weight.
  • the metal in the metal oxide is not particularly limited, and examples thereof include titanium, zirconium, hafnium, aluminum, zinc, and tin. Among these, titanium or zirconium is preferable and titanium is particularly preferable from the viewpoint that the refractive index of the polymer can be increased.
  • metal alkoxide examples include titanium alkoxide, zirconium alkoxide, hafnium alkoxide, aluminum alkoxide, zinc alkoxide, and tin alkoxide.
  • dialkoxy titanium such as dialkyl dialkoxy titanium (for example, dimethyl dimethoxy titanium, diethyl diethoxy titanium, etc.); Trialkoxy titanium (for example, trimethoxy titanium, triethoxy titanium, etc.) ), Alkyltrialkoxytitanium (eg, ethyltrimethoxytitanium, etc.), aryltrialkoxytitanium (eg, phenyltrimethoxytitanium, etc.), etc .; tetraalkoxytitanium (eg, tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium, tetra Propoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, tetraisobutoxy titanium, tetra n-butoxy titanium, tetra t-butoxy titanium, tetranonyloxy titanium, tetrakis (2-e
  • the zirconium alkoxide is not particularly limited.
  • tetraalkoxy zirconium for example, tetramethoxy zirconium, tetraethoxy zirconium, tetraisopropoxy zirconium, tetraisobutoxy zirconium, tetra n-butoxy zirconium, tetra t-butoxy zirconium, tetrakis
  • Tetraalkoxyzirconium having 1 to 18 carbon atoms such as (2-ethylhexyloxy) zirconium and tetrakis (2-methyl-2-butoxy) zirconium, preferably tetraalkoxyzirconium having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 1 carbon atom. 6 tetraalkoxyzirconium) and the like.
  • the hafnium alkoxide is not particularly limited, and examples thereof include tetramethoxyhafnium, tetraethoxyhafnium, tetraisopropoxyhafnium, tetrat-butoxyhafnium, and the like.
  • the aluminum alkoxide is not particularly limited, and examples thereof include trialkoxyaluminum (trimethoxyaluminum, triethoxyaluminum, tripropoxyaluminum, tri-n-butoxyaluminum, tris-butoxyaluminum, tri-t-butoxyaluminum, etc.) and the like. Can be mentioned.
  • zinc alkoxide For example, diethoxy zinc, bismethoxyethoxy zinc, etc. are mentioned.
  • the tin alkoxide is not particularly limited, and examples thereof include tetraethoxytin, tetraisopropoxytin, and tetra n-butoxytin.
  • titanium alkoxide or zirconium alkoxide is preferable from the viewpoint of realizing a high refractive index of the polymer.
  • titanium alkoxides tetraethoxy titanium, tetra n-propoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, tetra n-butoxy titanium, tetraisobutoxy titanium, tetra s-butoxy titanium, tetra t-butoxy titanium are among the zirconium alkoxides.
  • Tetraethoxyzirconium, tetran-propoxyzirconium, tetraisopropoxyzirconium, tetran-butoxyzirconium, tetraisobutoxyzirconium, tetras-butoxyzirconium, and tetrat-butoxyzirconium are more preferred.
  • tetra n-butoxy titanium, tetraisobutoxy titanium, tetra s-butoxy titanium, and tetra t-butoxy titanium are particularly preferable.
  • the metal halide is not particularly limited, but is titanium halide such as titanium tetrachloride and titanium tetrabromide; zirconium halide such as zirconium tetrachloride, zirconium tetrabromide and zirconium iodide; zirconium oxychloride and oxyiodide Zirconium oxyhalides such as zirconium; hafnium halides such as hafnium tetrachloride; hafnium oxyhalides such as hafnium oxychloride; aluminum halides such as aluminum bromide, aluminum chloride and aluminum iodide; zinc chloride, zinc bromide, Zinc halides such as zinc iodide; tin halides such as tin chloride, tin bromide and tin iodide; Among the above metal halides, titanium tetrachloride, titanium tetrabromide, zi
  • the metal alkoxide and the metal halide may be used alone or in combination of two or more.
  • the metal oxide dispersion of the present invention may contain a solvent.
  • a solvent either an organic solvent or an inorganic solvent can be used.
  • organic solvent examples include, but are not limited to, alcohols (alkyl alcohols such as ethanol, propanol, and isopropanol, glycols such as ethylene glycol and propylene glycol), hydrocarbons (aliphatic hydrocarbons such as hexane, and the like).
  • alcohols alkyl alcohols such as ethanol, propanol, and isopropanol
  • glycols such as ethylene glycol and propylene glycol
  • hydrocarbons aliphatic hydrocarbons such as hexane, and the like.
  • Alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene), halogenated hydrocarbons (methylene chloride, chloroform, etc.), ethers (chain ethers such as dimethyl ether and diethyl ether) , Cyclic ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, ethyl butyrate, etc.), ketones (acetone, ethyl methyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, N- Methyl-2- Loridone, etc.), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, etc.), carbitols (methylcarbitol, ethylcarbitol,
  • the inorganic solvent examples include, but are not limited to, acidic aqueous solutions such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, carbonic acid, and phosphoric acid; bases such as sodium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, potassium hydroxide, and sodium bicarbonate Neutral aqueous solution; neutral aqueous solution such as pure water and saline.
  • acidic aqueous solutions such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, carbonic acid, and phosphoric acid
  • bases such as sodium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, potassium hydroxide, and sodium bicarbonate
  • Neutral aqueous solution neutral aqueous solution such as pure water and saline.
  • organic solvents may be used alone or in combination of two or more. Moreover, only one of an organic solvent or an inorganic solvent may be used as the solvent, or a mixture of both may be used.
  • a sufficient amount of the solvent may be added to the metal oxide and the phosphorus compound, and the metal dispersion is not particularly limited as long as the metal dispersion exhibits the effect of the present invention. .01-5000 ml can be used.
  • the metal oxide dispersion of the present invention may further contain a dispersion aid.
  • the dispersing aid include methyl acetoacetate, acetylacetone, N, N-dimethylacetoacetamide and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. Among these, acetylacetone and N, N-dimethylacetoacetamide are particularly preferable from the viewpoint of safety to the living body.
  • the metal oxide dispersion of the present invention can be produced by reacting a phosphorus compound and a metal oxide.
  • the ratio of the metal oxide to the phosphorus compound is preferably such that the number of moles of phosphorus atoms contained in the phosphorus compound is 0.04 to 1.00 per mole of metal atoms contained in the metal oxide. More preferably, it is 0.05 to 0.70, and particularly preferably 0.10 to 0.50.
  • a phosphorus compound may be mixed during the production of the metal oxide sol, or a phosphorus compound may be mixed after the production of the metal oxide sol.
  • the reaction conditions for reacting the phosphorus compound and the metal oxide are not particularly limited as long as the phosphorus compound and the metal oxide are sufficiently reacted, but it is preferable to heat from the viewpoint of reaction efficiency.
  • Examples of the heating method include, but are not limited to, a method using an electric heater, a heating medium, or microwave. What is necessary is just to select suitably the method which can be heated safely according to the quantity of a metal oxide dispersion, the scale of a manufacturing apparatus, etc.
  • the reaction temperature during the production of the metal oxide dispersion is, for example, 0 to 100 ° C., and preferably 40 to 80 ° C. from the viewpoint of reaction efficiency.
  • the reaction time is usually 1 minute to 5 hours, preferably 1 minute to 2 hours, more preferably about 2 minutes to 30 minutes from the viewpoint of production efficiency.
  • Metal oxide dispersion The metal oxide dispersion is improved in dispersibility in an organic solvent by the metal oxide being coordinated or modified by a phosphorus compound having compatibility with the organic solvent. That is, the aggregation of the metal oxide is suppressed and the transparency of the metal oxide dispersion is improved.
  • By adding the metal oxide dispersion to the monomer it is possible to provide a cured product having desirable properties such as high transparency, high refractive index, and ability to prevent deterioration of scratch resistance.
  • the average particle size of the metal oxide coordinated or modified with the phosphorus compound contained in the dispersion is preferably 0.001 to 5 ⁇ m, more preferably 0.01 to 1 ⁇ m, and particularly preferably 0.03. ⁇ 0.5 ⁇ m.
  • the polymerizable composition produced by mixing with the resin can exhibit high transparency.
  • the average particle size of the metal oxide coordinated or modified with the phosphorus compound is determined by, for example, using a concentrated particle size analyzer to calculate the average particle size of the metal oxide in the metal oxide dispersion or diluted solution using dynamic light. Obtained by measuring by the scattering method.
  • the polymerizable composition of the present invention may be prepared by mixing the metal oxide dispersion and a monomer, and a polymerization initiator or the like may be added if desired.
  • the polymerizable composition can be cured.
  • the obtained cured product has high transparency regardless of the mixing ratio of the metal oxide dispersion and the monomer. Therefore, the mixing ratio of the metal oxide dispersion and the monomer can be arbitrarily adjusted so that the cured product has a target refractive index.
  • the metal oxide dispersion itself has polymerizability. Therefore, in order to obtain a cured product having a higher refractive index, polymerization may be performed without adding a monomer.
  • Metal oxide dispersion As the metal oxide dispersion used in the polymerizable composition, the aforementioned substances can be used.
  • the monomer used for the polymerizable composition of the present invention may be any monomer having an acryloyl group or a methacryloyl group, and may have an arbitrary substituent.
  • an acrylic monomer and / or a methacryl monomer are preferable, for example, acrylic acid; methacrylic acid; Acrylic esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, 2 ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2- (dimethylamino) ethyl acrylate; Such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2- (dimethylamino) ethyl methacrylate, etc.
  • Methacrylate ester Propane-1,3-diyl diacrylate, butane-1,4-diyl diacrylate, trimethylolpropane triacrylate (TMPTA), bisphenoxyethanol full orange acrylate (BPEFA), pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) ) And other polyfunctional acrylic monomers; And polyfunctional methacrylic monomers such as propane-1,3-diylbis (2-methacrylate) and butane-1,4-diylbis (2-methacrylate).
  • TMPTA trimethylolpropane triacrylate
  • BPEFA bisphenoxyethanol full orange acrylate
  • DPHA dipentaerythritol hexaacrylate
  • polyfunctional methacrylic monomers such as propane-1,3-diylbis (2-methacrylate) and butane-1,4-diylbis (2-methacrylate).
  • a polyfunctional methacryl monomer or a polyfunctional acrylic monomer is preferable, and trimethylolpropane triacrylate (TMPTA), bisphenoxyethanol full orange acrylate (BPEFA), pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA).
  • TMPTA trimethylolpropane triacrylate
  • BPEFA bisphenoxyethanol full orange acrylate
  • DPHA dipentaerythritol hexaacrylate
  • the above monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • Polymerization initiator examples include a thermal polymerization initiator and a photopolymerization initiator.
  • photopolymerization initiator examples include benzoins (benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether); acetophenones (acetophenone, p-dimethylacetophenone, 2 -Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-phenyl- 2-hydroxy-acetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, etc.); propiophenones (p-dimethylaminopropiophenone, 2-hydroxy-2- Butyl-propiophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one,
  • thermal polymerization initiator examples include dialkyl peroxides (di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, etc.), diacyl peroxides [dialkanoyl peroxide (lauroyl peroxide, etc.), dialoyl peroxide (benzoyl).
  • Peroxides benzoyl toluyl peroxide, toluyl peroxide, etc.)], peracid esters [percarboxylic acid alkyl esters such as t-butyl peracetate, t-butyl peroxyoctate, t-butyl peroxybenzoate, etc.] Organic peroxides such as ketone peroxides, peroxycarbonates, peroxyketals; azonitrile compounds [2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (isobutyrate) Ronitrile), 2, 2 -Azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), etc.], azoamide compounds ⁇ 2,2'-azobis ⁇ 2-methyl-N- [ 1,1-bis (hydroxymethyl) -2-hydroxyethyl] propionamide ⁇ and the like ⁇ , azoamidine compounds ⁇ 2,2′
  • the polymerization initiator used in the present invention is preferably a photopolymerization initiator.
  • the thiol is preferably a polyfunctional thiol, more preferably a bifunctional to hexafunctional thiol, and particularly preferably a bifunctional to tetrafunctional thiol.
  • the amount of thiol added is preferably more than 5% by weight, more preferably 7% by weight or more based on the sum of the weights of the metal oxide and thiol compound modified by the phosphorus compound in the polymerizable composition. It is preferably 10% by weight or more. Further, it is preferably 30% by weight or less, more preferably 25% by weight or less, and particularly preferably 20% by weight or less.
  • the amount of thiol added is preferably more than 5% by weight and not more than 30% by weight, more preferably 7% by weight to 25% by weight, and particularly preferably 10% by weight to 20% by weight. preferable. Within this range, there is an effect of suppressing the occurrence of cracks while maintaining a high refractive index.
  • the “weight of the metal oxide modified with the phosphorus compound in the polymerizable composition” is obtained by the following calculation formula (I).
  • Calculation formula (I): “Weight of metal oxide modified by phosphorus compound in polymerizable composition” (i) + (ii) + (iii) + (of phosphorus compound used in metal oxide dispersion) weight)
  • (I) is (metal oxide used in the metal oxide dispersion)
  • (Ii) is ⁇ (number of moles of metal alkoxide used in metal oxide dispersion) ⁇ (molecular weight of corresponding metal oxide) ⁇
  • (Iii) represents ⁇ (number of moles of metal halide used in the metal oxide dispersion) ⁇ (molecular weight of the corresponding metal oxide) ⁇ .
  • the polymerizable composition of the present invention may contain conventional additives to the extent that the effects of the present invention are not impaired as desired.
  • additives include pigments, colorants, thickeners, sensitizers, antifoaming agents, leveling agents, coatability improvers, lubricants, stabilizers (antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, etc.) , Plasticizers, surfactants, dissolution accelerators, fillers, antistatic agents, curing agents, flame retardants, and the like. These additives may be used alone or in combination of two or more.
  • the polymerizable composition of the present invention provides a cured product having desirable properties such as high transparency, desirable physical properties such as a high refractive index, and prevention of deterioration of scratch resistance by containing the metal oxide dispersion. can do.
  • cured material of this invention can manufacture polymeric composition by hardening reaction or a crosslinking reaction.
  • the method for producing a cured product is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a polymerizable composition is applied on a substrate to form a coating film and then cured by light irradiation, heating, pattern exposure, or the like. It is done. From the viewpoint of ease of processing operation, it is preferable to produce a cured product by photopolymerization.
  • the material of the base material is selected depending on the application and is not particularly limited.
  • a semiconductor eg, silicon, gallium, arsenic, gallium nitride, silicon carbide, etc.
  • metal aluminum, copper, etc.
  • ceramic zirconium oxide
  • transparent inorganic materials glass, quartz, magnesium fluoride, calcium fluoride, etc.
  • transparent resins polyethylene terephthalate, polymethyl methacrylate, etc.
  • the method for applying the polymerizable composition to the substrate is not particularly limited, and examples thereof include a flow coating method, a spin coating method, a spray coating method, a screen printing method, a casting method, a bar coating method, and a curtain coating method. Alternatively, a roll coating method, a gravure coating method, a dipping method, a slit method, or the like may be used.
  • the thickness of the coating film can be selected according to the use of the cured product.
  • the thickness of the coating film can be, for example, 0.01 ⁇ m to 1 mm, preferably 0.05 ⁇ m to 700 ⁇ m, more preferably 0.1 to 500 ⁇ m.
  • the coating film may be cured by light irradiation.
  • the light used for the light irradiation is not particularly limited.
  • gamma rays, X-rays, ultraviolet rays (UV), visible rays, and the like can be used, and are visible light or ultraviolet rays (UV) from the viewpoint of easy handling. It is preferable.
  • the wavelength of light used is 150 to 800 nm, and from the viewpoint of curing efficiency, it is preferably 150 to 600 nm, and more preferably 200 to 400 nm.
  • the amount of irradiation light (irradiation energy) can be selected according to the thickness of the coating film.
  • the amount of irradiation light is not particularly limited, but may be, for example, 1 to 10000 mW, preferably 5 to 5000 mW, more preferably about 10 to 1000 mW from the viewpoint of curing efficiency.
  • the irradiation time is not particularly limited, and can be, for example, 1 second to 10 minutes, preferably 5 seconds to 5 minutes, and most preferably 10 seconds to 3 minutes from the viewpoint of production efficiency.
  • the coating film may be subjected to a heat treatment to cause a curing reaction or a crosslinking reaction.
  • the coating film may be heated in combination with light irradiation.
  • light irradiation and heating may be performed simultaneously, may be performed before light irradiation, or may be performed after light irradiation, particularly after light irradiation. (After cure) is preferable.
  • the temperature at the time of the heat treatment is not particularly limited as long as the curing reaction or the crosslinking reaction sufficiently proceeds.
  • the temperature may be 60 to 200 ° C., and preferably 80 to 150 ° C. from the viewpoint of reaction efficiency.
  • the heating time during the heat treatment is not particularly limited as long as the curing reaction or the crosslinking reaction proceeds sufficiently, but it is usually 3 seconds to 1 hour, and 5 seconds to 30 minutes from the viewpoint of reaction efficiency. It is preferably about 20 seconds to 30 minutes, more preferably 30 seconds to 10 minutes.
  • the coating film may be cured by pattern exposure to form a pattern or an image.
  • a printed wiring board etc. can be manufactured.
  • the pattern exposure method is not particularly limited, and may be performed by scanning with laser light or by irradiating light through a photomask.
  • a pattern or an image can be formed by developing or dissolving an unexposed portion generated by pattern exposure with a developer.
  • Examples of the developer include water, an aqueous alkaline solution, a hydrophilic solvent (for example, alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, ketones such as acetone, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, cellosolves, cellosolve acetates, etc.) A mixture of these can be used.
  • a hydrophilic solvent for example, alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, ketones such as acetone, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, cellosolves, cellosolve acetates, etc.
  • the coating film may be heated after exposure.
  • the developing process may be performed before the heating process or after the heating process.
  • the shape of the cured product of the present invention is not particularly limited, and may be any of a three-dimensional, two-dimensional or one-dimensional cured product, or a dot or dot-shaped cured product. Specifically, a cured film, a pattern cured film, etc. are mentioned.
  • the polymerizable composition of the present invention can be used, for example, to produce a thin film on a substrate.
  • the cured product of the present invention may be formed in a single layer or a plurality of layers on one substrate. Moreover, you may form the hardened
  • the cured product of the present invention contains the metal oxide dispersion in the polymerizable composition, so that it has excellent visible light transmittance and hard coat properties, has a high refractive index, and excellent optical properties.
  • the refractive index of the cured product is preferably 1.45 or more, more preferably 1.50 or more, further preferably 1.55 or more, and particularly preferably 1.60 or more.
  • the refractive index of the cured product can be measured at a wavelength of 633 nm using, for example, a reflection spectral film thickness meter.
  • the total light transmittance of the cured product is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 88% or more.
  • the haze value of the cured product is preferably 1.0 or less, more preferably 0.5 or less, and particularly preferably 0.3 or less.
  • the total light transmittance and haze value of the cured product can be measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer according to, for example, JIS-K7105 and JIS-K7136.
  • the cured product can suppress a decrease in scratch resistance.
  • scratch resistance refers to the surface hardness of a cured product (polymer).
  • the cured product has high scratch resistance, the cured product is less likely to be scratched, so that it can be used in applications where durability is required. Scratch resistance is measured in accordance with JIS-K5600-5-4 using a manual pencil scratch tester (manufactured by Coating Tester Co., Ltd.), and pencil hardness is measured 5 times. It can be evaluated by doing.
  • the cured product of the present invention is suitable for a high refractive index layer of an antireflection film used in a liquid crystal display or the like, an optical thin film such as a reflector and an optical coating agent, an index matching layer, an optical filter, a heat ray cut filter, etc. Can be used.
  • the antireflection film of the present invention has a high refractive index layer having a refractive index of 1.6 to 1.8 and a low refractive index layer having a refractive index of 1.35 to 1.55. Further, the thickness of the low refractive index layer is not particularly limited as long as sufficient antireflection performance is exhibited, but it is usually 50 to 300 nm, preferably 100 to 200 nm from the viewpoint of antireflection performance, and particularly preferably about 150 nm. In addition, since the antireflection film of the present invention reduces the reflectance by utilizing the principle of optical interference, the refractive index of each layer, the thickness of the layer, etc. are set in order to set the target reflectance.
  • the high refractive index layer used for the antireflection film is preferably the cured product having a high refractive index according to the present invention.
  • the low refractive index layer is not particularly limited, and for example, an acrylic hard coat resin or the like may be used. In a preferred embodiment of the present invention, when the thickness of the low refractive index layer of the antireflection film is about 150 nm, the antireflection performance of light having a wavelength of 550 nm to 600 nm that is most easily perceived by humans as visible light is remarkable. Can be improved.
  • TMPTA Trimethylolpropane triacrylate
  • BPEFA Bisphenoxyethanol full orange acrylate
  • DPHA Dipentaerythritol hexaacrylate
  • EGMP-4 Tetraethylene glycol bis (3-mercaptopropionate)
  • TMMP Trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate)
  • PEMP Pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate)
  • the average particle diameter of the metal oxide was measured by a dynamic light scattering method. Specifically, the average particle size of the metal oxide coordinated or modified by the phosphorus compound in the solution was measured using a concentrated particle size analyzer (Otsuka Electronics Co., Ltd., FPAR-1000).
  • the total light transmittance and haze value of the cured product were measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, model V-560) according to JIS-K7105 and JIS-K7136.
  • the refractive index of the cured product was measured at a wavelength of 633 nm using a reflection spectral film thickness meter (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., FE-3000).
  • the pencil hardness (abrasion resistance) of the cured product was measured 5 times using a manual pencil scratch tester (manufactured by Coating Tester Co., Ltd.) according to JIS-K5600-5-4. The pencil hardness at which the scratch occurrence rate was 20% or less was used.
  • the reflectance of the antireflection film was measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer. Specifically, it was measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, V-560) equipped with a one-time reflection measurement device (manufactured by JASCO Corporation, SLM-468).
  • Example 1 To the metal oxide dispersion 1, 376 mg of TMPTA as an acrylic monomer and 4.7 mg of 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one as a photopolymerization initiator are added to obtain a polymerizable composition. It was. The polymer composition was stirred, spin-coated on a 50 mm ⁇ 50 mm glass substrate at a rotation speed of 700 rpm, heated at 55 ° C. for 30 minutes, and then irradiated with UV for 2 minutes to obtain a cured product having a thickness of 1 ⁇ m.
  • Example 3 shows the composition of the polymerizable composition and the ratio of the acrylic monomer.
  • the ratio of the acrylic monomer is a value obtained by dividing the charged amount (mg) of the acrylic monomer by the polymerizable composition (mg, excluding the solvent).
  • Examples 1 to 12 can provide a highly transparent cured product having a haze value of 0.2% or less even when the type and amount of the acrylic monomer are changed. Therefore, when MR-200 is used as the phosphorus compound, a cured product having a high refractive index can be provided while maintaining transparency. It was also found that the refractive index can be adjusted freely.
  • Metal oxide dispersions 5 to 9 were obtained in the same manner as in metal oxide dispersion 1, except that the type and amount of phosphorus compound were as shown in Table 5.
  • Test Example 1 the same operation was performed except that the metal oxide dispersions 5 to 9 were used in place of the metal oxide dispersion 1.
  • the results are shown in Table 6.
  • FIG. 1 shows the relationship between the ratio of the number of phosphorus atoms to the number of titanium atoms and the refractive index in the metal oxide dispersion.
  • the refractive index of the metal oxide modified with the phosphorus compound varies depending on the ratio of the number of phosphorus atoms to the number of titanium atoms.
  • the refractive index in Table 6 and FIG. 1 is a numerical value of the hardened
  • the refractive index of the cured product is that of the acrylic polymer (TMPTA: 1.47, BPEFA: 1.63, DPHA). : 1.49) need to be higher.
  • Test Example 7 A metal oxide dispersion was prepared in the same manner as the metal oxide dispersion 1 except that 4.7 mg (0.018 mmol) of MR-200 was used as the phosphorus compound. However, the metal oxide was gelled, and the metal oxide dispersion could not be made well. In this preparation, 0.03 mol of the phosphorus compound is used with respect to 1 mol of titanium oxide.
  • Example 13 1000 mg of metal dispersion 6 (100 mg of metal oxide modified with a phosphorus compound), 11.1 mg of TMMP as a thiol compound, and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one as a photopolymerization initiator Is coated on a glass substrate of 50 mm ⁇ 50 mm at a rotation speed of 1000 rpm, heated at 55 ° C. for 30 minutes, irradiated with UV for 1 minute, and coated with a film thickness of 0.7 ⁇ m. A cured product was obtained. When the obtained hardened
  • Example 14 The same operation as in Example 13 was performed except that 17.6 mg of TMMP was used to obtain a 1 ⁇ m cured product. When the obtained hardened
  • Example 15 The same operation as in Example 13 was performed except that 20.0 mg of TMMP was used to obtain a 1 ⁇ m cured product. When the obtained hardened
  • Example 16 A cured product of 0.7 ⁇ m was obtained in the same manner as in Example 13 except that 17.6 mg of EGMP-4 was used instead of TMMP. When the obtained hardened
  • Example 17 The same operation as in Example 13 was carried out except that 17.6 mg of PEMP was used instead of TMMP to obtain a 0.7 ⁇ m cured product.
  • TMMP TMMP
  • Example 42 The same operation as in Example 13 was carried out except that 5.2 mg of TMMP was used to obtain a 0.6 ⁇ m cured product. When the obtained hardened
  • Example 1 (Creation of antireflection film) In Example 1, the same operation was performed except that the metal dispersion 6 was used instead of the metal dispersion 1 and a PET resin substrate with the back surface painted black was used instead of the glass substrate, thereby producing a high refractive index layer. . Further, a DPHA toluene solution of acrylic monomer (44 wt%) is spin-coated on the formed high refractive index layer at a rotation speed of 1500 rpm, irradiated with UV for 15 seconds, and a low refractive index layer having a film thickness of 0.15 ⁇ m is formed. An antireflection film was obtained. When the reflectance of the obtained antireflection film was measured by the above method, the reflectance at 550 nm was 1.5%. The result of the measured reflectance is shown in FIG.
  • the organic-inorganic hybrid polymer (especially acrylic polymer) using the metal oxide dispersion of the present invention has not only high refractive index but also excellent transparency and little decrease in hardness. It is suitable for use as an optical material such as a high refractive index layer of a film, an optical thin film such as a reflector, and an optical coating, an index matching layer, an optical filter, or a heat ray cut filter.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

 高屈折率化した有機無機ハイブリッドアクリルポリマーにおいて、より高い透明性を有し、耐擦傷性の低下も少ない有機無機ハイブリッドポリマーを提供すること、および、そのポリマーの原料となる金属酸化物分散体および重合性組成物を提供すること、さらに、製造の際にクラックの発生を防止できる前記有機無機ハイブリッドポリマーを提供することを課題とする。また、前記有機無機ハイブリッドポリマーを利用した、高い性能を有する反射防止膜を提供することをも課題とする。 本発明の金属酸化物分散体は、式(1)(式(1)中、Rは水素原子、アルキル基、アルキニル基、アルケニル基、アリール基、脂肪族複素環基、または芳香族複素環基であり、Rは有機残基であり、nは、1または2である。) で表されるリン化合物および金属酸化物を含む。

Description

金属酸化物分散体、金属酸化物分散体含有重合性組成物、およびその重合物
 本発明は、金属酸化物分散体、その分散体を含む重合性組成物、およびその重合物に関する。さらに詳しくは、高い屈折率を持つ有機無機ハイブリッドポリマーにおいて透明性が非常に優れ、耐擦傷性の低下も少ないポリマーと、その原料となる金属酸化物分散体および重合性組成物に関する。
 光学材料は、レンズ、フィルム、光ファイバー、液晶ディスプレイ用導光板、導波路等の様々な用途に使用されている。中でも光学ポリマー材料は、情報表示、情報記憶、情報伝送等、エレクトロニクス分野・通信技術の根幹を支える素材として、重要な役割を果たしている。それゆえ、高透明化、高屈折率化、精密屈折率制御等の光学的特性は元より、耐久性、耐擦傷性等の物理的特性も高いレベルで満たす必要がある。
 光学ポリマー材料を高屈折率化する方法としては、ポリマー中にハロゲン、硫黄元素、芳香族基等の置換基を導入する方法が知られている。しかし、ハロゲンを導入する方法では、光学材料が着色し透明性が低下する、環境負荷が高い等の問題がある。次に硫黄元素を導入する方法では、硫黄由来の臭気が発生する、不純物から副生したジスルフィドによる安定性の低下等の問題がある。さらに、芳香族基を導入する方法では、アッベ数の低下による色収差増大等の問題がある。
 光学ポリマーを高屈折率化する方法としては、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の無機微粒子を有機成分と複合化する方法が注目されている。この方法ではポリマー中に置換基を導入する方法のような不都合がないものの、無機微粒子の凝集に伴う透明性の低下が大きな課題である。これを解決するため、粒子の分散化のための技術が盛んに研究されている。
 例えば、ジルコニア粒子の分散剤としてポリオキシエチレンアルキル構造を有するリン酸エステル化合物を用いる方法(例えば特許文献1参照)、ジルコニア粒子の分散剤として芳香族基を有するリン酸エステル化合物を使用する方法(例えば特許文献2参照)等が知られている。これらは、ジルコニア粒子の分散性の向上により、ポリマーの透明性が向上することが報告されている。しかし、透明性はまだ十分でなく、さらなる光学的性能の向上が求められている。また、耐擦傷性(ポリマーの硬さ)が低下するため、物理的性能をさらに向上することも必要である。
特開2005-161111号公報 特開2008-201634号公報
 本発明は、高屈折率化した有機無機ハイブリッドアクリルポリマーにおいて、より高い透明性を有し、耐擦傷性の低下も少ない有機無機ハイブリッドポリマーを提供すること、および、そのポリマーの原料となる金属酸化物分散体および重合性組成物を提供することを課題とする。
 さらに本発明は、製造の際にクラックの発生を防止できる前記有機無機ハイブリッドポリマーを提供すること、また、前記有機無機ハイブリッドポリマーを利用した、高い性能を有する反射防止膜を提供することも課題とする。
 本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、特定の構造を持つリン化合物を金属分散体として用いることで上記課題を解決することを見出し、これに基づいて本発明を完成させた。
 すなわち、本発明は以下のことに特定される。
〔1〕下記式(1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
(式(1)中、Rは水素原子、アルキル基、アルキニル基、アルケニル基、アリール基、脂肪族複素環基、または芳香族複素環基であり、Rは有機残基であり、nは、1または2である。)
で表されるリン化合物および金属酸化物を含む金属酸化物分散体。
〔2〕 Rが、水素原子、または炭素数1~5の直鎖もしくは分岐鎖状のアルキル基である〔1〕に記載の金属酸化物分散体。
〔3〕 Rが、下記式(2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
(式(2)中、Yは、炭素数1~10の直鎖もしくは分岐鎖状のアルキレン基であり、pは、1~10の整数である。)
で表される有機残基である〔1〕又は〔2〕に記載の金属酸化物分散体。
〔4〕 式(2)のYが、炭素数1~4の直鎖もしくは分岐鎖状のアルキレン基である〔3〕に記載の金属酸化物分散体。
〔5〕 該金属酸化物がゾルである〔1〕~〔4〕のいずれかに記載の金属酸化物分散体。
〔6〕 該金属酸化物の金属が、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、アルミニウム、亜鉛およびスズからなる群から選択される少なくとも1つである〔1〕~〔5〕のいずれかに記載の金属酸化物分散体。
〔7〕 該金属酸化物の金属がチタンおよびジルコニウムから選択される少なくとも1つである〔1〕~〔6〕のいずれかに記載の金属酸化物分散体。
〔8〕 該金属酸化物中に含まれる金属原子1モルに対し、該リン化合物中に含まれるリン原子のモル数が0.04~1.00である〔1〕~〔7〕のいずれかに記載の金属酸化物分散体。
〔9〕 更に有機溶媒を含む〔1〕~〔8〕のいずれかに記載の金属酸化物分散体。
〔10〕 〔1〕~〔9〕のいずれかに記載の金属酸化物分散体を含む重合性組成物。
〔11〕 更にチオール化合物を含む〔10〕に記載の重合性組成物。
〔12〕 更にアクリルモノマー及び/又はメタクリルモノマーを含む〔10〕又は〔11〕に記載の重合性組成物。
〔13〕 〔10〕~〔12〕のいずれかに記載の重合性組成物を硬化することで得られる硬化物。
〔14〕 上記硬化が光照射により行われる〔13〕に記載の硬化物。
〔15〕 〔13〕または〔14〕に記載の硬化物を含む反射防止膜。
 本発明の金属酸化物分散体により、屈折率が高く、より高い透明性を有し、耐擦傷性の低下も少ない硬化物(有機無機ハイブリッドポリマー)を提供することができる。
金属酸化物分散体中における、チタン原子数に対するリン原子数の割合と屈折率の関係を示す図である。 本発明の反射防止膜の反射率の測定結果を示す図である。
〔金属酸化物分散体〕
 本発明の金属酸化物分散体は、下記式(1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
(式(1)中、Rは水素原子、アルキル基、アルキニル基、アルケニル基、アリール基、脂肪族複素環基、または芳香族複素環基であり、Rは有機残基であり、nは、1または2である。)
で表されるリン化合物および金属酸化物を含む。
〔金属酸化物分散体の原料〕
〔リン化合物〕
 上記式(1)で表されるリン化合物について、以下詳しく説明する。
 Rで表されるアルキル基は、直鎖又は分岐鎖状のいずれでもよく、例えば炭素数1~20の直鎖又は分岐状のアルキル基が挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、tert-ペンチル基、イソペンチル基、2-メチルブチル基、1-エチルプロピル基、ヘキシル基、4-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メチルペンチル基、3,3-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、1,1-ジメチルブチル基、1,2-ジメチルブチル基、1,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、1-エチルブチル基、2-エチルブチル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、セチル基、ステアリル基等が挙げられる。上記アルキル基の炭素数は1~12であることが好ましく、1~5であることがより好ましい。
 Rで表されるアルキニル基は、直鎖又は分岐鎖状のいずれでもよく、例えば炭素数2~15のアルキニル基が挙げられる。アルキニル基としては、例えばエチニル基、1-プロピニル基、2-プロピニル基、1-ブチニル基、3-ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基等が挙げられる。アルキニル基の炭素数は2~10であることが好ましく、2~6であることがより好ましい。
 Rで表されるアルケニル基は、直鎖又は分岐鎖状のいずれでもよく、例えば炭素数2~15のアルケニル基が挙げられる。アルケニル基としては、例えばビニル基、1-プロペニル基、アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、イソプロペニル基、2-メチル-2-プロペニル基、1-メチル-2-プロペニル基、2-メチル-1-プロペニル基等が挙げられる。アルキニル基の炭素数は2~10であることが好ましく、2~6であることがより好ましい。
 Rで表されるアリール基は、例えば炭素数6~20のアリール基が挙げられる。アリール基としては、例えばフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、アントリル基、フェナンスリル基、2-ビフェニル基、3-ビフェニル基、4-ビフェニル基、ターフェニル基等が挙げられる。
 Rで表される脂肪族複素環基は、例えば炭素数2~14で、異種原子として少なくとも1個、好ましくは1~3個の例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子等の異種原子を含んでいる、5~8員、好ましくは5又は6員の単環の脂肪族複素環基、多環又は縮合環の脂肪族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基としては、例えばピロリジル-2-オン基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチエニル基等が挙げられる。
 Rで表される芳香族複素環基は、例えば炭素数2~15で、異種原子として少なくとも1個、好ましくは1~3個の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等の異種原子を含んでいる、5~8員、好ましくは5又は6員の単環式ヘテロアリール基、多環式又は縮合環式のヘテロアリール基が挙げられる。芳香族複素環基としては、例えばフリル基、チエニル基、ピロリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、ピリダジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基、フタラジル基、キナゾリル基、ナフチリジル基、シンノリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
 上記アルキル基、アルキニル基、アルケニル基、アリール基、脂肪族複素環基、または芳香族複素環基の任意の水素原子は置換基で置換されていてもよい。上記置換基としては特に限定されないが、例えばアルキル基、アルキニル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキレンジオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキル基、脂肪族複素環基、芳香族複素環基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基、置換アミノ基、シアノ基、ヒドロキシル基、オキソ基、ニトロ基、メルカプト基又はハロゲン原子等が挙げられる。上記置換基の数は1~3個が好ましく、1又は2個がより好ましい。
 Rが、水素原子、または炭素数1~5の直鎖もしくは分岐鎖状のアルキル基であることが好ましく、水素原子、または炭素数1~3の直鎖アルキル基であることがより好ましく、水素原子またはメチル基であることが特に好ましい。
 Rの有機残基としては、リン化合物中に導入された官能基の部分構造であれば特に限定されない。有機残基としては、例えばアルキレン基、シクロアルキレン基、アルキニレン基、アルケニレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、アラルキレン基、オキシアルキレン基、シクロアルキレンオキシ基、アリーレンオキシ基、アラルキレンオキシ基、ヘテロアリーレンオキシ基、アルキレンチオ基、アリーレンチオ基、アラルキレンチオ基、ヘテロアリーレンチオ基等が挙げられる。
 Rの有機残基としては、下記式(2)で表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
(式(2)中、Yは、炭素数1~10の直鎖もしくは分岐鎖状のアルキレン基であり、pは、1~10の整数である。)
 式(2)中、Yは直鎖または分岐鎖状の炭素原子数1~10のアルキレン基であり、例えばメチレン基、エチレン基、メチルエチレン基、エチルエチレン基、n-プロピレン基、1-メチルプロピレン基、2-メチルプロピレン基、n-ブチレン基、n-ヘキシレン基、n-ヘプチレン基、n-オクチレン基等が挙げられる。Yとしては、炭素原子数1~4の直鎖のアルキレン基であることが好ましく、メチレン基又はエチレン基であることが特に好ましい。
 pは1~10の整数であり、好ましくは1~5の整数であり、特に好ましくは1~3の整数である。
 式(1)で表されるリン化合物としては、例えば2-アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、3-アクリロイルオキシプロピルアシッドホスフェート、2-アクリロイルオキシプロピルアシッドホスフェート、6-アクリロイルオキシヘキシルアシッドホスフェート、10-アクリロイルオキシデシルアシッドホスフェート、2-メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、3-メタクリロイルオキシプロピルアシッドホスフェート、2-メタクリロイルオキシプロピルアシッドホスフェート、6-メタクリロイルオキシヘキシルアシッドホスフェート、10-メタクリロイルオキシデシルアシッドホスフェート等を用いることができる。
 本発明に用いるリン化合物は、市販品を用いてもよいし、公知の方法により製造してもよい。リン化合物の市販品としては、例えば大八化学工業社製のMR-200等が挙げられる。
〔金属酸化物〕
 本発明の金属酸化物は、主に金属原子と酸素原子により構成された化合物であり、金属酸化物の微粒子をそのまま用いてもよく、金属酸化物のゾルを公知方法により製造して用いてもよい。例えば金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物に溶媒を加え加水分解・縮合する方法等で金属酸化物のゾルを製造できる。金属酸化物ゾルの製造に用いる溶媒としては、水等の無機溶媒、後記するような有機溶媒又はその混合物のいずれを用いてもよい。有機溶媒としては、とくに限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等の低級アルコール;ジメチルホルムアミド、N,N’-ジメチルアセトアミド等の直鎖アミド類;N-メチル-2-ピロリドン等の環状アミド類;エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチレングリコール等のグリコール類;エステル類;ケトン類;トルエン、ヘキサン等の炭化水素類等が挙げられる。混合物である溶媒としては、具体的に、例えば、トルエン、イソプロピルアルコール及び水の混合物等が挙げられる。
 前記金属酸化物ゾルの平均粒子径は、特に限定されないが、例えば30nm~500nmとしてもよい。前記金属酸化物ゾルの固形含有量は、特に限定されないが、例えば、2~50重量%としてもよい。
 金属酸化物中の金属としては、特に限定されないが、例えばチタン、ジルコニウム、ハフニウム、アルミニウム、亜鉛、スズ等が挙げられる。中でも、ポリマーの高屈折率化が可能である点より、チタンまたはジルコニウムが好ましく、チタンであることが特に好ましい。
 金属アルコキシドとしては、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、ハフニウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、亜鉛アルコキシド、スズアルコキシド等が挙げられる。
 前記チタンアルコキシドとしては、特に限定されないが、例えば、ジアルキルジアルコキシチタン(例えば、ジメチルジメトキシチタン、ジエチルジエトキシチタン等)等のジアルコキシチタン;トリアルコキシチタン(例えば、トリメトキシチタン、トリエトキシチタン等)、アルキルトリアルコキシチタン(例えば、エチルトリメトキシチタン等)、アリールトリアルコキシチタン(例えば、フェニルトリメトキシチタン等)等のトリアルコキシチタン;テトラアルコキシチタン(例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトライソブトキシチタン、テトラn-ブトキシチタン、テトラt-ブトキシチタン、テトラノニルオキシチタン、テトラキス(2-エチルヘキシルオキシ)チタン、テトラキス(メトキシプロポキシ)チタン、テトラステアリルオキシチタン、テトライソステアリルオキシチタン等の炭素数1~18のテトラアルコキシチタン、好ましくは炭素数1~10のテトラアルコキシチタン、さらに好ましくは炭素数1~6のテトラアルコキシチタン等)等が挙げられる。
 前記ジルコニウムアルコキシドとしては、特に限定されないが、例えば、テトラアルコキシジルコニウム(例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトライソブトキシジルコニウム、テトラn-ブトキシジルコニウム、テトラt-ブトキシジルコニウム、テトラキス(2-エチルヘキシルオキシ)ジルコニウム、テトラキス(2-メチル-2-ブトキシ)ジルコニウム等の炭素数1~18のテトラアルコキシジルコニウム、好ましくは炭素数1~10のテトラアルコキシジルコニウム、さらに好ましくは炭素数1~6のテトラアルコキシジルコニウム等)等が挙げられる。
 前記ハフニウムアルコキシドとしては、特に限定されないが、例えば、テトラメトキシハフニウム、テトラエトキシハフニウム、テトライソプロポキシハフニウム、テトラt-ブトキシハフニウム等が挙げられる。
 前記アルミニウムアルコキシドとしては、特に限定されないが、例えば、トリアルコキシアルミニウム(トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリプロポキシアルミニウム、トリn-ブトキシアルミニウム、トリs-ブトキシアルミニウム、トリt-ブトキシアルミニウム等)等が挙げられる。
 前記亜鉛アルコキシドとしては、特に限定されないが、例えば、ジエトキシ亜鉛、ビスメトキシエトキシ亜鉛等が挙げられる。
 前記スズアルコキシドとしては、特に限定されないが、例えば、テトラエトキシスズ、テトライソプロポキシスズ、テトラn-ブトキシスズ等が挙げられる。
 上記した金属アルコキシドのうち、ポリマーの高屈折率実現の観点から、チタンアルコキシド又はジルコニウムアルコキシドが好ましい。さらに、チタンアルコキシドの中でも、テトラエトキシチタン、テトラn-プロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラn-ブトキシチタン、テトライソブトキシチタン、テトラs-ブトキシチタン、テトラt-ブトキシチタンが、ジルコニウムアルコキシドの中でも、テトラエトキシジルコニウム、テトラn-プロポキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラn-ブトキシジルコニウム、テトライソブトキシジルコニウム、テトラs-ブトキシジルコニウム、テトラt-ブトキシジルコニウムがより好ましい。そして、これらのうち、テトラn-ブトキシチタン、テトライソブトキシチタン、テトラs-ブトキシチタン、テトラt-ブトキシチタンが特に好ましい。
 前記金属ハロゲン化物としては、特に限定されないが、四塩化チタン、四臭化チタン等のハロゲン化チタン;四塩化ジルコニウム、四臭化ジルコニウム、ヨウ化ジルコニウム等のハロゲン化ジルコニウム;オキシ塩化ジルコニウム、オキシヨウ化ジルコニウム等のオキシハロゲン化ジルコニウム;四塩化ハフニウム等のハロゲン化ハフニウム;オキシ塩化ハフニウム等のオキシハロゲン化ハフニウム;臭化アルミニウム、塩化アルミニウム、ヨウ化アルミニウム等のハロゲン化アルミニウム;塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛等のハロゲン化亜鉛;塩化スズ、臭化スズ、ヨウ化スズ等のハロゲン化スズ;等が挙げられる。
 上記の金属ハロゲン化物の中でも、四塩化チタン、四臭化チタン、四塩化ジルコニウム、四臭化ジルコニウム、およびオキシ塩化ジルコニウムが好ましく、四塩化チタン、四塩化ジルコニウム、およびオキシ塩化ジルコニウムが特に好ましい。
 本発明において、前記金属アルコキシドおよび前記金属ハロゲン化物は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用してもよい。
〔溶媒〕
 本発明の金属酸化物分散体は、溶媒を含んでもよい。溶媒は、有機溶媒、無機溶媒のいずれも用いることができる。
 前記有機溶媒としては、特に限定されないが、例えば、アルコール類(エタノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルキルアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類等)、炭化水素類(ヘキサン等の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等)、ハロゲン化炭化水素類(塩化メチレン、クロロホルム等)、エーテル類(ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等の鎖状エーテル類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状エーテル類等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酪酸エチル等)、ケトン類(アセトン、エチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、N-メチル-2-ピロリドン等)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等)、カルビトール類(メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等)、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類(プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノn-ブチルエーテル等)、グリコールエーテルエステル類(エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等)、アミド類(N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等)、スルホキシド類(ジメチルスルホキシド等)、ニトリル類(アセトニトリル、ベンゾニトリル等)、N-メチルピロリドン等が使用でき、好ましくは芳香族炭化水素類およびグリコールエーテルエステル類であり、特に好ましいのはトルエンおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである。
 前記無機溶媒としては、特に限定されないが、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、炭酸、リン酸等の酸性水溶液;水酸化ナトリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム等の塩基性水溶液;純水、食塩水等の中性水溶液等が挙げられる。
 これら有機溶媒は単独で又は2種以上を組み合わせて使用しても良い。また、溶媒は有機溶媒又は無機溶媒のいずれか一方のみを用いてもよく、両者を混合して用いてもよい。
 溶媒は金属酸化物及びリン化合物に対し十分量加えればよく、金属分散体が本発明の効果を奏すれば特に限定されないが、例えば、金属酸化物とリン化合物の合計量100gに対し、例えば0.01~5000mlを用いることができる。
〔分散助剤〕
 本発明の金属酸化物分散体は、さらに分散助剤を含んでもよい。分散助剤は、アセト酢酸メチル、アセチルアセトン、N,N-ジメチルアセトアセトアミド等が挙げられ、これらのものを単独でまたは2種以上を組み合わせて用いてもよい。上記の中でも、生体への安全性の観点から、特にアセチルアセトン、N,N-ジメチルアセトアセトアミドが好ましい。
〔金属酸化物分散体の製造方法〕
 本発明の金属酸化物分散体は、リン化合物と金属酸化物を反応させることにより製造することができる。金属酸化物とリン化合物の比率は、金属酸化物中に含まれる金属原子1モルに対し、リン化合物中に含まれるリン原子のモル数が0.04~1.00であることが好ましく、0.05~0.70であることがより好ましく、0.10~0.50であることが特に好ましい。金属酸化物のゾルを用いる場合、金属酸化物ゾルの製造時にリン化合物を混合してもよいし、金属酸化物ゾルの製造後にリン化合物を混合してもよい。
 リン化合物と金属酸化物の反応させる際の反応条件は、リン化合物と金属酸化物が十分に反応すれば特に限定されないが、反応効率の観点から、加熱することが好ましい。加熱方法としては電気ヒーター、熱媒またはマイクロウェーブを用いる方法等が挙げられるが特に限定はされない。金属酸化物分散体の量や製造装置等の規模に応じて、安全に加熱できる方法を適宜選択すれば良い。
 本発明のひとつの態様において、金属酸化物分散体の製造時の反応温度は、例えば0~100℃、反応効率の観点から、好ましくは40~80℃とすることができる。反応時間は、通常、1分~5時間であればよく、製造効率の観点から、1分~2時間であることが好ましく、2分~30分程度であることがより好ましい。
(金属酸化物分散体)
 当該金属酸化物分散体は、有機溶媒への相溶性を有するリン化合物により金属酸化物が配位又は修飾されることで、有機溶媒への分散性が向上する。すなわち、金属酸化物の凝集が抑制され、金属酸化物分散体の透明性が向上する。
 当該金属酸化物分散体は、モノマーに添加することにより、透明性が高く、高い屈折率、耐擦傷性の低下防止能といった望ましい物性を備えた硬化物を提供することができる。
 分散体に含まれる、リン化合物により配位又は修飾された金属酸化物の平均粒子径としては0.001~5μmであることが好ましく、より好ましくは0.01~1μm、特に好ましくは0.03~0.5μmである。分散体に含まれるリン化合物により配位又は修飾された金属酸化物の平均粒子径が上記範囲である場合、樹脂との混合により生成する重合性組成物が高い透明性を発揮することができる。
 リン化合物により配位又は修飾された金属酸化物の平均粒子径は、例えば濃厚系粒径アナライザーを用い、金属酸化物分散体、またはその希釈溶液中の金属酸化物の平均粒子径を動的光散乱法により測定することで得られる。
〔重合性組成物〕
 本発明の重合性組成物は、上記金属酸化物分散体と、モノマーを混合して調製してもよく、所望により重合開始剤等を添加してもよい。
 また、本発明においては、前記重合性組成物を硬化させることができる。得られる硬化物は、金属酸化物分散体及びモノマーの混合比率に関係なく、高い透明性を有する。そのため、目標とする屈折率を硬化物が有するように、金属酸化物分散体とモノマーの混合比を任意に調整することができる。また、上記金属酸化物分散体は、それ自体が重合性を有している。したがって、より高い屈折率を有する硬化物を得るためにモノマーを添加せずに重合させてもよい。
(金属酸化物分散体)
 前記重合性組成物に用いる金属酸化物分散体は、前述した物質を用いることができる。
(モノマー)
 本発明の前記重合性組成物に用いるモノマーは、アクリロイル基またはメタクリロイル基を持つモノマーであればよく、任意の置換基を有してもよい。
 本発明に用いるモノマーとしては、アクリルモノマー及び/又はメタクリルモノマーが好ましく、例えば、アクリル酸;メタクリル酸;
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、2エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2-メトキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-(ジメチルアミノ)エチルアクリレート等のアクリル酸エステル;
メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、2エチルヘキシルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、2-メトキシエチルメタアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタアクリレート、2-(ジメチルアミノ)エチルメタアクリレート等のメタクリル酸エステル;
プロパン-1,3-ジイルジアクリレート、ブタン-1,4-ジイルジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート(BPEFA)、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)等の多官能アクリルモノマー;
プロパン-1,3-ジイルビス(2-メタアクリレート)、ブタン-1,4-ジイルビス(2-メタアクリレート)等の多官能メタクリルモノマー;等が挙げられる。
 上記の中でも、モノマーとしては、多官能メタクリルモノマー又は多官能アクリルモノマーが好ましく、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート(BPEFA)、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)が特に好ましい。
 上記モノマーは単独で又は2種以上を組み合わせても良い。
(重合開始剤)
 前記重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤等が挙げられる。
 前記光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン類(ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル類等);アセトフェノン類(アセトフェノン、p-ジメチルアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジエトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2-フェニル-2-ヒドロキシ-アセトフェノン、1,1-ジクロロアセトフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等);プロピオフェノン類(p-ジメチルアミノプロピオフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオフェノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン等);ブチリルフェノン類[1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチル-プロパン-1-オン等];アミノアセトフェノン類[2-メチル-2-モルホリノ(4-チオメチルフェニル)プロパン-1-オン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、2-ジエチルアミノ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、2-メチル-2-モルホリノ-1-フェニルプロパン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-メチル-1-(4-メチルフェニル)プロパン-1-オン、1-(4-ブチルフェニル)-2-ジメチルアミノ-2-メチルプロパン-1-オン、2-ジメチルアミノ-1-(4-メトキシフェニル)-2-メチルプロパン-1-オン、2-ジメチルアミノ-2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)プロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-ジメチルアミノフェニル)-ブタン-1-オン等];ベンゾフェノン類(ベンゾフェノン、ベンジル、N,N’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(ミヒラーズケトン)、3,3-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン等のN,N’-ジアルキルアミノベンゾフェノン等);ケタール類(アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等);チオキサンテン類(チオキサンテン、2-クロロチオキサンテン、2,4-ジエチルチオキサンテン等);アントラキノン類(2-エチルアントラキノン、1-クロロアントラキノン、1,2-ベンズアントラキノン、2,3-ジフェニルアントラキノン等);(チオ)キサントン類(チオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン等);アクリジン類(1,3-ビス-(9-アクリジニル)プロパン、1,7-ビス-(9-アクリジニル)ヘプタン、1,5-ビス-(9-アクリジニル)ペンタン等);トリアジン類(2,4,6-トリス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-ビス-トリクロロメチル-6-(3-ブロモ-4-メトキシ)スチリルフェニル-s-トリアジン等);スルフィド類(ベンジルジフェニルサルファイド等);アシルホスフィンオキサイド類(2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等);チタノセン系光重合開始剤;オキシムエステル類等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。
 前記熱重合開始剤としては、ジアルキルパーオキサイド類(ジ-t-ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド等)、ジアシルパーオキサイド類[ジアルカノイルパーオキサイド(ラウロイルパーオキサイド等)、ジアロイルパーオキサイド(ベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルトルイルパーオキサイド、トルイルパーオキサイド等)等]、過酸エステル類[過酢酸t-ブチル、t-ブチルパーオキシオクトエート、t-ブチルパーオキシベンゾエート等の過カルボン酸アルキルエステル等]、ケトンパーオキサイド類、パーオキシカーボネート類、パーオキシケタール類等の有機過酸化物;アゾニトリル化合物[2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)等]、アゾアミド化合物{2,2’-アゾビス{2-メチル-N-[1,1-ビス(ヒドロキシメチル)-2-ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}等}、アゾアミジン化合物{2,2’-アゾビス(2-アミジノプロパン)二塩酸塩、2,2’-アゾビス[2-(2-イミダゾリン-2-イル)プロパン]二塩酸塩等}、アゾアルカン化合物[2,2’-アゾビス(2,4,4-トリメチルペンタン)、4,4’-アゾビス(4-シアノペンタン酸)等]、オキシム骨格を有するアゾ化合物[2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオンアミドオキシム)等]等のアゾ化合物等が挙げられる。熱重合開始剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。
 上記の中でも、本発明に用いる重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましい。
(チオール化合物)
 本発明において、重合性組成物へモノマーを添加しない時に、硬化物の膜厚が厚いとクラックが発生することがある。このような場合、理由は定かではないが、重合性組成物にチオールを添加することで硬化物のクラック発生を抑制できる。エンチオール反応あるいはチオールのマイケル付加によるスルフィド結合の生成で靭性を付与することができるものと考えられる。チオールとしては多官能チオールが好ましく、より好ましくは2~6官能のチオールであり、特に好ましくは2~4官能のチオールである。具体的にはテトラエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート等の2官能チオール化合物、1,3,5-トリス(3-メルカプトプロピオニルオキシエチル)イソシアヌレート、1,3,5-トリス(3-メルカプトブチリルオキシエチル)イソシアヌレート(昭和電工社製、カレンズMT(登録商標)NR1)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)等の3官能チオール化合物;ペンタエリスルトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)(昭和電工社製、カレンズMT(登録商標)PEI)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-チオグリコラート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-チオラクテート)等の4官能チオール化合物;ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)等の6官能チオール化合物等が挙げられる。
 チオールの添加量は、重合性組成物中のリン化合物によって修飾された金属酸化物およびチオール化合物の重量の和に対して、5重量%より多いことが好ましく、7重量%以上であることが更に好ましく、10重量%以上であることが特に好ましい。また、30重量%以下であることが好ましく、25重量%以下であることが更に好ましく、20重量%以下であることが特に好ましい。また、チオールの添加量は、5重量%より多く且つ30重量%以下であることが好ましく、7重量%~25重量%であることが更に好ましく、10重量%~20重量%であることが特に好ましい。この範囲内であれば高い屈折率を維持しつつクラック発生抑制の効果がある。
 前記の「重合性組成物中のリン化合物によって修飾された金属酸化物の重量」とは、下記計算式(I)によって求められる。
 計算式(I):「重合性組成物中のリン化合物によって修飾された金属酸化物の重量」=(i)+(ii)+(iii)+(金属酸化物分散体で用いたリン化合物の重量)
なお、上記計算式(I)中、
 (i)は(金属酸化物分散体で用いた金属酸化物)を、
 (ii)は{(金属酸化物分散体で用いた金属アルコキシドのモル数)×(対応する金属酸化物の分子量)}を、
 (iii)は{(金属酸化物分散体で用いた金属ハロゲン化物のモル数)×(対応する金属酸化物の分子量)}を表す。
(任意物質)
 本発明の重合性組成物は、所望により本発明の効果を阻害しない程度に、慣用の添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、顔料、着色剤、増粘剤、増感剤、消泡剤、レベリング剤、塗布性改良剤、滑剤、安定剤(酸化防止剤、熱安定剤、耐光安定剤等)、可塑剤、界面活性剤、溶解促進剤、充填剤、帯電防止剤、硬化剤、難燃剤等が挙げられる。これらの添加剤は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。
(性質・用途)
 本発明の重合性組成物は、上記金属酸化物分散体を含有することにより、高い透明性、高い屈折率等の望ましい物性、ならびに耐擦傷性の低下防止といった望ましい特性を備えた硬化物を提供することができる。
〔硬化物〕
(硬化物の製造方法)
 本発明の硬化物は、重合性組成物を硬化反応又は架橋反応により製造することができる。
 硬化物を製造する方法としては、特に限定されないが、例えば重合性組成物を基材上に塗布して塗膜を形成した後、光照射、加熱、またはパターン露光等により硬化させる方法等が挙げられる。処理操作の容易さより、光重合により硬化物を製造することが好ましい。
(基材)
 前記基材の材質は、用途に応じて選択され、特に限定されないが、例えば半導体(例えば、シリコン、ガリウム、砒素、窒化ガリウム、炭化シリコン等)、金属(アルミニウム、銅等)、セラミック(酸化ジルコニウム、酸化チタン、PZT等)、透明無機材料(ガラス、石英、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム等)、透明樹脂(ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等)等を用いることができる。
(塗膜の形成)
 本発明において、重合性組成物の基材への塗布方法は、特に限定されないが、例えば、フローコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、スクリーン印刷法、キャスト法、バーコーティング法、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ディッピング法、スリット法等により行ってもよい。
 塗膜の厚みは、硬化物の用途によって応じて選択できる。塗膜の厚みは、例えば、0.01μm~1mm、好ましくは0.05μm~700μm、さらに好ましくは0.1~500μmとすることができる。
(硬化処理)
 本発明のひとつの態様において、前記塗膜は、光照射により硬化させてもよい。
 光照射に用いる光は、特に限定されないが、例えばガンマー線、X線、紫外線(UV)、可視光線等を用いることができ、取り扱いの容易さの観点から、可視光又は紫外線(UV)であることが好ましい。用いる光の波長は、150~800nm、硬化効率の観点から、好ましくは150~600nm、さらに好ましくは200~400nmとすることができる。
 照射光量(照射エネルギー)は、塗膜の厚み等に応じて選択できる。照射光量は特に限定されないが、例えば1~10000mW、硬化効率の観点から、好ましくは5~5000mW、さらに好ましくは10~1000mW程度とすることができる。照射時間は、特に限定されず、例えば、1秒~10分、製造効率の観点から、好ましくは5秒~5分、最も好ましくは10秒~3分とすることができる。
 本発明の別のひとつの態様において、前記塗膜を加熱処理することで、硬化反応又は架橋反応させてもよい。塗膜の加熱は光照射と組み合わせて行ってもよい。光照射と加熱を組み合わせて行う場合、光照射と加熱を同時に実施してもよいし、光照射前に加熱してもよいし、または光照射後に加熱してもよく、特に光照射後に加熱すること(アフターキュア)が好ましい。
 加熱処理時の温度は、硬化反応または架橋反応が十分に進行すれば特に限定されないが、例えば60~200℃、反応効率の観点から、好ましくは80~150℃とすることができる。また、加熱処理時の加熱時間は、硬化反応または架橋反応が十分に進行すれば特に限定されないが、通常3秒~1時間であればよく、反応効率の観点から、5秒~30分であることが好ましく、20秒~30分程度であることがより好ましく、30秒~10分であることが特に好ましい。
 そして、本発明のさらに別のひとつの態様において、前記塗膜をパターン露光することにより硬化させ、パターンや画像を形成してもよい。これにより、プリント配線基盤等を製造することができる。
 パターン露光方法は特に限定されず、レーザ光の走査により行ってもよく、フォトマスクを介して光照射することにより行ってもよい。パターン露光により生成した未露光部を現像剤で現像又は溶解することにより、パターン又は画像を形成できる。
 前記現像剤としては、水、アルカリ水溶液、親水性溶媒(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、セロソルブ類、セロソルブアセテート類等)や、これらの混合液等を用いることができる。
 本発明のひとつの態様において、露光後に塗膜を加熱してもよい。この場合、現像工程は、加熱工程の前に行ってもよく、加熱工程の後で行ってもよい。露光後に塗膜を加熱する場合、小さな露光量でも、基材上に精細で高精度のパターンを形成できる。
(硬化物の種類)
 本発明の硬化物の形状は特に限定されず、三次元的、二次元的又は一次元的硬化物、もしくは点又はドット状硬化物等のいずれであってもよい。具体的には、硬化膜、パターン硬化膜等が挙げられる。本発明の重合性組成物は、例えば基材上での薄膜を製造するのに用いることができる。
 本発明の硬化物は、一の基材上に一層のみ形成してもよく、複数層形成してもよい。また、本発明の硬化物は、基材上に形成した別種の機能層の上に形成してもよい。
(硬化物の性質)
 本発明の硬化物は、重合性組成物中に上記金属酸化物分散体を含有することにより、可視光の透過性やハードコート性に優れ、高い屈折率を有し、光学的特性にも優れる。
 硬化物の屈折率は、1.45以上であることが好ましく、1.50以上であることがより好ましく、1.55以上であることがさらに好ましく、1.60以上であることが特に好ましい。硬化物の屈折率は、例えば反射分光膜厚計を用い、波長633nmにおける屈折率を測定することができる。
 硬化物の全光線透過率は、80%以上であることが好ましく、85%以上であることがより好ましく、88%以上であることが特に好ましい。また、硬化物のヘイズ値は、1.0以下であることが好ましく、0.5以下であることがより好ましく、0.3以下であることが特に好ましい。
 硬化物の全光線透過率およびヘイズ値は、例えばJIS-K7105およびJIS-K7136に従い、紫外可視分光光度計を用いて測定することができる。
 硬化物は、使用する金属酸化物分散体中に式(1)で表されるリン化合物を含有することにより、耐擦傷性の低下を抑えることができる。
 なお本明細書において、耐擦傷性とは硬化物(ポリマー)の表面硬さをいう。硬化物の耐擦傷性が高い場合、硬化物に傷がつきにくいため、耐久性が要求される用途等にも用いることができる。耐擦傷性は、JIS-K5600-5-4に従い、手動式鉛筆引っかき試験器(コーティングテスター株式会社製)を用いて鉛筆硬度を5回測定し傷発生率が2割以下になる鉛筆硬度を比較することで評価することができる。
(硬化物の用途)
 本発明の硬化物は、液晶ディスプレイ等で使用されている反射防止膜の高屈折率層、反射板等の光学薄膜および光学用コーティング剤、インデックスマッチング層、光学フィルター、熱線カットフィルター等に好適に用いることができる。
(反射防止膜)
 本発明の反射防止膜は、屈折率が1.6~1.8である高屈折率層と、屈折率が1.35~1.55である低屈折率層とを有する。さらに、低屈折率層の厚さは、十分な反射防止性能が発揮されれば特に限定されないが、通常50~300nm、反射防止性能の観点から、好ましくは100~200nmであり、特に好ましくは約150nmである。なお、本発明の反射防止膜は、光学干渉の原理を利用して反射率を低減させていることから、目標とする反射率に設定するために、各層の屈折率及び層の厚さ等は、この分野の通常の知識を持つ者がなし得る範囲で適宜、調整することができる。
 また、前記反射防止膜に用いる高屈折率層は、本発明の高屈折率化した硬化物を用いることが好ましい。低屈折率層は、特に限定されないが、例えば、アクリル系ハードコート樹脂等を用いてもよい。
 本発明の好ましい態様において、前記反射防止膜の低屈折率層の厚さを約150nmとすることで、ヒトが可視光として一番感知しやすい550nm~600nmの波長の光の反射防止性能を顕著に向上させることができる。
 以下に実施例に基づき、本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
 使用した物質、試薬及び測定機器を以下に示す。使用する物質等は、特記しない限り市販品又は公知の方法により合成したものを用いた。
(原料)
〔リン化合物〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
〔金属アルコキシド〕
・テトラn-ブトキシチタン
〔アクリルモノマー〕
・トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)
・ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート(BPEFA)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)
〔光重合開始剤〕
・2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン
(チバガイギー製 ダロキュア1173)
〔有機溶媒〕
・トルエン
・イソプロピルアルコール(IPA)
〔チオール化合物〕
・テトラエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート) (EGMP-4)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
・トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート) (TMMP)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
・ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート) (PEMP)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
(測定方法:金属酸化物分散体、またはその希釈溶液の物性)
 金属酸化物の平均粒子径は、動的光散乱法により測定した。具体的には、濃厚系粒径アナライザー(大塚電子株式会社、FPAR-1000)を用い、溶液中のリン化合物により配位又は修飾された金属酸化物の平均粒子径を測定した。
(測定方法:硬化物の物性)
 硬化物の全光線透過率およびヘイズ値は、JIS-K7105およびJIS-K7136に従い、紫外可視分光光度計(日本分光株式会社製、V-560型)を用いて測定した。
 硬化物の屈折率は、反射分光膜厚計(大塚電子株式会社製、 FE-3000)を用い、波長633nmにおける屈折率を測定した。
 硬化物の鉛筆硬度(耐擦傷性)は、JIS-K5600-5-4に従い、手動式鉛筆引っかき試験器(コーティングテスター株式会社製)を用いて鉛筆硬度を5回測定した。傷発生率が2割以下になる鉛筆硬度を用いた。
(測定方法:反射防止膜の反射率)
 反射防止膜の反射率は、紫外可視分光光度計により測定した。具体的には、1回反射測定装置(日本分光株式会社製、SLM-468)を装着した紫外可視分光光度計(日本分光株式会社製、V-560)を用いて測定した。
(金属酸化物分散体の調製)
(金属酸化物分散体1の調製)
 10mlのガラス製のサンプル瓶に、テトラn-ブトキシチタン200mg(0.59mmol)およびトルエン2gを入れて溶解した。その溶液に、リン化合物としてMR-200を46.9mg(0.18mmol)、IPA 1.6gおよび水 53.8mg(3.0mmol)を添加した。上記溶液を60℃に加熱し、2分間マイクロウェーブを照射し、溶液が白濁するまで温度を保持した。その混合液が透明になるまで減圧濃縮し、金属酸化物分散体1を得た。
 なお、金属酸化物分散体1の調製において、チタン1molのチタン酸化物に対し、リン化合物0.3molで修飾した。
(金属酸化物分散体2~4の調製)
 リン化合物の種類、仕込量を表2の通りとした以外は、金属酸化物分散体1と同様の操作を行った。
 金属酸化物分散体の調製に用いたリン化合物の種類、リン化合物の仕込み量、及び得られた金属酸化物分散体中の金属酸化物の平均粒子径を、表2に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
(重合性組成物及び硬化物の形成)
(実施例1)
 金属酸化物分散体1に、アクリルモノマーとしてTMPTA 376mgを、光重合開始剤として2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン4.7mgを添加し、重合性組成物を得た。当該重合組成物を攪拌し、50mm×50mmのガラス基板上に回転数700rpmでスピンコートし、55℃で30分間加熱した後、UVを2分間照射し、膜厚1μmの硬化物を得た。
(実施例2~12,比較例1~39)
 金属分散体の種類、アクリルモノマーの種類及びアクリルモノマーの仕込量を表3の通りとした以外は、実施例1と同様の操作を行った。
 重合性組成物の組成、及びアクリルモノマーの割合を、表3に示す。ただし、アクリルモノマーの割合は、(アクリルモノマーの仕込み量(mg)を重合性組成物(mg、ただし溶媒を除く)で割った値をいう。)
 更に、実施例1~12、比較例1~39で得られた硬化物の全光線透過率、ヘイズ値、および屈折率を前記測定方法により評価した。その結果を表3に記す。なお、屈折率における「測定不可」は硬化物が白濁したため測定が出来なかったことをいう。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
(評価)
 実施例1~12は、アクリルモノマーの種類及び仕込み量を変化させた場合でも、ヘイズ値0.2%以下という透明性の高い硬化物を提供することができる。よって、リン化合物としてMR-200を用いた場合、透明性を保ちつつ、高い屈折率を有する硬化物を提供することができる。更に、自由に屈折率を調節できることも分かった。
(硬化物の鉛筆硬度(耐擦傷性)の測定)
 アクリルモノマーの種類及びアクリルモノマーの割合が同じ場合について、使用するリン化合物と鉛筆硬度の関係を調べた。結果を表4に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
 表4より、金属分散体中にリン化合物としてMR-200を使用した場合、他のリン化合物を使用した場合と比較し、生成した硬化物の硬さ(耐擦傷性)に優れることが分かった。
(金属酸化物分散体中の、チタン原子数に対するリン原子数の割合と屈折率の関係)
(試験例1:硬化物の調製)
 金属酸化物分散体1に、光重合開始剤として2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン4.7mgを添加し、組成物を得た。当該組成物を攪拌し、50mm×50mmのガラス基板上に、回転数500rpmでスピンコートし、55℃で30分間加熱した後、UVを2分間照射し、膜厚1μmの硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率を、前記方法で測定した。
(試験例2~6)
 リン化合物の種類、仕込量を表5の通りとした以外は、金属酸化物分散体1と同様の操作を行い、金属酸化物分散体5~9を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
 試験例1において、金属酸化物分散体1に代えて金属酸化物分散体5~9を用いた以外、同様の操作を行った。結果を表6に示す。また、金属酸化物分散体中における、チタン原子数に対するリン原子数の割合と屈折率の関係を図1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
 表6及び図1より、チタン原子数に対するリン原子数の割合によって、リン化合物により修飾された金属酸化物の屈折率に変動があることが分かった。
 なお、表6及び図1中の屈折率は、金属酸化物分散体と光重合開始剤のみを硬化させた硬化物の数値である。金属酸化物分散体をモノマーに添加して硬化物の屈折率を向上させるためには、上記硬化物の屈折率が、アクリルポリマーの屈折率(TMPTA:1.47、BPEFA:1.63、DPHA:1.49)より高い必要がある。
(試験例7)
 リン化合物としてMR-200を4.7mg(0.018mmol)を用いる以外は金属酸化物分散体1と同様に金属酸化物分散体を作成しようとした。しかし、金属酸化物がゲル化してしまい、金属酸化物分散体が上手く作成出来なかった。
 なお、この調製において、チタン1molのチタン酸化物に対し、リン化合物は0.03molを使用している。
(硬化物のクラック防止)
(実施例13)
 金属分散体6を1000mg(リン化合物によって修飾された金属酸化物100mg)、チオール化合物としてTMMPを11.1mgおよび光重合開始剤として、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オンを5.33mg混合した重合性組成物を、50mm×50mmのガラス基板上に回転数1000rpmでスピンコートし、55℃で30分間加熱した後、UVを1分間照射し、膜厚0.7μmの硬化物を得た。得られた硬化物を目視で確認したところ、クラックの発生は確認出来ず、屈折率は1.76であった。
(実施例14)
 TMMP17.6mgを用いた以外は実施例13と同様の操作を行い、1μmの硬化物を得た。得られた硬化物を目視で確認したところ、クラックの発生は確認出来ず、屈折率1.70であった。
(実施例15)
 TMMP20.0mgを用いた以外は実施例13と同様の操作を行い、1μmの硬化物を得た。得られた硬化物を目視で確認したところ、クラックの発生は確認出来ず、屈折率は1.71であった。
(実施例16)
 TMMPの代わりにEGMP-4 17.6mgを用いた以外は実施例13と同様の操作を行い、0.7μmの硬化物を得た。得られた硬化物を目視で確認したところ、クラックの発生は確認出来ず、屈折率1.70であった。
(実施例17)
 TMMPの代わりにPEMP 17.6mgを用いた以外は実施例13と同様の操作を行い、0.7μmの硬化物を得た。得られた硬化物を目視で確認したところ、クラックの発生は確認出来ず、屈折率1.71であった。
(比較例40)
 金属分散体6を1000mg(リン化合物によって修飾された金属酸化物100mg)および光重合開始剤として、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン0.625mgを混合した重合性組成物を、50mm×50mmのガラス基板上に回転数1000rpmでスピンコートし、55℃で30分間加熱した後、UVを20秒間照射し、膜厚0.3μmの硬化物を得た。得られた硬化物を目視で確認したところ、クラックの発生は確認出来なかった。膜厚が0.3μmであったため、厚さが薄いことによりクラックの発生が抑えられたと考えられる。
(比較例41)
 金属分散体6を1000mg(リン化合物によって修飾された金属酸化物100mg)および光重合開始剤として、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オンを0.625mg混合した重合性組成物を、50mm×50mmのガラス基板上に回転300rpmでスピンコートし、55℃で30分間加熱した後、UVを20秒間照射し、膜厚0.4μmの硬化物を得た。得られた硬化物を目視で確認したところ、クラックの発生を確認した。
(比較例42)
 TMMPを5.2mgを用いた以外は実施例13と同様の操作を行い、0.6μmの硬化物を得た。得られた硬化物を目視で確認したところ、クラックの発生を確認した。
 チタン原子数に対するリン原子数の割合が0.10となる割合でMR-200を用いた金属分散体6自体を硬化させて、膜厚0.4μmの硬化物を得た場合(比較例41)硬化物にクラックが見られるが、実施例13~17のように、チオールを添加することで更に膜厚を厚くした場合でもクラックの発生が抑制されていることが分かる。
(反射防止膜の作成)
 実施例1において、金属分散体1の代わりに金属分散体6を用い、ガラス基板の代わりに、裏面を黒く塗装したPET樹脂基板を用いる以外は同様の操作を行い、高屈折率層を作製した。さらに、成膜した高屈折率層の上に、アクリルモノマーのDPHAトルエン溶液(44wt%)を回転数1500rpmでスピンコートし、UVを15秒照射し、膜厚0.15μmの低屈折率層を作製し、反射防止膜を得た。得られた反射防止膜の反射率を前記方法により測定したところ、550nmにおける反射率は1.5%であった。測定した反射率の結果を、図2に示した。
 本発明の金属酸化物分散体を用いた有機無機ハイブリッドポリマー(特にアクリルポリマー)は高い屈折率のみならず、透明性に非常に優れ、硬度の低下も少ないため、光学レンズ、光学フィルム、反射防止膜の高屈折率層、反射板等の光学薄膜、および光学用コーティング、インデックスマッチング層、光学フィルター、熱線カットフィルター等の光学材料としての利用等に好適である。

Claims (15)

  1.  下記式(1)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (式(1)中、Rは水素原子、アルキル基、アルキニル基、アルケニル基、アリール基、脂肪族複素環基、または芳香族複素環基であり、Rは有機残基であり、nは、1または2である。)
    で表されるリン化合物および金属酸化物を含む金属酸化物分散体。
  2.  Rが、水素原子、または炭素数1~5の直鎖もしくは分岐鎖状のアルキル基である請求項1に記載の金属酸化物分散体。
  3.  Rが、下記式(2)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    (式(2)中、Yは、炭素数1~10の直鎖もしくは分岐鎖状のアルキレン基であり、pは、1~10の整数である。)
    で表される有機残基である請求項1又は2に記載の金属酸化物分散体。
  4.  式(2)のYが、炭素数1~4の直鎖もしくは分岐鎖状のアルキレン基である請求項3に記載の金属酸化物分散体。
  5.  該金属酸化物がゾルである請求項1~4のいずれかに記載の金属酸化物分散体。
  6.  該金属酸化物の金属が、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、アルミニウム、亜鉛およびスズからなる群から選択される少なくとも1つである請求項1~5のいずれかに記載の金属酸化物分散体。
  7.  該金属酸化物の金属がチタンおよびジルコニウムからなる群から選択される少なくとも1つである請求項1~6のいずれかに記載の金属酸化物分散体。
  8.  該金属酸化物中に含まれる金属原子1モルに対し、該リン化合物中に含まれるリン原子のモル数が0.04~1.00である請求項1~7のいずれかに記載の金属酸化物分散体。
  9.  更に有機溶媒を含む請求項1~8のいずれかに記載の金属酸化物分散体。
  10.  請求項1~9のいずれかに記載の金属酸化物分散体を含む重合性組成物。
  11.  更にチオール化合物を含む請求項10に記載の重合性組成物。
  12.  更にアクリルモノマー及び/又はメタクリルモノマーを含む請求項10又は11に記載の重合性組成物。
  13.  請求項10~12のいずれかに記載の重合性組成物を硬化することで得られる硬化物。
  14.  上記硬化が光照射により行われる請求項13に記載の硬化物。
  15.  請求項13または14に記載の硬化物を含む反射防止膜。
PCT/JP2013/062022 2012-04-27 2013-04-24 金属酸化物分散体、金属酸化物分散体含有重合性組成物、およびその重合物 WO2013161859A1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP13781398.6A EP2842975B1 (en) 2012-04-27 2013-04-24 Metal oxide dispersion, metal oxide dispersion-containing polymerizable composition, and polymerized product of same
JP2014512637A JP6368240B2 (ja) 2012-04-27 2013-04-24 金属酸化物分散体、金属酸化物分散体含有重合性組成物、およびその重合物
KR1020147032726A KR102138638B1 (ko) 2012-04-27 2013-04-24 금속 산화물 분산체, 금속 산화물 분산체 함유 중합성 조성물, 및 이의 중합물
CN201380022330.4A CN104271617A (zh) 2012-04-27 2013-04-24 金属氧化物分散体、含有金属氧化物分散体的聚合性组合物及其聚合物
US14/396,181 US9890264B2 (en) 2012-04-27 2013-04-24 Metal oxide dispersion, polymerizable composition comprising the metal oxide dispersion, and polymer thereof

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012103892 2012-04-27
JP2012-103892 2012-04-27
JP2013-034305 2013-02-25
JP2013034305 2013-02-25

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013161859A1 true WO2013161859A1 (ja) 2013-10-31

Family

ID=49483167

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2013/062022 WO2013161859A1 (ja) 2012-04-27 2013-04-24 金属酸化物分散体、金属酸化物分散体含有重合性組成物、およびその重合物

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9890264B2 (ja)
EP (1) EP2842975B1 (ja)
JP (1) JP6368240B2 (ja)
KR (1) KR102138638B1 (ja)
CN (1) CN104271617A (ja)
WO (1) WO2013161859A1 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015029844A1 (ja) * 2013-08-27 2015-03-05 地方独立行政法人 大阪市立工業研究所 高屈折率透明性薄膜の製造方法及びその方法により製造された薄膜
WO2016190373A1 (ja) * 2015-05-28 2016-12-01 三洋化成工業株式会社 硬化性樹脂組成物およびその製造方法
JP2017043735A (ja) * 2015-08-28 2017-03-02 三洋化成工業株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物の製造方法
WO2017057617A1 (ja) * 2015-10-02 2017-04-06 日東電工株式会社 有機金属化合物含有組成物
JP2017179201A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 三洋化成工業株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物
CN108026196A (zh) * 2015-10-02 2018-05-11 日东电工株式会社 含有有机金属化合物的组合物
JP2018165353A (ja) * 2016-12-01 2018-10-25 三洋化成工業株式会社 硬化性組成物及び硬化膜

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9890264B2 (en) * 2012-04-27 2018-02-13 Osaka Research Institute Of Industrial Science And Technology Metal oxide dispersion, polymerizable composition comprising the metal oxide dispersion, and polymer thereof
JP6714581B2 (ja) * 2015-04-09 2020-06-24 三洋化成工業株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物、硬化物、光学部品および活性エネルギー線硬化性組成物の製造方法
CN112885981B (zh) * 2019-11-29 2022-04-29 Tcl科技集团股份有限公司 复合材料及其制备方法和发光二极管
US20220246937A1 (en) * 2021-02-04 2022-08-04 Global Graphene Group, Inc. Elastic flame-retardant polymer-encapsulated anode particles for lithium batteries and method of manufacturing
US20220246915A1 (en) * 2021-02-04 2022-08-04 Global Graphene Group, Inc. Thermally stable elastic polymer-encapsulated anode particles for lithium batteries and method of manufacturing

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59141588A (ja) * 1983-02-01 1984-08-14 Nippon Kayaku Co Ltd 新規な有機リン酸エステルおよびその製造法
JP2002091016A (ja) * 2000-09-12 2002-03-27 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法
JP2003146992A (ja) * 2001-11-13 2003-05-21 Kyoeisha Chem Co Ltd 不飽和基含有燐酸エステルモノマーの製造方法およびそれを含む重合性樹脂組成物
JP2005161111A (ja) 2003-11-28 2005-06-23 Jsr Corp ジルコニア粒子分散液、その製造方法及び光硬化性組成物
JP2007176806A (ja) * 2005-12-27 2007-07-12 Kao Corp 重合性リン酸エステルの製造方法
WO2008056639A1 (fr) * 2006-11-10 2008-05-15 Toray Industries, Inc. Composition de pâte pour guide d'ondes optiques et guide d'ondes optiques utilisant celle-ci
JP2008201634A (ja) 2007-02-21 2008-09-04 Fujifilm Corp ジルコニア微粒子分散液、該分散剤から製造される有機無機複合材料および光学部品
JP2012025882A (ja) * 2010-07-26 2012-02-09 Toyota Motor Corp 高分子化合物、高分子化合物の製造方法、高分子化合物を用いた燃料電池用電解質膜

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4581180A (en) 1983-02-01 1986-04-08 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Phosphates having one to three (meth)acrylate groups
JP2925155B2 (ja) * 1988-03-17 1999-07-28 株式会社クラレ 硬化性樹脂組成物
US6210858B1 (en) * 1997-04-04 2001-04-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film and display device using the same
EP1172699B1 (en) 2000-07-14 2013-09-11 FUJIFILM Corporation Method for making lithographic printing plates
US6778753B2 (en) 2001-07-25 2004-08-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Halogenated optical polymer composition
JP2004285320A (ja) * 2002-09-24 2004-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd 硬化性組成物及びそれを用いた硬化処理物品
JP4182236B2 (ja) * 2004-02-23 2008-11-19 キヤノン株式会社 光学部材および光学部材の製造方法
JP2006113175A (ja) * 2004-10-13 2006-04-27 Konica Minolta Opto Inc 光学フィルム、偏光板及び表示装置
US7767731B2 (en) * 2005-12-29 2010-08-03 Kerr Corporation One-component dental adhesive compositions and method of use
US20070190314A1 (en) 2006-01-13 2007-08-16 Fujifilm Corporation Transparent article and method for producing it, and lens substrate
EP1981939A4 (en) * 2006-02-10 2009-11-18 Fujifilm Corp HYBRID ORGANIC INORGANIC COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD, FORMING AND OPTICAL COMPONENT
WO2007091734A1 (en) * 2006-02-10 2007-08-16 Fujifilm Corporation Organic-inorganic hybrid composition, method for producing the same, molding and optical component
JP5188045B2 (ja) * 2006-08-30 2013-04-24 キヤノン株式会社 ナノ酸化物粒子及びその製造方法
JP5247016B2 (ja) * 2006-08-31 2013-07-24 キヤノン株式会社 複合材料及び分散剤の製造方法
TW200900435A (en) * 2007-03-29 2009-01-01 Fujifilm Corp Organic-inorganic composite composition and fabrication method thereof, molded article and fabrication method thereof and optical component
US20100143283A1 (en) * 2007-04-27 2010-06-10 Hirotsugu Kido Deterioration smell inhibitor and antimicrobial
JP5452054B2 (ja) * 2008-04-30 2014-03-26 富士フイルム株式会社 有機−無機ハイブリッド自立膜
US20100183689A1 (en) * 2008-09-05 2010-07-22 Sukgyung AT Co., Ltd. Making Method for Titania Nanoparticle
JP4782251B2 (ja) * 2009-12-18 2011-09-28 クラレメディカル株式会社 歯科用硬化性組成物及びそれを用いたコンポジットレジン
EP2450025B1 (de) * 2010-11-08 2012-11-28 VOCO GmbH Polymerisierbare Phosphorsäurederivate umfassend ein polyalicyclisches Strukturelement
US9890264B2 (en) * 2012-04-27 2018-02-13 Osaka Research Institute Of Industrial Science And Technology Metal oxide dispersion, polymerizable composition comprising the metal oxide dispersion, and polymer thereof

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59141588A (ja) * 1983-02-01 1984-08-14 Nippon Kayaku Co Ltd 新規な有機リン酸エステルおよびその製造法
JP2002091016A (ja) * 2000-09-12 2002-03-27 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法
JP2003146992A (ja) * 2001-11-13 2003-05-21 Kyoeisha Chem Co Ltd 不飽和基含有燐酸エステルモノマーの製造方法およびそれを含む重合性樹脂組成物
JP2005161111A (ja) 2003-11-28 2005-06-23 Jsr Corp ジルコニア粒子分散液、その製造方法及び光硬化性組成物
JP2007176806A (ja) * 2005-12-27 2007-07-12 Kao Corp 重合性リン酸エステルの製造方法
WO2008056639A1 (fr) * 2006-11-10 2008-05-15 Toray Industries, Inc. Composition de pâte pour guide d'ondes optiques et guide d'ondes optiques utilisant celle-ci
JP2008201634A (ja) 2007-02-21 2008-09-04 Fujifilm Corp ジルコニア微粒子分散液、該分散剤から製造される有機無機複合材料および光学部品
JP2012025882A (ja) * 2010-07-26 2012-02-09 Toyota Motor Corp 高分子化合物、高分子化合物の製造方法、高分子化合物を用いた燃料電池用電解質膜

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015029844A1 (ja) * 2013-08-27 2015-03-05 地方独立行政法人 大阪市立工業研究所 高屈折率透明性薄膜の製造方法及びその方法により製造された薄膜
JPWO2015029844A1 (ja) * 2013-08-27 2017-03-02 地方独立行政法人 大阪市立工業研究所 高屈折率透明性薄膜の製造方法及びその方法により製造された薄膜
US9845394B2 (en) 2013-08-27 2017-12-19 Osaka Municipal Technical Research Institute Method for producing thin film having high refractive index and high transparency, and thin film produced by the method
WO2016190373A1 (ja) * 2015-05-28 2016-12-01 三洋化成工業株式会社 硬化性樹脂組成物およびその製造方法
JPWO2016190373A1 (ja) * 2015-05-28 2018-03-15 三洋化成工業株式会社 硬化性樹脂組成物およびその製造方法
JP2017043735A (ja) * 2015-08-28 2017-03-02 三洋化成工業株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物の製造方法
WO2017057617A1 (ja) * 2015-10-02 2017-04-06 日東電工株式会社 有機金属化合物含有組成物
CN108026196A (zh) * 2015-10-02 2018-05-11 日东电工株式会社 含有有机金属化合物的组合物
US11046719B2 (en) 2015-10-02 2021-06-29 Nitto Denko Corporation Organic metal compound-containing composition
JP2017179201A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 三洋化成工業株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物
JP2018165353A (ja) * 2016-12-01 2018-10-25 三洋化成工業株式会社 硬化性組成物及び硬化膜

Also Published As

Publication number Publication date
US9890264B2 (en) 2018-02-13
EP2842975A1 (en) 2015-03-04
EP2842975A4 (en) 2016-04-06
KR20150009554A (ko) 2015-01-26
EP2842975B1 (en) 2019-12-25
CN104271617A (zh) 2015-01-07
KR102138638B1 (ko) 2020-07-28
JP6368240B2 (ja) 2018-08-01
JPWO2013161859A1 (ja) 2015-12-24
US20150051344A1 (en) 2015-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6368240B2 (ja) 金属酸化物分散体、金属酸化物分散体含有重合性組成物、およびその重合物
JP6126269B2 (ja) ジエン系カルボン酸陰イオンとその塩、およびその重合または硬化性組成物
TWI237649B (en) Curable composition, cured coating film and coated substrate
CN110662738B (zh) 三嗪过氧化物衍生物、含有该化合物的聚合性组合物
US9056935B2 (en) Photocurable resin composition, method of fabricating optical film using the same, and optical film including the same
US9708486B2 (en) Highly branched lipophilic polymer, and photopolymerizable composition containing the same
EP0030968B1 (en) Irradiation of polyacrylate compositions in air
EP2371871A1 (en) Curable composition comprising inorganic oxide microparticles that are surface-modified with maleimide groups
WO2007126066A1 (ja) 光重合開始剤及び光硬化性組成物
CN103717629B (zh) 金刚烷系聚合物
WO2015029844A1 (ja) 高屈折率透明性薄膜の製造方法及びその方法により製造された薄膜
JP6273108B2 (ja) 有機無機ハイブリッド薄膜の製造方法
JP6912601B2 (ja) コーティング用樹脂組成物及びその硬化物をコーティング層として含むコーティングフィルム
WO2013146651A1 (ja) 環状エーテル基含有(メタ)アクリレート
KR100551134B1 (ko) 고경도성의 난반사 필름 제조방법
TW202039608A (zh) 光硬化性聚矽氧樹脂組成物及由其硬化成的聚矽氧樹脂成形體以及該成形體的製造方法
JP6255860B2 (ja) 硬化性樹脂組成物、硬化物、積層体、ハードコートフィルム及びフィルム積層体
TW201802172A (zh) 光學物品用活性能量射線硬化型樹脂組成物、硬化物及光學片
JP6690385B2 (ja) ハードコートフィルム、偏光板、および透過型液晶ディスプレイ
JP6871526B2 (ja) 親水性含フッ素高分岐ポリマー及びそれを含む重合性組成物
WO2024018984A1 (ja) 共重合体、硬化性樹脂組成物、及び硬化物
CN116547321A (zh) 光聚合性组合物、由此形成的光学部件和显示装置
JP2017002249A (ja) ハードコートフィルム、偏光板、および透過型液晶ディスプレイ
KR20160132666A (ko) 아크릴레이트 모노머, 이의 중합체, 그 중합체를 포함하는 폴리머 필름 및 이들의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13781398

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2014512637

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14396181

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2013781398

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20147032726

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A