WO2011010738A1 - 接合構造体の製造方法および接合構造体 - Google Patents
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Abstract
Description
このように、従来の接合方法を用いて製造されたフィルムでは、接着剤の使用や樹脂フィルムの軟化点以上の加熱による光学特性の劣化が生じることや、十分な接合強度が得られないなどの問題があった。
なお、上述した水蒸気ガスとは、2つの接合材料の接合面に接合媒体層としての水膜を形成するものであって、水を気相化した水蒸気や、気体中に飛散する微小水滴、またはそれらの混合物などである。上述したこの微小水滴は、水膜による接合媒体層を良好に(極薄の水膜として)形成するために直径を100μm以下とすることが望ましい。このような水滴を形成するためには、微小な水滴が形成可能な霧吹き噴霧器や超音波加湿器などを使用することや、微小な水滴が多数存在する高湿度の雰囲気を恒湿槽や高湿庫などで形成することが考えられる。
第4局面の本願発明は、第1局面の接合構造体の製造方法において、前記2つの接合材料がいずれも有機化合物であり、前記接合媒体層が水蒸気ガスまたは有機金属化合物からなるものであり、前記接合工程が加熱を行う工程であることを特徴とする。
第6局面の本願発明は、第1局面の接合構造体の製造方法において、前記2つの接合材料が、シクロオレフィン系樹脂,ポリエチレンテレフタレート,ガラスからなる群から選択される1種または2種であり、前記接合媒体層が水蒸気ガスからなるものであり、前記接合工程が加熱を行う工程であることを特徴とする。
このような接合構造体の製造方法であれば、130℃以下の加熱にて接合構造体を製造できるため、接合材料の特性を劣化させることなく接合構造体を製造することができる。
第12局面の本願発明は、第11局面の接合構造体の製造方法において、前記表面処理工程がコロナ処理,プラズマ処理,オゾン処理,電磁波照射処理,のいずれか1つ以上を行う工程であることを特徴とする。
第13局面の本願発明は、第11局面の接合構造体の製造方法において、前記表面処理工程がコロナ処理を行う工程であり、前記接合工程が35分以上の加熱を行う工程であることを特徴とする。
第14局面の本願発明は、第1~第13局面のいずれかの接合構造体の製造方法において、前記接合媒体層形成工程の後に、前記2つの接合材料を、前記接合媒体層を介して重ねた状態で挟圧する挟圧工程を備えることを特徴とする。
なお、挟圧工程の具体的な手法は特に限定されない。例えば、ローラー等により加圧することや、プレスにより加圧することなどが考えられる。挟圧の圧力は、接合材料の特性を損なわない程度の圧力であればよい。
第15局面の本願発明は、第14局面の接合構造体の製造方法において、前記挟圧工程が、前記2つの接合材料を挟圧しつつ加熱する工程であることを特徴とする。
第16局面の本願発明は、2つの接合材料を接合させてなる接合構造体であって、前記2つの接合材料が、表面同士の水素結合または金属分子を介した共有結合にて接合されていることを特徴とする。
<PVAフィルムとシクロオレフィン高分子フィルムの接合>
本発明にて用いるPVAフィルムは、ポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものである。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は特に限定されるものでなく、公知の方法で製膜することができる。
[実施例1]
本実施例では、接合構造体の一例として、液晶表示素子用に広く用いられる偏光板を製造した。具体的には、偏光板の偏光子としてポリビニルアルコール系フィルム(ポバールフィルム、株式会社クラレ製、100μm厚、以降単にPVAフィルムという)を選択し、また保護フィルムとしてはシクロオレフィン高分子フィルム(COP)であるゼオノア(ZEONOR、日本ゼオン株式会社製)を選択し、それらの接合を行った。
(1)表面処理工程
ここでは、プラズマ処理による接合材料の表面処理を行った。
(1.1)ゼオノアの表面親水化処理
シクロオレフィンポリマーからなるゼオノアは基本的にC-H結合からなる高分子である。このC-H基の表面エネルギーは20~40mN/mであり水に対する接触角はおおよそ90度の疎水性を示す。このゼオノアを親水化するために、酸素プラズマ処理を実行し、ゼオノア表面に親水基を導入した。
(1.2)ポリビニルアルコール系フィルムの表面処理
PVAフィルムはその構造上バルクにOH基を有することから、表面未処理状態で既に親水性を呈する。従って、PVAフィルムの表面処理はフィルム表面に付着する微粒油脂や汚れの除去を副次的な目的として行った。
(1.3)酸素プラズマ処理後の表面粗さおよび質量の測定
上記ゼオノアおよびPVAフィルムの表面処理後の表面粗さRaを測定した。表面粗さRaは、キーエンスVN-8010原子間力顕微鏡(AFM)を使用し、表面を走査して凹凸を測定し平均的なRa値を算出した。その結果、ゼオノアの表面粗さRaは全ての製造サンプルで約1nm,PVAフィルムの表面粗さRaはサンプルごとにばらつき、5~20nmとなった。
(2)接合媒体層形成工程
上記表面処理により親水化したゼオノア、PVAフィルムの表面に水蒸気ガスを吸着させて接合媒体層(水蒸気ガス吸着層、水の薄膜であって、以降、単に水膜とも述べる)を形成した。
(3)挟圧工程
上記接合媒体層形成工程の後、PVAフィルムおよびゼオノアの表面は水膜で均一に覆われているため、それらを重ね合せると水膜の表面張力が発生して相互に引き合い近接するが、ここではさらにローラーにより挟圧することにより、PVAフィルムとゼオノア表面をさらに接近させた。本実施例では有限会社アルアート加工製ハンドローラーを用いて10Kg/cm2の圧力でPVAフィルムとゼオノアを挟圧した。
(4)接合工程
上記挟圧工程により極薄の水膜を介して近接したPVAフィルムとゼオノアを、低温熱処理により接合した。ここでは、予め温度を調整した恒温槽内に製造サンプルを静置した。熱処理の温度は50℃,80℃,100℃のいずれかとし、また熱処理時間は1分,5分,10分のいずれかとして接合を行った。
[性能評価(実施例1)]
製造された接合構造体の接合強度をピーリングテストで測定した。製造された接合構造体の接合条件と接合強度評価結果を表1に示す。接合強度評価は、PVAフィルム,ゼオノア境界面の引き剥がし力に応じて4段階で評価した。なお、上記表面処理工程を行わなかったもの(未処理と表記)、上記接合媒体層形成工程を行わなかったもの(自然吸着と表記)も併せて接合強度を評価した。
[実施例2]
本実施例では、接合材料として上記ゼオノアおよび上記PVAフィルムを用い、以下の工程により接合構造体を製造した。
(1)表面処理工程
ここでは、実施例1の表面処理工程と同様の処理を行った。プラズマ処理条件は100W,10分とした。
(2)接合媒体層形成工程
ここでは、上記表面処理を施したゼオノアおよびPVAフィルムを、30℃、湿度80%とした恒温恒湿槽内に1時間静置した。
(3)挟圧工程
ここでは、実施例1の挟圧工程と同様の処理を行った。
(4)接合工程
ここでは、実施例1の接合工程と同様の処理を行ない、上記挟圧工程により近接したゼオノアとPVAフィルムを40℃で30分間熱処理して接合した。
[比較例1]
本比較例では、接合材料として上記ゼオノアおよび上記PVAフィルムを用い、基本的に実施例2と同様の工程により接合構造体を製造したが、接合媒体層形成工程における恒温恒湿槽の温度を30℃、湿度を30%とした。
[性能評価(実施例2および比較例1)]
実施例2におけるゼオノアとPVAフィルムの接合強度は「1」(0.1 Kg/mm2~)であった。一方、比較例1のゼオノアとPVAフィルムは接合させることができなかった。
<シクロオレフィン高分子フィルム,ポリエチレンテレフタレート,ガラスの接合>
[実施例3]
本実施例では、接合材料としてシクロオレフィン高分子フィルム(ゼオノア)およびポリエチレンテレフタレートシート(ルミラーフィルム、東レ株式会社製、以下単にPETシートともいう)を用いて接合構造体を形成した。なお、以下の実施例においても、PETシートとはこのPETシートを指す。
[実施例4]
本実施例では、接合材料としてゼオノアおよびガラスを用い、上記実施例3と同様の製造方法を用いて接合構造体を形成した。ガラスは、フルウチ化学製EAGLE2000ガラスを用いた。なお、以下の実施例においても、ガラスとはこのガラスを指す。
[実施例5]
本実施例では、接合材料として2枚のゼオノアを用い、上記実施例3と同様の製造方法を用いて接合構造体を形成した。
[実施例6]
本実施例では、接合材料としてPETシートおよびガラスを用いて接合構造体を形成した。
[実施例7]
本実施例では、接合材料としてPETシートおよびゼオノアを用い、上記実施例6と同様の製造方法を用いて接合構造体を形成した。
[実施例8]
本実施例では、接合材料として2枚のPETシートを用い、上記実施例6と同様の製造方法を用いて接合構造体を形成した。
[実施例9]
本実施例では、接合材料としてガラスおよびゼオノアを用いて接合構造体を形成した。
[実施例10]
本実施例では、接合材料としてガラスおよびPETシートを用い、上記実施例9と同様の製造方法を用いて接合構造体を形成した。
[実施例11]
本実施例では、接合材料として2枚のガラスを用い、上記実施例9と同様の製造方法を用いて接合構造体を形成した。
[性能評価(実施例3~11)]
上記実施例3~11にて製造された接合構造体の接合条件と接合強度評価結果を表2に示す。
[実施例12]
本実施例では、接合材料として上記ゼオノアおよび上記ガラスを用い、以下の工程により接合構造体を製造した。
(1)表面処理工程
ゼオノアの表面に大気コロナ放電処理(300W/V, 10~20秒)を行った。ゼオノアの表面粗さRaは、表面処理により1nmから10nmと大きくなった。
また、接合構造体を構成するゼオノアとガラス組の表面処理後の合計質量を試験サンプルごとに測定した。
(2)接合媒体層形成工程
ここでは、実施例1の接合媒体層形成工程と同様の処理を行った。
(3)挟圧工程
ここでは、実施例1の挟圧工程と同様の処理を行った。また、挟圧後の質量(ゼオノア,ガラスおよび水膜の質量)を測定して上記表面処理工程後に測定した質量と比較し、質量の増加量から接合媒体層の厚さ(単位面積あたりの水分量)を測定した。
(4)接合工程
ここでは、実施例1の接合工程と同様の処理を行ない、上記挟圧工程により極薄の水膜を介して近接したゼオノアとガラスを100℃で5分間熱処理して接合した。
[性能評価(実施例12)]
ゼオノアとガラスの接合強度は、接合媒体層の厚さが0.1g/cm2,0.12g/cm2の場合は「1」(0.1 Kg/mm2~)、0.14g/cm2の場合は「2」(0.01~0.1 Kg/mm2)であった。なお、接合媒体層の厚さ0.14g/cm2のものをさらに30分間長く接合処理(熱処理)したところ、接合強度は「1」となった。
[実施例13]
本実施例では、接合構造体の一例として、シクロオレフィン高分子フィルム(COP)であるゼオノア(ZEONOR、日本ゼオン株式会社製)を選択し、ガラス板との接合を行った。(1)表面処理工程
ここでは、コロナプラズマ処理(コロナ処理)による接合材料の表面処理を行った。具体的には、大気圧下で金属電極と誘電体間に高圧を印加し発生させたコロナプラズマを樹脂表面およびガラス表面に照射して、その表面を活性化する処理を行った。
コロナ処理機:春日電機 大型リニアコロナ処理実験装置
処理条件:出力150W、走査速度0.5m/min、電極‐基板間距離1mm
なお、プラズマ照射電力(放電エネルギー[KJ/m2])は出力と走査速度から算出した。
(1.1)ゼオノアの表面親水化処理
シクロオレフィンポリマーからなるゼオノアは基本的にC-H結合からなる高分子である。このC-H基の表面エネルギーは20~40mN/mであり水に対する接触角はおおよそ90度の疎水性を示す。このゼオノアを親水化するために、大気圧コロナプラズマ処理を実行し、ゼオノア表面に親水基を導入した。
(1.2)ガラス表面の親水性変化
ガラス表面の水接触角とコロナプラズマ処理放電エネルギーとの関係を図6に示す。処理エネルギーの増加に伴いガラス表面の接触角が急激に減少し、接触角5°前後の超親水化した状態となることがわかる。
(1.3)大気圧コロナプラズマ処理面の表面粗さ変化
上記ゼオノアおよびガラスの表面処理後の表面粗さRaを測定した。表面粗さRaは、キーエンスVN-8010原子間力顕微鏡(AFM)を使用し、表面を走査して凹凸を測定し平均的なRa値を算出した。その結果、ゼオノアの表面粗さRaは全ての試験サンプルで約1nm,ガラスの表面粗さRaは0.1nmとなった。
(2)接合媒体層形成工程
上記表面処理により親水化したゼオノア、ガラスの表面に接合媒体層として有機金属化合物を被覆させた。有機金属化合物として本実施例ではシランカップリング剤を用いた。シランカップリング剤は有機物とケイ素から構成される化合物で分子構造の中に無機質材料(ガラス、セラミックス、金属等)と化学的結合をする反応基と、有機材料(ビニル基、エポキシ基、メタクリル基、メルカプト基、オレフィン基等)と化学的結合をする反応基の2種以上の異なった反応基を有している。従って、通常結合の難しい有機材料と無機材料を結びつける接合剤として広く用いられている。
(3)挟圧工程(熱圧着接合工程)
本実施例では、後述する接合工程での加熱処理に先立ち、製造サンプルを挟圧するとともに加熱処理を施した(加熱圧着した)。
なお、ガラス及びゼオノアのコロナプラズマ処理面には大気中の水蒸気が吸着しており、その水蒸気によってシランカップリング剤が加水分解して徐々にシラノール形成が進行すると考えられる。このシラノールは熱圧着接合工程による脱水縮合反応により共有結合を形成すると考えられる。
(4)接合工程(加熱工程)
上記熱圧着接合工程を経たガラスとゼオノアの接合体に対してさらに加熱処理を行ってより確実な接合状態を形成した。ここでは、予め温度を130℃に調整した恒温槽内にガラスとゼオノアの製造サンプル(全ての工程を終了する前の接合構造体を指す。他の実施例でも同様とする。)を5分間静置した。
[実施例14]
本実施例では、接合媒体層形成工程において、ガラスにのみKBM903を被覆し、ゼオノアに対するシランカップリング剤の被覆を行わない点以外は基本的に実施例13と同様の接合材料および工程にて接合構造体を製造した。
[実施例15]
本実施例では、ガラスとゼオノアとからなる接合構造体を製造した。
(1)表面処理工程
ゼオノアは実施例13と同様の大気圧コロナプラズマ処理により表面処理を行い、表面の接触角を約40°とした。
プラズマ処理機:サムコ製プラズマドライクリーナーModel PC-300
処理条件:放電ガスN2 220L/min、電力150kW、搬送速度1.5m/min×2、電極‐基板間距離2mm
上記大気圧グロープラズマ処理によって、ガラスの接触角は約5°となった。
(2)接合媒体層形成工程
本実施例では、実施例13と同様に、表面処理したガラス基板を蒸発したシランカップリング剤(KBM903)蒸気に15分暴露し、また、表面処理したゼオノアフィルムをシランカップリング剤(KBM403)蒸気に15分暴露した。
(3)挟圧工程
上記接合媒体層形成工程によりシランカップリング剤を被覆させたガラス及びゼオノアを、減圧環境下(約500Torr)、かつ室温(25℃)で、有限会社アルアート加工製ハンドローラーを用いて10Kg/cm2の圧力で挟圧した。
(4)接合工程(加熱工程)
上記挟圧工程を経たガラスとゼオノアの接合体に対してさらに加熱処理を行ってより確実な接合状態を形成した。ここでは、予め温度を130℃に調整した恒温槽内にガラスとゼオノアの製造サンプルを3分間静置した。
[実施例16]
本実施例では、接合媒体層形成工程において、ガラスにのみKBM903を被覆し、ゼオノアに対するシランカップリング剤の被覆を行わない点以外は基本的に実施例15と同様の接合材料および工程にて接合構造体を製造した。
[実施例17]
本実施例では、接合媒体層形成工程において、ガラスにのみKBM403を被覆し、ゼオノアに対するシランカップリング剤の被覆を行わない点以外は基本的に実施例15と同様の接合材料および工程にて接合構造体を製造した。
[実施例18]
本実施例では、ガラスとゼオノアとからなる接合構造体を製造した。
(1)表面処理工程
ゼオノアおよびガラスを、実施例13と同様の大気圧コロナプラズマ処理により表面処理し、ゼオノアの接触角を約40°、ガラスの接触角を約5°とした。
(2)接合媒体層形成工程
本実施例では、実施例13と同様に、表面処理したガラス基板を蒸発したシランカップリング剤(KBM903)蒸気に15分暴露し、また、表面処理したゼオノアフィルムをシランカップリング剤(KBM403)蒸気に15分暴露した。
(3)挟圧工程
上記接合媒体層形成工程によりシランカップリング剤を被覆させたガラス及びゼオノアを、大気圧環境下(約760Torr)、かつ室温(25℃)で、有限会社アルアート加工製ハンドローラーを用いて10Kg/cm2の圧力で挟圧した。
(4)接合工程(加熱工程)
上記挟圧工程を経たガラスとゼオノアの接合体に対してさらに加熱処理を行ってより確実な接合状態を形成した。ここでは、予め温度を130℃に調整した恒温槽内にガラスとゼオノアの製造サンプルを10分間静置した。
[実施例19]
本実施例では、接合媒体層形成工程において、ガラスにのみKBM903を被覆し、ゼオノアに対するシランカップリング剤の被覆を行わない点以外は基本的に実施例18と同様の接合材料および工程にて接合構造体を製造した。
[実施例20]
本実施例では、接合媒体層形成工程において、ガラスおよびゼオノアに対するシランカップリング剤の被覆を行わない点以外は基本的に実施例18と同様の接合材料および工程にて接合構造体を製造した。
[実施例21]
本実施例では、ガラスとゼオノアとからなる接合構造体を製造した。
(1)表面処理工程
ゼオノアおよびガラスを、減圧グロープラズマ処理により表面処理を行った。プラズマ処理条件は以下のとおりである。
放電ガス:N2、220L/min
出力(ガラス):300W、2分
出力(ゼオノア):100W、10分
上記減圧グロープラズマ処理によって、ゼオノア表面の接触角を約40°、ガラス表面の接触角を約5°とした。
(2)接合媒体層形成工程
上記表面処理により親水化したゼオノア、ガラスの表面に水蒸気ガスを吸着させて接合媒体層を形成した。なお、水蒸気ガスの吸着は室温25℃、湿度50%環境下にて30分自然吸着させることにより実現した。即ち、本実施例ではシランカップリング剤の暴露は行っていない。
(3)挟圧工程
上記接合媒体層形成工程により水蒸気ガスを吸着させたガラス及びゼオノアを、大気圧圧環境下(約760Torr)、室温環境下で、有限会社アルアート加工製ハンドローラーを用いて10Kg/cm2の圧力で挟圧した。
(4)接合工程(加熱工程)
上記挟圧工程を経たガラスとゼオノアの接合体に対してさらに加熱処理を行ってより確実な接合状態を形成した。ここでは、予め温度を80℃に調整した恒温槽内にガラスとゼオノアの製造サンプルを10分間静置した。
[実施例22]
本実施例では、接合工程において加熱処理を行わず、常温で30分静置した点以外は基本的に実施例20と同様の接合材料および工程にて接合構造体を製造した。
[性能評価(実施例13~22)]
上記実施例13~22にて製造された接合構造体の接合強度をピーリングテストで測定した。接合条件と接合強度評価結果を表4に示す。
貼り合せ作業時に大気圧下で操作可能であることは、減圧環境を形成する必要がない点で有利である。また、挟圧工程において、熱電貼り合わせ(電熱プレスにより圧着接合)を行うと耐湿性が向上する。さらに、実施例15と実施例16,17とを比較すると、シランカップリング剤を接合材料両方に塗布すると接合強度が向上することが分かる。これらのことから、上記実施例13~22の中では、実施例13の製造条件が接合強度および耐湿性を高めるという点では最も適している。
[発明の効果]
本発明の製造方法によれば、接着剤を用いることなく様々な接合系に対し高い接合強度で接合することができる。また、接着剤を用いていないため接着剤による光学特性の劣化が発生しないうえ、130℃以下の加熱によって接合を実現することから、接合を実現するために接合材料を低温で軟化する軟化点の低いものに限定されたり、130℃を超える高温にすることにより接合材料の光学特性の劣化が生じたりすることもない。
また、接合媒体層をシランカップリング剤にて形成した場合、加熱圧着を行うこと,接合材料両方にシランカップリング剤を塗布すること,130℃にて10分以上の加熱処理を行うこと,などの適切な接合処理を行うことによって高い耐湿性を持たせることもできる。
[その他の実施形態]
上記各実施例において、上記表面処理工程では、酸素プラズマ処理または大気コロナ放電処理を実行する構成を例示したが、酸素以外のプラズマ処理や、オゾン処理,電磁波照射処理などを用いてもよい。
また、2つの接合材料の接合状態を、高いシール性(密閉性)を有するものとすることで、2つの接合材料の間に電子デバイスなどを配置した際の水蒸気などの侵入を抑制することができる接合構造体を製造することができる。
Claims (16)
- 2つの接合材料を接合させてなる接合構造体の製造方法であって、
前記2つの接合材料のうち少なくともいずれか一方の接合面に、水素ガス、水蒸気ガス、アルコールガス、過酸化水素ガス、有機金属化合物、シランカップリング剤からなる群から選択される1種以上からなる接合媒体層を形成する接合媒体層形成工程と、
前記2つの接合材料および前記接合媒体層に対して、前記2つの接合材料を前記接合媒体層を介して重ねた状態で、加熱および/または電磁波照射を行う接合工程と、を備える
ことを特徴とする接合構造体の製造方法。 - 前記2つの接合材料は、シクロオレフィン系樹脂およびガラスであり、
前記接合媒体層は、シランカップリング剤からなるものであり、
前記接合工程は、加熱を行う工程である
ことを特徴とする請求項1に記載の接合構造体の製造方法。 - 前記接合媒体層は、シランカップリング剤蒸気を前記接合材料に暴露することによって形成される
ことを特徴とする請求項2に記載の接合構造体の製造方法。 - 前記2つの接合材料は、いずれも有機化合物であり、
前記接合媒体層は、水蒸気ガスまたは有機金属化合物からなるものであり、
前記接合工程は、加熱を行う工程である
ことを特徴とする請求項1に記載の接合構造体の製造方法。 - 前記2つの接合材料は、シクロオレフィン系樹脂,およびポリビニルアルコール系樹脂である
ことを特徴とする請求項4に記載の接合構造体の製造方法。 - 前記2つの接合材料は、シクロオレフィン系樹脂,ポリエチレンテレフタレート,ガラスからなる群から選択される1種または2種であり、
前記接合媒体層は、水蒸気ガスからなるものであり、
前記接合工程は、加熱を行う工程である
ことを特徴とする請求項1に記載の接合構造体の製造方法。 - 前記接合工程における加熱温度は、80℃~130℃である
ことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載の接合構造体の製造方法。 - 前記2つの接合材料は、何れも有機化合物であり、
前記接合媒体層は、有機金属化合物からなるものであり、
前記接合工程は、電磁波照射を行う工程である
ことを特徴とする請求項1に記載の接合構造体の製造方法。 - 前記2つの接合材料は、有機化合物およびガラスであり、
前記接合媒体層は、水蒸気ガスまたはアルコールガスからなるものであり、
前記接合工程は、加熱を行う工程である
ことを特徴とする請求項1に記載の接合構造体の製造方法。 - 前記2つの接合材料は、有機化合物およびガラスであり、
前記接合媒体層は、有機金属化合物からなるものであり、
前記接合工程は、電磁波照射を行う工程である
ことを特徴とする請求項1に記載の接合構造体の製造方法。 - 前記接合媒体層形成工程に先立って、前記2つの接合材料のうち少なくともいずれか一方の表面のぬれ性を向上する表面処理を行う表面処理工程を備える
ことを特徴とする請求項1から請求項10のいずれかに記載の接合構造体の製造方法。 - 前記表面処理工程は、コロナ処理,プラズマ処理,オゾン処理,電磁波照射処理,のいずれか1つ以上を行う工程である
ことを特徴とする請求項11に記載の接合構造体の製造方法。 - 前記表面処理工程は、コロナ処理を行う工程であり、
前記接合工程は、35分以上の加熱を行う工程である
ことを特徴とする請求項11に記載の接合構造体の製造方法。 - 前記接合媒体層形成工程の後に、前記2つの接合材料を、前記接合媒体層を介して重ねた状態で挟圧する挟圧工程を備える
ことを特徴とする請求項1から請求項13のいずれかに記載の接合構造体の製造方法。 - 前記挟圧工程は、前記2つの接合材料を挟圧しつつ加熱する工程である
ことを特徴とする請求項14に記載の接合構造体の製造方法。 - 2つの接合材料を接合させてなる接合構造体であって、
前記2つの接合材料が、表面同士の水素結合または金属分子を介した共有結合にて接合されている
ことを特徴とする接合構造体。
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Ref document number: 2011505278 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
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WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 2010802358 Country of ref document: EP |
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121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 10802358 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
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NENP | Non-entry into the national phase |
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