WO2011114665A1 - 耐熱用接着剤 - Google Patents

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WO2011114665A1
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adhesive
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田中 竜太朗
内田 誠
茂木 繁
赤塚 泰昌
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日本化薬株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a thermally conductive adhesive used for transferring heat from a heating element to a heat radiating member, in particular, transferring heat from a heating element such as a power semiconductor element to a heat radiating member, and also functions as an insulating layer, Furthermore, it is related with the heat conductive adhesive for forming the heat conductive resin layer excellent also in the flame retardance, the laminated body using this adhesive, the heat sink with an adhesive agent, and the metal foil with an adhesive agent.
  • the heat conductive resin layer that transfers heat from the heat generating part of electric and electronic equipment to the heat radiating member has high heat conductivity, insulation, and adhesive properties.
  • a resin composition is used.
  • thermosetting resin sheet or coating film containing an inorganic filler is used as a heat conductive resin provided between the back surface of a lead frame on which a power semiconductor is mounted and a metal plate serving as a heat radiating portion.
  • a thermally conductive silicone composition containing a specific polyorganosiloxane and a filler (Patent Document 1), an adhesive sheet in which a filler is blended with an epoxy resin and NBR or reactive acrylic rubber (Patent Document 2) ) Etc.
  • Patent Document 3 a sheet made of a resin composition containing a siloxane-modified polyamideimide resin and a filler has been proposed. Also, if a high amount of filler with high thermal conductivity is added to the polyamide resin to increase the thermal conductivity, the melt fluidity will deteriorate, making the molding process difficult, and the impact strength of the molded product, etc.
  • Patent Document 4 a technique for blending a polyamide resin and a reactive polyolefin and using the resulting resin composition to form a laminate.
  • Patent Document 5 a sheet made of a resin composition for a flexible wiring board in which a filler is blended with a polyamide resin having a phenolic hydroxyl group used in the present invention is also known (Patent Document 5). It cannot be used for power modules.
  • Patent Document 1 is excellent in electrical insulation, it uses a silicone resin having a low elastic modulus, so that there is a problem of low copper foil adhesion at room temperature and high temperature.
  • Patent Document 2 has a problem in electrical insulation and flame retardancy at high temperatures.
  • Patent Documents 3 and 4 are excellent in heat resistance but have problems in solvent resistance, adhesion, flame retardancy, etc., and further, with the advance of miniaturization technology, higher thermal conductivity is required, It cannot be said that thermal conductivity is sufficient. If the filler content is increased in order to increase the thermal conductivity, this may cause a problem in adhesiveness. For this reason, it is difficult to satisfy all of the above-mentioned required conditions, and further improvements are required.
  • the present invention was made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a heat-resistant adhesive excellent in electrical insulation and adhesion at high temperatures and flame retardancy, and a laminate using the same. To do. Furthermore, it aims at providing the heat-resistant adhesive excellent in heat conductivity, the laminated body using this adhesive, the heat sink with an adhesive agent, and the metal foil with an adhesive agent.
  • the present inventors have used a specific polyamide resin having a certain amount of phenolic hydroxyl group in the polyamide skeleton as the polyamide resin, and epoxy resin, cured It has been found that an improvement in accordance with the above requirements can be achieved by blending boron nitride or alumina nitride as a catalyst and an inorganic filler.
  • the present invention relates to the following (1) to (11).
  • (1) The following formula (1) (In the formula, m and n are average values and indicate 0.005 ⁇ n / (m + n) ⁇ 1, and m + n is a positive number greater than 0 and 200 or less.
  • Ar 1 is a divalent aromatic.
  • Ar 2 is a divalent aromatic group having a phenolic hydroxyl group
  • Ar 3 is a divalent aromatic group.
  • the solvent is used in a proportion of 30 to 500 parts with respect to 100 parts of the heat-resistant adhesive described in (1) above, which contains the component (A) to component (D) and the optional epoxy resin curing agent. Contains resin varnish.
  • the heat-resistant adhesive of the present invention can be cured at a low temperature of 160 to 200 ° C., and the cured product of the composition has a heat resistance of 200 ° C. or higher and a high adhesive strength.
  • High thermal conductivity of 10 W / m ⁇ K can be achieved, and it has excellent durability and electrical insulation, high flame resistance, and flexibility when the adhesive is made into a film. Therefore, it can be suitably used as a high-performance semiconductor peripheral material.
  • the resin composition of the present invention comprises a phenolic hydroxyl group-containing random copolymerized aromatic polyamide resin (A) (hereinafter simply referred to as “component (A)”) having a structure represented by the above formula (1). contains.
  • Ar 1 represents a divalent aromatic group
  • Ar 2 represents a divalent aromatic group having a phenolic hydroxyl group
  • Ar 3 represents a divalent aromatic group.
  • the “divalent aromatic group” means a structure in which two hydrogen atoms are removed from an aromatic ring of a compound having at least one aromatic group in the structure,
  • a structure in which one hydrogen atom is removed from each benzene ring located on both sides of oxygen in diphenyl ether is also included in the category of “divalent aromatic group” in the present specification.
  • Ar 1 in the formula (1) include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 4,4′-oxydibenzoic acid, 4,4′-biphenyldicarboxylic acid, and 3,3′-methylene dibenzoic acid.
  • Ar 2 in the formula (1) include dicarboxylic acids having a phenolic hydroxyl group such as 5-hydroxyisophthalic acid, 4-hydroxyisophthalic acid, 2-hydroxyisophthalic acid, 3-hydroxyisophthalic acid and 2-hydroxyterephthalic acid. Examples thereof include a residue obtained by removing two carboxyl groups from acids, and a residue of 5-hydroxyisophthalic acid is preferable.
  • Ar 3 in the formula (1) include residues obtained by removing two amino groups from the diamines described below.
  • diamines for Ar 3 phenylenediamines such as m-phenylenediamine, p-phenylenediamine and m-tolylenediamine; 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diamino Diamino diphenyl ethers such as diphenyl ether and 4,4′-diaminodiphenyl ether; 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminodiphenyl thioether, 3,3′-diethoxy-4,4′-diaminodiphenyl thioether, 3,3 Diaminodiphenylthioethers such as' -diaminodiphenylthioether, 4,4'-diaminodiphenylthioether and 3,3'-dimethoxy-4,4
  • phenylenediamines, diaminodiphenylmethanes or diaminodiphenyl ethers are preferable, and diaminodiphenylmethanes or diaminodiphenyl ethers are more preferable.
  • 3,4'-diaminodiphenyl ether or 4,4'-diaminodiphenyl ether is particularly preferred.
  • M and n in Formula (1) represent the average number of repetitions satisfying the relationship of 0.005 ⁇ n / (m + n) ⁇ 1 and 0 ⁇ m + n ⁇ 200.
  • a preferable range of n / (m + n) is 0.005 ⁇ n / (m + n) ⁇ 0.5, more preferably 0.005 ⁇ n / (m + n) ⁇ 0.25, and further preferably 0.005 ⁇ . n / (m + n) ⁇ 0.2. In some cases, 0.005 ⁇ n / (m + n) ⁇ 0.1 may be satisfied.
  • m + n is preferably about 2 to 200, more preferably about 10 to 100, and most preferably about 20 to 80.
  • component (B) the epoxy group in the epoxy resin (B) (hereinafter simply referred to as “component (B)”) and the phenolic property in the component (A)
  • component (B) the epoxy group in the epoxy resin (B)
  • component (A) the epoxy resin (B)
  • component (A) the epoxy resin (B)
  • component (A) the epoxy resin (B)
  • component (A) the epoxy resin (B)
  • component (A) the epoxy group in the epoxy resin (hereinafter simply referred to as “component (B)”
  • component (A) the epoxy group in the epoxy resin (B)
  • component (A) the phenolic property in the component (A)
  • the solvent solubility is extremely lowered, which causes a problem in the productivity of the component (A) and workability as a varnish.
  • the both ends of the polyamide resin in the formula (1) may be any of the amino group of the diamine component, the carboxyl group of the dicarboxylic acid component, or a mixture of both, but the amino groups at both ends obtained by reacting the diamine component in a small excess.
  • the phenolic hydroxyl group equivalent of the polyamide resin of the formula (1) is preferably about 8000 to 35000 g / eq, more preferably about 10,000 to 25000 g / eq, and most preferably about 12,000 to 20000.
  • the active hydrogen equivalent of the polyamide resin is preferably about 3500 to 10000 g / eq, more preferably about 4000 to 8000.
  • component (A) with respect to the total amount of the heat-resistant adhesive of the present invention is preferably about 25 to 65% by mass, more preferably about 30 to 55% by mass.
  • Component (A) can be synthesized using the above dicarboxylic acids, dicarboxylic acids having a phenolic hydroxyl group, and diamines, for example, according to the method described in JP-A-2006-124545.
  • the component (A) is used as a curing agent (crosslinking component) of the component (B).
  • the epoxy resin as the component (B) is not particularly limited as long as it has two or more epoxy groups in one molecule.
  • novolac type epoxy resin dicyclopentadiene-phenol condensation type epoxy resin, xylylene skeleton-containing phenol novolac type epoxy resin, biphenyl skeleton containing novolak type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, tetramethyl A biphenol type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, etc. are mentioned, However, It is not limited to these. Two or more of these epoxy resins can be used in combination.
  • Preferred epoxy resins include biphenyl skeleton-containing novolac type epoxy resins such as NC-3000 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • the amount of the component (B) used in the heat-resistant adhesive of the present invention is the epoxy of the component (B) with respect to 1 equivalent of active hydrogen in the component (A) and the epoxy resin curing agent (described later) used in some cases.
  • the amount of the group is usually 0.5 to 2.0 equivalents, preferably 0.7 to 1.5 equivalents, more preferably 0.8 to 1.3 equivalents.
  • the active hydrogen equivalent means an equivalent of a hydrogen atom bonded to an atom having a large electronegativity contained in a functional group capable of reacting with an epoxy group.
  • the active hydrogen in the polyamide resin of the formula (1) corresponds to a hydrogen atom of a phenolic hydroxyl group and one hydrogen atom in a terminal amino group.
  • the amount of the component (B) used relative to 100 parts by weight of the component (A) is usually 2 to 50 parts by weight, preferably about 5 to 20 parts by weight, and more preferably about 5 to 15 parts by weight.
  • component OEC another epoxy resin curing agent
  • component OEC another epoxy resin curing agent
  • curing agents include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide, polyamide resin synthesized from linolenic acid and ethylenediamine, phthalic anhydride, triethylene anhydride.
  • a polyhydric phenol compound is used, preferably a phenol novolak obtained by condensation reaction of phenol, formaldehyde and benzene, biphenyl or the like, and a condensation reaction of phenol, formaldehyde and biphenyl.
  • the phenol novolac obtained in (1) is more preferred.
  • the proportion of the component (A) in 100 parts by mass of the total curing agent is usually 20 parts by mass or more, preferably 30 parts by mass or more. is there.
  • the amount is more preferably 60 parts by mass or more, still more preferably 80 parts by mass or more, and most preferably 90 parts by mass or more.
  • component (C) contained in the heat-resistant adhesive of the present invention
  • component (C) include 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4 Imidazoles such as methylimidazole, tertiary amines such as 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7, phosphines such as triphenylphosphine, Examples include metal compounds such as tin octylate. Usually, imidazoles are preferred.
  • the amount of component (C) used is 0.1 to 20.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component (B).
  • the inorganic filler (D) (hereinafter simply referred to as “component (D)”) that the heat-resistant adhesive of the present invention can contain has a thermal conductivity of 3 W / mK or more measured by a laser flash method. Preferably, 5 W / mK or more is more preferable.
  • Specific examples of component (D) include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, calcium oxide, magnesium oxide, alumina, aluminum nitride, aluminum borate whisker, silicon nitride, boron nitride, Examples include crystalline silica, amorphous silica, or silicon carbide.
  • the heat-resistant adhesive of the present invention is characterized by containing boron nitride or aluminum nitride as component (D).
  • component (D) means either or both of boron nitride and aluminum nitride.
  • boron nitride scale-like microcrystals having an average crystal grain size of 2 ⁇ m or less and a crystal having a major axis of 10 ⁇ m or less are known.
  • the secondary aggregated particles preferably have an average particle size of about 10 to 30 ⁇ m, more preferably about 15 to 25 ⁇ m. Therefore, when using boron nitride of large secondary agglomerated particles as a raw material, the size of the secondary agglomerated particles of boron nitride dispersed in the heat-resistant adhesive of the present invention is appropriately crushed so as to be in the above range. Therefore, it is preferable to adjust. In advance, the particle diameter of boron nitride may be adjusted in stirring and mixing, or secondary particles may be adjusted together with mixing when stirring or mixing with other raw materials.
  • fine crystals of about 0.6 ⁇ m are also aggregated to form secondary aggregated particles of about 1 to 2 ⁇ m, which can be used as they are.
  • the average particle size may be measured by sampling the liquid being stirred and mixed.
  • the average particle diameter can be measured with a grind gauge (particle size gauge) or a laser diffraction particle size distribution measuring device.
  • Component (D) (boron nitride or aluminum nitride) is used usually in an amount of 30 to 950 masses per 100 parts by mass in total of components (A) to (C) and an optional epoxy resin curing agent (component OEC). Parts, preferably 40 to 500 parts by weight, more preferably 50 to 200 parts by weight. When considering the balance of high thermal conductivity, high adhesiveness and high electrical reliability, about 70 to 170 parts by mass is most preferable. When used in such a range, 5 to 30 W / m with high adhesive strength. ⁇ A very high thermal conductivity of K and high electrical reliability can be achieved. In order to increase the heat conductivity of the heat-resistant adhesive, it is preferable that the amount of the component (D) is large. However, if the amount is too large, the adhesiveness is lowered and the flexibility when formed into a film tends to be lowered. There is.
  • additives other than the components (A) to (D) and the component OEC for example, a coupling agent, an organic solvent, an ion repair agent, and the like may be added as necessary.
  • the coupling agent that can be used is not particularly limited, but a silane coupling agent is preferable, and specific examples thereof include ⁇ -glycidoxypropyltrimethoxysilane, ⁇ -mercaptopropyltrimethoxysilane, ⁇ -aminopropyltriethoxysilane, ⁇ -Ureidopropyltriethoxysilane, N- ⁇ -aminoethyl- ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane and the like.
  • the ion scavenger that can be used in the heat-resistant adhesive of the present invention is not particularly limited.
  • a triazine thiol compound or 2,2′-methylene- known as a copper damage preventing agent for preventing copper ionization and dissolution examples thereof include bisphenol reducing agents such as bis- (4-methyl-6-tert-butylphenol), zirconium compounds as inorganic ion adsorbents, antimony bismuth compounds, magnesium aluminum compounds, and hydrotalcite.
  • bisphenol reducing agents such as bis- (4-methyl-6-tert-butylphenol), zirconium compounds as inorganic ion adsorbents, antimony bismuth compounds, magnesium aluminum compounds, and hydrotalcite.
  • the heat-resistant adhesive of the present invention can also be used as a varnish dissolved in an organic solvent.
  • organic solvent examples include lactones such as ⁇ -butyrolactone, N-methylpyrrolidone (NMP), N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylimidazolidinone, and the like.
  • Amide solvents such as tetramethylene sulfone, ether solvents such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether monoacetate and propylene glycol monobutyl ether, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone , Ketone solvents such as cyclopentanone and cyclohexanone, and aromatic solvents such as toluene and xyleneAmong these, lactones, amide solvents or ketone solvents are preferable, and lactones or amide solvents are more preferable.
  • the amount of these organic solvents used is usually 90% by mass or less, preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less in the total amount of the varnish of the present invention.
  • the amount of the solvent used per 100 parts of the heat-resistant adhesive component (solid content) of the present invention is about 30 to 500 parts, preferably about 70 to 300 parts, more preferably about 100 to 200 parts.
  • the varnish can be produced by adding the component (D) little by little while mixing and stirring the components other than the component (D).
  • it can be produced by stirring and mixing or kneading with a raking machine, three rolls, bead mill or the like, or a combination thereof.
  • a component (D) and a low molecular weight component for example, a curing catalyst (C), an epoxy resin, an additive for epoxy resin, and other additives
  • a high molecular weight component for example, a component (A)
  • the time required for mixing can be shortened.
  • the heat-resistant adhesive of the present invention is preferably used after being formed (filmed) into a film by applying the varnish to a substrate and then drying the organic solvent.
  • a base material that can be used for forming a film a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polyester film, a fluorine film, a copper foil, or the like is preferably used.
  • the surface of the base material may be subjected to a release treatment with silicone or the like.
  • the varnish of the heat-resistant adhesive of the present invention is applied to the surface of the substrate with a comma coater, die coater, gravure coater, etc., and in the coated material to such an extent that the curing reaction does not proceed with hot air or an infrared heater. After volatilizing the solvent, a film-like heat-resistant adhesive can be obtained by peeling from the substrate.
  • the base material used here as an adherend of a heat-resistant adhesive as it is it is not necessary to peel off the base material after volatilizing the solvent.
  • the thickness of the film-like heat-resistant adhesive is usually 2 to 500 ⁇ m, preferably 2 to 300 ⁇ m, more preferably 5 to 200 ⁇ m, still more preferably 10 to 200, and most preferably about 20 to 150 ⁇ m. If the thickness of the film is too thin, the decrease in the adhesive strength with the adherend is noticeable. If the thickness of the film is too thick, the amount of solvent remaining in the film increases, and the environmental test is performed on the adherend with the adherend. Problems such as floating and swelling occur when performing.
  • the content of aluminum nitride or boron nitride as the inorganic filler (D) is 30 to 62% with respect to the total amount of the heat-resistant adhesive, and the total content of component (A) to component (C) and component OEC
  • the content of the aluminum nitride or boron nitride (component D) is 40 to 62%, and the total content of the components (A) to (C) and the component OEC is 38 to 60%.
  • Heat resistant adhesive is 38 to 60%.
  • (IX) m and n in the formula (1) are 0.005 ⁇ n / (m + n) ⁇ 0.05, and m + n is the polyamide resin (A) satisfying the condition of 2 to 200 (I ) To (VIII).
  • (XI) The heat-resistant adhesive according to any one of (I) to (X) above, wherein the epoxy resin is a phenol novolak resin containing a biphenol skeleton.
  • (XII) The heat-resistant adhesive according to any one of (I) to (XI) above, wherein the curing catalyst (C) is an imidazole.
  • (XIII) The heat-resistant adhesive according to any one of the above (I) to (XII), wherein the average particle diameter of the secondary agglomerated particles of boron nitride is in the range of 10 to 30 ⁇ m.
  • (XIV) The heat-resistant adhesive according to any one of (I) to (XIII) above, wherein the average particle diameter of the secondary aggregated particles of aluminum nitride is in the range of 1 to 10 ⁇ m.
  • the use of the heat-resistant adhesive of the present invention is not particularly limited, but due to its effects such as heat resistance, high thermal conductivity, adhesion, flame retardancy and electrical insulation, an electric circuit, a metal foil or a circuit board and a heat sink Is preferably used for bonding.
  • the material of the said metal foil is not specifically limited, A copper foil is preferable at the point of versatility.
  • the heat sink here is a plate laminated on the surface on which the electronic component is mounted for the purpose of promoting heat dissipation from the electronic component mounted on the electric circuit, and usually a metal plate or the like is used.
  • the method for bonding the two is not particularly limited.
  • the adhesive of the present invention is applied as a varnish to an electric circuit, a metal foil or a circuit board (hereinafter also referred to as an electric circuit) or applied to a heat sink, and the solvent is removed as necessary. Then, they can be bonded together by laminating them and curing them by heating. Further, when the adhesive of the present invention is processed into a film, the film adhesive is laminated on the surface of the electric circuit, metal foil or circuit board to be bonded to the heat sink, or the heat sink After laminating the film adhesive on the surface to be bonded to an electric circuit, etc., a heat sink, or an electric circuit, a metal foil or a circuit board is laminated on the adhesive layer, and heat-cured. Also good.
  • the adhesive layer of the present invention is formed on the surface of the heat radiating plate that adheres to the electric circuit, etc. to form a heat radiating plate with an adhesive, and the electric circuit or the like is laminated on the adhesive layer, and then heated. It may be cured.
  • the adhesive layer of the present invention is formed on the surface of the electric circuit or the like to which the heat sink is adhered, and a laminate with an adhesive (preferably, a metal foil with an adhesive or the like) is formed. A heat sink may be laminated on the layer and heat cured.
  • the adhesive varnish of the present invention is applied to the surface and then dried, or an adhesive formed into a film is laminated. That's fine.
  • the laminate of the present invention in which the electric circuit or the like is bonded to the heat radiating plate through the cured product layer of the adhesive of the present invention can be obtained. .
  • the laminate in which the heat sink is laminated on the electric circuit is the metal of the metal foil with the heat sink obtained above (the heat sink having the metal foil laminated via the cured layer of the adhesive layer of the present invention).
  • the foil portion can be created by circuit processing. Also, electronic components are mounted on the electric circuit by soldering or the like.
  • the material of the heat sink include metals such as copper, aluminum, stainless steel, nickel, iron, gold, silver, molybdenum, and tungsten, composites of metal and glass, and alloys, among which copper having high thermal conductivity. Aluminum, gold, silver, iron, and alloys using these are preferable.
  • the thickness of the heat sink is not particularly limited, but is usually 0.1 to 5 mm from the viewpoint of workability.
  • part means part by mass unless otherwise specified.
  • Synthesis Example 1 (Synthesis of phenolic hydroxyl group-containing aromatic polyamide resin (A)) A flask equipped with a thermometer, a condenser tube, a fractionator tube and a stirrer was purged with nitrogen while introducing 3.64 parts (0.02 mol) of 5-hydroxyisophthalic acid and 162.81 parts of isophthalic acid (0.98). Mol), 204.24 parts (1.02 moles) of 3,4'-diaminodiphenyl ether, 10.68 parts of lithium chloride, 1105 parts of N-methylpyrrolidone and 236.28 parts of pyridine were stirred and dissolved.
  • a reaction liquid containing component (A) was obtained by adding 512.07 parts of triphenyl phosphate and allowing a condensation reaction at 95 ° C. for 4 hours. While stirring the reaction solution, 670 parts of water was added dropwise at 90 ° C. over 3 hours, and the mixture was further stirred at 90 ° C. for 1 hour. After cooling to 60 ° C. and allowing to stand for 30 minutes, the upper layer was separated into an aqueous layer and the lower layer was separated into an oil layer (resin layer), so the upper layer was removed by decantation. The amount of the upper layer removed was 1200 parts. 530 parts of N, N-dimethylformamide was added to the oil layer (resin layer) to prepare a diluted solution.
  • this component (A) When the amount of elements contained in this component (A) was quantified with a fluorescent X-ray measuring apparatus, the total phosphorus content was 150 ppm and the total chlorine content was 20 ppm. In addition, the intrinsic viscosity of the obtained component (A) is 0.52 dl / g (dimethylacetamide solution, 30 ° C.), and the number average molecular weight determined in terms of polystyrene based on the measurement result of gel permeation chromatography is 44000. The weight average molecular weight was 106000.
  • m in the formula (2) calculated from the molar ratio of each component used in the synthesis reaction is about 39.2
  • the value of n is about 0.8
  • the phenolic hydroxyl group equivalent is 16735 g / eq.
  • the active hydrogen equivalent is 5578 g / eq. Met.
  • Example 1 10 parts of NC-3000 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 275 g / eq.) As an ingredient (B) with respect to 100 parts of the ingredient (A) obtained in Synthesis Example 1, epoxy other than the ingredient (A) 2.5 parts of GPH-65 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., hydroxyl equivalent: 203 g / eq.) As a resin curing agent, and 1 part of 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole (2PHZ) as a component (C) Then, 210.8 parts of N-methylpyrrolidone was added as a solvent, and the mixture was stirred at 30 ° C.
  • NC-3000 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 275 g / eq.
  • Example 2 Resin varnish 2 containing the heat-resistant adhesive of the present invention was obtained according to Example 1, except that the amount of boron nitride used was changed from 8.75 parts to 13.12 parts (75% resin solids). .
  • Examples 3 and 4 Resin varnishes 3 and 4 containing the heat-resistant adhesive of the present invention in the same manner as in Examples 1 and 2, except that boron nitride in Examples 1 and 2 was changed to aluminum nitride (manufactured by Tokuyama Corporation). Got.
  • Examples 5-8 The resin varnishes 1 to 4 obtained in Examples 1 to 4 were each applied onto a PET film so that the thickness after drying was 25 ⁇ m, and dried at 130 ° C. for 20 minutes to remove the solvent.
  • the obtained heat-resistant adhesive layer of the present invention was peeled from the PET film to obtain heat-resistant adhesive films 1 to 4 of the present invention, respectively.
  • the insulation resistance values of samples 1 to 4 are continuously measured from the beginning to 1000 hours while applying a DC voltage of 50 V between the electrodes in an environment of 121 ° C. and 100% RH. It was. In either case, the insulation resistance value of 10 5 ohms or more was maintained until 1000 hours.
  • the cured film 1 (content of component (D) is solid resin content) 50%) has a Tg (glass transition temperature) of 265 ° C. and a CTE (linear expansion coefficient) of 80 to 180 ° C. of 40 ppm, and a cured film 2 (content of component (D) is 75% of resin solid content)
  • Tg glass transition temperature
  • CTE linear expansion coefficient
  • Tg (glass transition temperature) of cured film 3 (component (D) content is 50% of resin solid content) is 270 ° C.
  • CTE (linear expansion coefficient) between 80 to 180 ° C. is 45 ppm / ° C.
  • the Tg of cured film 4 (the content of component (D) was 75% of resin solid content) was 270 ° C.
  • the CTE between 80 and 180 ° C. was 30 ppm / ° C.
  • Examples 9-12 Resin varnishes 1 to 4 obtained in Examples 1 to 4 were applied to a roughened surface of a rolled copper foil (manufactured by Nikko Materials, BHN foil) having a thickness of 18 ⁇ m so that the thickness after drying was 20 ⁇ m. Each was coated using a roll coater, and the solvent was removed under drying conditions at 130 ° C. for 20 minutes to obtain rolled copper foils 1 to 4 with a heat-resistant adhesive layer of the present invention.
  • a rolled copper foil manufactured by Nikko Materials, BHN foil
  • Test example 2 (1) Peel strength Two rolled copper foils with heat-resistant adhesive layers obtained in Examples 9 to 12 above were cut into 20 cm squares, and the adhesive layer surfaces were brought into contact with each other, and then a hot plate press was used.
  • the samples for adhesion test 1 to 4 containing a cured product of the heat-resistant adhesive of the present invention were obtained by heating and pressure-bonding at 200 ° C. and 1 MPa for 60 minutes.
  • a Tensilon tester manufactured by Toyo Baldwin
  • JIS C6481 a Tensilon tester (manufactured by Toyo Baldwin), in accordance with JIS C6481, a test piece with a width of 1 cm was set at a peeling speed of 3 mm / min, and 90 ° (plus or minus 5 °).
  • the peel strength between the copper foil and the cured product of the heat-resistant adhesive was measured.
  • Samples 1 and 2 were 10 to 14 N / cm
  • Sample 3 was 20 N / cm
  • Sample 4 was 16 N
  • Sample 3 (sample prepared using film 3 having a component (D) content of 50% resin solids) was 2.2 W / m ⁇ K, and sample 4 (component (D) content was The sample prepared using the film 4 having a resin solid content of 75% was 7.8 W / m ⁇ K.
  • the heat-resistant adhesive of the present invention is excellent in thermal conductivity and sufficiently satisfies heat resistance, adhesion, flame retardancy, and electrical insulation, and is reliable by using this adhesive. It is useful as an adhesive for laminating a heat sink on an electric circuit, metal foil or circuit board.
  • the heat-resistant adhesive of the present invention can be cured at a low temperature of 160 to 200 ° C., and the cured product of the composition has a heat resistance of 200 ° C. or higher and high thermal conductivity, adhesion, and flame retardancy. Since it has excellent electrical insulation, it is suitable as a high-performance semiconductor peripheral material.

Abstract

本発明は、 下記式(1) (式中、m、nは平均値で、0.005≦n/(m+n)<1を示し、また、m+nは0より大きく、200以下の正数である。Arは2価の芳香族基、Arはフェノール性水酸基を有する二価の芳香族基、Arは二価の芳香族基を示す。)で表される構造を有するフェノール性水酸基含有芳香族ポリアミド樹脂(A)、エポキシ樹脂(B)、硬化触媒(C)、無機フィラー(D)及び任意成分として前記成分(A)以外のエポキシ樹脂硬化剤を含有する耐熱用接着剤であって、前記成分(A)~(C)及び任意成分であるエポキシ樹脂硬化剤の合計100質量部に対する成分(D)の含有量が30~950質量部である耐熱用接着剤に関するものであり、該接着剤で、電気回路等と放熱板を接着し、接着剤を硬化した時、該接着剤硬化層は、高い耐熱性と高い接着性を有すると共に、高い熱伝導性を有し、かつ、耐久電気絶縁性にも優れ、更に、硬化した接着剤は難燃性であることから、高機能半導体周辺材料として極めて有用である。

Description

耐熱用接着剤
 本発明は、発熱体から放熱部材へ熱を伝達させるために用いる熱伝導性接着剤に関し、特に電力半導体素子などの発熱体からの熱を放熱部材に伝達させ、かつ絶縁層としても機能し、更には難燃性にも優れた熱伝導性樹脂層を形成するための熱伝導性接着剤及びこの接着剤を用いた積層物、接着剤付き放熱板、接着剤付き金属箔に関する。
 電気、電子機器の発熱部から放熱部材へ熱を伝達させる熱伝導性樹脂層には、高熱伝導性、絶縁性、接着性の要求から、熱硬化性樹脂に無機充填材を添加した熱伝導性樹脂組成物が用いられている。
 例えば、パワーモジュールにおいては電力半導体を搭載したリードフレームの裏面と放熱部となる金属板の間に設ける熱伝導性樹脂として、無機充填材を含有した熱硬化性樹脂シートや塗布膜が用いられている。
 過去に具体例として、特定のポリオルガノシロキサン及び充填剤を含む熱伝導性シリコーン組成物(特許文献1)や、エポキシ樹脂とNBRあるいは反応性アクリルゴムに充填剤を配合した接着シート(特許文献2)などが提案されている。また、耐熱性や電気絶縁性を向上させるため、シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂と充填剤を含む樹脂組成物からなるシート(特許文献3)等が提案されている。また、ポリアミド樹脂に熱伝導性の高い充填剤を多量に配合して熱伝導性を上げると、その溶融流動性が悪くなり、成形加工が困難となったり、また、成形加工品の衝撃強度等の機械特性が低下するため、それを改善するためにポリアミド樹脂と反応性を有するポリオレフィンを配合し、得られた樹脂組成物を用いて積層成形体(特許文献4)とする技術などが知られている。
 また、本発明で使用するフェノール性水酸基を有するポリアミド樹脂に充填剤を配合したフレキシブル配線板用の樹脂組成物からなるシートも知られている(特許文献5)が、熱伝導性等が悪く、パワーモジュール等に用いることは出来ない。
特開平8-208993号公報 特開2000-273409号公報 特開2004-217862号公報 特開2007-196474号公報 特開2007-204598号公報
 しかしながら、特許文献1は電気絶縁性に優れているが、弾性率の低いシリコーン樹脂を使用しているため、常温ならびに高温領域における銅箔接着性が低いという課題がある。特許文献2は高温時の電気絶縁性や難燃性に問題がある。特許文献3及び4は、耐熱性には優れるが耐溶剤性、密着性、難燃性等に問題があり、更に、微細化技術の進歩に伴い、より高い熱伝導性が求められており、熱伝導性においても十分とは言えない。熱伝導性を上げるために、フィラー含量を高めると今度は接着性等に問題を起こすおそれが生じる。そのため、上記の求められる条件の全てを満たすことは難しく、より一層の改良が求められている。
 本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、高温下の電気絶縁性及び接着性、難燃性に優れた耐熱用接着剤及びこれを用いた積層物を提供することを目的とする。またさらに、熱伝導性に優れた耐熱用接着剤、ならびにこの接着剤を用いた積層物、接着剤付き放熱板、接着剤付き金属箔を提供することを目的とする。
 本発明者らは、上記課題を解決するために、鋭意検討を重ねた結果、ポリアミド樹脂として、ポリアミド骨格中に一定量のフェノール性水酸基を有する特定なポリアミド樹脂を用い、それに、エポキシ樹脂、硬化触媒及び、無機フィラーとして窒化ホウ素又は窒化アルミナを配合することにより、上記の要求に沿った改善を達成しうることを見出した。
すなわち本発明は下記する(1)~(11)に関するものである。
(1)下記式(1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000001
(式中、m、nは平均値で、0.005≦n/(m+n)<1を示し、また、m+nは0より大きく、200以下の正数である。Arは2価の芳香族基、Arはフェノール性水酸基を有する二価の芳香族基、Arは二価の芳香族基を示す。)で表される構造を有するフェノール性水酸基含有芳香族ポリアミド樹脂(A)、エポキシ樹脂(B)、硬化触媒(C)、無機フィラー(D)として窒化アルミニウム又は窒化ホウ素、及び任意成分としての前記成分(A)以外のエポキシ樹脂硬化剤を含有する耐熱用接着剤であって、前記成分(A)~(C)及び任意成分であるエポキシ樹脂硬化剤の合計100質量部に対する成分(D)の含有量が30~950質量部である耐熱用接着剤。
(2) 式(1)のポリアミド樹脂(A)100部に対して、エポキシ樹脂(B)を2~50部、硬化触媒(C)を0.1~10部及び任意成分としてのエポキシ樹脂硬化剤を0~10部の割合で含む上記(1)に記載の耐熱用接着剤。
(3) 前記成分(A)~(C)及び任意成分であるエポキシ樹脂硬化剤の総量100質量部に対して、無機フィラー(D)が50~200質量部である上記(1)、(2)及び下記(11)のいずれか一項に記載の耐熱用接着剤。
(4) フィルム状に成形された(1)~(3)及び下記(11)のいずれか一項に記載の耐熱用接着剤。
(5)電気回路、金属箔または回路基板が、前項(1)~(4)及び下記(11)のいずれか一項に記載の耐熱用接着剤の硬化物層を介して放熱板に積層された積層物。
(6)金属箔が銅である前項(5)に記載の積層物。
(7)放熱板がアルミニウム、銅、金、銀、鉄又はそれらの合金である前項(5)又は(6)に記載の積層物。
(8)前項(1)~(4)及び下記(11)のいずれか一項に記載の耐熱用接着剤の層を有する接着剤付き放熱板。
(9)前項(1)~(4)及び下記(11)のいずれか一項に記載の耐熱用接着剤の層を有する接着剤付き金属箔。
(10)  上記 成分(A)~成分(D)及び前記任意成分のエポキシ樹脂硬化剤を含む上記(1)に記載の耐熱用接着剤100部に対して、溶媒を30~500部の割合で含む樹脂ワニス。
(11)  n/(m+n)の値が0.005以上で、0.25未満である上記(1)に記載の耐熱用接着剤。
 本発明の耐熱用接着剤は、160~200℃の低温で硬化が可能であり、しかも該組成物の硬化物は200℃以上の耐熱性を有すると共に、高い接着強度を有しながら、2~10W/m・Kという高い熱伝導性を達成することができ、かつ耐久電気絶縁性に極めて優れ、更に、高い難燃性も有し、該接着剤をフィルム状にしたときの柔軟性も有することから、高機能半導体周辺材料として好適に使用することができる。
 以下に、本発明の実施形態について説明する。
 本発明の樹脂組成物は、前記式(1)で表される構造を有するフェノール性水酸基含有ランダム共重合芳香族ポリアミド樹脂(A)(以下、単に「成分(A)」)と記載する)を含有する。式(1)におけるArは二価の芳香族基を、Arはフェノール性水酸基を有する二価の芳香族基を、Arは二価の芳香族基をそれぞれ表す。尚、本明細書において「二価の芳香族基」とは、その構造中に少なくとも一つ以上の芳香族基を有する化合物の芳香環から水素原子を二個除いた構造を意味しており、例えばジフェニルエーテルにおいて酸素を挟んで両側に位置する別々のベンゼン環から、それぞれ一つずつ水素原子を除いた構造も本明細書でいう「二価の芳香族基」の範疇に含まれる。
 式(1)におけるArの具体例としては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、4,4’-オキシ二安息香酸、4,4’-ビフェニルジカルボン酸、3,3’-メチレン二安息香酸、4,4’-メチレン二安息香酸、4,4’-チオ二安息香酸、3,3’-カルボニル二安息香酸、4,4’-カルボニル二安息香酸、4,4’-スルフォニル二安息香酸、1,5-ナフタレンジカルボン酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸及び1,2-ナフタレンジカルボン酸等のジカルボン酸類から二個のカルボキシル基を除いた残基が挙げられ、イソフタル酸又はテレフタル酸の残基が好ましく、イソフタル酸がより好ましい。
 式(1)におけるArの具体例としては、5-ヒドロキシイソフタル酸、4-ヒドロキシイソフタル酸、2-ヒドロキシイソフタル酸、3-ヒドロキシイソフタル酸及び2-ヒドロキシテレフタル酸等のフェノール性水酸基を有するジカルボン酸類から二個のカルボキシル基を除いた残基が挙げられ、5-ヒドロキシイソフタル酸の残基が好ましい。
 式(1)におけるArの具体例としては、下記するジアミン類から二個のアミノ基を除いた残基が挙げられる。
 Ar用のジアミンとしては、m-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン及びm-トリレンジアミン等のフェニレンジアミン類;3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル及び4,4’-ジアミノジフェニルエーテル等のジアミノジフェニルエーテル類;3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノジフェニルチオエーテル、3,3’-ジエトキシ-4,4’-ジアミノジフェニルチオエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルチオエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルチオエーテル及び3,3’-ジメトキシ-4,4’-ジアミノジフェニルチオエーテル等のジアミノジフェニルチオエーテル類;1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン及び1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン等のアミノフェノキシベンゼン類;4,4’-ジアミノベンゾフェノン及び3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン等のジアミノベンゾフェノン類;4,4’-ジアミノジフェニルスルフォキサイド及び4,4’-ジアミノジフェニルスルホン等のジアミノジフェニルスルホン類;ベンチジン、3,3’-ジメチルベンチジン、2,2’-ジメチルベンチジン、3,3’-ジメトキシベンチジン及び2,2’-ジメトキシベンチジン等のベンチジン類;3,3’-ジアミノビフェニル;p-キシリレンジアミン、m-キシリレンジアミン及びo-キシリレンジアミン等のキシリレンジアミン類並びに4,4’-ジアミノジフェニルメタン等のジアミノジフェニルメタン類等が挙げられる。これらの中で、フェニレンジアミン類、ジアミノジフェニルメタン類またはジアミノジフェニルエーテル類が好ましく、ジアミノジフェニルメタン類またはジアミノジフェニルエーテル類がより好ましい。得られるポリマーの溶剤溶解性や難燃性の面から3,4’-ジアミノジフェニルエーテルまたは4,4’-ジアミノジフェニルエーテルが特に好ましい。
 式(1)におけるm並びにnは、0.005≦n/(m+n)<1および0<m+n≦200の関係を満たす平均繰り返し数を表す。
 n/(m+n)の好ましい範囲は、0.005≦n/(m+n)≦0.5であり、より好ましくは0.005≦n/(m+n)<0.25、更に好ましくは0.005≦n/(m+n)≦0.2である。また、場合により、0.005≦n/(m+n)<0.1でもよい。なお、m+nは2~200程度が好ましく、より好ましくは、10~100程度であり、最も好ましくは20~80程度である。
 式(1)におけるn/(m+n)の値が小さすぎる場合は、エポキシ樹脂(B)(以下、単に「成分(B)」と記載する)中のエポキシ基と成分(A)中のフェノール性水酸基との架橋反応が十分に進行せず、硬化物の耐熱性や機械強度等が低下する。また、m+nの値が大きすぎる場合は、溶剤溶解性が極端に低下するため、成分(A)の生産性やワニスとしての作業性に問題が生じる。
 式(1)におけるポリアミド樹脂の両末端は、ジアミン成分のアミノ基、ジカルボン酸成分のカルボキシル基又は両者の混合のいずれでも良いが、ジアミン成分を小過剰で反応させて得られる両末端にアミノ基を有するポリアミド樹脂が好ましい。
 式(1)のポリアミド樹脂のフェノール性水酸基当量は、8000~35000g/eq程度が好ましく、10000~25000g/eq程度がより好ましく、12000~20000程度は最も好ましい。また、該ポリアミド樹脂の活性水素当量は3500~10000g/eq程度が好ましく、4000~8000程度がより好ましい。
 本発明の耐熱用接着剤の総量に対する成分(A)の含量は、好ましくは25~65質量%程度であり、より好ましくは30~55質量%程度である。
 成分(A)は、前記のジカルボン酸類、フェノール性水酸基を有するジカルボン酸類およびジアミン類を用いて、例えば特開2006-124545号公報等に記載の方法に準じて合成することができる。 
 尚、本発明においては、成分(A)を成分(B)の硬化剤(架橋成分)として使用する。
 成分(B)であるエポキシ樹脂としては、1分子中にエポキシ基を2個以上有するものであれば特に制限はない。具体的にはノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン-フェノール縮合型エポキシ樹脂、キシリレン骨格含有フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル骨格含有ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェノール型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。これらのエポキシ樹脂は2種以上を併用することも出来る。好ましいエポキシ樹脂としては、ビフェニル骨格含有ノボラック型エポキシ樹脂、例えばNC-3000(日本化薬株式会社製)などを挙げることができる。
 本発明の耐熱用接着剤における成分(B)の使用量は、成分(A)及び場合により併用されるエポキシ樹脂硬化剤(後述)中の活性水素1当量に対して、成分(B)のエポキシ基が通常0.5~2.0当量、好ましくは0.7~1.5当量、より好ましくは0.8~1.3当量となる量である。尚、ここでいう活性水素当量とは、エポキシ基と反応しうる官能基に含まれる電気陰性度の大きな原子に結合した水素原子の当量を示す。該式(1)のポリアミド樹脂における活性水素は、フェノール性水酸基の水素原子及び末端アミノ基における1つの水素原子が該当する。
 成分(A)100質量部に対する成分(B)の使用量は、通常、2~50質量部、好ましくは、5~20質量部程度であり、更に好ましくは5~15質量部程度である。
 本発明の耐熱用接着剤には、成分(A)以外に他のエポキシ樹脂硬化剤(以下成分OECとの言う)を併用しても良い。
 併用し得る硬化剤の具体例としては、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンより合成されるポリアミド樹脂、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、フェノールノボラック等の多価フェノール化合物、トリフェニルメタン及びこれらの変性物、イミダゾール、BF3-アミン錯体、グアニジン誘導体などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。使用態様により、適宜選択すればよい。例えば本発明の好ましい1つの態様においては、多価フェノール化合物が使用され、好ましくはフェノール、ホルムアルデヒド及びベンゼン又はビフェニル等を縮合反応させることにより得られるフェノールノボラックが好ましく、フェノール、ホルムアルデヒド及びビフェニルの縮合反応で得られるフェノールノボラックがより好ましい。
 これらを併用する場合、併用する硬化剤にもよるので一概には言えないが、成分(A)が全硬化剤100質量部中に占める割合は通常20質量部以上、好ましくは30質量部以上である。本発明のより好ましい態様においては、60質量部以上がより好ましく、更に好ましくは80質量部以上であり、90質量部以上が最も好ましい。
 本発明の耐熱用接着剤が含有する硬化触媒(C)(以下、単に「成分(C)」と記載する)の具体例としては、2-メチルイミダゾール、2-エチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール等のイミダゾール類、2-(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8-ジアザ-ビシクロ(5,4,0)ウンデセン-7等の第3級アミン類、トリフェニルホスフィン等のホスフィン類、オクチル酸スズ等の金属化合物等が挙げられる。通常イミダゾール類が好ましい。成分(C)の使用量は、成分(B)100質量部に対して0.1~20.0質量部である。
 本発明の耐熱用接着剤が含有し得る無機フィラー(D)(以下、単に「成分(D)」と記載する)としては、レーザーフラッシュ法で測定した熱伝導率が3W/mK以上のものが好ましく、5W/mK以上のものがより好ましい。成分(D)の具体例としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、アルミナ、窒化アルミニウム、ホウ酸アルミウィスカ、窒化ケイ素、窒化ホウ素、結晶性シリカ、非晶性シリカ又は炭化ケイ素が挙げられ、耐熱用接着剤の熱伝導性を高めるためにはアルミナ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、結晶性シリカ、非晶性シリカ、炭化ケイ素が好ましい。
 本発明の耐熱用接着剤においては、成分(D)として窒化ホウ素又は窒化アルミニウムを含有することを特徴とする。以下の記載において、特に断らない限り、成分(D)は窒化ホウ素又は窒化アルミニウムの何れか又は両者を意味する。
 窒化ホウ素の場合、鱗片状の微小結晶で、結晶の平均粒径2μm以下のもの、結晶の長径が10μm以下のものなどが知られている。これらの微小結晶は通常凝集して、比較的大きな2次凝集粒子を形成している場合が多い。本発明においては、2次凝集粒子の平均粒子径が10~30μm程度、より好ましくは15~25μm程度のものが好ましい。従って、原料として大きな2次凝集粒子の窒化ホウ素を用いるときは、適宜本発明の耐熱用接着剤中に分散する窒化ホウ素の2次凝集粒子の大きさが、上記の範囲になるよう適宜粉砕等で、調整するのが好ましい。予め、窒化ホウ素の粒子径を撹拌混合などにおいて、調整するか、又は、他の原料との撹拌混合若しくは混練の際に、混合と一緒に2次粒子の調整を行っても良い。
 窒化アルミニウムの場合は、0.6μm程度の微小結晶がやはり凝集して、1~2μm程度の2次凝集粒子を形成しているので、それをそのまま使用することがことができる。
 平均粒子径は、撹拌混合中の液をサンプリングして、測定すればよい。平均粒子径の測定はグラインドゲージ(粒度ゲージ)又はレーザ回折粒度分布測定装置で行うことができる。
 成分(D)(窒化ホウ素又は窒化アルミニウム)の使用量は、成分(A)~(C)及び任意成分であるエポキシ樹脂硬化剤(成分OEC)の合計100質量部に対して通常30~950質量部、好ましくは40~500質量部、より好ましくは50~200質量部である。高い熱伝導性、高い接着性及び高い電気信頼性などのバランスを考慮するとき、70~170質量部程度が最も好ましく、このような範囲で使用したとき、高い接着強度と共に、5~30W/m・Kという極めて高い熱伝導率及び高い電気信頼性を達成することができる。
 耐熱用接着剤の熱伝導性を高めるためには成分(D)の配合量が多いほど好ましいが、多すぎると接着性の低下を招き、フィルム状に成形した際のフレキシビリティーが低下する傾向がある。
 本発明の耐熱用接着剤には、前記成分(A)~成分(D)及び成分OEC以外の添加剤、例えばカップリング剤、有機溶剤及びイオン補修剤等を必要により添加してもよい。用い得るカップリング剤は特に限定されないが、シランカップリング剤が好ましく、その具体例としてはγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。これらカップリング剤の使用量は、耐熱用接着剤の用途や成分(D)の含有量、カップリング剤の種類等に応じて選択すればよく、本発明の耐熱用接着剤100質量部中に通常0~5質量部である。
 本発明の耐熱用接着剤に用い得るイオン補足剤は特に限定されないが、例えば銅がイオン化して溶け出すのを防ぐための銅害防止剤として知られるトリアジンチオール化合物や2,2’-メチレン-ビス-(4-メチル-6-第3-ブチルフェノール)などのビスフェノール系還元剤、無機イオン吸着剤としてのジルコニウム系化合物、アンチモンビスマス系化合物、マグネシウムアルミニウム系化合物及びハイドロタルサイトなどが挙げられる。これらイオン補足剤を添加することにより、イオン性不純物が吸着されて吸湿時の電気信頼性を向上させることができる。イオン補足剤の使用量は、その効果や耐熱性、コスト等の兼ね合いから本発明の耐熱用接着剤中に通常0~5質量%である。
 本発明の耐熱接着剤は、有機溶剤に溶解したワニスとして用いることもできる。用い得る有機溶剤としては、例えばγ-ブチロラクトン等のラクトン類、N-メチルピロリドン(NMP)、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミドおよびN,N-ジメチルイミダゾリジノン等のアミド系溶剤、テトラメチレンスルフォン等のスルフォン類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートおよびプロピレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノンおよびシクロヘキサノン等のケトン系溶剤、トルエンおよびキシレン等の芳香族溶剤が挙げられる。これらの中で、ラクトン類、アミド系溶剤又はケトン系溶剤が好ましく、ラクトン類又はアミド系溶剤がより好ましい。これら有機溶剤の使用量は、本発明のワニスの総量中に通常90質量%以下、好ましくは80質量%以下、より好ましくは70質量%以下である。本発明の耐熱用接着剤成分(固形分)100部に対する該溶媒の使用量としては30~500部程度、好ましくは70~300部程度、より好ましくは100~200部程度である。
 ワニスは、(D)成分以外の成分を混合撹拌しながら、(D)成分を少しずつ添加して製造することができる。成分(D)の分散を考慮した場合、らいかい機、3本ロール、ビーズミルなどにより、またはこれらの組み合わせにより撹拌混合若しくは混練することにより製造することができる。また、成分(D)と低分子量成分(例えば硬化触媒(C)、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂用添加剤、及びその他の添加剤等)をあらかじめ混合した後、高分子量成分(例えば成分(A)等)を配合することにより、混合に要する時間を短縮することが可能になる。また得られたワニスから、各成分を混合する際にその内部に含まれた気泡を真空脱気により除去することが好ましい。
 本発明の耐熱用接着剤は、前記ワニスを基材に塗布した後、有機溶剤を乾燥させることによりフィルム状に成形(フィルム化)して用いるのが好ましい。
 フィルム化に際し用い得る基材としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエステルフィルム、フッ素フィルム、銅箔などが好適に用いられる。乾燥後に基材を剥離する場合、これら基材の表面はシリコーン等で離型処理されていても良い。具体的には、本発明の耐熱用接着剤のワニスを、基材の表面にコンマコーター、ダイコーター、グラビアコーター等で塗布し、熱風や赤外線ヒーター等により硬化反応が進まない程度に塗布物中の溶剤を揮発させた後、基材から剥離することでフィルム状の耐熱用接着剤を得ることが出来る。尚、ここで用いた基材を、そのまま耐熱用接着剤の被着体として用いる場合には、溶剤を揮発させた後に基材を剥離しなくても構わない。
 フィルム状の耐熱用接着剤の厚さは通常2~500μmであり、好ましくは2~300μm、より好ましくは5~200μmであり、更に好ましくは10~200、最も好ましくは20~150μm程度である。フィルムの厚さが薄すぎると被着体との接着強度の低下が顕著であり、フィルムの厚さが厚すぎるとフィルム中に残留する溶剤が多くなり、被着体との接着物に環境試験を行う際に浮きや膨れなどの不具合が生じる。
  以上述べてきた本発明の耐熱用接着剤の好ましい態様としては、下記の態様を挙げることができる。
 なお、下記において部及び%は特に断らない限り、質量部及び質量%を表す。
(I) 式(1)のポリアミド樹脂(A)100部に対して、エポキシ樹脂(B)を2~50部、硬化触媒(C)を0.1~10部及び任意のエポキシ樹脂硬化剤(成分OEC)0~10部の割合で含み、これらの総量が、本発明の耐熱用接着剤の総量に対して、37~75%であり、残部25~63%が無機フィラー(D)(窒化アルミニウム又は窒化ホウ素)である耐熱用接着剤。
(II) 前記ポリアミド樹脂(A)が、該耐熱用接着剤の総量に対して、25~65%である上記(I)に記載の耐熱用接着剤。
(III) 上記ポリアミド樹脂(A)含量が30~55%である上記(II) に記載の耐熱用接着剤。
(IV) 前記ポリアミド樹脂(A)100部に対するエポキシ樹脂(B)含量が2~20部である上記(I)~(III)の何れか一項に記載の耐熱用接着剤。
(V) 上記エポキシ樹脂(B)含量が5~15部である上記(IV)に記載の耐熱用接着剤。
(VI) 該耐熱用接着剤の総量に対する、前記無機フィラー(D)としての窒化アルミニウム又は窒化ホウ素の含量が30~62%であり、成分(A)~成分(C)及び成分OECの合計含量が38~70%である上記(I)~(V)の何れか一項に記載の耐熱用接着剤。
(VII) 上記窒化アルミニウム又は窒化ホウ素(成分D)の含量が40~62%であり、成分(A)~成分(C)及び成分OECの合計含量が38~60%である上記VIに記載の耐熱用接着剤。
(VIII) フィルム状に成形された上記(I)~(VII)の何れか一項に記載の耐熱用接着剤。
(IX) 前記式(1)のm及びnが、0.005≦n/(m+n)≦0.05であり、m+nは2~200の条件を満たす前記ポリアミド樹脂(A)である上記(I)~(VIII)の何れか一項に記載の耐熱用接着剤。
(X) 式(1)の両末端に、アミノ基を有する前記ポリアミド樹脂(A)である上記(I)~(IX)の何れか一項に記載の耐熱用接着剤。
(XI) エポキシ樹脂が、ビフェノール骨格含有フェノールノボラック樹脂である上記(I)~(X)の何れか一項に記載の耐熱用接着剤。
(XII) 硬化触媒(C)がイミダゾール類である上記(I)~(XI)の何れか一項に記載の耐熱用接着剤。
(XIII) 窒化ホウ素の2次凝集粒子の平均粒子径が10~30μmの範囲である上記(I)~(XII)の何れか一項に記載の耐熱用接着剤。
(XIV) 窒化アルミニウムの2次凝集粒子の平均粒子径が1~10μmの範囲である上記(I)~(XIII)の何れか一項に記載の耐熱用接着剤。
(XV) 該耐熱用接着剤に含有される成分又はその含量割合が上記(I)~(XIV)の何れか一項に記載の割合であり、上記 成分(A)~成分(D)及び成分OECの合計100部に対して、溶媒を30~500部の割合で含む樹脂ワニス。
(XVI) 溶媒の含量が90~200部である上記(XV)に記載の樹脂ワニス。
 本発明の耐熱用接着剤の用途は特に限定されないが、その有する耐熱性、高熱伝導性、密着性、難燃性及び電気絶縁性等の効果から電気回路、金属箔または回路基板と放熱板とを接着するために使用するのが好ましい。前記金属箔の材質は特に限定されないが、汎用性の点で銅箔が好ましい。尚、ここでいう放熱板とは、電気回路に搭載されている電子部品からの放熱を促進する目的で、電子部品が搭載される面に積層される板であり、通常金属板等が使用される。
 両者を接着する方法は特に限定されない。例えば、本発明の該接着剤を、ワニスとして、電気回路、金属箔または回路基板(以下電気回路等とも言う)に塗布するか、又は放熱板に塗布して、必要に応じて、溶媒を除去した後、両者を積層して、加熱硬化させることより、両者を接着することができる。
 また、本発明の該接着剤がフィルム状に加工されているときは、電気回路、金属箔または回路基板の、放熱板と接着する面に該フィルム状接着剤を積層するか、又は、放熱板の、電気回路等と接着する面に、該フィルム状接着剤を積層するかした後、その接着剤層に、放熱板、又は、電気回路、金属箔若しくは回路基板を積層し、加熱硬化してもよい。
 また、便宜上、放熱板の、電気回路等と接着する面に、本発明の該接着剤層を形成し、接着剤付き放熱板とし、その接着剤層に電気回路等を積層し、次いで、加熱硬化してもよい。また、逆に、電気回路等の、放熱板を接着する面に、本発明の該接着剤層を形成し、接着剤付き積層物(好ましくは、接着剤付き金属箔など)とし、該接着剤層に放熱板を積層し、加熱硬化してもよい。
 放熱板又は電気回路等の面に接着剤層を形成するには、通常、該面に、本発明の接着剤ワニスを塗布後乾燥するか、又は、フィルム状に成形された接着剤を積層すればよい。
 上記のように電気回路等と放熱板を接着することにより、電気回路等が、本発明の接着剤の硬化物層を介して放熱板と接着している本発明の積層物を得ることが出来る。
 電気回路に放熱板が積層されている積層物は、上記で得られた放熱板付き金属箔(金属箔が本発明の該接着剤層の硬化物層を介して積層された放熱板)の金属箔部分を回路加工することにより作成することが出来る。また、電気回路への電子部品の搭載は半田接続などによって行われる。上記放熱板の材料としては、銅、アルミニウム、ステンレス、ニッケル、鉄、金、銀、モリブデン及びタングステンなどの金属、金属とガラスの複合物、並びに合金などが挙げられ、中でも熱伝導率の高い銅、アルミニウム、金、銀又は鉄や、これらを用いた合金が好ましい。放熱板の厚さに特に制限は無いが、加工性の点から通常0.1~5mmである。これら放熱板や金属箔に本発明の耐熱用接着剤を塗布したり、または前記の接着シートを積層することにより、本発明の接着剤付き放熱板並びに接着剤付き金属箔が得られる。
 次に本発明を更に実施例、比較例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、実施例中における「部」は特に断りの無い限り質量部を示す。
合成例1(フェノール性水酸基含有芳香族ポリアミド樹脂(A)の合成)
 温度計、冷却管、分留管及び撹拌機を取り付けたフラスコに、窒素パージを施しながら、5-ヒドロキシイソフタル酸3.64部(0.02モル)、イソフタル酸162.81部(0.98モル)、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル204.24部(1.02モル)、塩化リチウム10.68部、N-メチルピロリドン1105部及びピリジン236.28部を加えて撹拌溶解させた後、亜リン酸トリフェニル512.07部を加えて95℃で4時間縮合反応をさせることにより成分(A)を含む反応液を得た。この反応液に撹拌を施しながら、90℃で水670部を3時間かけて滴下し、更に90℃で1時間撹拌した。その後60℃まで冷却して30分間静置したところ、上層が水層、下層が油層(樹脂層)に層分離したため、上層をデカンテーションによって除去した。除去した上層の量は1200部であった。油層(樹脂層)にN,N-ジメチルホルムアミド530部を加え、希釈液とした。該希釈液に、水670部を添加し、静置した。層分離後、デカンテーションにより、水層除去した。この水洗工程を4回繰り返して成分(A)の洗浄を行った。洗浄終了後、得られた成分(A)の希釈液を、撹拌された水8000部中に2流体ノズルを用いて噴霧し、析出した粒径5~50μmの成分(A)の微粉を濾別した。得られた析出物のウェットケーキを、メタノール2700部に分散させ撹拌下で2時間還流した。次いでメタノールを濾別し、濾取した析出物を水3300部で洗浄後、乾燥することにより、下記式(2)で表される繰り返し単位を構造中に有する成分(A)332部を得た。
式(2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000002
この成分(A)中に含まれる元素量を蛍光X線測定装置で定量したところ、全リン量は150ppm、全塩素量は20ppmであった。また、得られた成分(A)の固有粘度は0.52dl/g(ジメチルアセトアミド溶液、30℃)であり、ゲルパーミネイションクロマトグラフィーの測定結果を元にポリスチレン換算で求めた数平均分子量は44000、重量平均分子量は106000であった。合成反応に用いた各成分のモル比から算出した式(2)中のmの値は約39.2、nの値は約0.8であり、フェノール性水酸基当量は16735g/eq.、活性水素当量は5578g/eq.であった。
実施例1
 合成例1で得られた成分(A)100部に対し、成分(B)としてNC-3000(日本化薬株式会社製、エポキシ当量275g/eq.)を10部、成分(A)以外のエポキシ樹脂硬化剤としてGPH-65(日本化薬株式会社製、水酸基当量203g/eq.)を2.5部、成分(C)として2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール(2PHZ)を1部、溶剤としてN-メチルピロリドン210.8部をそれぞれ加え、30℃で2時間攪拌することにより混合溶液(固形分濃度35重量%)を得た。得られた混合溶液50部(固形分17.5部)に対し、成分(D)として、窒化ホウ素(水島合金鉄株式会社製 熱伝導率50W/mK)を8.75部(対樹脂固形分50%)加えて三本ロールで混練し、本発明の耐熱用接着剤を含む樹脂ワニス1を得た。
実施例2
 窒化ホウ素の使用量を8.75部から13.12部(対樹脂固形分75%)に変更した以外は、実施例1に準じて本発明の耐熱用接着剤を含む樹脂ワニス2を得た。
実施例3及び4
 実施例1及び2における窒化ホウ素を、窒化アルミニウム(株式会社トクヤマ製)に変更したこと以外は実施例1及び2とそれぞれ同様の方法で、本発明の耐熱用接着剤を含む樹脂ワニス3及び4を得た。
実施例5~8
 実施例1~4で得られた樹脂ワニス1~4を、それぞれPETフィルム上に乾燥後の厚みが25μmになるように塗布し、130℃で20分間乾燥して溶剤を除去した。得られた本発明の耐熱用接着剤層をPETフィルムから剥離することにより本発明の耐熱用接着剤フィルム1~4をそれぞれ得た。
試験例1
(1)絶縁抵抗値の測定(耐久電気絶縁性:電気信頼性)
 ポリイミド銅張積層板ユピセルD(商品名;宇部興産社製)を用いてIPC-SM-840に規定されている櫛型電極(導体/線間=50μm/50μm)を作製し評価用回路とした。該評価用回路4個のそれぞれに、実施例5~8で得られた耐熱用接着剤フィルム1~4のそれぞれを貼り、180℃、1MPaの条件で60分間加熱圧着し、電気信頼性試験用サンプル1~4を得た。
 イオンマイグレーション加速試験機を用いて、121℃、100%RHの環境下で電極間に50Vの直流電圧を印加しながら、最初から1000時間まで、サンプル1~4の絶縁抵抗値の連続測定を行った。何れも1000時間まで10の5乗オーム以上の絶縁抵抗値を維持していた。
(2)難燃性試験
 実施例5~8で得られた本発明の耐熱用接着剤フィルム1~4を、それぞれ型枠にカプトンRTM(上付きRTMは登録商標を示す)テープでそれぞれ固定し、180℃で1時間硬化させることにより硬化フィルム1~4をそれぞれ得た。これら硬化フィルムの難燃性試験(UL(Underwriter Laboratories)94規格に準拠)を行った結果、難燃性はいずれもVTM-0相当であった。
(3)TMA(Thermomechanical analysis)測定
 前記で得られた硬化フィルム1~4のTMA測定(パーキンエルマー製TMA7使用)を行った結果、硬化フィルム1(成分(D)の含有量が対樹脂固形分50%)のTg(ガラス転移温度)は265℃、80~180℃間のCTE(線膨張係数)は40ppmであり、硬化フィルム2(成分(D)の含有量が対樹脂固形分75%)のTgは290℃、80~180℃間のCTEは25ppmであった。また、硬化フィルム3(成分(D)の含有量が対樹脂固形分50%)のTg(ガラス転移温度)は 270℃、80~180℃間のCTE(線膨張係数)は45ppm/℃であり、硬化フィルム4(成分(D)の含有量が対樹脂固形分75%)のTgは270℃、80~180℃間のCTEは30ppm/℃であった。
実施例9~12
 実施例1~4で得られた樹脂ワニス1~4を、乾燥後の厚さが20μmになるように厚さ18μmの圧延銅箔(日鉱マテリアルズ製、BHN箔)の粗化処理面上にロールコーターを用いてそれぞれ塗布し、130℃で20分間の乾燥条件で溶剤を除去して本発明の耐熱用接着剤層付き圧延銅箔1~4を得た。
試験例2
(1)剥離強度
 上記実施例9~12で得られた耐熱用接着剤層付き圧延銅箔を20cm角に各2枚づつ切り出し、各々の接着剤層面同士を接触させた後に熱板プレス機を用いて200℃、1MPaの条件で60分間加熱圧着して本発明の耐熱用接着剤の硬化物を含む密着性試験用サンプル1~4を得た。これらのサンプルについて、テンシロン試験機(東洋ボールドウィン製)を用いて、JIS C6481に準拠して、1cm幅の試験片を、引き剥がし速度を3mm/分に設定し、90°(プラスマイナス5°)の方向に引き剥がし、銅箔と耐熱用接着剤の硬化物との剥離強度を測定した。
 その結果、サンプル1及び2は10~14N/cm、サンプル3は20N/cm、サンプル4は16N/cmであった。
(2)熱伝導性試験
 実施例5~8で得られた本発明の耐熱用接着剤フィルム1~4をそれぞれ20枚重ね、熱板プレス機を用いて200℃、1MPaの条件で60分間加熱圧着して熱伝導性試験用サンプル1~4を得た。得られたサンプルの熱伝導率を、熱伝導率測定器(Anter Corporation製、UNITEM MODEL2022)を用いて測定した結果、サンプル1(成分(D)の含有量が対樹脂固形分50%のフィルム1を用いて作製したサンプル)は3.05W/m・K、サンプル2(成分(D)の含有量が対樹脂固形分75%のフィルム2を用いて作製したサンプル)は8.70W/mKであった。また、サンプル3(成分(D)の含有量が対樹脂固形分50%のフィルム3を用いて作製したサンプル)は2.2W/m・K、サンプル4(成分(D)の含有量が対樹脂固形分75%のフィルム4を用いて作製したサンプル)は7.8W/m・Kであった。
 このように本発明の耐熱用接着剤は、熱伝導性に優れると共に、耐熱性、密着性、難燃性、電気絶縁性を十分に満足するものであり、この接着剤を使用することにより信頼性の高い積層物を得ることができ、電気回路、金属箔または回路基板に放熱板を積層するための接着剤として有用である。
 本発明の耐熱用接着剤は、160~200℃の低温で硬化が可能であり、しかも該組成物の硬化物は200℃以上の耐熱性を有すると共に、高熱伝導性、密着性、難燃性、電気絶縁性に優れるため、高機能半導体周辺材料として好適である。

Claims (11)

  1. 下記式(1)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000003
    (式中、m、nは平均値で、0.005≦n/(m+n)<1を示し、また、m+nは0より大きく、200以下の正数である。Arは2価の芳香族基、Arはフェノール性水酸基を有する二価の芳香族基、Arは二価の芳香族基を示す。)で表される構造を有するフェノール性水酸基含有芳香族ポリアミド樹脂(A)、エポキシ樹脂(B)、硬化触媒(C)、無機フィラー(D)として窒化アルミニウム又は窒化ホウ素、及び任意成分として前記成分(A)以外のエポキシ樹脂硬化剤を含有する耐熱用接着剤であって、前記成分(A)~(C)及び任意成分であるエポキシ樹脂硬化剤の合計100質量部に対する成分(D)の含有量が30~950質量部である耐熱用接着剤。
  2.  式(1)のポリアミド樹脂(A)100部に対して、エポキシ樹脂(B)を2~50部、硬化触媒(C)を0.1~10部及び任意成分としてのエポキシ樹脂硬化剤を0~10部の割合で含む請求項1に記載の耐熱用接着剤。
  3.  前記成分(A)~(C)及び任意成分であるエポキシ樹脂硬化剤の総量100質量部に対して、無機フィラー(D)が50~200質量部である請求項1に記載の耐熱用接着剤。
  4.  フィルム状に成形された請求項1に記載の耐熱用接着剤。
  5.  電気回路、金属箔または回路基板が、請求項1に記載の耐熱用接着剤の硬化物層を介して放熱板に積層された積層物。
  6.  金属箔が銅である請求項5に記載の積層物。
  7.  放熱板がアルミニウム、銅、金、銀、鉄又はそれらの合金である請求項5又は6に記載の積層物。
  8.  請求項1に記載の耐熱用接着剤の層を有する接着剤付き放熱板。
  9.  請求項1に記載の耐熱用接着剤の層を有する接着剤付き金属箔。
  10.   上記 成分(A)~成分(D)及び任意成分として前記成分(A)以外のエポキシ樹脂硬化剤を含む請求項1に記載の耐熱用接着剤100部に対して、溶媒を30~500部の割合で含む樹脂ワニス。
  11.   n/(m+n)の値が0.005以上で、0.25未満である請求項1に記載の耐熱用接着剤。
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