WO2006118089A1

WO2006118089A1 - 溶液の塗布装置及び塗布方法

Info

Publication number: WO2006118089A1
Application number: PCT/JP2006/308594
Authority: WO
Inventors: Takahiro Yamazaki
Original assignee: Shibaura Mechatronics Corporation
Priority date: 2005-04-28
Filing date: 2006-04-25
Publication date: 2006-11-09
Also published as: CN1976761A; JPWO2006118089A1; JP5244758B2; TW200701304A; JP2010005619A; CN1976761B; TWI302333B; JP4538002B2

Abstract

　凹凸部が規則的に形成された凹凸パターン（１５）を有する基板に溶液を塗布する溶液の塗布装置であって、ノズル（３４）を有し、ノズルから溶液を基板に滴下塗布する塗布ヘッド（２２）と、基板と塗布ヘッドとを相対的に移動させる載置テーブル（１３）と、載置テーブルによって基板と塗布ヘッドとを相対的に移動させるときにこれらの相対的移動方向を基板に形成された凹凸パターンの凹凸部の配置方向に対して所定角度ずらすよう制御する制御装置（４１）とを具備する。

Description

明細書

溶液の塗布装置及び塗布方法

技術分野

[0001] 本発明は、発明は基板に溶液をインクジェット方式で吐出して塗布する溶液の塗布装置及び塗布方法に関する。

背景技術

[0002] たとえば、液晶表示装置の製造工程においては、ガラス製の基板に回路パターンを形成するための成膜プロセスがある。この成膜プロセスでは、基板の板面にたとえば配向膜やレジストなどの機能性薄膜が形成される。

[0003] 基板に機能性薄膜を形成する場合、この機能性薄膜を形成する溶液をノズルから吐出して基板の板面に塗付するインクジェット方式の塗布装置が用いられることがある。

[0004] この塗付装置は、基板を搬送する載置テーブルを有しており、この載置テーブルの上方には、上記ノズルが穿設された複数の塗布ヘッドが基板の搬送方向に対してほぼ直交する方向に沿って設けられて、る。

[0005] それによつて、搬送される基板の上面には複数のノズルから吐出された溶液が搬送方向と交差する方向に所定間隔で塗布されるようになっている。基板に溶液をインクジェット方式で塗布する先行技術は、たとえば特許文献 1に示されて、る。

特許文献 1 :特開平 9— 105937号公報

発明の開示

[0006] 液晶表示装置がアクティブマトリックス方式の場合、上記溶液が塗布される上記基板の板面には、透明導電膜によって電極が光学的に格子状に形成されている。それによって、基板の板面には上記電極が設けられた部分が凸部となり、設けられていない部分が凹部となる凹凸パターンが形成されている。つまり、基板の板面には上記電極によって規則的な凹凸部力もなる凹凸パターンが形成されている。

[0007] 一方、上記塗布ヘッドの複数のノズルからは、所定方向に搬送される基板に対して液滴が一定のタイミングで吐出される。それによつて、上記基板には液滴が規則的に塗布される。基板に塗布された液滴は流動して一体化し、所定の厚さの機能性薄膜を形成することになる。

[0008] 基板に形成される機能性薄膜は厚さが均一であることが要求される。し力しながら、規則的な凹凸部が形成された基板の板面に、塗布ヘッドに設けられた複数のノズル力液滴を一定のタイミングで吐出させて塗布すると、そのタイミングによって各ノズルから基板に塗布された液滴が基板に規則的に形成された凹凸部の凹部に集中して滴下されるとヽぅことがある。

[0009] 凹部に滴下された液滴は凸部を形成する電極に邪魔されて周囲に流動し難い。その結果、凹部に滴下された液滴は電極上に十分に広がることができず、電極上でその膜厚が薄くなるので、基板に塗布された液滴によって形成される機能性薄膜は、凸部に対応する部分の膜厚が他の部分の膜厚よりも薄くなり、基板に形成された凹凸部に対応して縞状の筋やまだら模様などのムラが生じ、機能性薄膜の品質が低下するということがあった。

[0010] この発明は、基板上に塗布された溶液によって形成される薄膜にムラが発生することを防止することができるようにした溶液の塗布装置及び塗布方法を提供することにある。

[0011] この発明は、凹凸部が規則的に形成された凹凸パターンを有する基板に溶液を塗布する溶液の塗布装置であって、

ノズルを有し、このノズルカゝら上記溶液を上記基板に滴下塗布する塗布ヘッドと、上記基板と上記塗布ヘッドとを相対的に移動させる駆動手段と、

この駆動手段によって上記基板と上記塗布ヘッドとを相対的に移動させるときにこれらの相対的移動方向を上記基板に形成された上記凹凸パターンの凹凸部の配置方向に対して所定角度ずらすよう制御する制御手段と

を具備したことを特徴とする溶液の塗布装置にある。

[0012] この発明は、凹凸部が規則的に形成された凹凸パターンを有する基板に溶液を塗布する溶液の塗布装置であって、

ノズルを有し、このノズルカゝら上記溶液を上記基板に滴下塗布する塗布ヘッドと、上記基板と上記塗布ヘッドとを相対的に移動させる駆動手段と、この駆動手段によって上記基板と上記塗布ヘッドとを相対的に移動させるときにこれらの相対的移動方向を上記基板に形成された上記凹凸パターンの凹凸部の配置方向に対して所定角度ずらすよう制御する制御手段と

を具備したことを特徴とする溶液の塗布装置にある。

[0013] この発明は、凹凸部が規則的に形成された凹凸パターンを有する基板に溶液を塗布する溶液の塗布装置であって、

を具備したことを特徴とする溶液の塗布装置にある。

[0014] この発明は、凹凸部が規則的に形成された凹凸パターンを有する基板に溶液を塗布する溶液の塗布装置であって、

上記塗布ヘッドと上記駆動手段とを制御して上記基板に液滴の塗布パターンを形成する制御装置とを有し、

上記制御装置は、上記塗布パターンにおける液滴の配列方向を上記凹凸パターンの凹凸部の配置方向に対して所定角度ずらすように上記塗布ヘッドと上記駆動手段とを制御することを特徴とする溶液の塗布装置にある。

[0015] この発明は、凹凸部が規則的に形成された凹凸パターンを有する基板に溶液を塗布する溶液の塗布装置であって、

列状に配置された複数のノズルを有し、このノズルから上記溶液を上記基板に滴下塗布する塗布ヘッドと、

上記基板と上記塗布ヘッドとを相対的に移動させる駆動手段と、

上記塗布ヘッドと上記駆動手段とを制御して上記基板に液滴の塗布パターンを形成する制御装置とを具備し、上記塗布ヘッドは、上記ノズルの配置方向が上記基板に形成された上記凹凸バターンの配置方向に対して所定角度ずらして配置されていることを特徴とする溶液の塗布装置にある。

[0016] この発明は、凹凸部が規則的に形成された凹凸パターンを有する基板に、塗布へッドのノズルから吐出させた溶液を塗布する溶液の塗布方法であって、

上記基板と上記塗布ヘッドとを相対的に移動させる工程と、

上記基板と上記塗布ヘッドとを相対的に移動させるときにこれらの相対的移動方向を上記基板に形成された上記凹凸パターンの凹凸部の配置方向に対して所定角度ずらす工程と、

上記基板と上記塗布ヘッドとの相対的移動方向を上記凹凸パターンの凹凸部の配置方向に対して所定角度ずらして移動させながら、上記基板に上記塗布ヘッドから溶液を吐出塗布する工程と

を具備したことを特徴とする溶液の塗布方法にある。

図面の簡単な説明

[0017] [図 1]図 1は、この発明の一実施の形態の塗布装置の概略的構成を示す正面図である。

[図 2]図 2は、図 1に示す塗布装置の側面図である。

[図 3]図 3は、塗布ヘッドの縦断面図である。

[図 4]図 4は、塗布ヘッドのノズルが形成された下面を示す図である。

[図 5]図 5は、制御系統を示すブロック図である。

[図 6]図 6は、基板に透明導電膜によって形成された凹凸パターンを示す説明図である。

[図 7]図 7は、角度 Θで回転させて X方向に駆動される基板ど塗布ヘッドとを示す説明図である。

発明を実施するための最良の形態

[0018] 以下、この発明の一実施の形態を図面を参照しながら説明する。

[0019] 図 1と図 2に示すこの発明の塗布装置はほぼ直方体状のベース 1を有する。このべース 1の下面の所定位置にはそれぞれ脚 2が設けられており、上記ベース 1を水平に支持している。

[0020] 図 2に示すように、上記ベース 1の上面の幅方向両端部には、長手方向に沿ってそれぞれ取付け板 3が設けられている。これら取付け板 3の上面の幅方向一端部には長手方向に沿ってそれぞれガイド部材 4が設けられて、る。これらガイド部材 4の上面には、矩形板状の Xテーブル 5が、その下面の幅方向両側に平行に設けられた断面ほぼ逆 U字状の一対の受け部材 6をスライド可能に係合させて支持されて、る。つまり、 Xテーブル 5は上記ガイド部材 4に沿う X方向に移動可能となって、る。

[0021] 上記ベース 1の長手方向一端には X駆動源 7が設けられている。この X駆動源 7はねじ軸 8を回転駆動する。このねじ軸 8は上記ベース 1の長手方向に沿って回転可能に支持されて設けられ、上記 Xテーブル 5の下面に設けられたナット体 9に螺合している。したがって、上記 X駆動源 7によってねじ軸 8が回転駆動されれば、上記 Xテーブル 5が図 1に矢印で示すように上記ガイド部材 4に沿う X方向に駆動されるようになつている。

[0022] 上記 Xテーブル 5の上面には Θテーブル 11が水平面と直交する軸線を中心にして回転可能に設けられている。この Θテーブル 11は上記 Xテーブル 5に設けられた Θ 駆動源 12によって回転方向に駆動されるようになって、る。

[0023] 上記 Θテーブル 11の上面には載置テーブル 13が設けられている。この載置テーブル 13にはアクティブマトリックス方式の液晶表示装置に用いられるガラス製の基板 Wが供給される。この基板 Wは、上記載置テーブル 13に下面が真空吸着や静電吸着などの手段によって吸着されて保持される。したがって、載置テーブル 13に保持された基板 Wは上記 Xテーブル 5と Θテーブル 11とによって X方向と Θ方向とに駆動されるようになっている。

[0024] 図 6に示すように上記基板 Wの上面には、帯状の透明導電膜 14が格子状に設けられている。それによつて、基板 Wの上面には透明導電膜 14によって囲まれた部分が凹部 15aとなり、透明導電膜 14が設けられた部分が凸部 15bとなる凹凸パターン 15 が形成されている。つまり、基板 Wには凹部 15aと凸部 15bとが基板 Wの長手方向及び幅方向に対して規則的に形成されて、る。

[0025] 上記ベース 1の長手方向中途部には上記一対のガイド部材 4を跨ぐように門型の支持体 17が立設されている。この支持体 17の両側上部には角柱力もなる取付け部材 18が水平に架設されている。

[0026] 上記取付け部材 18にはヘッドテーブル 19が上記 Xテーブル 5の駆動方向である X 方向と直交する Y方向（図 2に矢印で示す）に沿って移動可能に設けられている。上記支持体 17の幅方向一側には Y駆動源 21が設けられている。この Y駆動源 21は上記ヘッドテーブル 19を Y方向に沿って駆動するようになって!/、る。

[0027] 上記ヘッドテーブル 19の一側面にはインクジェット方式によって機能性薄膜である、たとえば配向膜を形成する溶液をドット状に吐出する複数の塗布ヘッド 22が Y方向に沿って配置されている。この実施の形態では、たとえば 7つ塗布ヘッド 22が千鳥状に二列で配置されている。

[0028] 図 3と図 4に示すように、上記各塗布ヘッド 22はヘッド本体 28を備えている。ヘッド本体 28は筒状に形成され、その下面開口は可撓板 29によって閉塞されている。この可撓板 29はノズルプレート 31によって覆われており、このノズルプレート 31と上記可橈板 29との間には複数の液室 32が形成されている。

[0029] 各液室 32は、ノズルプレート 31内に形成された主管 31 Aに図示しない枝管を介してそれぞれ連通していて、上記主管 31Aから上記枝管を介して溶液が各液室 32に供給される。主管 31Aは、一端が後述する給液孔 33に接続され、他端が後述する回収孔 37に接続される。

[0030] 上記ヘッド本体 8の長手方向一端部には上記液室 32に連通する上記給液孔 33が形成されて、る。この給液孔 33から上記液室 32には機能性薄膜を形成する上記溶液が供給される。それによつて、上記液室 32内は溶液で満たされるようになつている

[0031] 図 4に示すように、上記ノズルプレート 31には、基板 Wの搬送方向に直交する方向である、 Y方向に沿って複数のノズル 34が千鳥状に穿設されている。上記可撓板 29 の上面には、図 3に示すように上記各ノズル 34にそれぞれ対向して複数の圧電素子 35が設けられている。

[0032] 各圧電素子 35は上記ヘッド本体 28内に設けられた駆動部 36によって駆動電圧が供給される。それによつて、圧電素子 35は伸縮し、可撓板 29を部分的に変形させるから、その圧電素子 35に対向位置するノズル 34から溶液がドット状に吐出され、搬送される基板 Wの上面に塗付される。したがって、基板 Wの上面には、ドット状の溶液が行列状に配列されてなる塗布パターンが形成される。そして、この塗布パターンは、ドット状の各溶液が流動して濡れ広がることにより、付着し合って 1つの膜となる。

[0033] なお、圧電素子 35に印加する電圧の強さを変えて圧電素子 35の作動量を制御すれば、各圧電素子 35が対向するノズル 34からの溶液の吐出量、つまり液滴の大きさを変えることができる。

[0034] 上記ヘッド本体 28の長手方向他端部には上記液室 32に連通する上記回収孔 37 が形成されている。上記給液孔 33から液室 32に供給された溶液は、上記回収孔 37 力も回収することができるようになつている。すなわち、各ヘッド 22は上記液室 32に供給された溶液をノズル 34から吐出させるだけでなぐ上記液室 32を通じて上記回収孔 37から回収することが可能となって、る。

[0035] 図 5に示すように、各塗布ヘッド 22に設けられた駆動部 36は制御装置 41によって駆動が制御される。すなわち、上記制御装置 41には、複数の塗布ヘッド 22に形成された各ノズル 34の X、 Y座標が記憶されている。各ノズル 34の X、 Y座標は、たとえば各塗布ヘッド 22をヘッドテーブル 19に取付けた後、その塗布ヘッド 22の取付け位置に基いて設定される。それによつて、基板 Wに対する溶液の上記 Y方向に沿う吐出位置を制御することができる。

[0036] 上記制御装置 41は上記駆動部 36だけでなぐ Xテーブル 5を X方向に駆動する X 駆動源 7、 Θテーブル 11を Θ方向に駆動する Θ駆動源 11及び塗布ヘッド 22が設けられたヘッドテーブル 19を Y方向に駆動する Y駆動源 21の駆動も制御するようになつている。

[0037] つぎに、上記構成の塗布装置によって基板 Wに溶液を塗布する場合について説明する。まず、基板 Wを透明導電膜 14が設けられた面を上にして載置テーブル 13 上に吸着保持する。ついで、 Θ駆動源 12を作動させ、載置テーブル 13とともに基板 Wを X方向に対して所定角度で回転させる。 Θテーブル 11の回転角度 Θは 5〜45 度の範囲が好ましい。図 7は基板 Wを回転角度 Θで回転させた状態を示している。

[0038] 載置テーブル 13を回転角度 Θで回転させたならば、 X駆動源 7を作動させて載置テーブル 13を X方向に駆動する。つまり、基板 Wを回転角度 Θで回転させた状態で図 7に矢印で示す X方向に駆動する。

[0039] 基板 Wが X方向に駆動されてその基板 Wの溶液が塗布される塗布領域 R (図 7に示す）が塗布ヘッド 22の下方に到達したならば、その塗布領域 Rに対応位置する複数の塗布ヘッド 22の複数のノズル 34から溶液を基板 Wに向けて吐出させる。それによって、基板 Wにはたとえば図 7に示す 4つの塗布領域 Rに溶液が塗布されることになる。

[0040] 上記基板 Wの溶液の塗布領域 Rには図 6に示すように透明導電膜 14が格子状に設けられ、この透明導電膜 14によって基板 Wの板面には凹部 15aと凸部 15bからなる凹凸パターン 15が基板 Wの各辺に沿って規則的に形成されている。一方、溶液は各塗布ヘッド 22のノズル 34から一定のタイミングで基板 Wに向けてドット状に吐出される。

[0041] 基板 Wを回転させていない状態（回転角度 Θが 0度)で X方向に駆動すると、基板 Wに形成された凹部 15aと凸部 15bとの配置方向が基板 Wの搬送方向である X方向と同方向になる。そのため、ノズル 34から一定のタイミングで吐出される液滴の吐出位置が上記凹部 15aに一致してしまうことがある。

[0042] その場合、基板 Wに吐出された液滴は凸部 15bに邪魔されて流動し難くなるから、液滴が流動することで塗布領域 Rに形成される機能性薄膜の厚さが凹部 15aに対応する部分と凸部 15bに対応してムラが生じる。

[0043] しカゝしながら、この実施の形態では、基板 Wに溶液を塗布する際、基板 Wを 5〜45 度の範囲で回転させて X方向に搬送するようにしている。つまり、基板 Wは、基板 W の搬送方向である X方向に対し、この基板 wの各辺に沿って規則的に形成された凹部 15aと凸部 15bとの配置方向を所定の角度 Θで傾斜させて搬送される。

[0044] ここで、角度 Θは、基板 Wの X方向への搬送中に 1つのノズル 34から吐出されて基板 W上に塗布されるドット状の溶液の列が、隣接して配置される 2つ以上の凸部 15b に跨る角度 Θに設定することが望ましい。この角度 Θは、基板 Wの設計データから得られる透明電極などの凸部 15bの配置間隔 dと塗布領域 Rの X方向の寸法 Rxとから、たとえば、 {tan Θ > (d/Rx) }の関係力も求めることが可能である。 [0045] そのため、上記 X方向と交差する Y方向に沿って配置された複数の塗布ヘッド 22 のノズル 34から基板 Wに向けて吐出される液滴は、その配列方向が基板 Wに規則的に形成された凹凸パターン 15における凹部 15aゃ凸部 15bの配置方向に対して傾、た塗布パターンで塗布される。

[0046] それによつて、液滴は、規則的に形成された凹凸パターン 15のうちの凹部 15aに偏ることなく、凹部 15aと凸部 15bとの両方の部分に塗布されることになるから、塗布された液滴の流動が凸部 15bによって邪魔されることが防止される。そのため、塗布後には溶液が塗布領域 Rの全体にわたって流動し、ムラの発生が防止された品質の良 V、機能性薄膜を形成することが可能となる。

[0047] 基板 Wを上述したように塗布ヘッド 22の下方に一度通過させるだけで溶液を塗布してもよいが、往復動させて溶液を塗布するようにしてもよい。基板 Wを往復させて溶液を塗布する場合、往動時と復動時において、基板 Wの回転角度、つまり載置テーブル 13の回転角度 Θを変えるようにしても良い。

[0048] 往動時と復動時に、載置テーブル 13の回転角度 Θを変えれば、往動時と復動時の塗布領域 Rに対する液滴の塗布パターンを変化させることができる。つまり、往動時に液滴が塗布されな、凹部 15aゃ凸部 15bにも、復動時には液滴を塗布することができる。

[0049] そのため、基板 Wを単に往復動させて溶液を塗布するだけの場合に比べ、基板 W の塗布領域 Rに対して液滴を凹部 15aに片寄ることなく塗布することが可能となるから、結果的に基板 Wに形成される機能性薄膜のムラを防止し、品質を向上させることができる。

[0050] 基板 Wの回転角度 Θが大きい場合、基板 Wの X方向と直交する Y方向の最大幅寸法がノズル 34の Y方向に沿う配置寸法よりも大きくなることがある。そのような場合、塗布領域 Rを Y方向に並ぶ複数の領域に分割し、分割した領域毎に溶液を塗布するようにすれば良い。たとえば、図 7に示す基板 Wの場合であって、ノズルの配置寸法が基板 Wの Y方向の最大寸法よりも小さいが、前記最大寸法の 1Z2より大きい場合、 4 つの塗布領域を、基板 Wの中央を通り X方向に沿う直線を境とした 2つの塗布領域に分割し、 2つの塗布領域のうち一方の塗布領域に溶液を塗布した後、他方の塗布領域に溶液を塗布するようにすれば良い。

[0051] 一方、基板 Wの回転角度 Θを 0度にして X方向に駆動しながら溶液を塗布するようにしてもよい。その場合、基板 Wを X方向に駆動しながら、塗布ヘッド 22が設けられたヘッドテーブル 19を Y方向に駆動する。

[0052] それによつて、基板 Wが駆動される X方向に対する、上記塗布ヘッド 22の相対的移動方向が上記ヘッドテーブル 19の移動速度に応じた角度で斜め方向にずれることになる。つまり、基板 Wに形成された凹部 15aと凸部 15bとの配置方向に対し、塗布ヘッド 22の移動方向が相対的に所定角度ずれることになる。

[0053] したがって、塗布ヘッド 22のノズル 34から吐出される液滴が基板 Wの凹部 15aに集中して塗布されるのを防止することができる。この場合、基板 Wを往復動させ、往動時と復動時にそれぞれ溶液を塗布するようにしてもょヽ。

[0054] なお、塗布ヘッド 22が設けられたヘッドテーブル 19を Y方向に移動させる代わりに

、塗布ヘッド 22に形成された複数のノズル 34のうち、溶液を吐出させるノズル 34を順次切り換えるようにしても良、。

[0055] たとえば、塗布ヘッド 22には 20個のノズル 34が Y方向に沿って等ピッチ間隔で形成されているとする。これらのノズル 34を配列方向に 4つずつの 5グループに分ける。そして、基板 Wを X方向に駆動させながら、各グループの右側に位置するノズル 34 から順に設定した、設定時間間隔で溶液を吐出させる。このとき、グループ内の左端に位置するノズル 34が溶液を吐出させたら、右端に位置するノズル 34に戻って溶液の吐出を繰り返す。

[0056] このようにすることで、基板 Wに対する溶液の塗布方向は、基板 Wの X方向への移動速度と設定時間間隔とで定まる角度の斜め方向となる。したがって、塗布パターンにおける液滴の配列方向を、基板 Wに規則的に形成された凹凸パターン 15における凹部 15aゃ凸部 15bの配置方向に対して傾けることができるので、上述の実施の形態と同様の効果を得ることができる。

[0057] また、上述した複数のノズル 34のうち、溶液を吐出させるノズル 34を順次切り換える代わりに、塗布ヘッド 22が設けられた支持体 17を Y方向に対して所定の角度傾けて配置し、塗布ヘッド 22の複数のノズル 34の配列方向を Y方向に対して所定の角度の斜め方向としてもよい。つまり、複数のノズル 34の配置方向を、上記基板 Wに形成された上記凹凸パターン 15の配置方向に対して所定角度ずらして配置してもよい。

[0058] なお、支持体 17を Y方向に対して所定の角度傾けて配置する代わりに、支持体 17 の取り付ける塗布ヘッド 22の取付け角度を Y方向に対して所定の角度傾けて取付けるようにしてちょい。

[0059] この場合、基板 Wを X方向に駆動させながら、各ノズル 34の下を基板 Wが通過する際に、基板 W上の塗布領域 Rに対向して位置するノズル 34からタイミングを合わせて溶液を吐出させる。このようにすることで、基板 Wに塗布された溶液は、ノズル 34の配列方向で定まる角度の斜め方向にノズル 34の配置間隔で配列されることになる。

[0060] したがって、この場合にも、液滴の配列方向を、基板 Wに規則的に形成された凹凸パターン 15における凹部 15aゃ凸部 15bの配置方向に対して傾けることができるので、上述の実施の形態と同様の効果を得ることができる。

[0061] また、図 7で説明した例において、載置テーブル 13を回転角度 Θで回転させる代わりに、基板 Wを予め回転角度 Θだけ回転させた状態で載置テーブル 13上に載置するようにしてもよい。この場合、制御手段としての搬送ロボット等の搬送装置を用いて基板 Wを載置テーブル 13に供給するときに、この搬送ロボットの保持アームを所定の回転角度 Θだけ回転させる等して、基板 Wを載置テーブル 13上に供給するとよい

[0062] このようにした場合でも、液滴の配列方向を、基板 Wに規則的に形成された凹凸パターン 15における凹部 14aゃ凸部 15bの配列方向に対して傾けることができるので、図 7に示した例と同様の効果を得ることができる。

[0063] 上記一実施の形態では基板を保持した載置テーブルを X方向に駆動したが、塗布ヘッドが設けられた支持体を X方向に駆動するようにしてもよぐ要は基板と塗布へッドとを相対的に X、 Y方向に駆動できる構成であればょヽ。

[0064] また、この発明を、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置に用いられるガラス製の基板 Wに適用した例で説明した力これに限られるものではなぐたとえば単純マトリックス方式の液晶表示装置に用いられるガラス製の基板にも適用可能であり、要は

、凹凸部が規則的に形成された凹凸パターンを有する基板 Wであれば適用可能である。

[0065] また、凹凸パターン 15の凹部 15aと凸部 15bとが基板 Wの長手方向と幅方向に対して規則的に形成された例で説明したが、これに限らず、基板 Wの長手方向及び幅方向と傾斜した方向に対して形成されてヽても良！ヽし、基板 Wの長手方向或いは幅方向の!/、ずれかに沿って形成されて!、れば良!、。

[0066] また、この発明は、凹凸パターン 15の凹部 15aと凸部 15bとが全て規則的に形成されたものに限らず、凹部 15aと凸部 15bの一部が不規則であっても、全体として規則的に形成されたものであれば適用可能である。

[0067] また、凹凸パターン 15の凹部 15aと凸部 15bとが基板 Wの長手方向と幅方向に対して規則手液に形成された例にぉ、て、 1つのノズル 34から吐出されて基板 W上に塗布されるドット状の溶液の列の方向と、凸部 15bとの間の角度 Θを 45度までの範囲に設定する例を説明したが、角度 Θは 45度までの範囲に限定されず、それ以上であっても良い。

産業上の利用可能性

[0068] この発明によれば、基板上に塗布された溶液によって形成される薄膜にムラが発生するのを防止することができる。

Claims

請求の範囲

[1] 凹凸部が規則的に形成された凹凸パターンを有する基板に溶液を塗布する溶液の塗布装置であって、

を具備したことを特徴とする溶液の塗布装置。

[2] 上記駆動手段は、上記基板を保持するとともに、この基板を水平方向及びこの水平方向に対して直交する軸線を中心とする回転方向に駆動可能な載置テーブルを有し、

上記制御手段は、上記載置テーブルを上記軸線を中心にして水平方向に所定の角度で回転させて駆動することを特徴とする請求項 1記載の溶液の塗布装置。

[3] 上記駆動手段による上記基板と上記塗布ヘッドとの相対的移動を複数回行なうとともに、それぞれの相対的移動の際に、上記制御手段によって上記相対的移動方向と上記凹凸パターンの凹凸部の配置方向との角度のずれを変えることを特徴とする請求項 1記載の溶液の塗布装置。

[4] 凹凸部が規則的に形成された凹凸パターンを有する基板に溶液を塗布する溶液の塗布装置であって、

上記制御装置は、上記塗布パターンにおける液滴の配列方向を上記凹凸パターンの凹凸部の配置方向に対して所定角度ずらすように上記塗布ヘッドと上記駆動手段とを制御することを特徴とする溶液の塗布装置。

[5] 凹凸部が規則的に形成された凹凸パターンを有する基板に溶液を塗布する溶液の塗布装置であって、

上記塗布ヘッドと上記駆動手段とを制御して上記基板に液滴の塗布パターンを形成する制御装置とを具備し、

上記塗布ヘッドは、上記ノズルの配置方向が上記基板に形成された上記凹凸バターンの配置方向に対して所定角度ずらして配置されていることを特徴とする溶液の塗布装置。

[6] 凹凸部が規則的に形成された凹凸パターンを有する基板に、塗布ヘッドのノズルカゝら吐出させた溶液を塗布する溶液の塗布方法であって、

を具備したことを特徴とする溶液の塗布方法。

[7] 上記基板を直線方向に移動させるとともに、上記塗布ヘッドを基板の移動方向と交差する方向に移動させることで、上記基板と上記塗布ヘッドとの相対的移動方向を上記凹凸パターンの凹凸部の配置方向に対して所定角度ずらすことを特徴とする請求項 6記載の溶液の塗布方法。