JPS60245644A - 塩化ビニル系樹脂成形品 - Google Patents
塩化ビニル系樹脂成形品Info
- Publication number
- JPS60245644A JPS60245644A JP10193884A JP10193884A JPS60245644A JP S60245644 A JPS60245644 A JP S60245644A JP 10193884 A JP10193884 A JP 10193884A JP 10193884 A JP10193884 A JP 10193884A JP S60245644 A JPS60245644 A JP S60245644A
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- JP
- Japan
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- vinyl chloride
- chloride resin
- plasticizer
- molding
- deterioration
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は塩化ビニル系樹脂成形品、特には紫外線レーザ
ーのパルス照射処理により可塑剤の成形品表面への移行
を防止した軟質塩化ビニル系樹脂成形品に関するもので
ある。
ーのパルス照射処理により可塑剤の成形品表面への移行
を防止した軟質塩化ビニル系樹脂成形品に関するもので
ある。
（従来の技術）
塩化ビニル系樹脂は、安価なプラスチック材料であり、
フィルム、レザー、管状体、板状体その他の各種の異形
成形品用樹脂原料として多用されており、その応用分野
は多方面に及んでいる。
フィルム、レザー、管状体、板状体その他の各種の異形
成形品用樹脂原料として多用されており、その応用分野
は多方面に及んでいる。
しかしながら、これら各種の塩化ビニル系樹脂成形品と
くに軟質系の成形品は、比較的高い（通常１５〜５０重
量％）割合で可塑剤が配合されているため、時間の経過
にしたがって可塑剤が成形品表面に移行しにじみ出る唐
か、あるいは接触している他の物体へ拡散移行し好まし
くない影響を与えるという問題点を有している。
くに軟質系の成形品は、比較的高い（通常１５〜５０重
量％）割合で可塑剤が配合されているため、時間の経過
にしたがって可塑剤が成形品表面に移行しにじみ出る唐
か、あるいは接触している他の物体へ拡散移行し好まし
くない影響を与えるという問題点を有している。
たとえば、電線の被覆材料には主として塩化ビニル系樹
脂が用いられているが、通電による加熱で低分子量の可
塑剤は大気中に徐々に揮散し被覆層の物性劣化をまねく
ので、この場合の可塑剤としては揮散し難い高分子量の
可塑剤を使用することが必要とされるし、また塩化ビニ
ル系樹脂を床材、壁材などの内壁材料として使用すると
きには、可塑剤が表面ζ二拡散移行して表面汚染の原因
となったり、フィルムとかチューブ同志がブロッキング
を起こすという好ましくない現象をもたらす。
脂が用いられているが、通電による加熱で低分子量の可
塑剤は大気中に徐々に揮散し被覆層の物性劣化をまねく
ので、この場合の可塑剤としては揮散し難い高分子量の
可塑剤を使用することが必要とされるし、また塩化ビニ
ル系樹脂を床材、壁材などの内壁材料として使用すると
きには、可塑剤が表面ζ二拡散移行して表面汚染の原因
となったり、フィルムとかチューブ同志がブロッキング
を起こすという好ましくない現象をもたらす。
他方、軟質の塩化ビニル系樹脂成形品を油、有機溶剤等
の液体と接触させると、可塑剤がこれらの液体に抽出さ
れるため、製品の可塑剤含有量が低下し物性劣化が起こ
るし、また石けん水のような脂溶成分を含む溶液、牛乳
、食料油などの食品、血液や体液などの液を汚染するた
め、化粧品容器、食品包装用品、医療器具用材料として
用いるには充分な配慮が必要とされる。
の液体と接触させると、可塑剤がこれらの液体に抽出さ
れるため、製品の可塑剤含有量が低下し物性劣化が起こ
るし、また石けん水のような脂溶成分を含む溶液、牛乳
、食料油などの食品、血液や体液などの液を汚染するた
め、化粧品容器、食品包装用品、医療器具用材料として
用いるには充分な配慮が必要とされる。
さらにまた農業用塩化ビニル樹脂フィルムについても、
保存中あるいは使用中に可塑剤が表面に（二じみ出るこ
とが原因となって、ブロッキングや光透過性の低下など
好ましくない現象がみられる。
保存中あるいは使用中に可塑剤が表面に（二じみ出るこ
とが原因となって、ブロッキングや光透過性の低下など
好ましくない現象がみられる。
これまで、このような塩化ビニル系樹脂成形品における
可塑剤の成形品表面へのにじみ出しを抑制するために、
成形加工技術工種々の対策が検討された。
可塑剤の成形品表面へのにじみ出しを抑制するために、
成形加工技術工種々の対策が検討された。
たとえば低分子量の可塑剤を使用する代りに、移行性、
抽出性のきわめて少ない高分子量の可塑剤（ポリエステ
ル系可塑剤等）を使用したり、あるいは塩化ビニル系樹
脂成形品の表面をアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポ
リアミド系樹脂等の他の樹脂で被覆する方法や、ブロッ
キング防止効果を有する脂肪酸アミド、シリコーンオイ
ル、粉末シリカ、けいそう土類、カオリン、タルク等を
原料樹脂に配合する方法などが試みられたが、高分子量
の可塑剤は低分子量の可塑剤に比べ高価である上に可塑
化効果が劣る、アクリル系樹脂等の他の樹脂による被覆
は面倒な操作をともなう上に長期間の使用、他の固体と
の接触により被覆層が剥離する、ブロッキング防止効果
を有する特殊成分の配合は他の望ましい性質かぎせいに
なり、しかも期待するほどの効果が得られない、という
それぞれの問題点があるため、簡単な処理で可塑剤等の
にじみ出しを効果的に抑制し得る方法の出現が大いに要
望されていた。
抽出性のきわめて少ない高分子量の可塑剤（ポリエステ
ル系可塑剤等）を使用したり、あるいは塩化ビニル系樹
脂成形品の表面をアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポ
リアミド系樹脂等の他の樹脂で被覆する方法や、ブロッ
キング防止効果を有する脂肪酸アミド、シリコーンオイ
ル、粉末シリカ、けいそう土類、カオリン、タルク等を
原料樹脂に配合する方法などが試みられたが、高分子量
の可塑剤は低分子量の可塑剤に比べ高価である上に可塑
化効果が劣る、アクリル系樹脂等の他の樹脂による被覆
は面倒な操作をともなう上に長期間の使用、他の固体と
の接触により被覆層が剥離する、ブロッキング防止効果
を有する特殊成分の配合は他の望ましい性質かぎせいに
なり、しかも期待するほどの効果が得られない、という
それぞれの問題点があるため、簡単な処理で可塑剤等の
にじみ出しを効果的に抑制し得る方法の出現が大いに要
望されていた。
このような要望（二応える改質処理方法の一つとして、
塩化ビニル系樹脂成形品の表面を２００ｎｍｋＪ下の遠
紫外光（真空紫外光）で照射処理する方法が提案されて
いる（特開昭５４−６４５７３号公報参照）。この処理
方法によれば成形品表面に高密度架橋層が形成されこの
架橋層のバリヤー的効果により可塑剤等のにじみ出しが
抑制されるようになるが、この高密度架橋層形成のため
の処理時間が１０〜３０分もかかり、この処理時間を短
縮するためには装置の巨大化・高出力化が必要とされる
ので実用化が困難であるという不利がある。本発明者ら
は先にこの処理方法に改良を加え処理時間を１〜３分程
度にまで短縮する技術を開発したが（特開昭５５−１４
４０３４号公報参照）、フィルム、シート等の工業的生
産速度からすればなお不充分であり、該生産工程中に組
み込んで処理することを考慮すると１０秒以下の処理時
間で充分な効果が得られることが要求される。
塩化ビニル系樹脂成形品の表面を２００ｎｍｋＪ下の遠
紫外光（真空紫外光）で照射処理する方法が提案されて
いる（特開昭５４−６４５７３号公報参照）。この処理
方法によれば成形品表面に高密度架橋層が形成されこの
架橋層のバリヤー的効果により可塑剤等のにじみ出しが
抑制されるようになるが、この高密度架橋層形成のため
の処理時間が１０〜３０分もかかり、この処理時間を短
縮するためには装置の巨大化・高出力化が必要とされる
ので実用化が困難であるという不利がある。本発明者ら
は先にこの処理方法に改良を加え処理時間を１〜３分程
度にまで短縮する技術を開発したが（特開昭５５−１４
４０３４号公報参照）、フィルム、シート等の工業的生
産速度からすればなお不充分であり、該生産工程中に組
み込んで処理することを考慮すると１０秒以下の処理時
間で充分な効果が得られることが要求される。
なお、従来の放電管、ランプ状紫外光源を使用すること
では目的の表面改質が達成されない他の理由は、たとえ
ば低圧水銅ランプ光源は種々の輝線（１８５，２５４，
３１３，３６５ｎ ｍ）を含んでおり、１８５ｎｍ以外
の紫外光はすべて本発明の目的とするプラスチック成形
品の表面改質のための表面変性反応を行わず、紫外光劣
化を促すという反対の作用を示すものもあることによる
と考えられる。
では目的の表面改質が達成されない他の理由は、たとえ
ば低圧水銅ランプ光源は種々の輝線（１８５，２５４，
３１３，３６５ｎ ｍ）を含んでおり、１８５ｎｍ以外
の紫外光はすべて本発明の目的とするプラスチック成形
品の表面改質のための表面変性反応を行わず、紫外光劣
化を促すという反対の作用を示すものもあることによる
と考えられる。
（発明の構成）
最近、励起状態の原子（分子）と基底状態の原子（分子
）との結合によるエキシマ−（ｅｘｃｉｍｅｒｌ を利
用したエキシマレーザ−の発振が確認され、新らしい光
化学反応光源として着目されている。本発明者らは特に
従来の放電管、ランプ光源では得られないレーザーの単
色性（単一波長光）と高光強度という特性に注目し、こ
れを塩化ピニル系樹脂成形品の可塑剤、その他の添加剤
の拡散移行（表面移行）防止を目的とした表面高密度架
橋化反応に利用することを検討した結果、塩化ビニル系
樹脂成形品の表面を９５〜２００ｎｍ波長域の紫外線レ
ーデＦ短時間パルス照射処理することにより、該成形品
表面に可塑剤等の成分が移行しにじみ出る現象を効果的
に抑制し得るきわめてうすいバリヤ一層（高密度架橋層
）が着色とか物性劣化等の不利益をともなうことなく容
易に形成されることを見出し、本発明を完成した。
）との結合によるエキシマ−（ｅｘｃｉｍｅｒｌ を利
用したエキシマレーザ−の発振が確認され、新らしい光
化学反応光源として着目されている。本発明者らは特に
従来の放電管、ランプ光源では得られないレーザーの単
色性（単一波長光）と高光強度という特性に注目し、こ
れを塩化ピニル系樹脂成形品の可塑剤、その他の添加剤
の拡散移行（表面移行）防止を目的とした表面高密度架
橋化反応に利用することを検討した結果、塩化ビニル系
樹脂成形品の表面を９５〜２００ｎｍ波長域の紫外線レ
ーデＦ短時間パルス照射処理することにより、該成形品
表面に可塑剤等の成分が移行しにじみ出る現象を効果的
に抑制し得るきわめてうすいバリヤ一層（高密度架橋層
）が着色とか物性劣化等の不利益をともなうことなく容
易に形成されることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は塩化ビニル系樹脂成形品の表面を９
５〜２００ｎｍ波長域をもつ紫外線レーザーでパルス照
射処理してなる、ノルマルヘキチン法による可塑剤抽出
量が０．５ｗ！／ｃ７／を以下好ましくは０．１ ｍｙ
／ｃｒ／を以下である塩化ビニル系樹脂成形品に関する
ものである。
５〜２００ｎｍ波長域をもつ紫外線レーザーでパルス照
射処理してなる、ノルマルヘキチン法による可塑剤抽出
量が０．５ｗ！／ｃ７／を以下好ましくは０．１ ｍｙ
／ｃｒ／を以下である塩化ビニル系樹脂成形品に関する
ものである。
本発明において「ノルマルヘキチン法による可塑剤抽出
量」とは、被検査成形品のシート状試料を１００ｄの円
筒形抽出容器の底にセットし、このシート表面の１０ｍ
に５０ｄのノルマルヘキチンを接触させ、４０℃ウォー
ターパス−中で２時間振とうしてノルマルヘキサン中に
抽出された可塑剤の量をｍｙ／ｃＩ／ｌで表わした値を
いうものとする。
量」とは、被検査成形品のシート状試料を１００ｄの円
筒形抽出容器の底にセットし、このシート表面の１０ｍ
に５０ｄのノルマルヘキチンを接触させ、４０℃ウォー
ターパス−中で２時間振とうしてノルマルヘキサン中に
抽出された可塑剤の量をｍｙ／ｃＩ／ｌで表わした値を
いうものとする。
以下本発明の詳細な説明する。
まず、本発明の方法で対象とされる塩化ビニル系樹脂成
形品は、ポリ塩化ビニルおよび塩化ビニル５７１ｇ北／
／メを主体とする共重合体を原料樹脂として成形された
ものであればいずれのものでもよく、この場合の塩化ビ
ニルと共重合されるコモノマーとしては、ビニルエステ
ル、ビニルエーテル、アクリル酸またはメタクリル酸お
よびそのエステル、マレイン酸またはフマル酸あるいは
それらのエステルまたは無水マレイン酸、芳香族ビニル
化合物、ハロゲン化ビニリデン、アクリロニトリルまた
はメタクリレートリル、エチレン、プロピレンなどのオ
レフィンが例示される。
形品は、ポリ塩化ビニルおよび塩化ビニル５７１ｇ北／
／メを主体とする共重合体を原料樹脂として成形された
ものであればいずれのものでもよく、この場合の塩化ビ
ニルと共重合されるコモノマーとしては、ビニルエステ
ル、ビニルエーテル、アクリル酸またはメタクリル酸お
よびそのエステル、マレイン酸またはフマル酸あるいは
それらのエステルまたは無水マレイン酸、芳香族ビニル
化合物、ハロゲン化ビニリデン、アクリロニトリルまた
はメタクリレートリル、エチレン、プロピレンなどのオ
レフィンが例示される。
上述の塩化ビニル系樹脂の成形にあたって各種の添加剤
が配合されることは差支えなく、これには成形品のｈす
！さを調節するための各種可塑剤のほか、安定剤、滑剤
、耐熱性向上剤、充填剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、帯
電防止剤、フ；１（滴剤、顔料、染料、架橋助剤、さら
には改質用ゴム添加剤が例示される。
が配合されることは差支えなく、これには成形品のｈす
！さを調節するための各種可塑剤のほか、安定剤、滑剤
、耐熱性向上剤、充填剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、帯
電防止剤、フ；１（滴剤、顔料、染料、架橋助剤、さら
には改質用ゴム添加剤が例示される。
なお、上記改質用コム添加剤としては、エチレン−酢酸
ビニル共重合体、アクリロニトリル−ブタジェン共重合
体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、メチルメタ
クリレート−スチレン−ブタジェン共ｉ 合体、アクリ
ロニトリル−スチレン−ブタジェン共１４合体、ウレタ
ンエラストマー、ポリアミド樹脂、カプロラクタム重合
体、エポキシ変性ポリブタジェン樹脂等が例示される。
ビニル共重合体、アクリロニトリル−ブタジェン共重合
体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、メチルメタ
クリレート−スチレン−ブタジェン共ｉ 合体、アクリ
ロニトリル−スチレン−ブタジェン共１４合体、ウレタ
ンエラストマー、ポリアミド樹脂、カプロラクタム重合
体、エポキシ変性ポリブタジェン樹脂等が例示される。
本発明における成形品はフィルム、シートその仲冬種形
状のものが対象とされ、キャスティング法、溶融抽出法
、カレンダー法、延伸法、圧縮性等従来公知の成形手段
により製造される。
状のものが対象とされ、キャスティング法、溶融抽出法
、カレンダー法、延伸法、圧縮性等従来公知の成形手段
により製造される。
このようにして得られる成形品の表面を９５〜２５５ｎ
ｍ波長域の紫外線レーザーでパルス照射処理するのであ
るが、該紫外線レーザーとしてはたとえばＡｒ２ （１
２６ｎｍ）、Ｋｒ２ （１４６ｎｍ） 、Ｘｅ２ （１
７２ｎｍ） 、ＡｒＣＬ （１７５ｎｍ）、ＡｒＦ （
１９３ｎｍ）等のエキシマレーザ−やＦ２ （１５７ｎ
ｍ）レーザー等が例示され、これらの高調波を使用する
ことも可能であり、またラマンシフターにより波長変換
を行って使用することも可能である。２００ｎｍを越え
る波長のレーザー光は合成樹脂成形品を光劣化、熱劣化
させるだけの効果しかなく、また９５ｎｍ以下のものは
いまだ知られていないが、かなり大型かつ高価なものに
なると推測され１本発明の目的にそぐわない。
ｍ波長域の紫外線レーザーでパルス照射処理するのであ
るが、該紫外線レーザーとしてはたとえばＡｒ２ （１
２６ｎｍ）、Ｋｒ２ （１４６ｎｍ） 、Ｘｅ２ （１
７２ｎｍ） 、ＡｒＣＬ （１７５ｎｍ）、ＡｒＦ （
１９３ｎｍ）等のエキシマレーザ−やＦ２ （１５７ｎ
ｍ）レーザー等が例示され、これらの高調波を使用する
ことも可能であり、またラマンシフターにより波長変換
を行って使用することも可能である。２００ｎｍを越え
る波長のレーザー光は合成樹脂成形品を光劣化、熱劣化
させるだけの効果しかなく、また９５ｎｍ以下のものは
いまだ知られていないが、かなり大型かつ高価なものに
なると推測され１本発明の目的にそぐわない。
パルス照射処理におけるパルス数は紫外線レーザーの出
力とともに改質処理時間に大きく影響を与えるが、一般
に平均出力数ワットないし数＋ワット、くり返し周波数
Ｉ Ｈｚ〜１００ Ｈ２で目的とする改質反応時間を十
分短かいものとすることができる。
力とともに改質処理時間に大きく影響を与えるが、一般
に平均出力数ワットないし数＋ワット、くり返し周波数
Ｉ Ｈｚ〜１００ Ｈ２で目的とする改質反応時間を十
分短かいものとすることができる。
このように紫外線レーザーでパルス照射処理することに
より、成形品表面に厚さ１μｍ以下のきわめてうすい高
密度架橋層が形成され、この架橋層は成形品中の可塑剤
等の表面への移行にじみ出しを防止する障壁として作用
し、他方これがきわめてうすいために成形品が有する本
来の特性、利点がなんら損われることはないという注目
すべき効果が与えられる。
より、成形品表面に厚さ１μｍ以下のきわめてうすい高
密度架橋層が形成され、この架橋層は成形品中の可塑剤
等の表面への移行にじみ出しを防止する障壁として作用
し、他方これがきわめてうすいために成形品が有する本
来の特性、利点がなんら損われることはないという注目
すべき効果が与えられる。
またこのようＣ二して改質処理された成形品は、可塑剤
、その他の添加剤の拡散移行防止機能のみならず親水性
、耐熱性、耐溶剤性、耐汚染性、耐候性等の機能も新た
に付与されているという利点をもつ。
、その他の添加剤の拡散移行防止機能のみならず親水性
、耐熱性、耐溶剤性、耐汚染性、耐候性等の機能も新た
に付与されているという利点をもつ。
つぎに具体的実施例をあげる。
塩化ビニル樹脂１００重量部、フタル酸ジエチルヘキシ
ル（可塑剤）５０重量部、ステアリン酸カルシウム１５
重格部およびステアリン酸亜塩１５重量部からなる配合
物を１６０℃で成形加工し、厚さ１陥のシートを作成し
た。
ル（可塑剤）５０重量部、ステアリン酸カルシウム１５
重格部およびステアリン酸亜塩１５重量部からなる配合
物を１６０℃で成形加工し、厚さ１陥のシートを作成し
た。
このシート表面に、ｋｒＦ（波長１９３ｎｍ）レーザー
を用いパルスエネルギー］００ｍＪ、パルス巾１４ ｎ
ｓｅａ条件下２０パルス照射（５Ｈｖ、４秒間処理相
当）を行なった。このようにしてパルスレーザ−処理を
した後、ノルマルヘキサンによる可塑剤の抽出実験と水
の接触角測定による親水化度測定を行ない、改質効果を
調べた。結果は下記のとおりであった。
を用いパルスエネルギー］００ｍＪ、パルス巾１４ ｎ
ｓｅａ条件下２０パルス照射（５Ｈｖ、４秒間処理相
当）を行なった。このようにしてパルスレーザ−処理を
した後、ノルマルヘキサンによる可塑剤の抽出実験と水
の接触角測定による親水化度測定を行ない、改質効果を
調べた。結果は下記のとおりであった。
可塑剤抽出量 水の接触角
未処理品 ３．３ｔｎｇ／ｃ＋＋ｆ Ｂ ２度処理品
０．０１５ｍｙ／ｃｔｌ ２４度未処理品：紫外線レー
ザー処理なし 処理品：紫外線レーザー処理あり 〔可塑剤抽出量の測定条件〕 １００−の円筒形抽出容器の底にシート状の試料をセッ
トし、このシート表面のｌｏｄに５Ｑ＋ｄのノルマルヘ
キサンを接触させ、４０℃ウォーターパス中で２時間振
とうして、ノルマルヘキサン中に抽出された可塑剤の量
をガスクロマトグラフィにより定量分析し、これをツ／
ｄ として表わした。
０．０１５ｍｙ／ｃｔｌ ２４度未処理品：紫外線レー
ザー処理なし 処理品：紫外線レーザー処理あり 〔可塑剤抽出量の測定条件〕 １００−の円筒形抽出容器の底にシート状の試料をセッ
トし、このシート表面のｌｏｄに５Ｑ＋ｄのノルマルヘ
キサンを接触させ、４０℃ウォーターパス中で２時間振
とうして、ノルマルヘキサン中に抽出された可塑剤の量
をガスクロマトグラフィにより定量分析し、これをツ／
ｄ として表わした。
実施例２
塩化ビニル樹脂１００重量部、アジピン酸ジエチルヘキ
シル（可塑剤）３０重量部、ジブチルすずジラウレート
３重量部からなる配合物を１６０℃で成形加工し、厚さ
１ａ１１のシートを作成した。
シル（可塑剤）３０重量部、ジブチルすずジラウレート
３重量部からなる配合物を１６０℃で成形加工し、厚さ
１ａ１１のシートを作成した。
このシート表面にＡｒ２（１２６ｎｍ）Ｌ／−ザーを用
い、パルスエネルギー５０ｍＪ、パルス中１０ｎ ｓｅ
ａ条件下３０パルス照射（５Ｈｚ６秒間処理相当）を行
なった。このようにしてパルスレーザ−処理を行なった
後、ノルマルヘキサンによる可塑剤の抽出実験と水の接
触角測定による親水化度測定を行ない、改質効果を調べ
た。結果は下記のとおりであった。
い、パルスエネルギー５０ｍＪ、パルス中１０ｎ ｓｅ
ａ条件下３０パルス照射（５Ｈｚ６秒間処理相当）を行
なった。このようにしてパルスレーザ−処理を行なった
後、ノルマルヘキサンによる可塑剤の抽出実験と水の接
触角測定による親水化度測定を行ない、改質効果を調べ
た。結果は下記のとおりであった。
可塑剤抽出ｍ 水の接触角
未処理品 ５．１ツ／ｄ ８３度
処理品 ００２２ツ／ｄ ２１度
実施例３
塩化ビニル樹脂１００重量部、フタル酸ジｎ−ブチル３
０重量部、エポキシ化大豆油２Ｍ量部、ジブチルすずメ
ルカプタイド３重量部からなる配合物を１６０℃で成形
加工し、厚さ１ｍのシートを作成した。このシート表面
にＸｅ２ （１７２ｎｍ）レーサーヲ用い、パルスエネ
ルギ＝１００ｍＪ、パルス巾ｎ５ｅｃ条件下、２０パル
スＨ射（５Ｈｚ４秒間処理相当）を行なった。このよう
にしてパルスレーザ−処理を行なった後、ノルマルヘキ
サンによる可塑剤の抽出実験と水の接触角測定による親
、水化度測定を行ない、改質効果を調べた結果を下記に
示す。
０重量部、エポキシ化大豆油２Ｍ量部、ジブチルすずメ
ルカプタイド３重量部からなる配合物を１６０℃で成形
加工し、厚さ１ｍのシートを作成した。このシート表面
にＸｅ２ （１７２ｎｍ）レーサーヲ用い、パルスエネ
ルギ＝１００ｍＪ、パルス巾ｎ５ｅｃ条件下、２０パル
スＨ射（５Ｈｚ４秒間処理相当）を行なった。このよう
にしてパルスレーザ−処理を行なった後、ノルマルヘキ
サンによる可塑剤の抽出実験と水の接触角測定による親
、水化度測定を行ない、改質効果を調べた結果を下記に
示す。
未処理品 ４．ｇｒｑ／ｍ ８５度
処理品０．０３１驚個 ２５度
特許出願人
信純化学工業株式会社
Claims (1)
- １、塩化ビニル系樹脂成形品の表面を９５〜２００ｎｍ
波長域をもつ紫外線レーザーでパルス照射処理してなる
、ノルマルヘキチン法による可塑剤抽出量が０．５ｆ９
７ｄ以下である塩化ビニル系樹脂成形品
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10193884A JPS60245644A (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | 塩化ビニル系樹脂成形品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10193884A JPS60245644A (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | 塩化ビニル系樹脂成形品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60245644A true JPS60245644A (ja) | 1985-12-05 |
| JPH0363982B2 JPH0363982B2 (ja) | 1991-10-03 |
Family
ID=14313845
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10193884A Granted JPS60245644A (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | 塩化ビニル系樹脂成形品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60245644A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63182080A (ja) * | 1987-01-23 | 1988-07-27 | Nippon Steel Corp | 塗装金属材料の表面改質方法 |
| JPH04183873A (ja) * | 1990-11-19 | 1992-06-30 | Agency Of Ind Science & Technol | 紫外レーザーを用いた高分子成形品への無電解めっき方法 |
| JP2006117804A (ja) * | 2004-10-21 | 2006-05-11 | Kokuritsu Iyakuhin Shokuhin Eisei Kenkyusho | 軟質プラスティック材料の表面改質方法及び表面を改質した軟質プラスティック材料 |
| WO2010061851A1 (ja) * | 2008-11-28 | 2010-06-03 | 株式会社 きもと | 被膜を持つシート及びその製造方法 |
-
1984
- 1984-05-21 JP JP10193884A patent/JPS60245644A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63182080A (ja) * | 1987-01-23 | 1988-07-27 | Nippon Steel Corp | 塗装金属材料の表面改質方法 |
| JPH04183873A (ja) * | 1990-11-19 | 1992-06-30 | Agency Of Ind Science & Technol | 紫外レーザーを用いた高分子成形品への無電解めっき方法 |
| JP2006117804A (ja) * | 2004-10-21 | 2006-05-11 | Kokuritsu Iyakuhin Shokuhin Eisei Kenkyusho | 軟質プラスティック材料の表面改質方法及び表面を改質した軟質プラスティック材料 |
| JP4708760B2 (ja) * | 2004-10-21 | 2011-06-22 | 国立医薬品食品衛生研究所長 | 軟質プラスティック材料の表面改質方法及び表面を改質した軟質プラスティック材料 |
| WO2010061851A1 (ja) * | 2008-11-28 | 2010-06-03 | 株式会社 きもと | 被膜を持つシート及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0363982B2 (ja) | 1991-10-03 |
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