WO2007123148A1

WO2007123148A1 - 欠陥修復装置、欠陥修復方法、プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体

Info

Publication number: WO2007123148A1
Application number: PCT/JP2007/058412
Authority: WO
Inventors: Yoshinori Nakajima; Hirotsugu Matoba; Toshihiro Tamura
Original assignee: Sharp Kabushiki Kaisha
Priority date: 2006-04-21
Filing date: 2007-04-18
Publication date: 2007-11-01
Also published as: US20090304916A1; JP2007289820A; JP4057037B2; EP2014375A4; US8196543B2; CN101484248A; EP2014375A1; KR20080113116A; CN101484248B

Abstract

　欠陥を効率よく修復することができる欠陥修復装置（１）は、搬送された基板を固定する基板載置台（３）と、基板載置台（３）によって固定された基板に垂直な方向から見て、基板の搬送方向と異なる方向に沿って配置されて、基板上に点在する欠陥に液滴を吐出する複数個の液滴吐出ユニット（１１）と、複数個の液滴吐出ユニット（１１）を搭載したヘッドガントリーユニット（７）と、ヘッドガントリーユニット（７）を基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させるガントリースライド機構（４）とを備え、各液滴吐出ユニット（１１）は、基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、ヘッドガントリーユニット（７）が基板の搬送方向に沿って移動している間、搬送方向と異なる方向に沿って互いに独立して移動する。

Description

明細書

欠陥修復装置、欠陥修復方法、プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体

技術分野

[0001] 本発明は、基板上に点在する欠陥の位置データに基づいて、欠陥を修復する欠陥修復装置、欠陥修復方法、プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体に関するものである。

背景技術

[0002] 近年、インクジェット技術は紙媒体上に画像を形成するプリンター装置としてだけでなぐ製造装置としての用途が期待されている。例えば、特許文献 1では、液晶ディスプレイ、有機 ELディスプレイ、プラズマディスプレイ、電子放出素子、電気泳動表示装置などの製造装置として、インクジェット方式による液滴吐出素子を搭載した製造装置の構成が示されている。この特許文献 1では、基板上への着弾位置精度を向上させるために、装置基体を石定盤として、基板を同一方向に搬送するステージと、ステージ進行方向と直交する方向にインクジェットヘッドを移動させるキャリッジ機構とを、それぞれ石定盤上に直結して設けている。

[0003] インクジェット方式による汎用プリンターには、通常は液滴を吐出させる素子として 1 50〜300ノズル Zインチの間隔でノズル孔が規則配列した幅 1Z2〜2インチのインクジェットヘッド素子を各色毎に数個ずつ搭載した 1個のインクジェットヘッドユニットを用いて画像を形成する。画像形成方法としては、記録紙を紙送りローラーで送りつつ、記録紙の搬送方向に対して直交する方向にインクジェットヘッドユニットを複数回走査することで、記録紙に画像を形成していた。

[0004] このインクジェット方式を製造装置として用いる場合でも、インクジェットヘッド素子は汎用プリンター用と同等であり、ノズル列方向のサイズは高々 1〜2インチ程度しかないのが現状である。

[0005] 一方、液晶ディスプレイ、有機 ELディスプレイ、プラズマディスプレイ、電子放出素子、電気泳動表示装置の製造プロセスは、大面積基板を使用して採れ数を増やすことによって低コスト及びタクトの短縮を図る傾向にあり、インクジェット方式によりこれらを製造するためには、一辺数 mにも及ぶ大面積基板に対応できる製造装置が必要とされてさた。

[0006] 大面積基板に対して高速で処理できるインクジェット方式を用いた製造装置としては、複数のインクジェットヘッド素子を並べて基板サイズ以上の長さにしたラインへッド方式がある。この方式は、高々 1〜2インチの幅のインクジェット素子を、基板サイズに至る長さまで千鳥配列させるものであり、基板サイズが数 mとすると少なくとも 100 〜200個のヘッドを配列させる必要がある。このラインヘッド方式による製造装置は、例えばカラーフィルター基板のような、基板全面に吐出を必要とし、さらに吐出箇所が規則的である基板には、非常に効果的であるといえる。

[0007] また、カラーフィルター基板の製造方法の一部として、カラーフィルター基板に着色不良部分があった場合に、不良箇所のみにカラーフィルター材料を吐出させる構成が知られている（特許文献 2)。

[0008] また、ライン型固定インクジェットヘッドと、リペア用ヘッドとを設け、ライン型固定インクジェットヘッドカも不吐出ノズルを検出し、リペア用ヘッドを不吐出ノズルに対応する位置まで移動させて、不吐出ノズルの替わりにリペア用ヘッドにより液滴を吐出する構成が開示されて!ヽる (特許文献 3)。

[0009] また、第 1吐出部及び第 2吐出部と、第 1吐出部が描画したパターンの欠陥を検出する描画検査部とを設け、描画検査部力ゝらの情報に基づいて、第 2吐出部を欠陥に対応する位置に相対移動させて液滴を吐出する構成が開示されて!ヽる (特許文献 4

) o

特許文献 1 :特開 2003— 191462号公報（平成 15年 7月 8日（2003. 7. 8)公開）特許文献 2 :特開 2003— 66218号公報（平成 15年 3月 5日（2003. 3. 5)公開）特許文献 3 :特開 2005— 185978号公報（平成 17年 7月 14日（2005. 7. 14)公開 )

特許文献 4:特開 2004— 337707号公報（平成 16年 12月 2日（2004. 12. 2)公開 )

発明の開示 [0010] し力しながら、特許文献 1に記載のラインヘッド方式により、特許文献 2に示されているカラーフィルター基板の修復を実施しょうとすると、以下のような問題を生じる。

[0011] カラーフィルター基板に点在する欠陥 (不良箇所)を修正する手段としてラインへッド方式を用いると、基板全面に液滴を吐出させるのと同一の処理時間を要する上に、殆どが吐出されない非動作ノズルとなり、ノズル詰まりを発生しやすい。さらに全てのノズルに対してメンテナンス動作を行うことが必要で、不要な廃液が増加する。また、吐出量を均一化させたい場合において、ラインヘッド方式では、点在する所望箇所に対して液滴を吐出させるだけであるにもかかわらず、合計数千個にも及ぶノズルに対して逐一吐出量補正を行うことが必要となり極めて非効率的である。

[0012] また、汎用プリンターで多用されてきたインクジェットヘッドユニットを複数個同一ガントリー上に並べて往復させる方式では、インクジェットヘッドユニットの走査距離は増加する上に、安定動作の面で走査速度にも限界があり、処理時間が短縮できない

[0013] また、大面積基板上の全面に限らず、所望の箇所に液滴を効率よく吐出させたいという要望は、カラーフィルターの修復に限らず様々な製造分野で今後求められるものである。

[0014] 特許文献 3に記載のライン型固定インクジェットヘッドとリペア用ヘッドとの組み合わせの構成、または特許文献 4に記載の第 1吐出部及び第 2吐出部の組み合わせの構成で、液滴を基板に吐出すると、修復専門の装置を別途設けて修復する構成に比較して、タクトタイムが長くなるという問題がある。

[0015] 本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板に点在する欠陥を効率よく修復することができる欠陥修復装置、欠陥修復方法、プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体を実現することにある。

[0016] 本発明に係る欠陥修復装置は、上記課題を解決するために、搬送された基板を固定する固定手段と、前記固定手段によって固定された基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿って配置されて前記基板上に点在する欠陥に液滴を吐出する複数個の液滴吐出ユニットと、前記複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーと、前記ガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させる移動手段とを備え、各液滴吐出ユニットは、前記基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、前記ガントリーが前記基板の搬送方向に沿って相対移動して、る間、前記搬送方向と異なる方向に沿って互いに独立して移動することを特徴とする。

[0017] この特徴によれば、各液滴吐出ユニットは、基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、ガントリーが基板の搬送方向に沿って相対移動している間、搬送方向に垂直な方向に沿って互いに独立して移動する。このため、表面に欠陥が点在する基板を搬入し、ガントリーを基板の搬送方向に沿って相対移動させながら、前記搬送方向に垂直な方向に沿って各液滴吐出ユニットを互いに独立して移動させることにより、基板上に点在する欠陥を効率よく修復することができる。また、表面に欠陥が点在する大型基板に対応してガントリーが大型化し、重量が増大しても、ガントリーを等速移動させるので、液滴吐出ユニットから吐出した液滴の基板への着弾精度が悪ィ匕することがない。

[0018] 本発明に係る欠陥修復装置では、前記移動手段は、前記基板の一端から他端まで前記ガントリーを往復移動させることが好ましい。

[0019] 上記構成によれば、ガントリーが基板に対して移動するので、ガントリーに対して大型基板が移動する構成よりも、省スペースを実現することができる。

[0020] 本発明に係る欠陥修復装置では、前記ガントリーは、前記基板の搬送方向に沿つて所定の間隔を空けて複数列設けられていることが好ましい。

[0021] 上記構成によれば、複数個の欠陥を修復するためのガントリー 1列あたりの総移動量を低減することができるので、基板の処理時間（タクトタイム）を短縮することができる。

[0022] 本発明に係る欠陥修復装置では、前記ガントリーには、各液滴吐出ユニットを前記搬送方向と異なる方向に沿ってスライドさせる複数個のスライド機構が設けられていることが好ましぐ特に装置の省スペース化の点で前記搬送方向に垂直な方向に配列させて!/、ることが望まし!/、。

[0023] 上記構成によれば、簡単な構成によって、液滴吐出ユニットを前記搬送方向と異なる方向に沿って互、に独立して移動させることができる。 [0024] 本発明に係る欠陥修復装置では、前記搬送方向から見て、各スライド機構によってスライドする液滴吐出ユニットのスライド範囲の端部力互いに重なり合つていることが好ましい。

[0025] 上記構成によれば、基板の全域にわたって欠陥の修復が可能になる。

[0026] 本発明に係る欠陥修復装置では、前記基板に垂直な方向から見て、前記複数個のスライド機構は、千鳥状に配置されてヽることが好ま、。

[0027] 上記構成によれば、液滴吐出ユニットを効率的にガントリーに配置することができ、ガントリーを小型化することができるので、移動速度を高速ィ匕でき、基板の処理時間（タクトタイム）を短縮することができる。

[0028] 本発明に係る欠陥修復装置では、前記基板の修復領域を、各液滴吐出ユニット毎に割り当てることが好ましい。

[0029] 上記構成によれば、各液滴吐出ユニットの移動量を抑えることができ、装置コストを下げることができる。また、修復動作を効率的に行うことができる。

[0030] 本発明に係る欠陥修復装置では、各液滴吐出ユニットは、前記搬送方向と異なる方向に沿って移動した後停止した状態で前記欠陥に前記液滴を吐出することが好ましい。

[0031] 上記構成によれば、欠陥に対する液滴の着弾精度を高めることができる。

[0032] 本発明に係る欠陥修復装置では、各液滴吐出ユニットは、その液滴吐出位置と、前記基板上の欠陥の位置とがー致するように前記搬送方向と異なる方向に沿って移動することが好ましい。

[0033] 上記構成によれば、基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、各液滴吐出ユニットにより欠陥に液滴を吐出し、その欠陥を修復することができる。

[0034] 本発明に係る欠陥修復装置では、前記複数個の液滴吐出ユニットを搭載したガントリーの重量は、 0. 5トン以上 4トン以下であることが好ましい。

[0035] 上記構成によれば、液晶表示装置用画面の大型化に対応してガントリーが大型化し、 0. 5トン以上 4トン以下に重量が増大しても、ガントリーを等速移動させるので、液滴吐出ユニットから吐出した液滴の基板への着弾精度が悪ィ匕することがない。

[0036] 本発明に係る欠陥修復方法は、上記課題を解決するために、搬送された基板を固定し、前記固定した基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿って配置された複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対移動させ、前記ガントリーが前記基板の搬送方向に沿って移動している間に、前記基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、前記搬送方向と異なる方向に沿って各液滴吐出ユニットを互いに独立して移動させて、前記基板上に点在する欠陥に液滴を吐出することを特徴とする。

[0037] この特徴によれば、各液滴吐出ユニットは、基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、ガントリーが基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動している間に、搬送方向と異なる方向に沿って互いに独立して移動する。このため、表面に欠陥が点在する基板を搬入し、ガントリーを基板の搬送方向に沿って移動させながら、前記搬送方向と異なる方向に沿って各液滴吐出ユニットを互いに独立して移動させることにより、基板上に点在する欠陥を効率よく修復することができる。また、表面に欠陥が点在する大型基板に対応してガントリーが大型化し、重量が増大しても、ガントリーを等速移動させるので、液滴吐出ユニットから吐出した液滴の基板への着弾精度が悪化することがなヽ。

[0038] 本発明に係るプログラムは、上記課題を解決するために、コンピュータに、搬送された基板を固定する手順と、前記固定した基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿って配置された複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させる手順と、前記ガントリーが前記基板の搬送方向に沿って移動している間に、前記基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、前記搬送方向と異なる方向に沿って各液滴吐出ユニットを互いに独立して移動させて、前記基板上に点在する欠陥に液滴を吐出する手順とを実行させることを特徴とする。

[0039] 本発明に係るコンピュータ読み取り可能な記録媒体は、上記課題を解決するために、コンピュータに、搬送された基板を固定する手順と、前記固定した基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿って配置された複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させる手順と、前記ガントリーが前記基板の搬送方向に沿って移動している間に、前記基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、前記搬送方向と異なる方向に沿って各液滴吐出ユニットを互いに独立して移動させて、前記基板上に点在する欠陥に液滴を吐出する手順とを実行させるプログラムを記録したことを特徴とする。

[0040] 本発明に係る欠陥修復装置は、以上のように、前記ガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させる移動手段を備え、各液滴吐出ユニットは、前記基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、前記ガントリーが前記基板の搬送方向に沿って移動して、る間に、前記搬送方向と異なる方向に沿って互いに独立して移動するので、基板上に点在する欠陥を効率よく修復することができるという効果を奏する。

[0041] 本発明に係る欠陥修復方法は、以上のように、前記ガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させ、各液滴吐出ユニットを、前記基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、前記ガントリーが前記基板の搬送方向に沿って移動して!/、る間に、前記搬送方向と異なる方向に沿って互いに独立して移動させるので、基板上に点在する欠陥を効率よく修復することができるという効果を奏する。

図面の簡単な説明

[0042] [図 1]実施の形態 1に係る欠陥修復装置の外観を示す斜視図である。

[図 2]上記欠陥修復装置の模式的断面図である。

[図 3]上記欠陥修復装置に設けられたヘッドガントリーユニット及び基板載置台の動作を説明するための模式的断面図である。

[図 4] (a)は、上記欠陥修復装置に設けられたヘッドガントリーユニットの構成を説明するための要部平面図であり、（b)は、要部正面図である。

[図 5]上記ヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの構成を説明するための要部側面図である。

[図 6]上記ヘッドガントリーユニットに設けられた吐出ユニットスライド機構の構成を説明するための要部正面図である。

[図 7] (a)は、上記液滴吐出ユニットの構成を説明するための要部下面図であり、 (b) は、上記液滴吐出ユニットの他の構成を説明するための要部下面図である。

圆 8] (a)〜 (c)は、上記ヘッドガントリーユニット及び上記基板載置台の動作を説明するための模式的断面図である。

圆 9] (a)は、上記欠陥修復装置に設けられたメンテナンス機構の不吐出検出器の構成を説明するための正面図であり、（b)は、その下面図である。

[図 10] (a) (b)は、上記欠陥修復装置のァライメント動作を説明するための平面図である。

[図 11] (a) (b)は、上記ヘッドガントリーユニットに設けられたァライメントカメラの構成を説明するための要部平面図である。

[図 12] (a) (b)は、上記欠陥修復装置のァライメント動作を説明するための要部平面図である。

[図 13] (a) (b)は、上記欠陥修復装置のァライメント動作を説明するための要部拡大平面図である。

[図 14]上記欠陥修復装置のァライメント動作を示すフローチャートである。

[図 15] (a) (b)は、上記欠陥修復装置に設けられた観察力メラユニットによる液滴着弾位置の計測動作を説明するための平面図である。

[図 16] (a) (b)は、上記欠陥修復装置に設けられたヘッドガントリーユニットの往復動作を説明するための平面図である。

[図 17] (a) (b)は、上記ヘッドガントリーユニットの対象基板に対する動作を説明するための平面図である。

[図 18] (a)〜 (d)は、上記液滴吐出ユニットの欠損部に対する吐出動作を説明するための模式的平面図である。

[図 19] (a)〜（c)は、 3種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニットの移動方向が、画素長手方向と直交する場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図である。

[図 20] (a)〜（c)は、 3種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニットの移動方向が、画素長手方向と平行な場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図である。 [図 21] (a)は、実施の形態 2に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの構成を示す平面図であり、（b)は、その動作を説明するための平面図である。

[図 22]実施の形態 2に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの他の構成を示す平面図である。

[図 23] (a) (b)は、実施の形態 2に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットのさらに他の構成を示す平面図である。

符号の説明

1 欠陥修復装置

2 基体

2a メインステージ

2b、 2c サブステージ

3 基板載置台（固定手段）

4 ガントリースライド機構 (移動手段）

5a、 5b、 5c ガン卜!;一ガイド

6 リニアスケール

7 ヘッドガントリーユニット（ガントリー）

8 浮上スライド機構

9 ガントリー

10 吐出ユニットスライド機構 (スライド機構）

11 液滴吐出ユニット

l la〜l li 液滴吐出ユニット

12 ァライメントカメラ

13 カメラスライド機構

14 観察力メラユニット

15 メンテナンス機構

16 筐体

17 吐出素子

18 駆動制御回路 19 ケーブル

20 インクタンク

21 インク配管

22 ノス、ノレプレート

23 ノズル孑し

24 リニア駆動機構

25 LMガイド

26 ガントリーリニアスケール

27 リニア駆動機構

28 カメラスライド機構

29 LMガイド

30 カメラ用リニアスケール

31 キャップ部材

32 不吐出検出器

33 レーザ発光素子

34 レーザ受光素子

35 対象基板

36 ァライメントマーク

37a 外側円環部

37b 内側円部

38 ダミー基板

39 液滴着弾位置

40 欠損部 (欠陥）

41 領域 (修復領域）

発明を実施するための最良の形態

[0044] 本発明の一実施形態について図 1ないし図 23に基づいて説明すると以下の通りである。

[0045] (実施の形態 1) <装置全体の構成説明 >

図 1は、実施の形態 1に係る欠陥修復装置 1の外観を示す斜視図である。図 2は、欠陥修復装置 1の模式的断面図である。

[0046] 欠陥修復装置 1は、基体 2を備えている。欠陥修復装置 1には、基体 2上に搭載され基板搬入及び搬出時に移動する基板載置台 3と、基板載置台 3の上方を該台に接触することなく横断して、るヘッドガントリーユニット 7とが設けられて、る。ヘッドガントリーユニット 7は、基体 2に連結しているガントリースライド機構 4により、一方向（図 1の Y方向に平行な方向）に往復移動できる構成となって、る。

[0047] ヘッドガントリーユニット 7の側面には、液滴吐出ユニット 11をヘッドガントリーュ-ット 7の移動方向（図 1の Y方向に平行な方向）とは異なる方向（図 1の X方向に平行な方向）に移動させることのできる吐出ユニットスライド機構 10が搭載されており、吐出ユニットスライド機構 10上に搭載された液滴吐出ユニット 11は、吐出ユニットスライド機構 10上の移動可能領域の範囲内で、ヘッドガントリーユニット 7の移動方向と異なる方向（図 1の X方向に平行な方向）に移動可能となっている。

[0048] 液滴吐出ユニット 11は、ヘッドガントリーユニット 7の側面に、複数個（図 1では 9個）搭載され、それぞれに個別の吐出ユニットスライド機構 10を有している。そして、複数の液滴吐出ユニット 11は、それぞれの吐出ユニットスライド機構 10上を、欠陥修復装置 1からの制御指令に基づいて、個別に独立して図 1の X方向に平行な方向に移動する。

[0049] また、液滴吐出ユニット 11は、ヘッド吐出面を有している。ヘッド吐出面は、基板載置台 3に略平行であって、かつ、液滴を吐出するための孔が形成されている。液滴吐出ユニット 11は、液滴吐出装置 1からの制御指令に基づいて、基板載置台 3上に載置した対象基板にヘッド吐出面力ゝら液滴を滴下する。

[0050] 装置基体 2上には、基板載置台 3の他に、液滴吐出ユニット 11に対して、非使用時に吐出面をキャップする機構、不良吐出口を検出する機構、不良吐出口を回復する機構、などを有するメンテナンス機構 15が設けられている。メンテナンス時は、ガントリースライド機構 4により、ヘッドガントリーユニット 7が、メンテナンス機構 15の直上に移動し、液滴吐出ユニット 11に対して各種メンテナンス動作を行う。 [0051] <装置基体 2の説明 >

装置基体 2の構成について図 2を用いて説明する。

[0052] 装置基体 2は、中央に位置するメインステージ 2aを有しており、メンテナンス機構 15 を有するサブステージ 2cと、サブステージ 2bとをその両脇に機械的に連結している。

[0053] メインステージ 2aは、御影石製の高精度のステージであり、液滴吐出ユニット 11から基板載置台 3上の対象基板に向けて液滴が吐出される間は、基板載置台 3を正確に固定するものである。

[0054] サブステージ 2cは、メンテナンス機構 15を搭載するもので、メインステージ 2aに比ベ精度良く製造する必要はな、。

[0055] サブステージ 2bは、基板載置台 3上に基板を搬入、または基板載置台 3上力ゝら基板を搬出する際に、基板載置台 3を装置端部に移動させる際に使用するステージである。

[0056] それぞれのステージには、メインステージ用ガントリーガイド 5a、及びサブステージ用ガントリーガイド 5b ' 5cが搭載されており、ガントリーガイド 5a ' 5b ' 5cは、異なるガントリーガイド 5a · 5b · 5c間を跨いでヘッドガントリーユニット 7が自由にスライドできるように、それぞれの間に繋ぎ目を有しつつ連結して、る。

[0057] 図 1では、ヘッドガントリーユニット 7は、浮上スライド機構 8とガントリースライド機構 4 との間で常時エアー浮上しており、ガントリースライド機構 4上の磁石式リニアスケール 6と浮上スライド機構 8との間のリニアモータ制御により、ヘッドガントリーユニット 7の移動を可能としている。

[0058] そして、ガントリースライド機構 4及びリニアスケール 6は、それぞれのステージ 2a' 2 b ' 2cを跨ってヘッドガントリーユニット 7が自由に移動できるよう連続的に構成されている。また、装置基体 2の地面側には図示しない従来技術の除振機構が設けられている。

[0059] <基板載置台 3の説明 >

基板載置台 3は、上面には図示しない微小な孔が複数形成されており、その孔の全てが図示しない吸引 Z送風機構に連結し、吸引 Z送風制御を行うことにより、基板載置台 3上に配置された対象基板の吸着固定、もしくは基板載置台 3からの基板の解放を行うことが可能となって、る。

[0060] 図 3は、欠陥修復装置 1に設けられたヘッドガントリーユニット 7及び基板載置台 3の動作を説明するための模式的断面図である。基板載置台 3は、装置基体 2上に設けられた図示しないスライドレール上をリニアモータ制御により移動することが可能であり、基板搬入若しくは搬出時には、図 3に示すように基板載置台 3は、矢印 rlの方向に沿ってメンテナンス機構 15と反対方向の装置端部に移動する。

[0061] さらに、基板載置台 3には、図示しない Θ回転機構が内在しており、スライドレール上をリニアモータ制御により一方向に移動すること、及び載置した基板を面内方向に自在に回転させることが可能となって、る。

[0062] さらに、基板載置台 3は、スライドレールと直交する方向にも微調移動できる機構を有している。また、基板載置台 3の上面は、上面の平坦性が良い石定盤カもなり、液滴吐出ユニット 11の吐出面と平行である。

[0063] <ヘッドガントリーユニット 7の説明 >

図 4 (a)は、ヘッドガントリーユニット 7の構成を説明するための Z方向から見た要部平面図であり、図 4 (b)は、 X方向力も見た要部正面図である。ヘッドガントリーュ-ット 7の構成について、図 4 (a) (b)を参照して説明する。

[0064] ヘッドガントリーユニット 7は、一対のガントリー 9を浮上スライド機構 8により連結した構成となっている。ガントリー 9の一方の外側に向いた側面には、液滴吐出ユニット 1 1及び吐出ユニットスライド機構 10が複数個設けられて、る（図 1では 4ユニット)。

[0065] その反対面で、かつ 2本のガントリー 9間に位置する部分に、基板の面内回転制御用のァライメントカメラ 12が 2台固定設置されている。図 4 (a) (b)では 1台のみ図示されているが、同等のカメラ 12が図 4 (a)における上方にさらに一台設置されている。

[0066] ガントリー 9の他方の装置外側に向いた側面には、ガントリー 9の一方と同様に液滴吐出ユニット 11及び吐出ユニットスライド機構 10とが複数個設けられている（図 1では 5ユニット)。その反対面で、かつ 2本のガントリー 9に挟まれた部分に、観察用カメラユニット 14が、観察用カメラユニット 14をガントリー 9の長手方向に移動可能にする力メラスライド機構 13を介して移動可能に取り付けられている。

[0067] くガントリースライド機構 4の説明〉ガントリースライド機構 4は、浮上スライド機構 8との間にエアー浮上させるとともに、浮上スライド機構 8との間のリニア駆動制御により、欠陥修復装置 1本体力の制御信号に従って、ヘッドガントリーユニット 7を図 1の Y方向に平行な方向に沿って任意の位置に移動させることが可能である。

[0068] く液滴吐出ユニット 11の説明 >

図 5は、液滴吐出ユニット 11の構成を説明するための図 1の Y方向から見た要部側面図である。液滴吐出ユニット 11は、ヘッドガントリーユニット 7上に設置された吐出ユニットスライド機構 10に搭載されており、矢印 r3方向にそれぞれ独立して移動可能である。

[0069] 液滴吐出ユニット 11は、吐出素子 17と、駆動制御回路 18と、電気接続ケーブル 1 9と、インクタンク 20と、インク配管 21と、とそれらを収納する筐体 16とを有している。筐体 16が、吐出ユニットスライド機構 10上を移動する。

[0070] 吐出素子 17の基板載置台 3の上面との平行面には、ノズルプレート 22が接着されており、ノズルプレート 22には複数のノズル孔 23が形成されている。なお、ノズル孔 2 3の直径は、 10〜20 μ mである。

[0071] 吐出素子 17は、圧電体基板に複数のインク室となる溝を形成した後、隔壁側面の一部に電極を形成して、隔壁の両側面の間に電界を印加して隔壁自体をせん断変形させて吐出エネルギーを発生させる公知のものを使用した。駆動制御回路 18は、図示しな!ヽケーブルにより、図示しな!、駆動制御システムに接続されて吐出制御が行われる。基板載置台 3上に対象基板を搭載した場合、ノズルプレート 22の最下面である液滴吐出面と対象基板の上面との間は、 0. 5〜： Lmmになるように予め調整されている。

[0072] く吐出ユニットスライド機構 10の説明〉

図 6は、吐出ユニットスライド機構 10の構成を説明するための図 1の X方向から見た要部正面図である。吐出ユニットスライド機構 10の構成を、図 6を用いて説明する。

[0073] 吐出ユニットスライド機構 10は、 2列の LMガイド 25 (株式会社 THK製）と、 2列の L Mガイド 25の列間に設置したガントリーリニアスケール 26からなり、液滴吐出ユニット 11に取り付けられて、るリニア駆動機構 24を駆動制御することで、図 1の X方向に平行な方向（図 6にお、て紙面に垂直な方向）の所定の位置に液滴吐出ュ-ット 11を移動させることが可能である。リニアスケール 26は、小型の N極及び S極の永久磁石を交互に規則配列させたものである。

[0074] リニア駆動機構 24は、交流制御で N極及び S極を自在に発生できるものであり、リユアスケール 26とリニア駆動機構 24との磁石力により吐出ユニットスライド機構 10上の液滴吐出ユニット 11の位置制御を可能としている。なお、 LMガイド 25の有効移動ストロークは 250mmであり、この有効ストローク以上の範囲でリニアスケール 26は設置されている。吐出ユニットスライド機構 10による液滴吐出ユニット 11の移動は、基板載置台 3の上面と、液滴吐出ユニット 11の液滴吐出面であるノズルプレート 22との間のギャップが常に一定となるように予め調整されている。このギャップは、例えば 0. 2mm以上 0. 8mm以下に調整される。一般にこのギャップを 0. 2mm以下に設定すると、基板面にヘッドが接触して装置を故障させる可能性が高まるとともに、液滴を基板へ着弾させたときに生じる微小な跳ね返り滴がノズル面に到達し、ノズル面上に蓄積されて結果的に大滴化してしまう恐れがある。一方、 0. 8mm以上とすると、液滴が飛翔する時に風の影響を受け、着弾精度が悪化する。なお、他のガントリー 9の側面に設けられている吐出ユニットスライド機構 10も同様の構成であるため説明を除く。

[0075] <カメラスライド機構 28の説明 >

カメラスライド機構 28の構成を、図 6を用いて説明する。観察力メラユニット 14は、ガントリースライド機構 4に設けられた Y方向に平行な方向の情報取得機能と、カメラスライド機構 28に設けられた X方向に平行な方向の情報取得機能とにより、ァライメントマークに対する対象基板のアドレス情報を出力することが可能である。観察力メラュニット 14は、主に液滴吐出ユニット 11が基板上に着弾した着弾画像を観察し、それぞれの液滴吐出ユニット 11の吐出状態、若しくはァライメントマーク基準の着弾位置のアドレスを出力することができる。

[0076] 観察力メラユニット 14で得た着弾位置座標を用いて、それぞれの液滴吐出ユニット 11について、 Y方向に対しては吐出タイミングの補正、 X方向に対しては吐出ュ-ットスライド機構 10の移動量の補正により、対象基板上の所望の位置に液滴を着弾させることができる。 [0077] カメラスライド機構 28は、前述の吐出ユニットスライド機構 10と同様に、 2列の LMガイド 29 (株式会社 THK製）と、 2列の LMガイド 29の列間に設置したカメラ用リニアスケール 30からなり、観察力メラユニット 14に取り付けられているリニア駆動機構 27を駆動制御することで、図 1の X方向（図 6における紙面に垂直な方向）の所定の位置に観察力メラユニット 14を移動させることが可能である。なお、 LMガイド 29の有効移動ストロークは 2500mmであり、この有効ストローク以上の範囲でリニアスケール 30 は設置されている。

[0078] <ノズル列の配列 >

図 7 (a)は、液滴吐出ユニット 11の構成を説明するための要部下面図であり、図 7 ( b)は、他の液滴吐出ユニット 11aの構成を説明するための要部下面図である。液滴吐出ユニット内のノズル孔の配列を、図 7 (a) (b)を用いて説明する。図 7 (a)は、 1種類の液体を吐出する液滴吐出ユニット 11を複数搭載した装置を示す。ヘッドガントリ一ユニット 7には、吐出ユニットスライド機構 10を介して、液滴吐出ユニット 11が矢印 X方向（図 1)に移動可能に取り付けられている。液滴吐出面であるノズルプレート 22 に形成されたノズル孔 23は一列に配列し、矢印 Bに対して直角な方向から数度傾いてヽる。配列してヽるノズル孔 23は全て同一の液滴材料が吐出する。

[0079] 図 7 (b)は、 3種類の液体を吐出するノズルプレートを複数搭載した液滴吐出ュ-ット 11aを有する装置を示す。液滴吐出ユニット 11aには、第一の液滴材料を吐出するノズル孔 23Rの列、第二の液滴材料を吐出するノズル孔 23Gの列、第三の液滴材料を吐出するノズル孔 23Bの列、を有し、それぞれのノズル孔列が方向 Bに対して直角な方向から数度傾いており、それぞれの列の B方向への投影領域はほぼ一致するように構成されている。また、それぞれのノズル孔列は、液滴吐出ユニット 11a内で B方向に微小に移動可能となって、てもよ、。

[0080] A方向からのノズル孔列の傾きを 0とし、ノズルピッチを pとすると、 B方向に投影したノズルピッチ Qは、

Q=p X sin θ、

となるため、実際のノズルピッチに比べて Β方向のピッチ Qを高密度化できる利点がある。ピッチ Qを高密度化することで、複数のヘッドを組み合わせて 1つのユニットを作製する際に、各ヘッドの位置合わせを厳密に行わなくとも、少なくともピッチ Qの精度以内で配列させることが可能となる。

[0081] なお、 100〜200DPI (1インチ幅に 100〜200個の孔が等ピッチで配列）のノズル孔ピッチで、 1吐出素子あたり 20〜80孔の吐出素子を 0 = 3〜10° 傾斜させて用いることが好ましぐこれは、吐出素子あたりの孔数が小さいほど、複数の素子を配列させてなる液滴吐出ユニットの全幅が小さくなり、不能領域が小さくすることができるためである。また、製造コストが安価な 100〜200DPIの吐出素子を Θ = 3〜10° の範囲で傾斜させることにより、複数の吐出素子間の位置合わせを厳密に行わなくても、一度、試験吐出を行って吐出タイミング制御を行えば、 B方向に投影したノズルピッチを 5〜35 mにまで高密度化でき、カラーフィルタや、有機 EL表示装置などの、画素サイズよりも高密度の配列を実現することができる。

[0082] <基板搬入動作の説明 >

図 8 (a)〜図 8 (c)は、ヘッドガントリーユニット 7及び基板載置台 3の動作を説明するための図 1の X方向力も見た模式的断面図である。

[0083] 図 8 (a)は対象基板 35を処理した後の状態を示す。基板処理後は図 8 (b)に示すように、欠陥修復装置の基板載置台 3は、矢印 rlの方向に沿って紙面左側（サブステージ 2b側）にスライドすると共に、ヘッドガントリーユニット 7は、矢印 r2の方向に沿つてメンテナンス機構 15の直上に移動する。そして、基板載置台 3は、処理済の対象基板 35の吸着を解放した後に、図示しない搬送ロボットに受け渡す。その後、搬送口ボットは次の対象基板 35aを基板載置台 3に載せる。そして、載せられた対象基板 3 5aは、即座に基板載置台 3にエアー吸着され、基板載置台 3は元の位置（図 8 (a)に示す位置）に戻る。

[0084] 基板載置台 3から対象基板 35が搬出され、次の対象基板 35aが搬入されて、基板載置台 3が元の位置に戻る間に、並行して液滴吐出ユニット 11に対して、通常のメンテナンス動作が行われる。メンテナンス動作では、ヘッドガントリーユニット 7は、メンテナンス機構 15上に移動し、移動を完了後はメンテナンス作業を行う。具体的には、液滴吐出ユニット 11のノズルプレート面は、図 8 (b)に示すように、ゴム製のキャップ部材 31によりキャップされる。また、キャップされた後、キャップ部材 31の底部にある通気口より負圧吸引されて、ノズルプレートのノズル孔力液を強制排出することによりノズル孔のダスト等を除去する。その後、ノズルプレート面を図示しないワイプブレードでワイプする。そして、その後、後述する不吐出検出器により、ノズル孔からの吐出状態をチックする。これら一連のメンテナンス動作は順序は、前述した順序と異なつていても良い。

[0085] 新たな対象基板 35aが搭載された基板載置台 3と、液滴吐出ユニット 11のメンテナンス動作が完了したヘッドガントリーユニット 7とは、ほぼ同時に図 8 (c)に示す矢印 _r4 •r5の方向にそれぞれ移動し、図 8 (a)に示す位置に到達する。

[0086] <メンテナンス動作の説明 >

基板の搬出及び搬入を実行する間、または基板への液滴吐出動作を長期間実施しないときは、液滴吐出ユニット 11に対してメンテナンス動作を実行する。このメンテナンス動作は、不吐出検出動作と、キャップ動作と、キャップ内吸引パージ動作と、ヮィビング動作とを含む。先の対象基板を処理後に、直ちに次の対象基板の処理を行う場合、先の対象基板の搬出動作の命令が与えられるのと同時に、液滴吐出ユニット 11を搭載したヘッドガントリーユニット 7は、メンテナンス機構 15の直上への移動命令が与えられる。

[0087] 図 9 (a)は、不吐出検出器 32の構成を説明するための図 1の X方向から見た正面図であり、図 9 (b)は、図 1の Z方向力も見たその下面図である。メンテナンス機構 15 は、レーザー発光素子 33とレーザー受光素子 34とを有する不吐出検出器 32を有しており、不吐出検出器 32は、液滴吐出ユニット 11毎に設置されている。

[0088] レーザー発光素子 33と図示しないレーザー発光回路とは、不吐出検出の指令を受けるとレーザー光をレーザー受光素子 34に向けて連続的に照射する。レーザー受光素子 34に接続された受光量計測回路は通常の受光量を記憶している。レーザ一照射方向は、図 9 (a) (b)に示すように基板面及びノズルプレート 22の面に略平行で、かつノズル孔 23R' 23G ' 23Bの列に略平行である。レーザー光は直径 lmmであり、一つの液滴吐出ユニット 11aの全てのノズル孔 23R' 23G ' 23Bから吐出される液滴は、このレーザー光軸内を通過するように配置されている。

[0089] レーザー発光素子 33及びレーザー受光素子 34は微動機構を有しており、万一レ一ザ一光軸内を液滴が通過しない場合は、位置を調整する。まず初めに第一番目のノズル孔 23Rから液滴を一定時間吐出させて受光量計測手段力もの光量を読み取り、通常の受光量と比較して、遮光量を計測しその値が予め設定した設定値の範囲内にある力判断し、設定値の範囲内の場合は正常吐出とみなし、それ以外は吐出不良とみなす。

[0090] 次に 2番目、 3番目と順次同様の吐出制御及び遮光量計測を行!、、液滴吐出ュニット 11の全てのノズル孔 23R' 23G' 23Bについて、吐出不良の有無を確認する。吐出不良が無ければ、液滴吐出ユニット 11をキャップ位置に移動させて、基板搬入動作が完了する直前までキヤッビングを行う。

[0091] 吐出不良がある場合、従来技術で行われて!/ヽる回復動作を実行する。例えば、液滴吐出ユニット 11をキャップ位置に移動させ、そして、キヤッビングし、次に、キャップを負圧に引いてノズル孔力強制排出させ、その後、キャップ解除して、ワイビングを行い、再度、不吐出検出を行う。

[0092] この不吐出検出と回復動作とを、吐出不良が無くなるまで数回を限度に実行する。

そして、吐出不良が回復しない場合は、その旨を装置に出力する。なお、先の対象基板を処理する直前の最後の不吐出検出結果と、先の対象基板を搬出中に行う最初の不吐検出結果を比較して、吐出状態に変化が認められる場合には、先の対象基板の処理が不適として廃棄する力、修復工程に回すことができる。

[0093] く液滴吐出ユニット 11の配列 >

図 10 (a) (b)は、欠陥修復装置 1のァライメント動作を説明するための平面図である。図 10 (a) (b)は欠陥修復装置 1を上方から見た図であり、ヘッドガントリーユニット 7 上に計 9個の液滴吐出ユニット 11が搭載されている。

[0094] 液滴吐出ユニット 11毎に設けられている吐出ユニットスライド機構 10は、一対のへッドガントリーユニット 7の両外側に向ヽた両側面にそれぞれ設けられて、る。ヘッドガントリーユニット 7の紙面左側面には 4対の液滴吐出ユニット 11と吐出ユニットスライド機構 10とが一定間隔を空けて取り付けられている。ヘッドガントリーユニット 7の紙面右側面は、 5対の液滴吐出ユニット 11と吐出ユニットスライド機構 10とが一定間隔を空けて取り付けられている。そして、基板載置台 3の上面に対して、それぞれの吐出ユニットスライド機構 10は千鳥状に配列されている。すなわち、ガントリー移動方向である矢印 r3に直交する方向に互いに隣接する 2つの吐出ユニットスライド機構 10 は、吐出ユニットスライド機構 10のスライド可能方向である矢印 r3の方向に沿って、それぞれのスライド可能領域の端部が一部重複するように構成されている。なお、重複する移動可能領域はその領域が大きいほど好ましぐ吐出ユニットスライド機構 10 の長手方向の長さの三分の一以上重複して、ることが望まし、。

[0095] <基板ァライメント動作の説明 >

対象基板のァライメント動作を図 10 (a) (b)及び図 1 1 (a) (b)を用いて説明する。図 1 1 (a) (b)は、ヘッドガントリーユニット 7に設けられたァライメントカメラ 12の構成を説明するための要部平面図である。基板載置台 3上で吸着固定された対象基板 35の基板端近傍には、対象基板 35の面内回転方向を補正するためのァライメントマーク 36が 2箇所設けられている。

[0096] ヘッドガントリーユニット 7に固定されている 2個のァライメントカメラ 12は、図 10 (a) に示す位置力もヘッドガントリーユニット 7と一体的に図 10 (b)に示す位置に移動する。そして、ァライメントカメラ 12の画像情報を元に、対象基板 35の面内回転方向のずれを算出し、前述の基板載置台 3の Θ回転機構と矢印 r3の方向の微動機構により、図 10 (b)に示す回転矢印 r6の方向に対象基板 35の姿勢を補正する。

[0097] 対象基板 35には、予め高精度の 2つのァライメントマーク 36が設けられており、対象基板 35の液滴塗布位置は、このァライメントマーク 36を基準として、予め決定されている。このァライメントマーク 36は、同心円状のマークであり、対象基板 35上の 2つのァライメントマーク 36のピッチずれは 2 μ m以内である。 2つのァライメントマーク 36 のピッチと同ピッチで 2つのァライメントカメラ 12はヘッドガントリーユニット 7上に設置されている。また、ァライメントカメラ 12は、複数の広視野モード部 43aと狭視野モード部 43bとを有し、広視野モード部 43aで Θ回転機構及び微動機構によりァライメントしたのち、狭視野モード部 43bで再度同様なァライメント動作を行う。

[0098] 図 12 (a) (b)は、欠陥修復装置 1のァライメント動作を説明するための要部平面図である。図 13 (a) (b)は、その要部拡大平面図である。図 12 (a) (b)は、広視野モードでのァライメントカメラ 12による撮像画像を示す模式図であり、図 12 (a)は一対のァライメントカメラ 12の一方による画像、図 12 (b)は一対のァライメントカメラ 12の他方による画像である。

[0099] ァライメントカメラ 12の広視野モードは、搬送ロボットの基板載置台 3への基板の配置精度以上の視野を有するように設計されている。この広視野モードでは、まず、同心円のァライメントマーク 36の外側円環部 37aを用いて、ァライメントマーク 36と基準位置とのずれを計測し、ァライメントマーク 36と基準位置とがー致するように、 Θ回転機構及び微調整機構により基板載置台 3を調整し、対象基板 35の姿勢を制御する。外側円環部 37aの外径は、例えば 2mmであり、内側円部 37bの外径は、例えば 0. 2 mmである。

[0100] 次に図 13 (a) (b)に示すように、ァライメントカメラ 12を狭視野モードに切り替え、ァライメントマーク 36の同心円の内側円部 37bを用いてァライメントマーク 36と基準位置とのずれを計測し、ァライメントマーク 36と基準位置とがー致するように、 Θ回転機構及び微調整機構により基板載置台 3を調整し、対象基板 35の姿勢を制御する。また、一対のァライメントカメラ 12による観察位置と液滴吐出ユニット 11の液滴吐出位置は、液滴吐出ユニット 11を取り付けた後の調整工程で予め計測されている。

[0101] 図 14は、欠陥修復装置 1のァライメント動作を示すフローチャートである。まず、欠陥修復装置 1に設けられた制御ユニットからァライメント開始指令が発行されると (ステツプ S1) ,サブステージ 2b側に移動した基板載置台 3上に対象基板 35が搬入される (ステップ S 2)。そして、対象基板 35を載置した基板載置台 3は、メインステージ上の定位置に移動する（ステップ S3)。

[0102] そして、図 10 (a)に示すようにメンテナンス機構 15上に位置していたヘッドガントリ一ユニット 7は、図 10 (b)に示すァライメント位置に移動する (ステップ S4)。そして、ァライメントカメラ 12の広視野モード部 43aをァライメントマーク 36上の標準位置に移動させる (ステップ S5)。

[0103] 次に、ァライメントカメラ 12の広視野モード部 43aは、ァライメントマーク 36の外側円環部 37aを撮像し (ステップ S6)、ァライメント量を算出する (ステップ S7)。その後、算出したァライメント量に基づいて、基板載置台 3の位置を粗く調整する粗ァライメント動作を実行する (ステップ S9)。 [0104] そして、ァライメントカメラ 12の狭視野モード部 43bをァライメントマーク 36上の標準位置に移動させる (ステップ S8)。その後、ァライメントカメラ 12の狭視野モード部 43b は、ァライメントマーク 36の内側円部 37bを撮像し (ステップ S 10)、ァライメント量を算出する (ステップ Sl l)。その後、算出したァライメント量に基づいて、基板載置台 3の位置を精密に調整する本ァライメント動作を実行する (ステップ S 12)。

[0105] その後、再び、ァライメントカメラ 12の狭視野モード部 43bは、ァライメントマーク 36 の内側円部 37bを撮像し (ステップ S13)、基板載置台 3の位置精度を確認する (ステップ S14)。そして、ァライメント動作を完了する (ステップ S15)。

[0106] く観察力メラユニット 14による液滴着弾位置の計測 >

図 15 (a) (b)は、欠陥修復装置 1に設けられた観察力メラユニット 14による液滴着弾位置の計測動作を説明するための平面図である。観察力メラユニット 14は、液滴吐出ユニット 11の液滴吐出素子 17 (図 5)を交換して着弾位置補正を行うための情報を取得する場合や、使用中の着弾位置を再確認する際に用いる。観察力メラュ- ット 14は、ガントリースライド機構 4とカメラスライド機構 28とにより、欠陥修復装置 1上面の任意の位置を撮像することができ、また、欠陥修復装置 1上面の任意の位置を割り出すことが可能である。観察力メラユニット 14の撮像位置は、ガントリースライド機構 4とカメラスライド機構 28とに内在しているスケールにより、その位置情報を出力することが可能である。

[0107] 液滴着弾位置を観察する場合、通常の対象基板 35と同様の所定のァライメントマーク 36が付与されたダミー基板 38を欠陥修復装置 1に搬入し、通常通りの基板姿勢制御を行う。次に、観察力メラユニット 14は、ダミー基板 38上の 2つのァライメントマーク 36をそれぞれ撮像し、その位置情報を取得する。

[0108] 図 15 (a)に示すように、ヘッドガントリーユニット 7は、ダミー基板 38上の任意の位置まで移動する。そして、それぞれの液滴吐出ユニット 11のノズル孔カゝらダミー基板 38 に向けて液滴を吐出する。このとき、全てのノズル孔カゝら液滴を吐出しても良い。また、それぞれの液滴吐出ユニット 11は、ガントリースライド機構 4とそれぞれの吐出ュ- ットスライド機構 10に内在して、るスケールに基づ、て、仮想の着弾位置 (理想的な着弾位置)をそれぞれ認識する。 [0109] 次に、図 15 (b)に示すように、観察力メラユニット 14は、ガントリースライド機構 4と力メラスライド機構 28とにより移動しながら、液滴着弾位置 39を順次撮像して、ァラィメントマーク 36に対する実際の着弾位置を割り出す。そして、仮想の着弾位置と実際の着弾位置との間の差分をそれぞれの液滴吐出ユニット 11の補正データとして保管する。ずれ (差分）は、 X方向、及び Y方向に分解される。 Y方向のずれは、ヘッドガントリーユニット 7が Y方向に移動しながら液滴吐出を行うため、吐出タイミングを調整すること〖こよって補正することができる。 X方向のずれに関しては、吐出ユニットスライド機構 10の移動量をオフセット補正する。この観察力メラユニット 14の動作により、ノズル毎の不吐出を検出し、ノズル毎の着弾ずれを検出することも可能である。

[0110] くヘッドガントリーユニット 7の往復動作 Z液滴吐出ユニット 11の移動動作〉

図 16 (a) (b)は、ヘッドガントリーユニット 7の往復動作を説明するための平面図である。姿勢制御が完了した対象基板 35に対して、ァライメントマーク 36基準の所望位置に液滴を滴下する方法を以下に示す。

[0111] 図 16 (a)は、対象基板 35に液滴を滴下する作業において、ヘッドガントリーュ-ット 7が図 16 (a)において最も右に移動した状態を示している。一方、図 16 (b)は、最も左に移動した状態を示している。ヘッドガントリーユニット 7は、矢印 r7によって示される範囲を 1回〜複数回往復する。ヘッドガントリーユニット 7に搭載されている複数の液滴吐出ユニット 11は、図 16 (a)の矢印 r3に示す方向にそれぞれ独立して移動可能である。ヘッドガントリーユニット 7自体は、対象基板 35上を、紙面左右方向（矢印 r 7の方向）に往復動作する。それぞれの液滴吐出ユニット 11は、液滴吐出動作を実行する前に、矢印 r3に示す方向に沿って所望のアドレスに移動し停止する。そして、ヘッドガントリーユニット 7が矢印 r7の方向に往復動作する過程で、矢印 r7方向及び矢印 r3方向の所望位置のアドレスが一致した時点で、液滴を吐出する。複数の液滴吐出ユニット 11は、その動作を、それぞれ独立して制御される。

[0112] 図 16 (b)において、矢印 r7によって示されるヘッドガントリーユニット 7の移動範囲は、液滴吐出ユニット 11が移動する方向の直交方向の基板幅よりも大きぐ基板幅の中心線をヘッドガントリーユニット 7の移動範囲の略中心としている。

[0113] このように基板幅よりも大きい範囲を液滴吐出ユニット 11が移動できることにより、着目した液滴吐出ユニット 11は、その液滴吐出ユニット 11が搭載されたヘッドガントリ一ユニット 7の移動ストロークの範囲内の基板の所望の位置（帯状の領域）に対して、液滴を滴下することが可能となる。

[0114] <吐出動作の具体例 >

図 17 (a) (b)は、ヘッドガントリーユニット 7の対象基板 35に対する動作を説明するための平面図である。ヘッドガントリーユニット 7には、 X方向に独立して移動可能な 9 個の液滴吐出ュ-ット11&' 11 11 11(1' 116 ' 11 11₈ ' 1111' 111が搭載されており、それぞれの液滴吐出ユニット 11a〜： L liには、対象基板 35上の受け持ち領域 4 la '41b '41c '41d'41e '41f '41g '41h'41iが設定されている。

[0115] 約 2. 2m X 2. 8mの対象基板 35には、約 30個力約 300個の吐出箇所（欠陥） 4 0が点在している。なお、基板サイズにもよるが、欠陥が 30個以上の場合には、複数の液滴吐出ユニットが搬送方向と異なる方向に個別に移動する構成とすることにより、液滴吐出ユニットが 1つの場合に比べてタクトタイム短縮の効果が大きくなる。一方、欠陥が 300個以下の場合では、修復されたカラーフィルタ基板及び有機 EL表示基板の修復部分に起因する色むら力実使用上問題のないレベルとなり、高品位な前記基板を得ることができる。

[0116] それぞれの液滴吐出ユニット l la〜l liには紙面横方向に帯状に伸びた受け持ち領域 41a〜41iが割り当てられている。液滴吐出ユニット 11aは、領域 41aを受け持つ。液滴吐出ユニット l ibは、領域 41bを受け持つ。それぞれの液滴吐出ユニット 11 a〜l liは、受け持ち領域 41a〜41iに点在する吐出箇所 (欠陥) 40に対して液滴吐出動作を行う。

[0117] ヘッドガントリーユニット 7を紙面左右方向に繰り返し往復移動させる過程で、それぞれの液滴吐出ユニット l la〜l liは、それぞれ受け持つ吐出箇所 40の直上に移動すべぐ X方向（図 1)に個別に移動し X方向のアドレスが一致した場所で停止し、へッドガントリーユニット 7の移動に伴って、 Y方向（図 1)のアドレスが一致するまで待機する。そして、処理基板 35上の所望位置が直下に来るタイミングで、液滴吐出ュ-ット 11を駆動し、吐出ロカも液滴を処理基板 35上の所望位置に吐出させる。

[0118] 図 17 (a) (b)に示すように、 9個の液滴吐出ユニット l la〜l liを 2列の千鳥状に配列すると、図の点線によって示すように対象基板 35を 9個の領域 41a〜41iに分割して、それぞれの液滴吐出ユニット l la〜l li毎にその受け持ち領域を決定することができる。

[0119] 図 18 (a)〜図 18 (d)は、液滴吐出ユニット 11の欠損部 40a '40b '40cに対する吐出動作を説明するための模式的平面図である。液滴吐出ユニット 11が、ヘッドガントリ一ユニット 7の往復移動の過程で、複数の長方形状凹部 (欠損部 40a · 40b · 40c) に液滴を吐出させる工程を説明する。このような工程は、例として、一部に欠損を有するカラーフィルター基板をこの欠陥修復装置を用いて修復する場合が相当する。一例として、カラーフィルター基板の画素の 1色が欠損した場合の欠陥修復装置としての説明を行う。

[0120] ここでの欠損部とは、製造工程でダストが混入した部分、空白の窪みが形成された部分等について、レーザー等により不良部分を一定形状に凹み修正した部分である。液滴吐出ユニット 11は、全て同一種類の液滴材料を吐出するものとして、 1種類の画素（レッド、ブルー及びイェローのいずれ力）の欠損について、その修復方法を示している。よって、全ての色の欠損部を修復するには、本実施の形態の欠陥修復装置を色材毎に 3台設けて逐次処理する力、実施の形態 2において例示するように、液滴吐出ユニットを、複数色の液滴を吐出可能とするように構成することで可能となる。

[0121] 図 18 (a)〜図 18 (d)は、ヘッドガントリーユニット 7上に搭載されている複数の液滴吐出ユニット 11のうちの 1つに着目して、 1つの液滴吐出ユニット 11に設けられた液滴吐出面力も複数の吐出箇所に吐出を行う動作を時系列に沿って示している。

[0122] 図 18 (a)を参照すると、処理基板上の欠損部（欠陥） 40a'40b '40cは、深さ

程度の凹部であり、その開口部はヘッドガントリーユニット 7の移動方向を長辺とした 2 00 m X 70 m程度の長方形状をして、る。図 18 (a)〜図 18 (d)では、欠損部 (欠陥） 40a'40b '40cの長辺は、ヘッドガントリーユニット 7の移動方向 Aに対して平行であるように描いているが、実際には図 7 (a) (b)に示すように数度傾いている。液滴吐出ユニット 11のノズル吐出面は、対向する搬送ステージ面と平行にしており、ノズルプレート 22には複数のノズル孔 23が形成されている。この複数のノズル孔 23は、ヘッドガントリーユニット 7の移動方向である紙面左右方向に配列しており、個々のノズル孔 23はそれぞれ、その背面側に液滴吐出制御可能な図示しな、個別のインク加圧室と加圧制御手段とを有している。また、 1列に配列しているノズル孔 23は、同一の液滴材料を吐出することが可能となっている。

[0123] ヘッドガントリーユニット 7は、液滴吐出ユニット 11の移動や吐出動作によらず、常に紙面左右方向に略等速度（lOOmmZ秒〜 500mmZ秒)で往復移動して、る。欠損部 40aに液滴を吐出して修復するために、液滴吐出ユニット 11は吐出ユニットスライド機構 10を用いて高速移動させてノズル孔 23を欠損部 40aの中心線上に合わせて停止する。なお、液滴吐出ユニット 11の移動時間は、実際に移動する時間にカロえて、停止した後に吐出ユニットスライド機構 10による残留振動が液滴吐出に悪影響を与えないレベルまで低減するまでの静定時間を含んだ時間をも考慮する必要がある。

[0124] 基板載置台 3の相対進行方向側において、欠損部 40aの中心線上まで予め移動させた液滴吐出ユニット 11は、ヘッドガントリーユニット 7の等速移動により相対的に矢印 D方向に移動し、欠損部 40a上にあるノズル孔 23から液滴が吐出される。このとき、使用するノズル孔 23は、欠損部 40aの直上にある複数のノズル孔 23を使用することができるため、 1つのノズル孔を使用する場合に比べてヘッドガントリーユニット 7の等速移動速度を上げることができ、基板全体の処理速度を向上させることが可能となる。

[0125] 次に欠損部 40a上に液滴を吐出した液滴吐出ユニット 11は、図 18 (b)に示すように、欠損部 40cを修復するために、吐出ユニットスライド機構 10を駆動して矢印 E方向に移動して、欠損部 40cの中心線がノズル孔 23に一致する位置で停止する。このとき、ヘッドガントリーユニット 7は一定速度で紙面左方向に移動しているため、液滴吐出ユニット 11は、図 18 (c)の矢印 F方向に相対的に移動し停止する。そして、へッドガントリーユニット 7の移動により液滴吐出ユニット 11は、相対的に矢印 G方向に移動しながら、欠損部 40cの直上にあるノズル孔 23から液滴を吐出し、欠損部 40cの修復を行う。

[0126] そして、ヘッドガントリーユニット 7は、一方向の移動を完了した後に反対方向に移動を始める。図 18 (d)に示すように液滴吐出ユニット 11は、欠損部 40bを修復するために、吐出ユニットスライド機構 10を用いて矢印 K方向に移動し、欠損部 40bの中心線上にノズル孔 23を合わせて停止する。そして、ヘッドガントリーユニット 7の移動により、液滴吐出ユニット 11は相対的に矢印 L方向に移動して、欠損部 40bの直上にあるノズル孔 23で液滴を吐出する。

[0127] このように、ヘッドガントリーユニット 7の往復動作を利用して、 3つの欠損部 40a ' 40 b ' 40cの修復を、欠損部 40a、欠損部 40b、欠損部 40cの順で行っており、本欠陥修復装置の構成上の利点を最大限活用するものである。即ち、図 18 (c)に示すように、欠損部 40aに複数のノズル孔 23で吐出する際に、実際に吐出を行う紙面右端のノズル孔 23が欠損部 40a直上力も離れるまでは、移動させることはできず、少なくとも使用するノズル孔 23の両端間距離に相当する領域では、液滴吐出ユニット 11を紙面上下方向に移動させて、次の欠損部の修復に向力うことはできな、。

[0128] この不能範囲 Hは、処理直後の欠損部端力も使用するノズル孔 23の両端間距離に相当する帯状の範隨こ加えて、搬送ステージの移動速度と、矢印 E方向（図 18 (b ) )の移動に要する時間及び移動後の残留振動の静定に要する時間の和、を掛け合わせた領域も含まれる。

[0129] 図 18 (c)に示すように、欠損部 40bは欠損部 40aに対する不能範囲 Hに入る場所に位置しているため、欠損部 40aの修復の直後に欠損部 40bの処理を行なわず、不能範囲 Hに属さない欠損部 40cの修復を行っている。そして、ヘッドガントリーュ-ット 7の復路移動に伴って、欠損部 40cの修復後に、その不能範囲 Hに属さない欠損部 40bの修復を行って!/、る。

[0130] 以上は、 1つの液滴吐出ユニット 11の移動動作について説明を行った力欠陥修復装置は複数の液滴吐出ユニット 11を有し、それぞれが独立して動作している。なお、本実施の形態の欠陥修復装置は、カラーフィルター基板の欠陥修復装置に限るものではなぐ基板上に点在する所望箇所に液滴を吐出させることが可能である。

[0131] 図 19 (a)〜図 19 (c)は、 3種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニット 11aの移動方向が、画素 42R -42G · 42Bの長手方向と直交する場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図である。図 20 (a)〜図 20 (c)は、 3種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニット 11aの移動方向力画素 42R'42G '42Bの長手方向と平行な場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図である。ダスト等の原因によつて製造途中に R及び Gの画素間にお、て混色が発生してしま、、所望の色を示さない画素ができた際に、その部分を矩形状にレーザーで除去し、本実施の形態の欠陥修復装置を用いて矩形部に液滴を滴下する。

[0132] 図 19 (a)〜図 19 (c)及び図 20 (a)〜図 20 (c)では、液滴吐出ユニット 11aとその液滴吐出ユニット 11aが修復すべき画素 42R'42G'42Bを示しており、画素 42R及び画素 42Gが混色リークしたために、あらかじめレーザーにより、混色箇所を除去して凹みを形成している。

[0133] 図 19 (a)は、修復前の状態を示しており、液滴吐出ユニット 11aは図の矢印方向に沿って画素 42R'42G'42Bに向かって移動している。図 19 (b)はノズル孔 23Rにより画素 42Rに液滴を滴下した直後の図であり、次に、図 19 (c)に示すようにノズル孔 23Gにより画素 42Gに液滴を滴下する。

[0134] 画素 42R'42G'42Bの長手方向がヘッドガントリーユニット（液滴吐出ユニット 11a )の移動方向と平行である場合についても同様に、図 20 (a)は修復前の状態を示しており、図 20 (b)、図 20 (c)の順にしたがって、画素 42R、画素 42Gを修復する。

[0135] (実施の形態 2)

図 21 (a)は、実施の形態 2に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの構成を示す平面図であり、図 21 (b)は、その動作を説明するための平面図である。

[0136] 実施の形態 2に係る欠陥修復装置は、所定の間隔を空けて互いに並列に設けられた 2本のヘッドガントリーユニット 7を有している。各ヘッドガントリーユニット 7には、 4 個の液滴吐出ユニット 11が設けられている。従って、液滴塗布装置には計 8個の液滴吐出ユニット 11が搭載されて、る。

[0137] 1本目のヘッドガントリーユニット 7に搭載された 4個の液滴吐出ユニット 11をスライドさせる吐出ユニットスライド機構 11の移動可能領域は、互いに重複している。このため、 4個の液滴吐出ユニット 11は、そのいずれかが基板の任意の位置に移動可能である。 2本目のヘッドガントリーユニット 7にも、同様に 4個の液滴吐出ユニット 11が搭載されている。

[0138] 1つの液滴吐出ユニット 11は吐出ユニットスライド機構 10の移動範囲 Pだけ移動可能であり、千鳥状に隣接する吐出ユニットスライド機構 10の移動範囲は、液滴吐出ュニット 11が移動する方向に沿って、一部を重複させている。このため、 1つのガントリ一上にある 4つの液滴吐出ユニット 11のいずれ力が、ヘッドガントリーユニット 7の長手方向に沿った位置に必ず移動することが可能である。互いに補完しながらヘッドガントリーユニット 7の移動方向に直交する方向に沿った全ての位置への移動を網羅できる液滴吐出ユニット 11の集合をユニット列とすると、本実施の形態では、 2本のュ- ット列が存在することとなる。そして、 1ユニット列は 4つの液滴吐出ユニット 11から構成されている。

[0139] 対象基板 35には、図中黒点で示す複数の欠損部 40が点在する。対象基板 35の領域は、ユニット列数を列数、ユニット列毎の液滴吐出ユニット数を行数として均等分割されて、具体的には、 4行 X 2列の領域に分割して、それぞれの液滴吐出ユニット 1 1の受け持ち領域となる。例えば、左側のヘッドガントリーユニット 7に設けられた左上の液滴吐出ユニット 11は、図中のハッチングで示されて!/、る受け持ち領域 41に点在する欠損部 40のみを修復する。なお、図 17で前述したユニット配列では、ユニット列数は 1となるために、図 17に示すように 9行 X 1列に分割されている。

[0140] 図 21 (b)は、ヘッドガントリーユニット 7の移動による対象基板 35の往復動作の往路の半分の状態を示す図であり、図中の白矢印方向までヘッドガントリーユニット 7は移動して往路を終える。その後、ヘッドガントリーユニット 7は復路に転換し、図 21 (a)に示す位置まで戻る。この往復動作を 1往復として、点在する欠損部 40の多少に応じて 1〜数往復を繰り返すことにより、対象基板 35全体に点在する欠損部 40を修復する。ここで、合計 8領域ある液滴吐出ユニット 11毎の受け持ち領域で欠損部 40の多少の差のために、液滴吐出ユニット 11毎に完了 ·未完了の差が生じる力全ての液滴吐出ユニット 11が欠損部 40を修復するまでヘッドガントリーユニット 7は往復を繰り返す。

[0141] ここで図 21 (b)に示すように、前述のユニット列は 1本のヘッドガントリーユニット 7上に搭載された 4個の液滴吐出ユニット 11であり、このユニット列の中心線は、 Y2— Y2 、及び Y3— Y3となる。本実施の形態では、この 2本のユニット列（ヘッドガントリーュニット 7)の中心線 Y2— Y2及び中心線 Y3— Y3間の距離力対象基板 35の搬送方向に沿った長さの略 2分の 1になっている。そして、図 21 (b)に示すように、 2本のへッドガントリーユニット 7の中心線 Y2— Y2、及び中心線 Υ3— Υ3との間の間隔力対象基板 35の幅の略半分となるように配置し、その配置位置を中心に両振幅を基板の幅の略半分の移動量で移動する。

[0142] このように、ユニット列数毎に基板幅を分割し、それぞれのユニット列がその分割領域内で走査することにより、効率よく修復作業を行うことが可能となる。なお、図 17のようにユニット列数が 1本の場合、基板中間線をユニット列中心として、両振幅を基板幅とする。

[0143] 図 22は、実施の形態 2に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの他の構成を示す平面図である。図 22には、 3列のユニット列（ヘッドガントリーユニット 7)を有する構成の例が示されている。この場合、 1ユニット当り 4個の液滴吐出ユニット 11が搭載され、計 3列のユニット列を形成している。よって、対象基板 35は 4行 X 3列に分割されている。

[0144] η本 (ηは整数)のユニット列を有する欠陥修復装置にぉヽては、対象基板を η分割し、その η分割領域の中間線を中心として、それぞれのユニット列を基板幅の η分の 1 の両振幅で複数回走査すると良い。このようにすることにより、往復動作によるヘッドガントリーユニット 7の移動総距離を最小にすることが可能となり、基板の処理時間を最も短縮することができる。この比率は厳密に適用することなくとも、 ± 20%程度の誤差以内であれば、時間短縮の効果は大きい。

[0145] ここで、対象基板 35のヘッドガントリーユニット移動方向の幅を D、ユニット列の走查幅を d、ユニット列数を nとしたとき、

0. 8d≤D/n≤l. 2d、

の範囲にあると、基板の処理時間を短縮することができる。

[0146] 修復が終えられた処理基板は図示しない搬送ロボットにより取り出される。カラーフィルター基板の場合は、基板は焼成炉に入れられて液滴材料は固化、完成する。実施形態 2では 2個のユニット列、及び、 3個のユニット列を有する欠陥修復装置について説明したことから、 n個のユニット列を有する場合、基板導入方向の基板サイズ Dに対して、基板を n分割し、ユニット列を分割したそれぞれの領域の中間線を中心に、基板の DZ2nの振幅で往復走査することが良いことがわかる。また、 dを DZnと略一致させることで、装置サイズの最小化を図ることが可能となるが、 ± 10%程度の差異であれば、装置サイズが大幅に増加することは無く装置の占有面積を小さくすることができる。また、 dと DZnは一致することが望ましいが、 ±20%までの差異であれば、基板一枚当たりに要する処理時間が大幅に増加することはなぐタクトタイムの短縮を実現することができる。

[0147] 図 23 (a) (b)は、は、実施の形態 2に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットのさらに他の構成を示す平面図である。ガントリー 9の一方の側面には、液滴吐出ュニット 11を搭載した吐出ユニットスライド機構 10が設けられており、ガントリー 9の他方の側面にも、液滴吐出ユニット 11を搭載した吐出ユニットスライド機構 10が設けられている。ガントリー 9の一方の側面は、基板載置台 3に垂直であり、ガントリー 9の他方の側面は、基板載置台 3に対して傾斜している。

[0148] ガントリー 9の一方の側面の液滴吐出ユニット 11のスライド方向は、ヘッドガントリーユニットのスライド方向（図 1の Y方向に平行な方向）に垂直な方向から若干傾斜しており、ガントリー 9の他方の側面の液滴吐出ユニット 11のスライド方向も、ヘッドガントリーユニットのスライド方向（図 1の Y方向に平行な方向）に垂直な方向から若干傾斜して、る。このように基板搬送方向に対して液滴吐出ユニットのスライド方向が垂直でなくとも、本発明は適用可能である。また、複数のスライド機構において、搬送方向に対するそれぞれのスライド方向が異なっていても、その移動軌跡を予め把握し、スライド位置座標に基づいて液滴吐出ユニットの吐出タイミングを補正することができる。

[0149] 前述した実施の形態 1及び 2では、 CFパネルに生じた欠陥画素の例を説明したが、本発明はこれに限定されない。マトリクス状またはストライプ状に並んだ複数の被吐出部を有するエレクト口ルミネッセンス (EL)表示装置の製造に対しても本発明を適用することができる。また、プラズマ表示装置の背面基板の製造に対しても本発明を適用することができ、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造、および配線の製造に対しても本発明を適用することができる。

[0150] また、本実施例では、ガントリーが基板上を、基板の一端から他の一端まで、繰り返し往復走査する構成を示したが、必ずしも全往復動作にお！ヽて基板の全領域を走査する必要は無い。

[0151] 特に、基板搬送方向と異なる方向に個別に移動可能である液滴吐出ユニットが、基板に対して略等速に搬送方向に相対移動する過程で、基板上に点在する複数の修復箇所を順次巡回して修復する場合には、相対移動の移動方向を繰り返し反転動作して、複数回基板上を走査することが可能である。

[0152] 基板上を走査するにつれて、修復すべき箇所が減少して!/ヽき、複数の走査の最終段階では、基板の全域を走査する必要がなぐ基板の一部領域上を走査するだけでよい。

[0153] よって、予め基板上の修復すべき箇所がわ力つている場合には、液滴吐出ユニットのそれぞれが、順次巡回する修復箇所が予め想定できるために、基板上の全ての領域上を走査する必要が無ぐそれぞれの走査毎に必要な部分のみを走査させることが可能となり、修復に要するタクトを低減することが可能となる。

[0154] なお、本発明では、搬送方向の略等速の移動は、緩やかな加速、減速状態も含まれる。

[0155] 本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなぐ請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。

[0156] なお、上記実施形態の欠陥修復装置の各部や各処理ステップは、 CPUなどの演算手段が、 ROM (Read Only Memory)や RAMなどの記憶手段に記憶されたプログラムを実行し、インターフェース回路などの通信手段を制御することにより実現することができる。したがって、これらの手段を有するコンピュータ力上記プログラムを記録した記録媒体を読み取り、当該プログラムを実行するだけで、本実施形態の欠陥修復装置の各種機能および各種処理を実現することができる。また、上記プロダラムをリムーバブルな記録媒体に記録することにより、任意のコンピュータ上で上記の各種機能および各種処理を実現することができる。

[0157] この記録媒体としては、マイクロコンピュータで処理を行うために図示しないメモリ、例えば ROMのようなものがプログラムメディアであっても良いし、また、図示していな V、が外部記憶装置としてプログラム読取り装置が設けられ、そこに記録媒体を挿入することにより読取り可能なプログラムメディアであっても良い。

[0158] また、何れの場合でも、格納されているプログラムは、マイクロプロセッサがアクセスして実行される構成であることが好ましい。さらに、プログラムを読み出し、読み出されたプログラムは、マイクロコンピュータのプログラム記憶エリアにダウンロードされて、そのプログラムが実行される方式であることが好ましい。なお、このダウンロード用のプログラムは予め本体装置に格納されて、るものとする。

[0159] また、上記プログラムメディアとしては、本体と分離可能に構成される記録媒体であり、磁気テープやカセットテープ等のテープ系、フレキシブルディスクやハードデイスク等の磁気ディスクや CDZMOZMDZDVD等のディスクのディスク系、 icカード（メモリカードを含む）等のカード系、あるいはマスク ROM、 EPROM (Erasable Pro grammable Read Only Memory)、 EEPROM (Electrically Erasable Pro grammable Read Only Memory)、フラッシュ ROM等による半導体メモリを含めた固定的にプログラムを担持する記録媒体等がある。

[0160] また、インターネットを含む通信ネットワークを接続可能なシステム構成であれば、通信ネットワーク力プログラムをダウンロードするように流動的にプログラムを担持する記録媒体であることが好まし、。

[0161] さらに、このように通信ネットワーク力もプログラムをダウンロードする場合には、そのダウンロード用のプログラムは予め本体装置に格納しておくか、あるいは別な記録媒体力インストールされるものであることが好ましい。

産業上の利用の可能性

[0162] 本発明は、基板上に点在する欠陥の位置データに基づいて、欠陥を修復する欠陥修復装置、欠陥修復方法、プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体に適用することができる。

Claims

請求の範囲

[1] 搬送された基板を固定する固定手段と、

前記固定手段によって固定された基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿って配置されて前記基板上に点在する欠陥に液滴を吐出する複数個の液滴吐出ユニットと、

前記複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーと、

前記ガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させる移動手段とを備え、

各液滴吐出ユニットは、前記基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、前記ガントリーが前記基板の搬送方向に沿って相対移動している間に、前記搬送方向と異なる方向に沿って互いに独立して移動することを特徴とする欠陥修復装置。

[2] 前記移動手段は、前記基板の一端から他端まで前記ガントリーを往復移動させる請求項 1記載の欠陥修復装置。

[3] 前記ガントリーは、前記基板の搬送方向に沿って所定の間隔を空けて複数列設けられてヽる請求項 1記載の欠陥修復装置。

[4] 前記ガントリーには、各液滴吐出ユニットを前記搬送方向に垂直な方向に沿ってスライドさせる複数個のスライド機構が設けられている請求項 1記載の欠陥修復装置。

[5] 前記搬送方向力も見て、各スライド機構によってスライドする液滴吐出ユニットのスライド範囲の端部が、互いに重なり合つている請求項 4記載の欠陥修復装置。

[6] 前記基板に垂直な方向から見て、前記複数個のスライド機構は、千鳥状に配置されてヽる請求項 4記載の欠陥修復装置。

[7] 前記基板の修復領域を、各液滴吐出ユニット毎に割り当てる請求項 1記載の欠陥修復装置。

[8] 各液滴吐出ユニットは、前記搬送方向と異なる方向に沿って移動した後停止した状態で前記欠陥に前記液滴を吐出する請求項 1記載の欠陥修復装置。

[9] 各液滴吐出ユニットは、その液滴吐出位置と、前記基板上の欠陥の位置とがー致するように前記搬送方向と異なる方向に沿って移動する請求項 1記載の欠陥修復装置。

[10] 前記複数個の液滴吐出ユニットを搭載したガントリーの重量は、 0. 5トン以上 4トン以下である請求項 1記載の欠陥修復装置。

[11] 搬送された基板を固定し、

前記固定した基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿つて配置された複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させ、

前記ガントリーが前記基板の搬送方向に沿って移動している間に、前記基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、前記搬送方向と異なる方向に沿って各液滴吐出ユニットを互いに独立して移動させて、前記基板上に点在する欠陥に液滴を吐出することを特徴とする欠陥修復方法。

[12] コンピュータに、搬送された基板を固定する手順と、

前記固定した基板に垂直な方向から見て、前記基板の搬送方向と異なる方向に沿つて配置された複数個の液滴吐出ユニットを搭載した一列以上のガントリーを前記基板の搬送方向に沿って相対的に等速移動させる手順と、

前記ガントリーが前記基板の搬送方向に沿って移動している間に、前記基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、前記搬送方向と異なる方向に沿って各液滴吐出ユニットを互いに独立して移動させて、前記基板上に点在する欠陥に液滴を吐出する手順とを実行させることを特徴とするプログラム。

[13] コンピュータに、搬送された基板を固定する手順と、

前記ガントリーが前記基板の搬送方向に沿って移動している間に、前記基板上に点在する複数個の欠陥の位置を表すデータに応じて、前記搬送方向と異なる方向に沿って各液滴吐出ユニットを互いに独立して移動させて、前記基板上に点在する欠陥に液滴を吐出する手順とを実行させるプログラムを記録したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒体。