JP2003039607A - 帯電防止性ハードコートフィルム及びその製造方法 - Google Patents

帯電防止性ハードコートフィルム及びその製造方法

Info

Publication number
JP2003039607A
JP2003039607A JP2001228387A JP2001228387A JP2003039607A JP 2003039607 A JP2003039607 A JP 2003039607A JP 2001228387 A JP2001228387 A JP 2001228387A JP 2001228387 A JP2001228387 A JP 2001228387A JP 2003039607 A JP2003039607 A JP 2003039607A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
antistatic
hard coat
layer
ionizing radiation
coat film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001228387A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4224227B2 (ja
Inventor
Yutaka Onozawa
豊 小野沢
Satoru Shiyoji
悟 所司
Shigenobu Maruoka
重信 丸岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lintec Corp filed Critical Lintec Corp
Priority to JP2001228387A priority Critical patent/JP4224227B2/ja
Priority to KR1020020040155A priority patent/KR100894518B1/ko
Priority to US10/197,475 priority patent/US6887557B2/en
Priority to TW91117236A priority patent/TWI223625B/zh
Priority to CNB021275289A priority patent/CN1206096C/zh
Publication of JP2003039607A publication Critical patent/JP2003039607A/ja
Priority to KR1020080038220A priority patent/KR100896303B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of JP4224227B2 publication Critical patent/JP4224227B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/50—Multilayers
    • B05D7/52—Two layers
    • B05D7/53—Base coat plus clear coat type
    • B05D7/536—Base coat plus clear coat type each layer being cured, at least partially, separately
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • B05D3/061—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
    • B05D3/065—After-treatment
    • B05D3/067—Curing or cross-linking the coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/025—Electric or magnetic properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/044—Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/24—Electrically-conducting paints
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/16—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements having an anti-static effect, e.g. electrically conducting coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/32—Processes for applying liquids or other fluent materials using means for protecting parts of a surface not to be coated, e.g. using stencils, resists
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24893—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including particulate material
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24893—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including particulate material
    • Y10T428/24909—Free metal or mineral containing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
    • Y10T428/254—Polymeric or resinous material
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
    • Y10T428/256—Heavy metal or aluminum or compound thereof
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264—Up to 3 mils
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31—Surface property or characteristic of web, sheet or block
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31536—Including interfacial reaction product of adjacent layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 全光線透過率の値が大きく、表示画像の視認
性が良好であって、しかも帯電防止性および耐擦傷性と
のバランスに優れるとともに、製造が容易な帯電防止性
ハードコートフィルムおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 基材フィルム上に、（Ａ）電離放射線硬
化性樹脂からなるハードコート層と、（Ｂ）平均粒子径
が０．０１〜２μｍの帯電防止粒子を含む電離放射線硬
化性樹脂からなる厚さ０．０３〜２μｍの帯電防止層
と、を順次に含む帯電防止性ハードコートフィルムであ
って、ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して測定されるテーバ
ー磨耗硬度を２５以下の値とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、帯電防止性と、耐
擦傷性とを兼ね備え、液晶表示装置等の表示機器（ディ
スプレイ）に用いられる帯電防止性ハードコートフィル
ム、およびその製造方法に関し、特に、インライン−プ
レイニングースイッチング（ＩＰＳ）液晶表示装置に最
適な帯電防止性ハードコートフィルムおよびその製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＣＲＴ（ブラウン管）や、液晶表
示装置などのディスプレイにおいては、表面保護材とし
て、図６（Ａ）に示すように、基材フィルム８４上に、
耐擦傷性に優れたハードコート層８２を設けてなるハー
ドコートフィルム８０が使用されている。しかしなが
ら、かかるハードコートフィルムにおいては、ハードコ
ート層自体の表面抵抗が、通常１×１０13Ω・ｃｍ以上
と大きいために、周囲に存在する帯電した埃や塵等が、
ハードコート層の表面に対して、電気的に付着しやすい
という問題が見られた。
【０００３】そこで、ハードコート層の表面抵抗を低下
させるために、図６（Ｂ）に示すように、基材フィルム
８４上に設けたハードコート層８８の中に、所定量のア
ンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）等の帯電防止性粒子８
６を添加したり、水性高分子を添加した構成の帯電防止
性ハードコートフィルム８７が開示されている。しかし
ながら、かかる帯電防止性ハードコートフィルムは、ハ
ードコート層が比較的厚いために、所定の帯電防止効果
を得る上で、帯電防止性粒子や水性高分子を多量に添加
しなければならない一方、そのために、全光線透過率が
著しく低下したり、ハードコート性が低下したりすると
いう問題が見られた。
【０００４】また、特開平１１−４２７２９号公報等に
は、図６（Ｃ）に示すように、基材フィルム８４と、ハ
ードコート層８２との間に、帯電防止性粒子８６を含有
したり、金属薄膜からなる帯電防止層８８を設けた帯電
防止性ハードコートフィルム８９が開示されている。し
かしながら、帯電防止層は、比較的厚いハードコート層
の下方に位置しており、表面から離れているため、表面
抵抗の値が未だ大きく、所定の帯電防止効果を得ること
が困難であった。また、開示された帯電防止性ハードコ
ートフィルムにおいては、帯電防止層が、それぞれ電気
絶縁性のハードコート層と、基材フィルムとにサンドイ
ッチされているために、帯電防止層のアースを取ること
が困難であるという問題も見られた。
【０００５】そこで、帯電防止層が表面に存在するよう
に、基材フィルム上に、ハードコート層と、帯電防止層
とを順次に積層して構成した帯電防止性ハードコートフ
ィルムが提案されている。すなわち、ハードコートフィ
ルム上に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹
脂からなる帯電防止層を形成することが提案されてい
る。しかしながら、帯電防止層の厚さは、通常、数ミク
ロン以下であって、単純に電離放射線を照射しても、周
囲に存在する空気に起因した酸素阻害が生じるために硬
化不良が生じ、所定の表面抵抗や耐擦傷性を有する帯電
防止層を形成することが困難であった。
【０００６】一方、特開平８−１１２８６６号公報に
は、図７に示すように、基材９３上に、紫外線硬化樹脂
９２を塗布した後、予め工程紙９４上に形成しておいた
帯電防止層９１をラミネートし、次いで、帯電防止層９
１の側から、工程紙９４を剥がした後、もしくは工程紙
を剥離しない状態のまま、当該帯電防止層９１を介し
て、紫外線９６を照射し、紫外線硬化樹脂９２を硬化さ
せることを特徴とした帯電防止性ハードコートフィルム
の製造方法が開示されている。しかしながら、工程紙を
用いたとしても、帯電防止層と、塗布した紫外線硬化樹
脂とを、しわがよらずに、均一な厚さにラミネートする
ことは容易でなかった。特に、帯電防止層の厚さが一例
として、５μｍ以下の薄膜となったり、帯電防止層の幅
が１０ｃｍ以上の広幅になったりすると、帯電防止層
と、塗布した紫外線硬化樹脂との積層圧力が不均一とな
り、実質的にラミネートが不可能になるという問題が見
られた。また、紫外線硬化樹脂を光硬化させると、大き
く硬化収縮するために、ますます帯電防止層と、紫外線
硬化樹脂からなるハードコート層との積層が困難になる
という問題が見られた。したがって、硬化前に、帯電防
止層と、塗布した紫外線硬化樹脂とを位置合わせして
も、硬化後に所定位置にこれらをラミネートすることは
容易でなかった。また、開示された製造方法では、帯電
防止層がすでに硬化形成されているため、帯電防止層
と、ハードコート層との界面で反応を生じさせることは
困難であった。したがって、帯電防止層と、ハードコー
ト層との密着力が低下して、帯電防止層が剥離したり、
所定の耐擦傷性が得られないなどの問題が見られた。さ
らに、開示された製造方法では、帯電防止層を、別の工
程で作成する必要があり、製造工程数が増えたり、製造
時間が長くなったり、あるいは工程紙が必要となるなど
の問題が見られた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の発明者らは、
上述した問題を鋭意考慮した結果、帯電防止層およびハ
ードコート層を、電離放射線硬化性樹脂から構成すると
ともに、帯電防止層の厚さと、帯電防止層に含まれる帯
電防止粒子の平均粒径と、ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠し
て測定されるハードコートフィルムのテーバー磨耗硬度
と、をそれぞれ所定範囲の値に制限することにより、優
れた全光線透過率を維持したまま、所定の帯電防止性
（表面抵抗率）や耐擦傷性が得られることを見出し、本
発明を完成した。すなわち、本発明の目的は、容易に製
造することが可能であって、表示機器に使用した場合
に、優れた全光線透過率、帯電防止性、および耐擦傷性
等が得られる帯電防止性ハードコートフィルムを提供す
ることにある。また、本発明の別の目的は、優れた全光
線透過率、帯電防止性、および耐擦傷性等を有する帯電
防止性ハードコートフィルムが、効率的に得られる帯電
防止性ハードコートフィルムの製造方法を提供すること
にある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、基材フ
ィルム上に、（Ａ）電離放射線硬化性樹脂からなるハー
ドコート層と、（Ｂ）平均粒子径が０．０１〜２μｍの
帯電防止粒子を含む電離放射線硬化性樹脂からなる厚さ
０．０３〜２μｍの帯電防止層と、を順次に含む帯電防
止性ハードコートフィルムであって、ＪＩＳ Ｋ５４０
０に準拠して測定されるテーバー磨耗硬度を２５以下の
値とすることを特徴とする帯電防止性ハードコートフィ
ルムが提供され、上述した問題を解決することができ
る。このように構成すると、ハードコート層上に設けら
れた帯電防止層に含まれる帯電防止粒子の働きにより、
所定の帯電防止性を得ることができる。また、このよう
に構成すると、液晶表示機器等に使用した場合に、優れ
た全光線透過率や耐擦傷性を有する帯電防止性ハードコ
ートフィルムを容易に提供することができる。
【０００９】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムを構成するにあたり、帯電防止粒子の平均粒子径
と、帯電防止層の厚さとを実質的に等しくすることが好
ましい。このように構成すると、帯電防止層において、
帯電防止粒子が実質的に単層として存在するため、帯電
防止粒子による光吸収を少なくすることができる。ま
た、このように構成すると、隣接する帯電防止粒子同士
が接触しやすいために、比較的少量の添加で所定の表面
抵抗率（単に、表面抵抗と称する場合がある。）を得る
ことができる。したがって、帯電防止性ハードコートフ
ィルムにおいて、より優れた全光線透過率および帯電防
止特性を得ることができる。
【００１０】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムを構成するにあたり、帯電防止粒子の添加量を、
帯電防止層の全体量に対して、５０〜９０重量％の範囲
内の値とすることが好ましい。このように構成すると、
帯電防止層において、所定の表面抵抗率が確実に得られ
る一方、全光線透過率を所定値以上の値に制御すること
ができる。
【００１１】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムを構成するにあたり、帯電防止層が、パターニン
グしてあることが好ましい。このように構成すると、全
体面積に対する帯電防止層の面積が低下するため、帯電
防止層による光の吸収等が少なくなり、より優れた全光
線透過率を得ることができる。また、帯電防止層の面積
が低下した分、帯電防止粒子を多量に添加することがで
きるため、所定の表面抵抗値が確実に得ることができ
る。したがって、帯電防止性ハードコートフィルムにお
いて、より優れた全光線透過率や帯電防止特性を得るこ
とができる。
【００１２】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムを構成するにあたり、ハードコート層と、帯電防
止層との界面において、それぞれの電離放射線硬化性樹
脂が反応していることが好ましい。このように構成する
と、ハードコート層と、帯電防止層との間の密着力が高
まり、ハードコート層による帯電防止層の機械的拘束力
を高めることができる。したがって、帯電防止層の機械
的強度や耐擦傷性をより向上させることができるととも
に、帯電防止層の薄膜化が容易になる。
【００１３】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムを構成するにあたり、ハードコート層を、防眩ハ
ードコート層とすることが好ましい。このように構成す
ると、帯電防止性ハードコートフィルムに対して、防眩
性を付与し、外光に対する影響を効果的に排除すること
ができる。
【００１４】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムを構成するにあたり、インライン−プレイニング
ースイッチング（ＩＰＳ）液晶表示装置に使用する帯電
防止性ハードコートフィルムであることが好ましい。こ
のように構成すると、構造上静電気に対して弱く、１×
１０8Ω・ｃｍ程度の帯電防止性（導電性）が必要なＩ
ＰＳ液晶表示装置においても、帯電防止性ハードコート
フィルムによる帯電の影響を排除することができる。し
たがって、ＩＰＳ液晶表示装置を駆動する際に、水平方
向に電圧を印加することにより、正確に液晶駆動するこ
とができる。
【００１５】また、本発明の別な態様は、（Ａ）電離放
射線を照射し、電離放射線硬化性樹脂からなるハードコ
ート層を基材フィルム上に形成する第１の工程と、
（Ｂ）電離放射線を照射し、平均粒子径が０．０１〜２
μｍの帯電防止粒子を含む電離放射線硬化性樹脂からな
る厚さ０．０３〜２μｍの帯電防止層をハードコート層
上に形成し、ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して測定される
ハードコートフィルムのテーバー磨耗硬度を２５以下の
値とする第２の工程と、を含むことを特徴とする帯電防
止性ハードコートフィルムの製造方法である。このよう
に実施すると、ハードコート層上に、正確かつ容易に、
所定の耐磨耗性を有する帯電防止層を積層することがで
きる。したがって、帯電防止層に含まれる帯電防止粒子
の働きにより、所定の帯電防止性を確実に得ることがで
きる。また、電離放射線を利用しているため、表示機器
に使用した場合に、優れた全光線透過率や耐擦傷性を有
する帯電防止性ハードコートフィルムを容易かつ迅速に
提供することができる。
【００１６】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムの製造方法を実施するにあたり、第１の工程にお
いて、電離放射線の照射によりハードコート層を半硬化
の状態で形成し、第２の工程において、電離放射線の照
射により帯電防止層を硬化させて形成するとともに、ハ
ードコート層をさらに硬化させることが好ましい。この
ように実施すると、ハードコート層と、帯電防止層との
界面において、それぞれの電離放射線硬化性樹脂とを反
応させることができる。したがって、帯電防止層の機械
的強度をより向上させることができるとともに、所定の
耐擦傷性を効果的に得ることができる。また、このよう
に実施すると、帯電防止層を硬化させる際に、周囲の酸
素による反応阻害が生じたとしても、ハードコート層内
に残留している開始剤を効果的に利用して、帯電防止層
を十分に硬化させることができる。
【００１７】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムの製造方法を実施するにあたり、第１の工程にお
ける電離放射線の照射量を１００ｍＪ／ｃｍ2未満の値
とするとともに、第２の工程における電離放射線の照射
量を５００ｍＪ／ｃｍ2以上の値とすることが好まし
い。このような照射量を採用することにより、第１の工
程において、表面タックが実質的に無い状態であって、
半硬化の状態に容易にすることができる。したがって、
液状の樹脂で無いことから、ハードコート層上に、均一
な厚さの帯電防止層を正確かつ容易に形成することがで
きる。また、ハードコート層は、一部硬化が進んでいる
状態であるため、その後、第２工程において、このよう
な照射量を採用して、硬化反応を進めたとしても、帯電
防止層およびハードコート層を十分に硬化できるととも
に、ハードコート層に発生する硬化収縮を低減すること
ができる。
【００１８】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムの製造方法を実施するにあたり、少なくとも第２
の工程を、窒素中において実施することが好ましい。こ
のように実施すると、電離放射線を照射して、帯電防止
層を硬化させる際の酸素阻害を、効果的に防止すること
ができる。
【００１９】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムの製造方法を実施するにあたり、第２の工程にお
いて、電離放射線をパターン露光することが好ましい。
このように実施すると、パターン化して、面積が低減し
た帯電防止層を容易に得ることができる。そのため、さ
らに優れた全光線透過率を有する帯電防止性ハードコー
トフィルムを提供することができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】［第１の実施形態］第１の実施形
態は、図１（Ａ）に示すように、基材フィルム１８上
に、（Ａ）電離放射線硬化性樹脂からなるハードコート
層１６と、（Ｂ）平均粒子径が０．０１〜２μｍの帯電
防止粒子１０を含む電離放射線硬化性樹脂１１からなる
厚さ０．０３〜２μｍの帯電防止層１４と、を順次に含
む帯電防止性ハードコートフィルムであって、ＪＩＳ
Ｋ５４００に準拠して測定されるテーバー磨耗硬度を２
５以下の値とした帯電防止性ハードコートフィルム２０
である。以下、帯電防止性ハードコートフィルムを構成
要件ごとに分けて説明するとともに、適宜図面を参照し
ながら、具体的に説明する。
【００２１】１．基材フィルム 帯電防止性ハードコートフィルムにおける基材フィルム
の種類としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンナフタ
レート（ＰＥＮ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピ
レン（ＰＰ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリメチル
メタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリサルホン（ＰＳ
Ｕ）、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、トリアセチル
セルロース（ＴＡＣ）等の透明樹脂フィルムを挙げるこ
とができる。これらの基材フィルムのうち、特に汎用性
が高く、透明性や機械的強度にも優れていることから、
ポリエチレンテレフタレートやポリカーボネートからな
る透明樹脂フィルムを使用することが好ましい。
【００２２】また、基材フィルムの厚さを６〜５００μ
ｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、基
材フィルムの厚さが６μｍ未満の値となると、機械的強
度が著しく低下する場合があるためであり、一方、基材
の厚さが５００μｍを超えると、光透過性が低下して、
表示画像の視認性が不十分になる場合があるためであ
る。したがって、機械的強度や光透過性のバランスがよ
り良好となることから、基材フィルムの厚さを２０〜２
５０μｍの範囲内の値とすることがより好ましい。
【００２３】また、基材フィルムの表面に、プライマー
層を設けることが好ましい。この理由は、プライマー層
を設けることにより、基材フィルムと、ハードコート層
を構成する電離放射線硬化性樹脂からなる硬化物との間
の密着力を向上させて、ハードコート層、ひいては、帯
電防止層による耐擦傷性をさらに向上させることができ
るためである。ここで、プライマー層の構成材料として
は、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
エステル樹脂、シリコーン樹脂等の一種単独または二種
以上の組み合わせが挙げられる。
【００２４】また、プライマー層の厚さを１〜２０μｍ
の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、プラ
イマー層の厚さが１μｍ未満となると、プライマー効果
が発現しない場合があるためである。一方、プライマー
層の厚さが２０μｍを超えると、帯電防止性ハードコー
トフィルムを構成した場合に、画像の視認性が低下する
場合があるためである。したがって、プライマー効果
と、画像の視認性とのバランスがより良好となるため、
プライマー層の厚さを３〜１５μｍの範囲内の値とする
ことがより好ましい。
【００２５】また、基材フィルムの表面に、微細な凹
凸、例えば０．１〜５μｍの凹凸を設けることが好まし
い。すなわち、基材フィルムと、ハードコート層との間
の密着性を向上させるとともに、基材フィルムによる防
眩効果を発揮させるために、微細な凹凸を設ける表面処
理を施すことが好ましい。このような微細な凹凸を設け
る表面処理の方法としては、例えば、基材フィルムに対
するサンドブラスト法や溶剤処理法など、あるいはコロ
ナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾ
ン・紫外線照射処理などの酸化処理などが挙げられる。
【００２６】また、基材フィルムの裏面に、粘着剤層を
設けることが好ましい。この理由は、このように粘着剤
層を設けると、建物や車両の窓ガラス、その他、耐擦傷
性や耐磨耗性、あるいは帯電防止性を要求している被着
物に対して、任意に貼着することが可能となるためであ
る。ここで、粘着剤としては、天然ゴム、合成ゴム、ア
クリル系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂、ウレタン系
樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。また、粘着剤
には、更に必要に応じて粘着付与剤、充填剤、軟化剤、
酸化防止剤、紫外線吸収剤、架橋剤等を配合することが
できる。なお、粘着剤の厚さを、通常５〜１００μｍの
範囲内の値とすることが好ましく、１０〜５０μｍの範
囲内の値とすることがより好ましい。
【００２７】２．ハードコート層 （１）電離放射線硬化性樹脂 主剤 ハードコート層を構成する電離放射線硬化性樹脂（放射
線硬化性透明樹脂と称する場合がある。）の主剤の種類
としては、特に制限はなく、従来公知のものの中から選
択できる。例えば、１,４−ブタンジオールジ(メタ)ア
クリレート、１,６−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリ
レート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ
(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アク
リレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ
(メタ)アクリレート、ＥＯ変性リン酸ジ(メタ)アクリレ
ート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、
イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、ジベンタエリスリ
トールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
(メタ)アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレート、トリス（アクリロキシエチ
ル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールペンタ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリ
スリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレ
ート、ポリオールアクリレート等の一種単独、あるいは
二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００２８】硬化剤 また、硬化剤（硬化触媒を含む。）としては、例えば、
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエ
ーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノ
ン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、２,２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、２−メチル−１−［４−(メチルチオ)フェニ
ル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、４−
（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−２（ヒドロキシ
−２−プロプル）ケトン、ベンゾフェノン、ｐ−フェニ
ルベンゾフェノン、４,４'−ジエチルアミノベンゾフェ
ノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキ
ノン、２−エチルアントラキノン、２−タ−シャリ−ブ
チルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−
メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２
−クロロチオキサントン、２,４−ジメチルチオキサン
トン、２,４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメ
チルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、ｐ−
ジメチルアミン安息香酸エステルなどが挙げられる。こ
れらは一種を単独で用いてもよいし、あるいは二種以上
を組み合わせて用いてもよい。
【００２９】また、溶剤を蒸発させる際に加熱しても、
分解や劣化が少ない硬化剤として、ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定される数平均
分子量が、５００〜１，０００程度のオリゴマータイプ
の硬化剤を好ましく用いることができる。このようなオ
リゴマータイプの硬化剤としては、具体的に、ポリ［2-
ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-(1-メチルビニル)フェニル]
プロパノン］、ポリ[2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-(1-
ビニルーフェニル)]プロパノン]、ポリ[2-ヒドロキシ-2
-エチル-1-[4-(1-メチルビニル)フェニル]プロパノ
ン]、ポリ[2-ヒドロキシ-2-エチル-1-[4-ビニル-フェニ
ル]プロパノン]、ポリ[2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-(1
-メチルビニル)フェニル]ブタノン]、ポリ[2-ヒドロキ
シ-2-メチル-1-[4-(1-メチル-フェニル)]ブタノン]、ポ
リ[2-ヒドロキシ-2-エチル-1-[4-(1-メチルビニル)フェ
ニル]ブタノン]、ポリ[2-ヒドロキシ-2-エチル-1-[4-ビ
ニル-フェニル]ブタノン]、等が挙げられる。
【００３０】また、ハードコート剤の調製の際に、
（Ａ）成分の電離放射線硬化性樹脂の主剤１００重量部
に対し、（Ｂ）成分の硬化剤の添加量を０．５〜３０重
量部の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、
かかる（Ｂ）成分の硬化剤の添加量が０．５重量部未満
の値となると、電離放射線硬化性樹脂の硬化が不十分と
なる場合があるためである。一方、かかる（Ｂ）成分の
硬化剤の添加量が３０重量部を超えると、電離放射線硬
化性樹脂の硬化性の制御が困難となったり、貯蔵安定性
が低下したりする場合があるためである。したがって、
（Ａ）成分の電離放射線硬化性樹脂の主剤１００重量部
に対し、（Ｂ）成分の硬化剤の添加量を１〜２０重量部
の範囲内の値とすることがより好ましい。
【００３１】（２）厚さ また、ハードコート層の厚さを２〜２０μｍの範囲内の
値とすることが好ましい。この理由は、かかるハードコ
ート層の厚さが２μｍ未満の値となると、テーバー磨耗
硬度が著しく高い値となる場合があるためである。一
方、かかるハードコート層の厚さが２０μｍを超える
と、カールが大きくなる場合があるためである。したが
って、テーバー磨耗硬度やカールの発生を考慮して、ハ
ードコート層の厚さを５〜１５μｍの範囲内の値とする
ことがより好ましい。
【００３２】（３）フィラー また、ハードコート層を構成する電離放射線硬化性樹脂
中に、防眩性や耐擦傷性を向上させるために、各種フィ
ラーを含有させて、フィラー入りハードコート層とする
ことが好ましい。例えば、好ましいフィラーとしては、
シリカ粒子、ポリエステル粒子、ポリスチレン粒子、ア
クリル樹脂粒子等の一種単独、または二種以上の組み合
わせを挙げることができる。
【００３３】３．帯電防止層 （１）電離放射線硬化性樹脂 帯電防止層を構成するのに使用する電離放射線硬化性樹
脂としては、ハードコート層に使用したのと同様の電離
放射線硬化性樹脂を使用することが好ましい。この理由
は、このように構成すると、帯電防止層と、ハードコー
ト層との間の密着力が向上し、結果として、帯電防止層
においても、優れた耐擦傷性を得ることができるためで
ある。
【００３４】（２）帯電防止粒子 種類 また、帯電防止粒子（導電性粒子）の種類としては、錫
ドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化錫、酸化
錫、アンチモン酸亜鉛、五酸化アンチモン等の一種単独
または二種以上の組み合わせが挙げられる。これらのう
ち、電離放射線硬化性樹脂中に、より均一に混合分散で
きることから、酸化錫や錫ドープ酸化インジウムを使用
することがより好ましい。
【００３５】平均粒径 また、帯電防止粒子の平均粒径を０．０１〜２μｍの範
囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる帯
電防止粒子の平均粒径が０．０１μｍ未満の値となる
と、粒子の重なりが多数生じて、全光線透過率の値が著
しく低下する場合があり、また、隣接する帯電防止粒子
間の電気抵抗が高くなり、結果として、表面抵抗率の値
が大きくなる場合があるためである。一方、かかる帯電
防止粒子の平均粒径が２μｍを超えると、沈降等が生じ
やすくなって、取り扱いが困難となったり、あるいは、
表面平滑性が低下したりする場合があるためである。し
たがって、全光線透過率や、帯電防止粒子の取り扱い性
とのバランスがより良好となることから、帯電防止粒子
の平均粒径を０．０５〜１μｍの範囲内の値とすること
がより好ましく、０．１〜０．５μｍの範囲内の値とす
ることがさらに好ましい。
【００３６】添加量 また、帯電防止粒子の添加量を、帯電防止層の全体量に
対して、５０〜９０重量％の範囲内の値とすることが好
ましい。この理由は、かかる帯電防止粒子の添加量が５
０重量％未満の値となると、隣接する帯電防止粒子間の
電気抵抗が高くなり、結果として、表面抵抗率の値が大
きくなる場合があるためである。一方、かかる帯電防止
粒子の添加量が９０重量％を超えると、粒子の重なりが
多数生じて、全光線透過率の値が著しく低下する場合が
あるためである。したがって、表面抵抗率と、全光線透
過率とのバランスがより良好となることから、帯電防止
粒子の添加量を、帯電防止層の全体量に対して、５５〜
８５重量％の範囲内の値とすることがより好ましく、６
０〜８０重量％の範囲内の値とすることがさらに好まし
い。
【００３７】粉体抵抗 また、帯電防止粒子の粉体抵抗（体積抵抗）を１，００
０Ω・ｃｍ以下の値とすることが好ましい。この理由
は、かかる帯電防止粒子の粉体抵抗が１，０００Ω・ｃ
ｍを超えた値となると、隣接する帯電防止粒子間の電気
抵抗が高くなり、結果として、表面抵抗率の値が大きく
なったり、あるいは、所定の表面抵抗率を得るために、
多量に添加しなければならず、全光線透過率が低下する
場合があるためである。
【００３８】（３）厚さ また、本発明において、帯電防止層の厚さを０．０３〜
２μｍの範囲内の値とすることを特徴とする。この理由
は、かかる帯電防止層の厚さが０．０３μｍ未満の値と
なると、テーバー磨耗硬度が著しく高い値となったり、
表面抵抗率の値が高くなるためである。また、帯電防止
層の厚さが０．０３μｍ未満の値となると、ヘイズ値に
ついても、値が高くなる場合があるためである。一方、
かかる帯電防止層の厚さが２μｍを超えると、帯電防止
粒子の沈降等が生じやすくなって、表面平滑性が低下し
たりする場合があるためである。したがって、テーバー
磨耗硬度や表面抵抗率の値を考慮して、帯電防止層の厚
さを０．０３〜１μｍの範囲内の値とすることがより好
ましい。
【００３９】ここで、図１（Ａ）〜（Ｃ）を参照して、
帯電防止層１４の厚さと、帯電防止層１４における帯電
防止粒子１０および電離放射線硬化性樹脂１１の関係を
説明する。図１（Ａ）は、帯電防止層１４の厚さと、帯
電防止粒子１０の平均粒子径とが、実質的に同等であっ
て、電離放射線硬化性樹脂１１の厚さについても、帯電
防止粒子１０の平均粒子径とほぼ同等の値である。した
がって、帯電防止粒子は、実質的に単層に配列し、隣接
する帯電防止粒子同士が、横方向には電気的に接触する
ものの、上下方向の重なり合いは少なくなる。すなわ
ち、帯電防止層での光吸収が少なくなり、全光線透過率
の値が大きくなるとともに、表面抵抗率の値も低くな
る。また、適度の量の電離放射線硬化性樹脂が帯電防止
粒子の粒子の周囲に存在する一方、下層のハードコート
層とも十分に密着することができるので、優れた耐擦傷
性が得られるとともに、テーバー磨耗硬度の値が著しく
低下する。また、図１（Ｂ）は、帯電防止層１４の厚さ
が比較的薄くなった場合を想定しており、電離放射線硬
化性樹脂１１の厚さが、帯電防止粒子１０の平均粒子径
よりも小さい場合である。したがって、この場合も、帯
電防止粒子は、実質的に単層に配列し、隣接する帯電防
止粒子同士が、横方向には電気的に接触するため、表面
抵抗率や全光線透過率については、許容範囲の値が得ら
れる。さらにまた、図１（Ｃ）は、帯電防止層１４の厚
さが比較的厚くなった場合を想定しており、電離放射線
硬化性樹脂１１の厚さが、帯電防止粒子１０の平均粒子
径よりも大きい場合である。したがって、帯電防止粒子
は、上下方向にも重なる場合が生じ、全光線透過率や、
表面抵抗率が若干低下する。一方、帯電防止粒子の周囲
に存在する電離放射線硬化性樹脂が多くなるため、帯電
防止粒子を強固に固定したり、下層のハードコート層と
も十分に密着したりすることが容易になるので、優れた
耐擦傷性が得られる一方、テーバー磨耗硬度の値を著し
く低下させることができる。
【００４０】（４）配置 また、ハードコート層を挟んで、上下方向に帯電防止層
を積層配置することが好ましい。このように構成し、し
かも上下方向に存在する帯電防止層を電気接続部材（ア
ースを含む。）で導通させることにより、さらに優れた
帯電防止効果を得ることができる。なお、下方に配置し
た帯電防止層の構成は、上述したように、上方に配置し
た帯電防止層の構成と同様とすることもできるし、ある
いは、上方に配置した帯電防止層の構成と異ならせるこ
とも可能である。
【００４１】（５）パターン また、図２（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、帯電防止層１
４をパターン化することが好ましい。ここで、図２
（Ａ）は、ハードコート層１６上に、帯電防止層１４を
ライン状にパターン化した例である。また、図２（Ｂ）
は、帯電防止層１４をライン状にパターン化するととも
に、ハードコート層１６の内部に一部または全部を埋設
して、表面を平滑化した例である。そして、図２（Ｂ）
では、ライン状の帯電防止層１４の末端に、各ラインを
導通させるための共通電極３０を設けて、帯電防止層１
４の表面抵抗率を低下させた例である。また、図２
（Ｃ）は、ライン状の帯電防止層１４と、直交するよう
に、別のライン状の帯電防止層３１を設け、全体とし
て、格子状パターンとした例である。このように帯電防
止層１４をパターン化することにより、優れた表面抵抗
値を維持したまま、帯電防止層の面積を低下させること
ができる。したがって、帯電防止層の面積を低下させる
にしたがって、全光線透過率の値を著しく高めることが
できる。
【００４２】ここで、具体的に、帯電防止層の別な平面
パターン例を、図３の（Ａ）〜（Ｄ）に示す。図３
（Ａ）および（Ｂ）に示されるように、横方向のライン
状パターンや縦方向のライン状パターンとすることによ
り、所定の帯電防止効果を維持したまま、帯電防止層の
面積を定量的に低下させることができる。また、このよ
うにパターン化すると、液晶表示装置等の走査線の方向
と一致させることが容易であるため、表示画像をより鮮
明に認識することができる。また、図３（Ｃ）に示され
るように、格子状（ひし形）パターンとすることによ
り、端部において、アースを取り易いという利点を得る
ことができる。さらにまた、図３（Ｄ）に示されるよう
に、同心円状パターンと、横方向のライン状パターンの
組み合わせとすることにより、液晶表示装置等の表示画
面を、所定の視野角をもって眺めた場合であっても、表
示画像をより鮮明に認識することができる。
【００４３】（６）表面抵抗率 また、帯電防止層の表面抵抗率（表面抵抗）を１×１０
4〜１×１０10Ω・ｃｍの範囲内の値とすることが好ま
しい。この理由は、かかる帯電防止層の表面抵抗率が１
×１０4Ω・ｃｍ未満の値とするためには、帯電防止粒
子の添加量を多くしなければならず、帯電防止粒子同士
の重なりが多数生じて、全光線透過率の値が著しく低下
する場合があるためである。一方、かかる帯電防止層の
表面抵抗率が１×１０10Ω・ｃｍより高くなると、帯電
防止効果が低下して、通常の液晶表示装置等の画面に対
する埃等の付着を有効に防止することが困難となる場合
があるためである。したがって、全光線透過率と、帯電
防止効果とのバランスがより良好となることから、帯電
防止層の表面抵抗率を５×１０4〜５×１０9Ω・ｃｍの
範囲内の値とすることがより好ましい。
【００４４】一方、液晶表示装置がＩＰＳ液晶駆動方法
を採用している場合には、帯電防止層の表面抵抗率を１
×１０4〜５×１０8Ω・ｃｍの範囲内の値とすることが
好ましい。この理由は、かかる帯電防止層の表面抵抗率
が５×１０8Ω・ｃｍより高くなると、平面方向での液
晶駆動に支障が生じる場合があるためである。したがっ
て、液晶表示装置がＩＰＳ液晶駆動方法を採用している
場合には、帯電防止層の表面抵抗率を５×１０4〜３×
１０8Ω・ｃｍの範囲内の値とすることがより好まし
く、１×１０5〜１×１０8Ω・ｃｍの範囲内の値とする
ことがさらに好ましい。
【００４５】４．ハードコートフィルムの特性 （１）テーバー磨耗硬度 本発明において、ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して測定さ
れる帯電防止性ハードコートフィルムのテーバー磨耗硬
度を２５以下の値とすることを特徴とする。この理由
は、かかるテーバー磨耗硬度が２５を超えると、耐擦傷
性が著しく低下する場合があるためである。したがっ
て、耐擦傷性や帯電防止性がより向上することから、帯
電防止性ハードコートフィルムのテーバー磨耗硬度を２
２以下の値とすることがより好ましい。なお、かかる帯
電防止性ハードコートフィルムのテーバー磨耗硬度につ
いても、後述する実施例１に記載の方法により測定する
ことができる。
【００４６】（２）全光線透過率 また、帯電防止性ハードコートフィルムの全光線透過率
を８０〜９９％の範囲内の値とすることが好ましい。こ
の理由は、かかる全光線透過率が８０％未満となると、
帯電防止性ハードコートフィルムの視認性が低下する場
合があるためである。一方、かかる全光線透過率が９９
％を超えると、帯電防止特性や耐擦傷性が相対的に低下
する場合があるためである。したがって、帯電防止性ハ
ードコートフィルムの視認性と帯電防止特性とのバラン
スがより良好となることから、帯電防止性ハードコート
フィルムにおける全光線透過率を８３〜９８％の範囲内
の値とすることがより好ましい。なお、かかる帯電防止
性ハードコートフィルムの全光線透過率は、後述する実
施例１に記載の方法により測定することができる。
【００４７】（３）ヘイズ値 帯電防止性ハードコートフィルムのヘイズ値を０．１〜
５％の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、
かかるヘイズ値が０．１％未満の値となると、帯電防止
粒子の添加量が過度に制限され、帯電防止特性が不十分
となる場合があるためである。一方、かかるヘイズ値が
５％を超えると、光透過性が相対的に低下し、視認性が
低下する場合があるためである。したがって、帯電防止
特性と、光透過性とのバランスがより良好となるため、
かかるヘイズ値を０．１〜４％の範囲内の値とすること
がより好ましい。なお、かかるヘイズ値は、後述する実
施例１に記載の方法により測定することができる。
【００４８】［第２の実施形態］第２の実施形態は、以
下の第１の工程と、第２の工程と、を含むことを特徴と
する帯電防止性ハードコートフィルムの製造方法であ
る。 第１の工程：電離放射線を照射し、電離放射線硬化性樹
脂からなるハードコート層を基材フィルム上に形成する
工程である。 第２の工程：（Ｂ）電離放射線を照射し、平均粒子径が
０．０１〜２μｍの帯電防止粒子を含む電離放射線硬化
性樹脂からなる厚さ０．０３〜２μｍの帯電防止層をハ
ードコート層上に形成するとともに、ＪＩＳ Ｋ５４０
０に準拠して測定されるハードコートフィルムのテーバ
ー磨耗硬度を２５以下の値とする第２の工程である。
【００４９】１．第１の工程 （１）ハードコート剤の調製工程 配合材料を均一に混合し、ハードコート層形成用のハー
ドコート剤を調製する工程である。かかるハードコート
剤の調製は、以下に示すような（Ａ）電離放射線硬化性
樹脂の主剤と、（Ｂ）電離放射線硬化性樹脂の硬化剤
（硬化触媒を含む。）と、（Ｃ）溶剤と、を均一に混合
することにより行われることが好ましい。
【００５０】（Ａ）成分 第１の実施形態において説明した（Ａ）成分の電離放射
線硬化性樹脂（透明樹脂）と同様の内容とすることがで
きる。
【００５１】（Ｂ）成分 第１の実施形態において説明した（Ｂ）成分の硬化剤と
同様の内容とすることができる。
【００５２】（Ｃ）成分 （Ｃ）成分の溶剤としては、例えば、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソ
プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチ
ルアルコール、ペンチルアルコール、エチルセロソル
ブ、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、
シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、酢酸エチル、
酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、および
水等が挙げられる。上記溶剤は二種以上を組み合わせて
も良い。特に、アクリルモノマー等の電離放射線硬化性
樹脂を容易に溶解できることから、メチルアルコール、
エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルア
ルコール、ペンチルアルコール等のアルコール類を使用
することが好ましい。
【００５３】その他 ハードコート剤には、所望により消泡剤やレベリング剤
などの公知の添加剤を配合することができる。
【００５４】（２）ハードコート剤の塗布工程 次いで、図４（Ａ）および（Ｂ）に示すように、基材フ
ィルム１８を準備し、その上に、（１）で調整されたハ
ードコート剤５０を、硬化後の膜厚が２〜２０μｍの範
囲内の値となるように塗工し、好ましくは５〜１５μｍ
の範囲内の値とすることである。また、塗工層の厚さ
は、ハードコート剤の固形分濃度及び硬化後のハードコ
ート層の密度から、必要なハードコート剤の塗工量を算
出することにより制御することができる。なお、ハード
コート剤の塗工方法についても特に制限されるものでは
ないが、公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコー
ト法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート
法などを用いることができる。
【００５５】（３）硬化工程 次いで、図４（Ｃ）に示すように、本発明においては、
加熱工程を経て、溶剤を蒸発させたハードコート剤の塗
工物（電離放射線硬化性樹脂）５０に対して、電離放射
線Ｒ、例えば紫外線や電子線を照射して硬化させるが、
半硬化状態のハードコート層１６を形成することが好ま
しい。すなわち、このように実施すると、帯電防止層を
硬化形成する際に、ハードコート層と、帯電防止層との
界面において、それぞれの電離放射線硬化性樹脂とを反
応させることができるためである。したがって、帯電防
止層の機械的強度をより向上させることができるととも
に、所定の耐擦傷性を効果的に得ることができる。ま
た、このように実施すると、帯電防止層を硬化させる際
に、周囲の酸素による反応阻害が生じたとしても、ハー
ドコート層内に残留している開始剤を効果的に利用し
て、帯電防止層を十分に硬化させることができるためで
ある。
【００５６】また、半硬化状態のハードコート層を形成
するにあたり、例えば、紫外線を照射した場合、電離放
射線硬化性樹脂に対する照射量を１００ｍＪ／ｃｍ2未
満の値とすることが好ましい。この理由は、紫外線照射
量が１００ｍＪ／ｃｍ2以上の値になると、ハードコー
ト層の硬化が進みすぎて、ハードコート層と、帯電防止
層との界面において、それぞれの電離放射線硬化性樹脂
とを反応させることが困難となる場合があるためであ
る。ただし、ハードコート層を全く硬化させない場合に
は、帯電防止層を構成するための電離放射線硬化性樹脂
を均一な厚さに積層することが困難となったり、次工程
でのハードコート層の硬化収縮が過度に大きくなったり
する場合があるためである。したがって、半硬化状態の
ハードコート層を形成するにあたり、紫外線照射量を５
０〜９０ｍＪ／ｃｍ2の範囲内の値とすることがより好
ましく、６０〜８０ｍＪ／ｃｍ2の範囲内の値とするこ
とがさらに好ましい。なお、半硬化状態のハードコート
層を形成するにあたり、使用する放射線照射装置（紫外
線照射装置）の種類についても特に制限はなく、例えば
高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ、ヒュージョンＨランプなどを用いた紫外線照射装置
や、電子線照射装置を使用することができる。
【００５７】２．第２の工程 （１）帯電防止剤の調製工程 かかる帯電防止剤の調製は、（ａ）電離放射線硬化性樹
脂（透明硬化性樹脂）の主剤と、（ｂ）電離放射線硬化
性樹脂の硬化剤（硬化触媒を含む。）と、（ｃ）溶剤
と、（ｄ）帯電防止粒子とを均一に混合することにより
行われることが好ましい。
【００５８】（２）帯電防止剤の塗布工程 次いで、図４（Ｄ）に示すように、半硬化状態のハード
コート層１６の上に、調整された帯電防止剤５２を、ハ
ードコート剤の塗布工程と同様に、例えばバーコート
法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート
法、ダイコート法などを用いて、塗布することが好まし
い。
【００５９】（３）硬化工程１ 次いで、図４（Ｅ）に示すように、電離放射線Ｒを照射
して、半硬化状態のハードコート層１６の硬化を進める
とともに、帯電防止層１４を同時に硬化させて形成する
ことが好ましい。すなわち、半硬化のハードコート層と
ともに、帯電防止層を形成する際の紫外線照射量は、帯
電防止性ハードコートフィルムにおけるテーバー磨耗硬
度や表面抵抗に、強い影響を与える。そのため、優れた
テーバー磨耗硬度、例えば、２５以下のテーバー磨耗硬
度を得るためには、紫外線照射量を５００ｍJ／ｃｍ2以
上の値とすることが有効である。
【００６０】（４）硬化工程２ また、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる際に、図５
（Ａ）に示すように、半硬化のハードコート層１６と、
硬化前の帯電防止層５２を準備した後、図５（Ｂ）に示
すように、フォトマスク５５を介して、電離放射線Ｒを
照射することが好ましい。このように実施すると、図５
（Ｃ）に示すように、パターン化した帯電防止層５６の
形成が極めて容易となるためである。ただし、フォトマ
スク５５を介して、電離放射線Ｒを照射しただけでは、
半硬化のハードコート層１６の硬化が不十分となる場合
がある。そのため、図示しないが、図５（Ｃ）に示す状
態の後に、電離放射線Ｒを再度照射することがより好ま
しい。
【００６１】
【実施例】以下、帯電防止性ハードコートフィルムを想
定した実施例を参照しながら、さらに本発明を詳細に説
明する。ただし、言うまでも無いが、実施例は本発明の
一態様を示すものであり、本発明の範囲は実施例の記載
に制限されるものでは無い。
【００６２】［実施例１］ １．帯電防止性ハードコートフィルムの作製 （１）ハードコート用塗布液の調製 攪拌機付きの容器内に、ハードコート用塗布液の配合材
料を下記割合で収容した後、攪拌機を用いて均一に混合
し、固形分濃度５０％のハードコート用塗布液を調製し
た。 硬化剤含有紫外線硬化型アクリル系ハードコート剤 セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）（大日精化工業（株）製） （固形分濃度１００％） １００重量部 イソブチルアルコール １００重量部
【００６３】（２）半硬化状態のハードコート層の形成 得られたハードコート用塗布液を、基材である厚さ５０
μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、硬化
後の厚さが５μｍになるようにバーコーターを用いて塗
布した。その後、ハードコート用塗布液からなる塗工物
を、オーブン内で、８０℃、１分間の条件で乾燥した。
次いで、ハードコート用塗布液からなる塗工物に対し
て、紫外線照射装置ＵＢ０４２−５ＡＭ／ｗ（アイグラ
フィック社製）を用いて、８０ｍＪ／ｃｍ2の照射量と
なるように紫外線を照射し、半硬化状態のハードコート
層とした。
【００６４】（３）帯電防止層の形成 攪拌機付きの容器内に、帯電防止層用塗布液の配合材料
を下記割合で収容した後、攪拌機を用いて均一に混合
し、固形分濃度３％の帯電防止層用塗布液を調製した。 硬化剤含有紫外線硬化型アクリル系ハードコート剤 セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）（大日精化工業（株）製） （固形分濃度１００％） １００重量部 粒径０．１μｍアンチモンドープ酸化錫のイソブチルアルコール分散溶液 ＳＮ−１００Ｐ（石原テクノ（株）製） （固形分濃度３０％） １０００重量部 イソブチルアルコール １２２３３重量部
【００６５】次いで、バーコーターを用いて帯電防止層
用塗布液を塗布し、さらに得られた塗工物を、オーブン
内で、８０℃、１分間の条件で乾燥した。次いで、紫外
線照射装置を用いて、７００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とな
るように紫外線を照射し、半硬化状態のハードコート層
の硬化を進めるとともに、帯電防止層用の塗工物を硬化
させて形成した。このようにして、帯電防止性ハードコ
ートフィルムを作製したが、ハードコート層の厚さは５
μｍ、帯電防止層の厚さは０．１μｍであった。
【００６６】２．帯電防止性ハードコートフィルムの評
価 （１）耐擦傷性（テーバー磨耗硬度） 得られた帯電防止性ハードコートフィルムを、ＪＩＳ
Ｋ５４００に準拠してテーバー磨耗硬度を測定した。す
なわち、以下の条件で、耐磨耗試験を行い、耐磨耗試験
の前後でのヘイズ値（ＪＩＳ Ｋ６７１４準拠測定）の
差を測定し、テーバー磨耗硬度とした。 磨耗輪：ＣＳ−１０Ｆ 荷重 ：２５０ｇ 回転数：１００回
【００６７】（２）表面抵抗率 得られた帯電防止性ハードコートフィルムの表面抵抗率
を、（株）アドバンテスト社製デジタルエレクトロメー
タに連結した平行電極を用いて測定した。
【００６８】（３）全光線透過率 得られた帯電防止性ハードコートフィルムの全光線透過
率を、ＪＩＳ Ｋ６７１４に準拠して、ヘイズメーター
（日本電色工業株式会社製）により測定した。
【００６９】（４）初期ヘイズ値 得られた帯電防止性ハードコートフィルムのヘイズ値
を、ＪＩＳ Ｋ６７１４に準拠し、初期ヘイズ値をヘイ
ズメーター（日本電色工業株式会社製）により測定し
た。
【００７０】（５）スチールウール硬度 得られた帯電防止性ハードコートフィルムの表面を＃０
０００のスチールウールで擦りつけた後、外観を観察し
て、以下の基準からスチールウール硬度を評価した。 ○：顕著な外観変化が観察されなかった。 ×：傷の発生あるいは色調の変化が観察された。
【００７１】［実施例２〜４および比較例１〜２］表１
に示すように帯電防止層の厚さや、第１の工程における
紫外線照射量を変えたほかは、実施例１と同様に帯電防
止性ハードコートフィルムを作製して、評価した。得ら
れた結果を表１に示す。
【００７２】
【表１】
【００７３】
【発明の効果】本発明の帯電防止性ハードコートフィル
ムによれば、優れた帯電防止性が得られる一方、優れた
視認性や耐擦傷性についても得られるようになった。し
たがって、このような帯電防止性ハードコートフィルム
は、例えば液晶表示装置やＩＰＳ液晶表示装置用のハー
ドコートフィルムとして、あるいは各種ディスプレイの
保護用フィルムなどとして使用されることが期待でき
る。
【００７４】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムの製造方法によれば、優れた帯電防止性が得られ
る一方、優れた視認性や耐擦傷性についても得られる帯
電防止性ハードコートフィルムを、効率的に製造するこ
とができるようになった。
【００７５】
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の帯電防止性ハードコートフィルム等
の断面図である。
【図２】 本発明の帯電防止性ハードコートフィルムの
斜視断面図である。
【図３】 パターン化された帯電防止層の平面図であ
る。
【図４】 本発明の帯電防止性ハードコートフィルムの
製造例を示す図である。
【図５】 本発明のパターン化された帯電防止層を有す
る帯電防止性ハードコートフィルムの製造例を示す図で
ある。
【図６】 従来の帯電防止性ハードコートフィルムを説
明するために供する図である。
【図７】 従来の帯電防止性ハードコートフィルムの製
造方法を説明するために供する図である。
【００７６】
【符号の説明】
１０ 帯電防止粒子 １１ 電離放射線硬化性樹脂 １４ 帯電防止層 １６ ハードコート層 １８ 基材フィルム ２０、２２、２４、２５、２６、２７ 帯電防止性ハー
ドコートフィルム ３０ 共通電極 ３１ 帯電防止層 ５５ フォトマスク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F006 AA12 AA31 AA35 AA36 AB24 BA02 BA07 CA05 DA04 EA03 4F100 AA28 AK01B AK01C AK25 AK42 AT00A BA03 BA07 BA10A BA10C CA22C DE01C EH46 EJ08 EJ42 EJ54 GB41 JB14B JB14C JG03 JG03C JK12B JN01 YY00C

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基材フィルム上に、（Ａ）電離放射線硬
    化性樹脂からなるハードコート層と、（Ｂ）平均粒子径
    が０．０１〜２μｍの帯電防止粒子を含む電離放射線硬
    化性樹脂からなる厚さ０．０３〜２μｍの帯電防止層
    と、を順次に含む帯電防止性ハードコートフィルムであ
    って、ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して測定されるテーバ
    ー磨耗硬度を２５以下の値とすることを特徴とする帯電
    防止性ハードコートフィルム。
  2. 【請求項２】 前記帯電防止粒子の平均粒子径と、前記
    帯電防止層の厚さとが実質的に等しいことを特徴とする
    請求項１に記載の帯電防止性ハードコートフィルム。
  3. 【請求項３】 前記帯電防止粒子の添加量を、帯電防止
    層の全体量に対して、５０〜９０重量％の範囲内の値と
    することを特徴とする請求項１または２に記載の帯電防
    止性ハードコートフィルム。
  4. 【請求項４】 前記帯電防止層が、パターニングしてあ
    ることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載
    の帯電防止性ハードコートフィルム。
  5. 【請求項５】 前記ハードコート層と、帯電防止層との
    界面において、それぞれの電離放射線硬化性樹脂が反応
    していることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項
    に記載の帯電防止性ハードコートフィルム。
  6. 【請求項６】 前記ハードコート層を、防眩ハードコー
    ト層とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一
    項に記載の帯電防止性ハードコートフィルム。
  7. 【請求項７】 ＩＰＳ液晶表示装置の表面に使用してな
    る請求項１〜６のいずれか一項に記載の帯電防止性ハー
    ドコートフィルム。
  8. 【請求項８】 （Ａ）電離放射線を照射し、電離放射線
    硬化性樹脂からなるハードコート層を基材フィルム上に
    形成する第１の工程と、（Ｂ）電離放射線を照射し、平
    均粒子径が０．０１〜２μｍの帯電防止粒子を含む電離
    放射線硬化性樹脂からなる厚さ０．０３〜２μｍの帯電
    防止層をハードコート層上に形成し、ＪＩＳ Ｋ５４０
    ０に準拠して測定されるハードコートフィルムのテーバ
    ー磨耗硬度を２５以下の値とする第２の工程と、を含む
    ことを特徴とする帯電防止性ハードコートフィルムの製
    造方法。
  9. 【請求項９】 前記第１の工程において、電離放射線の
    照射によりハードコート層を半硬化の状態で形成し、前
    記第２の工程において、電離放射線の照射により帯電防
    止層を硬化させて形成するとともに、ハードコート層を
    さらに硬化させることを特徴とする請求項８に記載の帯
    電防止性ハードコートフィルムの製造方法。
  10. 【請求項１０】 前記第１の工程における電離放射線の
    照射量を１００ｍＪ／ｃｍ2未満の値とするとともに、
    前記第２の工程における電離放射線の照射量を５００ｍ
    Ｊ／ｃｍ2以上の値とすることを特徴とする請求項８ま
    たは９に記載の帯電防止性ハードコートフィルムの製造
    方法。
  11. 【請求項１１】 前記第２の工程を、窒素中において実
    施することを特徴とする請求項８〜１０のいずれか一項
    に記載の帯電防止性ハードコートフィルムの製造方法。
  12. 【請求項１２】 前記第２の工程において、前記電離放
    射線をパターン露光することを特徴とする請求項８〜１
    １のいずれか一項に記載の帯電防止性ハードコートフィ
    ルムの製造方法。
JP2001228387A 2001-07-27 2001-07-27 帯電防止性ハードコートフィルム及びその製造方法 Expired - Lifetime JP4224227B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001228387A JP4224227B2 (ja) 2001-07-27 2001-07-27 帯電防止性ハードコートフィルム及びその製造方法
KR1020020040155A KR100894518B1 (ko) 2001-07-27 2002-07-11 대전 방지성 하드 코트 필름의 제조 방법
US10/197,475 US6887557B2 (en) 2001-07-27 2002-07-18 Anti-static hard coat film and method of manufacturing the same
TW91117236A TWI223625B (en) 2001-07-27 2002-07-26 Anti-static hard coat film and method of manufacturing the same
CNB021275289A CN1206096C (zh) 2001-07-27 2002-07-26 抗静电性硬质涂层薄膜及其制造方法
KR1020080038220A KR100896303B1 (ko) 2001-07-27 2008-04-24 대전 방지성 하드 코트 필름

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001228387A JP4224227B2 (ja) 2001-07-27 2001-07-27 帯電防止性ハードコートフィルム及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003039607A true JP2003039607A (ja) 2003-02-13
JP4224227B2 JP4224227B2 (ja) 2009-02-12

Family

ID=19060904

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001228387A Expired - Lifetime JP4224227B2 (ja) 2001-07-27 2001-07-27 帯電防止性ハードコートフィルム及びその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6887557B2 (ja)
JP (1) JP4224227B2 (ja)
KR (2) KR100894518B1 (ja)
CN (1) CN1206096C (ja)
TW (1) TWI223625B (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008102822A1 (ja) 2007-02-20 2008-08-28 Fujifilm Corporation 紫外線吸収剤を含む高分子材料
WO2008123504A1 (ja) 2007-03-30 2008-10-16 Fujifilm Corporation 紫外線吸収剤組成物
WO2009022736A1 (ja) 2007-08-16 2009-02-19 Fujifilm Corporation ヘテロ環化合物、紫外線吸収剤及びこれを含む組成物
WO2009123142A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 紫外線吸収剤組成物
WO2009123141A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 紫外線吸収剤組成物
WO2009136624A1 (ja) 2008-05-09 2009-11-12 富士フイルム株式会社 紫外線吸収剤組成物
KR100963248B1 (ko) 2008-03-14 2010-06-10 오성엘에스티(주) 대전방지 방현필름의 제조방법
WO2019159909A1 (ja) 2018-02-13 2019-08-22 帝人株式会社 機能性微粒子を含有するハードコート層付基材の製造方法
JP2022516209A (ja) * 2019-12-06 2022-02-25 ドゥーサン コーポレイション 粘着フィルム

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1633466A (zh) * 2002-02-20 2005-06-29 电气化学工业株式会社 防静电方法以及采用该方法的构件
US20080014373A1 (en) * 2004-08-02 2008-01-17 Yuuzou Muramatsu Optical Film, Producing Method Therefor, Polarizing Plate and Image Display Apparatus
CN100460894C (zh) * 2006-01-27 2009-02-11 达信科技股份有限公司 光学薄膜结构及其制造方法
WO2007114364A1 (ja) * 2006-03-31 2007-10-11 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 光学積層体及び光学積層体の製造方法
JP5117709B2 (ja) * 2006-12-04 2013-01-16 リンテック株式会社 紫外線照射装置及び紫外線照射方法
JP5245391B2 (ja) 2006-12-22 2013-07-24 大日本印刷株式会社 光学積層体、その製造方法及び帯電防止層用組成物
JP5047636B2 (ja) * 2007-01-18 2012-10-10 リンテック株式会社 ハードコートフィルム
EP2167315B1 (en) * 2007-07-12 2013-01-23 LG Chem, Ltd. Multiple-layer, multiple film having the same and electronic device having the same
TW201031532A (en) * 2009-02-26 2010-09-01 Taiwan Decor Technology Co Heat transfer-printing film and heat transfer-printing method utilizing the same
KR101606739B1 (ko) * 2009-10-23 2016-03-28 제이엔씨 주식회사 경화성 수지조성물 및 광학 필름
JP5594037B2 (ja) * 2009-10-23 2014-09-24 Ｊｎｃ株式会社 硬化性樹脂組成物及び光学フィルム
US8770749B2 (en) 2010-04-15 2014-07-08 Oakley, Inc. Eyewear with chroma enhancement
CN103347693B (zh) * 2011-03-08 2015-06-03 东丽株式会社 层合聚酯膜、成型用构件及成型体以及它们的制造方法
JP5680486B2 (ja) * 2011-06-03 2015-03-04 尾池工業株式会社 ハードコートフィルム
CA3090848A1 (en) 2011-10-20 2013-05-16 Oakley, Inc. Eyewear with chroma enhancement
WO2013169987A1 (en) 2012-05-10 2013-11-14 Oakley, Inc. Eyewear with laminated functional layers
US9575335B1 (en) 2014-01-10 2017-02-21 Oakley, Inc. Eyewear with chroma enhancement for specific activities
WO2015163465A1 (ja) * 2014-04-24 2015-10-29 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズ
JPWO2015163463A1 (ja) * 2014-04-24 2017-04-20 ホヤ レンズ タイランド リミテッドＨＯＹＡ Ｌｅｎｓ Ｔｈａｉｌａｎｄ Ｌｔｄ 眼鏡レンズ
EP3136138A4 (en) * 2014-04-24 2017-10-11 Hoya Lens Thailand Ltd. Spectacle lens
US10871661B2 (en) 2014-05-23 2020-12-22 Oakley, Inc. Eyewear and lenses with multiple molded lens components
WO2016077431A2 (en) 2014-11-13 2016-05-19 Oakley, Inc. Variable light attenuation eyewear with color enhancement
CN106896427B (zh) * 2016-11-17 2018-12-25 住华科技股份有限公司 抗静电光学膜层及其制造方法
CN106652801A (zh) * 2017-01-22 2017-05-10 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 柔性保护薄膜及其制造方法和显示装置
US11112622B2 (en) 2018-02-01 2021-09-07 Luxottica S.R.L. Eyewear and lenses with multiple molded lens components
KR102670212B1 (ko) * 2019-08-21 2024-05-30 삼성디스플레이 주식회사 윈도우, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치
CN112634747B (zh) * 2019-09-20 2023-04-18 群创光电股份有限公司 显示装置
CN113740941B (zh) * 2021-07-12 2023-03-21 安徽菲尔慕材料有限公司 一种聚酰亚胺膜硬化导电复合膜的制作工艺
CN113823187B (zh) * 2021-08-25 2023-08-18 京东方科技集团股份有限公司 显示模组及电子设备
CN113698649B (zh) * 2021-08-31 2023-08-01 陈少江 高分子屏幕包装保护膜

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0512713A (ja) * 1991-07-05 1993-01-22 Nkk Corp 光デイスク
JP3130163B2 (ja) * 1993-02-12 2001-01-31 タキロン株式会社 新規なる表面硬度改質板とその製法
JPH08112866A (ja) * 1994-10-17 1996-05-07 Sony Chem Corp ハードコートフィルムとその製造方法
JP4119524B2 (ja) * 1997-05-26 2008-07-16 大日本印刷株式会社 帯電防止性ハードコートフィルム
US6146753A (en) * 1997-05-26 2000-11-14 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Antistatic hard coat film
US6319594B1 (en) * 1998-03-17 2001-11-20 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Low reflective antistatic hardcoat film
JP4211088B2 (ja) * 1998-06-16 2009-01-21 凸版印刷株式会社 防眩性ハードコートフィルムもしくはシート
JP4082965B2 (ja) * 2002-08-28 2008-04-30 リンテック株式会社 防眩性ハードコートフィルム

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008102822A1 (ja) 2007-02-20 2008-08-28 Fujifilm Corporation 紫外線吸収剤を含む高分子材料
WO2008123504A1 (ja) 2007-03-30 2008-10-16 Fujifilm Corporation 紫外線吸収剤組成物
WO2009022736A1 (ja) 2007-08-16 2009-02-19 Fujifilm Corporation ヘテロ環化合物、紫外線吸収剤及びこれを含む組成物
KR100963248B1 (ko) 2008-03-14 2010-06-10 오성엘에스티(주) 대전방지 방현필름의 제조방법
WO2009123142A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 紫外線吸収剤組成物
WO2009123141A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 紫外線吸収剤組成物
WO2009136624A1 (ja) 2008-05-09 2009-11-12 富士フイルム株式会社 紫外線吸収剤組成物
WO2019159909A1 (ja) 2018-02-13 2019-08-22 帝人株式会社 機能性微粒子を含有するハードコート層付基材の製造方法
JP2022516209A (ja) * 2019-12-06 2022-02-25 ドゥーサン コーポレイション 粘着フィルム
JP7155272B2 (ja) 2019-12-06 2022-10-18 ドゥーサン コーポレイション 粘着フィルム

Also Published As

Publication number Publication date
US20030087087A1 (en) 2003-05-08
KR20080039868A (ko) 2008-05-07
KR20030011264A (ko) 2003-02-07
US6887557B2 (en) 2005-05-03
KR100896303B1 (ko) 2009-05-07
CN1400095A (zh) 2003-03-05
KR100894518B1 (ko) 2009-04-22
TWI223625B (en) 2004-11-11
CN1206096C (zh) 2005-06-15
JP4224227B2 (ja) 2009-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003039607A (ja) 帯電防止性ハードコートフィルム及びその製造方法
TWI301096B (en) Anti glare hard coat film
CA2137207C (en) Transparent functional membrane containing functional ultrafine particles, transparent functional film, and process for producing the same
JP5779863B2 (ja) 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板及びディスプレイ
KR101697779B1 (ko) 광학필름
JP2003045234A (ja) 透明導電性フィルム
WO2010061851A1 (ja) 被膜を持つシート及びその製造方法
KR101747488B1 (ko) 대전 방지성 하드 코트 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
JP4448350B2 (ja) ニュートンリング防止シート、およびこれを用いたタッチパネル
WO2005077651A1 (ja) ニュートンリング防止シート、およびこれを用いたタッチパネル
JP4266623B2 (ja) ハードコートフィルム
JP2010228401A (ja) ニュートンリング防止フィルム及びその製造方法
US6413629B1 (en) Easy adhesion film for transparent conductive thin film
JP2003026832A (ja) 防眩性ハードコートフィルム及びその製造方法
JP2011175081A (ja) 防眩性ハードコートフィルム及びそれを用いた偏光板
JP2001290009A (ja) 光拡散層、光拡散性シート及び光学素子
WO2012008444A1 (ja) 帯電防止層用硬化性樹脂組成物、光学フィルム、偏光板及びディスプレイパネル
JP3471217B2 (ja) 透明導電性フイルム
JP2011084048A (ja) 光学積層体
JP3204356B2 (ja) 透明導電フイルム
JP2004341553A (ja) 防眩性フィルム
KR20050050591A (ko) 방현성 필름
JP2005262442A (ja) ニュートンリング防止シート、およびこれを用いたタッチパネル
JP2006171724A (ja) 防眩フィルム
JPH10282312A (ja) 干渉縞解消シート

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040713

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060501

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060601

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060725

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060731

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080403

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080421

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080606

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080930

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081027

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081028

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081118

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081121

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4224227

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111128

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121128

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121128

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131128

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term