WO2010079645A1

WO2010079645A1 - 噴射装置、及び液滴配置方法

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Publication number: WO2010079645A1
Application number: PCT/JP2009/067603
Authority: WO
Inventors: 健二河添
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2009-01-06
Filing date: 2009-10-09
Publication date: 2010-07-15
Also published as: US8794180B2; US20110274848A1

Abstract

マルチノズル手段が不良ノズルを一部含む場合であっても、そのマルチノズル手段を用いて液滴を噴射して、液滴量のばらつきを抑制しつつ、基板上のスペーサ領域に液滴を配置できる噴射装置の提供を目的とする。本発明の噴射装置１は、スペーサ分散液を噴射する複数個のノズル３１からなるノズル列３４を等分してなる一対のノズル列ユニット３５を有するマルチノズル手段３と、マルチノズル手段３と基板２とを相対的にスペーサ領域２１の長手方向及び並列方向に移動させる移動手段４と、各ノズル３１の噴射及び移動手段４の移動を制御する制御手段５とを備える。制御手段５は、一方のノズル列ユニットが不良ノズルを含む場合、不良ノズルに対してスペーサ分散液を噴射しないように指示し、かつ他方のノズル列ユニットの対応ノズルに対して往路の周期及び復路の周期をそれぞれ半分にするように指示する。

Description

噴射装置、及び液滴配置方法

　本発明は、スペーサ等を含む液を噴射して、ＴＦＴ基板等の所定個所に液滴を配置する噴射装置、及び液滴配置方法に関する。

　液晶表示装置として、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板と、カラーフィルタ（ＣＦ）基板との間に液晶材料を封入した液晶表示パネルを備えたものが知られている。この種の液晶表示パネルは、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に、球状の樹脂微粒子等からなるスペーサを介在させて、液晶材料を入れる隙間（セルギャップ）を確保している。

　このスペーサは、画像表示の妨げとならず、かつ、均一なセルギャップが得られるように、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に介在させる必要がある。具体的には、ＣＦ基板上の格子状のブラックマトリックス領域に沿うように介在させる必要がある。

　上記のようにスペーサを介在させるためには、予めＣＦ基板のブラックマトリックス領域上にスペーサを配置しておくか、又は予めＴＦＴ基板の前記ブラックマトリックス領域に対応した個所（例えば、ゲートライン）上にスペーサを配置しておく必要がある。ブラックマトリックス領域の幅は、数十ミクロン程度であり非常に狭く、精度よくスペーサを配置することが望まれる。

　このようにスペーサをＣＦ基板等の所定の位置に配置するために、従来、インクジェット装置が用いられている。インクジェット装置のノズルより、スペーサを分散させた液滴を噴射して、基板の所定の個所上にその液滴を配置している。基板上に配置された液滴は、その後、有機溶媒が揮発により失われ、スペーサのみが基板上に留まる。

　インクジェット装置としては、特許文献１に示されるように、複数個のノズルを有するインクジェットヘッド（マルチノズルヘッド）を用いたものが知られている。このようなインクジェットヘッドを用いれば、一度の噴射によって基板上に複数の液滴を配置することができ、生産効率を向上できる。

特開平１１－２４０８３号公報

　複数個のノズルを有するインクジェットヘッド（マルチノズルヘッド）において、一部のノズルのみに不良が発生する場合がある。具体的には、一部のノズルが目詰まりして液滴を噴射できなくなる場合、又は一部のノズルが目詰まりして液滴が逸れて噴射されてしまう場合（所謂、横飛び）等がある。このような不具合を有する不良ノズルをそのまま使用すると、液滴を基板の所定の位置に配置することができず、液晶表示パネルに表示ムラが発生してしまい、問題となる。図７は、不良ノズルを含んだマルチノズルヘッドを用いて、スペーサ６が配置されたＴＦＴ基板２’を有する液晶表示パネル２０’の概略を示す説明図である。図７に示されるように、液晶表示パネル２０’は、向かい合うように配置されたＣＦ基板２と、ＴＦＴ基板２’とからなる。なお、説明の便宜上、図７には、液晶表示パネル２０’の主要な構成のみが示される。

　本来、スペーサ６は、均一なセルギャップの確保等のため、ＴＦＴ基板２’のゲートライン２１’と、ＣＦ基板２のブラックマトリックス領域２１との間に配置されるべきものである。しかしながら、図７に示されるように不良ノズルから噴射されてＴＦＴ基板２’のゲートライン２１’上ではなく、画素電極８’上にスペーサ６が配置されると、スペーサ６によって確保される隙間が不均一となり、問題となる。また、スペーサ６が画素電極８’上に存在すると、スペーサ６が光の透過を妨げ、画質の低下を引き起こすことがあり、問題となる。

　したがって、不良ノズルが発生した場合、マルチノズルヘッドをインクジェット装置より取り外して、超音波洗浄等により不良ノズルの修復を行うことが望まれる。

　しかしながら、この種のマルチノズルヘッドは、複数個の液滴を一度に基板の所定の個所に配置できるように、非常に高精度に位置決めされている。そのため、安易にマルチノズルヘッドをインクジェット装置から取り外して修復を行うことができない。一旦、取り外すと、再度マルチノズルヘッドを位置決めするのに非常に時間と労力がかかってしまい問題となっている。

　また、マルチノズルヘッドは、それぞれのノズルから噴射される液滴量に差があり、基板上に配置されるスペーサ量にばらつきが生じることがある。複数個のノズルをそのまま並進させて液滴を噴射すると、基板上にスペーサが多く配置される個所と、少なく配置される個所とが発生し、セルギャップが不均一となることがあり、問題となっている。

　本発明の目的は、マルチノズル手段が不良ノズルを一部含む場合であっても、そのマルチノズル手段を用いて液滴を噴射して、液滴量（スペーサ量）のばらつきを抑制しつつ、基板上のスペーサ領域に液滴を配置できる噴射装置を提供することである。

　更に、本発明の目的は、不良ノズルを一部含むマルチノズル手段を使用して、液滴量（スペーサ量）のばらつきを抑制しつつ、基板上のスペーサ領域に液滴を配置できる液滴配置方法を提供することである。

　本発明に係る噴射装置は、スペーサを溶媒に分散させてなるスペーサ分散液を噴射して、基板上のスペーサ領域に該スペーサ分散液の液滴を配置する噴射装置であって、各スペーサ領域とそれぞれ対向するように並び、前記スペーサ分散液を噴射する複数個のノズル、からなるノズル列を等分してなる一対のノズル列ユニットを有するマルチノズル手段と、前記ノズルが前記スペーサ領域に沿って並進するように、前記マルチノズル手段と、前記基板とを相対的に該スペーサ領域の長手方向に移動させ、かつ、前記ノズルと対向するスペーサ領域が変更するように、前記マルチノズル手段と、前記基板とを相対的に該スペーサ領域の並列方向に移動させる移動手段と、マルチノズル手段が前記長手方向を往復移動し、折り返す度にマルチノズル手段がノズル列ユニット分だけ前記並列方向へ移動するように移動手段に対して指示し、往路において、スペーサ領域上に液滴が所定間隔で配置される周期で、スペーサ分散液が噴射されるように各ノズルに対して指示し、復路において、往路でスペーサ領域上に配置された隣り合う液滴の間に液滴が配置されるように、往路と同じ周期で、スペーサ分散液が噴射されるように各ノズルに対して指示する制御手段と、を備え、前記制御手段は、一対のノズル列ユニットのうち、一方のノズル列ユニットが不良ノズルを含む場合、該不良ノズルに対して、前記スペーサ分散液を噴射しないように指示し、かつ、他方のノズル列ユニットにおける、該不良ノズルの個所に対応した個所のノズルに対して、前記往路の周期及び前記復路の周期をそれぞれ半分にするように、指示することを特徴とする。

　前記噴射装置において、前記基板がＴＦＴ基板であり、前記スペーサ領域がゲートラインであることが好ましい。

　前記噴射装置において、前記基板がＣＦ基板であり、前記スペーサ領域がブラックマトリックス領域であることが好ましい。

　また、本発明に係る液滴配置方法は、基板上のスペーサ領域とそれぞれ対向するように並び、スペーサを溶媒に分散させてなるスペーサ分散液を噴射する複数個のノズル、からなるノズル列を等分してなる一対のマルチノズル手段を有する噴射装置を用いて該スペーサ領域に該スペーサ分散液の液滴を配置する液滴配置方法であって、前記ノズルが前記スペーサ領域に沿って並進するように、前記マルチノズル手段と、前記基板とを相対的に該スペーサ領域の長手方向に移動させ、該スペーサ領域上に液滴が所定間隔で配置される周期で、各ノズルからスペーサ分散液を噴射させる往路工程と、前記ノズルが前記スペーサ領域に沿って並進するように、前記マルチノズル手段と、前記基板とを相対的に該スペーサ領域の長手方向に移動させ、往路でスペーサ領域上に配置された隣り合う液滴の間に液滴が配置されるように、往路と同じ周期で、各ノズルからスペーサ分散液を噴射させる復路工程と、折り返す度に、前記ノズルと対向するスペーサ領域が変更するようにマルチノズル手段をノズル列ユニット分だけ前記並列方向へ相対的に移動させる並列方向移動工程と、を有し、一対のノズル列ユニットのうち、一方のノズル列ユニットが不良ノズルを含む場合、前記往路工程及び前記復路工程において、該不良ノズルから前記スペーサ分散液を噴射せず、かつ、他方のノズル列ユニットにおける、前記不良ノズルの個所に対応した個所のノズルから、前記往路の周期及び復路の周期の半分の周期で、前記スペーサ分散液を噴射させる、ことを特徴とする。

　前記液滴配置方法において、前記基板がＴＦＴ基板であり、前記スペーサ領域がゲートラインであることが好ましい。

　前記液滴配置方法において、前記基板がＣＦ基板であり、前記スペーサ領域がブラックマトリックス領域であることが好ましい。

　本発明の噴射装置は、不良ノズルを一部含む場合であっても、その不良ノズルの使用のみを停止すれば、基板上のスペーサ領域に配置されるスペーサ量のばらつきを抑制しつつ、そのままマルチノズル手段を利用できる。

　本発明の液滴配置方法によれば、不良ノズルを一部含むマルチノズル手段を使用しても、基板上のスペーサ領域に配置されるスペーサ量のばらつきを抑制できる。

噴射装置の構成を示す説明図である。（ａ）マルチノズル手段の側面図であり、（ｂ）マルチノズル手段３の平面図である。マルチノズル手段の往路工程を示す説明図である。マルチノズル手段の並列方向移動工程を示す説明図である。マルチノズル手段の復路工程を示す説明図である。スペーサ領域にスペーサが配置されたＣＦ基板を有する液晶表示パネルの構成を示す説明図である。スペーサ領域を外れたスペーサが基板間に介在する液晶表示パネルの構成を示す説明図である。

　以下、図面を用いて本発明に係る実施の形態について、詳細に説明する。

　図１は、噴射装置１の構成を示す説明図である。噴射装置１は、球状の樹脂粒子からなるスペーサを有機溶媒に分散させてなるスペーサ分散液を噴射する装置である。本実施形態において使用されるスペーサ（スペーサビーズ）は、ジビニルベンゼンポリマーからなり、その粒径は、２．７μｍ～３．２μｍである。有機溶媒としては、イソプロピルアルコール、及びエチレングリコールが用いられる。

　図１に示されるように、噴射装置１は、マルチノズル手段３と、基板２を載せて移動させる移動手段４と、制御手段５とを備える。

　本実施形態において、基板２は、ＣＦ基板からなる。この基板（ＣＦ基板）２上には、ブラックマトリックス領域が格子状に形成されている。本実施形態においては、格子状のブラックマトリックス領域のうち、一方向に沿って平行に配列した複数本のブラックマトリックス領域２１にスペーサが配置されるものとする。本明細書において、このブラックマトリックス領域２１等のスペーサが配置されるべき領域を、特に、スペーサ領域と称する。本実施形態において、スペーサ領域２１同士は、基板２上において互いに平行であり、かつ略等間隔を保って配置されている。

　なお、このＣＦ基板をＴＦＴ基板に重ねた時、ＣＦ基板のブラックマトリックス領域（スペーサ領域２１）は、ＴＦＴ基板上のゲートラインと向かい合う。

　本実施形態においては、基板２としてＣＦ基板を選択したが、他の実施形態においては、基板２としてＴＦＴ基板２’を選択してもよい。基板２としてＴＦＴ基板２’を選択した場合、スペーサは、ゲートライン上に配置されることになる。この場合、ゲートラインがスペーサ領域２１’となる。

　図２は、マルチノズル手段３の構成を示す説明図である。図２（ａ）は、マルチノズル手段３の側面図であり、図２（ｂ）は、マルチノズル手段３の平面図である。前記マルチノズル手段３は、図１及び図２に示されるように、スペーサ分散液を噴出する複数個のノズル３１を有する。本実施形態においては、６個のノズル３１（３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅ及び３１ｆ）を有する。これらのノズル３１は、共通のスペーサ分散液供給路３２とそれぞれ連絡している。図示されない供給タンクより運ばれてきたスペーサ分散液（図２（ａ）における矢印）は、このスペーサ分散液供給路３２を通って、各ノズル３１から噴出される。

　各ノズル３１と前記スペーサ分散液供給路３２との間には、噴出時間及び噴出量等を調節可能なアクチュエータ３３がそれぞれ備えられている。このアクチュエータ３３は圧電素子（図示せず）を有し、この圧電素子は、印加される電圧の大きさに応じてスペーサ分散液を噴射するように、又はスペーサ分散液を噴射させないように、その形状が変化する。

　前記ノズル３１は、略等間隔を保って一列に並んでいる。これらのノズル３１同士の間隔は、基板２上のスペーサ領域２１同士の間隔に対応している。つまり、マルチノズル手段３を基板２上に配置した際、各ノズル３１がそれぞれ異なるスペーサ領域２１と向かい合うように、ノズル３１同士の間隔が設定されている。

　本明細書において、一列に並んだノズル３１の列を、特に、ノズル列３４と称する。マルチノズル手段３は、このノズル列３４を等分するように区切られた一対のノズル列ユニット３５（３５ａ、３５ｂ）を有する。本実施形態におけるノズル列ユニット３５は、それぞれ３個のノズル３１を含む。

　マルチノズル手段３は、図１に示されるように、前記基板２の上方において、各ノズル３１がそれぞれ異なるスペーサ領域２１（ブラックマトリックス領域）と向かい合うように配置される。なお、本実施形態においては、ノズル列３４の列方向がスペーサ領域２１の並列方向（図１における矢印Ｘ方向）と平行となるように、マルチノズル手段３が配置される。つまり、ノズル列３４がスペーサ領域２１の長手方向（図１における矢印Ｙ方向）と垂直となるように、マルチノズル手段３が配置される。

　なお、他の実施形態においては、ノズル列３４が前記並列方向（又は長手方向）に対して傾斜するように、マルチノズル手段３を前記基板２上に配置させてもよい。このような場合においても、マルチノズル手段３は、各ノズル３１がそれぞれ異なるスペーサ領域２１と向かい合うように基板２上に配置される。

　前記移動手段４は、前記基板２を載せる支持台４１を有する。支持台４１は、図示されない駆動手段によって、基板２を載せた状態で、基板２の並列方向（Ｘ方向）及び長手方向（Ｙ方向）に移動できる。

　前記移動手段４が、前記長手方向（Ｙ方向）に移動すると、基板２の上方に配置するマルチノズル手段３の各ノズル３１は、基板２上のスペーサ領域２１に沿って並進する。

　前記移動手段４が、前記並列方向（Ｘ方向）に移動すると、基板２の上方に配置するマルチノズル手段３の各ノズル３１は、それぞれ向かい合うスペーサ領域２１が変更する。

　本実施形態においては、基板２を載せた移動手段４を、上記のようにＸ方向及びＹ方向に移動させることによって、マルチノズル手段３を、移動手段４上の基板２に対して、相対的に移動させることができる。なお、他の実施形態においては、マルチノズル手段３を、所定の駆動手段を用いて基板２上方を移動させてもよい。

　前記制御手段５は、ＣＰＵを中心としたマイクロプロセッサからなる。図１に示されるように、制御手段５とマルチノズル手段３の各ノズル３１（アクチュエータ３３）とは、信号線Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４、Ｓ５及びＳ６によってそれぞれ電気的に接続され、また制御手段５と移動手段４とは信号線Ｓ１１によって電気的に接続されている。

　前記制御手段５は、マルチノズル手段３の各ノズル３１が基板２のスペーサ領域２１の上方を長手方向に沿って並進するように、移動手段４に対して移動指令（長手方向移動指令）を出す。

　更に、前記制御手段５は、マルチノズル手段３が前記長手方向を移動し終えた後、折り返して再び長手方向を移動する前に、マルチノズル手段３がノズル列ユニット３５の長さ分だけ並列方向（Ｘ方向）に位置がずれるように、移動手段４に対して移動指令（並列方向移動指令）を出す。

　また、前記制御手段５は、往路において、スペーサ領域上に液滴が所定間隔（例えば、等間隔）で配置される周期で、スペーサ分散液が噴射されるように、マルチノズル手段３の各ノズル３１（ノズル３１のアクチュエータ３３）に対して指令（往路噴射指令）を出す。

　更に、前記制御手段５は、復路において、往路でスペーサ領域上に配置された隣合う液滴の間に液滴が配置されるように、往路と同じ周期で、スペーサ分散液が噴射されるように、マルチノズル手段３の各ノズル３１（ノズル３１のアクチュエータ３３）に対して指令（復路噴射指令）を出す。

　特に、前記制御手段５は、上記一対のノズル列ユニット３５のうち、一方のノズル列ユニットが不良ノズルを含む場合、その不良ノズルに対して、スペーサ分散液を噴射しないように指令（噴射停止指令）を出す。
　この場合において、更に前記制御手段５は、他方のノズル列ユニットにおける、前記不良ノズルの個所に対応した個所のノズルに対して、前記往路の周期及び前記復路の周期をそれぞれ半分にするように指令（周期変更指令）を出す。

　ここで、一方のノズル列ユニットの不良ノズルと、他方のノズル列ユニットにおける対応したノズルとの関係を図１及び図２（ｂ）を用いて説明する。図１及び図２（ｂ）において示される左右一対のノズル列ユニット３５ａ、３５ｂのうち、右側のノズル列ユニット３５ｂが、その左端に不良ノズル３１ｄを含む場合、左側のノズル列ユニット３５ａにおける左端のノズル３１ａが、前記不良ノズル３１ｄの個所に対応した個所のノズル（対応ノズル）となる。
　この場合、制御手段５より噴射停止指令が、信号線Ｓ４を介して不良ノズル３１ｄに対し送信され、かつ、制御手段５より周期変更指令が信号線Ｓ１を介して対応ノズル３１ａに対し送信される。

　次いで、噴射装置１の動作、及びこの噴射装置１を用いてスペーサを含んだ液滴を基板２のスペーサ領域２１上に配置する方法（液滴配置方法）を、図１及び図２と共に、図３～図５を用いて説明する。なお、液滴配置方法は、本実施形態に係る噴射装置１を用いて実施できる。

＜往路工程＞
　図３は、マルチノズル手段３の往路工程を示す説明図である。図３において、破線で示したマルチノズル手段３は、初期位置に配置するマルチノズル手段３を表す。この初期位置においてマルチノズル手段３は、一対のノズル列ユニット３５ａ、３５ｂのうち、一方のノズル列ユニット３５ｂのノズル３１ｄ、３１ｅ及び３１ｆのみが、基板２上のスペーサ領域２１とそれぞれ向かい合うように、設定されている。なお、図３において格子状のブラックマトリックス領域の間にＲＧＢカラーフィルタ８が配列している。

　図３において、右側のノズル列ユニット３５ｂの３個のノズル３１ｄ、３１ｅ及び３１ｆのうち、左端のノズル３１ｄが不良ノズル３１ｄであり、左側のノズル列ユニット３５ａの３個のノズル３１ａ、３１ｂ及び３１ｃのうち、左端のノズル３１ａが前記不良ノズル３１ｄに対応したノズル（対応ノズル３１ａ）である。
　制御手段５は、不良ノズル３１ｄに対して噴射停止指令を送信し、対応ノズル３１ａに対して周期変更指令を送信し、６個のノズル３１のうち、不良ノズル３１ｄ及び対応ノズル３１ａを除いた４個のノズル３１ｂ、３１ｃ、３１ｅ及び３１ｆ（通常ノズル）に対して、前記往路噴射指令を送信する。また、制御手段５は、基板２を載せた移動手段４に対して、前記長手方向移動指令を送信する。

　以上のように制御手段５から各ノズル３１及び移動手段４に対してそれぞれ指令が送信されると、マルチノズル手段３の各ノズル３１が、基板２上のスペーサ領域２１に沿って一定速度で長手方向（往路工程）を並進する。

　この際、前記通常ノズル３１ｂ、３１ｃ、３１ｅ及び３１ｆからは、スペーサ分散液の液滴６０が一定の周期（Ｔ）で噴射される。この通常ノズル３１が通過した後のスペーサ領域２１上には、液滴６０が略等間隔に配置される。なお、この液滴６０中には、通常、複数個のスペーサが含まれている。

　また、この際、不良ノズル３１ｄからは液滴が噴射されないため、不良ノズル３１ｄが通過した後のスペーサ領域２１上には液滴が配置されない。また、この際、対応ノズル３１ａからは、前記通常ノズル３１ｂ、３１ｃ、３１ｅ及び３１ｆの周期の半分の周期（Ｔ／２）で、液滴が噴射される。つまり、一定時間内における対応ノズル３１ａの噴射回数は、通常ノズル３１ｂ、３１ｃ、３１ｅ及び３１ｆの噴射回数の２倍となる。この対応ノズル３１が通過した後のスペーサ領域２１上には、通常ノズル３１ｂ、３１ｃ、３１ｅ及び３１ｆが通過した後に配置された液滴同士の間隔の略半分の間隔を保って、液滴６０が配置される。

＜並列方向移動工程＞
　図４は、マルチノズル手段３の並列方向移動工程を示す説明図である。図４において、一点鎖線で示されるマルチノズル手段３は、往路工程後のマルチノズル手段３を表す。この往路工程後のマルチノズル手段３は、折り返して復路工程へ移行する前に、ノズル列ユニット３５の長さ分だけ、スペーサ領域２１の並列方向に移動する。この並列方向におけるマルチノズル手段３の移動は、制御手段５から基板２を載せた移動手段４に対して送信される並列方向移動指令に基づくものである。

　この際、一対のノズル列ユニット３５ａ、３５ｂのうち、不良ノズル３１ｄを含む右側のノズル列ユニット３５ｂは、それぞれ未だ液滴が配置されていないスペーサ領域２１上へ移動し、対応ノズル３１ａを含む左側のノズル列ユニット３１ａは、往路工程において右側のノズル列ユニット３５ｂが一度、通過したスペーサ領域２１上へ移動することになる。つまり、対応ノズル３１ａは、往路工程において不良ノズル３１ｄが通過した、液滴が配置されていないスペーサ領域２１上と向かい合うことになる。

　なお、この並列方向移動工程においては、全てのノズル３１の液滴噴射を停止してもよい。そのため、全てのノズル３１からの噴射が並列方向移動工程の間、停止するように、制御手段５からすべてのノズル３１に対して噴射一時停止指令を送信してもよい。

＜復路工程＞　
　図５は、マルチノズル手段３の復路工程を示す説明図である。図５において、一点鎖線で示されるマルチノズル手段３は、並列方向移動工程後のマルチノズル手段３を表す。マルチノズル手段３がこの状態にある際、制御手段５は、不良ノズル３１ｄ及び対応ノズル３１ａを除いた４個のノズル３１ｂ、３１ｃ、３１ｅ及び３１ｆ（通常ノズル）に対して、復路噴射指令を送信する。更に、不良ノズル３１ｄに対して噴射停止指令を送信し、対応ノズル３１ａに対して周期変更指令を送信する。また、制御手段５は、基板２を載せた移動手段４に対して、前記長手方向移動指令を送信する。

　以上のように制御手段５から各ノズル３１及び移動手段４に対してそれぞれ指令が送信されると、マルチノズル手段３の各ノズル３１が、基板２上のスペーサ領域２１に沿って一定速度で復路工程（長手方向）を並進する。
　この際、前記通常ノズル３１ｂ、３１ｃ、３１ｅ及び３１ｆからは、スペーサ分散液６１の液滴が一定の周期（Ｔ）で噴射される。なお、説明の便宜上、図５に示されるように、復路工程で配置された液滴６１を三角で表し、往路工程で配置された液滴６０は円で表した。この通常ノズル３１ｂ、３１ｃ、３１ｅ及び３１ｆが通過した後のスペーサ領域２１上には、液滴６１が、往路でスペーサ領域２１上に等間隔で配置された隣り合う液滴６０の間に液滴６１が配置される。
　また、この際、不良ノズル３１ｄからは液滴が噴射されないため、不良ノズル３１ｄが通過した後のスペーサ領域２１上には液滴が配置されない。また、この際、対応ノズル３１ａからは、前記通常ノズル３１ｂ、３１ｃ、３１ｅ及び３１ｆの周期Ｔ（復路工程の周期）の半分の周期（Ｔ／２）で、液滴が噴射される。つまり、一定時間内における対応ノズル３１ａの噴射回数は、通常ノズル３１ｂ、３１ｃ、３１ｅ及び３１ｆの噴射回数の２倍となる。この対応ノズル３１ａが通過した後のスペーサ領域２１上には、通常ノズル３１ｂ、３１ｃ、３１ｅ及び３１ｆが通過した後に配置された液滴６１同士の間隔の略半分の間隔を保って、液滴６１が配置される。

　以上のようにして、噴射装置１のマルチノズル手段３が不良ノズル３１ｄを含む場合であっても、そのマルチノズル手段３を用いて、基板２上にスペーサを含んだ液滴６０、６１を均一に配置できる。このようにスペーサを含んだ液滴をＣＦ基板のスペーサ領域（ブラックマトリックス領域）に配置すると、液滴の有機溶媒が揮発して、スペーサのみがスペーサ領域に残る。

　図６は、本実施形態に係る噴射装置１を用いてスペーサ６が配置されたＣＦ基板２を用いて製造された液晶表示パネル２０の概略を示す説明図である。図６に示されるように、スペーサ６がブラックマトリックス領域２１上に配置されたＣＦ基板２に、ＴＦＴ基板２’が重ねられており、これらの基板２、２’間に液晶材料９が封入されている。なお、説明の便宜上、ＣＦ基板２としては、透明基板７と、その表面に形成されるマトリックス領域２１と、カラーフィルタ８のみを示し、ＴＦＴ基板２’としては、透明基板７’と、その表面に形成されるゲートライン２１’と、画素電極８’のみを示した。図６に示されるように、スペーサ６は、ＣＦ基板２のブラックマトリクス領域２１と、ＴＦＴ基板２’のゲートライン２１’との間に介在している。このように、スペーサ６がＣＦ基板２とＴＦＴ基板２’との間に介在されていると、これらの基板間の隙間（セルギャップ）が均一に保持される。

　他の実施形態として、例えば、格子状にブラックマトリックス領域が形成された透明基板７上に、カラーフィルタ８の材料となる樹脂液（カラーフィルタ用樹脂液）を、ブラックマトリックス領域で区画された領域毎に滴下する場合に、噴射装置１を用いてもよい。

　このカラーフィルタ用樹脂液を噴射する装置は、以下の通りである。

　カラーフィルタ用樹脂液を噴射して、基板上の並列した格子状のブラックマトリックス領域で区画された画素領域に、該カラーフィルタ用樹脂液を噴射して、該カラーフィルタ用樹脂液の液滴を配置する噴射装置であって、
　各列の画素領域とそれぞれ対向するように並び、前記カラーフィルタ用樹脂液を噴射する複数個のノズル、からなるノズル列を等分してなる一対のノズル列ユニットを有するマルチノズル手段と、
　前記ノズルが前記画素領域に沿って並進するように、前記マルチノズル手段と、前記基板とを相対的に該画素領域の長手方向に移動させ、かつ、前記ノズルと対向する画素領域が変更するように、前記マルチノズル手段と、前記基板とを相対的に該画素領域の並列方向に移動させる移動手段と、
　マルチノズル手段が前記長手方向を往復移動し、折り返す度にマルチノズル手段がノズル列ユニット分だけ前記並列方向へ移動するように移動手段に対して指示し、
　往路において、画素領域上に液滴が所定間隔で配置される周期で、カラーフィルタ用樹脂液が噴射されるように各ノズルに対して指示し、
　復路において、往路で画素領域上に配置された隣り合う液滴の間に液滴が配置されるように、往路と同じ周期で、カラーフィルタ用樹脂液が噴射されるように各ノズルに対して指示する制御手段と、を備え、
　前記制御手段は、一対のノズル列ユニットのうち、一方のノズル列ユニットが不良ノズルを含む場合、
　該不良ノズルに対して、前記カラーフィルタ用樹脂液を噴射しないように指示し、かつ、
　他方のノズル列ユニットにおける、該不良ノズルの個所に対応した個所のノズルに対して、前記往路の周期及び前記復路の周期をそれぞれ半分にするように、指示することを特徴とする噴射装置。

Claims

　スペーサを溶媒に分散させてなるスペーサ分散液を噴射して、基板上のスペーサ領域に該スペーサ分散液の液滴を配置する噴射装置であって、
　各スペーサ領域とそれぞれ対向するように並び、前記スペーサ分散液を噴射する複数個のノズル、からなるノズル列を等分してなる一対のノズル列ユニットを有するマルチノズル手段と、
　前記ノズルが前記スペーサ領域に沿って並進するように、前記マルチノズル手段と、前記基板とを相対的に該スペーサ領域の長手方向に移動させ、かつ、前記ノズルと対向するスペーサ領域が変更するように、前記マルチノズル手段と、前記基板とを相対的に該スペーサ領域の並列方向に移動させる移動手段と、
　　マルチノズル手段が前記長手方向を往復移動し、折り返す度にマルチノズル手段がノズル列ユニット分だけ前記並列方向へ移動するように移動手段に対して指示し、
　　往路において、スペーサ領域上に液滴が所定間隔で配置される周期で、スペーサ分散液が噴射されるように各ノズルに対して指示し、
　　復路において、往路でスペーサ領域上に配置された隣り合う液滴の間に液滴が配置されるように、往路と同じ周期で、スペーサ分散液が噴射されるように各ノズルに対して指示する制御手段と、を備え、
　前記制御手段は、一対のノズル列ユニットのうち、一方のノズル列ユニットが不良ノズルを含む場合、
　該不良ノズルに対して、前記スペーサ分散液を噴射しないように指示し、かつ、
　他方のノズル列ユニットにおける、該不良ノズルの個所に対応した個所のノズルに対して、前記往路の周期及び前記復路の周期をそれぞれ半分にするように、指示することを特徴とする噴射装置。
　前記基板がＴＦＴ基板であり、前記スペーサ領域がゲートラインである請求項１に記載の噴射装置。
　前記基板がＣＦ基板であり、前記スペーサ領域がブラックマトリックス領域である請求項１に記載の噴射装置。
　基板上のスペーサ領域とそれぞれ対向するように並び、スペーサを溶媒に分散させてなるスペーサ分散液を噴射する複数個のノズル、からなるノズル列を等分してなる一対のマルチノズル手段を有する噴射装置を用いて該スペーサ領域に該スペーサ分散液の液滴を配置する液滴配置方法であって、
　前記ノズルが前記スペーサ領域に沿って並進するように、前記マルチノズル手段と、前記基板とを相対的に該スペーサ領域の長手方向に移動させ、該スペーサ領域上に液滴が所定間隔で配置される周期で、各ノズルからスペーサ分散液を噴射させる往路工程と、
　前記ノズルが前記スペーサ領域に沿って並進するように、前記マルチノズル手段と、前記基板とを相対的に該スペーサ領域の長手方向に移動させ、往路でスペーサ領域上に配置された隣り合う液滴の間に液滴が配置されるように、往路と同じ周期で、各ノズルからスペーサ分散液を噴射させる復路工程と、
　折り返す度に、前記ノズルと対向するスペーサ領域が変更するようにマルチノズル手段をノズル列ユニット分だけ前記並列方向へ相対的に移動させる並列方向移動工程と、を有し、
　一対のノズル列ユニットのうち、一方のノズル列ユニットが不良ノズルを含む場合、
　前記往路工程及び前記復路工程において、該不良ノズルから前記スペーサ分散液を噴射せず、かつ、他方のノズル列ユニットにおける、前記不良ノズルの個所に対応した個所のノズルから、前記往路の周期及び復路の周期の半分の周期で、前記スペーサ分散液を噴射させる、ことを特徴とする液滴配置方法。