WO2013157643A1 - Composition de polysiloxane ayant un groupe réticulable par voie radicalaire - Google Patents

Composition de polysiloxane ayant un groupe réticulable par voie radicalaire Download PDF

Info

Publication number
WO2013157643A1
WO2013157643A1 PCT/JP2013/061674 JP2013061674W WO2013157643A1 WO 2013157643 A1 WO2013157643 A1 WO 2013157643A1 JP 2013061674 W JP2013061674 W JP 2013061674W WO 2013157643 A1 WO2013157643 A1 WO 2013157643A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
polysiloxane
mass
polysiloxane composition
meth
Prior art date
Application number
PCT/JP2013/061674
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Inventor
由香 佐々木
徹 勝又
Original Assignee
旭化成イーマテリアルズ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 旭化成イーマテリアルズ株式会社 filed Critical 旭化成イーマテリアルズ株式会社
Priority to KR1020147024580A priority Critical patent/KR101566138B1/ko
Priority to JP2014511263A priority patent/JP5886420B2/ja
Priority to CN201380020944.9A priority patent/CN104245846B/zh
Publication of WO2013157643A1 publication Critical patent/WO2013157643A1/fr

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/14Peroxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/32Compounds containing nitrogen bound to oxygen
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/20Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/80Siloxanes having aromatic substituents, e.g. phenyl side groups

Abstract

L'invention concerne une composition de polysiloxane ayant des groupes réticulables par voie radicalaire, la composition, lorsqu'elle est amenée à reposer pendant 24 heures dans l'air à 24°C et à pression ordinaire tout en étant protégée de la lumière ayant toute longueur d'onde pas plus longue que 400 nm, puis examinée avec un dispositif de résonance de spin électronique (ESR), ayant un pic à une valeur de g de 2,034-1,984, et la composition contenant des radicaux dans une quantité de 0,1×10-6 à 120×10-6 mol par g des composants solides de la composition.
PCT/JP2013/061674 2012-04-20 2013-04-19 Composition de polysiloxane ayant un groupe réticulable par voie radicalaire WO2013157643A1 (fr)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020147024580A KR101566138B1 (ko) 2012-04-20 2013-04-19 라디칼 가교성기를 갖는 폴리실록산 조성물
JP2014511263A JP5886420B2 (ja) 2012-04-20 2013-04-19 ラジカル架橋性基を有するポリシロキサン組成物
CN201380020944.9A CN104245846B (zh) 2012-04-20 2013-04-19 具有自由基交联性基团的聚硅氧烷组合物

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012-097034 2012-04-20
JP2012097034 2012-04-20
JP2012-186228 2012-08-27
JP2012186228 2012-08-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013157643A1 true WO2013157643A1 (fr) 2013-10-24

Family

ID=49383591

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2013/061674 WO2013157643A1 (fr) 2012-04-20 2013-04-19 Composition de polysiloxane ayant un groupe réticulable par voie radicalaire

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5886420B2 (fr)
KR (1) KR101566138B1 (fr)
CN (1) CN104245846B (fr)
TW (1) TWI491675B (fr)
WO (1) WO2013157643A1 (fr)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013539072A (ja) * 2010-09-16 2013-10-17 エルジー・ケム・リミテッド 感光性樹脂組成物、ドライフィルムソルダーレジスト及び回路基板
WO2015118992A1 (fr) * 2014-02-07 2015-08-13 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 Composition de silicone traitée par addition
TWI500703B (zh) * 2013-12-26 2015-09-21 Chi Mei Corp 光硬化性塗佈組成物、光硬化塗佈膜及觸控面板
WO2015152154A1 (fr) * 2014-03-31 2015-10-08 日産化学工業株式会社 Composition polymérisable contenant un composé de silicone fluoré réactif
WO2017154286A1 (fr) * 2016-03-07 2017-09-14 株式会社リコー Élément, cellule et dispositif de génération d'énergie
WO2017188047A1 (fr) * 2016-04-25 2017-11-02 東レ株式会社 Composition de résine, film durci associé, son procédé de fabrication, et élément d'imagerie à semi-conducteurs
EP3705534A1 (fr) * 2015-07-09 2020-09-09 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Composition de résine contenant du silicium
US11718717B2 (en) 2016-12-28 2023-08-08 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Resin composition, method for producing resin composition, film formation method, and cured product

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6916619B2 (ja) * 2016-12-28 2021-08-11 東京応化工業株式会社 ポリシラン化合物、組成物、硬化物及び基板の製造方法、並びにアニオン重合選択的促進剤
KR101975149B1 (ko) * 2017-09-14 2019-05-03 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 비수 전해액 이차 전지용 세퍼레이터
CN116478406A (zh) * 2023-04-04 2023-07-25 浙江精一新材料科技有限公司 一种用于光阀的聚硅氧烷及光阀

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08225651A (ja) * 1994-11-30 1996-09-03 Ciba Geigy Ag 有機材料のための安定剤としてのシラン基を含むピペリジン化合物
JPH10279805A (ja) * 1997-01-21 1998-10-20 General Electric Co <Ge> 延長された耐用寿命を有するモールド製造用シリコーン組成物
JP2004510858A (ja) * 2000-10-03 2004-04-08 アトフィナ ニトロキシドと促進剤を含み、必要に応じて遊離ラジカル開始剤をさらに含む組成物
JP2009298873A (ja) * 2008-06-11 2009-12-24 Nec Corp ポリラジカル化合物の製造方法及び電池
JP2010506038A (ja) * 2006-10-09 2010-02-25 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド 架橋可能な組成物におけるスコーチを最小限に抑えるためのニトロキシド化合物
JP2010521557A (ja) * 2007-03-15 2010-06-24 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド スコーチを最小限に抑制するためのイソシアナート、ジイソシアナート、および(メタ)アクリラート化合物、ならびに架橋性組成物において硬化を促進するためのジイソシアナート化合物
JP2010153649A (ja) * 2008-12-25 2010-07-08 Tosoh Corp 環状シロキサン組成物および薄膜
JP2010163551A (ja) * 2009-01-16 2010-07-29 Nec Corp ラジカル化合物、その製造方法及び二次電池
JP2010529254A (ja) * 2007-06-08 2010-08-26 ユニオン カーバイド ケミカルズ アンド プラスティックス テクノロジー エルエルシー スコーチ防止剤の移行が減少した架橋性組成物、そのような移行を減少させる方法、及びそれより製造された物品
JP2011208142A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Hilti Ag 無機質素地にドリル掘削して中途半端にしか清掃していないおよび/または湿った孔の表面に対する接着力を向上させる化学的2成分モルタル物質およびその使用方法
WO2011136170A1 (fr) * 2010-04-26 2011-11-03 株式会社スリーボンド Composition de type gel de silicone photodurcissable et son application
JP2012219109A (ja) * 2011-04-04 2012-11-12 Nec Corp ラジカル化合物、その製造方法及び二次電池
JP2012221574A (ja) * 2011-04-04 2012-11-12 Nec Corp ラジカル化合物及びその製造方法、電極活物質、並びに二次電池

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08225651A (ja) * 1994-11-30 1996-09-03 Ciba Geigy Ag 有機材料のための安定剤としてのシラン基を含むピペリジン化合物
JPH10279805A (ja) * 1997-01-21 1998-10-20 General Electric Co <Ge> 延長された耐用寿命を有するモールド製造用シリコーン組成物
JP2004510858A (ja) * 2000-10-03 2004-04-08 アトフィナ ニトロキシドと促進剤を含み、必要に応じて遊離ラジカル開始剤をさらに含む組成物
JP2010506038A (ja) * 2006-10-09 2010-02-25 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド 架橋可能な組成物におけるスコーチを最小限に抑えるためのニトロキシド化合物
JP2010521557A (ja) * 2007-03-15 2010-06-24 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド スコーチを最小限に抑制するためのイソシアナート、ジイソシアナート、および(メタ)アクリラート化合物、ならびに架橋性組成物において硬化を促進するためのジイソシアナート化合物
JP2010529254A (ja) * 2007-06-08 2010-08-26 ユニオン カーバイド ケミカルズ アンド プラスティックス テクノロジー エルエルシー スコーチ防止剤の移行が減少した架橋性組成物、そのような移行を減少させる方法、及びそれより製造された物品
JP2009298873A (ja) * 2008-06-11 2009-12-24 Nec Corp ポリラジカル化合物の製造方法及び電池
JP2010153649A (ja) * 2008-12-25 2010-07-08 Tosoh Corp 環状シロキサン組成物および薄膜
JP2010163551A (ja) * 2009-01-16 2010-07-29 Nec Corp ラジカル化合物、その製造方法及び二次電池
JP2011208142A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Hilti Ag 無機質素地にドリル掘削して中途半端にしか清掃していないおよび/または湿った孔の表面に対する接着力を向上させる化学的2成分モルタル物質およびその使用方法
WO2011136170A1 (fr) * 2010-04-26 2011-11-03 株式会社スリーボンド Composition de type gel de silicone photodurcissable et son application
JP2012219109A (ja) * 2011-04-04 2012-11-12 Nec Corp ラジカル化合物、その製造方法及び二次電池
JP2012221574A (ja) * 2011-04-04 2012-11-12 Nec Corp ラジカル化合物及びその製造方法、電極活物質、並びに二次電池

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013539072A (ja) * 2010-09-16 2013-10-17 エルジー・ケム・リミテッド 感光性樹脂組成物、ドライフィルムソルダーレジスト及び回路基板
TWI500703B (zh) * 2013-12-26 2015-09-21 Chi Mei Corp 光硬化性塗佈組成物、光硬化塗佈膜及觸控面板
WO2015118992A1 (fr) * 2014-02-07 2015-08-13 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 Composition de silicone traitée par addition
WO2015152154A1 (fr) * 2014-03-31 2015-10-08 日産化学工業株式会社 Composition polymérisable contenant un composé de silicone fluoré réactif
EP3705534A1 (fr) * 2015-07-09 2020-09-09 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Composition de résine contenant du silicium
KR20180107190A (ko) 2016-03-07 2018-10-01 가부시키가이샤 리코 소자, 셀, 및 발전 디바이스
JPWO2017154286A1 (ja) * 2016-03-07 2018-10-04 株式会社リコー 素子、セル及び発電装置
WO2017154286A1 (fr) * 2016-03-07 2017-09-14 株式会社リコー Élément, cellule et dispositif de génération d'énergie
US11189778B2 (en) 2016-03-07 2021-11-30 Ricoh Company, Ltd. Element, cell, and power generation device
WO2017188047A1 (fr) * 2016-04-25 2017-11-02 東レ株式会社 Composition de résine, film durci associé, son procédé de fabrication, et élément d'imagerie à semi-conducteurs
JPWO2017188047A1 (ja) * 2016-04-25 2019-02-28 東レ株式会社 樹脂組成物、その硬化膜およびその製造方法ならびに固体撮像素子
JP7027886B2 (ja) 2016-04-25 2022-03-02 東レ株式会社 樹脂組成物、その硬化膜およびその製造方法ならびに固体撮像素子
US11718717B2 (en) 2016-12-28 2023-08-08 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Resin composition, method for producing resin composition, film formation method, and cured product

Also Published As

Publication number Publication date
KR101566138B1 (ko) 2015-11-04
JPWO2013157643A1 (ja) 2015-12-21
JP5886420B2 (ja) 2016-03-16
CN104245846A (zh) 2014-12-24
KR20140128404A (ko) 2014-11-05
CN104245846B (zh) 2016-08-24
TW201402700A (zh) 2014-01-16
TWI491675B (zh) 2015-07-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5826341B2 (ja) 硬化物の製造方法
JP5886420B2 (ja) ラジカル架橋性基を有するポリシロキサン組成物
JP5589387B2 (ja) シロキサン樹脂組成物およびそれを用いたタッチパネル用保護膜
JP5867083B2 (ja) ネガ型感光性樹脂組成物およびそれを用いた保護膜
JP5459315B2 (ja) シランカップリング剤、ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、およびタッチパネル用部材
JP5407210B2 (ja) シロキサン樹脂組成物およびそれを用いた硬化膜
JP5671936B2 (ja) ネガ型感光性樹脂組成物およびそれを用いた硬化膜
JP2014197171A (ja) 感光性樹脂組成物、保護膜及び絶縁膜並びにタッチパネル及びその製造方法
JP5078475B2 (ja) ポリオルガノシロキサン
JP2011173738A (ja) 透明焼成体
JP2011202127A (ja) 感光性樹脂組成物及び硬化物
JP6022870B2 (ja) 感光性樹脂組成物
KR20190122656A (ko) 감광성 실록산 수지 조성물, 경화막 및 터치패널용 부재
JP7484710B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物、その硬化膜およびそれを具備する光学デバイス
JP2015068930A (ja) 感光性樹脂組成物
CN117858927A (zh) 固化膜形成用硅氧烷树脂组合物、固化膜和聚硅氧烷的制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13777847

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2014511263

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20147024580

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 13777847

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1