JP4224314B2 - 溶液の塗布装置及び塗布方法 - Google Patents
溶液の塗布装置及び塗布方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4224314B2 JP4224314B2 JP2003020763A JP2003020763A JP4224314B2 JP 4224314 B2 JP4224314 B2 JP 4224314B2 JP 2003020763 A JP2003020763 A JP 2003020763A JP 2003020763 A JP2003020763 A JP 2003020763A JP 4224314 B2 JP4224314 B2 JP 4224314B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solution
- substrate
- pattern
- nozzle
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/6715—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ink Jet (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
この発明はノズルから溶液を吐出して基板に所定の塗布パターンで塗布する塗布装置及び塗布方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、ガラス基板や半導体ウエハなどの基板に回路パターンを形成するための成膜プロセスがある。このプロセスでは、基板の板面にたとえば配向膜やレジストなどの機能性薄膜が形成される。
【0003】
基板に機能性薄膜を形成する場合、この機能性薄膜を形成する溶液をノズルから吐出して基板の板面に塗布するインクジェット方式の塗布装置が用いられる。この塗布装置は、基板を搬送する搬送テーブルを有しており、この搬送テーブルの上方には、上記ノズルが形成された複数のヘッドが基板の搬送方向とほぼ直交する方向に沿って並設されている。各ヘッドには供給管を介して接続された溶液タンクから溶液が供給される。それによって、所定方向に搬送される基板の上面にノズルから吐出された溶液が塗布される。
【0004】
上記基板には上記溶液を所定の塗布パターンで塗布することが要求される。そのため、従来は基板が所定の位置から所定の距離を搬送される間、塗布パターンの幅寸法に対応する数のノズルから溶液を吐出させるようにしている。それによって、上記基板には格子状に配置された多数のドットからなる溶液によって所定の塗布パターン、通常は矩形状の塗布パターンが形成されるようになっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
基板に塗布される溶液の塗布パターンの幅寸法に応じて溶液を吐出させるノズルの数を設定し、その数で基板が所定の位置から所定の距離を搬送される間、溶液を吐出させるようにした場合、確かに溶液を矩形状の塗布パターンで塗布することは可能である。しかしながら、ヘッドに形成された多数のノズルからの溶液の吐出量は、ヘッドに接続された溶液の供給管の接続位置やヘッドから溶液を流出させる排液管の接続位置などによってばらつきが生る。
【0006】
そのため、基板に塗布された溶液の塗布パターン内において、溶液の供給量にばらつきが生じるから、その溶液を乾燥させることによって形成される機能性薄膜の膜厚が一定にならないということがあったり、塗布パターンの周辺部における溶液の供給量が極端に多い場合などには、塗布パターンから溶液がはみ出し、塗布パターンの形状が損なわれるということがある。
【0007】
この発明は、ヘッドに形成された多数のノズルから溶液を基板に吐出して所定の塗布パターンで塗布する場合、その塗布パターン内における溶液の供給量をほぼ均等にできるようにした溶液の塗布装置及び塗布方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
この発明は、所定方向に搬送される基板に溶液を所定の塗布パターンで塗布する溶液の塗布装置において、
上記溶液をインクジェット方式によって吐出する多数のノズルを有するヘッドと、
このヘッドの各ノズルから溶液を間欠的に吐出させる駆動部と、
上記基板への上記溶液の塗布パターンが上記溶液が乾燥することによって変化する形状を予め補正したパターンに設定され、その塗布パターンに基いて上記駆動部の駆動を制御して上記ノズルから基板へ溶液を吐出させる制御装置と
を具備したことを特徴とする溶液の塗布装置にある。
【0009】
上記制御装置は、上記駆動部によって吐出される溶液の量が多いノズルからの吐出回数を減少させることが好ましい。
【0010】
上記制御装置は、上記塗布パターンの外周縁を除く部分で吐出量の多いノズルからの溶液の吐出回数を減少させることが好ましい。
【0013】
上記基板の上記溶液が塗布される部分には、上記溶液に対する撥水性の異なる複数の膜が設けられていて、上記制御装置は、溶液の塗布パターンを複数の膜の撥水性の違いに応じて補正することが好ましい。
【0014】
この発明は、ヘッドに設けられた多数のノズルから溶液をインクジェット方式によって吐出させて所定方向に搬送される基板に所定の塗布パターンで塗布する溶液の塗布方法において、
上記基板への上記溶液の塗布パターンを、上記溶液が乾燥することによって変化する形状を予め補正したパターンに設定し、その塗布パターンに基いて上記ノズルからの溶液の吐出を制御することを特徴とする溶液の塗布方法にある。
【0015】
この発明によれば、ヘッドに設けられた多数のノズルの位置を座標データとし、その座標データと溶液の塗布パターンとによって、各ノズルごとに溶液の吐出回数を制御すれば、塗布パターン内に溶液を均等に塗布したり、塗布パターンの外形を所定形状に整えるなどのことが可能となる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながらこの発明の一実施の形態を説明する。図1と図2に示すこの発明の塗布装置は、ほぼ直方体状のベース1を有する。このベース1の下面の所定位置にはそれぞれ脚2が設けられており、上記ベース1を水平に支持している。
【0017】
上記ベース1の上面の幅方向両端部には、長手方向に沿ってそれぞれ取付け板3が設けられている。これら取付け板3の上記ベース1の幅方向内方の一端部には長手方向に沿ってそれぞれガイド部材4が設けられている。これらガイド部材4の上面側には、ほぼ矩形板状の搬送テーブル5が、その下面両側に平行に設けられた断面ほぼL字状のスライド部材6を介してスライド可能に支持されている。
【0018】
上記搬送テーブル5には図示しない駆動装置が接続されており、この駆動装置を作動することによって、上記搬送テーブル5を上記ガイド部材4に沿って駆動できるようになっている。
【0019】
上記搬送テーブル5の上面には静電チャックや吸引チャックなどの保持手段によって例えば液晶表示装置に用いられるガラス基板などの基板Wが着脱可能に保持される。基板Wは上記搬送テーブル5の上面に保持されることで、上記ベース1の長手方向に沿って搬送される。
【0020】
上記ベース1の長手方向中途部には上記一対のガイド部材4を跨ぐように門型の支持体7が立設されている。この支持体7の上側には角柱からなる取付け部材8が水平に渡設されており、この取付け部材8の一側面にはインクジェット方式の複数のヘッド9が基板Wの搬送方向に対して千鳥状に二列で配置されている。この実施の形態では、たとえば図5と図6(a)に示すように7つのヘッド9が二列で千鳥状に配置されている。
【0021】
図3と図4に示すように、上記各ヘッド9はヘッド本体11を備えている。ヘッド本体11は上面側から下面側に連通する開口部12を有しており、その下面開口は可撓板13によって閉塞されている。上記可撓板13はノズルプレート14によって覆われている。それによって、上記ヘッド本体11の下面側には可撓板13とノズルプレート14との間に液室15が形成されている。
【0022】
上記ヘッド本体11の長手方向一端部には上記液室15に連通する供給孔17が形成されている。この供給孔17からは、上記液室15に例えば配向膜やレジストなどの機能性薄膜を形成する溶液が供給管17aを通じて供給される。それによって、上記液室15内は溶液で満たされるようになっている。
【0023】
図4に示すように、上記ノズルプレート14には、ヘッド本体11の長手方向と直交する幅方向ほぼ中心部、つまり基板Wの搬送方向に直交する方向に沿って複数のノズル16が千鳥状に穿設されている。図3に示すように、上記可撓板13の上面には、それぞれノズル16に対向して圧電素子18が設けられている。
【0024】
そして、複数のヘッド9は、各ヘッド9のノズルプレート14に千鳥状に形成されたノズル16が基板Wの搬送方向と直交する幅方向に沿って一定間隔となるよう、図6(a)に示す所定の重ね代Lで二列で千鳥状に配置されている。それによって、基板Wの搬送方向と直交する幅方向全長において、隣り合うヘッド9のノズルプレート14に形成されたノズル16の間隔が一定に設定される。
【0025】
上記各圧電素子18には上記開口部12内に設けられた駆動部20を介して駆動電圧が供給される。それによって、駆動された圧電素子18と対応位置するノズル16から搬送テーブル5上の基板Wに溶液が吐出される。
【0026】
図3に示すように、上記ヘッド本体11の長手方向他端部には上記液室15に連通する回収孔19が形成されている。この回収孔19からは上記液室15に供給された溶液が排液管19aを通じて回収される。すなわち、上記各ヘッド9は上記液室15に供給された溶液を各ノズル16から噴射させるだけでなく、上記液室15内を循環させて上記回収孔19から回収されるようになっている。
【0027】
図5に示すように、各ヘッド9に設けられた駆動部20は制御装置21によって駆動が制御される。すなわち、上記制御装置21には、複数のヘッド9に形成された各ノズル16のX、Y座標が記憶されている。各ノズル16のX、Y座標は、例えば各ヘッド9を取付け部材8に取付けた後、そのヘッド9の取付け位置に基いて設定される。なお、図5では駆動部20をヘッド9から分離して示しているが、この実施の形態では上記駆動部20は図3に示されるようにヘッド9内に収容されている。
【0028】
上記制御装置21は記憶された各ノズル16の座標と、基板Wに塗布される溶液の塗布パターンPとに基いて上記駆動部20の駆動を制御し、溶液を吐出させるノズル16に対応する圧電素子18を作動させるようになっている。
【0029】
基板Wへ溶液の吐出を開始させるタイミングと、吐出を終了させるタイミングとは、図1に示すように搬送テーブル5によってヘッド9の下方に搬送されてきた基板Wの先端位置と、ヘッド9の下方を通過して所定の位置に到達した基板Wの先端位置とをそれぞれ第1、第2のセンサ23,24によって検知し、その検知信号によって制御される。
【0030】
上記圧電素子18が1回作動することで各ヘッド9の各ノズル16から吐出される溶液の量は、予め測定されている。各ヘッド9において、供給孔17に近い位置にあるノズル16と、回収孔19に近い位置にあるノズル16からは、上述したようにヘッド9の幅方向中央部分に位置する他のノズル16よりも溶液の吐出量が多くなる傾向にある。
【0031】
基板Wを所定の速度で搬送しながら、各ヘッド9のノズル16から溶液を所定のタイミングで吐出させると、上記基板Wにはドット状の溶液が行列状に吐出されることになる。
【0032】
図6(a)に示すように、複数のヘッド9は千鳥状に配置されており、制御装置21に記憶された各ヘッド9ごとのノズル19のX、Y座標もヘッド9の配置状態と同じ千鳥状に記憶されている。
【0033】
そのため、基板Wに溶液を矩形状に塗布する場合には、制御装置21に記憶された各ヘッド9のノズル19のX、Y座標を、この制御装置21に内蔵された図示しない変換部によって千鳥状の配置状態と逆の状態、つまり各ヘッド9が一列に配置された状態に座標変換し、その変換座標に基いて各ヘッド9のノズル19からの溶液の吐出のタイミングを制御する。
【0034】
それによって、それぞれのヘッド9から吐出される溶液は図6(b)に示すように全体として矩形状の塗布パターンPで塗布され、図6(c)に示すようにヘッド9の配置状態に対応して各ヘッド9のパターンPhごとに千鳥状にずれて塗布されるのが防止される。
【0035】
1つのヘッド9の複数のノズル16から基板Wに吐出される溶液の分布を考えると、上述した理由によってヘッド9の長手方向の両端部分への溶液の供給量が中央部分に比べて多くなる。したがって、予め測定された各ノズル16からの溶液の吐出量に基き、溶液の吐出量が多いノズル16からの吐出回数を間引くようにする。
【0036】
たとえば、図7に示すように1つのヘッド9の幅方向(この方向を列方向とする)に配置された各ノズル16から溶液を基板Wの搬送方向(この方向を行方向とする)に沿って所定ピッチで12回吐出させて塗布パターンPhを形成する場合を考える。その場合、n1 に対応する列方向の両端に溶液を供給するノズル16からの吐出回数は、12回のうちの6回間引くようにする。同様に、幅方向内方へ2列目のn2 に対応するノズル16からの吐出回数は4回間引き、n3 で示す3列目に対応するノズル16からの吐出回数は3回間引き、さらにn4 で示す4列目に対応するノズル16からの吐出回数は2回間引くようにする。
【0037】
それによって、ヘッド9の列方向に位置する複数のノズル16から吐出される溶液の量に差があっても、その差に応じてノズル16から吐出回数を間引き、基板Wに形成されるドットdの数を変えるため、溶液を1つのヘッド9が形成する塗布パターンPhにおいてほぼ均一な量で供給することができる。したがって、基板Wには膜厚の均一な機能性薄膜を形成することができる。
【0038】
図7に示すように所定箇所が間引かれた行列状のドットdによって溶液を基板Wに塗布パターンPhで塗布し、複数のヘッド9の塗布パターンPhを並べて図6(b)に示す矩形状の塗布パターンPを形成する場合、塗布パターンPの外周縁を形成するドットdを間引くと、塗布後に溶液を乾燥させて形成される機能性薄膜の外周縁の形状が直線状にならなくなることがある。つまり、塗布パターンPの外形精度が損なわれることがある。
【0039】
そこで、制御装置21からの制御信号によって図6(b)に示す矩形状の塗布パターンPを形成する場合、その塗布パターンPの外周縁の全周を形成するドットdを間引かずにノズル16から溶液を吐出させる。それによって、塗布パターンPの外周縁の直線形状を維持できるから、溶液を乾燥させることによって形成される機能性薄膜の外形状の精度も確保することが可能となる。
【0040】
塗布パターンPの外周縁の形状を整えるため、1つのヘッド9が形成する塗布パターンPhにおいて、図8にn1 で示す幅方向一列目への溶液の吐出回数を間引かないようにすると、その分だけ、塗布パターンP(Ph)の外周縁部に供給される溶液の量が多くなる。
【0041】
したがって、その場合には、図8にn2 で示す2列目、n3 で示す3列目、n4 で示す4列目を形成するドットdの間引き回数を図7に示す場合よりも、例えば1回づつ多くするよう制御装置21によってノズル16からの溶液の吐出回数を制御する。
【0042】
それによって、塗布パターンPの外周縁の形状精度を維持しながら、塗布パターンPの外周縁部に供給される溶液の量が過剰になるのを防止することができる。なお、必要に応じて5列目n5 以降のドットdを間引くようにしてもよい。
【0043】
図9(a)に示すように、基板Wに溶液を所定の塗布パターンPで塗布して平坦化した後、その溶液を焼成して乾燥させることで機能性薄膜が形成されることになる。溶液を焼成すると、溶液中の溶媒が蒸発するなどの原因によって図9(b)に示すように機能性薄膜の形状Sが溶液の塗布パターンPの形状に比べて小さく変形する。その変形量は予め実験的に求めることが可能である。
【0044】
したがって、基板Wに溶液を塗布する際、制御装置21によって図9(c)に示すように溶液の焼成に伴う変形量を補正した塗布パターンHで溶液を塗布すれば、図9(c)に鎖線で示すように焼成後に形成される機能性薄膜のパターンP1 を所望する形状精度とすることができる。
【0045】
基板Wが液晶表示パネルに用いられるガラス基板の場合、図10(a)に示すように基板Wにはクロム膜31上にITO膜32が重なって形成されている部分がある。クロム膜31とITO膜32とでは溶液に対する撥水性が異なる。すなわち、ITO膜32の方がクロム膜31よりも溶液に対する撥水性が高い。そのため、基板W上に溶液を塗布すると、図10(b)に示すように塗布パターンPにはITO膜32の部分にクロム膜31の部分よりも基板Wの内方へ凹んだ凹部33が形成される。
【0046】
したがって、クロム膜31にITO膜32が重合した部分に溶液を塗布する場合には、制御装置21によって溶液の塗布形状を制御し、図10(c)に示すように塗布パターンPに、ITO膜32の部分で溶液が内方へ凹む分だけ外方へ突出した凸部34を形成する。
【0047】
それによって、塗布後の溶液の塗布パターンPは図10(d)に示すようにクロム膜31上に塗布された箇所と、ITO膜32上に塗布された箇所とがほぼ直線状になるから、基板Wに撥水性の異なる膜が形成されていても、塗布パターンPの外周縁に凹凸が生じるのを防止することができる。
【0048】
以上のように、基板Wに溶液を塗布するに際し、制御装置21に複数のヘッド9に形成されたノズル16のX、Y座標を記憶させ、その座標と基板Wに形成するパターンPとに基づいて上記各ノズル16からの溶液の吐出を制御するようにした。
【0049】
そのため、基板Wに塗布される溶液の塗布パターンを、制御装置21によって所望する形状に精度よく制御することが可能となる。
【0050】
しかも、各ヘッド9に形成された複数のノズル16からの溶液の吐出量が異なっても、制御装置21によって吐出回数を制御することで、塗布パターンP内における溶液の供給量を均一にすることが可能となる。それによって、基板Wに厚さの均一な機能性薄膜を形成することができる。
【0051】
なお、この発明は上記一実施の形態に限られるものでなく、例えば基板に形成する塗布パターンの形状は矩形状に限られず、他の形状であってもよく、どのようなパターン形状であっても、ノズルから基板上に吐出される溶液がなすドットの配置を制御装置によって制御することで溶液を塗布することが可能である。
【0052】
基板としては液晶表示パネルのガラス基板に限られず、半導体ウエハであっても、同様にこの発明を適用することができる。
【0053】
【発明の効果】
以上のようにこの発明によれば、ヘッドに設けられた多数のノズルの位置を座標データとして記憶し、その座標データと溶液の塗布パターンとに基いて各ノズルからの溶液の吐出を制御するようにした。
【0054】
そのため、たとえば各ノズルからの溶液の所定時間内における吐出回数を制御するなどのことによって塗布パターン内に溶液をほぼ均一な部分布状態で塗布したり、パターンの外形を所定形状に整えることなどが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施の形態を示す塗布装置の概略的構成を示す正面図。
【図2】塗布装置の側面図。
【図3】ヘッドの縦断面図。
【図4】ヘッドの下面図。
【図5】各ヘッドのノズルから溶液を吐出させるための制御回路図。
【図6】(a)〜(c)ヘッドの配置状態と基板に塗布された溶液のパターンを示す説明図。
【図7】1つのヘッドの複数のノズルから吐出供給される溶液の量をパターン内に均一に供給するための説明図。
【図8】溶液の塗布パターンの外周縁の形状を整えながら外周縁部に供給される溶液の量が過剰にならないようにするための説明図。
【図9】焼成されたパターンの形状精度を得るための説明図。
【図10】 (a)〜(d)は基板に異なる撥水性の膜が形成されている場合の溶液の塗布の方法を説明する基板の一部分を示す平面図。
【符号の説明】
9…ヘッド、16…ノズル、20…駆動部、21…制御装置。
Claims (5)
- 所定方向に搬送される基板に溶液を所定の塗布パターンで塗布する溶液の塗布装置において、
上記溶液をインクジェット方式によって吐出する多数のノズルを有するヘッドと、
このヘッドの各ノズルから溶液を間欠的に吐出させる駆動部と、
上記基板への上記溶液の塗布パターンが上記溶液が乾燥することによって変化する形状を予め補正したパターンに設定され、その塗布パターンに基いて上記駆動部の駆動を制御して上記ノズルから基板へ溶液を吐出させる制御装置と
を具備したことを特徴とする溶液の塗布装置。 - 上記制御装置は、上記駆動部によって吐出される溶液の量が多いノズルからの吐出回数を減少させることを特徴とする請求項1記載の溶液の塗布装置。
- 上記制御装置は、上記塗布パターンの外周縁を除く部分で吐出量の多いノズルからの溶液の吐出回数を減少させることを特徴とする請求項1記載の溶液の塗布装置。
- 上記基板の上記溶液が塗布される部分には、上記溶液に対する撥水性の異なる複数の膜が設けられていて、上記制御装置は、溶液の塗布パターンを複数の膜の撥水性の違いに応じて補正することを特徴とする請求項1記載の溶液の塗布装置。
- ヘッドに設けられた多数のノズルから溶液をインクジェット方式によって吐出させて所定方向に搬送される基板に所定の塗布パターンで塗布する溶液の塗布方法において、
上記基板への上記溶液の塗布パターンを、上記溶液が乾燥することによって変化する形状を予め補正したパターンに設定し、その塗布パターンに基いて上記ノズルからの溶液の吐出を制御することを特徴とする溶液の塗布方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003020763A JP4224314B2 (ja) | 2003-01-29 | 2003-01-29 | 溶液の塗布装置及び塗布方法 |
TW093101056A TWI367374B (en) | 2003-01-29 | 2004-01-15 | Apparatus for applying solution and method for applying solution |
KR1020040005339A KR100966130B1 (ko) | 2003-01-29 | 2004-01-28 | 용액의 도포 장치 및 도포 방법 |
CNB2004100078163A CN100398219C (zh) | 2003-01-29 | 2004-01-29 | 溶液涂敷装置和涂敷方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003020763A JP4224314B2 (ja) | 2003-01-29 | 2003-01-29 | 溶液の塗布装置及び塗布方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004230266A JP2004230266A (ja) | 2004-08-19 |
JP2004230266A5 JP2004230266A5 (ja) | 2006-03-16 |
JP4224314B2 true JP4224314B2 (ja) | 2009-02-12 |
Family
ID=32950303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003020763A Expired - Fee Related JP4224314B2 (ja) | 2003-01-29 | 2003-01-29 | 溶液の塗布装置及び塗布方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4224314B2 (ja) |
KR (1) | KR100966130B1 (ja) |
CN (1) | CN100398219C (ja) |
TW (1) | TWI367374B (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4437805B2 (ja) * | 2006-09-13 | 2010-03-24 | シャープ株式会社 | インク吐出装置及びインク吐出制御方法 |
JP2010210870A (ja) * | 2009-03-10 | 2010-09-24 | Stanley Electric Co Ltd | 機能性薄膜、液晶表示装置および機能性薄膜成膜方法 |
CN104511388B (zh) * | 2014-12-29 | 2017-08-04 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 光阻涂布设备及光阻涂布方法 |
JP6692182B2 (ja) * | 2016-02-29 | 2020-05-13 | 日本マタイ株式会社 | 機能性フィルムの製造方法 |
JP2021153085A (ja) * | 2020-03-24 | 2021-09-30 | 株式会社Screenホールディングス | パターン形成装置、パターン形成方法、および吐出データ生成方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5198471A (en) * | 1989-09-11 | 1993-03-30 | Rensselaer Polytechnic Institute | Polymer recycling by selective dissolution |
JP3744967B2 (ja) * | 1995-06-14 | 2006-02-15 | キヤノン株式会社 | インクジェット方式によるプリント回路板の作成方法及びその装置 |
JP3865087B2 (ja) * | 1996-10-29 | 2007-01-10 | 大日本塗料株式会社 | 基板の塗装方法 |
JP2000251678A (ja) * | 1999-02-25 | 2000-09-14 | Canon Inc | 電子源及び画像形成装置の製造方法及び製造装置 |
JP4797246B2 (ja) * | 2001-01-05 | 2011-10-19 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタ製造用の塗布装置 |
-
2003
- 2003-01-29 JP JP2003020763A patent/JP4224314B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-01-15 TW TW093101056A patent/TWI367374B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-01-28 KR KR1020040005339A patent/KR100966130B1/ko active IP Right Grant
- 2004-01-29 CN CNB2004100078163A patent/CN100398219C/zh not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN100398219C (zh) | 2008-07-02 |
JP2004230266A (ja) | 2004-08-19 |
CN1536414A (zh) | 2004-10-13 |
KR20040070022A (ko) | 2004-08-06 |
TW200416460A (en) | 2004-09-01 |
KR100966130B1 (ko) | 2010-06-25 |
TWI367374B (en) | 2012-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7625064B2 (en) | Liquid droplet ejection apparatus, method for manufacturing electro-optic device, electro-optic device, and electronic equipment | |
JP5244758B2 (ja) | 溶液の塗布装置及び塗布方法 | |
US20060050102A1 (en) | Liquid droplet ejection apparatus, method for manufacturing electro-optic device, electro-optic device, and electronic equipment | |
CN115837805B (zh) | 实现显示面板侧边油墨喷印的设备及其喷墨打印控制方法 | |
CN111545381B (zh) | 涂布装置及涂布方法 | |
JP4863999B2 (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
JP4224314B2 (ja) | 溶液の塗布装置及び塗布方法 | |
JP2004141758A (ja) | 液滴吐出装置のドット位置補正方法、アライメントマスク、液滴吐出方法、電気光学装置およびその製造方法、並びに電子機器 | |
JP4259107B2 (ja) | 液滴吐出ヘッド清掃装置、液滴吐出ヘッド清掃方法および液滴吐出装置 | |
JP4627618B2 (ja) | 成膜方法及び成膜装置 | |
JP6243278B2 (ja) | 塗布液塗布装置及び方法 | |
JP2024006461A (ja) | インクジェット装置、制御方法、及び、基板 | |
JP7090011B2 (ja) | 膜パターン形成方法 | |
JP4673417B2 (ja) | 成膜方法及び成膜装置 | |
JP2010181674A (ja) | 配向膜の成膜方法 | |
JP4887076B2 (ja) | 溶液の供給装置及び供給方法 | |
JP2010201288A (ja) | 溶液の塗布方法及び装置 | |
WO2007132727A1 (ja) | カラーフィルタ製造方法およびその装置 | |
JP5328080B2 (ja) | 溶液の供給装置 | |
JP4994094B2 (ja) | 液滴塗布装置及び液滴塗布方法 | |
US7163268B2 (en) | Ink jet recording method and ink jet recording apparatus | |
JP2009045547A (ja) | 吐出重量測定方法、液滴吐出ヘッドの保守方法、液滴吐出装置、及び液滴吐出方法 | |
KR20140076288A (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR20080050783A (ko) | 잉크젯 헤드 | |
KR20080050782A (ko) | 잉크젯 프린팅 시스템 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060126 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060126 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080722 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080729 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080929 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081118 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081121 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4224314 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111128 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111128 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121128 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121128 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131128 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |