JP2006159703A - 液滴吐出装置を用いた描画方法、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】 機能液滴吐出ヘッドの駆動制御が複雑になることなく、各画素領域の隅部まで機能液滴を吐出・着弾させることができる液滴吐出装置等を提供することを課題とする。
【解決手段】 平面視略方形の複数の画素領域５０７ａを、行方向および列方向に配列した基板Ｗに対し、複数のノズル６５を列設した機能液滴吐出ヘッド１８を、Ｘ軸方向に相対的に移動させながら、複数の画素領域５０７ａ内のそれぞれにｎ個のノズル６５からそれぞれ機能液滴を吐出し描画処理を行う液滴吐出装置１であって、機能液滴吐出ヘッド１８を搭載するキャリッジ１４と、基板Ｗを、描画処理に際し、各画素領域５０７ａの対角方向を複数のノズル６５から構成されるノズル列６４の方向と平行にした状態で、搭載するセットテーブル２１と、基板Ｗに対し、機能液滴吐出ヘッド１８をＸ軸方向に相対的に移動させる移動手段１２とを備えた。
【選択図】 図９

Description

本発明は、基板上の画素領域に機能液滴を吐出する液滴吐出装置を用いた描画方法、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器に関するものである。

従来、平面視略方形の複数の画素領域（色要素）を、互いに直交する行方向および列方向に配列した基板に対し、複数のノズルを列設した機能液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）を、Ｘ軸方向に相対的に移動させながら、複数の画素領域内のそれぞれに複数のノズルのうちのｎ個のノズルからそれぞれ機能液（インク）の液滴を吐出・着弾させて描画処理を行う液滴吐出装置を用いて、液晶表示装置のカラーフィルタ等を製造する描画方法が知られている。そして、この場合、ノズル列の方向を基板の行方向および列方向に対して斜めに傾けた状態で、描画処理を行うことが考えられており、このようにすることで、各画素領域に対応するノズルの個数を増やすことができる（例えば、特許文献１参照）。
特許第３１５９９１９号公報（段落［００１８］、［００１９］、［００３６］および［００３７］、並びに図４）

しかしながら、着弾した機能液滴は各画素領域の隅部へは濡れ拡がりにくいため、各画素領域に対し、機能液滴を中央部に着弾させただけでは、画素領域の全域を機能液で満たすことができないおそれがある。特に、各画素領域が疎水性のバンク層により画成されている場合、着弾した機能液滴が各画素領域の隅部へは濡れ拡がりにくい。そのため、各画素領域の隅部へ機能液滴を着弾させる必要があるが、従来の液滴吐出装置のように、単にノズル列方向を基板の行方向および列方向に対して斜めに傾けただけでは、各画素領域の対角に位置する２つの隅部に対し、当該２つの隅部にそれぞれ臨む２個のノズルから、相互に異なるタイミングで機能液滴を吐出・着弾させなければならず、機能液滴吐出ヘッドの駆動制御が複雑であった。

本発明は、機能液滴吐出ヘッドの駆動制御が複雑になることなく、各画素領域の隅部まで機能液滴を吐出・着弾させることができる液滴吐出装置を用いた描画方法、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供することを目的とする。

本発明の液滴吐出装置を用いた描画方法は、平面視略方形の複数の画素領域を、互いに直交する行方向および列方向に配列した基板に対し、複数のノズルを列設した機能液滴吐出ヘッドを、Ｘ軸方向に相対的に移動させながら、複数の画素領域内のそれぞれに複数のノズルのうちのｎ個のノズルからそれぞれ機能液滴を吐出し描画処理を行う液滴吐出装置を用いた描画方法であって、複数のノズルから構成されるノズル列の方向と、各画素領域の対角方向とを平行にした状態で、描画処理を行うことを特徴とする。

また、本発明の液滴吐出装置は、平面視略方形の複数の画素領域を、互いに直交する行方向および列方向に配列した基板に対し、複数のノズルを列設した機能液滴吐出ヘッドを、Ｘ軸方向に相対的に移動させながら、複数の画素領域内のそれぞれに複数のノズルのうちのｎ個のノズルからそれぞれ機能液滴を吐出し描画処理を行う液滴吐出装置であって、機能液滴吐出ヘッドを搭載するキャリッジと、基板を、描画処理に際し、各画素領域の対角方向を複数のノズルから構成されるノズル列の方向と平行にした状態で、搭載するセットテーブルと、基板に対し、機能液滴吐出ヘッドをＸ軸方向に相対的に移動させる移動手段と、を備えたことを特徴とする。

これらの構成によれば、ノズル列と各画素領域の対角方向とを平行にすることで、各画素領域の対角に位置する２つの隅部に２個のノズルが同時に臨むことになる。そして、２つの隅部に対し、その２個のノズルから同時にそれぞれ機能液滴を吐出させることで、当該２つの隅部に機能液滴を着弾させることができる。そのため、機能液滴吐出ヘッドの駆動制御が複雑になることなく、各画素領域の隅部に機能液滴を着弾させることができる。したがって、液晶表示装置のカラーフィルタ等において、ドット抜けや色ムラが生ずることを有効に防止することができる。

上記の液滴吐出装置を用いた描画方法において、描画処理に際し、ノズル列方向と、各画素領域の対角方向とを平行にすると共に、基板の行方向および列方向を、Ｘ軸方向に対して斜めに傾けた状態とすることが好ましい。

また、上記の液滴吐出装置において、セットテーブルは、描画処理に際し、各画素領域の対角方向を、ノズル列方向と平行にすると共に、基板の行方向および列方向を、Ｘ軸方向に対して斜めに傾けた状態で、基板を搭載することが好ましい。

これらの構成によれば、基板の行方向および列方向を、Ｘ軸方向に対して斜めに傾けることで、列方向に並ぶ複数の画素領域に対して、同一のノズルから機能液滴が吐出・着弾されることなく、複数のノズルから吐出・着弾されるため、異なる吐出条件（吐出量）で機能液滴を着弾させることになる。すなわち、同一列の画素領域に対し、異なる条件で機能液滴が吐出・着弾される。したがって、他の画素領域の成膜部とは膜厚が異なる（プロフィールが異なる）画素領域が生じた場合にも、それらが複数列に亘る複数の画素領域に分散し、同一列の端から端まで連続することがないため、液晶表示装置のカラーフィルタ等において、色ムラとして目立つことがない。

上記の液滴吐出装置において、セットテーブルは、搭載した基板を、当該基板に平行な面内で回転させる基板θ軸テーブルを、有し、セットテーブルを制御する制御手段を、さらに備え、制御手段は、描画処理に際し、各画素領域の対角方向がノズル列方向と平行になるように、基板を回転させることが好ましい。

この構成によれば、各画素領域の対角方向とノズル列方向とが為す角度を、容易に変更することができる。したがって、液滴吐出装置にセットされた基板や機能液滴吐出ヘッドの種類に応じて、ノズル列方向が各画素領域の対角方向と平行になるように、適宜調整することができる。

本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、基板上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。

本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、基板上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。

これらの構成によれば、機能液滴吐出ヘッドの駆動制御が複雑になることなく、各画素領域の隅部まで機能液滴を吐出・着弾させることができる液滴吐出装置を用いて描画処理を行うことで、ドット抜けや色ムラのない、高品質な電気光学装置を効率良く製造することが可能となる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ：ＦＰＤ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。

本発明の電子機器は、上記した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。

この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータのほか、各種の電気製品がこれに該当する。

以下、添付の図面を参照して、本発明を適用した液滴吐出装置について説明する。本実施形態の液滴吐出装置は、液晶表示装置等のＦＰＤの製造ラインに組み込まれた描画システムに設置されており、特殊なインクや発光性の樹脂液等の機能液を機能液滴吐出ヘッドに導入して、液晶表示装置のカラーフィルタ等の基板上に機能液滴による成膜部を形成するものである。そこで、まず、吐出対象ワークである基板について簡単に説明する。なお、以下に説明する画素領域のサイズ等の値は概数である。

図１に示すように、基板Ｗは、石英ガラスやポリイミド樹脂等で構成された透明基板である。基板Ｗには、複数の画素領域５０７ａが行方向（基板の長辺方向）および列方向（基板の短辺方向）に配列されている。また、基板Ｗの周縁部の左右２箇所には、導入された液滴吐出装置１（図２参照）により位置認識される一対の基板アライメントマークＷｍ、Ｗｍがそれぞれ形成されており、その長辺（行方向）がＹ軸方向と平行になるようにして、セットされる。

各画素領域５０７ａは、区画壁部５０７ｂで囲まれた平面視長方形の凹部となっており、後述する機能液滴吐出ヘッド１８によりＲ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）３色の成膜部（着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂ）を形成する際に、機能液滴の着弾領域となる（図１９参照）。基板の行方向における各画素領域の寸法Ｄａは、例えば３００μｍ、基板の列方向における各画素領域の寸法Ｄｂは、例えば１００μｍである。また、基板の行方向における区画壁部５０７ｂの寸法Ｌａは、例えば９６μｍ、基板の列方向における区画壁部５０７ｂの寸法Ｌｂは、例えば３０μｍである。そして、着弾させた機能液滴の溶媒が揮発した後、所定の膜厚の着色層５０８が形成されるように、所定量の機能液滴を着弾させる。

また、後述するように、区画壁部５０７ｂ（バンク５０３、図１９参照）は疎水（疎液）性の樹脂材料で構成されているため、区画壁部５０７ｂに機能液滴が着弾しても、その機能液滴は隣接する画素領域５０７ａ内へ流れ込むようになっている。一方、基板Ｗの表面は、表面処理により親水（親液）性となっており、着弾した機能液滴は、画素領域５０７ａ内に濡れ拡がるようになっている。ただし、疎水性の区画壁部５０７ｂ付近、すなわち画素領域５０７ａの周縁部、特に隅部へは、機能液滴が濡れ拡がりにくい。

なお、本実施形態における複数の画素領域５０７ａの配色パターンは、基板Ｗの行方向においてすべて同色となるストライプ配列であるが、マトリクスの縦列（Ｘ軸方向）においてすべて同色となるストライプ配列であってもよい。さらに、マトリクスの縦列・横列に並んだ任意の３つの画素が、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色となるモザイク配列であってもよく、複数の画素領域５０７ａが千鳥をなすデルタ配列であってもよい。そして、機能液滴が着弾した３個の画素領域、すなわち、Ｒの機能液滴が着弾した画素領域と、Ｇの機能液滴が着弾した画素領域と、Ｂの機能液滴が着弾した画素領域とにより、いわゆる画素が構成される。

続いて、本発明に係る液滴吐出装置について説明する。本実施形態の液滴吐出装置は、Ｒ・Ｇ・Ｂ３色の機能液のうち、いずれか１色（ここではＲ）の機能液を機能液滴吐出ヘッドに導入し、基板Ｗに対して吐出（描画）するものであり、上記の描画システムには、各色の機能液に対応する液滴吐出装置が１台ずつ、計３台設置されている。もちろん、１台の液滴吐出装置により、３色の機能液を吐出する構成であってもよい。

図２に示すように、液滴吐出装置１は、機台２と、機台２上の全域に広く載置され、機能液滴吐出ヘッド１８を搭載した描画装置３と、機能液滴吐出ヘッド１８に機能液を供給する機能液供給機構６（図４参照）と、機台２上の端部に設置されたヘッド機能回復装置４と、ヘッド機能回復装置４の各種ユニットを一括載置して機台２上を移動させるメンテナンス系移動テーブル５と、を備え、ヘッド機能回復装置４により機能液滴吐出ヘッド１８の機能回復処理を行うと共に、描画装置３により基板Ｗ上に機能液滴を吐出・着弾させる描画処理を行うようにしている。また、液滴吐出装置１には、上記の描画システム全体を制御する上位コンピュータ１００に接続され液滴吐出装置１の各部を制御するコントローラ７（制御部１２０、図４参照）等が組み込まれている。さらに、図示しないが、液滴吐出装置１には、ロボットアームで構成された基板搬出入装置が添設されており、この基板搬出入装置を介して、液滴吐出装置１に基板Ｗが導入される。

まず、液滴吐出装置１の描画装置３およびこれによる描画処理について説明する。描画装置３は、Ｘ軸テーブル１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＹ軸テーブル１３から成るＸＹ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル１３に移動自在に取り付けられ、ヘッドθ軸テーブル１５を有するメインキャリッジ１４（キャリッジ）と、メインキャリッジ１４に垂設したヘッドユニット１６とを有している。そして、ヘッドユニット１６には、サブキャリッジ１７を介して、機能液滴吐出ヘッド１８が搭載されている。このヘッドθ軸テーブル１５は、サブキャリッジ１７を介して、機能液滴吐出ヘッド１８をそのノズル面６３（後述する）に平行な面内で回転させるものである。そして、基板Ｗは、Ｘ軸テーブル１２の端部に臨む一対の基板認識カメラ１９，１９により、Ｘ軸テーブル１２に位置決めされた状態で搭載されている。なお、図示のサブキャリッジ１７には、１つの機能液滴吐出ヘッド１８が搭載されているが、これが複数であってもよい。

Ｘ軸テーブル１２は、Ｘ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＸ軸スライダ２４を有し、これに吸着テーブル２２および基板θ軸テーブル２３等から成るセットテーブル２１を移動自在に搭載して、構成されている。同様に、Ｙ軸テーブル１３は、Ｙ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＹ軸スライダ３１を有し、これに上記のメインキャリッジ１４を介してヘッドユニット１６を移動自在に搭載して、構成されている。

基板θ軸テーブル２３は、基板Ｗをこれに平行な面内で、セットテーブル２１の中心（セットされた基板Ｗの中心）を中心として、回転させるものである。また、基板θ軸テーブル２３には、ヘッド認識カメラ２５（図４参照）が固定されており、セットテーブル２１に対して、ヘッドユニット１６の位置を補正可能となっている。

なお、Ｘ軸テーブル１２には、Ｘ軸方向に沿ってＸ軸リニアスケール（図示省略）が設けられており、これに基づいて、Ｘ軸テーブル１２を移動するセットテーブル２１の刻々の位置を正確に把握し、制御部１２０の駆動信号発生回路１２６（図４参照）に供給する吐出タイミング用基準パルス（トリガーパルス）を得ている。

Ｘ軸テーブル１２は、機台２上に直接支持される一方、Ｙ軸テーブル１３は、機台２上に立設した左右の支柱３６，３６に支持されている。Ｘ軸テーブル１２とメンテナンス系移動テーブル５とは、Ｘ軸方向に相互に平行に配設されており、Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２とメンテナンス系移動テーブル５とを跨ぐように延在している。

そして、Ｙ軸テーブル１３は、これに搭載したヘッドユニット１６を、Ｘ軸テーブル１２の直上部に位置する描画エリア４１と、メンテナンス系移動テーブル５の直上部に位置する機能回復エリア４２との相互間で、適宜移動させる。すなわち、Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２に導入した基板Ｗに描画を行う場合には、ヘッドユニット１６を描画エリア４１に臨ませ、後述する機能液滴吐出ヘッド１８の機能回復処理を行う場合には、ヘッドユニット１６を機能回復エリア４２に臨ませる。

一方、Ｘ軸テーブル１２の一方の端部は、上記の基板搬出入装置により基板ＷをＸ軸テーブル１２にセットするための基板搬出入エリア４３となっており、この基板搬出入エリア４３には、上記一対の基板認識カメラ１９，１９が配設されている。そして、この一対の基板認識カメラ１９，１９により、吸着テーブル２２上に供給された基板Ｗの２箇所の基板アライメントマークＷｍ，Ｗｍが同時に認識され、この認識結果に基づいて、基板Ｗのアライメントがなされる。

図３に示すように、機能液滴吐出ヘッド１８は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針５２，５２を有する機能液導入部５１と、機能液導入部５１に連なる２連のヘッド基板５３と、機能液導入部５１の下方（同図では上方）に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体５４と、を備えている。各接続針５２は、機能液供給チューブ（図示省略）を介して機能液を貯留する機能液供給機構６（の給液タンク）に接続されており、機能液導入部５１は、各接続針５２から機能液の供給を受けるようになっている。また、ヘッド本体５４は、ピエゾ素子等で構成される２連のポンプ部６１と、２本のノズル列６４，６４を相互に平行に形成したノズル面６３を有するノズルプレート６２と、を有している。

各ノズル列６４は、複数（１８０個）のノズル６５が等ピッチ（例えば、１４０μｍ）で並べられて構成されている。そして、２本のノズル列６４，６４は、ノズル列方向（Ｙ軸方向）に互いにノズルピッチの１／２倍の長さずつ位置ずれして形成されており、計３６０個のノズル７５は、Ｙ軸方向に７０μｍのピッチで描画ラインを構成するようになっている。もっとも、本実施形態では、一方のノズル列６４の各ノズル６５を、機能液滴を吐出させる吐出ノズルとし、他方のノズル列６４の各ノズル６５を、機能液滴を吐出させない不吐出ノズルとしている。もちろん、双方のノズル列６４の各ノズル６５から機能液滴を吐出させる構成としてもよい。

また、機能液滴吐出ヘッド１８は、ヘッド内流路の構造上、各ノズル６５の吐出条件（吐出量）が微妙に異なっている。特に、両端部に位置するノズル６５からの吐出量は、中央部に位置するノズル６５からの吐出量に比べてかなり多くなっているため、両端部の各１０個のノズル６５を不吐出ノズルとし、中央部の１６０個のノズル６５を吐出ノズルとしている。そのため、ノズル列６４のうち中央部の１６０個の吐出ノズルにより構成される描画ラインの長さは、２２．６ｍｍとなる。もっとも、後述するように、ヘッドθ軸テーブル１５により機能液滴吐出ヘッド１８を回転させることで、ノズル列６４をＹ軸方向に対して斜めに傾けた場合には、それに伴って、描画ラインの長さも短くなる。

一方、ヘッド基板５３には、２連のコネクタ５６，５６が設けられており、各コネクタ５６はフレキシブルフラットケーブルを介してヘッドドライバ１１１（図４参照）に接続されている。そして、ヘッドドライバ１１１で生成された駆動波形（後述する）が各コネクタ５６を介して各ポンプ部６１に供給され、各ノズル６５から機能液滴が吐出される。

なお、上記のヘッドθ軸テーブル１５の回転軸は、機能液滴吐出ヘッド１８においては、ノズルプレート６２の中央にある。すなわち、２本のノズル列６４の中間であって、９０番目のノズル６５と９１番目のノズル６５との中間の位置を中心として、ヘッドθ軸テーブル１５により機能液滴吐出ヘッド１８が回転する。

ここで、図１を参照して、描画装置３による基板Ｗへの一連の吐出動作（描画処理）について簡単に説明する。まず、機能液滴を吐出する前の準備として、吸着テーブル２２にセットされた基板Ｗの位置補正が、基板θ軸テーブル２３によるθ軸方向の位置補正と、基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置データ補正とにより行われると共に、メインキャリッジ１４にセットされたヘッドユニット１６の位置補正が、ヘッドθ軸テーブル１５によるθ軸方向の位置補正と、機能液滴吐出ヘッド１８のＸ軸方向およびＹ軸方向の位置データ補正とにより行われる。

そして、描画装置３は、制御部１２０による制御を受けながら、基板ＷをＸ軸テーブル１２によりＸ軸方向に往動させると共に、これに同期して機能液滴吐出ヘッド１８を選択的に駆動させて、基板Ｗに対する機能液の吐出走査（主走査）が行われる。そして、Ｙ軸テーブル１３によりヘッドユニット１６を描画ラインの長さ分Ｙ軸方向に移動（副走査）させた後、基板ＷをＸ軸方向に復動させると共に、これに同期して機能液滴吐出ヘッド１８を選択的に駆動させて、再度吐出走査が行われる。なお、１回の吐出走査（基板の往動または復動）だけでは、所定量の機能液滴を着弾させることができない（各画素領域５０７ａの全域を機能液で満たすことができない）場合は、各画素領域５０７ａに対し、複数回に亘る吐出走査を行った後、副走査を行うようにする。

そして、このような基板の往復動に伴う吐出走査（主走査）および副走査を複数回繰り返すことで、基板Ｗの端から端まで描画が行われる。なお、この描画処理は、ノズル列６４の方向と、基板Ｗの各画素領域５０７ａの対角方向とを平行にした状態で行われる（詳細は後述する）。

なお、本実施形態の液滴吐出装置１では、その吐出対象である基板ＷをＸ軸方向に移動させるようにしているが、ヘッドユニット１６をＸ軸方向に移動させる構成であってもよい。また、ヘッドユニット１６を固定とし、基板ＷをＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させる構成であってもよい。さらに、本実施形態では、往動時および復動時のいずれにも機能液滴の吐出（往復描画処理）が行われるが、往動時のみ機能液滴の吐出が行われる構成としてもよい。

続いて、図１を参照して、液滴吐出装置１におけるヘッド機能回復装置４およびこれによる機能液滴吐出ヘッド１８の機能回復処理について簡単に説明する。機能液滴吐出ヘッド１８の機能回復処理は、メンテナンス系移動テーブル５によりこれに載置したヘッド機能回復装置４の各種ユニットを機能回復エリア４２に移動させると共に、上述したようにＹ軸テーブル１３によりヘッドユニット１６を機能回復エリア４２に移動させて行われる。

メンテナンス系移動テーブル５は、機台２本体の長手方向（Ｘ軸方向）に延在しており、モータ駆動のＸ軸移動機構（図示省略）を備え、共通ベース７１上に分散して載置されたヘッド機能回復装置４の各種ユニットをＸ軸方向に移動して機能回復エリア４２に位置させる。

ヘッド機能回復装置４は、上記のメンテナンス系移動テーブル５上に互いに隣接して載置され、液滴吐出装置１の稼動停止時に機能液滴吐出ヘッド１８のノズル６５の乾燥を防止すべくこれを封止する保管ユニット８１と、機能液滴吐出ヘッド１８内で増粘した機能液を除去するための吸引（クリーニング）を行う吸引ユニット８２と、機能液滴吐出ヘッド１８のノズル面６３を払拭するワイピングユニット８３とを備えている。
なお、吸引ユニット８２による吸引は、上記の機能回復処理のほか、機能液滴吐出ヘッド１８を交換等して、給液タンクから機能液滴吐出ヘッド１８に至る機能液流路に機能液を導入する場合にも行われる。

次に、図４を参照して、液滴吐出装置１全体の制御系について説明する。液滴吐出装置１の制御系は、基本的に、描画システム全体を制御する上位コンピュータ１００（パーソナルコンピュータ）と、機能液滴吐出ヘッド１８、ＸＹ移動機構１１、ヘッド機能回復装置４等を駆動する各種ドライバを有する駆動部１１０と、駆動部１１０を含め液滴吐出装置１全体を統括制御する制御部１２０（コントローラ７）とを備えている。

上位コンピュータ１００は、コントローラ７に接続されたコンピュータ本体１０１に、キーボード１０２や、キーボード１０２による入力結果等を画像表示するディスプレイ１０３等が接続されて構成されている。

駆動部１１０は、機能液滴吐出ヘッド１８を吐出駆動制御するヘッドドライバ１１１と、Ｘ軸テーブル１２およびＹ軸テーブル１３の各モータをそれぞれ駆動制御する描画系移動用ドライバ１１２と、メンテナンス系移動テーブル５を駆動制御するメンテナンス系移動用ドライバ１１３と、ヘッド機能回復装置４の吸引ユニット８２およびワイピングユニット８３を駆動制御するメンテナンス用ドライバ１１４とを備えている。

制御部１２０は、ＣＰＵ１２１と、ＲＯＭ１２２と、ＲＡＭ１２３と、Ｐ−ＣＯＮ１２４とを備え、これらは互いにバス１２５を介して接続されていると共に、ヘッドドライバ１１１に供給する吐出駆動信号を発生する駆動信号発生回路１２６を備えている。ＲＯＭ１２２は、ＣＰＵ１２１で処理する制御プログラム等を記憶する制御プログラム領域と、描画処理や機能回復処理等を行うための制御データ等を記憶する制御データ領域を有している。

ＲＡＭ１２３は、各種レジスタ群のほか、基板Ｗに描画を行うための描画データを記憶する描画データ記憶部、基板Ｗおよび機能液滴吐出ヘッド１８の位置データを記憶する位置データ記憶部等の各種記憶部を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。

Ｐ−ＣＯＮ１２４には、駆動部１１０の各種ドライバのほか、上記の基板認識カメラ１９、ヘッド認識カメラ２５および機能液供給機構６等が接続されており、ＣＰＵ１２１の機能を補うと共に、周辺回路とのインタフェース信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。

駆動信号発生回路１２６は、上記の吐出タイミング用基準パルスが供給されると、吐出駆動信号を発生させてヘッドドライバ１１１に出力し、ヘッドドライバ１１１は、吐出駆動信号が入力されると、駆動波形を機能液滴吐出ヘッド１８に印加する。この駆動波形のタイミング、大きさ（電圧値）、個数を制御することで、機能液滴吐出ヘッド１８の各ノズル６５からの機能液滴の吐出タイミング、吐出量、ショット数がそれぞれ制御される。

そして、ＣＰＵ１２１は、ＲＯＭ１２２内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ１２４を介して各種検出信号、各種指令、各種データ等を入力し、ＲＡＭ１２３内の各種データ等を処理した後、Ｐ−ＣＯＮ１２４を介して駆動部１１０等に各種の制御信号を出力することにより、液滴吐出装置１全体を制御している。

例えば、ＣＰＵ１２１は、基板Ｗに対し描画処理を行う場合には、機能液滴吐出ヘッド１８の吐出駆動を制御すると共に、ＸＹ移動機構１１により基板Ｗおよびヘッドユニット１６の走査範囲の移動動作等を制御する。また、機能液滴吐出ヘッド１８の機能回復を行う場合には、メンテナンス系移動テーブル５の移動動作を制御すると共に、ヘッド機能回復装置４の各種ユニットを制御する。

ここで、液滴吐出装置１による描画処理について詳細に説明する。図５ないし図１１に示すように、第１実施形態の液滴吐出装置１は、基板θ軸テーブル２３により、基板Ｗを回転させることで、ノズル列６４の方向と、各画素領域５０７ａの対角方向とを平行にした状態で、描画処理を行うものである。なお、以下では、図示上側のノズル列６４の各ノズル６５が、吐出ノズルである。

まず、上記のヘッドユニット１６（機能液滴吐出ヘッド１８）および基板Ｗの位置補正が行われた状態では、機能液滴吐出ヘッド１８は、ノズル列６４がＹ軸方向に平行な状態でメインキャリッジ１４に搭載されており、基板Ｗは、行方向および列方向がそれぞれＹ軸方向およびＸ軸方向に平行な状態でセットテーブル２１にセットされている（図５参照）。

位置補正の終了後、基板θ軸テーブル２３により、基板Ｗを回転させて、ノズル列６４の方向と、各画素領域５０７ａの対角方向とを平行にする（図６参照）。このとき、基板Ｗの行方向および列方向が、Ｘ軸方向に対して斜めに傾いた状態となる。なお、このときの回転角度θ１は、各画素領域５０７ａの寸法（縦横比）により定まるものであり、ｔａｎ（θ１）＝Ｄｂ／Ｄａである。本実施形態では、各画素領域５０７ａは３００μｍ×１００μｍであるから、θ１は１８°程度である。

この状態で、上記のように、Ｘ軸テーブル１２により基板ＷをＸ軸方向に移動（往動）させながら、機能液滴吐出ヘッド１８を吐出駆動させ、図示左側から１列目および２列目の各画素領域５０７ａ（Ｒの画素領域）に対して、それぞれ３個のノズル６５から機能液滴を吐出・着弾させる（図７ないし図９）。

ここで、ノズル列６４と各画素領域５０７ａの対角方向とを平行にしたことで、各画素領域５０７ａの対角に位置する２つの隅部Ｃａ，Ｃａに、２個のノズル６５，６５が同時に臨むことになる。そして、２つの隅部Ｃａ，Ｃａに対し、その２個のノズル６５，６５から同時にそれぞれ機能液滴を吐出させることで、当該２つの隅部Ｃａ，Ｃａに機能液滴を着弾させることができる（図７および図８参照）。このため、２つの隅部Ｃａ，Ｃａに対し、これに臨む２個のノズル６５，６５から相互に異なるタイミングで吐出する必要がなく、各ノズル６５に対して異なる吐出タイミングとなるような駆動波形を印加する必要がない。したがって、機能液滴吐出ヘッド１８の駆動制御が複雑になることなく、各画素領域５０７ａの隅部Ｃａまで機能液滴を吐出・着弾させることができる。

さらに、例えば図示左側から１列目の画素領域５０７ａについては、図示上側から１行目（１番目のＲ行）の画素領域５０７ａに対し、図示左側から３番目、４番目および５番目の３個のノズル６５から、機能液滴が着弾されるが（図７参照）、４行目（２番目のＲ行）の画素領域５０７ａに対しては、左側から２番目、３番目および４番目の３個のノズル６５から、機能液滴が着弾される（図８参照）。

このように、基板Ｗの行方向および列方向を、Ｘ軸方向に対して斜めに傾けたことで、列方向に並ぶ複数の画素領域５０７ａに対して、同一のノズル６５から機能液滴が吐出・着弾されることなく、複数のノズル６５から、異なる吐出条件で機能液滴が着弾される。換言すれば、各ノズル６５は、１行目から最終行に亘って、常に同一列の画素領域５０７ａに機能液滴を着弾させることがない。すなわち、例えば５番目のノズル６５は、１行目では、１列目の画素領域５０７ａに、４行目では、２列目の画素領域５０７ａに対し、機能液滴を吐出・着弾させる。そのため、仮に５番目のノズル６５の吐出量が少ない場合であっても、着色層５０８の膜厚が小さい画素領域５０７ａが複数列に亘る複数の画素領域５０７ａに分散し、同一列の端から端まで連続することがない。したがって、液晶表示装置のカラーフィルタ等において、色ムラとして目立つことがない。

ここで、基板Ｗの往動に伴う１回目の吐出走査で、機能液滴が吐出・着弾された図示左側から１列目および２列目の各画素領域５０７ａの全域が機能液で満たされている場合には、ヘッドユニット１６の副走査を行い、３列目および４列目の各画素領域に対し、基板Ｗの復動に伴う２回目の吐出走査を行うことになる。しかしながら、１回の吐出走査により、各画素領域５０７ａの一方の対角線上に機能液滴を吐出・着弾させただけでは、特に他方の対角に位置する隅部Ｃｂに機能液が行き渡りにくく、画素領域５０７ａ内の全域を機能液で満たすことができないおそれがある。そのような場合、再度吐出走査を行って、各画素領域５０７ａの他方の対角に位置する２つの隅部Ｃｂ，Ｃｂに対しても機能液滴を着弾させるようにする。

そして、２回目の吐出走査においては、ノズル列６４の方向を、１回目の吐出走査のときのように、各画素領域５０７ａの一方の対角と平行にしたまま行うのではなく、ノズル列６４の方向を、各画素領域５０７ａの一方の対角方向から他方の対角方向へ角度変化させるようにする。

そこで、まず、基板θ軸テーブル２３により、ノズル列６４の方向と、各画素領域５０７ａの他方の対角とが平行になるように、基板Ｗを回転させる（図１０参照）。すなわち、先程とは逆方向にθ１の２倍回転させる。続いて、この状態で、基板Ｗの復動に伴った吐出走査を行う。これによれば、角度変化させた２回目の吐出走査において、各画素領域５０７ａの他方の対角に位置する２つの隅部Ｃｂ，Ｃｂに臨む２個のノズル６５から同時にそれぞれ機能液滴を吐出・着弾させることで、当該２つの隅部Ｃｂ，Ｃｂに機能液滴を着弾させることができる（図１１参照）。以上より、基板Ｗの往復動に伴った２回の吐出走査を行うことで、機能液滴吐出ヘッドの駆動制御が複雑になることなく、各画素領域の４つの隅部Ｃａ，Ｃｂまで機能液滴を吐出・着弾させることができる

続いて、図１２ないし図１７を参照して、第２実施形態の液滴吐出装置１による描画処理について説明する。第２実施形態は、第１実施形態と略同様の構成であるが、基板θ軸テーブル２３により基板Ｗを回転させることに代えて、ヘッドθ軸テーブル１５により基板Ｗを回転させることで、ノズル列６４の方向と、各画素領域５０７ａの対角方向とを平行にした状態で、描画処理を行うものである。

まず、第１実施形態と同様に、ヘッドユニット１６（機能液滴吐出ヘッド１８）および基板Ｗの位置補正が行われた状態では、機能液滴吐出ヘッド１８は、ノズル列６４がＹ軸方向に平行な状態でメインキャリッジ１４に搭載されており、基板Ｗは、行方向および列方向がそれぞれＹ軸方向およびＸ軸方向に平行な状態でセットテーブル２１にセットされている（図１２参照）。

位置補正の終了後、ヘッドθ軸テーブル１５により、ヘッドユニット１６（機能液滴吐出ヘッド１８）を回転させて、ノズル列６４の方向と、各画素領域５０７ａの対角方向とを平行にする（図１３参照）。この場合の回転角度θ１は、上記と同様に、ｔａｎ（θ１）＝Ｄｂ／Ｄａであり、本実施形態では、１８°程度である。

この状態で、上記のように、Ｘ軸テーブル１２により基板ＷをＸ軸方向に移動（往動）させながら、機能液滴吐出ヘッド１８を吐出駆動させ、図示左側から１列目および２列目の各画素領域５０７ａ（Ｒの画素領域）に対して、吐出走査を行う（図１４および図１５）。そして、この場合も、ノズル列６４と各画素領域５０７ａの対角方向とを平行にすることで、２つの隅部Ｃａ，Ｃａに対し、その２個のノズル６５，６５から同時にそれぞれ機能液滴を吐出させることで、当該２つの隅部に機能液滴を着弾させることができる。

さらに、第１実施形態と同様に、１列目および２列目の各画素領域５０７ａの全域が機能液で満たされていない場合には、副走査を行わず、基板Ｗの復動に伴って、１列目および２列目の各画素領域５０７ａに対して再度吐出走査を行う。そして、２回目の吐出走査では、ヘッドθ軸テーブル１５により、ノズル列６４の方向と、各画素領域５０７ａの他方の対角とが平行になるように、機能液滴吐出ヘッド１８を回転させ（図１６参照）、他方の対角に位置する２つの隅部Ｃｂ，Ｃｂに対し、これに臨む２つのノズル６５から同時に機能液滴を吐出することで、当該２つの隅部に機能液滴を着弾させる（図１７参照）。

なお、上述したように、ヘッドθ軸テーブル１５は、機能液滴吐出ヘッド１８をノズルプレート６２の中央を中心にして回転するため（図１３および図１６参照）、機能液滴吐出ヘッド１８の回転軸は、ノズル列６４上にない。このため、図示では、角度変化の前後において、Ｙ軸方向における各ノズル６５の位置に変化がないが、実際には、Ｙ軸方向における各ノズル６５の位置が異なることとなる。したがって、吐出走査毎に、ヘッドユニット１６をＹ軸方向に微小距離移動させることなく、各画素領域５０７ａに対し、機能液滴を隈なく着弾させることができる。

以上のように、第２実施形態の液滴吐出装置１においても、機能液滴吐出ヘッド１８の駆動制御が複雑になることなく、各画素領域５０７ａの隅部Ｃａ，Ｃｂまで機能液滴を吐出・着弾させることができる。そのため、ドット抜けや色ムラのない、高品質な電気光学装置を効率良く製造することができる。

なお、第１実施形態および第２実施形態では、基板θ軸テーブル２３やヘッドθ軸テーブル１５を駆動制御して、ノズル列６４の方向と、各画素領域５０７ａの対角方向とを平行にするようにしたが、予め、ノズル列６４の方向と、各画素領域５０７ａの対角方向とが平行になるように、ヘッドユニット１６（機能液滴吐出ヘッド１８）および基板Ｗをそれぞれメインキャリッジ１４およびセットテーブル２１に搭載するようにしてもよい。もっとも、本実施形態のように、基板θ軸テーブル２３やヘッドθ軸テーブル１５を駆動制御することで、各画素領域５０７ａの対角方向とノズル列６４の方向とが為す角度を、容易に変更することができる。したがって、液滴吐出装置１にセットされた基板Ｗや機能液滴吐出ヘッド１８の種類に応じて、ノズル列６４の方向と、各画素領域５０７ａの対角方向とが平行になるように、適宜調整することができる。

次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。

まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１８は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１９は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図１９（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。

続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図１９（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１９（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド１８により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。

以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。

次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図１９（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド１８によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド１８を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。

その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図１９（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。

図２０は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図１９に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。

この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。

カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図２０において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。

液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。

通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。

実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド１８で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド１８で行うことも可能である。

図２１は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。

カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。

液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。

図２２は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。

この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。

対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。

また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。

なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。

次に、図２３は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。

この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。

回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。

また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。

そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。

このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。

上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。

バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。

上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。

発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。

そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。

陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。

次に、上記の表示装置６００の製造工程を図２４〜図３２を参照して説明する。
この表示装置６００は、図２４に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。

まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図２５に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図２６に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。

表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド１８を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。

そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図２に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。

図２７に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド１８から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図２８に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。

次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。

そして次に、図２９に示すように、各色のうちのいずれか（図２９の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。

その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図３０に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。

同様に、機能液滴吐出ヘッド１８を用い、図３１に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。

以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。

対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図３２に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ₂、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。

このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。

次に、図３３は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。

第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。

放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。

第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。

本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図２に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド１８により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。

補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。

ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド１８から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。

次に、図３４は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。

第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。

第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。

そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。

この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。

第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図３５（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図３５（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。

また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。

基板を模式的に表した平面図である。 液滴吐出装置の平面模式図である。 機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。 液滴吐出装置の制御系について説明するブロック図である。 第１実施形態における液滴吐出装置による描画処理を説明する模式図である。 図５に続く、第１実施形態における液滴吐出装置による描画処理を説明する模式図である。 図６に続く、第１実施形態における液滴吐出装置による描画処理を説明する模式図である。 図７に続く、第１実施形態における液滴吐出装置による描画処理を説明する模式図である。 図８に続く、第１実施形態における液滴吐出装置による描画処理を説明する模式図である。 図９に続く、第１実施形態における液滴吐出装置による描画処理を説明する模式図である。 図１０に続く、第１実施形態における液滴吐出装置による描画処理を説明する模式図である。 第２実施形態における液滴吐出装置による描画処理を説明する模式図である。 図１２に続く、第２実施形態における液滴吐出装置による描画処理を説明する模式図である。 図１３に続く、第２実施形態における液滴吐出装置による描画処理を説明する模式図である。 図１４に続く、第２実施形態における液滴吐出装置による描画処理を説明する模式図である。 図１５に続く、第２実施形態における液滴吐出装置による描画処理を説明する模式図である。 図１６に続く、第２実施形態における液滴吐出装置による描画処理を説明する模式図である。 カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。 （ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。 本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。 有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。 有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。 無機物バンク層の形成を説明する工程図である。 有機物バンク層の形成を説明する工程図である。 正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。 正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。 青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。 青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。 各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。 陰極の形成を説明する工程図である。 プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。 電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。 表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。

符号の説明

１…液滴吐出装置 ７…コントローラ １２…Ｘ軸テーブル １４…メインキャリッジ １８…機能液滴吐出ヘッド ２１…セットテーブル ２３…基板θ軸テーブル ６５…ノズル ５００…カラーフィルタ ５０７ａ…画素領域 ５０８…着色層 Ｗ…基板

Claims (8)

1. 平面視略方形の複数の画素領域を、互いに直交する行方向および列方向に配列した基板に対し、複数のノズルを列設した機能液滴吐出ヘッドを、Ｘ軸方向に相対的に移動させながら、前記複数の画素領域内のそれぞれに前記複数のノズルのうちのｎ個のノズルからそれぞれ機能液滴を吐出し描画処理を行う液滴吐出装置を用いた描画方法であって、
   前記複数のノズルから構成されるノズル列の方向と、前記各画素領域の対角方向とを平行にした状態で、前記描画処理を行うことを特徴とする液滴吐出装置を用いた描画方法。
2. 前記描画処理に際し、前記ノズル列方向と、前記各画素領域の対角方向とを平行にすると共に、前記基板の行方向および列方向を、前記Ｘ軸方向に対して斜めに傾けた状態とすることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置を用いた描画方法。
3. 平面視略方形の複数の画素領域を、互いに直交する行方向および列方向に配列した基板に対し、複数のノズルを列設した機能液滴吐出ヘッドを、Ｘ軸方向に相対的に移動させながら、前記複数の画素領域内のそれぞれに前記複数のノズルのうちのｎ個のノズルからそれぞれ機能液滴を吐出し描画処理を行う液滴吐出装置であって、
   前記機能液滴吐出ヘッドを搭載するキャリッジと、
   前記基板を、前記描画処理に際し、前記各画素領域の対角方向を前記複数のノズルから構成されるノズル列の方向と平行にした状態で、搭載するセットテーブルと、
   前記基板に対し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記Ｘ軸方向に相対的に移動させる移動手段と、
   を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
4. 前記セットテーブルは、前記描画処理に際し、前記各画素領域の対角方向を、前記ノズル列方向と平行にすると共に、前記基板の行方向および列方向を、前記Ｘ軸方向に対して斜めに傾けた状態で、前記基板を搭載することを特徴とする請求項３に記載の液滴吐出装置。
5. 前記セットテーブルは、搭載した前記基板を、当該基板に平行な面内で回転させる基板θ軸テーブルを、有し、
   前記セットテーブルを制御する制御手段を、さらに備え、
   前記制御手段は、前記描画処理に際し、前記各画素領域の対角方向が前記ノズル列方向と平行になるように、前記基板を回転させることを特徴とする請求項３または４に記載の液滴吐出装置。
6. 請求項３ないし５のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記基板上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
7. 請求項３ないし５のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記基板上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
8. 請求項６に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項７に記載の電気光学装置を、搭載したことを特徴とする電子機器。

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