WO2010061851A1 - 被膜を持つシート及びその製造方法 - Google Patents

被膜を持つシート及びその製造方法 Download PDF

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WO2010061851A1
WO2010061851A1 PCT/JP2009/069871 JP2009069871W WO2010061851A1 WO 2010061851 A1 WO2010061851 A1 WO 2010061851A1 JP 2009069871 W JP2009069871 W JP 2009069871W WO 2010061851 A1 WO2010061851 A1 WO 2010061851A1
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film
sheet
substrate
coating
layer
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PCT/JP2009/069871
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Inventor
京春 金
加奈美 山崎
正登 齋藤
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株式会社 きもと
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Priority to JP2010540493A priority patent/JP5872770B2/ja
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12—Chemical modification
    • C08J7/123—Treatment by wave energy or particle radiation
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
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    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
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    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]

Definitions

  • the present invention relates to a sheet having a coating and a method for producing the sheet.
  • Polyester films are widely used in various optical applications such as base films for LCD members such as prism sheets, lens sheets, diffusers, reflectors, and touch panels, and antireflection and display explosion-proof base films.
  • base films for LCD members such as prism sheets, lens sheets, diffusers, reflectors, and touch panels
  • antireflection and display explosion-proof base films In order to obtain bright and clear images in these optical applications, the base film used as an optical film must have good transparency from its usage and must be free from defects such as foreign matter and scratches that affect the image. It becomes.
  • Patent Document 1 a resistive touch panel transparent touch panel is arranged to face a fixed electrode support and is movable through a transparent shrinkable resin layer on the lower surface of a movable electrode film having a hard coat layer formed on the upper surface.
  • Techniques for forming electrodes are disclosed.
  • the oligomer that is a non-crosslinked component of the movable electrode film is precipitated on the movable electrode side, and becomes a whitened state and becomes transparent. It is lost and the appearance and visibility are prevented from deteriorating.
  • the hard coat layer is formed on the upper surface of the movable electrode film, the hard coat layer prevents the oligomer from being deposited on the upper surface side of the movable electrode film from the inside of the movable electrode film.
  • the problem to be solved by the invention is to provide a method for producing a sheet having a film that can prevent oligomer precipitation on the film surface by a simple method, and a sheet having a film using this method. . Moreover, it aims also at providing the laminated body containing this sheet
  • seat (10) based on invention is a method of manufacturing the sheet
  • the film (12) is formed by irradiating ultraviolet rays.
  • an ultraviolet-ray can be irradiated with the exposure amount of 1500 mJ / cm ⁇ 2 > or more.
  • ultraviolet rays can be irradiated in a plurality of times.
  • a light beam having an emission wavelength range of 200 to 450 nm and a peak output characteristic at 360 to 370 nm can be used as the ultraviolet ray.
  • the ultraviolet rays light rays having a wavelength range of 200 to 450 nm and peak output characteristics at 360 to 370 nm and 250 to 320 nm can be used.
  • a transparent polyester film can be used as the film substrate (11). That is, by irradiating the film substrate (11) with ultraviolet rays to modify at least a part of the film substrate (11) to form a coating (12), oligomers on the surface of the film substrate (11) are formed. Precipitation can be prevented.
  • the sheet (10) according to the invention has a coating (12) formed by modifying at least a part of the film substrate (11), and the coating (12) irradiates the film substrate (11) with ultraviolet rays. It is formed by these.
  • the coating film (12) can have a Martens hardness of 200 N / mm 2 or more, an indentation elastic modulus of 4300 MPa or less, and a thickness of 0.1 ⁇ m or more.
  • the value of a Martens hardness and an indentation elastic modulus can be measured on the conditions whose maximum test load is 1 mN.
  • the laminate (20) according to the present invention has functional layers (22, 24) provided with various functions on the surface of any of the sheets (10).
  • the functional layers (22, 24) are, for example, laminated on the side opposite to the coating layer (12) of the sheet (10) or the coating layer (12) of the sheet (10).
  • a hard coat layer and the like can be included.
  • the touch panel (5) includes a first electrode substrate (52) in which a first transparent conductive film (524) is formed on a first transparent substrate (522), and a second transparent conductive film (544). Has a second electrode substrate (54) formed on the second transparent substrate (542) so as to face the first transparent conductive film (524) with a predetermined gap. And any one movable side electrode board
  • the film substrate is irradiated with ultraviolet rays to modify at least a part of the film substrate to form a film.
  • the formed coating prevents oligomer precipitation from the inside of the film substrate. That is, according to the above-described invention, oligomer precipitation on the film surface can be prevented by a simple method without causing factors such as preparation of a separate paint, application, and other processes to deteriorate productivity as compared with the conventional method. be able to.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a sheet according to the present embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a laminate having the sheet of FIG.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing another example of a laminate having the sheet of FIG. 4 is a cross-sectional view showing a touch panel having the laminate of FIG.
  • FIG. 5 is an SEM image of the cross section of film a before ultraviolet irradiation.
  • FIG. 6 is an SEM image of the cross section of film a after ultraviolet irradiation (1 pass).
  • FIG. 7 is an SEM image of the cross section of film a after ultraviolet irradiation (2 pass).
  • FIG. 8 is an SEM image of the cross section of film a after ultraviolet irradiation (3 pass).
  • FIG. 9 is an SEM image of the cross section of film a after ultraviolet irradiation (10 pass).
  • FIG. 10 is an SEM image of a cross section of film a after ultraviolet irradiation (20 pass).
  • FIG. 11 is an SEM image of the cross section of film b before ultraviolet irradiation.
  • FIG. 12 is an SEM image of the cross section of the film b after ultraviolet irradiation (3 pass).
  • seat 10 which concerns on this embodiment has the film base materials 11, such as a transparent polyester film, for example.
  • the coating 12 is formed here.
  • the coating 12 serves to prevent oligomer precipitation from the inside of the film substrate 11 to the surface of the film substrate 11.
  • the surface hardness of the coating 12 of this embodiment is appropriately adjusted. Specifically, the Martens hardness (HM) is adjusted to be larger than a specific value, and the indentation elastic modulus (EIT) is adjusted to be smaller than the specific value.
  • HM Martens hardness
  • EIT indentation elastic modulus
  • Martens hardness represents the hardness (hardness of dent) of the coating 12 obtained from the test load and indentation surface area when the surface of the coating 12 is pressed with a Vickers indenter, and is an index of the hardness of the coating 12 surface. It becomes.
  • the value of HM coating 12 can not be said sweepingly because varies depending on the material of the film substrate, preferably 200 N / mm 2 or more, and more preferably adjusted to 210N / mm 2 or more Yes.
  • the inventors have found that by adjusting the HM of the coating 12 to a predetermined value or more, it becomes difficult to be damaged and the precipitation of the oligomer from the inside of the film substrate 11 to the outside can be effectively prevented. It was.
  • the HM of the coating 12 is preferably adjusted to 350 N / mm 2 or less, more preferably 300 N / mm 2 or less. .
  • the value of HM is determined by an ultra-micro hardness tester (Fischer Instruments, trade name: Fisher Scope HM2000) under an atmosphere of a temperature of 20 degrees and a relative humidity of 60%. It is a value obtained by measuring the hardness of the surface of the coating 12 by a method based on -14477-1. However, the maximum test load is a value measured at 1 mN.
  • the indentation elastic modulus (EIT) corresponds to the Young's modulus and represents the ease of bending (flexibility) of the coating 12, and is an index of the brittleness of the coating 12.
  • the EIT of the coating 12 is preferably adjusted to 4300 MPa or less, more preferably 4200 MPa or less, and even more preferably 4100 MPa or less.
  • the EIT of the coating 12 is preferably adjusted to 3400 MPa or more, more preferably 3500 MPa or more.
  • EIT is a value corresponding to the Young's modulus measured in accordance with ISO-14477-1 using the same apparatus as in the case of HM described above, and when the indenter is pushed into the coating 12. It is the Young's modulus of the coating 12 itself, which is calculated by measuring the ease of return of the indentation (elastic modulus). However, as with HM, it is a value measured with a maximum test load of 1 mN.
  • the thickness (t) of the coating 12 of this embodiment is appropriately adjusted. Specifically, the thickness (t) is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more. This is because if the thickness is too thin, the effect of preventing oligomer precipitation cannot be exhibited. On the other hand, if the thickness is too thick, the planarity of the sheet 10 may be impaired. For this reason, the thickness t of the coating 12 is preferably 1.5 ⁇ m or less, more preferably 1.2 ⁇ m or less.
  • the value of the bending resistance test (crack resistance 1) of the sheet 10 varies depending on the thickness t of the coating 12 and the type and thickness of the film substrate 11, but is preferably adjusted to 2 mm or less.
  • the crack resistance of the coating 12 can be improved by adjusting the value of the bending resistance test to a predetermined value or less.
  • the value of the bending resistance test is a value measured by a cylindrical mandrel method in accordance with JIS-K5600-5-1 (1999).
  • the film 12 of this embodiment can be formed by irradiating the surface of the film substrate 11 with ionizing radiation at a predetermined exposure amount and modifying at least a part of the surface of the film substrate 11.
  • ionizing radiation at a predetermined exposure amount
  • the film substrate 11 is prepared.
  • the film substrate 11 for example, a transparent polyester film or the like is used.
  • the film substrate 11 may be subjected to an easy adhesion treatment on the surface thereof.
  • the thickness of the film substrate 11 is not particularly limited.
  • the prepared film substrate 11 is irradiated with ultraviolet rays.
  • the ultraviolet irradiation surface may be the easy adhesion treatment surface of the film substrate 11 or a non-easy adhesion treatment surface.
  • the inventors irradiate the film substrate 11 with ultraviolet rays at a predetermined exposure amount or more, whereby at least a part of the ultraviolet irradiation portion of the film substrate 11 is surface-modified. It was found that the coating film 12 for preventing oligomer precipitation from the outside to the outside can be formed as a coating film different from the film substrate 11.
  • the “oligomer” is mainly composed of a trimer component of a polymer constituting the film substrate 11 among low molecular weight substances that crystallize after heat treatment and precipitate on the surface of the film substrate 11. It is defined as a thing. “Preventing oligomer precipitation” means that the film substrate 11 is heated at 150 ° C. for 1 hour, and then the surface of the film substrate 11 on which the film 12 is formed is observed with a 200 ⁇ microscope. This means that there are less than 50 precipitates, preferably 20 or less, more preferably 10 or less per field of view (area 0.5 mm 2 ) and equivalent circle diameter of 2 ⁇ m ⁇ or more.
  • an ultraviolet lamp for example, ultraviolet rays are generated in an emission wavelength region of 100 to 500 nm, preferably 200 to 450 nm, and irradiated with a predetermined exposure amount.
  • the ultraviolet lamp include an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, an electrodeless lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp.
  • an ultraviolet lamp for example, a high-pressure mercury lamp, an electrodeless lamp, etc.
  • a peak output at 250 to 320 nm in addition to 360 to 370 nm can be used. It is desirable to have a peak (maximum peak) at 360 to 370 nm that maximizes the lamp output (w / 10 nm) within the emission wavelength range described above, but it has a maximum peak at 250 to 320 nm. Also good. 360 to 370 nm and 250 to 320 nm include not only one peak but also two or more peaks. By using a light beam having a peak (including a maximum peak) in such a specific wavelength region, the effect of preventing precipitation of oligomers imparted to the formed film 12 is further improved.
  • Integrated irradiation dose of ultraviolet rays at the exposure amount for example, 1500 mJ / cm 2 or more, preferably 2000 mJ / cm 2 or more, more preferably 2,500 mJ / cm 2 or more.
  • irradiation preferably 30000mJ / cm 2 or less, more preferably 25000mJ / cm 2 following exposure can do. It is not necessary to irradiate this amount at a time, and it is possible to irradiate a small exposure amount in several degrees. By irradiating the predetermined exposure amount in several times, damage to the film substrate 11 can be reduced even when the integrated exposure amount is the same as compared with the case of irradiating a large exposure amount at a time.
  • the ultraviolet irradiation may be performed only on one surface of the film substrate 11 or on both surfaces.
  • the irradiation exposure amount may be changed for each surface.
  • the film base 11 is irradiated with ultraviolet rays at a predetermined exposure amount or more. Thereby, at least a part of the ultraviolet irradiation portion of the film substrate 11 is modified, and the coating 12 is formed here. Since the formed coating 12 has an appropriate surface hardness and thickness as described above, precipitation of oligomers from the inside of the film base 11 to the surface of the film base 11 is effectively prevented. Therefore, according to this embodiment, compared with the conventional method including the factor which deteriorates productivity, such as preparation of a separate paint, application
  • the surface hardness and thickness t of the coating 12 to be formed are appropriately adjusted, crack resistance and blocking resistance required when the sheet 10 of this embodiment is used as a base film for optical applications.
  • various performances such as solvent resistance and wettability improvement can be satisfied.
  • ⁇ Laminate> 2 and 3 each include the sheet 10 shown in FIG. 1 described above.
  • the case where the film 10 has the coating film 12 on one surface of the film substrate 11 is illustrated as the sheet 10.
  • a first functional layer 22 to which various functions are imparted is laminated on the surface opposite to the coating 12 of the sheet 10.
  • the first functional layer 22 include a single layer film or a multilayer film such as a hard coat layer and an antireflection layer.
  • the second functional layer 24 such as the above-described adhesive layer or transparent conductive layer is formed on the surface of the coating film 12 of the sheet 10.
  • the first functional layer 22 shown in FIG. 2 may be further laminated on the surface of the sheet 10 opposite to the coating 12.
  • the hard coat layer is provided to increase the surface hardness of the laminate 20 and prevent the surface from being scratched. Therefore, when a hard coat layer is used as the first functional layer 22, the surface hardness of the hard coat layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and further preferably 3H or higher.
  • the value of the surface hardness is indicated by a pencil scratch value (pencil hardness) measured by a method according to JIS-K5400 (1990).
  • the hard coat layer is made of a resin such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or an ionizing radiation curable resin.
  • a resin such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or an ionizing radiation curable resin.
  • an ionizing radiation curable resin because it can exhibit hard coat properties such as surface hardness.
  • thermoplastic resins and thermosetting resins include polyester resins, acrylic resins, acrylic urethane resins, polyester acrylate resins, polyurethane acrylate resins, epoxy acrylate resins, urethane resins, and epoxy resins.
  • ionizing radiation curable resin a photopolymerizable prepolymer that is crosslinked and cured by irradiation with ionizing radiation (ultraviolet rays or electron beams) can be used.
  • ionizing radiation ultraviolet rays or electron beams
  • a photopolymerizable prepolymer described later may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
  • the photopolymerizable prepolymer includes a cationic polymerization type and a radical polymerization type.
  • Examples of the cationic polymerization type photopolymerizable prepolymer include epoxy resins and vinyl ether resins.
  • Examples of the epoxy resin include bisphenol epoxy resin, novolac epoxy resin, alicyclic epoxy resin, and aliphatic epoxy resin.
  • an acrylic prepolymer (hard prepolymer) having two or more acryloyl groups in one molecule and having a three-dimensional network structure by crosslinking and curing is hard coat property. It is particularly preferably used from the viewpoint of
  • acrylic prepolymers examples include urethane acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, melamine acrylate, polyfluoroalkyl acrylate, and silicone acrylate.
  • the urethane acrylate prepolymer can be obtained, for example, by esterifying a polyurethane oligomer obtained by the reaction of polyether polyol or polyester polyol and polyisocyanate by reaction with (meth) acrylic acid.
  • polyester acrylate-based prepolymer include esterification of a hydroxyl group of a polyester oligomer having hydroxyl groups at both ends obtained by condensation of a polyvalent carboxylic acid and a polyhydric alcohol with (meth) acrylic acid, or a polyvalent carboxylic acid. It can be obtained by esterifying the terminal hydroxyl group of an oligomer obtained by adding an alkylene oxide to an acid with (meth) acrylic acid.
  • the epoxy acrylate prepolymer can be obtained, for example, by esterification by a reaction of an oxirane ring of a relatively low molecular weight bisphenol type epoxy resin or novolac epoxy resin with (meth) acrylic acid.
  • the acrylic prepolymer can be used alone, it is preferable to add a photopolymerizable monomer in order to impart various performances such as improvement of cross-linking curability and adjustment of curing shrinkage.
  • photopolymerizable monomer examples include monofunctional acrylic monomers (for example, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, butoxyethyl acrylate, etc.), bifunctional acrylic monomers (for example, 1,6-hexanediol diacrylate).
  • monofunctional acrylic monomers for example, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, butoxyethyl acrylate, etc.
  • bifunctional acrylic monomers for example, 1,6-hexanediol diacrylate
  • Neopentyl glycol diacrylate diethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, hydroxypivalate ester neopentyl glycol diacrylate, etc.
  • trifunctional or higher acrylic monomers eg dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylpropane triacrylate, pentaerythritol tris
  • Acrylate includes not only acrylate but also methacrylate. These photopolymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • the hard coat layer is formed by being cured by irradiation with ultraviolet rays
  • a photopolymerization initiator in addition to the above-mentioned photopolymerizable prepolymer and photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, a photopolymerization accelerator, and ultraviolet sensitization are used. It is preferable to add additives such as an agent.
  • photopolymerization initiator for radical polymerization type photopolymerizable prepolymers and photopolymerizable monomers, for example, acetophenone, benzophenone, Michler's ketone, benzoin, benzylmethyl ketal, benzoylbenzoate, ⁇ -acyloxime ester, thioxanthones, etc. Is mentioned.
  • Examples of the photopolymerization initiator for the cationic polymerization type photopolymerizable prepolymer include oniums such as aromatic sulfonium ions, aromatic oxosulfonium ions, and aromatic iodonium ions, tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, hexafluoroantimonate, The compound which consists of anions, such as hexafluoroarsenate, is mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the photopolymerization accelerator include p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester and p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester.
  • Examples of the ultraviolet sensitizer include n-butylamine, triethylamine, and tri-n-butylphosphine.
  • the blending amount of these additives is usually selected in the range of 0.2 to 10 parts by weight with respect to the total of 100 parts by weight of the above-mentioned photopolymerizable prepolymer and photopolymerizable monomer.
  • an additive component may be appropriately blended as necessary.
  • additive components include surface conditioners, lubricants, colorants, pigments, dyes, fluorescent brighteners, flame retardants, antibacterial agents, fungicides, UV absorbers, light stabilizers, heat stabilizers, and antioxidants. , Plasticizers, leveling agents, flow regulators, antifoaming agents, dispersants, storage stabilizers, crosslinking agents, silane coupling agents, and the like.
  • the thickness of the hard coat layer is preferably about 0.1 to 30 ⁇ m. More preferably, it is 0.5 to 15 ⁇ m, and further preferably 2 to 10 ⁇ m. By setting the thickness to 0.1 ⁇ m or more, sufficient surface hardness (hard coat property) can be exhibited also on the hard coat layer side.
  • the antireflection layer is provided on the surface of the hard coat layer, and is provided to reduce reflection on the surface portion of the hard coat layer and to improve the total light transmittance of the entire laminate 20.
  • the refractive index of the hard coat layer it is conceivable to design the refractive index of the hard coat layer to be small.
  • the surface of the hard coat layer has a refractive index lower than that of the hard coat layer. It is preferable to form the antireflection layer with a small thickness.
  • the antireflection layer may be made of a material having a lower refractive index than that of the hard coat layer.
  • a material having a lower refractive index than that of the hard coat layer For example, silicon-based resin, fluorine-based resin, metal oxide sol, and metal oxide fine particles, preferably porous or hollow. In which fine metal oxide particles are added. Moreover, what added the said metal oxide microparticles
  • the metal oxide sol examples include silica and alumina sol.
  • silica sol is preferably used from the viewpoint of refractive index, fluidity, and cost.
  • the metal oxide sol refers to a material in which the Tyndall phenomenon cannot be observed due to the presence of the metal oxide, and refers to a so-called uniform solution. For example, even a material generally called colloidal silica sol is not included in the metal oxide sol in this embodiment as long as the Tyndall phenomenon is observed.
  • Such a metal oxide sol can be prepared by hydrolyzing a metal alkoxide such as tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, zirconia propoxide, aluminum isopropoxide, titanium butoxide, titanium isopropoxide.
  • a metal alkoxide such as tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, zirconia propoxide, aluminum isopropoxide, titanium butoxide, titanium isopropoxide.
  • the solvent for the metal oxide sol include methanol, ethanol, isopropanol, butanol, acetone, and 1,4-dioxane.
  • the metal oxide fine particles are those obtained by pulverizing the above-mentioned metal oxide, and examples thereof include silica fine particles and alumina fine particles. Among these, silica fine particles are preferably used from the viewpoint of refractive index, fluidity, and cost. Further, the shape of the metal oxide fine particles is not particularly limited, but porous or hollow metal oxide fine particles having a low refractive index are preferably used.
  • the average particle diameter of the metal oxide fine particles is not particularly limited as long as the above conditions are satisfied, but is preferably in the range of 40 to 100 nm.
  • the average particle diameter of the metal oxide fine particles is more preferably in the range of 40 to 70 nm.
  • the mixing ratio of the metal oxide sol and the metal oxide fine particles is not particularly limited, but the metal oxide fine particles are preferably 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the metal oxide component in the metal oxide sol. Above, more preferably 20 parts by weight or more, preferably 200 parts by weight or less, more preferably 100 parts by weight or less.
  • the thickness of the antireflection layer preferably satisfies the following equation based on the theory of antireflection of light.
  • [Expression 1] d (a + l) ⁇ / 4n
  • d is the thickness (unit: “nm”) of the antireflection layer
  • a is 0 or a positive even number
  • ⁇ is the center wavelength of the light to be prevented from being reflected
  • n is the refractive index of the antireflection layer.
  • it is preferably about 2 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m or less, further preferably 0.8 ⁇ m or less, particularly preferably 0.5 ⁇ m or less, and most preferably 0.3 ⁇ m or less.
  • each constituent component and other components as necessary are blended, and further, dissolved or dispersed in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and the coating is performed.
  • the liquid is applied to the sheet 10 by a known method such as roll coating, bar coating, spray coating, air knife coating, die coating, blade coating, spin coating, gravure coating, flow coating, or screen printing. It can be formed by applying and drying sequentially and, if necessary, curing by a necessary curing method.
  • the adhesive layer examples include natural rubber-based, recycled rubber-based, chloroprene rubber-based, nitrile rubber-based, elastomer-based adhesives such as styrene / butadiene-based, acrylic-based, polyester-based, epoxy-based, urethane-based, cyanoacrylate-based, etc.
  • the synthetic resin adhesive it can be composed of a known adhesive such as an emulsion adhesive.
  • the pressure-sensitive adhesive layer generally has a thickness of 5 ⁇ m or more in order to exert adhesiveness.
  • Such an adhesive layer is prepared by preparing an adhesive layer coating solution by dissolving or dispersing an adhesive component and, if necessary, a crosslinking agent and other additives in a solvent, and is similar to the above-described antireflection layer. It can be produced by applying and drying on the film 12 of the sheet 10 by a conventionally known coating method. Alternatively, the adhesive layer coating liquid may be applied to a separator or the like, dried, and then laminated on the coating film 12 of the sheet 10.
  • the first functional layer 22 described above can have an ultraviolet absorption performance.
  • the light transmittance in the range of 350 to 380 nm is about 0.1% to 70%
  • weather resistance can be imparted while maintaining the hard coat property.
  • an ionizing radiation curable resin is used for the hard coat layer, by adjusting the ultraviolet region where the ionizing radiation curable resin is cured and the absorbing ultraviolet region, the ultraviolet ray is not affected without affecting the curing of the hard coat layer.
  • Absorbability can be imparted.
  • the transparent conductive layer can be composed of, for example, a generally widely known transparent conductive material or organic conductive material.
  • the transparent conductive material include transparent conductive materials such as indium oxide, tin oxide, indium tin oxide, gold, silver, and palladium.
  • the organic conductive material include conductive polymers such as polyparaphenylene, polyacetylene, polyaniline, polythiophene, polyparaphenylene vinylene, polypyrrole, polyfuran, polyselenophene, and polypyridine.
  • the transparent conductive material which is excellent in transparency and electroconductivity, and which has as a main component any of the indium oxide, tin oxide, or indium tin oxide obtained by comparatively low cost.
  • the transparent conductive layer can be formed in a thin film state using the above-described conductive material by a dry process (for example, vacuum deposition method, sputtering method, ion plating method) or a wet process (for example, solution coating method). it can.
  • a dry process for example, vacuum deposition method, sputtering method, ion plating method
  • a wet process for example, solution coating method
  • the thickness of the transparent conductive layer varies depending on the applied material, it cannot be generally stated, but the surface resistivity is set to 1000 ⁇ or less, preferably 500 ⁇ or less. For example, it is preferably 10 nm or more, and more preferably 20 nm or more. In consideration of economy, a range of 80 nm or less, preferably 70 nm or less is suitable. In such a thin film, visible light interference fringes due to uneven thickness of the transparent conductive layer are unlikely to occur. Further, the total light transmittance is usually preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 88% or more.
  • a first functional layer 22 in which a transparent hard coat layer and an antireflection layer are sequentially laminated is formed on the opposite side of the sheet 10 from the coating 12, and the first functional layer 22 is transparent on the surface side of the coating 12.
  • the laminate 20 having a structure in which the second functional layer 24 composed of a conductive layer is formed can be used as an electrode substrate for an antistatic film, an infrared shielding film, an antireflection film, an electromagnetic shielding film, a touch panel, or the like.
  • a first functional layer 22 in which a transparent hard coat layer and an antireflection layer are sequentially laminated is formed on the opposite side of the sheet 10 from the coating 12, and a transparent conductive layer is formed on the surface side of the coating 12.
  • a transparent conductive layer is formed on the surface side of the coating 12.
  • the touch panel 5 shown in FIG. 4 is a resistive film type touch panel mounted on the front surface of a display element 9 such as a liquid crystal provided in various electronic devices (for example, a mobile phone, a car navigation system, etc.). Each function of the device can be switched by visually checking and selecting the characters, symbols, patterns, and the like displayed on the display element 9 on the rear surface through the touch panel 5 and pressing them with a finger, a dedicated pen, or the like.
  • the touch panel 5 of this embodiment includes an upper electrode substrate (first electrode substrate) 52 and a lower electrode substrate (second electrode substrate) 54.
  • the upper electrode substrate 52 includes an upper transparent substrate (first transparent substrate) 522.
  • An upper transparent conductive film (first transparent conductive film) 524 is formed on the lower surface of the upper transparent substrate 522.
  • the lower electrode substrate (second electrode substrate) 54 includes a lower transparent substrate (second transparent substrate) 542.
  • a lower transparent conductive film (second transparent conductive film) 544 is formed on the upper surface of the lower transparent substrate 542.
  • either the upper electrode substrate 52 side or the lower electrode substrate 54 side may be a movable electrode.
  • the upper electrode substrate 52 is a movable electrode and the lower electrode substrate 54 is fixed (not fixed). The case of using a movable electrode is illustrated.
  • the outer peripheral portions of the lower surface of the upper electrode substrate 52 and the upper surface of the lower electrode substrate 54 are bonded together via a substantially frame-shaped spacer 56.
  • the upper transparent conductive film 524 of the upper electrode substrate 52 and the lower transparent conductive film 544 of the lower electrode substrate 54 are arranged to face each other with a predetermined gap.
  • a plurality of dot-like spacers 58 are arranged at predetermined intervals as necessary. Note that the spacer 58 may be disposed as necessary, and a configuration in which the spacer 58 is not disposed is also possible.
  • a pair of electrodes are formed on both ends of the upper and lower transparent conductive films 524 and 544, respectively.
  • a pair of upper electrodes (not shown) formed on the upper transparent conductive film 524 and a pair of lower electrodes (not shown) formed on the lower transparent conductive film 544 are arranged in a direction crossing each other. Has been.
  • a separator (not shown) may be attached to the lower surface of the lower electrode substrate 54 via the adhesive layer 7.
  • the separator (not shown) of the touch panel 5 of this embodiment is peeled to expose the adhesive layer 7 and the display element 9. Make contact with the front face. Thereby, a color liquid crystal display element with a touch panel can be formed.
  • this liquid crystal display element with a touch panel when the user presses the upper surface of the upper electrode substrate 52 with a finger or a pen while visually recognizing the display of the display element 9 disposed on the back surface of the touch panel 5, the upper electrode substrate 52 bends.
  • the upper transparent conductive film 524 in contact with the pressed portion contacts the lower transparent conductive film 544.
  • the pressed position is detected by electrically detecting this contact via the pair of upper and lower electrodes described above.
  • the second functional layer 24 (transparent conductive layer) of the stacked body 20 corresponds to the upper transparent conductive film 524.
  • the lower transparent substrate 542 of the lower electrode substrate 54 as a fixed electrode is made of, for example, glass.
  • the above-described laminate 20 in addition to the movable electrode, can also be used for the fixed electrode (lower electrode substrate 54). Thereby, it can be set as the lighter, thinner, and hard-to-break touch panel.
  • the prepared film a was sent out at a speed of 2 m / min, and ultraviolet rays (light emission wavelength) generated at an output of 120 W / cm 2 using a high-pressure mercury lamp to the surface of the easy-adhesion layer of the film a being sent out.
  • ultraviolet rays light emission wavelength
  • Peak wavelength 360 to 370 nm (maximum)
  • 250 to 260 nm, 300 to 320 nm was irradiated for about 6 seconds
  • irradiation exposure dose about 960 mJ / cm 2 ).
  • This irradiation cycle was set to “1 pass”, and ultraviolet rays were passed in the number of passes shown in Table 1 to obtain a film sample.
  • the cross section of the obtained film sample was observed using SEM (Scanning Electron Microscope, scanning electron microscope). 5 to 10 show SEM images before ultraviolet irradiation (0 pass), after 1 pass, after 2 pass, after 3 pass, after 10 pass, and after 20 pass. As shown in FIGS. 6 to 10, it was confirmed that a film was formed on the ultraviolet irradiation surface of the film a when the ultraviolet rays were irradiated. In addition, as shown in FIG. 5, before irradiating with an ultraviolet-ray, naturally the film is not formed in the film a.
  • FIG. 11 and FIG. 12 show SEM images before ultraviolet irradiation (0 pass) and after 3 passes.
  • FIG. 12 when ultraviolet rays were irradiated, it was confirmed that a film was formed on the ultraviolet irradiation surface of the film b.
  • FIG. 11 before irradiating with an ultraviolet-ray, naturally the film is not formed in the film b.
  • HM Martens hardness
  • EIT indentation elastic modulus
  • Blocking resistance As in (2) above, a hard coat layer was formed on the film sample. Next, the ultraviolet irradiation surface of the film sample prepared separately was superimposed on the hard coat layer surface of the film sample on which the hard coat layer was formed. Next, both film samples were sandwiched between glass plates, and a weight of about 2 kg was placed and left in an atmosphere at 50 ° C. for 24 hours. Next, the overlapping surface was visually observed to confirm the occurrence of Newton rings, and then both were peeled off.
  • the refractive index at 633 nm at 25 ° C. was measured using an automatic wavelength scanning ellipsometer (M-150, manufactured by JASCO Corporation) on the ultraviolet-irradiated surface of the film sample.
  • a 125 ⁇ m thick PET film (A4350, manufactured by Toyobo Co., Ltd., with an easy adhesive layer)
  • a 125 ⁇ m thick PET film (O300E, manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd., with an easy adhesive layer)
  • a thickness A 125 ⁇ m thick PET film (OFW, manufactured by Teijin Limited, with an easy-adhesion layer) was irradiated with ultraviolet rays in the same manner as in Experimental Examples 1 to 18 described above, and the same evaluation was observed. It could be confirmed.
  • electrodeless lamps A to D were used instead of the high pressure mercury lamp as the ultraviolet irradiation source, and the ultraviolet rays were irradiated under the same conditions as in the above experimental examples 1 to 18, and the same evaluation was performed. As a result, a high pressure mercury lamp was used. It was confirmed that there was a tendency similar to the case.
  • the ultraviolet rays generated using each lamp were as follows.
  • Lamp A emission wavelength range: 220 to 440 nm, peak wavelength: 360 to 370 nm (maximum), 250 to 270 nm, 310 to 320 nm
  • lamp B emission wavelength range: 200 to 440 nm, peak wavelength: 360 to 370 nm (maximum)) 250 to 260 nm, 310 to 320 nm
  • lamp C emission wavelength range: 250 to 450 nm, peak wavelength: 350 to 390 nm (maximum), 390 to 450 nm
  • lamp D emission wavelength range: 250 to 450 nm, peak wavelength: 360 to 370 nm (maximum), 400 to 410 nm (maximum)).
  • Example 19 First, an ultraviolet curable acrylic hard coat layer having a thickness of 6 ⁇ m was formed on the surface opposite to the ultraviolet irradiation surface of the film sample obtained in Experimental Example 4 (ultraviolet 3 pass irradiation). Next, an antireflection layer (refractive index: 1.36) having a thickness of about 0.1 ⁇ m was formed on the hard coat layer so as to have a minimum reflectance near a wavelength of 550 nm. Next, an ITO film having a thickness of about 20 nm was formed on the ultraviolet irradiation surface of the film sample by a sputtering method.
  • the upper electrode substrate 52 shown in FIG. 4 was configured with the first laminate sample thus obtained.
  • the second laminate sample as the lower electrode substrate 54 shown in FIG. It was produced by cutting out into a size (rectangle of 87.3 mm length ⁇ 64.0 mm width).
  • an ionizing radiation curable resin (DotCure TR5903: Taiyo Ink Co., Ltd.) is printed as a spacer coating solution on the surface of the second laminate sample having the ITO film by screen printing, and then irradiated with ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp. Irradiation was performed, and spacers 58 having a diameter of 50 ⁇ m and a height of 8 ⁇ m were arranged at intervals of 1 mm.
  • the first laminate sample and the second laminate sample in which the spacers 58 are arranged are arranged so that the ITO films of both samples face each other with a predetermined gap, and both surfaces are bonded to each other with a thickness of 30 ⁇ m and a width of 3 mm.
  • the edge was adhere
  • the bonded portion of both samples was outside the display surface area of the touch panel sample.
  • the interference unevenness was not noticeable, and as a result, it was confirmed that the operation could be performed satisfactorily.

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Abstract

　フィルム表面へのオリゴマーの析出を防止する簡易な方法を提供する。 　フィルム基材１１に紫外線を１５００ｍＪ／ｃｍ２　以上の露光量で照射し、フィルム基材１１の少なくとも一部を改質させ、被膜１２を形成させることにより、フィルム基材１１表面へのオリゴマーの析出を防止する。

Description

被膜を持つシート及びその製造方法
　この発明は、被膜を持つシート及びその製造方法に関する。
　ポリエステルフィルムは、ＬＣＤ部材のプリズムシート、レンズシート、拡散板、反射板、タッチパネル等のベースフィルムとしてや、反射防止用やディスプレイ防爆用のベースフィルムなど、各種光学用途に広く使用されている。これら光学用途において明るく鮮明な画像を得るために、光学用フィルムとして用いられるベースフィルムは、その使用形態から透明性が良好で、かつ画像に影響を与える異物やキズ等の欠陥がないことが必要となる。
　ところが近年、その用途が多様化するにつれて、フィルムの加工条件や使用条件が多様化し、ポリエステルフィルムを加熱処理した際に、フィルム表面に、該フィルムの非架橋成分であるオリゴマーと称される重合体（環状三量体）が析出するとの問題が生じている。フィルム表面へのオリゴマーの析出が激しい場合、フィルム加工時にオリゴマーが工程内に付着して汚染したり、高度な透明性が必要な用途に使用できなくなるなどの諸問題を生じる。
　従来、フィルム表面へのオリゴマーの析出を防止する方法として種々の提案がなされている。例えば特許文献１では、抵抗膜方式の透明タッチパネルにおいて、固定電極支持体と対向して配置され、上面にハードコート層が形成された可動電極フィルムの下面に透明な収縮性樹脂層を介して可動電極を形成する技術が開示されている。
特開平７－１３６９５号公報
　上述した従来手法では、可動電極フィルムの下面に透明な収縮性樹脂層を形成することにより、可動電極フィルムの非架橋成分であるオリゴマーが可動電極側へ析出し、白化状態となって透明性が失われ、外観及び視認性が悪化することを防止するというものである。なお、可動電極フィルムの上面にはハードコート層が形成してあるので、このハードコート層によって可動電極フィルム内部からオリゴマーが可動電極フィルムの上面側に析出することが防止される。
　しかしながら、上記従来手法では、収縮性樹脂層を形成するために所定の塗料を調合し、これを可動電極フィルムの下面に塗布、乾燥、必要であれば紫外線などを照射して硬化させることが必要であり、工程が増加し、生産性が悪化することが懸念される。従って、生産性を向上させることが可能な技術の開発が望まれている。
　発明が解決しようとする課題は、簡易な方法でフィルム表面へのオリゴマーの析出を防止することができる被膜を持つシートの製造方法と、この方法を用いた被膜を持つシートを提供することである。また、このシートを含む積層体と、この積層体を含むタッチパネルを提供することも目的とする。
　この発明は、以下の解決手段によって上記課題を解決する。なお、以下の解決手段では、発明の実施形態を示す図面に対応する符号を付して説明するが、この符号は発明の理解を容易にするためだけのものであって発明を限定する趣旨ではない。
　発明に係るシート（１０）の製造方法は、フィルム基材（１１）の少なくとも一部が改質されてなる被膜（１２）を持つシートを製造する方法であって、フィルム基材（１１）に紫外線を照射し、被膜（１２）を形成させることを特徴とする。
　上記発明において、紫外線を１５００ｍＪ／ｃｍ２　以上の露光量で照射することができる。
　上記発明において、紫外線を複数回に分けて照射することができる。
　上記発明において、紫外線として、発光波長域が２００～４５０ｎｍで、３６０～３７０ｎｍにピーク出力特性を持つ光線を用いることができる。
　上記発明において、紫外線として、波長域が２００～４５０ｎｍで、３６０～３７０ｎｍ及び２５０～３２０ｎｍにピーク出力特性を持つ光線を用いることができる。
　上記発明において、フィルム基材（１１）として、透明ポリエステルフィルムを用いることができる。すなわち、フィルム基材（１１）に紫外線を照射し、フィルム基材（１１）の少なくとも一部を改質させ、被膜（１２）を形成させることにより、フィルム基材（１１）表面へのオリゴマーの析出を防止することができる。
　発明に係るシート（１０）は、フィルム基材（１１）の少なくとも一部が改質されてなる被膜（１２）を持ち、被膜（１２）は、フィルム基材（１１）に紫外線を照射することにより形成されることを特徴とする。
　上記発明において、被膜（１２）は、マルテンス硬さを２００Ｎ／ｍｍ２　以上、押し込み弾性率を４３００ＭＰａ以下、厚みを０．１μｍ以上とすることができる。
　上記発明において、マルテンス硬さ及び押し込み弾性率の値は、最大試験荷重が１ｍＮの条件での測定することができる。
　発明に係る積層体（２０）は、上記何れかのシート（１０）の表面に、各種機能が付与された機能層（２２，２４）を有する。
　上記発明において、機能層（２２，２４）は、例えば、シート（１０）の被膜（１２）側に積層された粘着層や、シート（１０）の被膜（１２）とは反対側に積層されたハードコート層などを含むことができる。
　発明に係るタッチパネル（５）は、第１の透明導電膜（５２４）が第１の透明基板（５２２）に形成された第１の電極基板（５２）と、第２の透明導電膜（５４４）が第１の透明導電膜（５２４）と所定の間隙を空けて対向するように第２の透明基板（５４２）に形成された第２の電極基板（５４）とを有する。そして、第１の透明基板（５２２）及び第２の透明基板（５４２）のうち何れか一方の可動側電極基板が積層体（２０）を含む。
　上記発明によれば、フィルム基材に紫外線を照射することにより、そのフィルム基材の少なくとも一部を改質させて被膜を形成する。形成された被膜により、フィルム基材の内部からオリゴマーの析出が防止される。すなわち上記発明によれば、従来手法と比較して、別途の塗料の調合、塗布その他の工程など生産性を悪化させる要因を有することなく、簡易な方法でフィルム表面へのオリゴマーの析出を防止することができる。
図１は本実施形態に係るシートを示す断面図である。 図２は図１のシートを有する積層体の一例を示す断面図である。 図３は図１のシートを有する積層体の他の例を示す断面図である。 図４は図２の積層体を有するタッチパネルを示す断面図である。 図５は紫外線照射前のフィルムａ断面のＳＥＭ画像である。 図６は紫外線照射後（１ｐａｓｓ）のフィルムａ断面のＳＥＭ画像である。 図７は紫外線照射後（２ｐａｓｓ）のフィルムａ断面のＳＥＭ画像である。 図８は紫外線照射後（３ｐａｓｓ）のフィルムａ断面のＳＥＭ画像である。 図９は紫外線照射後（１０ｐａｓｓ）のフィルムａ断面のＳＥＭ画像である。 図１０は紫外線照射後（２０ｐａｓｓ）のフィルムａ断面のＳＥＭ画像である。 図１１は紫外線照射前のフィルムｂ断面のＳＥＭ画像である。 図１２は紫外線照射後（３ｐａｓｓ）のフィルムｂ断面のＳＥＭ画像である。
　以下に、上記発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
　《シート》
　図１に示すように、本実施形態に係るシート１０は、例えば透明ポリエステルフィルムなどのフィルム基材１１を有する。本実施形態では、フィルム基材１１表面の少なくとも一部が改質されており、ここに被膜１２が形成されている。この被膜１２が、本実施形態ではフィルム基材１１の内部からフィルム基材１１表面へのオリゴマーの析出を防止する機能を司る。
　本実施形態の被膜１２は、第１に、その表面硬度が適切に調整されている。具体的には、マルテンス硬さ（ＨＭ）が特定の値より大きく、押し込み弾性率（ＥＩＴ）が特定の値より小さく調整されている。
　マルテンス硬さ（ＨＭ）は、ビッカース圧子により被膜１２の表面を押し込んだときの試験荷重と押し込み表面積から求められる被膜１２の硬さ（凹み難さ）を表し、被膜１２の表面の硬さの指標となる。本実施形態では、被膜１２のＨＭの値は、フィルム基材の材質によって異なってくるので一概には言えないが、好ましくは２００Ｎ／ｍｍ２　以上、より好ましくは２１０Ｎ／ｍｍ２　以上に調整されている。本発明者らは、被膜１２のＨＭを所定値以上に調整することで、傷付き難くなると共に、フィルム基材１１の内部から外部へのオリゴマーの析出を効果的に防止することができることを見出した。一方で、フィルム基材１１が劣化することによるシート１０の平面性を考慮すると、被膜１２のＨＭは、好ましくは３５０Ｎ／ｍｍ２　以下、より好ましくは３００Ｎ／ｍｍ２　以下に調整されることが望ましい。
　なお、本実施形態においてＨＭの値は、温度２０度及び相対湿度６０％の雰囲気下で、超微小硬さ試験装置（フィッシャー・インストルメンツ社、商品名：フィッシャー・スコープ・ＨＭ２０００）により、ＩＳＯ－１４５７７－１に準拠した方法で被膜１２の表面の硬さを測定した値である。ただし、最大試験荷重：１ｍＮで測定した値である。
　押し込み弾性率（ＥＩＴ）は、ヤング率に相当し、被膜１２の撓み易さ（柔軟性）を表し、被膜１２の脆さの指標となる。本実施形態では、被膜１２のＥＩＴが、好ましくは４３００ＭＰａ以下、より好ましくは４２００ＭＰａ以下、さらに好ましくは４１００ＭＰａ以下に調整されている。被膜１２のＥＩＴを所定値以下に調整することで、折り曲げてもクラックなどを生じない柔軟性に優れたシート１０とすることができる。一方で、被膜１２のＥＩＴが小さすぎると、上述したＨＭの適正範囲と両立させることが難しくなるとともに、オリゴマーの析出防止性も低下する傾向にある。このため、被膜１２のＥＩＴは、好ましくは３４００ＭＰａ以上、より好ましくは３５００ＭＰａ以上に調整されることが望ましい。
　なお、ＥＩＴの値は、上述したＨＭの場合と同じ装置を用い、ＩＳＯ－１４５７７－１に準拠して測定されるヤング率に相当する値であり、被膜１２に対して圧子を押し込んだときの圧痕の戻りやすさ（弾性率）を測定することで算出される、被膜１２そのもののヤング率のことである。ただし、ＨＭと同様に、最大試験荷重：１ｍＮで測定した値である。
　本実施形態の被膜１２は、第２に、その厚み（ｔ）が適切に調整されている。具体的には、その厚み（ｔ）は、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．２μｍ以上である。厚みが薄すぎると、オリゴマーの析出防止効果を発揮することができないからである。その一方で厚みが厚すぎると、シート１０の平面性が損なわれることもある。このため、被膜１２の厚みｔは、好ましくは１．５μｍ以下、より好ましくは１．２μｍ以下とする。
　シート１０の耐屈曲試験の値（耐クラック性１）は、被膜１２の厚みｔやフィルム基材１１の種類や厚みによって異なってくるが、好ましくは２ｍｍ以下に調整されていることが望ましい。耐屈曲試験の値が所定値以下に調整されることにより、被膜１２の耐クラック性を向上させることができる。なお、耐屈曲試験の値は、ＪＩＳ－Ｋ５６００－５－１（１９９９）に準拠した円筒形マンドレル法で測定した値である。
　シート１０の折曲試験による状態（耐クラック性２）は、被膜１２の厚みｔやフィルム基材１１の種類や厚みによって異なるが、シート１０の任意箇所を被膜１２が外側になるよう２つに折り曲げたときに、その折り曲げた箇所にクラックが生じない程度の柔軟性を備えていることが望ましい。
　　《シートの製造方法》
　本実施形態の被膜１２は、フィルム基材１１の表面に電離放射線を所定の露光量で照射し、フィルム基材１１表面の少なくとも一部を改質させることによって形成することができる。以下では、電離放射線として紫外線を用いる場合を例示し、シート１０の製造方法の一例を説明する。
　まず、フィルム基材１１の準備する。フィルム基材１１としては、例えば透明ポリエステルフィルムなどが用いられる。フィルム基材１１は、その表面に易接着処理が施されていてもよい。フィルム基材１１の厚みは特に限定されない。
　次に、準備したフィルム基材１１に紫外線を照射する。フィルム基材１１として、その表面に易接着処理が施されているものを用いる場合、紫外線照射面はフィルム基材１１の易接着処理面でもよいし、非易接着処理面でもよい。
　本発明者らは、フィルム基材１１に紫外線を所定露光量以上で照射することにより、フィルム基材１１の紫外線照射部分の少なくとも一部が表面改質し、その結果、フィルム基材１１の内部から外部へのオリゴマーの析出を防止する被膜１２を、フィルム基材１１とは別被膜として形成することができることを見出した。
　なお、本実施形態において「オリゴマー」とは、加熱処理後、結晶化してフィルム基材１１の表面に析出する低分子量物のうちフィルム基材１１を構成するポリマーの三量体成分を主とするものと定義する。「オリゴマーの析出を防止する」とは、フィルム基材１１を１５０℃の温度で１時間、加熱処理した後、フィルム基材１１の被膜１２形成面側を２００倍の顕微鏡で観察した際に１０視野当たり（面積０．５ｍｍ２　）、円相当径で２μｍφ以上の析出物が５０個未満、好ましくは２０個以下、さらに好ましくは１０個以下であることをいう。
　紫外線を照射するには、紫外線ランプを用い、例えば１００～５００ｎｍ、好ましくは２００～４５０ｎｍの発光波長域で紫外線を発生させ、これを所定露光量で照射することにより行われる。紫外線ランプとしては、例えば超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、無電極ランプ、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプなどが挙げられる。
　本実施形態では、発光波長域が上述した範囲にあり、少なくとも３６０～３７０ｎｍにピーク出力（ピーク強度）を発生させる紫外線ランプを用いることが望ましい。また、発光波長域が上述した範囲にあり、３６０～３７０ｎｍに加えて、さらに２５０～３２０ｎｍにもピーク出力を発生させる紫外線ランプ（例えば高圧水銀灯、無電極ランプなど）を用いることもできる。３６０～３７０ｎｍに、上述した発光波長域内でのランプ出力（ｗ／１０ｎｍ）が最大となるピーク（最大ピーク）を有することとなるものが望ましいが、２５０～３２０ｎｍに最大ピークを有するものであってもよい。３６０～３７０ｎｍや２５０～３２０ｎｍには存在すべきピークは１つに限らず、２つ以上の場合も含まれる。こうした特定の波長域にピーク（最大ピークを含む）を持つ光線を用いることにより、形成される被膜１２に対して付与されるオリゴマーの析出防止効果が一層向上する。
　紫外線の積算照射量は、露光量で、例えば１５００ｍＪ／ｃｍ２　以上、好ましくは２０００ｍＪ／ｃｍ２　以上、より好ましくは２５００ｍＪ／ｃｍ２　以上である。ただし、照射露光量があまりに大きいとフィルム基材１１が劣化しシート１０の平面性が損なわれるおそれがあるため、好ましくは３００００ｍＪ／ｃｍ２　以下、より好ましくは２５０００ｍＪ／ｃｍ２　以下の露光量で照射することができる。一度にこの量で照射する必要はなく、小さな露光量を数度に分けて照射することもできる。所定露光量を数回に分けて照射することにより、大きな露光量を一度に照射する場合と比較して、積算照射量が同じでも、フィルム基材１１が受けるダメージを低減することができる。
　なお、本実施形態では紫外線の照射は、フィルム基材１１の一方の面にのみ行ってもよいし、あるいは両面に行ってもよい。紫外線をフィルム基材１１の両面に照射する場合、各面ごとに照射露光量を変えてもよい。
　本実施形態では、フィルム基材１１に紫外線を所定露光量以上で照射する。これにより、フィルム基材１１の紫外線照射部分の少なくとも一部が改質され、ここに被膜１２が形成される。形成された被膜１２は、上述したように、適切な表面硬度と厚みを有するので、フィルム基材１１の内部からフィルム基材１１表面へのオリゴマーの析出が効果的に防止される。従って、本実施形態によれば、別途の塗料の調合、塗布その他の工程など生産性を悪化させる要因を含む従来手法と比較して、簡易な方法でフィルム基材１１表面へのオリゴマーの析出を防止することができる。
　また、形成される被膜１２は、その表面硬度と厚みｔが適切に調整されているので、本実施形態のシート１０を光学用途のベースフィルムに使用する場合に必要な耐クラック性、耐ブロッキング性、耐溶剤性、ぬれ性改良などの諸性能をも充足することができる。
　《積層体》
　図２及び図３に示す積層体２０は、何れも、上述した図１に示すシート１０を有する。以下の説明では、シート１０として、フィルム基材１１の一方の面に被膜１２を有する場合を例示する。
　図２に示すように、本実施形態の第１の観点では、シート１０の被膜１２とは反対面に各種機能が付与される第１機能層２２が積層してある。第１機能層２２としては、例えばハードコート層、反射防止層などの単層膜又は多層膜が挙げられる。
　図３に示すように、本実施形態の第２の観点では、シート１０の被膜１２の面に上述した粘着層や透明導電層などの第２機能層２４が形成してある。この場合、シート１０の被膜１２とは反対面に、さらに図２に示す第１機能層２２が積層してあってもよい。
　　《ハードコート層》
　ハードコート層は、積層体２０の表面硬度を高くし、表面に傷が発生することを防止するために設けられる。従って、第１機能層２２としてハードコート層を用いる場合の当該ハードコート層の表面硬度は、好ましくはＨ以上、より好ましくは２Ｈ以上、さらに好ましくは３Ｈ以上である。表面硬度の値は、ＪＩＳ－Ｋ５４００（１９９０）に準拠した方法で測定した鉛筆引っかき値（鉛筆硬度）で示される。
　ハードコート層は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などの樹脂で構成される。特に、電離放射線硬化性樹脂で構成した場合には、表面硬度等に代表されるハードコート性を発揮できるため好ましい。
　熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂としては、例えばポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアタリレート系樹脂、ポリウレタンアタリレート系樹脂、エポキシアタリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、アセタール系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられる。
　電離放射線硬化性樹脂としては、電離放射線（紫外線または電子線）の照射によって架橋硬化する光重合性プレポリマーを用いることができる。この実施形態では、後述の光重合性プレポリマーを単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。
　光重合性プレポリマーには、カチオン重合型とラジカル重合型とがある。
　カチオン重合型光重合性プレポリマーとしては、エポキシ系樹脂やビニルエーテル系樹脂などが挙げられる。エポキシ系樹脂としては、例えばビスフェノール系エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられる。
　ラジカル重合型光重合性プレポリマーとしては、１分子中に２個以上のアクリロイル基を有し、架橋硬化することにより３次元網目構造となるアクリル系プレポリマー（硬質プレポリマー）が、ハードコート性の観点から特に好ましく使用される。
　アクリル系プレポリマーとしては、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、ポリフルオロアルキルアクリレート、シリコーンアクリレート等が挙げられる。
　ウレタンアクリレート系プレポリマーは、例えばポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、（メタ）アクリル酸との反応でエステル化することにより得ることができる。ポリエステルアクリレート系プレポリマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、又は、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。エポキシアクリレート系プレポリマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラックエポキシ樹脂のオキシラン環と、（メタ）アクリル酸との反応でエステル化することにより得ることができる。アクリル系プレポリマーは単独でも使用可能であるが、架橋硬化性の向上や、硬化収縮の調整等、種々の性能を付与するために、光重合性モノマーを加えることが好ましい。
　光重合性モノマーとしては、単官能アクリルモノマー（例えば２－エチルヘキシルアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート等）、２官能アクリルモノマー（例えば１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート等）、３官能以上のアクリルモノマー（例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等）が挙げられる。なお、「アクリレート」には、文字通りのアクリレートの他、メタクリレートも含む。これらの光重合性モノマーは単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。
　ハードコート層を形成する際に、紫外線照射によって硬化させて使用する場合には、上述した光重合性プレポリマー及び光重合性モノマーの他に、光重合開始剤、光重合促進剤、紫外線増感剤等の添加剤を配合することが好ましい。
　光重合開始剤としては、ラジカル重合型光重合性プレポリマーや光重合性モノマーに対しては、例えばアセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等が挙げられる。カチオン重合型光重合性プレポリマーに対する光重合開始剤としては、例えば芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウムイオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。光重合促進剤としては、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどが挙げられる。紫外線増感剤としては、ｎ－ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ－ｎ－ブチルホスフィンなどが挙げられる。
　これら添加剤の配合量は、上述した光重合性プレポリマー及び光重合性モノマーの合計１００重量部に対して、通常０．２～１０重量部の範囲で選ばれる。
　この実施形態のハードコート層には、本発明の効果を阻害しない範囲であれば、必要に応じて、添加成分を適宜配合してもよい。添加成分としては、例えば、表面調整剤、滑剤、着色剤、顔料、染料、蛍光増白剤、難燃剤、抗菌剤、防カビ剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、可塑剤、レベリング剤、流動調整剤、消泡剤、分散剤、貯蔵安定剤、架橋剤、シランカップリング剤等が挙げられる。
　ハードコート層は、その厚みが、０．１～３０μｍ程度であることが好ましい。より好ましくは０．５～１５μｍ、さらに好ましくは２～１０μｍとする。厚みを０．１μｍ以上とすることで、ハードコート層側にも十分な表面硬度（ハードコート性）を発揮させることができる。
　　《反射防止層》
　反射防止層は、ハードコート層の表面に設けられ、ハードコート層の表面部分での映り込みを減少させ、積層体２０全体の全光線透過率を向上させるために設けられる。表面部分での映り込みを防止するためにハードコート層の屈折率を小さく設計することも考えられる。ところが、屈折率が小さくなるようにハードコート層を設計すると、ハードコート層のハードコート性が低下することがあるので、ハードコート層の表面に、ハードコート層の屈折率より低い屈折率を持つ反射防止層を薄い厚みで形成することが好ましい。
　反射防止層は、ハードコート層よりも屈折率の低い材料で構成されればよく、例えばケイ素系樹脂、フッ素系樹脂、金属酸化物ゾルや、これらに金属酸化物微粒子、好ましくは多孔状または中空状の金属酸化物微粒子を加えたものが挙げられる。またハードコート層の説明欄で列挙した樹脂に前記金属酸化物微粒子を加えたものも使用可能である。
　金属酸化物ゾルとしては、シリカ、アルミナゾルなどが挙げられる。これら金属酸化物ゾルの中でも、屈折率、流動性、コストの観点から、シリカゾルが好適に使用される。なお、金属酸化物ゾルとは、金属酸化物の存在によってチンダル現象を観測できない材料をいい、いわゆる均一溶液のことをいう。例えば、一般にコロイダルシリカゾルと言われる材料であっても、チンダル現象が観測されるものであれば、この実施形態では金属酸化物ゾルに含まれないものとする。
　このような金属酸化物ゾルは、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジルコニアプロポキシド、アルミニウムイソプロポキシド、チタンブトキシド、チタンイソプロポキシドなどの金属アルコキシドを加水分解して調整することができる。金属酸化物ゾルの溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、アセトン、１，４一ジオキサンなどが挙げられる。
　金属酸化物微粒子は、上述した金属酸化物を微粉末化したものであり、シリカ微粒子、アルミナ微粒子などが挙げられる。これらの中でも屈折率、流動性、コストの観点から、シリカ微粒子が好適に使用される。また、金属酸化物微粒子の形状は特に制限されることはないが、屈折率の低い多孔状又は中空状の金属酸化物微粒子が好適に使用される。
　このような金属酸化物微粒子としては、これを分散液とした際にチンダル現象が観測されるような一定の粒子径を有するものを使用する。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、前記条件を満たす限り特に制限されることはないが、４０～１００ｎｍの範囲であることが好ましい。平均粒子径が４０ｎｍ以上の微粒子を用いることにより、反射防止層の表面に浮上する金属酸化物粒子がなくなり、表面硬度の低下を防止することができ、１００ｎｍ以下の微粒子を用いることで、反射防止層から金属酸化物微粒子がはみ出すことがなくなり、表面硬度の低下を防止することができる。また、透明性を良好なものとするために、金属酸化物微粒子の平均粒子径は、さらに好ましくは４０～７０ｎｍの範囲とする。
　金属酸化物ゾルと金属酸化物微粒子の混合割合は、特に限定されるものではないが、金属酸化物ゾル中の金属酸化物成分１００重量部に対し、金属酸化物微粒子が、好ましくは５重量部以上、より好ましくは２０重量部以上であり、好ましくは２００重量部以下、より好ましくは１００重量部以下である。
　反射防止層の厚みは、光の反射防止理論より次式を満たすことが好ましい。
［数１］　ｄ＝（ａ十１）λ／４ｎ
　ここで、ｄは反射防止層の厚み（単位は「ｎｍ」）、ａは０又は正の偶数、λは反射を防止しようとする光の中心波長、ｎは反射防止層の屈折率である。具体的には、例えば２μｍ程度以下が好ましく、より好ましくは１μｍ以下、さらに好ましくは０．８μｍ以下、特に好ましくは０．５μｍ以下、最も好ましくは０．３μｍ以下である。反射防止層の厚みが厚くなると、厚みムラに起因する干渉ムラが発生し難くなる反面、下面に設けられるハードコート層のハードコート性が発揮され難くなる。
　上述したハードコート層、反射防止層の形成方法としては、各々の構成成分や必要に応じて他の成分を配合して、さらに適当な溶媒に溶解又は分散させて塗布液を調製し、当該塗布液をロールコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、エアナイフコーティング法、ダイコーティング法、ブレードコーティング法、スピンコーティング法、グラビアコーティング法、フローコーティング法、スクリーン印刷法などの公知の方法によりシート１０に順次塗布して乾燥させ、必要であれば適宜必要な硬化方法で硬化させることにより形成することができる。
　　《粘着層》
　粘着層としては、例えば、天然ゴム系、再生ゴム系、クロロプレンゴム系、ニトリルゴム系、スチレン・ブタジエン系などのエラストマー粘着剤、アクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ウレタン系、シアノアクリレート系などの合成樹脂粘着剤のほか、エマルジョン系粘着剤などの公知の粘着剤で構成することができる。粘着層は、粘着性を発揮させるために厚み５μｍ以上にするのが一般的である。このような粘着層は、粘着性成分、および必要に応じて加えた架橋剤や他の添加剤を溶剤に溶解または分散して粘着層用塗布液を調製し、上述した反射防止層と同様の従来公知のコーティング方法により、シート１０の被膜１２上に塗布、乾燥することにより作製することができる。また、上記粘着層用塗布液をセパレーター等に塗布、乾燥した後、シート１０の被膜１２上にラミネートすることにより作製することもできる。
　上述した第１機能層２２には、紫外線吸収性能をもたせることも可能である。特に３５０～３８０ｎｍの範囲の光線透過率を０．１％～７０％程度とした場合、ハードコート性を保持しながら、耐候性を付与することができる。ハードコート層に電離放射線硬化性樹脂を用いた場合には、電離放射線硬化性樹脂が硬化する紫外線領域と吸収する紫外線領域を調整することにより、ハードコート層の硬化に影響を与えることなく、紫外線吸収性の付与できる。例えば、紫外線吸収剤の吸収波長域のピークと２０ｎｍ以上異なる位置に吸収波長域のピークを有する光重合開始剤を用いることが好ましい。このようにすることによりハードコート層を十分に硬化させることができ、優れたハードコート性を付与することができる。
　　《透明導電層》
　透明導電層としては、例えば一般的に広く知られた透明導電性材料や有機導電性材料などで構成することができる。透明導電性材料としては、例えば、酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウム錫、金、銀、パラジウムなどの透明導電性物質が挙げられる。有機導電性材料としては、例えばポリパラフェニレン、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリピロール、ポリフラン、ポリセレノフェン、ポリピリジン等の導電性高分子が挙げられる。中でも、透明性と導電性に優れ、比較的低コストに得られる酸化インジウム、酸化錫又は酸化インジウム錫のいずれかを主成分とした透明導電性材料で構成されていることが好ましい。
　透明導電層は、上述した導電性材料を用いて、ドライプロセス（例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法など）やウェットプロセス（例えば溶液塗布法など）により、薄膜状態で形成することができる。
　透明導電層の厚みは、適用する材料によっても異なるため一概には言えないが、表面抵抗率で１０００Ω以下、好ましくは５００Ω以下になるような厚みとする。例えば、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。経済性を考慮すると、８０ｎｍ以下、好ましくは７０ｎｍ以下の範囲が好適である。このような薄膜においては透明導電層の厚みムラに起因する可視光の干渉縞は発生しにくい。また、全光線透過率は通常８０％以上であることが好ましく、８５％以上がさらに好ましく、８８％以上が特に好ましい。
　本実施形態では特に、シート１０の被膜１２とは反対面側に、透明ハードコート層と反射防止層が順次積層された第１機能層２２が形成してあり、被膜１２の表面側に、透明導電層で構成される第２機能層２４が形成してある構造の積層体２０は、帯電防止フィルムや赤外線遮蔽フィルム、反射防止フィルム、電磁波シールドフィルム、タッチパネルなどの電極基板として使用することができる。
　以下の説明では、シート１０の被膜１２とは反対面側に透明ハードコート層と反射防止層が順次積層された第１機能層２２が形成してあり、被膜１２の表面側に透明導電層で構成される第２機能層２４が形成してある積層体２０を、タッチパネルに使用する場合を例示する。
　《タッチパネル》
　図４に示すタッチパネル５は、各種電子機器（例えば携帯電話やカーナビ等）に設けられる液晶等の表示素子９の前面に装着される抵抗膜方式のタッチパネルである。このタッチパネル５を通して背面の表示素子９に表示された文字や記号、絵柄等の視認や選択を行い、指や専用ペン等で押圧操作することによって、機器の各機能の切換えを行うことができる。
　この実施形態のタッチパネル５は、上電極基板（第１の電極基板）５２と、下電極基板（第２の電極基板）５４とを有する。上電極基板５２は、上透明基板（第１の透明基板）５２２を有する。上透明基板５２２の下面には、上透明導電膜（第１の透明導電膜）５２４が形成されている。下電極基板（第２の電極基板）５４は、下透明基板（第２の透明基板）５４２を有する。下透明基板５４２の上面には、下透明導電膜（第２の透明導電膜）５４４が形成されている。
　タッチパネル５は、上電極基板５２側と下電極基板５４側の何れかが可動電極であってもよいが、この実施形態では、上電極基板５２を可動電極とし、下電極基板５４を固定（非可動）電極とする場合を例示する。
　この実施形態では、上電極基板５２の下面と下電極基板５４の上面のそれぞれの外周部分は、略額縁状のスペーサ５６を介して貼り合わされている。また、上電極基板５２の上透明導電膜５２４と、下電極基板５４の下透明導電膜５４４とが、所定の間隙を空けて対向するように配置されている。下透明導電膜５４４の上面には、必要に応じてドット状のスペーサ５８が所定間隔で複数配置される。なお、スペーサ５８は必要に応じて配置すれば良く、スペーサ５８を配置しない構成にすることも可能である。
　上下透明導電膜５２４，５４４の両端には、それぞれ一対の電極（図示省略）が形成されている。この実施形態では、上透明導電膜５２４に形成される一対の上電極（図示省略）と、下透明導電膜５４４に形成される一対の下電極（図示省略）とは、互いに交差する方向に配置されている。
　なお、この実施形態では、下電極基板５４の下面には、接着層７を介してセパレータ（図示省略）が貼付してあってもよい。
　この実施形態のタッチパネル５を、例えばカラー液晶等の表示素子９の前面に搭載するには、まずこの実施形態のタッチパネル５のセパレータ（図示省略）を剥がして接着層７を露出させ、表示素子９の前面に対向するように接触させる。これにより、タッチパネル付きカラー液晶表示素子を形成することができる。
　このタッチパネル付き液晶表示素子では、ユーザがタッチパネル５の背面に配置される表示素子９の表示を視認しながら、指やペン等で上電極基板５２の上面を押圧操作すると、上電極基板５２が撓み、押圧された箇所の上透明導電膜５２４が下透明導電膜５４４に接触する。この接触を上述した一対の上下電極を介して電気的に検出することにより、押圧された位置が検出される。
　この実施形態では、可動電極としての上電極基板５２を、上述した積層体２０（＝下から上へ向けて順次、第２機能層２４（透明導電層）、被膜１２、フィルム基材１１、第１機能層２２（透明ハードコート層及び反射防止層）が積層してある構造）で構成してある。積層体２０の第２機能層２４（透明導電層）が上透明導電膜５２４に相当する。
　この実施形態では、固定電極としての下電極基板５４の下透明基板５４２は、例えばガラスなどで構成される。
　なお、この実施形態では、可動電極に加えて、固定電極（下電極基板５４）にも、上述した積層体２０を用いることもできる。これにより、より軽く、より薄型で、割れにくいタッチパネルとすることができる。
　以上説明した実施形態は、上記発明の理解を容易にするために記載されたものであって、上記発明を限定するために記載されたものではない。従って、上記の実施形態に開示された各要素は、上記発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
　次に、上記発明の実施形態をより具体化した実施例を挙げ、さらに詳細に説明する。
　《実験例１～６》
　まず、フィルム基材１１として、厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム（Ｕ３４、東レ社製、易接着層あり。以下「フィルムａ」とする）を準備する。
　次に、準備したフィルムａを２ｍ／分の速度で送り出すとともに、この送り出されているフィルムａの易接着層面に対し、高圧水銀灯を用いて１２０Ｗ／ｃｍ２　の出力で発生させた紫外線（発光波長域：２５０～４００ｎｍ、ピーク波長：３６０～３７０ｎｍ（最大）、２５０～２６０ｎｍ、３００～３２０ｎｍ）を約６秒、照射した（照射露光量＝約９６０ｍＪ／ｃｍ２　）。この照射サイクルを「１ｐａｓｓ」とし、表１に示すｐａｓｓ数の紫外線の照射を行い、フィルム試料を得た。
　得られたフィルム試料の断面をＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、走査型電子顕微鏡）を用いて観察した。紫外線照射前（０ｐａｓｓ）、１ｐａｓｓ後、２ｐａｓｓ後、３ｐａｓｓ後、１０ｐａｓｓ後、２０ｐａｓｓ後のＳＥＭ画像を図５～１０に示す。図６～１０に示すように、紫外線を照射した場合には、フィルムａの紫外線照射面に被膜が形成されていることが確認できた。なお、図５に示すように、紫外線を照射する前では、当然にフィルムａに被膜が形成されていない。
　《実験例７～１２》
　フィルム基材１１として、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（Ｔ－６０、東レ社製、易接着層なし。以下「フィルムｂ」とする）を用いた以外は、実験例１～６と同様の条件で紫外線照射を行い、フィルム試料を得た。
　得られたフィルム試料の断面をＳＥＭを用いて観察した。紫外線照射前（０ｐａｓｓ）、３ｐａｓｓ後のＳＥＭ画像を図１１及び図１２に示す。図１２に示すように、紫外線を照射した場合には、フィルムｂの紫外線照射面に被膜が形成されていることが確認できた。なお、図１１に示すように、紫外線を照射する前では、当然にフィルムｂに被膜が形成されていない。
　《実験例１３～１８》
　フィルム基材１１として、厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム（Ａ４３００、東洋紡績社製、易接着層あり。以下「フィルムｃ」とする）を用いた以外は、実験例１～６と同様の条件で紫外線照射を行い、フィルム試料を得た。
　《特性の評価》
　上記実験例１～１８により得られたフィルム試料について、下記特性を評価した。結果を表１に示す。
　（１）マルテンス硬さ（ＨＭ）及び押し込み弾性率（ＥＩＴ）
　いずれも超微小硬さ試験装置（フィッシャー・インストルメンツ社、商品名：フィッシャー・スコープ・ＨＭ２０００）を用い、ＩＳＯ－１４５７７－１に準拠した方法により後述の測定条件で、得られたフィルム試料に形成された被膜の表面（紫外線照射をしていない試料の場合はフィルム面）の硬さやヤング率を測定した。ＨＭ及びＥＩＴの何れも測定条件を、圧子形状：ビッカース圧子（ａ＝１３６°）、測定環境：温度２０℃・相対湿度６０％、最大試験荷重：１ｍＮ、荷重速度：１ｍＮ／２０秒、最大荷重クリープ時間：５秒、除荷速度：１ｍＮ／２０秒、とした。
　（２）耐熱性（オリゴマー析出防止性、顕微鏡）
　まず、得られたフィルム試料の紫外線照射面とは反対面に、厚さ６μｍの紫外線硬化型アクリル系ハードコート層を形成した。次に、ハードコート層を形成したフィルム試料を１５０℃のオーブンに投入し、１時間後に取り出した。次に、取り出したフィルム試料の紫外線照射面（紫外線照射をしていない試料の場合はフィルム面）を顕微鏡（２００倍）で観察し、１０視野当たり（面積０．５ｍｍ２　）に、円相当径で２μｍφ以上の析出物が１０個以下であった（オリゴマーの析出が全く認められなかった）ものを「○」、上記析出物が２０個を超え５０個未満であった（オリゴマーの析出がやや認められたが問題なしと考えられる）ものを「△」、上記析出物が５０個を超えた（オリゴマーの析出が認められた）ものを「×」として評価した。
　（３）耐熱性（オリゴマー析出防止性、ヘーズ）
　まず、上記（２）と同様に、得られたフィルム試料にハードコート層を形成した。次に、ハードコート層を形成したフィルム試料に対し、ヘーズメーター（ＮＤＨ２０００、日本電色社）を用いてヘーズ値「％」（ＪＩＳ－Ｋ７１３６：２０００）を測定した。その後、ヘーズ値測定後のフィルム試料を上記（２）と同様に１５０℃のオーブンに投入して１時間後に取り出した。次に、取り出したフィルム試料に対して上記同様にヘーズ値を測定した。
　（４）耐クラック性
（４－１）マンドレル
　ＪＩＳ－Ｋ５６００－５－１（１９９９）に準拠した耐屈曲性（円筒形マンドレル法）に基づき、直径が２ｍｍの鉄棒に、フィルム試料を被膜が外側になるように巻き付け、その巻き付けた部分の被膜にクラックを生じるか否かを目視で観察する。その結果、クラックが確認できなかったものを「○」、クラックを確認できたものを「×」として評価した。
（４－２）折り曲げ
　フィルム試料を被膜が外側になるように２つに折り曲げ、その折り曲げた部分の被膜にクラックを生じるか否かを目視で観察する。その結果、クラックが確認できなかったものを「○」、クラックを確認できたものを「×」として評価した。
　（５）耐ブロッキング性
　まず、上記（２）と同様に、フィルム試料にハードコート層を形成した。次に、ハードコート層を形成したフィルム試料のハードコート層面に、別途用意したフィルム試料の紫外線照射面を重ね合わせた。次に、両フィルム試料をガラス板で挟み込み、約２ｋｇの重りを載せて５０℃の雰囲気下に２４時間放置した。次に、重ね合わせ面を目視により観察しニュートンリングの発生状況を確認した後、両者を剥離した。その結果、剥離前はニュートンリングが発生しておらず、剥離時には剥離音を立てずに軽く剥離されるものを「○」、剥離前は一部ニュートンリングが発生しており、剥離時には小さな剥離音を立てながら剥離されるものを「△」、剥離前は全面にニュートンリングが発生しており、剥離時には大きな剥離音を立てて剥離されるものを「×」として評価した。
　（６）屈折率の測定
　フィルム試料の紫外線照射面に対し、自動波長走査型エリプソメーター（Ｍ－１５０、日本分光社製）を用い、２５℃における６３３ｎｍでの屈折率を測定した。
　（７）耐溶剤性
　まず、上記（２）と同様に、フィルム試料にハードコート層を形成した。次に、ハードコート層を形成したフィルム試料の紫外線照射面を、メチルエチルケトンをしみ込ませた綿布で往復３０回擦った。次に、上記（２）と同様にフィルム試料の紫外線照射面を顕微鏡で観察し、オリゴマーの析出が、上記（２）の評価と同程度であったものを「○」、上記（２）の評価よりも悪くなったものを「×」として評価した。なお、各フィルム基材の０ｐａｓｓ、１ｐａｓｓについては、後述するように、上記（２）の評価が「×」であったため、ここでは評価しなかった。
　（８）耐熱耐湿性（オリゴマー析出防止性、顕微鏡）
　まず、実験例１３～１８で得られたフィルム試料に、上記（２）と同様にしてハードコート層を形成した。
　次に、ポリエステルフィルムの一方の面にハードコート層、もう一方の面にアンチブロッキング層を有するハードコートフィルム（ＫＢフィルムＧＳＡＢ：きもと社）のアンチブロッキング層上に、乾燥厚み約２０μｍとなるようにアクリル系粘着剤層を設けた。次いで、当該粘着剤層とハードコート層を形成した実験例１３～１８のフィルム試料の被膜面とを貼り合わせ、１５０℃の環境に２時間放置した後、６０℃、９５％ＲＨの環境（恒温恒湿器）に２４０時間放置し、取り出した。そして、ハードコートフィルム側から、上記（２）と同様にして顕微鏡で観察し同様の評価を行った。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１に示すように、易接着層の有無にかかわらず何れのフィルム基材を用いた場合でも、少なくとも１ｐａｓｓの紫外線照射を行うことで（実験例２～６，８～１２，１４～１８，図６～１０及び図１２）、紫外線照射を行わない場合（実験例１，７，１３，図５及び図１１）と比較して、フィルム基材の表面の一部が改質され、ここに被膜が形成されることが確認できた。フィルム基材の表面の一部が改質されて形成された被膜は、紫外線を２ｐａｓｓ以上照射した場合（紫外線の積算露光量が１５００ｍＪ／ｃｍ２　以上）、高温環境においてもオリゴマーの析出を防止するなど、種々の特性向上が見られることが確認できた。
　なお、被膜の上層に、粘着層を有する場合でも、紫外線を２ｐａｓｓ以上照射した場合には、高温高湿環境においてもオリゴマーの析出を防止する効果が確認された。
　なお、フィルム基材１１として、厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム（Ａ４３５０、東洋紡社製、易接着層あり）、厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム（Ｏ３００Ｅ、三菱化学ポリエステルフィルム社製、易接着層あり）、厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム（ＯＦＷ、帝人社製、易接着層あり）についても、上述した実験例１～１８と同様に紫外線照射を行い、同様の評価を行ったところ、同様の傾向があることが確認できた。
　また、紫外線照射源として、高圧水銀灯に代え、無電極ランプＡ～Ｄを用い、上述した実験例１～１８と同条件で紫外線照射を行い、同様の評価を行ったところ、高圧水銀灯を用いた場合と同様の傾向があることが確認できた。
　各ランプを用いて発生させた紫外線は以下のとおりであった。ランプＡ（発光波長域：２２０～４４０ｎｍ、ピーク波長：３６０～３７０ｎｍ（最大）、２５０～２７０ｎｍ、３１０～３２０ｎｍ）、ランプＢ（発光波長域：２００～４４０ｎｍ、ピーク波長：３６０～３７０ｎｍ（最大）、２５０～２６０ｎｍ、３１０～３２０ｎｍ）、ランプＣ（発光波長域：２５０～４５０ｎｍ、ピーク波長：３５０～３９０ｎｍ（最大）、３９０～４５０ｎｍ）、ランプＤ（発光波長域：２５０～４５０ｎｍ、ピーク波長：３６０～３７０ｎｍ（最大）、４００～４１０ｎｍ（最大））。
　《実験例１９》
　まず、実験例４（紫外線３ｐａｓｓ照射）で得られたフィルム試料の紫外線照射面とは反対面に、厚さ６μｍの紫外線硬化型アクリル系ハードコート層を形成した。次に、ハードコート層の上に、波長５５０ｎｍの付近で最小反射率となるように厚さ約０．１μｍの反射防止層（屈折率：１．３６）を形成した。次に、フィルム試料の紫外線照射面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法で形成した。
　このようにして得られた第１積層体試料で、図４に示す上電極基板５２を構成した。
　次に、図４に示す下電極基板５４としての第２積層体試料を、厚み１ｍｍ強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法で形成した後、これを４型の大きさ（縦８７．３ｍｍ×横６４．０ｍｍの長方形）に切り取ることにより作製した。
　次に、第２積層体試料のＩＴＯ膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化性樹脂（ＤｏｔＣｕｒｅＴＲ５９０３：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサ５８を１ｍｍの間隔で配列させた。
　次に、両試料のＩＴＯ膜が所定のギャップを隔てて対向するように、第１積層体試料と、スペーサ５８を配列させた第２積層体試料とを配置し、厚み３０μｍ、幅３ｍｍ両面接着テープで縁を接着し、図４に示すタッチパネル５に相当するタッチパネル試料を作製した。なお、この実験例では、両試料の接着部分がタッチパネル試料の表示面の領域外となるようにした。
　作製したタッチパネル試料では、干渉ムラが目立たず、その結果、良好に操作をすることができることが確認できた。
１０…シート、１１…フィルム基材、１２…被膜、２０…積層体、２２…第１機能層（機能層）、２４…第２機能層（機能層）、５…タッチパネル、５２…上電極基板（第１の電極基板）、５２２…上透明基板（第１の透明基板）、５２４…上透明導電膜（第１の透明導電膜）、５４…下電極基板（第２の電極基板）、５４２…下透明基板（第２の透明基板）、５４４…下透明導電膜（第２の透明導電膜）、５６，５８…スペーサ、７…接着層、９…表示素子。

Claims (14)

  1. 　フィルム基材の少なくとも一部が改質されてなる被膜を持つシートを製造する方法であって、前記フィルム基材に紫外線を照射し、前記被膜を形成させることを特徴とするシートの製造方法。
  2. 　請求項１記載のシートの製造方法において、
    　前記紫外線を１５００ｍＪ／ｃｍ２　以上の露光量で照射することを特徴とするシートの製造方法。
  3. 　請求項２記載のシートの製造方法において、
    　前記紫外線を複数回に分けて照射することを特徴とするシートの製造方法。
  4. 　請求項１～３の何れか一項記載のシートの製造方法において、
    　前記紫外線として、発光波長域が２００～４５０ｎｍであり、３６０～３７０ｎｍにピーク出力特性を持つ光線を用いることを特徴とするシートの製造方法。
  5. 　請求項４記載のシートの製造方法において、
    　前記紫外線は、さらに２５０～３２０ｎｍにピーク出力特性を持つことを特徴とするシートの製造方法。
  6. 　請求項１～５の何れか一項記載のシートの製造方法において、
    　前記フィルム基材として、透明ポリエステルフィルムを用いることを特徴とするシートの製造方法。
  7. 　フィルム基材表面へのオリゴマーの析出を防止する方法であって、前記フィルム基材に紫外線を照射し、前記フィルム基材の少なくとも一部を改質させ、被膜を形成させることを特徴とするオリゴマーの析出防止方法。
  8. 　フィルム基材の少なくとも一部が改質されてなる被膜を持つシートであって、
    　前記被膜は、前記フィルム基材に紫外線を照射することにより形成されることを特徴とするシート。
  9. 　請求項８記載のシートにおいて、
    　前記被膜は、マルテンス硬さが２００Ｎ／ｍｍ２　以上、押し込み弾性率が４３００ＭＰａ以下、厚みが０．１μｍ以上であることを特徴とするシート。
  10. 　請求項８又は９記載のシートにおいて、
    　前記マルテンス硬さ及び前記押し込み弾性率の値は、最大試験荷重が１ｍＮの条件での測定値であることを特徴とするシート。
  11. 　請求項８～１０の何れか一項記載のシートの表面に機能層を有する積層体。
  12. 　請求項１１記載の積層体において、
    　前記機能層が、前記シートの前記被膜側に積層された粘着層を含むことを特徴とする積層体。
  13. 　請求項１１記載の積層体において、
    　前記機能層が、前記シートの前記被膜とは反対側に積層されたハードコート層を含むことを特徴とする積層体。
  14. 　第１の透明導電膜が第１の透明基板に形成された第１の電極基板と、
    　第２の透明導電膜が前記第１の透明導電膜と所定の間隙を空けて対向するように第２の透明基板に形成された第２の電極基板とを、有するタッチパネルであって、
    　前記第１の透明基板及び前記第２の透明基板のうち何れか一方の可動側電極基板が、請求項１３記載の積層体を含むことを特徴とするタッチパネル。
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