WO2008015839A1 - Pâte de résine résistante à la chaleur - Google Patents

Pâte de résine résistante à la chaleur Download PDF

Info

Publication number
WO2008015839A1
WO2008015839A1 PCT/JP2007/061192 JP2007061192W WO2008015839A1 WO 2008015839 A1 WO2008015839 A1 WO 2008015839A1 JP 2007061192 W JP2007061192 W JP 2007061192W WO 2008015839 A1 WO2008015839 A1 WO 2008015839A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
heat
resistant resin
organic solvent
resin paste
group
Prior art date
Application number
PCT/JP2007/061192
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Hiroyuki Kawakami
Kouji Yamazaki
Takuya Imai
Youji Katayama
Original Assignee
Hitachi Chemical Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co., Ltd. filed Critical Hitachi Chemical Co., Ltd.
Priority to EP07744580.7A priority Critical patent/EP2055747B1/en
Priority to JP2008527679A priority patent/JP5343562B2/ja
Priority to US12/375,719 priority patent/US8759440B2/en
Publication of WO2008015839A1 publication Critical patent/WO2008015839A1/ja

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/005Processes for mixing polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1003Preparatory processes
    • C08G73/1007Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
    • C08G73/1028Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines characterised by the process itself, e.g. steps, continuous
    • C08G73/1032Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines characterised by the process itself, e.g. steps, continuous characterised by the solvent(s) used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1046Polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
    • C08G73/105Polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain with oxygen only in the diamino moiety
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1057Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
    • C08G73/106Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1067Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
    • C08G73/1071Wholly aromatic polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/01Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
    • C08K3/013Fillers, pigments or reinforcing additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2205/00Polymer mixtures characterised by other features
    • C08L2205/02Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group

Definitions

  • the present invention relates to a heat resistant resin paste, and more particularly to a heat resistant resin paste excellent in heat resistance, flexibility, printability, and visibility.
  • a heat-resistant resin such as polyimide resin has already been widely used in the field of electronics as a surface protective film or an interlayer insulating film of a semiconductor element because it has excellent heat resistance and mechanical properties.
  • screen printing methods that do not require complicated processes such as exposure, development, or etching as a method for forming an image of a polyimide resin film for surface protective films, interlayer insulating films, stress relieving materials, etc.
  • the application method has attracted attention.
  • a heat-resistant resin paste having a base resin, a filler, and a solvent as constituent components and having thixotropic properties is used.
  • inorganic fillers such as silica fillers and non-soluble polyimide fillers
  • it remains as a filler in the film and it has been pointed out that the film strength easily deteriorates due to the formation of a large number of voids and bubbles at the interface between the base resin and the filler surface, resulting in poor electrical insulation.
  • An object of the present invention is to provide a heat resistant resin paste having excellent heat resistance, flexibility, printability and visibility.
  • the present invention relates to (1) a first organic solvent (A1), a second organic solvent (A2) containing exogenes, a first organic solvent (A1) or a first A heat-resistant resin (B) that is soluble in a mixed solvent of the organic solvent (A1) and the second organic solvent (A2), and a mixed solvent of the first organic solvent (A1) and the second organic solvent (A2).
  • a solution containing an insoluble heat resistant resin filler (C) and a pigment (D) and containing the first organic solvent (A1), the second organic solvent (A2) and the heat resistant resin (B) the heat resistant resin
  • the present invention relates to a heat resistant resin paste in which a filler (C) and a pigment (D) are dispersed.
  • the present invention also relates to (2) the heat-resistant resin paste according to (1), wherein the first organic solvent (A1) contains a nitrogen-containing compound.
  • the present invention also relates to (3) the heat-resistant resin paste according to (2), wherein the nitrogen-containing compound is a polar nitrogen-containing cyclic compound.
  • the present invention provides (4) the Rataton such force Y - relating said a petit port Rataton (1) to (3) heat-resistant resin paste according to one of.
  • the present invention provides (5) any one of the above (1) to (4), wherein the soluble heat resistant resin (B) and the heat resistant resin filler (C) are polyimide resins or precursors thereof.
  • the heat resistant resin paste according to one item.
  • the present invention provides (6) a heat-resistant resin filler (C) polyimide resin or a precursor thereof containing a diamine containing an aromatic diamine represented by the following general formula (I): Tetraforce rubonic acids containing an aromatic tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (II) or a derivative thereof are used as a first organic solvent (A1) and a second organic solvent containing a rataton (The heat-resistant resin paste according to (5), which is obtained by reacting with A2) in the presence of a mixed solvent.
  • C heat-resistant resin filler
  • R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, a trifluoromethyl group, a trichloromethyl group, a halogen atom or a phenyl group)
  • the present invention also relates to (7) the heat-resistant resin paste according to any one of (1) to (6), wherein the pigment (D) is a white powder system.
  • the present invention provides (8) the above (1) to (7), wherein the average particle size of the pigment (D) is less than 10 zm.
  • the present invention also relates to (9) the heat-resistant resin paste according to any one of (1) to (8), wherein the thixotropic coefficient is 1 ⁇ 2 or more.
  • the heat-resistant resin paste of the present invention includes the first organic solvent (A1), the second organic solvent (A2) containing the ratatones, the first organic solvent (A1), or the first Heat-resistant resin (B) soluble in the mixed solvent of the organic solvent (A1) and the second organic solvent (A2), insoluble in the mixed solvent of the first organic solvent (A1) and the second organic solvent (A2) It comprises a heat-resistant resin filler (C) and a pigment (D).
  • the first organic solvent (A1) used in the present invention is not particularly limited.
  • diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol jetyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene Ethers such as glycol jetyl ether, triethylene glycol dipropyl ether, triethylene glycol dibutyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, dioxane, 1,2-dimethoxyethane; dimethyl sulfoxide, jetyl sulfoxide, dimethyl sulfone, sulfolane, etc.
  • Sulfur compounds ⁇ -petite ratatones, ⁇ -valerolatatanes, ⁇ -force prolatatones, cello-noreb acetate, ethyl acetate mouth sorb, vinegar Esters such as butylcetosolve, ethyl acetate, butyl acetate; ketones such as cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and acetybutone; ⁇ -methylpyrrolidone, ⁇ , ⁇ , -dimethylacetocedo, ⁇ Nitrogen-containing compounds such as 1,3-dimethinolehonolemamide, 1,3 _Dimethinole 3, 4, 5, 6 _Tetrahydro 1 2 (1) _pyrimidinone, 1,3-dimethyl _ 2 _imidazolidinone Compounds; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene are listed, and these
  • the first organic solvent (A1) used in the present invention preferably contains a nitrogen-containing compound.
  • the nitrogen-containing compound is not particularly limited as long as it is a compound containing a nitrogen atom.
  • the above-mentioned nitrogen-containing compounds are mentioned, and among these, polar nitrogen-containing cyclic compounds are more preferable.
  • ⁇ -methylpyrrolidone, 1,3-dimethyl-3,4,5,6-tetrahydro-1,2 (1 ⁇ ) -pyrimidinone and the like are particularly preferable.
  • the amount of the first organic solvent (A1) used is 40% by weight or more based on the total amount of the first organic solvent (A1) and the second organic solvent ( ⁇ 2) containing the ratatones. It is preferred to be 50 More preferably, it is more preferably 60% by weight or more. If the amount of the first organic solvent (A1) used is less than 40% by weight, the solubility of the heat-resistant resin (B) is lowered and the resulting coating film properties tend to be lowered.
  • the second organic solvent (A2) used in the present invention contains exotons, and may be latatones alone or a mixed solvent of latatones and other solvents.
  • the Rataton include, For example, y- butyl port Rataton, .gamma. Barerorataton, y- force Purorataton, .gamma. Heputarataton, a- Asechiru one y- butyrate port Rataton, .epsilon. force Purorataton the like. Among them I - Puchi mouth rataton is preferred.
  • other solvents include the ethers, sulfur-containing compounds, esters, ketones, nitrogen-containing compounds, aromatic hydrocarbons and the like, and these can be used alone or in combination of two or more. .
  • the amount of radon used is 10 to 60% by weight with respect to the total amount of the first organic solvent (A1) and the second organic solvent containing radon ( ⁇ 2). It is particularly preferable to set it to 10 to 55% by weight, and it is particularly preferable to set it to 15 to 55% by weight.
  • the amount of ratatones used is less than 10% by weight, the thixotropic property of the obtained heat-resistant resin paste tends to decrease, and when it exceeds 60% by weight, the solubility of heat-resistant resin ( ⁇ ) and heat-resistant resin filler (C) Tends to decrease and the properties of the resulting coating film tend to deteriorate.
  • the amount of the first organic solvent (A1) and the second organic solvent ( ⁇ 2) used is appropriately set according to the type and amount of the heat resistant resin ( ⁇ ) and the heat resistant resin filler (C).
  • the first organic solvent (A1) is 30 to 90 parts by weight
  • the second organic solvent ( ⁇ 2) is 10 to 70 parts by weight, more preferably the first organic solvent (Al) is 40 to 90 parts by weight.
  • the second organic solvent ( ⁇ 2) is 10 to 60 parts by weight with respect to parts by weight. If the amount of the first organic solvent (A1) and the amount of the second organic solvent ( ⁇ 2) are not within this range, the printability of the resulting heat-resistant resin paste tends to decrease.
  • the boiling point of the mixed solvent of the first organic solvent (A1) and the second organic solvent ( ⁇ 2) used in the present invention is 100 ° C in consideration of the pot life during application of the heat-resistant resin paste.
  • the power S is preferable, and 100 to 300 ° C is more preferable.
  • the heat-resistant resin (B) used in the present invention is soluble in the first organic solvent (A1) or a mixed solvent of the first organic solvent (A1) and the second organic solvent (A2). is there.
  • heat-resistant resins (B) include thermosetting resins and thermoplastic resins.
  • thermosetting resins include terminal acetylene-polyimide resin, terminal maleimidized polyimide resin, and BT resin (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.).
  • examples include addition polymerization type polyimide resins, melamine resins, phenol resins, epoxy resins, etc., manufactured by company, trade names), Kerimide (product names, manufactured by Rhône-Poulenc).
  • the thermoplastic resin include polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyimide resin precursor, and the like. Of these, polyimide resins or their precursors are preferred in terms of heat resistance.
  • the polyimide resin or precursor thereof includes, for example, diamines such as aromatic diamine compounds, aliphatic diamine compounds, and alicyclic diamine compounds, and tetracarboxylic acids such as tetracarboxylic dianhydrides or derivatives thereof. It is obtained by reacting with.
  • diamines such as aromatic diamine compounds, aliphatic diamine compounds, and alicyclic diamine compounds
  • tetracarboxylic acids such as tetracarboxylic dianhydrides or derivatives thereof. It is obtained by reacting with.
  • diamines examples include m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, benzidine, 4,4'-diaminodi.
  • R 7 and are divalent hydrocarbon groups having carbon numbers:! To 30; R 9 , R 1Q , R 11 and R 12 are monovalent hydrocarbon groups having 1 to 30 carbon atoms. . n is an integer of 1 or more.
  • R 7 and R 8 are preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, a phenylene group, or an alkyl-substituted phenylene group.
  • R 9 , R 1Q , R 11 and R 12 are preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group, a phenyl group, or an alkyl-substituted phenyl group.
  • n is preferably 1 to 100.
  • Specific examples of the diaminopolysiloxane represented by the following general formula (III) include compounds of the following formulas (1) to (5).
  • n is an integer of:! To 100.
  • diamines can be used alone or in combination of two or more.
  • the tetracarboxylic acids are preferably those obtained by reacting an aromatic tetracarboxylic dianhydride represented by the following general formula (II) or a tetracarboxylic acid containing a derivative thereof.
  • aromatic tetracarboxylic dianhydrides or derivatives thereof include 3, 3 ', 4, 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2, 2', 3, 3'- Biphenyltetra-rubber rubonic dianhydride, 2, 3, 3 '4' _Bifenyl tetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenenole) sulfone dianhydride, bis (3,4- Dicarboxyphenenole) monoterni anhydride, 3, 4, 3 ', 4' _benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2, 3, 2, 3, _benzophenone tetracarboxylic dianhydride Anhydrides, tetracarboxylic dianhydrides such as 2, 3, 3, 4′_benzophenone tetracarboxylic dianhydride, and derivatives thereof. Of these, 3, 4, 3 ', 4'_
  • the reaction of diamines and tetracarboxylic acids can be carried out in the presence of an organic solvent.
  • organic solvent for example, ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol jetyl ether; dimethyl sulfoxide, jet sulfoxide, dimethyl sulfone, sulfolane, etc.
  • the reaction temperature of diamines and tetracarboxylic acids is preferably 25 ° C to 250 ° C, and the reaction time can be appropriately selected depending on the scale of the batch, the reaction conditions employed, and the like.
  • a method of obtaining a polyimide resin there is a method of dehydrating and ring-closing a polyimide resin precursor, and a general method can be used for this method.
  • a thermal cyclization method in which dehydration cyclization is performed by heating under normal pressure or reduced pressure, a chemical cyclization method using a chemical dehydrating agent such as acetic anhydride in the presence or absence of a catalyst, and the like can be used.
  • the thermal ring closure method it is preferably carried out while removing water generated by the dehydration reaction from the system.
  • the reaction is preferably 80-400.
  • C more preferably 100-250. Do in C.
  • water may be removed azeotropically by using a solvent that azeotropes with water, such as benzene, toluene, xylene and the like.
  • the reaction is preferably performed at 0 to 120 ° C, more preferably 10 to 80 ° C in the presence of a chemical dehydrating agent.
  • a chemical dehydrating agent for example, acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, anhydrous butyric acid and benzoic anhydride, and carbodiimide compounds such as dicyclohexylcarbodiimide are preferably used.
  • a substance that promotes the ring-closing reaction such as pyridine, isoquinoline, trimethylamine, triethylamine, aminoviridine, imidazole and the like. It is preferable to use 90-600 mol% of the chemical dehydrating agent relative to the total amount of diamines and 40-300 mol% of the substance that promotes the ring closure reaction based on the total amount of diamines.
  • a dehydration catalyst such as triphenyl phosphite, tricyclohexyl phosphite, triphenyl phosphate, phosphorus compounds such as phosphoric acid and phosphorus pentoxide, and boron compounds such as boric acid and boric anhydride may be used.
  • a dehydration catalyst such as triphenyl phosphite, tricyclohexyl phosphite, triphenyl phosphate, phosphorus compounds such as phosphoric acid and phosphorus pentoxide, and boron compounds such as boric acid and boric anhydride may be used.
  • boron compounds such as boric acid and boric anhydride
  • the amount of the heat resistant resin (B) used is preferably 5 to 80 parts by weight, more preferably 10 parts per 100 parts by weight of the total amount of the heat resistant resin (B) and the heat resistant resin filler (C). ⁇ 70 parts by weight.
  • the amount of the heat-resistant resin (B) used is less than 5 parts by weight, the flexibility of the resulting coating film tends to decrease, and when it exceeds 80 parts by weight, the printability tends to decrease. is there
  • the heat-resistant resin filler (C) used in the present invention may be a terminal acetylenic polyimide resin, a terminal curable resin, which may be either a thermosetting resin or a thermoplastic resin.
  • a thermosetting resin such as a thermoplastic resin.
  • examples include maleimide polyimide resin, BT resin (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name), addition polymerization type polyimide resin such as Kerimide (Rhone-Poulenc, trade name), melamine resin, phenol resin, epoxy resin, etc.
  • the thermoplastic resin include polyamide resins, polyimide resins, polyamideimide resins, polyimide resin precursors, and the like. Of these, polyimide resin or its precursor is preferred in terms of heat resistance.
  • the method for obtaining the polyimide resin or precursor thereof as the heat-resistant resin filler (C) is, for example, a diamine such as an aromatic diamine compound, an aliphatic diamine compound or an alicyclic diamine compound and a tetracarboxylic dianhydride or Examples thereof include a method based on a reaction with tetracarboxylic acids such as derivatives thereof.
  • the diamines and tetracarboxylic acids to be used can be the same as those exemplified in the production method of the heat-resistant resin (B) with no particular limitation, but the first organic solvent (A1) and the second carboxylic acid can be used.
  • the diamines containing the aromatic diamine represented by the following general formula (I) and the aromatic represented by the general formula (II) It is preferable to use tetracarboxylic acids containing tetracarboxylic dianhydride or derivatives thereof.
  • R 5 and R 6 are each independently any of a hydrogen atom, an alkyl group, a trifluoromethyl group, a trichloromethyl group, a halogen atom, or a phenyl group.
  • R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom; methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tertiary butyl group, pentyl group, hexyl group , Heptyl group, octyl group, nonyl group and the like alkyl group having 1 to 9 carbon atoms; methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, tertiary butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group , Nonyloxy group, etc., an alkoxy group having 1 to 9 carbon atoms; or a halogen atom such as chlorine, bromine, iodine, fluorine, etc., X is a chemical bond (ie biphenyl), _ ⁇ _, _ S ⁇ , -SO
  • R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom; an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propinole group, a butyl group, an isobutyl group, or a pentyl group; a trifluoromethyl group, a trichloromethyl group Is a halogen atom such as chlorine, bromine, iodine, fluorine, or a phenyl group.
  • Specific examples of the aromatic diamine represented by the general formula (III) include 2,2 bis [4- (4 aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2 bis [4- (4 aminophenoxy) phenyl] hexane.
  • the reaction of diamines and tetracarboxylic acids can be carried out in the presence of an organic solvent.
  • an organic solvent a second organic solvent containing a first organic solvent (A1) and a lanthanum is used.
  • a mixed solvent with an organic solvent (A2) is preferably used.
  • the amount of radon used should be 30 to 90% by weight based on the total amount of the first organic solvent (A1) and the second organic solvent (A2) containing radon. It is particularly preferably 40 to 90% by weight, more preferably 40 to 85% by weight, and even more preferably 15 to 50% by weight.
  • the reaction temperature is preferably 10 to 120 ° C, and more preferably 15 to 100 ° C. When the reaction temperature is less than 10 ° C, the reaction does not proceed sufficiently, and when it exceeds 120 ° C, the precipitation of the heat-resistant resin filler tends to be insufficient.
  • the reaction time can be appropriately selected depending on the scale of the batch and the reaction conditions employed. The method for obtaining the polyimide resin is as described above.
  • the amount of the heat-resistant resin filler (C) used is preferably 20 to 95 parts by weight, more preferably 30 parts per 100 parts by weight of the total amount of the heat-resistant resin (B) and the heat-resistant resin filler (C). ⁇ 90 parts by weight.
  • the amount of the heat-resistant resin filler (C) used is less than 20 parts by weight, the printability tends to decrease, and when it exceeds 90 parts by weight, the flexibility of the coating film decreases. In the direction.
  • the pigment (D) used in the present invention is preferably a white powder.
  • titanium dioxide or boron nitride can be used.
  • the average particle size of the pigment (D) is preferably less than 10 ⁇ m, more preferably 0.01 to 8 xm, more preferably force S, and even more preferably 0.03 to 7 xm. Especially preferred to be 05-5 xm. If the particle size is larger than 10 zm, the resulting coating may become brittle.
  • the blending amount of the pigment (D) includes the first organic solvent (A1), the second organic solvent (A2), and the heat resistant resin. Based on the total amount of fat (B) and the heat-resistant resin filler (C), preferably from 0.01 to 50% by weight preferably fixture from 0.05 to 45 weight 0/0 power S, 0.:! ⁇ 40 weight 0/0 force even more preferably S, 0. 2 to 35 wt% is particularly preferred.
  • the blending amount of the pigment (D) is less than 0.01% by weight, the visibility after the pattern formation may be lowered, and when it exceeds 50% by weight, the resulting coating film may be brittle. is there.
  • the heat-resistant resin paste of the present invention includes a heat-resistant resin filler (C) and a solution containing the first organic solvent (A1), the second organic solvent (A2), and the heat-resistant resin (B).
  • the pigment (D) is dispersed.
  • a heat-resistant resin solution in which a heat-resistant resin (B) is dissolved in an organic solvent and a heat-resistant resin in which a heat-resistant resin filler (C) is dispersed in an organic solvent are used.
  • a method of mixing the filler dispersion and the pigment (D) can be mentioned.
  • the heat resistant resin solution is preferably a heat resistant resin filler dispersion in which the heat resistant resin (B) is preferably dissolved in an organic solvent containing the first organic solvent (A1).
  • the filler (C) is preferably dispersed in an organic solvent containing the second organic solvent (A2) and the heat resistant resin (B).
  • Mixing of the heat-resistant resin solution and the heat-resistant resin filler dispersion liquid is preferably performed at 10 to 180 ° C, preferably 15 to: force to be performed at 160 ° C.
  • the mixing temperature is less than 10 ° C, the heat-resistant resin solution and the heat-resistant resin filler dispersion tend not to be sufficiently mixed.
  • the mixing temperature exceeds 180 ° C, the heat-resistant resin filler is dissolved in an organic solvent. There is a tendency for printing or coating properties to be reduced even in the case of registration or misalignment.
  • the thixotropic coefficient of the heat-resistant resin paste of the present invention is preferably 1.2 or more, more preferably 4 or more, and even more preferably 1.5 or more, and particularly preferably 1.6 or more. If the thixotropy coefficient is less than 1.2, sufficient printing or coating properties tend not to be obtained.
  • the thixotropy coefficient of the heat-resistant resin paste was measured using an E-type viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., RE-80U type) at a sample amount of 0.2 g and a measurement temperature of 25 ° C. The apparent viscosity of the paste with rotation speed lrpm and lOrpm, the ratio of and is expressed as ⁇ ⁇ ⁇ .
  • the viscosity (measured at a rotational speed of 0.5 rpm) of the heat-resistant resin paste of the present invention is 1 to 1000.
  • Pa's preferably 3 to 900 Pa's, more preferably 3 to 800 Pa's, particularly preferably 5 to 600 Pa's. If the viscosity of the heat-resistant resin paste is less than lPa's, there is a tendency for drooling to occur in the paste after printing or coating, and if it exceeds lOOOPa's In other cases, workability tends to decrease.
  • the total concentration of the heat resistant resin (B), the heat resistant resin filler (C) and the pigment (D) in the heat resistant resin base is preferably 5 to 90% by weight, more preferably 10 to 90% by weight. %, Particularly preferably 10 to 80% by weight. If it is less than 5% by weight, it tends to be difficult to increase the film thickness of the obtained coating film, and if it exceeds 90% by weight, the fluidity of the paste is impaired and the workability tends to be lowered.
  • an antifoaming agent a dye, a plasticizer, an antioxidant, a coupling agent, a resin modifier, and the like can be added to the heat resistant resin paste of the present invention.
  • the additive is not particularly limited.
  • the coupling agent is most preferably a silane coupling agent including silane, titanium, and aluminum.
  • the silane coupling agent is not particularly limited.
  • Titanium coupling agents are not particularly limited, for example, isopropyl trioctanoyl titanate, isopropyl dimethacrylisostearoyl titanate, isopropyl tridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyl isostearoyl diacryl titanate, isopropyl tri (dioctyl phosphate).
  • the aluminum coupling agent is not particularly limited, for example, ethylacetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethylacetoacetate), aralkylacetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum monoacetyl.
  • the above-mentioned additive is preferably used in an amount of 50 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the total amount of the heat-resistant resin (B) and the heat-resistant resin filler (C). If the amount of the additive added is more than 50 parts by weight, the resulting coating film may become brittle.
  • the heat-resistant resin paste of the present invention includes various semiconductor devices, semiconductor packages, thermal heads, image sensors, multichip high-density mounting boards, various devices such as diodes, capacitors, transistors, flexible wiring boards, rigid wiring boards. It can be used for protective films such as various wiring boards, insulating films, adhesives, various heat-resistant printing inks, etc., and is extremely useful industrially.
  • a film can be formed by applying a heat-resistant resin paste to the coated surface of a substrate or the like by means of screen printing or the like, and then heating at a heating condition where the organic solvent volatilizes, usually 50 to 500 ° C. .
  • a method for obtaining a precise pattern with the heat-resistant resin paste of the present invention is not particularly limited. For example, a screen printing method, a dispense coating method, a potting method, a curtain coating method, a relief printing method, an intaglio printing method, a lithographic printing method. Etc.
  • the heat resistant resin paste (PIP-1) obtained in Example 1 was evaluated as follows.
  • Viscosity and thixotropy coefficient of heat-resistant resin paste (PIP-1) was measured with an E-type viscometer (RE-80U type, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) at a sample amount of 0.2 g and a measurement temperature of 25 ° C did.
  • the viscosity was measured at a rotation speed of 0.5 rpm, and the thixotropy coefficient was evaluated by the apparent viscosity of the rotation speed at lrpm and lOrpm, the ratio of ⁇ to ⁇ , and ⁇ ⁇ ⁇ .
  • Heat-resistant resin paste (PIP-1) is screen printed on a silicon wafer (neuroning) Made by Seimitsu Kogyo Co., Ltd., LS—34GX with alignment device, nickel alloy additive Metsuke meshless metal plate (Mesh Kogyo Co., Ltd., thickness 50 / m, pattern size 8 mm X 8mm) and permalex metal squeegee ( Was used for heating and drying at 100 ° C for 10 minutes, and the printability was evaluated from the resulting resin film. The printability of the resin film was evaluated by observing the presence or absence of bleeding and dripping with an optical microscope.
  • the printed silicon wafer with a pattern was illuminated with side lighting using a Hirox 3D digital microscope system, and the pattern was clearly visible as 0, and the difficult to see as X.
  • a heat-resistant resin paste (PIP-1) was applied onto a Teflon (registered trademark) substrate, heated at 350 ° C. for 30 minutes to dry the organic solvent, and a coating film having a thickness of 25 zm was formed.
  • a dynamic viscoelastic spectrometer manufactured by Iwamoto Seisakusho Co., Ltd.
  • the tensile elastic modulus 25 ° C, 10Hz
  • glass transition temperature frequency 10Hz, heating rate 2 ° C / min
  • thermobalance TG / DTA220 type, manufactured by Seiko Instruments Inc.
  • the amount of sampnore is 10 mg
  • the heating rate is 10 ° C / min (30 to 600 ° C)
  • alumina is used as a reference.
  • the thermal decomposition starting temperature (5% weight loss temperature) was measured in an air atmosphere.
  • the heat-resistant resin pastes of the present invention are excellent in heat resistance, workability and visibility. Furthermore, it is possible to form a precision pattern by screen printing or the like by dispensing, and the semiconductor device using the heat-resistant resin paste of the present invention gives good characteristics. In contrast, the heat-resistant resin paste of Comparative Example 1 that does not contain a pigment has poor visibility, and the heat-resistant resin paste of Comparative Example 2 that does not contain lanthanum as an organic solvent has a lower viscosity and thixotropy coefficient. It turns out that it is inferior.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)

Description

明 細 書
耐熱性樹脂ペースト
技術分野
[0001] 本発明は耐熱性樹脂ペーストに関し、更に詳しくは、耐熱性、可とう性、印刷性及 び視認性に優れた耐熱性樹脂ペーストに関する。
背景技術
[0002] ポリイミド榭脂などの耐熱性樹脂は、耐熱性及び機械的性質に優れてレ、ることから 、エレクトロニクスの分野で半導体素子の表面保護膜や層間絶縁膜としてすでに広く 使われている。最近、これらの表面保護膜用や層間絶縁膜用、応力緩和材用等のポ リイミド系樹脂膜の像形成方法として露光、現像あるいはエッチングなどの繁雑なェ 程を必要としないスクリーン印刷法、デイスペンス塗布法が着目されている。
[0003] スクリーン印刷法、デイスペンス塗布法には、ベース樹脂、フィラー及び溶剤を構成 成分とし、チキソトロピー性を持つ耐熱性樹脂ペーストが使用される。これまでに開発 された耐熱性樹脂ペーストのほとんどは、チキソトロピー性を付与するためのフィラー としてシリカフィラーなどの無機フィラーや非溶解性ポリイミドフイラ一などを用いてい るが、これらフイラ一は加熱乾燥時に皮膜中にフィラーとして残存するため、ベース樹 脂とフィラー表面との界面に多数の空隙や気泡ができ易ぐ皮膜強度が低下し、電気 絶縁性に劣るといった問題が指摘されている。
[0004] 上記問題点に対し、加熱乾燥時にフィラーがベース樹脂と均一相を形成し、皮膜 中にフィラーとして残存しない可溶型の有機フィラーを、ベース樹脂及び溶剤と組み 合わせてなる耐熱性樹脂ペーストが開発されている(特許第 2697215号公報及び 特許第 3087290号公報参照)。しかし、前記耐熱性樹脂ペーストは可溶型の有機フ イラ一を使用しているため、成膜後の皮膜は透明であることが多ぐパターン形成後 の視認性に劣り、作業性が低下するという問題があった。
[0005] 本発明の目的は、耐熱性、可とう性、印刷性及び視認性に優れた耐熱性樹脂ぺー ストを提供することである。
発明の開示 [0006] 本発明は、(1)第一の有機溶媒 (A1)、ラ外ン類を含有してなる第二の有機溶媒( A2)、第一の有機溶媒 (A1)あるいは、第一の有機溶媒 (A1)と第二の有機溶媒 (A 2)の混合溶媒に可溶性の耐熱性樹脂 (B)、第一の有機溶媒 (A1)と第二の有機溶 媒 (A2)の混合溶媒に不溶性の耐熱性樹脂フィラー (C)及び顔料 (D)を含み、第一 の有機溶媒 (A1)、第二の有機溶媒 (A2)及び耐熱性樹脂 (B)を含む溶液中に、耐 熱性樹脂フィラー(C)及び顔料 (D)が分散してなる耐熱性樹脂ペーストに関する。
[0007] また、本発明は、(2)前記第一の有機溶媒 (A1)が、含窒素化合物を含有するもの である前記(1)記載の耐熱性樹脂ペーストに関する。
[0008] また、本発明は、(3)前記含窒素化合物が極性を有する含窒素環式化合物である 前記(2)記載の耐熱性樹脂ペーストに関する。
[0009] また、本発明は、(4)前記ラタトン類力 Ύ—プチ口ラタトンである前記(1)〜(3)の いずれか一項記載の耐熱性樹脂ペーストに関する。
[0010] また、本発明は、(5)前記可溶性の耐熱性樹脂(B)及び耐熱性樹脂フィラー (C)が 、ポリイミド樹脂またはその前駆体である前記(1)〜(4)のいずれか一項に記載の耐 熱性樹脂ペースト。
[0011] また、本発明は、(6)耐熱性樹脂フィラー (C)のポリイミド樹脂またはその前駆体が 、下記一般式 (I)で表される芳香族ジァミンを含有するジァミン類と、下記一般式 (II) で表される芳香族テトラカルボン酸二無水物あるいはその誘導体を含有するテトラ力 ルボン酸類を、第一の有機溶媒 (A1)及びラタトン類を含有してなる第二の有機溶媒 (A2)との混合溶媒の存在下に反応させて得られるものである前記(5)記載の耐熱 性樹脂ペーストに関する。
[化 1]
Figure imgf000003_0001
[0012] (式 (I)中、
Figure imgf000003_0002
及び R4は、それぞれ独立に水素原子、炭素数 1〜9のアル キル基、炭素数 1 9のアルコキシ基又はハロゲン原子のいずれかであり、 Xは、ィ匕 学結合、 O S― -SO― C ( =〇)一 S ( = 0)—、あるいは下記式(I
2
a)で表される基のレ、ずれかである)
[化 2]
Figure imgf000004_0001
(式 (la)中、 R5及び R6はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、トリフルォロメチ ル基、トリクロロメチル基、ハロゲン原子又はフエニル基のいずれかである)
[化 3]
Figure imgf000004_0002
[0014] (式(II)中、 Yは、一〇一 一 S― - SO―、 一 C ( =〇)一 一 S ( =〇)一のいず
2
れかである)
また、本発明は、(7)前記顔料 (D)が白色粉末系である前記(1)〜(6)のいずれか 一項に記載の耐熱性樹脂ペーストに関する。
[0015] また、本発明は、(8)前記顔料 (D)の平均粒径が 10 z m未満である前記(1)〜(7
)のいずれか一項に記載の耐熱性樹脂ペーストに関する。
[0016] また、本発明は、(9)チキソトロピー係数が 1 · 2以上である前記(1)〜(8)のいずれ か一項に記載の耐熱性樹脂ペーストに関する。
[0017] 本発明によれば、耐熱性、可とう性、印刷性及び視認性に優れた耐熱性樹脂ぺー ストを提供することができる。 発明を実施するための最良の形態
[0018] 本発明の耐熱性樹脂ペーストは、第一の有機溶媒 (A1)、ラタトン類を含有してなる 第二の有機溶媒 (A2)、第一の有機溶媒 (A1)、あるいは第一の有機溶媒 (A1)と第 二の有機溶媒 (A2)の混合溶媒に可溶性の耐熱性樹脂 (B)、第一の有機溶媒 (A1 )と第二の有機溶媒 (A2)の混合溶媒に不溶性の耐熱性樹脂フィラー (C)及び顔料 ( D)を含んでなる。
[0019] 本発明で使用する第一の有機溶媒 (A1)は特に制限は無ぐ例えば、ジエチレング リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジェチルエーテル、ジエチレングリ コールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジプチルエーテル、トリエチレング リコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジェチルエーテル、トリエチレング リコールジプロピルエーテル、トリエチレングリコールジブチルエーテル、テトラエチレ ングリコールジメチルエーテル、ジォキサン、 1 , 2—ジメトキシェタン等のエーテル類; ジメチルスルホキシド、ジェチルスルホキシド、ジメチルスルホン、スルホラン等の含 硫黄化合物; γ—プチ口ラタトン、 γ—バレロラタトン、 γ—力プロラタトン、酢酸セロソ ノレブ、酢酸ェチルセ口ソルブ、酢酸ブチルセ口ソルブ、酢酸ェチル、酢酸ブチル等の エステル類;シクロへキサノン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、ァセチフ ヱノン等のケトン類; Ν—メチルピロリドン、 Ν, Ν,—ジメチルァセトァセド、 Ν, Ν,一ジ メチノレホノレムアミド、 1, 3 _ジメチノレ一 3, 4, 5, 6 _テトラヒドロ一 2 (1Η) _ピリミジノ ン、 1, 3—ジメチル _ 2 _イミダゾリジノン等の含窒素化合物;トルエン、キシレン等の 芳香族炭化水素類等が挙げられ、これらは単独で又は 2種類以上組み合わせて使 用すること力 Sできる。
[0020] 本発明で使用される第一の有機溶媒 (A1)は、含窒素化合物を含有してなるもの であることが好ましい。含窒素化合物としては、窒素原子を含んでいる化合物であれ ば特に限定されず、例えば前述の含窒素化合物が挙げられるが、なかでも極性を有 する含窒素環式ィヒ合物がより好ましぐ Ν—メチルピロリドン、 1 , 3—ジメチルー 3, 4 , 5, 6—テトラヒドロ一 2 (1Η)—ピリミジノン等が特に好ましい。
[0021] 第一の有機溶媒 (A1)の使用量は、第一の有機溶媒 (A1)及びラタトン類を含有し てなる第二の有機溶媒 (Α2)の総量に対して 40重量%以上であることが好ましぐ 50 重量%以上であることがさらに好ましぐ 60重量%以上であることが特に好ましい。第 一の有機溶媒 (A1)の使用量が 40重量%に満たないと耐熱性樹脂(B)の溶解性が 低下し、得られる塗膜特性が低下する傾向にある。
[0022] 本発明で使用する第二の有機溶媒 (A2)はラ外ン類を含有しており、ラタトン類単 独でも、ラタトン類と他の溶媒との混合溶媒であっても良い。ラタトン類としては、例え ば、 y—ブチ口ラタトン、 γ—バレロラタトン、 y—力プロラタトン、 γ—ヘプタラタトン、 a—ァセチル一 y—ブチ口ラタトン、 ε—力プロラタトン等が挙げられ、なかでも Ί - プチ口ラタトンが好ましい。他の溶媒としては、前記エーテル類、含硫黄化合物、エス テル類、ケトン類、含窒素化合物、芳香族炭化水素類等が例示され、これらは単独 で又は 2種類以上組み合わせて使用することができる。
[0023] ラ外ン類の使用量は、第一の有機溶媒 (A1)及びラ外ン類を含有してなる第二の 有機溶媒 (Α2)の総量に対して 10〜60重量%とすることが好ましぐ 10〜55重量% とすることがより好ましぐ 15〜55重量%とすることがさらにより好ましぐ 15〜50重量 %とすることが特に好ましい。ラタトン類の使用量が 10重量%未満では得られた耐熱 樹脂ペーストのチキソトロピー性が低下する傾向にあり、 60重量%を超えると耐熱性 樹脂 (Β)及び耐熱性樹脂フィラー (C)の溶解性が低下し、得られる塗膜の特性が低 下する傾向にある。
[0024] 第一の有機溶媒 (A1)と第二の有機溶媒 (Α2)の使用量は、耐熱性樹脂 (Β)ゃ耐 熱性樹脂フィラー (C)の種類や使用量などに応じて適宜設定されるが、好ましくは第 一の有機溶媒 (A1) 30〜90重量部に対して第二の有機溶媒 (Α2) 10〜70重量部 、さらに好ましくは第一の有機溶媒 (Al) 40〜90重量部に対して第二の有機溶媒( Α2) 10〜60重量部である。第一の有機溶媒 (A1)の使用量と第二の有機溶媒 (Α2 )の使用量がこの範囲にないと得られる耐熱性樹脂ペーストの印刷性が低下する傾 向にある。
[0025] 本発明で使用される第一の有機溶媒 (A1)と第二の有機溶媒 (Α2)の混合溶媒の 沸点は、耐熱性樹脂ペーストの塗布時の可使時間を考慮すると 100°C以上であるこ と力 S好まく、 100〜300°Cがより好ましい。第一の有機溶媒 (A1)と第二の有機溶媒( A2)の種類や使用量を適宜選択することによって、混合溶媒の沸点が前記温度範 囲になるように設定される。
[0026] 本発明で使用される耐熱性樹脂 (B)は前記第一の有機溶媒 (A1)、あるいは第一 の有機溶媒 (A1)と第二の有機溶媒 (A2)の混合溶媒に可溶性である。かかる耐熱 性樹脂(B)としては、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂のいずれでもよぐ熱硬化 性樹脂としては、末端アセチレンィ匕ポリイミド樹脂、末端マレイミド化ポリイミド樹脂、 B T樹脂(三菱ガス化学株式会社製、商品名)、ケルイミド (ローヌプーラン製、商品名) などの付加重合型ポリイミド樹脂、メラミン樹脂、フエノール樹脂、エポキシ樹脂などが 例示される。熱可塑性樹脂としては、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹 脂、ポリイミド樹脂の前駆体などが例示される。これらのなかでも、ポリイミド樹脂また はその前駆体が耐熱性の点で好ましレ、。
[0027] 前記ポリイミド樹脂またはその前駆体は、例えば、芳香族ジァミン化合物、脂肪族ジ ァミン化合物あるいは脂環式ジァミン化合物などのジァミン類とテトラカルボン酸二無 水物あるいはその誘導体などのテトラカルボン酸類とを反応させて得られるものであ る。
[0028] ジァミン類としては、例えば、 m—フエ二レンジァミン、 p フエ二レンジァミン、 4, 4' ージアミノジフエニルプロパン、 4, 4'ージアミノジフエニルメタン、ベンジジン、 4, 4' ージアミノジフエニルスルフイド、 4, 4'ージアミノジフエニルスルホン、 3, 3 '—ジァミノ ジフエニルスルホン、 4, 4'ージアミノジフエニルエーテル、 3, 3'ージアミノジフエ二 ルエーテル、 4, 4'ージアミノー p—ターフェニル、 2, 6, —ジァミノピリジン、ビス(4 ァミノフエニル)ホスフィンォキシド、 2, 2—ビス〔4— (4—アミノフエノキシ)フエニル〕 プロパン、 2, 2 ビス〔4— (4 アミノフエノキシ)フエニル〕へキサフルォロプロパン、 2, 2—ビス〔3—メチル一4— (4—アミノフエノキシ)フエニル〕プロパン、 2, 2—ビス〔4 — (4—アミノフエノキシ)フエニル〕ブタン、 2, 2—ビス〔3—メチル一4— (4—アミノフ エノキシ)フエニル〕ブタン、 2, 2—ビス〔3, 5—ジメチル一 4— (4—アミノフエノキシ) フエニル〕ブタン、 2, 2_ビス〔3, 5 _ジブロモ一 4_ (4—アミノフエノキシ)フエニル〕 ブタン、 1 , 1 , 1, 3, 3, 3—へキサフノレオ口一 2, 2—ビス〔4— (4—アミノフエノキシ) フエニル〕プロパン、 1, 1, 1 , 3, 3, 3 _へキサフルオロー 2, 2_ビス〔3_メチル _4 _ (4—アミノフエノキシ)フエニル〕プロパン、 1 , 1 _ビス〔4_ (4—アミノフエノキシ)フ ェニノレ〕シクロへキサン、 1, 1—ビス〔4— (4—アミノフエノキシ)フエ二ノレ〕シクロペンタ ン、ビス〔4— (4—アミノフエノキシ)フエニル〕スルホン、ビス〔4— (4—ァミノフエノキシ )フエニノレ〕エーテル、 4, 4'—カルボニルビス(p—フエ二レンォキシ)ジァニリン、 4, 4'—ビス(4—アミノフエノキシ)ビフヱニル等の芳香族系ジァミン化合物、あるいは下 記一般式 (III)で表されるジァミノポリシロキサン等のシロキサン系ジァミン化合物が 挙げられる。
[化 4]
(III)
Figure imgf000008_0001
式 (III)中、 R7及び は炭素数:!〜 30の二価の炭化水素基、 R9、 R1Q、 R11及び R12 は炭素数 1〜30の一価の炭化水素基を示す。 nは 1以上の整数である。 R7及び R8は 、好ましくは炭素数 1〜5のアルキレン基、フエ二レン基、アルキル置換フエ二レン基 である。 R9、 R1Q、 R11及び R12は、好ましくは炭素数 1〜5のアルキル基、アルコキシ基 、フエニレル基、アルキル置換フエニル基である。 nは好ましくは 1〜: 100である。下記 一般式 (III)で表されるジァミノポリシロキサンの具体例としては、以下の式(1)〜(5) の化合物が挙げられる。
[化 5]
(1)
Figure imgf000009_0001
Figure imgf000009_0002
Figure imgf000009_0003
Figure imgf000009_0004
[0030] 式(1)〜(5)中、 nは:!〜 100の整数である。
[0031] これらジァミンは単独で又は 2種類以上を組み合わせて使用することができる。
[0032] テトラカルボン酸類としては、下記一般式 (II)で表される芳香族テトラカルボン酸二 無水物あるいはその誘導体を含有するテトラカルボン酸類を反応させて得られるもの であることが好ましい。
[化 6]
Figure imgf000010_0001
so 2 c (=o) s (=〇)一のいずれ かである。
[0034] 芳香族テトラカルボン酸二無水物あるいはその誘導体の具体的例としては、 3, 3 ' , 4, 4 '—ビフエニルテトラカルボン酸二無水物、 2, 2' , 3, 3 '—ビフエニルテトラ力 ルボン酸二無水物、 2, 3, 3' 4' _ビフヱニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(3, 4 —ジカルボキシフエ二ノレ)スルホン二無水物、ビス(3, 4—ジカルボキシフエ二ノレ)ェ 一テルニ無水物、 3, 4, 3 ', 4' _ベンゾフヱノンテトラカルボン酸二無水物、 2, 3, 2 ,, 3, _ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、 2, 3, 3,, 4' _ベンゾフエノンテト ラカルボン酸二無水物等のテトラカルボン酸二無水物及びこれらの誘導体等が挙げ られる。これらのなかでも、 3, 4, 3 ', 4' _ベンゾフヱノンテトラカルボン酸二無水物 あるいはその誘導体を使用するのが好ましレ、。
[0035] ジァミン類とテトラカルボン酸類の反応は有機溶媒の存在下で行うことができる。有 機溶媒としては特に制限は無ぐ例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジ エチレングリコールジェチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリ エチレングリコールジェチルエーテル等のエーテル類;ジメチルスルホキシド、ジェチ ルスルホキシド、ジメチルスルホン、スルホラン等の含硫黄化合物; y ブチロラクト ン、酢酸セロソルブ等のエステル類;シクロへキサノン、メチルェチルケトン等のケトン 類; N メチルピロリドン、ジメチルァセトアミド、 1 , 3—ジメチルー 3, 4, 5, 6—テトラ ヒドロ— 2 (1H)—ピリミジノン等の含窒素化合物;トルエン、キシレン等の芳香族炭化 水素系溶媒等が挙げられ、これらは単独で又は 2種類以上組み合わせて使用するこ とができる。これらのなかでも耐熱性樹脂ペーストとするために第一の有機溶媒 (A1) を使用するのが好ましぐ含窒素化合物がより好ましい。 [0036] ジァミン類とテトラカルボン酸類の反応温度は、 25°C〜250°Cとすることが好ましく 、反応時間は、バッチの規模、採用される反応条件などにより適宜選択することがで きる。
[0037] ポリイミド樹脂を得る方法としては、ポリイミド樹脂前駆体を脱水閉環する方法もあり 、該方法も一般的な方法を使用することができる。例えば、常圧あるいは減圧下にお いて加熱によって脱水閉環する熱閉環法、触媒の存在下あるいは非存在下、無水 酢酸等の化学的脱水剤を使用する化学閉環法等を使用することができる。熱閉環法 の場合、脱水反応で生じる水を系外に除去しながら行うことが好ましい。反応は、好 ましくは 80〜400。C、より好ましくは 100〜250。Cで行う。また、ベンゼン、トノレェン、 キシレン等のような水と共沸するような溶剤を併用し水を共沸除去してもよい。化学閉 環法の場合、化学的脱水剤の存在下、好ましくは 0〜120°C、より好ましくは 10〜80 °Cで反応させる。化学的脱水剤としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無 水酪酸、無水安息香酸等の酸無水物、ジシクロへキシルカルボジイミド等のカルボジ イミド化合物等を用いるのが好ましい。また、ピリジン、イソキノリン、トリメチルァミン、ト リエチルァミン、アミノビリジン、イミダゾール等の閉環反応を促進する物質を併用す ることが好ましい。化学的脱水剤はジァミン類の総量に対して 90〜600モル%、閉環 反応を促進する物質はジァミン類の総量に対して 40〜300モル%使用することが好 ましレ、。また、トリフエニルホスファイト、トリシクロへキシルホスファイト、トリフエニルホス フェート、リン酸、五酸化リン等のリン化合物、ホウ酸、無水ホウ酸等のホウ素化合物 等の脱水触媒を用いてもよい。残存するイオン性不純物の低減化等を考慮すると前 述の熱閉環法が好ましい。
[0038] 耐熱性樹脂(B)の使用量は、耐熱性樹脂(B)及び耐熱性樹脂フイラ (C)一の総量 100重量部に対して、好ましくは 5〜80重量部、より好ましくは 10〜70重量部である 。前記耐熱性樹脂 (B)の使用量が 5重量部未満である場合は、得られる塗膜の可撓 性が低下する傾向にあり、 80重量部を越える場合は、印刷性が低下する傾向にある
[0039] 本発明で使用される耐熱性樹脂フィラー(C)は、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹 脂のいずれでもよぐ熱硬化性樹脂としては、末端アセチレン化ポリイミド樹脂、末端 マレイミド化ポリイミド樹脂、 BT樹脂(三菱ガス化学株式会社製、商品名)、ケルイミド (ローヌプーラン製、商品名)などの付加重合型ポリイミド樹脂、メラミン樹脂、フエノー ル樹脂、エポキシ樹脂などが例示される。熱可塑性樹脂としては、ポリアミド樹脂、ポ リイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂の前駆体などが例示される。これらの なかでも、ポリイミド樹脂またはその前駆体が耐熱性の点で好ましレ、。
耐熱性樹脂フィラー (C)としてのポリイミド樹脂またはその前駆体を得る方法は、例 えば、芳香族ジァミン化合物、脂肪族ジァミン化合物あるいは脂環式ジァミン化合物 などのジァミン類とテトラカルボン酸二無水物あるいはその誘導体などのテトラカルボ ン酸類との反応による方法が挙げられる。使用されるジァミン類とテトラカルボン酸類 は、特に制限が無ぐ前記耐熱性樹脂 (B)の製造方法で例示したものと同様のもの が使用できるが、第一の有機溶媒 (A1)と第二の有機溶媒 (A2)の混合溶媒への溶 解性を考慮すると、下記一般式 (I)で表される芳香族ジァミンを含有するジァミン類と 、前記一般式 (II)で表される芳香族テトラカルボン酸二無水物あるいはその誘導体 を含有するテトラカルボン酸類を使用することが好ましい。
[化 7]
Figure imgf000012_0001
式 (I)中、
Figure imgf000012_0002
R2、 R3、及び R4は、それぞれ独立に水素原子、炭素数:!〜 9のアル キル基、炭素数 1〜9のアルコキシ基又はハロゲン原子のいずれかであり、 Xは、ィ匕 学結合、 O— S―、 -SO― C ( =〇)一、 S ( = 0)—、あるいは下記式(I
2
a)で表される基のレ、ずれかである。
[化 8]
Figure imgf000013_0001
[0042] 式(la)中、 R5及び R6はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、トリフルォロメチル 基、トリクロロメチル基、ハロゲン原子又はフエニル基のいずれかである。
[0043] R2、 R3、及び R4は、それぞれ独立に水素原子;メチル基、ェチル基、プロ ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、ペンチル 基、へキシル基、ヘプチル基、ォクチル基、ノニル基などの炭素数 1〜 9のアルキル 基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ターシャリーブトキシ基、ペン チルォキシ基、へキシルォキシ基、ヘプチルォキシ基、ォクチルォキシ基、ノニルォ キシ基など炭素数 1〜9のアルコキシ基;又は塩素、臭素、沃素、フッ素などのハロゲ ン原子のいずれかであり、 Xは、化学結合(すなわちビフヱ二ル)、 _〇_、 _ S―、 - SO―、 _C ( = 0) _、 _ S ( =〇)_、あるいは前記式(la)で表される基のいずれか
2
である。式 (la)中、 R5及び R6はそれぞれ独立に水素原子;メチル基、ェチル基、プロ ピノレ基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基などのアルキル基;トリフルォロメチル 基、トリクロロメチル基、塩素、臭素、沃素、フッ素などのハロゲン原子又はフエニル基 のいずれかである。前記一般式 (III)で表される芳香族ジァミンの具体例としては、 2 , 2 ビス〔4— (4 アミノフエノキシ)フエニル〕プロパン、 2, 2 ビス〔4— (4 ァミノ フエノキシ)フエニル〕へキサフルォロプロパン、 2, 2—ビス〔3—メチル 4— (4—アミ ノフエノキシ)フエニル〕プロパン、 2, 2—ビス〔4— (4—アミノフエノキシ)フエニル〕ブ タン、 2, 2 ビス〔3—メチル 4— (4 アミノフエノキシ)フエニル〕ブタン、 2, 2 ビ ス〔3, 5 ジメチル一 4— (4 アミノフエノキシ)フエニル〕ブタン、 2, 2 ビス〔3, 5— ジブ口モー 4— (4—アミノフエノキシ)フエニル〕ブタン、 1 , 1 , 1, 3, 3, 3—へキサフ ノレオロー 2, 2 ビス〔4一(4 アミノフエノキシ)フエ二ノレ〕プロノヽ。ン、 1 , 1, 1, 3, 3, 3 —へキサフルオロー 2, 2 ビス〔3—メチル 4— (4—アミノフエノキシ)フエニル〕プ 口パン、 1, 1—ビス〔4— (4—アミノフエノキシ)フエニル〕シクロへキサン、 1, 1—ビス〔 4- (4-アミノフエノキシ)フエ二ノレ〕シクロペンタン、ビス〔4― (4―アミノフエノキシ)フ ェニノレ〕スルホン、ビス〔4— (4—アミノフエノキシ)フエ二ノレ〕エーテル、 4, 4'—カルボ ニルビス(p フエ二レンォキシ)ジァニリン、 4, 4'—ビス(4—アミノフエノキシ)ビフエ ニル等が挙げられる力 S、これらの中でも 2, 2—ビス〔4一(4 アミノフエノキシ)フエ二 ノレ〕プロパンが最も好ましい。
[0044] ジァミン類とテトラカルボン酸類との反応は有機溶媒の存在下で行うことができ、有 機溶媒としては第一の有機溶媒 (A1)及びラ外ン類を含有してなる第二の有機溶媒 (A2)との混合溶媒が用いられることが好ましい。ラ外ン類の使用量は、第一の有機 溶媒 (A1)及びラ外ン類を含有してなる第二の有機溶媒 (A2)の総量に対して、 30 〜90重量%であることが好ましぐ 40〜90重量%であることがより好ましぐ 40〜85 重量%であることがさらにより好ましぐ 15〜50重量%であることが特に好ましい。ラ タトン類の使用量力 重量%未満である場合は耐熱性樹脂フィラーの析出に時間が 掛カ、り作業性に劣る傾向にあり、 90重量%を超える場合は耐熱性樹脂フィラーの合 成が困難となる傾向にある。反応温度は 10〜: 120°Cが好ましぐ 15〜: 100°Cがより 好ましい。反応温度が 10°C未満である場合は反応が十分に進行しない傾向にあり、 120°Cを超える場合は耐熱性樹脂フィラーの析出が不充分になる傾向にある。反応 時間は、バッチの規模や採用される反応条件などにより適宜選択することができる。 ポリイミド樹脂を得る方法としては、前述したとおりである。
[0045] 耐熱性樹脂フィラー (C)の使用量は、耐熱性樹脂 (B)及び耐熱性樹脂フィラー (C )の総量 100重量部に対して、好ましくは 20〜95重量部、より好ましくは 30〜90重 量部である。前記耐熱性樹脂フィラー (C)の使用量が 20重量部未満である場合は、 印刷性が低下する傾向にあり、 90重量部を越える場合は、塗膜の可撓性が低下す るィ頃向にある。
[0046] 本発明で使用する顔料 (D)は白色系粉末であることが好ましぐ例えば、二酸化チ タンゃ窒化ホウ素を使用することができる。顔料 (D)の平均粒径は 10 μ m未満であ ることが好ましく、 0. 01〜8 x mであること力 Sより好ましく、 0. 03〜7 x mであることが さらにより好ましく、 0. 05〜5 x mであることが特に好ましレ、。粒径が 10 z mより大き い場合は得られる塗膜が脆くなる可能性がある。
[0047] 顔料 (D)の配合量は、第一の有機溶媒 (A1)、第二の有機溶媒 (A2)、耐熱性樹 脂(B)及び耐熱性樹脂フィラー(C)の総量に対して、 0. 01〜50重量%が好ましぐ 0. 05〜45重量0 /0力 Sより好ましく、 0.:!〜 40重量0 /0力 Sさらにより好ましく、 0. 2〜35 重量%が特に好ましい。顔料 (D)の配合量が 0. 01重量%未満である場合はパター ン形成後の視認性が低下する可能性があり、 50重量%を超える場合は得られる塗 膜が脆くなる可能性がある。
[0048] 本発明の耐熱性樹脂ペーストは、第一の有機溶媒 (A1)、第二の有機溶媒 (A2) 及び耐熱性樹脂 (B)を含む溶液中に、耐熱性樹脂フィラー (C)及び顔料 (D)が分 散してなるものである。力、かる耐熱性樹脂ペーストを得る方法としては、例えば、耐熱 性樹脂 (B)が有機溶媒に溶解した耐熱性樹脂溶液と、耐熱性樹脂フィラー (C)が有 機溶媒に分散した耐熱性樹脂フィラー分散液と、顔料 (D)とを混合する方法が挙げ られる。前記耐熱性樹脂溶液は、耐熱性樹脂 (B)が第一の有機溶媒 (A1)を含む有 機溶媒に溶解していることが好ましぐ前記耐熱性樹脂フィラー分散液は、耐熱性樹 脂フイラ一 (C)が第二の有機溶媒 (A2)及び耐熱性樹脂 (B)を含む有機溶媒に分散 していることが好ましい。耐熱性樹脂溶液と耐熱性樹脂フィラー分散液との混合は、 1 0〜: 180°Cで行うこと力 S好ましく、 15〜: 160°Cで行うこと力 Sより好ましレヽ。前記混合温 度が 10°C未満である場合は耐熱性樹脂溶液と耐熱性樹脂フィラー分散液とが十分 に混合しない傾向にあり、 180°Cを超える場合は耐熱性樹脂フィラーが有機溶媒に 溶解する傾向にあり、レ、ずれの場合も印刷あるいは塗布性が低下する傾向にある。
[0049] 本発明の耐熱性樹脂ペーストのチキソトロピー係数は 1. 2以上が好ましぐ 1. 4以 上がより好ましぐ 1. 5以上がさらにより好ましぐ 1. 6以上が特に好ましい。チキソトロ ピー係数が 1. 2未満である場合は十分な印刷あるいは塗布特性が得られない傾向 にある。耐熱性樹脂ペーストのチキソトロピー係数は E型粘度計 (東機産業株式会社 製、 RE— 80U型)を用いて試料量 0. 2g、測定温度 25°Cで測定した。回転数 lrpm と lOrpmのペーストの見かけ粘度、 と の比、 η Ζ η として表される。
1 10 1 10
[0050] 本発明の耐熱性樹脂ペーストの粘度(回転数 0. 5rpmで測定: )は 1〜: 1000
0. 5
Pa' sカ好ましく、 3〜900Pa' s力より好ましく、 3〜800Pa' sカさらにより好ましく、 5 〜600Pa' sが特に好ましい。耐熱性樹脂ペーストの粘度が lPa' s未満である場合は 印刷あるいは塗布後のペーストにだれが生じ易い傾向にあり、 lOOOPa' sを超える場 合は作業性が低下する傾向にある。
[0051] 耐熱性樹脂 (B)、耐熱性樹脂フィラー (C)及び顔料 (D)の総和の耐熱性樹脂ベー スト中の濃度は、好ましくは 5〜90重量%、より好ましくは 10〜90重量%、特に好ま しくは 10〜80重量%である。 5重量%未満である場合は得られる塗膜の膜厚を厚く し難い傾向にあり、 90重量%を超える場合はペーストの流動性が損なわれるため作 業性が低下する傾向にある。
[0052] 本発明の耐熱性樹脂ペーストには、必要に応じて、消泡剤、染料、可塑剤、酸化防 止剤、カップリング剤、樹脂改質剤等を添加することもできる。
[0053] 上記添加剤としては特に制限が無ぐ例えば、カップリング剤としては、シラン系、チ タン系、アルミニウム系などが挙げられる力 シラン系カップリング剤が最も好ましい。
[0054] シラン系カップリング剤としては、特に制限は無ぐ例えば、ビュルトリクロルシラン、 ビュルトリス(/3—メトキシエトキシ)シラン、ビュルトリエトキシシラン、ビュルトリメトキシ ルジメトキシシラン、 β一(3, 4—エポキシシクロへキシル)ェチルトリメトキシシラン、 シラン、 γ—グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、 Ν— β (アミノエチル) γ— ァミノプロピルトリメトキシシラン、 Ν— /3 (アミノエチル) γ—ァミノプロピルメチルジメト キシシラン、 γ—ァミノプロピルトリエトキシシラン、 Ν—フエニル一 γ—ァミノプロピル トリメトキシシラン、 γ —メルカプトプロピルトリメトキシシラン、 γ —メルカプトプロビルト リエトキシシラン、 3—ァミノプロピルメチルジェトキシシラン、 3—ウレイドプロピルトリエ ン、 3—ァミノプロピル一トリス(2—メトキシ一エトキシ一エトキシ)シラン、 Ν—メチル一 3—ァミノプロピルトリメトキシシラン、トリァミノプロピル一トリメトキシシラン、 3 -4, 5 - ジヒドロイミダゾール一 1—ィル一プロビルトリメトキシシラン、 3—メタクリロキシプロピ ル一トリメトキシシラン、 3 _メルカプトプロピル一メチルジメトキシシラン、 3 _クロロプ 口ピル一メチルジメトキシシラン、 3 _クロ口プロピル一ジメトキシシラン、 3 _シァノプロ ピル一トリエトキシシラン、へキサメチルジシラザン、 Ν, 0—ビス(トリメチルシリル)ァ セトアミド、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ェチルトリクロロシラン、 クチルトリエトキシシラン、フエニルトリメトキシシラン、フエニルトリエトキシシラン、メチ ルトリ(メタクリロイルォキエトキシ)シラン、メチルトリ(グリシジルォキシ)シラン、 N— β (Ν_ビュルべンジルアミノエチル)一 γ—ァミノプロビルトリメトキシシラン、ォクタデ シルジメチル〔3—(トリメトキシシリル)プロピル〕アンモニゥムクロライド、 γ—クロロプ
ネート、メチルシリルトリイソシァネート、ビュルシリルトリイソシァネート、フエニルシリル トリイソシァネート、テトライソシァネートシラン、エトキシシランイソシァネートなどを使 用することができ、これらの 1種又は 2種以上を併用することもできる。
チタン系カップリング剤としては、特に制限は無ぐ例えば、イソプロピルトリオクタノ ィルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ ドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタ ネート、イソプロピルトリ(ジォクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミノレフ ェニルチタネート、イソプロビルトリス(ジォクチルパイロホスフェート)チタネート、イソ プロピルトリス(η—アミノエチル)チタネート、テトライソプロピルビス(ジォクチルホスフ アイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシノレホスファイト)チタネート、テトラ(2, 2—ジァリルォキシメチルー 1ーブチル)ビス(ジトリデシル)ホスファイトチタネート、ジ タミルフエニルォキシアセテートチタネート、ビス(ジォクチルパイロホスフェート)ォキ シアセテートチタネート、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネー ト、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2—ェチルへキシル)チタネート、チタンァセチ ルァセトネート、ポリチタンァェチルァセトネート、チタンオタチレングリコレート、チタ ンラクテートアンモニゥム塩、チタンラタテート、チタンラタテートェチルエステル、チタ ンチリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート、テトラメチルオルソチタ ネート、テトラエチルオルソチタネート、テタラプロピルオルソチタネート、テトライソブ チルオルソチタネート、ステアリルチタネート、クレシルチタネートモノマー、クレシノレ チタネートポリマー、ジイソプロポキシ一ビス(2, 4_ペンタジォネート)チタニウム(IV )、ジイソプロピル一ビス一トリエタノールァミノチタネート、オタチレングリコールチタネ ート、テトラー n—ブトキシチタンポリマー、トリー n—ブトキシチタンモノステアレートポ リマー、トリ一 n—ブトキシチタンモノステアレートなどを使用することができ、これらの 1 種又は 2種以上を併用することもできる。
[0056] アルミニウム系カップリング剤としては、特に制限は無ぐ例えば、ェチルァセトァセ テートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(ェチルァセトアセテート)、ァ ノレキルァセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノァセチルァ セテートビス(ェチルァセトアセテート)、アルミニウムトリス(ァセチルァセトネート)、ァ ルミニゥムモノイソプロポキシモノォレオキシェチルァセトアセテート、アルミニウム一 ジ一 n—ブトキシド一モノ一ェチノレアセトアセテート、ァノレミニゥム一ジ一イソ一プロボ キシド—モノ—ェチルァセトアセテート等のアルミニウムキレート化合物、アルミニウム イソプロピレート、モノ一 sec—ブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウム一 sec—ブチレート、アルミニウムェチレート等のアルミニウムアルコレートなどを使用す ること力 Sでき、これらの 1種又は 2種以上を併用することもできる。
[0057] 上記の添加剤は耐熱性樹脂(B)と耐熱性樹脂フィラー (C)の全総量 100重量部に 対して、 50重量部以下の配合量にすることが好ましい。上記添加剤の添加量が 50 重量部より多いと、得られる塗膜が脆くなる可能性がある。
[0058] 本発明の耐熱性樹脂ペーストは、各種半導体装置、半導体パッケージ、サーマル ヘッド、イメージセンサー、マルチチップ高密度実装基板、ダイオード、コンデンサ、ト ランジスタ等の各種デバイス、フレキシブル配線板、リジット配線板等の各種配線板 などの保護膜、絶縁膜、接着剤、各種耐熱印字用インク等に使用でき、工業的に極 めて有用である。使用にあたり、基板などの塗布面にスクリーン印刷などの手段で耐 熱性樹脂ペーストを塗布したのち、有機溶媒が揮発する加熱条件、通常 50〜500 °Cで加熱することにより皮膜を形成させることができる。本発明の耐熱性樹脂ペースト で精密パターンを得る方法としては、特に制限はないが、例えば、スクリーン印刷法、 デイスペンス塗布法、ポッティング法、カーテンコート法、凸版印刷法、凹版印刷法、 平版印刷法等が挙げられる。
実施例
[0059] 以下、本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるも のではない。
[0060] [耐熱性樹脂溶液の合成]
(合成例 1)
温度計、撹拌機、窒素導入管、油水分離機付き冷却管を取り付けた 1リットルの 4つ 口フラスコに窒素気流下、 3, 4, 3' , 4' _ベンゾフヱノンテトラカルボン酸二無水物 9 6. 7g (0. 3モノレ)、 4, 4,一ジアミノジフエニノレエーテノレ 55. 4g (0. 285モノレ)、 1 , 3 —ビス(3—ァミノプロピル)テトラメチルジシロキサン 3. 73g (0. 015モノレ)及び 1 , 3 —ジメチノレ一 3, 4, 5, 6—テトラヒドロ一 2 (1H)—ピリミジノン 363gを仕込み、 70〜9 0°Cで約 6時間攪拌した後、冷却して反応を止め、数平均分子量 (GPC法で測定し、 標準ポリスチレンによる検量線を用いて算出) 25, 000の耐熱性樹脂溶液(PI—1) を得た。
[0061] [耐熱性樹脂フィラー分散液の合成]
(合成例 2)
温度計、撹拌機、窒素導入管、油水分離機付き冷却管を取り付けた 1リットルの 4つ 口フラスコに、 3, 4, 3,, 4'—ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物 96· 7g (0. 3 モル)、 2, 2—ビス〔4— (4—アミノフエノキシ)フエニル〕プロパン 61 · 5g (0. 15モル) 、4, 4'ージアミノジフエニノレエーテノレ 27. 0g (0. 135モノレ)、 1, 3—ビス(3—ァミノ プロピノレ)テトラメチノレジシロキサン 3. 73g (0, 015モノレ)、 1, 3—ジメチノレー 3, 4, 5 , 6—テトラヒドロー 2 (1H)—ピリミジノン 133. 25g及び γ —ブチロラタトン 308. 59g を仕込み、 70〜90°Cで 5時間攪拌したところ、溶液中に数平均分子量 24, 000のポ リイミド前駆体フイラ一が析出した。その後、冷却して反応を止め、耐熱性樹脂フイラ 一分散液 (PIF— 1)を得た。
[0062] (合成例 3)
温度計、撹拌機、窒素導入管、油水分離機付き冷却管を取り付けた 1リットルの 4つ 口フラスコに、 3, 4, 3' , 4'—ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物 80. 5g (0. 2 5モノレ)、 2, 2_ビス〔4_ (4—アミノフエノキシ)フエ二ノレ〕プロノヽ。ン 97. 38g (0. 2375 モル)、 1 , 3 _ビス(3—ァミノプロピル)テトラメチルジシロキサン 3. l lg (0. 0125モ ノレ)、 Ί—ブチ口ラタトン 295. 62g及び 1, 3—ジメチノレ _ 3, 4, 5, 6—テトラヒドロ一 2 (1H)—ピリミジノン 126· 69gを仕込み、 70〜90°Cで約 7時間攪拌したところ、溶 液中に数平均分子量 25, 000のポリイミド前駆体フィラーが析出した。その後、冷却 して反応を止め、耐熱樹脂フィラー分散液 (PIF— 2)を得た。
[0063] (合成例 4)
温度計、撹拌機、窒素導入管、油水分離機付き冷却管を取り付けた 1リットルの 4つ 口フラスコ ίこ、 3, 3,, 4, 4 '—ヒ、、フエニノレテトラ力ノレボン酸二無水物 102. 9g (0. 35 モル)、 4, 4 '—ジアミノジフエニルエーテル 70. 0g (0. 35モル)及び 1 , 3—ジメチル —3, 4, 5, 6—テトラヒドロ _ 2 (1H)—ピリミジノン 403. 4gを仕込み、 70〜90°Cで 8 時間反応した後、冷却して反応を止め、そのまま 5日間放置したところ、数平均分子 量 30, 000のポリイミド前駆体フィラーを含有する耐熱樹脂フィラー溶液 (PIF— 3)を 得た。
[0064] [耐熱性樹脂ペーストの合成]
(実施例 1)
温度計、撹拌機、窒素導入管、油水分離機付き冷却管を取り付けた 1リットルの 4つ 口フラスコに窒素気流下、合成例 1で得られた耐熱性樹脂溶液 (PI— l) 300g、合成 例 2で得られた耐熱性樹脂フィラー分散液 (PIF— 1) 400g及び二酸化チタン (DuP ont社製、商品名 Ti— Pure R— 350、平均粒径: 0. 3 x m) 7gを仕込み、 50〜70 °Cで 2時間攪拌し、耐熱性樹脂ペースト (PIP— 1)を得た。
[0065] 実施例 1で得られた耐熱性樹脂ペースト(PIP— 1)について、以下の評価を行った
[0066] (粘度及びチキソトロピー係数)
耐熱性樹脂ペースト (PIP— 1)の粘度、チキソトロピー係数は、 E型粘度計 (東機産 業株式会社製、 RE— 80U型)を用いて試料量 0. 2g、測定温度 25°Cで測定した。 粘度は回転数 0. 5rpmで測定し、チキソトロピー係数は回転数 lrpmと lOrpmのぺ 一ストの見かけ粘度、 η と η の比、 η Ζ η で評価した。なお、チキソトロピー係
1 10 1 10
数の測定 fお IS _ C _ 2103 _ 8に基いて行なつた。
[0067] (印刷性)
耐熱性樹脂ペースト(PIP— 1)をシリコンウェハ上にスクリーン印刷機(ニューロング 精密工業株式会社製、ァライメント装置付き LS— 34GX)、ニッケル合金アディティブ メツキ製メッシュレスメタル版 (メッシュ工業株式会社製、厚み 50 / m、パタ一ン寸法 8 mm X 8mm)及びパーマレックスメタルスキージ(巴工業社輸入)を用いて、 100°Cで 10分間加熱して乾燥し、得られた樹脂膜から印刷性を評価した。樹脂膜の印刷性の 評価は、光学顕微鏡でにじみ及びだれの有無を観察して行った。
[0068] (視認性)
印刷後のパターン付シリコンウェハを、 Hirox社製 3— Dデジタルマイクロスコープ システムを使用して、サイド照明を当て、パターンがはっきり視認できたものを〇、視 認し難かったものを Xとした。
[0069] (塗膜特性)
耐熱性樹脂ペースト(PIP— 1)をテフロン (登録商標)基板上に塗布し、 350°Cで 3 0分間加熱して、有機溶媒を乾燥させて、膜厚 25 z mの塗膜を形成した。これを動 的粘弾性スぺクトロメーター((株)岩本製作所製)により、引張り弾性率 (25°C、 10H z)及びガラス転移温度(周波数 10Hz、昇温速度 2°C/min)を測定した。
[0070] また、オートグラフ((株)島津製作所製商品名: AGS— 1000G)により、引張強度 及び破断伸びを測定した。
[0071] また、熱天秤(セイコーインスツルメント株式会社製、 TG/DTA220型)を使用し、 サンプノレ量 10mg、昇温速度 10°C/分(30〜600°C)、リファレンスとしてアルミナを 用レ、、空気雰囲気下で熱分解開始温度(5%重量減少温度)を測定した。
[0072] 以上の結果をまとめて表 1に示す。
[0073] (実施例 2)
温度計、撹拌機、窒素導入管、油水分離機付き冷却管を取り付けた 1リットルの 4つ 口フラスコに窒素気流下、合成例 1で得られた耐熱性樹脂溶液 (PI— l) 300g、合成 例 2で得られた耐熱性樹脂フィラー分散液 (PIF_ 1) 400g及び二酸化チタン (DuP ont社製、商品名 Ti— Pure R— 900、平均粒径: 0. 4 x m) 7gを仕込み、 50〜70 °Cで 2時間攪拌し、耐熱性樹脂ペースト (PIP— 2)を得た。
[0074] 得られた耐熱性樹脂ペースト(PIP _ 2)について実施例 1と全く同様の方法で評価 した。結果をまとめて表 1に示す。 [0075] (実施例 3)
温度計、撹拌機、窒素導入管、油水分離機付き冷却管を取り付けた 1リットルの 4つ 口フラスコに窒素気流下、合成例 1で得られた耐熱性樹脂溶液 (PI— l) 300g、合成 例 3で得られた耐熱性樹脂フィラー分散液 (PIF— 2) 400g及び二酸化チタン (DuP ont社製、商品名 Ti— Pure R— 350、平均粒径: 0. 3 x m) 7gを仕込み、 50〜70 °Cで 2時間攪拌し、耐熱性樹脂ペースト (PIP— 3)を得た。
[0076] 得られた耐熱性樹脂ペースト(PIP _ 3)について実施例 1と全く同様の方法で評価 した。結果をまとめて表 1に示す。
[0077] (実施例 4)
温度計、撹拌機、窒素導入管、油水分離機付き冷却管を取り付けた 1リットルの 4つ 口フラスコに窒素気流下、合成例 1で得られた耐熱性樹脂溶液 (PI— l) 300g、合成 例 2で得られた耐熱性樹脂フィラー分散液 (PIF— 1) 400g及び二酸化チタン (DuP ont社製、商品名 Ti— Pure R— 931、平均粒径: 0. 6 x m) 7gを仕込み、 50〜70 °Cで 2時間攪拌し、耐熱性樹脂ペースト (PIP— 4)を得た。
[0078] 得られた耐熱性樹脂ペースト(PIP— 4)につレ、て実施例 1と全く同様の方法で評価 した。結果をまとめて表 1に示す。
[0079] (実施例 5)
温度計、撹拌機、窒素導入管、油水分離機付き冷却管を取り付けた 1リットルの 4つ 口フラスコに窒素気流下、合成例 1で得られた耐熱性樹脂溶液 (PI— l) 300g、合成 例 2で得られた耐熱性樹脂フィラー溶液 (PIF— 1) 400g及び窒化ホウ素(水島合金 鉄(株)製、商品名 CERAM BLANCHE,平均粒径: 6 /i m) 7gを仕込み、 50〜7 0°Cで 2時間攪拌し、耐熱性樹脂ペースト (PIP— 5)を得た。
[0080] 得られた耐熱性樹脂ペースト(PIP _ 5)について実施例 1と全く同様の方法で評価 した。結果をまとめて表 1に示す。
[0081] (実施例 6)
温度計、撹拌機、窒素導入管、油水分離機付き冷却管を取り付けた 1リットルの 4つ 口フラスコに窒素気流下、合成例 1で得られた耐熱性樹脂溶液 (PI— l) 300g、合成 例 2で得られた耐熱性樹脂フィラー溶液(PIF— 1) 400g及び二酸化チタン(DuPon t社製、商品名 Ti— Pure R— 350、平均粒径: 0. 3 /i m) 280gを仕込み、 50〜70
°Cで 2時間攪拌し、耐熱性樹脂ペースト (PIP— 6)を得た。
[0082] 得られた耐熱性樹脂ペースト(PIP— 6)について実施例 1と全く同様の方法で評価 した。結果をまとめて表 1に示す。
[0083] (比較例 1)
温度計、撹拌機、窒素導入管、油水分離機付き冷却管を取り付けた 1リットルの 4つ 口フラスコに窒素気流下、合成例 1で得られた耐熱性樹脂溶液 (PI— l) 300gと合成 例 2で得られた耐熱性樹脂フィラー分散液 (PIF_ 1) 400gを仕込み、 50〜70°Cで 2 時間攪拌し、耐熱性樹脂ペースト (PIP- 7)を得た。
[0084] 得られた耐熱性樹脂ペースト(PIP _ 7)について実施例 1と全く同様の方法で評価 した。結果をまとめて表 1に示す。
[0085] (比較例 2)
温度計、撹拌機、窒素導入管、油水分離機付き冷却管を取り付けた 1リットルの 4つ 口フラスコに窒素気流下、合成例 1で得られた耐熱性樹脂溶液 (PI— l) 300g、合成 例 4で得られた耐熱性樹脂フィラー分散液 (PIF— 3) 400g及び二酸化チタン (DuP ont社製、商品名 Ti— Pure R— 350、平均粒径: 0. 3 x m) 7gを仕込み、 50〜70
°Cで 2時間攪拌し、耐熱性樹脂ペースト (PIP— 8)を得た。
[0086] 得られた耐熱性樹脂ペースト(PIP— 8)について実施例 1と全く同様の方法で評価 した。結果をまとめて表 1に示す。
[表 1]
Figure imgf000024_0001
表 1より本発明の耐熱性樹脂ペースト (実施例 1〜6)は、耐熱性、作業性及び視認 性に優れる。さらにスクリーン印刷ゃデイスペンス塗布等で精密パターンを形成する ことが可能で、本発明の耐熱性樹脂ペーストを用いた半導体装置は良好な特性を与 えるものである。 これに対し、顔料を含まない比較例 1の耐熱性樹脂ペーストは視認性に劣り、有機 溶媒としてラ外ンを含まない比較例 2の耐熱性樹脂ペーストは粘度及びチキソトロピ 一係数が低くなり、印刷性に劣ることがわかる。

Claims

請求の範囲
[1] 第一の有機溶媒 (Al)、
ラ外ン類を含有してなる第二の有機溶媒 (A2)、
第一の有機溶媒 (A1)、あるいは第一の有機溶媒 (A1)と第二の有機溶媒 (A2)の 混合溶媒に可溶性の耐熱性樹脂 (B)、
第一の有機溶媒 (A1)と第二の有機溶媒 (A2)の混合溶媒に不溶性の耐熱性樹 脂フイラ一 (C)
及び顔料 (D)を含み、
第一の有機溶媒 (A1)、第二の有機溶媒 (A2)及び耐熱性樹脂 (B)を含む溶液中 に、耐熱性樹脂フィラー (C)及び顔料 (D)が分散してなる耐熱性樹脂ペースト。
[2] 前記第一の有機溶媒 (A1)が、含窒素化合物を含有するものである請求項 1記載 の耐熱性樹脂ペースト。
[3] 前記含窒素化合物が極性を有する含窒素環式化合物である請求項 2記載の耐熱 性樹脂ペースト。
[4] 前記ラタトン類が、 γ —プチ口ラタトンである請求項 1〜3のいずれか一項に記載の 耐熱性樹脂ペースト。
[5] 前記可溶性の耐熱性樹脂 (Β)及び耐熱性樹脂フィラー (C)が、ポリイミド樹脂また はその前駆体である請求項 1〜4のいずれか一項に記載の耐熱性樹脂ペースト。
[6] 前記耐熱性樹脂フィラー (C)のポリイミド樹脂またはその前駆体が、下記一般式 (I) で表される芳香族ジァミンを含有するジァミン類と、下記一般式 (II)で表される芳香 族テトラカルボン酸二無水物あるいはその誘導体を含有するテトラカルボン酸類を、 第一の有機溶媒 (A1)及びラ外ン類を含有してなる第二の有機溶媒 (Α2)との混合 溶媒の存在下に反応させて得られるものである請求項 5記載の耐熱性樹脂ペースト
[化 1]
Figure imgf000027_0001
(式 (I)中、
Figure imgf000027_0002
R2 R3、及び R4は、それぞれ独立に水素原子、炭素数 1 9のアルキ ル基、炭素数 1 9のアルコキシ基又はハロゲン原子のいずれかであり、 Xは、化学 結合、 O S― -SO 2― C( =〇)一 S( = 0)—、あるいは下記式(la
)で表される基のレ、ずれかである)
[化 2]
Figure imgf000027_0003
(式 (la)中、 IT及び R°はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、トリフルォロメチル 基、トリクロロメチル基、ハロゲン原子又はフエニル基のいずれかである)
[化 3]
Figure imgf000027_0004
(式(II)中、 Yは、 _〇_、 _s― -so 2― _c( = o)_ _s( = o)_のいずれ かである)
前記顔料 (D)が白色粉末系である請求項:!〜 6のレ、ずれか一項に記載の耐熱性 樹脂ペースト。 前記顔料(D)の平均粒径が 10 μ m未満である請求項 1〜7のいずれか一項に記 載の耐熱性樹脂ペースト。
チキソトロピー係数が 1. 2以上である請求項 1〜8のいずれか一項に記載の耐熱性 樹脂ペースト。
PCT/JP2007/061192 2006-07-31 2007-06-01 Pâte de résine résistante à la chaleur WO2008015839A1 (fr)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP07744580.7A EP2055747B1 (en) 2006-07-31 2007-06-01 Heat-resistant resin paste
JP2008527679A JP5343562B2 (ja) 2006-07-31 2007-06-01 耐熱性樹脂ペースト
US12/375,719 US8759440B2 (en) 2006-07-31 2007-06-01 Heat-resistant resin paste

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006207931 2006-07-31
JP2006-207931 2006-07-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2008015839A1 true WO2008015839A1 (fr) 2008-02-07

Family

ID=38997023

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2007/061192 WO2008015839A1 (fr) 2006-07-31 2007-06-01 Pâte de résine résistante à la chaleur

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8759440B2 (ja)
EP (1) EP2055747B1 (ja)
JP (1) JP5343562B2 (ja)
MY (1) MY150732A (ja)
TW (1) TWI435892B (ja)
WO (1) WO2008015839A1 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008280509A (ja) * 2007-04-13 2008-11-20 Hitachi Chem Co Ltd 耐熱性樹脂ペースト
JP2011178855A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Pi R & D Co Ltd 半導体装置用ポリイミド樹脂組成物並びにそれを用いた半導体装置中の膜形成方法及び半導体装置
JP2011251450A (ja) * 2010-06-01 2011-12-15 Somar Corp 積層体
JP2012069594A (ja) * 2010-09-21 2012-04-05 Pi R & D Co Ltd 太陽電池内の絶縁膜形成用ポリイミド樹脂組成物及びそれを用いた太陽電池内の絶縁膜形成方法
WO2012133415A1 (ja) * 2011-03-30 2012-10-04 日立化成工業株式会社 樹脂ペースト、太陽電池及びその製造方法、樹脂膜並びに半導体装置
JP2014101521A (ja) * 2014-01-16 2014-06-05 Daikin Ind Ltd フルオロポリマー非水系分散液
JPWO2015045056A1 (ja) * 2013-09-26 2017-03-02 株式会社イオックス 無電解めっき用塗料組成物

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6436649A (en) * 1987-07-30 1989-02-07 Hitachi Chemical Co Ltd Polyamidimide resin paste
JPH02289646A (ja) * 1988-12-29 1990-11-29 Hitachi Chem Co Ltd 耐熱樹脂ペーストおよびこれを用いたic
JPH0485379A (ja) * 1990-07-26 1992-03-18 Hitachi Chem Co Ltd 耐熱性樹脂ペーストおよびこれを用いたic
JPH04285662A (ja) * 1991-03-14 1992-10-09 Hitachi Chem Co Ltd 耐熱樹脂ペーストおよびこれを用いたic
WO2001066645A1 (en) * 2000-03-06 2001-09-13 Hitachi Chemical Co., Ltd. Resin composition, heat-resistant resin paste and semiconductor device using them and method for manufacture thereof

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3356515A (en) * 1965-12-27 1967-12-05 Exxon Research Engineering Co High temperature protective coating
US5037862A (en) 1987-06-11 1991-08-06 Hitachi Chemical Company, Ltd. Polyamide-imide resin pastes
US5164816A (en) 1988-12-29 1992-11-17 Hitachi Chemical Co., Ltd. Integrated circuit device produced with a resin layer produced from a heat-resistant resin paste
US5087658A (en) 1988-12-29 1992-02-11 Hitachi Chemical Company, Ltd. Heat-resistant resin paste and integrated circuit device produced by using the heat-resistant resin paste
JPH0387290A (ja) 1989-08-31 1991-04-12 Toshiba Corp 情報記録媒体
JP2842544B2 (ja) * 1991-07-05 1999-01-06 宇部興産株式会社 白色塗料組成物及び白色塗装フィルム
JPH0881628A (ja) 1994-09-14 1996-03-26 Toshiba Chem Corp 耐熱性導電ペースト
JPH10330724A (ja) 1997-05-30 1998-12-15 Hitachi Chem Co Ltd 耐熱接着剤、耐熱接着剤層付き半導体チップ、耐熱接着剤層付きリードフレーム、耐熱接着剤層付きフィルム及び半導体装置
JP2000119518A (ja) 1998-10-15 2000-04-25 Hitachi Ltd 硬化性樹脂組成物及び耐熱性樹脂組成物並びに導電性ペースト
JP2000119442A (ja) 1998-10-15 2000-04-25 Hitachi Ltd 耐熱性樹脂組成物及び導電性ペースト
JP5066779B2 (ja) 2001-09-28 2012-11-07 日立化成工業株式会社 導電性ペースト及び回路接続方法
JP2003197031A (ja) 2001-12-26 2003-07-11 Dainippon Printing Co Ltd 脂肪族ポリエステルを用いた導電ペースト、電極の形成方法及び電極
JP2005162905A (ja) 2003-12-03 2005-06-23 Hitachi Chem Co Ltd 顔料分散樹脂溶液の組成物及び樹脂ペースト
JP2006035495A (ja) * 2004-07-23 2006-02-09 Toppan Printing Co Ltd 積層体の製造方法
JP4710831B2 (ja) * 2004-09-28 2011-06-29 日立化成工業株式会社 耐熱性樹脂ペースト及びその製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6436649A (en) * 1987-07-30 1989-02-07 Hitachi Chemical Co Ltd Polyamidimide resin paste
JPH02289646A (ja) * 1988-12-29 1990-11-29 Hitachi Chem Co Ltd 耐熱樹脂ペーストおよびこれを用いたic
JP2697215B2 (ja) 1988-12-29 1998-01-14 日立化成工業株式会社 耐熱樹脂ペーストおよびこれを用いたic
JPH0485379A (ja) * 1990-07-26 1992-03-18 Hitachi Chem Co Ltd 耐熱性樹脂ペーストおよびこれを用いたic
JP3087290B2 (ja) 1990-07-26 2000-09-11 日立化成工業株式会社 耐熱性樹脂ペーストおよびこれを用いたic
JPH04285662A (ja) * 1991-03-14 1992-10-09 Hitachi Chem Co Ltd 耐熱樹脂ペーストおよびこれを用いたic
WO2001066645A1 (en) * 2000-03-06 2001-09-13 Hitachi Chemical Co., Ltd. Resin composition, heat-resistant resin paste and semiconductor device using them and method for manufacture thereof

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2055747A4 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008280509A (ja) * 2007-04-13 2008-11-20 Hitachi Chem Co Ltd 耐熱性樹脂ペースト
JP2011178855A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Pi R & D Co Ltd 半導体装置用ポリイミド樹脂組成物並びにそれを用いた半導体装置中の膜形成方法及び半導体装置
KR101825975B1 (ko) 2010-02-26 2018-02-06 가부시키가이샤 피아이 기쥬츠 켄큐쇼 반도체 장치용 폴리이미드 수지 조성물 및 그것을 사용한 반도체 장치 중의 막 형성방법 및 반도체 장치
JP2011251450A (ja) * 2010-06-01 2011-12-15 Somar Corp 積層体
JP2012069594A (ja) * 2010-09-21 2012-04-05 Pi R & D Co Ltd 太陽電池内の絶縁膜形成用ポリイミド樹脂組成物及びそれを用いた太陽電池内の絶縁膜形成方法
WO2012133415A1 (ja) * 2011-03-30 2012-10-04 日立化成工業株式会社 樹脂ペースト、太陽電池及びその製造方法、樹脂膜並びに半導体装置
JPWO2015045056A1 (ja) * 2013-09-26 2017-03-02 株式会社イオックス 無電解めっき用塗料組成物
JP2014101521A (ja) * 2014-01-16 2014-06-05 Daikin Ind Ltd フルオロポリマー非水系分散液

Also Published As

Publication number Publication date
TWI435892B (zh) 2014-05-01
TW200806713A (en) 2008-02-01
JPWO2008015839A1 (ja) 2009-12-17
EP2055747B1 (en) 2014-01-15
JP5343562B2 (ja) 2013-11-13
EP2055747A4 (en) 2011-10-05
MY150732A (en) 2014-02-28
US20090264582A1 (en) 2009-10-22
US8759440B2 (en) 2014-06-24
EP2055747A1 (en) 2009-05-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3534151B2 (ja) ポリイミド前駆体組成物及びポリイミド膜
CN110249004B (zh) 聚酰亚胺前体组合物
WO2008015839A1 (fr) Pâte de résine résistante à la chaleur
JP2007246897A (ja) 耐熱性樹脂ペースト、耐熱性樹脂ペーストの製造方法、及び耐熱性樹脂ペーストから得られる絶縁膜又は保護膜を有する半導体装置
WO2019123562A1 (ja) ポリアミドイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂組成物、並びにそれらを用いた半導体装置
JP7402398B2 (ja) ポリイミド前駆体組成物
JP4022851B2 (ja) 金属付きポリイミドフィルムの製造方法および当該製造方法により得られる金属付きポリイミドフィルム
JP4845214B2 (ja) 導電回路形成用基板、その製造方法、導電回路基板およびその製造方法
JP2987950B2 (ja) ポリイミド系樹脂ペーストおよびこれを用いたic
WO2013108784A1 (ja) 樹脂ペースト及び太陽電池の製造方法
KR100936857B1 (ko) 내열성 수지 페이스트 및 그 제조방법
WO2012133415A1 (ja) 樹脂ペースト、太陽電池及びその製造方法、樹脂膜並びに半導体装置
JP2008138159A (ja) 樹脂組成物及びこれを用いた半導体装置
JP4710831B2 (ja) 耐熱性樹脂ペースト及びその製造方法
JP4725124B2 (ja) 樹脂組成物及びこれを用いた半導体装置
JP2009224460A (ja) スクリーン印刷用樹脂組成物
JP2007211204A (ja) 耐熱性樹脂ワニス、耐熱性樹脂ワニスを添加した耐熱性コーティング剤及び耐熱性コーティング剤を用いた絶縁膜又は半導体装置
JP3954330B2 (ja) 液状樹脂組成物及びこれを硬化してなる半導体装置保護用材料
JPH11343414A (ja) 熱硬化性樹脂組成物およびその硬化物
JP2008280509A (ja) 耐熱性樹脂ペースト
JP3008574B2 (ja) ペースト組成物及びこれを用いた半導体装置
JP3461031B2 (ja) ペースト組成物およびこれを用いた半導体装置
JP2005239862A (ja) 樹脂組成物の製造方法及びこれを用いた半導体装置
JPH05194746A (ja) 硬化性樹脂、その溶液及びその製造法並びに電子部品用保護膜
JP4018590B2 (ja) 反応性シリル基含有ビスイミド化合物を含む硬化性樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 07744580

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2008527679

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 12009500125

Country of ref document: PH

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2007744580

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 12375719

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: RU