WO2006013773A1 - 接触荷重測定装置および検査装置 - Google Patents

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Tokyo Electron Ltd
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/282Testing of electronic circuits specially adapted for particular applications not provided for elsewhere
    • G01R31/2831Testing of materials or semi-finished products, e.g. semiconductor wafers or substrates
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P74/00Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices

Definitions

  • the present invention relates to a contact load measuring apparatus and an inspection apparatus for measuring a contact load between an object to be inspected and a probe when an electrical characteristic inspection of the object to be inspected such as a semiconductor wafer is performed.
  • This type of inspection apparatus is, for example, a prober that transfers a wafer between a loader chamber that internally carries a wafer that is an object to be inspected, and the loader chamber, and inspects the electrical characteristics of the wafer internally.
  • Room The prober chamber is provided with a mounting table that supports the wafer and a lifting mechanism that lifts and lowers the mounting table.
  • the prober chamber is provided with a probe disposed above the mounting table and an alignment mechanism for aligning the probe and the wafer.
  • the alignment mechanism aligns the wafer on the mounting table and the probe.
  • the mounting table is raised by the lifting mechanism, and the wafer and the probe are brought into contact with each other.
  • the mounting table is raised by a predetermined overdrive amount, and the wafer and the probe are brought into electrical contact to inspect the electrical characteristics of the wafer.
  • the inspection is performed in a state where the wafer and the probe are in contact with each other with a predetermined contact load by overdriving the mounting table.
  • This contact load may cause stagnation in the probe card that supports the probe or sink in the mounting table. For this reason, even if the mounting table is raised with a constant overdrive amount, the wafer and the probe are not always in contact with each other with a desired contact load.
  • Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2003-050271 discloses a probe card characteristic measuring apparatus.
  • This device is a special feature of the probe card that supports the probe when the mounting table is raised and the probe is brought into contact with the object to be inspected to inspect the electrical characteristics of the object. It is a device that measures sex.
  • This apparatus includes a load sensor that detects a load from the probe card on the mounting table, and a displacement sensor that detects an absolute displacement amount of the probe card. With this configuration, by measuring the absolute displacement of the probe card, it is possible to accurately grasp the relationship between the overdrive amount of the mounting table and the load.
  • Japanese Patent Laid-Open No. 2003-168707 discloses a probe device provided with a contact load monitoring device.
  • the contact load monitoring device monitors the contact load through the sinking amount of the mounting table caused by the contact load acting on the mounting table from the probe during overdrive.
  • a displacement sensor is provided that measures the displacement amount of the distance on the reference surface on the lower surface side of the mounting table as the sinking amount.
  • Japanese Patent No. 3128354 discloses an electronic component mounting apparatus.
  • This apparatus includes a head mechanism that holds electronic components and a head lifting mechanism that moves the head up and down with respect to a printed board supported by the board lifting mechanism.
  • the substrate lifting mechanism is provided with a plurality of support pins for supporting the print substrate. These support pins are provided with force sensors that measure the pressing force received by each support pin when the electronic component is mounted. By controlling the operation of the head lifting mechanism based on the detection signals of these force sensors, the electronic component is pressed onto the printed circuit board with a predetermined pressing force.
  • a strain gauge for example, a piezoelectric sensor is used as a force sensor for detecting a pressing force.
  • a plurality of force sensors are provided for each of the plurality of support pins, and the pressing force applied to each force sensor is added up.
  • the pressing force of the head mechanism must be calculated.
  • the force detected by the force sensor is only large enough to mount electronic components on a printed circuit board, so there is little need to consider the effects of deformation of each part.
  • the present invention has been made to solve the above problems, and can directly and accurately measure a contact load that does not cause deformation to such an extent that the load sensor affects the inspection.
  • a contact load measuring device and an inspection device For the purpose of providing a contact load measuring device and an inspection device!
  • the present invention provides a probe for an object to be inspected supported on a mounting table that can be raised and lowered.
  • a contact load measuring device including an element is provided.
  • this contact load measuring apparatus it is possible to directly and highly accurately measure a contact load that does not cause deformation to such an extent that the load sensor affects the inspection.
  • the present invention is an inspection apparatus for inspecting the electrical characteristics of an object to be inspected, a mounting table that supports the test body, a lifting mechanism that lifts and lowers the mounting base, and the lifting mechanism
  • a driving device that drives the probe, a probe that contacts the object to be inspected on the mounting table raised by the elevating mechanism driven by the driving device, and a contact load between the object to be inspected and the probe.
  • An inspection apparatus including a compression-type piezoelectric element as a load sensor to be detected is provided.
  • the contact load is measured directly and with high accuracy while the rigidity is high and the structure is realized, and the load sensor does not cause deformation to the extent that the load sensor affects the inspection. be able to.
  • the compression type piezoelectric element as the load sensor can detect the contact load as a vibration waveform.
  • the inspection apparatus further includes a reverse phase generator that generates a reverse phase signal that is an electric signal having a waveform opposite in phase to the vibration waveform, and the drive device includes the reverse phase generator. It is preferable that the elevating mechanism is driven based on the reverse phase signal generated by the phase generator.
  • the load sensor is preferably preloaded.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an embodiment of an inspection apparatus according to the present invention.
  • FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing a main part of the contact load measuring apparatus shown in FIG.
  • FIG. 3a is a graph showing the contact load obtained by the measuring apparatus shown in FIG.
  • FIG. 3b is a graph showing an enlarged portion B of FIG. 3a.
  • FIG. 4 is a schematic view showing another embodiment of the inspection apparatus of the present invention.
  • An inspection apparatus 10 shown in FIG. 1 includes a semiconductor wafer as an object to be inspected, and a columnar mounting table 11 on which W can be moved up and down. Further, an elevating mechanism 12 that elevates the mounting table 11 and a drive device 24 that drives the elevating mechanism 12 are provided. Above the mounting table 11, a probe card 13 having a probe 13A is arranged.
  • This inspection device 10 has a relatively high rigidity in structure, and under the control of a control device (not shown), the probe 13A is brought into electrical contact with Ueno and W to electrically connect the Ueno and W. It is configured to perform characteristic inspection.
  • the mounting table 11 is installed on, for example, an XY stage (not shown).
  • the XY stage is a stage that can move in the X and Y directions orthogonal to each other in the horizontal plane, and is mounted via an alignment mechanism (not shown) while moving in the X and Y directions under the control of the control device.
  • the wafer W on the table 11 and the probe 13A on the probe card 13 are aligned in the horizontal direction.
  • the elevating mechanism 12 raises the mounting table 11 until it reaches a predetermined overdrive amount with respect to the probe 13A, thereby bringing the wafer W and the probe 13A into contact with each other with a predetermined contact load (needle pressure). Configured to perform electrical characteristics inspection of W ing.
  • the elevating mechanism 12 has a ball screw 12C disposed concentrically with the mounting table 11.
  • the ball screw 12C is connected to the lower center of a cylindrical body 12A attached to the lower surface of the mounting table 11 via a connecting member 12B.
  • a bearing body 12D that rotatably supports the ball screw 12C and a bottomed cylindrical support body 12E surrounding the cylindrical body 12A are provided.
  • a guide mechanism 12F that guides the cylindrical body 12A so as to be movable up and down within the support body 12E is provided.
  • the mounting table 11 is mounted on the XY stage via a cylindrical body 12A and a support body 12E.
  • the elevating mechanism 12 is configured to elevate the mounting table 11 on the XY stage by the rotation of the ball screw 12C.
  • the inspection device 10 includes a contact load measuring device 20.
  • the measuring device 20 includes a load sensor 21, an amplifier (for example, a charge amplifier) 22 connected to the sensor 21, and a display device 25 connected to the amplifier 22.
  • an amplifier for example, a charge amplifier
  • the load sensor 21 is provided between the bearing body 12D and the support body 12E in the elevating mechanism 12, and is configured to detect a contact load as a vibration waveform.
  • the load sensor 21 includes a compression type piezoelectric element (for example, a crystal element).
  • the load sensor 21 is hardly deformed even when subjected to a large contact load, and has high rigidity so as not to cause a measurement error that does not cause the mounting table 11 to sink.
  • the load sensor 21 generates an electric charge proportional to the acceleration based on the contact load.
  • the amplifier 22 converts the detection signal of the load sensor 21 into a voltage signal and amplifies the voltage signal, and the amplified voltage signal is displayed on the display device 25.
  • the inspection apparatus 10 includes a negative phase generator (for example, a negative phase amplifier) 23 connected to the amplifier 22 and the driving device 24.
  • This negative phase generator 23 is based on the voltage signal from the amplifier 22! / ⁇ , and the negative phase signal (the negative phase voltage signal) ) Is generated.
  • the driving device 24 rotationally drives the ball screw 12C of the elevating mechanism 12 based on the negative phase signal generated by the negative phase generator 23.
  • the mounting table 11 can be raised by the elevating mechanism 12. First, the wafer W on the mounting table 11 and the probe 13A come into contact with each other. When a contact load acts between the wafer W and the probe 13A by further raising the mounting table 11 (overdrive), the contact load is transferred from the mounting table 11 to the load sensor 21 via the lifting mechanism 12. Directly transmitted.
  • the load sensor 21 includes an upper plate (in this embodiment, a bearing body 12D) 21A and a lower plate 21B (in this embodiment, the bottom wall portion of the support 12E). It is placed between. Then, the load sensor 21 is preloaded so as to receive a predetermined pressure by a preload bolt 21C for fastening the upper plate 21A and the lower plate 21B. By preloading in this way, it is possible to avoid a region with poor linearity at low load and to perform high-accuracy measurement using a region with good linearity.
  • the load sensor 21 is constituted by the compression-type piezoelectric element preloaded as described above, it can detect not only the pressing force but also the tensile force. As shown in Fig. 3a, when the mounting table 11 is overdriven during the inspection of the wafer W and the contact load is increased with time, the contact load repeatedly increases and decreases as shown in Fig. 3b. As shown, this vibration waveform can be detected by the load sensor 21.
  • the load sensor 21 includes a crystal element as a compression type piezoelectric element, for example, it is possible to obtain a detection load having excellent linearity with respect to contact load and excellent resolution with no hysteresis. Further, such a load sensor 21 has a simple structure, excellent mounting properties, small force, and high rigidity, so that the influence of the sinking amount of the mounting table 11 can be greatly suppressed.
  • the driving device 24 includes a motor that rotates the ball screw 12C of the elevating mechanism 12, and a driver circuit that drives the motor. Then, the driver circuit drives the motor based on the negative phase signal from the negative phase generator 23, so that the mounting table 11 is provided with vibration having a reverse phase waveform with respect to the vibration waveform of the contact load. As a result, the vibration of the mounting table 11 is attenuated, and the mounting table 11 can be stopped and stabilized in a short time, thereby increasing the inspection throughput.
  • a wafer W which is an object to be inspected, is mounted on the mounting table 11.
  • the mounting table 11 is X- While moving through the Y table, the alignment mechanism aligns the wafer w with the probe 13A of the probe force mode 13. After the alignment, the mounting table 11 moves through the XY table, so that the wafer W reaches just below the probe card 13. In this state, the mounting table 11 is raised by the lifting mechanism 12 driven by the driving device 24.
  • the Ueno, W and the probe 13A come into contact as shown in FIG.
  • a contact load starts to be generated between the wafer W and the probe 13A.
  • This contact load is directly applied to the load sensor 21 through the cylinder 12A, the connecting member 12B, the ball screw 12C, and the bearing body 12D of the elevating mechanism 12.
  • the load sensor 21 sequentially detects the contact load due to overdrive, and the result is displayed on the display device 25 via the amplifier 22 as shown in FIG. 3a.
  • the contact load increases and the amount of overdrive of the mounting table 11 approaches a predetermined value
  • the mounting table 11 rising through the ball screw 12C slightly vibrates.
  • the load sensor 21 detects this slight vibration as a vibration waveform as shown in FIG. 3b.
  • the highly rigid load sensor 21 that detects the contact load between Ueno, W, the probe, and 13A as a vibration waveform is provided, the load is increased by the contact load. It is possible to measure the contact load directly and with high accuracy without causing the sensor to deform so as to affect the inspection.
  • the driving device 24 drives the lifting mechanism 12 based on the negative phase signal generated by the negative phase generator 23, the vibration of the mounting table 11 It is possible to stabilize and stabilize the mounting table 11 in a short time. This can increase the inspection output.
  • the drive device 24 is directly connected using the signal from the load sensor 21. Since it is controlled, the lifting mechanism 12 can be quickly controlled. As a result, the mounting table 11 can be stopped and stabilized in a shorter time.
  • the load sensor 21 since the load sensor 21 is preloaded, the linearity at the time of low load is poor and the region can be eliminated. The linearity is excellent and the region is used for high accuracy. Can be measured.
  • FIG. 4 shows an inspection apparatus according to another embodiment of the present invention.
  • the inspection device 10 shown in FIG. 4 is configured to once transmit the detection signal of the load sensor 21 converted and amplified by the amplifier 22 to the controller 14 and to control the drive device 24 via the controller 14. It is a thing.
  • Other configurations are substantially the same as those of the above-described embodiment shown in FIGS.
  • the controller 14 of the present embodiment includes, for example, the negative phase generator 23 of FIG. 1, and controls the driver circuit of the driving device 24 by the negative phase signal generated by the negative phase generator 23.
  • the drive device 24 is controlled based on the signal from the load sensor 21. Compared with the above embodiment in which the device 24 is directly controlled, quick control becomes difficult. In other respects, this embodiment can achieve the same effects as those of the above-described embodiment.
  • the present invention is not limited to the above embodiment.
  • a piezoelectric element other than the crystal element for example, a piezoelectric element having a conventionally known ceramic force such as lead zirconate titanate or lead zirconate can be used.
  • the wafer W is described as an example of the inspection object, but the present invention can also be applied to an inspection object such as a liquid crystal substrate.

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Abstract

 半導体ウエハ等の被検査体(W)の電気的特性の検査を行う検査装置である。被検査体を支持する載置台(11)と、この載置台を昇降させる昇降機構(12)と、この昇降機構を駆動する駆動装置(24)とが設けられている。また、駆動装置で駆動される昇降機構により上昇した載置台上の被検査体に接触するプローブ(13A)が備えられている。被検査体とプローブとの間の接触荷重を振動波形として検出する、圧縮型圧電素子を含んだ荷重センサ(21)が設けられている。

Description

明 細 書
接触荷重測定装置および検査装置
技術分野
[0001] 本発明は、半導体ウェハ等の被検査体の電気的特性検査を行う際に、被検査体と プローブとの間の接触荷重を測定する接触荷重測定装置および検査装置に関する ものである。
背景技術
[0002] この種の検査装置は、例えば、内部で被検査体であるウェハを搬送するローダ室と 、ローダ室との間でウェハの受け渡しを行うと共に内部でウェハの電気的特性検査を 行うプローバ室とを備えている。プローバ室には、ウェハを支持する載置台と、載置 台を昇降させる昇降機構とが設けられている。また、プローバ室には、載置台の上方 に配置されたプローブと、このプローブとウェハとの位置合わせを行うアラインメント機 構とが設けられている。
[0003] プローバ室においてウェハの検査を行う場合には、アラインメント機構で載置台上 のウェハとプローブとの位置合わせを行う。次いで、昇降機構で載置台を上昇させ、 ウェハとプローブとを接触させる。その後、載置台が所定のオーバードライブ量だけ 上昇し、ウェハとプローブとを電気的に接触させてウェハの電気的特性検査を行う。
[0004] この際、載置台をオーバードライブさせることで、ウェハとプローブとが所定の接触 荷重をもって接触した状態で検査を行っている。この接触荷重によって、プローブを 支持するプローブカードに橈みが生じたり、載置台に沈み込みが生じたりする。この ため、一定のオーバードライブ量で載置台を上昇させたとしても、ウェハとプローブと が所望の接触荷重で接触して 、るとは限らな 、。
[0005] そこで、そのような接触荷重を把握する技術が、特開 2003— 050271号公報およ び特開 2003— 168707号公報において提案されている。
まず、特開 2003— 050271号公報〖こは、プローブカード特性測定装置が開示され ている。この装置は、載置台を上昇させてその上の被検査体にプローブを接触させ て被検査体の電気的特性を検査する際に、プローブを支持するプローブカードの特 性を測定する装置である。この装置は、載置台上でプローブカードからの荷重を検 出する荷重センサと、プローブカードの絶対変位量を検出する変位センサとを備えて いる。この構成により、プローブカードの絶対変位量を測定することで、載置台のォー バードライブ量と荷重との関係を正確に把握することができる。
[0006] また、特開 2003— 168707号公報には、接触荷重監視装置の設けられたプロ一 ブ装置が開示されている。その接触荷重監視装置は、オーバードライブ時にプロ一 ブから載置台に作用する接触荷重によって生じる載置台の沈み込み量を通じて接触 荷重を監視する。具体的には、載置台の下面側の基準面における距離の変位量を、 沈み込み量として測定する変位センサが設けられている。この構成により、検査時の 載置台の沈み込み量を介して接触荷重を監視することで、センサが変形することもな ぐ常に一定の接触荷重を確保することがでる。
[0007] 一方、特許第 3128354号公報には電子部品装着装置が開示されている。この装 置は、電子部品を保持するヘッド機構と、これを基板昇降機構で支持されたプリント 基板に対して昇降移動させるヘッド昇降機構とを備えている。基板昇降機構には、プ リント基板を支持する複数の支持ピンが設けられている。これらの支持ピンには、電 子部品装着時に各支持ピンが受ける押圧力を測定する力センサが設けられている。 これらの力センサの検出信号に基づいてヘッド昇降機構の動作を制御することで、 所定の押圧力で電子部品をプリント基板上へ圧着するように構成されている。
[0008] しかしながら、特開 2003— 050271号公報ゃ特開 2003— 168707号公報に記載 の技術の場合には、いずれもロードセル等の荷重センサや変位センサを用いて接触 荷重や載置台の変位量を測定し、これらの測定値に基づ 、て接触荷重とオーバード ライブ量との関係を算出する。このため、接触荷重の作用時には載置台の傾きや沈 み込みやセンサの荷重変形が発生する。これらが載置台の変位量の誤差要因となつ て、正確な接触荷重を把握することができず、また、接触荷重を直接測定することが できない。
[0009] 一方、特許第 3128354号公報の装置では、押圧力を検出する力センサとして、例 えばストレインゲージゃ圧電センサが用いられている。この場合、複数の支持ピンに それぞれに複数の力センサが設けられており、各力センサに加わった押圧力を合算 してヘッド機構の押圧力を算出しなくてはならない。また、力センサによって検出する 力は、電子部品をプリント基板に装着する程度の大きさに過ぎないので、各部の変形 による影響を考慮する必要性に乏し 、。
発明の開示
[0010] 本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、接触荷重によって荷重セン サが検査に影響する程の変形を生じることなぐ接触荷重を直接かつ高精度に測定 することができる接触荷重測定装置および検査装置を提供することを目的として!/、る [0011] この課題を解決するために本発明は、昇降可能な載置台上に支持された被検査体 に対してプローブを接触させて前記被検査体の電気的特性検査を行う際に、前記被 検査体と前記プローブとの間の接触荷重を測定する装置であって、前記接触荷重を 検出する荷重センサとして圧縮型圧電素子を備えた、ことを特徴とする接触荷重測 定装置を提供するものである。
[0012] この接触荷重測定装置によれば、接触荷重によって荷重センサが検査に影響する 程の変形を生じることなぐ接触荷重を直接かつ高精度に測定することができる。
[0013] また本発明は、被検査体の電気的特性の検査を行う検査装置であって、前記被検 查体を支持する載置台と、この載置台を昇降させる昇降機構と、この昇降機構を駆 動する駆動装置と、この駆動装置で駆動される前記昇降機構により上昇した前記載 置台上の被検査体に接触するプローブと、前記被検査体と前記プローブとの間の接 触荷重を検出する荷重センサとして圧縮型圧電素子を備えた、ことを特徴とする検査 装置を提供するものである。
[0014] この検査装置によれば、剛性の高!、構造を実現しつつ、接触荷重によって荷重セ ンサが検査に影響する程の変形を生じることなぐ接触荷重を直接かつ高精度に測 定することができる。
[0015] 上記接触荷重測定装置および検査装置において、前記荷重センサとしての圧縮 型圧電素子は、前記接触荷重を振動波形として検出することができる。
[0016] 上記検査装置においては、前記振動波形に対して逆位相の波形を有する電気信 号である逆相信号を発生させる逆相発生器をさらに備え、前記駆動装置は、前記逆 相発生器によって発生された逆相信号に基づ ヽて前記昇降機構を駆動するように構 成されているが好ましい。
これにより、接触荷重発生時において、載置台の振動を減衰させることができ、短 時間で載置台を静止させて安定させることができる。このため、検査のスループットを 高めることができる。
[0017] 上記検査装置においては、前記荷重センサはプリロードされていることが好ましい。
図面の簡単な説明
[0018] [図 1]は、本発明による検査装置の一実施形態を示す模式図である。
[図 2]は、図 1に示す接触荷重測定装置の要部を拡大して示す断面図である。
[図 3a]は、図 2に示す測定装置によって得られた接触荷重を示すグラフである。
[図 3b]は、図 3aの B部分を拡大して示すグラフである。
[図 4]は、本発明の検査装置の他の実施形態を示す模式図である。
発明を実施するための最良の形態
[0019] 以下、添付図面に示す実施形態に基づいて本発明を説明する。
図 1に示す検査装置 10は、被検査体としての半導体ウエノ、 Wを載置する昇降可能 な円柱形の載置台 11を備えている。また、載置台 11を昇降させる昇降機構 12と、こ の昇降機構 12を駆動する駆動装置 24とが設けられている。載置台 11の上方には、 プローブ 13Aを有するプローブカード 13が配置されている。この検査装置 10は、構 造的に比較的高い剛性を有し、制御装置(図示せず)の制御下で、プローブ 13Aと ウエノ、 Wとを電気的に接触させてウエノ、 Wの電気的特性検査を行うように構成されて いる。
[0020] 載置台 11は、例えば X-Yステージ(図示せず)上に設置されて!、る。 X-Yステージ は、水平面内で互いに直交した X方向と Y方向へ移動可能なステージであり、制御 装置の制御下で X、 Y方向に移動する間に、アラインメント機構(図示せず)を介して 載置台 11上のウェハ Wとプローブカード 13のプローブ 13Aとの水平方向の位置合 わせを行う。そして、昇降機構 12によって載置台 11を、プローブ 13Aに対して所定 のオーバードライブ量に達するまで上昇させることで、ウェハ Wとプローブ 13Aとを所 定の接触荷重 (針圧)で接触させてウェハ Wの電気的特性検査を行うように構成され ている。
[0021] 昇降機構 12は、載置台 11と同心に配置されたボール螺子 12Cを有している。この ボール螺子 12Cは、載置台 11の下面に取り付けられた円筒体 12Aの下部中央に連 結部材 12Bを介して連結されている。ボール螺子 12Cを回転自在に軸支する軸受け 体 12Dと、円筒体 12Aを取り囲む有底円筒状の支持体 12Eとが設けられている。円 筒体 12Aと支持体 12Eとの間には、支持体 12E内で円筒体 12Aを昇降自在に案内 するガイド機構 12Fが設けられている。載置台 11は、円筒体 12Aおよび支持体 12E を介して上記 X-Yステージ上に取り付けられている。昇降機構 12は、 X-Yステージ 上にお 、て、ボール螺子 12Cの回転によって載置台 11を昇降させるように構成され ている。
[0022] 次に、検査装置 10は、接触荷重測定装置 20を備えている。この測定装置 20は、 荷重センサ 21と、このセンサ 21に接続された増幅器 (例えば、チャージアンプ) 22と 、この増幅器 22に接続された表示装置 25とを有して 、る。
[0023] 荷重センサ 21は、昇降機構 12における軸受け体 12Dと支持体 12Eとの間に設け られ、接触荷重を振動波形として検出するように構成されている。荷重センサ 21は、 圧縮型圧電素子 (例えば、水晶素子)を含んでいる。この荷重センサ 21は、大きな接 触荷重を受けても殆ど変形せず、載置台 11の沈み込みを生じることがなぐ測定誤 差の要因にならない程度に高い剛性を有している。荷重センサ 21は、接触荷重に基 づく加速度に比例した電荷を発生する。そして、増幅器 22は、荷重センサ 21の検出 信号を電圧信号に変換して増幅し、増幅された電圧信号が表示装置 25に表示され るようになっている。
[0024] また、検査装置 10は、増幅器 22および駆動装置 24と接続された逆相発生器 (例え ば逆相増幅器) 23を備えている。この逆相発生器 23は、増幅器 22からの電圧信号 に基づ!/ヽて、その電圧信号の有する振動波形に対して逆位相の波形を有する電気 信号である逆相信号 (逆位相電圧信号)を発生させる。そして、駆動装置 24は、逆相 発生器 23によって発生された逆相信号に基づいて昇降機構 12のボール螺子 12C を回転駆動する。
[0025] 従って、この検査装置 10においては、昇降機構 12により載置台 11を上昇させるこ とで、まず載置台 11上のウェハ Wとプローブ 13Aとが接触する。そして、載置台 11を さらに上昇させること(オーバードライブ)によって、ウェハ Wとプローブ 13Aとの間に 接触荷重が作用すると、この接触荷重が載置台 11から昇降機構 12を介して荷重セ ンサ 21へ直接伝達される。
[0026] 荷重センサ 21は、例えば図 2に示すように、上板 (本実施形態では、軸受け体 12D ) 21Aと、下板 21B (本実施形態では、支持体 12Eの底壁部)との間に配置されてい る。そして、上板 21Aと下板 21Bとを締結するプリロード用ボルト 21Cによって、荷重 センサ 21が所定の圧力を受けるようにプリロードされて 、る。このようにプリロードする こと〖こよって、低荷重時の直線性が悪い領域を回避して、直線性の良い領域を使用 した高精度の測定ができる。
[0027] また、荷重センサ 21は、上述のようにプリロードされた圧縮型圧電素子によって構 成されているため、押圧力のみならず引張力をも検出することができる。図 3aに示す ように、ウェハ Wの検査時に載置台 11をオーバードライブさせて接触荷重を時間の 経過と共に増加させていくと、図 3bに示すように接触荷重が僅かに増減を繰り返す 振動波形を示すが、この振動波形を荷重センサ 21によって検出することができる。
[0028] 更に、荷重センサ 21は、例えば圧縮型圧電素子として水晶素子を含んでいると、 接触荷重に対する直線性に優れて 、てヒステリシスがなぐ分解能に優れた検出荷 重を得ることができる。また、そのような荷重センサ 21は、構造が簡単で取り付け性に 優れ、し力も小型、剛性が高いため、載置台 11の沈み込み量による影響を格段に抑 ff¾することができる。
[0029] 駆動装置 24は、昇降機構 12のボール螺子 12Cを回転させるモータと、このモータ を駆動するドライバ回路とを有している。そして、逆相発生器 23からの逆相信号に基 づいてドライバ回路がモータを駆動させることで、接触荷重の振動波形に対して逆位 相の波形を有する振動を載置台 11に付与する。これにより、載置台 11の振動を減衰 させ、載置台 11を短時間で静止させて安定化し、延いては検査のスループットを高 めることができる。
[0030] 次に、本実施形態の検査装置 10の動作について説明する。
まず、載置台 11上に被検査体であるウェハ Wが載置される。次に、載置台 11が X- Yテーブルを介して移動する間に、アラインメント機構によってウェハ wとプローブ力 ード 13のプローブ 13Aとのアラインメントが行われる。アラインメント後、載置台 11が X-Yテーブルを介した移動により、ウェハ Wがプローブカード 13の真下に到達する。 この状態で、駆動装置 24で駆動される昇降機構 12により載置台 11が上昇させられ る。
[0031] 載置台 11の上昇により、まず図 1に示すようにウエノ、 Wとプローブ 13Aとが接触す る。引き続き、載置台 11が上昇 (オーバードライブ)して行くと、ウェハ Wとプローブ 1 3Aとの間に接触荷重が生じ始める。この接触荷重が、昇降機構 12の筒体 12A、連 結部材 12B、ボール螺子 12Cおよび軸受け体 12Dを介して荷重センサ 21に直接作 用する。荷重センサ 21は、オーバードライブによる接触荷重を逐次検出し、その結果 が増幅器 22を介して表示装置 25に図 3aに示すようにして表示される。接触荷重が 大きくなり、載置台 11のオーバードライブ量が所定の値に近づくと、ボール螺子 12C を介して上昇している載置台 11は僅かに振動する。荷重センサ 21は、この僅かな振 動を、図 3bに示すような振動波形として検出する。
[0032] 載置台 11がオーバードライブする間、荷重センサ 21で検出された信号は、増幅器 22から逆相発生器 23を介して駆動装置 24に与えられる。駆動装置 24は、逆相発生 器 23からの逆相信号に基づいて昇降機構 12のボール螺子 12Cを回転駆動すること で、載置台 11の振動を減衰させて、載置台 11を早期に静止させる。この状態で、プ ローブ 13Aを通じたウェハ Wの電気的特性検査を実施する。
[0033] 以上説明したように本実施形態によれば、ウエノ、 Wとプローブと 13Aとの間の接触 荷重を振動波形として検出する高剛性の荷重センサ 21を設けたため、接触荷重によ つて荷重センサが検査に影響する程の変形を生じることなぐ接触荷重を直接かつ 高精度に測定することができる。
[0034] また、本実施形態によれば、駆動装置 24が、逆相発生器 23によって発生された逆 相信号に基づ 、て昇降機構 12を駆動するようにしたので、載置台 11の振動を減衰 させて、短時間で載置台 11を静止させて安定ィ匕することができる。これにより、検査 のスノレ一プットを高めることができる。
また、本実施形態によれば、荷重センサ 21からの信号を用いて駆動装置 24を直接 制御するようにしたため、昇降機構 12をすばやく制御することができる。これにより、 載置台 11をより一層短時間で静止させて安定ィ匕することができる。
更に、本実施形態によれば、荷重センサ 21は、プリロードされているため、低荷重 時の直線性が悪 、領域を排除することができ、直線性の良 、領域を使用することで 高精度の測定ができる。
[0035] 図 4には、本発明の他の実施形態の検査装置が示されている。
図 4に示す検査装置 10は、増幅器 22で変換'増幅された荷重センサ 21の検出信 号を、一旦制御器 14に送信し、制御器 14を介して駆動装置 24を制御するように構 成したものである。その他の構成は、図 1および図 2に示した上記実施形態と略同様 である。
[0036] 本実施形態の制御器 14は、例えば図 1の逆相発生器 23を含み、この逆相発生器 23によって発生させた逆相信号によって駆動装置 24のドライバ回路を制御する。
[0037] 本実施形態では、荷重センサ 21からの信号をー且制御器 14に送信し、制御器 14 を介して駆動装置 24を制御しているため、荷重センサ 21の信号に基づいて駆動装 置 24を直接制御する上記実施形態と比較して、すばやい制御が難しくなる。その他 の点では本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果を期することができ る。
[0038] 尚、本発明は上記実施形態に何等制限されるものではない。例えば、荷重センサと して水晶素子を用いる場合について説明したが、水晶素子以外の圧電素子、例えば チタン酸ジルコン酸鉛やジルコン酸鉛等の従来公知のセラミック力 なる圧電素子を 用いることができる。また、上記実施形態では被検査体としてウェハ Wを例に挙げて 説明したが、液晶基板等の被検査体にも本発明を適用することができる。

Claims

請求の範囲
[1] 昇降可能な載置台上に支持された被検査体に対してプローブを接触させて前記 被検査体の電気的特性検査を行う際に、前記被検査体と前記プローブとの間の接 触荷重を測定する装置であって、
前記接触荷重を検出する荷重センサとして圧縮型圧電素子を備えた、ことを特徴と する接触荷重測定装置。
[2] 前記荷重センサは前記接触荷重を振動波形として検出する、ことを特徴とする請求 項 1に記載の接触荷重測定装置。
[3] 被検査体の電気的特性の検査を行う検査装置であって、
前記被検査体を支持する載置台と、
この載置台を昇降させる昇降機構と、
この昇降機構を駆動する駆動装置と、
この駆動装置で駆動される前記昇降機構により上昇した前記載置台上の被検査体 に接触するプローブと、
前記被検査体と前記プローブとの間の接触荷重を検出する荷重センサとして圧縮 型圧電素子を備えた、ことを特徴とする検査装置。
[4] 前記荷重センサは前記接触荷重を振動波形として検出する、ことを特徴とする請求 項 3に記載の検査装置。
[5] 前記振動波形に対して逆位相の波形を有する電気信号である逆相信号を発生さ せる逆相発生器をさらに備え、
前記駆動装置は、前記逆相発生器によって発生された逆相信号に基づ!、て前記 昇降機構を駆動するように構成されている、ことを特徴とする請求項 4に記載の検査 装置。
[6] 前記荷重センサはプリロードされている、ことを特徴とする請求項 3、 4または 5に記 載の検査装置。
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