WO2004100254A1 - 基板吸着装置 - Google Patents

Abstract

ハウジング１の開口部１ｂ内のチューブ部材１５上に、吸着部１６ａと少なくとも３点でハウジング１の開口部内壁の点接触する半球面状に湾曲した接触面部１６ｃとを設けた吸着パッド１６を載置し、この吸着パッド１６と摺動部材９との間に細い糸２４を張架した。

Description

明 細 書

基板吸着装置

技術分野

本発明は、 例えばフ ラ ッ トパネルディ スプレイ (以下、 F P D と省略する） に用いるガラス基板又は半導体ウェハなど の薄板基板を吸着保持する基板吸着装置に関する。

背景技術

大型で薄い板状のガラス基板を吸着保持するには、 ガラス 基板に反 りゃ撓みが生じていても、 確実に吸着する必要があ る。 このため吸着部は、 ガラス基板の反り ゃ撓みに倣って自 由度高く 動く こ とが要求される。 特開平 1 0 — 8 6 0 8 6号 公報に開示されている吸着装置では、 吸着パッ ドと押え枠体 との間に隙間を開けている。 この隙間によ り 吸着パッ ドが傾 く こ とができる。 この吸着パッ ドの傾きを大き く する と、 吸 着パッ ドと押え枠体と の隙間によ り ガラス基板を吸着 したと きに水平方向に移動 して しま う。 吸着パッ ドが水平移動して しま う と、 ガラス基板が位置ずれて しま う。 このため、 ガラ ス基板を高精度に位置決めする こ とが出来な く なる と共に、 搬送中にガラス基板が揺れて安定した搬送ができな く なる。

ガラス基板を高精度に位置決め した り、 搬送中にガラス基 板が摇動しないよ う にするために、 吸着具と収納孔と の隙間 を小さ く する と、 吸着具の傾き方向の動きが規制される。 こ のため、 ガラス基板の反り ゃ撓みに倣って吸着パッ ドが傾き 難く なる。

発明の開示 本発明の主要な観点によれば、 中空状に形成され、 先端部 に開 口部を有するハウジングと、 ハウジングの中空形状内に 設け られ、 かつエアーを吸引するエアー引き通路が設け られ た吸着パッ ド支持部材と、 ハウジングの開 口部から突出 した 状態で吸着パッ ド支持部材上に載置され、 ハウジングの開口 部に少な く と も 3 点で点接触して首振り可能で、 エアー引き 通路と気密に連通するエアー吸引孔が設け られた吸着パッ ド と、 吸着パッ ドをハウジングの開 口部に保持する吸着パッ ド 保持手段と を具備した基板吸着装置が提供される。

図面の簡単な説明

図 1 は本発明に係わる基板吸着装置の第 1 の実施の形態を 示す構成図。

図 2 は同装置における吸着パク ドの吸着部の別の一例を示 す構成図。

図 3 は同装置における第 1 及び第 2 の支持板の構成図。

図 4 Aは同装置における吸着パッ ドの撓んだガラス基板へ の倣い開始状態を示す図。

図 4 B は同装置における吸着パッ ドの橈んだガラス基板へ の吸着状態を示す図。

図 4 Cは同装置における吸着パッ ドによ り ガラス基板の矯 正動作を示す図。

図 5 は同装置を適用 したエアー浮上搬送装置の上面構成図。 図 6 は同装置の側面構成図。

図 7 は同装置を適用 した大型基板検査装置の検査ステージ の構成図。 図 8 は本発明に係わる基板吸着装置の第 2 の実施の形態の 特徴部分を示す構成図。

図 9 Aは同装置にワイヤーを用いた変形列を示す構成図。 図 9 B は同装置にワイヤーを用いた変形列を示す構成図。 図 1 0 は同装置における吸着パッ ドの変形例を示す構成図。 図 1 1 は本発明に係わる基板吸着装置の第 3 の実施の形態 を示す構成図。

図 1 2 Aは同装置における吸着パッ ドのガラス基板への吸 着動作の開始状態示す図。

図 1 2 B は同装置における吸着パッ ドのガラス基板への当 接状態を示す図。

図 1 2 Cは同装置における吸着パッ ドのガラス基板への吸 着状態を示す図。

図 1 3 は本発明に係わる基板吸着装置の第 4の実施の形態 を示す構成図。

図 1 4 は同装置を適用 した大型基板搬送用ロボッ トのァ一 ム部の構成図。

図 1 5 は本発明に係わる第 1 及び第 2 の基板吸着装置をェ ァー浮上搬送装置に適用 した第 5 の実施の形態を示す構成図。

図 1 6 は同基板吸着装置に用いるエアー真空引き系統を示 す図。

図 1 7 は本発明に係わる基板吸着装置をエアー浮上搬送装 置に適用 した第 6 の実施の形態を示す構成図。

図 1 8 は本発明に係わる基板吸着装置をエアー浮上搬送装 置に適用 した第 6 の実施の形態を示す構成図。 図 1 9 は本発明に係わる基板吸着装置におけるエアー真空 引き系統の変形例を示す図。

図 2 0 Aは吸着パッ ドの接触面部の形状の変形例を示す図。 図 2 0 B は吸着パッ ドの接触面部の形状の変形例を示す図。 図 2 0 Cは吸着パッ ドの接触面部の形状の変形例を示す図。 図 2 0 Dは吸着パッ ドの接触面部の形状の変形例を示す図。 図 2 0 Eは吸着パッ ドの接触面部の形状の変形例を示す図。 発明を実施するための最良の形態

以下、 本発明の第 1 の実施の形態について図面を参照 して 説明する。

図 1 は基板吸着装置 E の構成図である。 ハ ウジング 1 は、 金属によ り 中空形状である円筒状に形成され、 その内部には 中空部 2 が形成されている。 このハウジング 1 の一端である 先端側には、 円形の端部 1 a を有する開口部 1 b が形成され ている。 このハウジング 1 の他端である元部の開口部内壁に は、 ネジ部 1 c が設け られている。 このハウジング 1 の元部 は、 基板吸着装置 E 用の取付台 3 に取付け られたュニ ッ ト 本体 4 に取り付け られている。

ュニッ ト本体 4 は、 ノ、ウジング 1 の內径に略一致する外径 を有し、 かつ内部にエアー引き通路 5 を設けた中空彬状に形 成されている。 このユニッ ト本体 4 の外周面には、 ネジ部 4 a が設け られている。 これによ り 、 ハウジング 1 は、 ネジ部 1 c とネジ部 4 a と の螺合によ り ュニ ッ ト本体 4 に対して取 り付け、 取り外し可能である。 ュュッ ト本体 4 の下部には、 基板吸着装置 E 用の取付台 3 に対して取り 付けるためのネ ジ部 4 b が突出 して設け られている。 このユエッ ト本体 4 は、 ネジ部 4 b を基板吸着装置 E i用の取付台 3 のネジ部と螺合 する こ と によ り取付台 3 に対して取り 付け、 取り 外し可能で あ O o

このュニ ッ ト本体 4 の中空形状内部には、 ネジ部 4 c が設 け られている。 又、 ュニッ ト本体 4 の外周面には、 ネジ部 4 d が設け られている。 このネジ部 4 d には、 ナッ ト 6 が螺合 している。 このナッ ト 6 は、 ネジ部 4 d に締め付ける こ と に よ り ハウジング 1 に対するュニッ ト本体 4 の取り 付け位置を 固定する。

ハウジング 1 の下部の内壁面の周方向には、 溝 7 が設け ら れている。 この溝 7 の位置は、 ュニ ッ ト本体 3 の先端部に対 応する。 この溝 7 内 とュニ ッ ト本体 3 の先端部と の間には、 エアー漏れ防止用の O リ ング 8 が挟持されている。

ハウジング 1 の中空部 2 内でかつュニッ ト本体 3 の先端部 側には、 摺動部材 9 が設け られている。 この摺動部材 9 は、 ハウジング 1 の中空部 2 内を中空部 2 の方向に沿って摺動可 能である。 この摺動部材 9 は、 肉厚円筒部 1 0 と薄肉円筒部 1 1 と を一体に形成 している。

肉厚円筒部 1 0 は、 ハウジング 1 の中空部 2 の内径に略一 致する径に形成され、 その外周面がハウジング 1 の中空部 2 の内面に密着している。 この肉厚円筒部 1 0 の外周面には、 溝 1 2が設けられ、 この溝 1 2 内に V字パッキン 1 3 が設け られている。 この V字パッキン 1 3 は、 ユニ ッ ト本体 4 のェ ァー引き通路 5から真空引きを行った と き に V字に開き、 ノ、 ウジング 1 の中空部 2 と摺動部材 9 と の間のエアー漏れを防 止 して気密を保つ。

薄肉円筒部 1 1 は、 ユニッ ト本体 4 のエアー引き通路 5 の 内径に略一致する径に形成され、 その外周面がュニッ ト本体 4 のエアー引き通路 5 内に密着している。 この薄肉円筒部 1 1 は、 エアー引き通路 5 内に対して挿脱可能に設けられてい る。

肉厚円筒部 1 0及び薄肉円筒部 1 1 の内部には、 エアー引 き通路 1 4 が設け られている。 こ のエアー引き通路 1 4 は、 ュニ ッ ト本体 4 のエアー引 き通路 5 に連通する。

摺動部材 9 の上部には、 吸着パッ ド支持部材であるチュー ブ部材 1 5 が設け られている。 このチューブ部材 1 5 は、 弾 性部材によ り 円筒状に形成され、 かつ上部に吸着パッ ド 1 6 に対して密着するジャバラ状の屈曲部 1 7 が形成されている。 このチューブ部材 1 5 は、 摺動部材 9 におけるエアー引き通 路 1 4 内に対してネジ部 1 8 によ り 螺合して取り 付け られて いる。 このチューブ部材 1 5 の内部には、 エアー引き通路 1 9 が形成されている。 このエアー引き通路 1 9 は、 摺動部材 9 のエアー引き通路 1 4 と気密に連通する。

吸着パッ ド 1 6 がチューブ部材 1 5 の上部に載置されてい る。 この吸着ノ ッ ド 1 6 は、 ハウジング 1 の開口端 1 a 力 ら 突出 している。 この吸着パッ ド 1 6 は、 例えばエンジニア リ ングプラスチック等の樹脂によ り 形成されている。 この吸着 ソ ド 1 6 は、 チューブ部材 1 5 上に載置される こ と によ り チューブ部材 1 5 上で首振り 可能である。 この吸着パッ ド 1 6 は、 表面に平面状の吸着面 1 6 a を有する吸着部 1 6 b と、 この吸着部 1 6 b の裏面に垂下して一体的に形成された曲面 を有する接触面部 1 6 c と力 らなる。 この吸着部 1 6 b の中 央部には、 エアー吸引孔 1 6 d が設け られている。 吸着部 1 6 b は、 外径をハウジング 1 の外径と 同一に形成している。 この吸着部 1 6 b は、 吸着パッ ド 1 6 がハウジング 1 內に下 降する と、 裏面の外周縁 1 6 e がハウジング 1 の開口端 1 a に面接触 して下降を停止する。 従って、 ハウジング 1 の開 口 端 1 a は、 吸着パッ ド 1 6 の下降のス ト ツパとなる と共に、 吸着パッ ド 1 6 の吸着面 1 6 a の傾き を水平に維持するため 基準平面と なる。

吸着部 1 6 b は、 ハウジング 1 の外径と略同一に形成 して も十分であるが、 図 2 に示すよ う にハウジング 1 の外周面か ち外周側に長さ Dだけ長く 形成しても よい。 このよ う な吸着 部 1 6 b であれば、 吸着面 1 6 a の面積が大き く な り 、 この 吸着面 1 6 a のいずれかの部分にガラス基板が接触しても、 この接触 したと きに加わる力の作用点と吸着部 1 6 b の中心 位置 P と の距離が長く な り 、 これによ り 僅かな力によ り 吸着 パッ ド 1 6 は、 チューブ部材 1 5 上で首振り 動作する。

接触面部 1 6 c は、 円筒状で、 その外周面が上下方向の中 間部に最大径を有する半球面状に湾曲 して形成されている。 この接触面部 1 6 c は、 最大外径寸法がハウジング 1 の中空 部 2 (開 口端 l a ) の内径寸法よ り若干小さ く 形成され、 ハ ウジング 1 の開 口部 1 b 内に上下方向に移動可能に揷入され ている。 こ の接触面部 1 6 c は、 ハウジング 1 の中空部 2 の 內壁 2 a に対して少な く と も 3 点で点接触 して支持される。 接触面部 1 6 c とハウジング 1 の中空部 2 の内壁 2 a と の間 の接触は、 必ずしも少なく と も 3 点だけで点接触する と は限 らず、 吸着パッ ド 1 6 の首振り によって接触面部 1 6 c にお ける同一周方向の線上の複数の点で接触した り、 同周方向の 線上で線接触する。 このよ う な接触面部 1 6 c とハウジング 1 の中空部 2の内壁 2 a との間の接触によ り 接触面部 1 6 c とハウジング 1 の内壁 2 a との間の摩擦抵抗は小さ く 、 吸着 パッ ド 1 6 は、 スムーズな首振り 動作が可能と なる。

吸着パッ ド 1 6 のエアー吸引孔 1 6 d 内には、 環状の段差 2 0 が設け られている。 この段差 2 0 には、 図 3 に示す第 1 の支持板 2 1 が設け られている。 この第 1 の支持板 2 1 は、 円板状に形成され、 エアーを流通するための 2 つの孔 2 1 a、 2 1 b が設け られている。

摺動部材 9 のエアー引き通路 1 4 内には、 環状の段差 2 2 が設け られている。 この段差 2 2 には、 第 1 の支持板 2 1 と 同様な形状の.第 2 の支持板 2 3 が設け られている。

これら第 1 の支持板 2 1 と第 2 の支持板 2 3 と の間は、 連 結部材である線材と しての例えば細い糸 2 4 で連結されてい る。 細い糸 2 4 は、 張力に対して伸びず、 かつ断線に対する 強度が強い、 軟らかい線材と して例えばナイ ロ ン樹脂によ り 形成されている。 こ の細い糸 2 4 は、 チューブ部材 1 5 を介 して第 1 と第 2 の支持板 2 1、 2 3 と の間隔が常に一定にな り 、 かつ吸着パッ ド 1 6 の首振り 状態を解いて水平な姿勢に 復帰可能とする付勢力をチューブ部材 1 5 に与える張力で張 られている。 又、 こ の細い糸 2 4 の張力では、 チューブ部材 1 5 の屈曲部 1 7 が吸着部 1 6 a 力、ら離れる こ と なく 、 かつ 吸着部 1 6 a の傾き に追従して首振り 動作を可能と している。 この細い糸 2 4 の張力は、 第 1 と第 2 の支持板 2 1 、 2 3 と の間に張る と きに調整可能で、 例えば細い糸 2 4 を第 1 又は 第 2 の支持板 2 1 、 2 3 に縛り 付ける と き の縛り 具合で調整 でき る。 第 1 の支持板 2 1 、 第 2 の支持板 2 3及ぴ細い糸 2 4 は、 吸着パッ ド保持手段を構成する。

摺動部材 9 における薄肉円筒部 1 1 内のエアー引き通路 1 4及ぴュエ ツ ト本体 4 のエアー引き通路 5 の内部には、 弹性 部材である スプリ ング 2 5 が設け られている。 このスプリ ン グ 2 5 は、 吸着パッ ド 1 6 、 チューブ部材 1 5及ぴ摺動部材 9 の一体をハウジング 1 の中空部 2 内において摺動部材 9 か らハウジング 1 の開 口端 1 a側に向って付勢力を与える。 こ のスプリ ング 2 5 の下側は、 スプリ ング調節部材 2 6 に係止 されている。

スプリ ング調節部材 2 6 の外周面には、 ネジ部 2 6 a が設 け られている。 このスプリ ング調節部材 2 6 は、 ネジ部 2 6 a をュニ ッ ト本体 4 のエアー引き通路 5 のネジ部 4 c に螺合 させてエアー引き通路 5 に内装されている。 このスプリ ング 調節部材 2 6 は、 環状に形成され、 その中空部にエアー引き 通路 2 6 b が設けられている。 このスプリ ング調節部材 2 6 は、 ネジ部 2 6 a とネジ部 4 c と の螺合によ り 回転する こ と によ り エアー引き通路 5 内を上下移動 してスプリ ング 2 5 の 付勢力を調整する。 ハウジング 1 の中空部 2 内には、 吸着パッ ド高さ調整機構 2 7 が設け られている。 この吸着パッ ド高さ調整機構 2 7 は、 ハウジング 1 の中空部 2 内に形成されたネジ部 2 8 に螺合す る調整用環状部材 2 9 を有する。 この調整用環状部材 2 9 は、 ネジ部 2 8 に対して回転する こ と によ り ハウジング 1 の中空 部 2 内に上下移動する。 この調整用環状部材 2 9 の上下移動 に応動して吸着パッ ド 1 6 、 チューブ部材 1 5及び摺動部材 9 がー体と なってハウジング 1 の中空部 2 内に上下移動する。 これによ り 、 ハウジング 1 の開 口端 1 a に対する吸着パッ ド 1 6 の高さ位置 Aが調整される。

次に、 上記の如 く 構成された装置 のガラス基板 Sへの 吸着動作について図 4 A〜図 4 C を参照 して説明する。

基板吸着装置 E iの上方にガラス基板 Sが搬送される と 、 こ の基板吸着装置 は、 昇降機構によ り 上昇する。 ガラ ス 基板 S は、 例えば反り や橈みが生じて傾いている。 基板吸着 装置の上昇によ り 吸着パッ ド 1 6 の吸着面 1 6 a の一部が図 4 Aに示すよ う に反 り ゃ撓みが生じているガラス基板 4 0 の 裏面に当接する。

吸着パッ ド 1 6 は、 チューブ部材 1 5上に載置され、 かつ 細い糸 2 4 によ りハウジング 1 の下方側に引っ張られている。 これによ り 、 吸着パッ ド 1 6 には、 チューブ部材 1 5 上で首 振り 可能で、 かつ外力が加わらない限り首振り動作せずに静 止 した元の姿勢、 すなわち吸着面 1 6 a が水平方向になる姿 勢に復帰する付勢力が加わっている。

従って、 吸着パッ ド 1 6 は、 ガラス基板 S の下方から僅か な当て付け力でガラス基板 S の裏面に接触するので、 図 4 B に示すよ う にガラス基板 S の反 り や橈みによ る傾きに倣う よ う に首振 り 状態になる。 すなわち、 吸着パッ ド 1 6 は、 接触 面部 1 6 c をハウジング 1 の開 口部 1 b 内に挿入しなが ら首 振り する ので、 最大で吸着部 1 6 b の裏面の外周縁 1 6 e が ハウジング 1 の端部 1 a に当接する首振り 角度まで傾く こ と が可能である。

吸着ノ ッ ド 1 6 は、 接触面部 1 6 c がハウジング 1 の開口 部 1 b の内壁に少な く と も 3点で点接触しながら首振り 動作 するので、 接触面部 1 6 c とハウジング 1 の開口部 1 b の内 壁と の間の摩擦抵抗は小さい。 この結果、 ガラス基板 S の反 り ゃ撓みが大き く ても、 吸着パッ ド 1 6 の吸着面 1 6 a は、 ガラス基板 Sの反り や橈みによる傾きに倣ってガラス基板 S の裏面に密着する。

吸着部 1 6 a の外径は、 ハウジング 1 の外径と 同一に形成 されている ので、 ガラス基板 Sが吸着部 1 6 a の外周縁に接 触 したと き に加わる力の作用点と吸着部 1 6 a の中心位置と の距離は長く なる。 これによ り 、 ガラス基板 S と の接触によ り僅かな接触力が吸着部 1 6 a の外周縁に加わる と、 当該接 触の力が梃子の作用によ り 吸着パッ ド 1 6 を首振り させる大 きな回転力 と なる。

この状態で、 ユニ ッ ト本体 4 のエアー引き通路 5 から摺動 部材 9 のエアー引き通路 1 4、 チューブ部材 1 5 のエアー引 き通路 1 9及ぴ吸着パッ ド 1 6 のエアー吸引孔 1 6 d を通 し てエアーを真空吸引する と、 これらエアー引き通.路 5 、 1 4 、 1 9及びエアー吸引孔 1 6 内は、 密閉されて真空引きによ り 負圧になる。 これによ り 、 吸着パッ ド 1 6 の吸着面 1 6 a は、 ガラス基板 S の裏面に吸着する。 この と き吸着パッ ド 1 6 の 吸着面 1 6 a は、 ガラス基板 S に反りゃ撓みが生じても、 こ の吸着面 1 6 a がガラス基板 S の裏面に倣って密着している ので、 エアー漏れな く 確実にガラス基板 S を真空吸引する。

これと共に各エアー引き通路 5 、 1 4、 1 9及びエアー吸 引孔 1 6 内が真空引き によ り負圧になるので、 この負圧によ つて吸着パッ ド 1 6 、 チューブ部材 1 5及び摺動部材 9 は、 スプリ ング 2 5 のばね力に杭して 自ずとハウジング 1 の中空 部 2 内を下降する。 これによ り 、 吸着パッ ド 1 6 の裏面の外 周縁 1 6 e の全面が図 4 Cに示すよ う にハウジング 1 の開口 端 1 a 上に面接触する。 ハウジング 1 の開口端 1 a は、 基準 平面であ る ので、 吸着パッ ド 2 2 の吸着面 1 6 a は、 水平方 向に配置される。 この結果、 ガラス基板 S は、 水平方向に保 持される。

接触面部 1 6 c とハウジング 1 の開口部內壁と が接触 して いる ので、 吸着パッ ド 1 6 は、 横方向への移動が規制される。 この規制によ り 吸着パ ッ ド 1 6 がガラス基板 S の裏面に吸着 した状態でも、 ガラス基板 Sは位置ずれする こ と なく 、 高精 度に位置決め状態を保持でき る。

このよ う に上記第 1 の実施の形態によれば、 ハウジング 1 の開 口部 1 b 内におけるチューブ部材 1 5 上に、 吸着部 1 6 a と半球面状に湾曲 して少なく と も 3 点でハウジング 1 の開 口部内壁の点接触する接触面部 1 6 c と を形成した吸着パッ ド 1 6 を載置し、 この吸着パッ ド 1 6 と摺動部材 9 と の間に 細い糸 2 4 を張架したので、 吸着パッ ド 1 6 は、 大きな傾き 角度で傾く こ と ができ、 かつ傾いたと きでも接触面部 1 6 c とハウジング 1 の開 口部內壁とが接触 しているので、 吸着パ ッ ド 1 6 が横方向に位置ずれする こ と がない。

吸着パッ ド 1 6 は、 首振り 角度が大き く 、 かつ僅かな外力 の加わり によ り 首振り 動作が小さな摩擦抵抗で円滑かつスム ーズに行う こ と ができ、 ガラス基板 S の大きな反りや橈みに よる傾きに倣ってガラス基板 S の裏面に密着でき、 エアー漏 れなく確実にガラス基板 Sを吸着でき る。

ガラス基板 S が接触 したと き の吸着部 1 6 b 上の接触力の 作用点と吸着部 1 6 b の中心位置と の距離を長く したので、 僅かな接触力で吸着パッ ド 1 6 を首振り動作する こ と ができ、 ガラス基板 Sの大きな反りゃ撓みに直ちに倣う こ とができ る。

吸着パッ ド 1 6 がガラス基板 S を吸着する と、 各エアー引 き通路 5 、 1 4 、 1 9及びエアー吸引孔 1 6 d 内の負圧がス プリ ング 2 5 のばね力に打ち勝って吸着パッ ド 1 6 が下降し、 ハウジング 1 の開 口端 1 a に面接触して吸着面 1 6 a を水平 に規制する。 この規制によ り 吸着パッ ド 1 6 によ り 吸着され るガラス基板 S の反 り ゃ撓みは水平に矯正され、 かつ基準平 面に高精度に保持でき る。

吸着ノ ッ ド 1 6 は、 細い糸 2 4 によ り連結されているので、 ハウジング 1 の開口端 1 a から外れる こ と がない。

吸着パッ ド高さ調整機構 2 7 を設けている ので、 吸着パッ ド 1 6 のハウジング 1 の端部 1 a からの高さ位置 Aを、 ガラ ス基板 S の保持されている高さ位置に応じて調整できる。

次に、 上記第 1 の実施の形態で説明 した基板吸着装置 E i をエアー浮上搬送装置に適用 した場合の実施例について図 5 及び図 6 に示すエアー浮上搬送装置の構成図を参照 して説明 する。 なお、 図 5 は上面図、 図 6 は側面図である。

浮上搬送ステージ 3 0 の上面には、 複数のエアー吹出孔 3 1 が設け られてレヽる。 これらエアー吹出孔 3 1 カゝらは、 均一 なエア 圧力でエアーを吹き出す。 このエアーの吹き出 しに よ り 浮上搬送ステージ 3 0 と ガラス基板 S と の間にエアー層 が形成されて、 ガラス基板 S は浮上搬送ステ ジ 3 0 上に浮 上する。 浮上搬送ステージ 3 0 の両側面には、 それぞれ直線 状の各ガイ ドレール 3 2、 3 3 が設け られている。 これらガ ィ ド レール 3 2、 3 3 上には、 それぞれ各搬送部 3 4、 3 5 が同期 して移動可能に設け られている。 これら搬送部 3 4、 3 5 には、 各昇降支持部材 3 6 を介して吸着載置台 3 7 が設 けられている。 各昇降支持部材 3 6 は、 吸着載置台 3 7 を上 下方向 （ Z方向） に昇降させる。

この吸着载置台 3 7 上には、 上記基板吸着装置 E がガラ ス基板 S の搬送方向 T と 同一方向に複数、 例えば 5つ並設さ れている。 なお、 基板吸着装置 E の個数は、 5 つに限らず、 任意の個数設けても よい。 これら基板吸着装置 は、 それ ぞれ各吸着パッ ト 1 6 を高さ位置調整して同一高さ位置に合 わせられている。

このよ う なエアー浮上搬送装置では、 浮上搬送ステージ 3 0上にガラス基板 S がエアー浮上又は載置される。 この状態 06002

15 で、 ガラス基板 Sの先端部の両端に各搬送部 3 4、 3 5 を移 動させる。 これら搬送部 3 4、 3 5 の各昇降支持部材 3 6 は、 それぞれ各吸着載置台 3 7 を上昇させる。 これによ り 各基板 吸着装置 E の各吸着パッ ト 1 6 は、 ガラス基板 S の裏面に 接触する。 これら吸着パッ ト 1 6 がガラス基板 S の裏面に当 接する と 、 上記第 1 の実施の形態と 同様に、 ガラス基板 S に 対する当て付け力によ り各吸着パッ ト 1 6 は、 首振り して吸 着面 1 6 a をガラス基板 S の裏面の傾きに倣う。 これと共に エアーの真空吸引によ り 吸着面 1 6 a は、 ガラス基板 S の裏 面に密着 して吸着保持する。

この後、 各搬送部 3 4、 3 5 が各ガイ ドレール 3 2、 3 3 上をそれぞれ同期 して移動する と、 エアー浮上しているガラ ス基板 S は、 各搬送部 3 4、 3 5 の移動に引っ張られて浮上 搬送ステージ 3 0上を搬送方向 Tに高速でエアー搬送される。

この よ う に基板吸着装置 E をエアー浮上搬送装置に適用 すれば、 反りや橈みを生じたガラス基板 S をエアー浮上によ り搬送する場合でも、 ガラス基板 S の反り ゃ撓みに倣って各 基板吸着装置 E i の吸着パッ ド 1 6 をガラ ス基板 S の裏面に 確実に吸着できる。 吸着パッ ド 1 6 は、 位置ずれしないので、 ガラス基板 S の裏面を吸着保持したと きにガラス基板 S を位 置ずれさせるこ とがない。 従って、 エアー浮上搬送装置を例 えば液晶ディ スプレイ の製造ライ ンに設置し、 液晶ディ スプ レイ のガラス基板 S をエアー搬送する場合、 製造ライ ンにお けるァライ メ ン ト部及ぴ検査部において、 ァライ メ ン ト した ガラス基板 S の位置をずら さずに高精度に吸着保持でき る。 複数の吸着パッ ト 1 6 の高さ位置にばらつきがあっても、 各 吸着パッ ド高さ調整機構 2 7 によ り 各吸着パッ ト 1 6 の高さ 位置を同一高さ位置に調整できる。

次に、 上記第 1 の実施の形態で説明 した基板吸着装置 E を大型基板検査装置の検査ステージに適用 した場合の実施例 について図 7 に示す検査ステージの構成図を参照 して説明す る。

検査ステージ 4 0 は、 中抜き構造である枠型で長方形状に 开 成されたステージ本体 4 1 と、 このステージ本体 4 1 の中 空部 4 2 内に所定の間隔をおいて互いに平行に設けられた複 数の橈み防止桟 4 3 とからなる。 ステージ本体 4 1 における 中空部 4 2 の内周縁部には、 複数の基板吸着装置 E ェが所定 間隔毎に埋設されている。 各橈み防止桟 4 3 上には、 複数の 支持ピン 4 4が立設されている。

このよ う な検査ステージ 4 0上に反 り の生じたガラス基板 S を載置する と、 各基板吸着装置 の各吸着パッ ド 1 6 が ガラス基板 S の裏面に接触する。 これら吸着パッ ド 1 6 は、 上記第 1 の実施の形態と 同様に、 首振り動作して吸着面 1 6 a がガラス基板 S の裏面に倣い、 エアーの真空吸引によ り ガ ラス基板 S の裏面に密着し、 ガラ ス基板 S を確実に吸着保持 する。 従って、 反りゃ撓みのあるガラス基板 S を検査ステー ジ 4 0上に載置しても、 ガラス基板 S を確実に吸着保持でき る。 各吸着パッ ド高さ調整機構 2 7 によ り各吸着面 1 6 a の 高さ位置を調整でき る と共に、 吸着パッ ド 1 6 の高さ位置 A を高く するこ と によ り 、 ガラス基板 S に大きな反りゃ撓みが あっても、 これら反 り や撓みを矯正してガラス基板 S を検査 ステージ 4 0上に平面度を高く 吸着保持でき る。

次に、 本発明の第 2 の実施の形態について説明する。 なお、 図 1 と 同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略 する。

図 8 は基板吸着装置 E iの特徴部分を示す構成図である。 ワイ ヤー 4 5 が第 1 の支持板 2 1 と第 2 の支持板 2 3 と の間 に係止されている。 このワイヤー 4 5 は、 捩れ剛性を有し、 例えば金属材料等によ り形成されている。 この ワイヤー 4 5 は、 棒状のワイ ヤー本体 4 6 と、 このワイヤー本体 4 6 の一 端部に設け られた鈎型の第 1 の係止部 4 7 と、 ワイヤー本体 4 7の他端部に設け られた J 字形状の第 2 の係止部 4 8 と を 有する。 第 1 の係止部 4 7は、 第 1 の支持板 2 1 の各孔 2 1 a 、 2 1 b を通 して例えば糸等の線材 4 9 によ り 結ばれてい る。 第 2 の係止部 4 8 は、 第 2 の支持板 2 3 の各孔 2 1 a 、 2 1 b に係止されている。

例えばガラス基板 S をエアー浮上搬送する際、 反り ゃ撓み が生じているガラス基板 S を基板吸着装置 E によ り 吸着す る と き、 基板吸着装置 はガラス基板 S を迎える よ う に吸 着する。 この と き、 基板吸着装置 E の吸着パッ ド 1 6 は、 僅かに回転する こ と がある。 吸着パッ ド 1 6 の回転が累積さ れる と、 吸着パッ ド 1 6 を保持する機構が第 1 の支持板 2 1 と第 2 の支持板 2 3 との間に張られた細い糸 2 4 の捩れ量が 次第に大き く なる。 そ うする と、 細い糸 2 4 の張力が大き く な り 、 吸着パッ ド 1 6 が次第に下降し、 ハウジング 1 の端部 1 a 力 らの吸着ノ ッ ド 1 6 の突出量が小さ く なる。 このため、 反り ゃ撓みが生 じているガラス基板 S を吸着する と き、 吸着 パッ ド 1 6 がガラス基板 Sの裏面の傾きに倣って傾いて吸着 する本来の吸着動作が出来にく く なる。

上記第 2 の実施の形態であれば、 吸着パッ ド 1 6 に回転力 が加わっても、 この吸着パッ ド 1 6 の回転をワイ ヤー 4 5 に よ り 規制する こ とができ る。 従って、 吸着パッ ド 1 6 は、 経 時的に回転が累積される こ と はな く 、 ハウジング 1 の端部 1 a からの高さ位置 Aに維持される。

なお、 上記第 1 及び第 2 の実施の形態は、 次の通り形成し ても よい。

図 9 Aはワイヤー 4 5 の変形列を示す構成図である。 この ワイ ヤー 4 5 は、 ワイ ヤー本体 4 6 の例えば第 1 の係止部 4 7側に細径部 4 9 a を設けている。 この細径部 4 9 a は、 ヮ ィヤー本体 4 6 の径ょ り も細く 形成され、 この細径部 4 9 a よ り 上部は、 小さな外力で自 由に傾く が、 吸着パッ ド 1 6 の 回転力を抑止する。

図 9 B も ワイ ヤー 4 5 の変形列を示す構成図であ り 、 この ワイヤー 4 5 は、 第 1 の係止部 4 7 をワイヤー本体 4 6 と分 離し、 この第 1 の係止部 4 7 の下端にポール 4 9 b を設ける。 ワイヤー本体 4 6 は、 第 1 の係止部 4 7 と分離した端部にポ ール 4 9 b の受け部 4 9 c を設ける。 この受け部 4 9 c は、 ポール 4 9 b を回転可能に保持する。 従って、 ワイヤー 4 5 に捩れる力が加わっても、 ボール 4 9 b が受け部 4 9 c 内で 回転する。 これによ り 、 吸着パッ ド 1 6 が回転しても、 ワイ ヤー 4 5 は、 捩れる こ とはない。

チューブ部材 1 5 は、 例えば図 1 0 に示すよ う にジヤ ノ ラ に形成されたチューブ部材 1 5 a を用いても よい。

次に、 本発明の第 3 の実施の形態について説明する。

図 1 1 は基板吸着装置 E ₂の構成図である。 ハウジング 5 0 は、 例えばアルミ ニウムなどの剛性を有する材料によ り 円 筒状に形成されている。 こ のハウジング 5 0 の先端部には、 円筒状のパッ ト用の保持穴 5 1 が設け られている。 この保持 穴 5 1 内には、 当該保持穴 5 1 の開口端 5 1 a から僅かに突 出 した状態で吸着パッ ド 5 2が回転可能に保持されている。

この吸着パッ ド 5 2 は、 樹脂を用いて円筒状に形成され、 そのパッ ド側面である接触面部 5 2 a は、 球面状に形成され ている。 吸着パッ ド 5 2 の内部には、 下方を開放した円筒状 の中空部 5 3 が設け られている。 この吸着パッ ド 5 2 の上部 には、 平面状の吸着面 5 4 が設け られている。 この吸着面 5 4 には、 僅かな深さ を有するパッ ト凹部 5 4 a が設け られる と共に、 中央部に中空部 5 3 に連通する真空吸引用のエアー 吸引孔 5 4 b が設け られている。

ハウジング 5 0 の保持穴 5 1 は、 吸着パッ ド 5 2 の接触面 部 5 2 a の寸法よ り 僅かに小さ な内径に形成されている。 保 持穴 5 1 の開口部には、 吸着パッ ド 5 2 の接触面部 5 2 a の 球面形状の曲率に倣って絞られた絞り 形状部 5 5 が設け られ ている。 この絞り形状部 5 5 は、 吸着パッ ド 5 2 を保持穴 5 1 内に保持する吸着パッ ド保持手段を構成する。

ノヽウジング 5 0 の保持穴 5 1 と吸着パッ ド 5 2 の接触面部 5 2 a と は、 ノヽウジング 5 0 の保持穴 5 1 内でに吸着パッ ド 5 2 が回転可能となる精密すきまばめの構造になっている。 従って、 保持穴 5 1 内に吸着パッ ド 5 2 を収鈉する と、 吸着 パッ ド 5 2 の接触面部 5 2 a と保持穴 5 1 の内壁面に少な く と も 3 点で点接触する。 吸着パッ ド 5 2 の接触面部 5 2 a と 保持穴 5 1 の内壁面と の間の接触は、 必ずしも少なく と も 3 点だけで点接触する と は限らず、 吸着パッ ド 5 2 の首振 り に よって接触面部 5 2 a における同一周方向の線上の複数の点 で接触した り 、 同周方向の線上で線接触する。 このよ う な接 触面部 5 2 a と保持穴 5 1 の内壁面と の間の接触によ り 接触 面部 5 2 a と保持穴 5 1 の内壁面との間の摩擦抵抗は極めて 小さ く な り 、 吸着パッ ド 5 2 は、 保持穴 5 1 内において僅力 な外力で全周方向に亘つて例えば矢印 F方向に回転可能に保 持され、 ス ムーズな首振り 動作が可能と なる。

ノヽウジング 5 0 の保持穴 5 1 内の底部には、 吸着パッ ド 5 2 を受ける受け面 5 6 が設け られている。 この受け面 5 6 は、 平面部 5 7 と この平面部 5 7 の外周縁に設け られたテーパ部 5 8 と によ り形成されている。 平面部 5 7 は、 吸着パッ ド 5 2 の底部が当接する こ と に よ り 吸着パッ ド 5 2 の矢印 F方向 に対する傾き角を規制する。 吸着パッ ド 5 2 の傾き角は、 吸 着パッ ド 5 2が傾いた と き、 吸着面 5 4が保持穴 5 1 内に隠 れない範囲である。 テーパ部 5 8 は、 吸着パッ ド 5 2 の接触 面部 5 2 a の球面形状の曲率に倣った角度に形成されている。 このテーパ部 5 8 は、 保持穴 5 1 内で下降する吸着パッ ド 5 2 と 当接して吸着パッ ド 5 2 の下方への移動を規制する。 ハウジング 5 0 には、 中空穴 5 9 が設け られている。 この 中空穴 5 9 は、 保持穴 5 1 の内径よ り も小さい内径に形成さ れている。 この中空孔 5 9 內及ぴ吸着パッ ド 5 2 の中空部 5 3 内には、 吸着パッ ト支持部材 6 0 が設け られている。

この吸着パッ ト支持部材 6 0 は、 ゴムな どの弹性部材によ り 中空形状に形成され、 その内部にエアー引き通路 6 1 が設 け られている。 この吸着パッ ト支持部材 6 0 の先端部には、 小さな弾性力を得るベローズ 6 0 a が形成されている。 この ベローズ 6 0 a の先端部は、 厚みを元部よ り も薄く 形成し、 かつジャバラ状に形成して伸縮可能である。 このべローズ 6 0 は、 吸着パッ ド 5 2 のエアー吸引孔 5 4 b に気密に密着さ れている。 吸着パッ ト支持部材 6 0 の元部は、 ユニッ ト本体 6 2 の先端面に気密に連結されている。

ノヽウジング 5 0 は、 ュニッ ト本体 6 2 に対してねじ部 6 3 を介して螺合している。 ハウジング 5 0 は、 ユニ ッ ト本体 6 2 に対して回転させてベローズ 6 0 a の伸縮量を変え、 吸着 パッ ド 5 2 の回転力を調整する。 この調整は、 吸着パッ ド 5 2 がガラス基板 S に当接したと き に作用する外力を受けて吸 着パッ ド 5 2 が回転可能な範囲内での微調整となる。

ハウジング 5 0 は、 ュニッ ト本体 6 2 に対して回転するこ と によ り 吸着パッ ド 5 2 の高さ位置を調整可能である。 この よ う にべローズ 6 0 a の伸縮量 （弾性力） 又は吸着パッ ド 5 2 の高さ位置を調整したと きのハウジング 5 0 は、 ねじ部 6 3 に螺合する 口 ックナツ ト 6 4 の締め付けによってュニッ ト 本体 6 2 に固定される。 ュニッ ト本体 6 2 には、 エアー引き通路 6 5 が設け られて いる。 このエアー引き通路 6 5 は、 吸着パ ッ ト支持部材 6 0 のエアー引き通路 6 1 に連通している。 エアー吸引孔 5 4 b 、 各エアー引き通路 6 1 、 6 5 は、 真空吸引流路が形成される。

次に、 上記の如 く 構成された基板吸着装置 E ₂のガラス基 板 S に対する吸着動作について図 1 2 A〜図 1 2 Cを参照し て説明する。

図 1 2 Aは基板吸着装置 E ₂の上方にガラス基板 S が搬送 された状態を示す。 吸着パッ ド 5 2 は、 例えばハウジング 5 0 の保持穴 5 1 内で傾き、 吸着面 5 4 がガラス基板 S の裏面 に対して平行状態からずれている。 この状態で基板吸着装置 E ₂が昇降機構に よ り 上昇する と 、 傾いている吸着パッ ド 5 2 の吸着面 5 4 における頂点と なっている一部がガラス基板 S の裏面に当接する。

吸着パッ ド 5 2 は、 ノヽウジング 5 0 の保持穴 5 1 内に点接 触で保持されているので、 保持穴 5 1 の内壁面と の間の摩擦 抵抗が極めて小さ く 、 ガラス基板 S の裏面に対する僅かな当 て付け力で保持穴 5 1 内で矢印 F方向に回転する。

従って、 基板吸着装置 E ₂がガラス基板 S の下方から僅か な当て付け力でガラス基板 Sの裏面に接触する と、 吸着パッ ド 5 2 は回転し、 図 2 Bに示すよ う に吸着面 5 4 がガラス基 板 S の裏面の方向と 同一になる よ う に倣う。 このと き 、 吸着 パッ ド 5 2 が傾いていても又はガラス基板 S に反りや橈みが 合っても、 吸着ノ、。ッ ド 5 2 は回転し、 吸着面 5 4 がガラス基 板 S の裏面に密着する。 この状態で、 各エアー引き通路 6 1、 6 5及ぴエアー吸引 孔 5 4 b を通してエアーを真空吸引する と 、 吸着パッ ド 5 2 のパ ッ ト凹部 5 4 a 、 エアー吸引孔 5 4 b及び各エアー引き 通路 6 1、 6 5 内は、 気密状態で真空引き によ り 負圧になる。 これによ り 、 吸着パッ ド 5 2 の吸着面 5 4 は、 ガラス基板 S の裏面に吸着する。 この吸着面 5 4 は、 ガラ ス基板 S に反り ゃ撓みが生じても、 吸着パッ ド 5 2がガラス基板 S の裏面に 倣って密着する ので、 エアー漏れなく 確実にガラス基板 S を 真空吸引する。

これと共にパッ ト凹部 5 4 a 、 エアー吸引孔 5 4 b及び各 エアー引き通路 6 1、 6 5 内が負圧になる と、 弾性部材で形 成される吸着パッ ト支持部材 6 0 の主にべローズ 6 0 a が縮 む。 吸着パッ ド 5 2 は、 ベローズ 6 0 a の縮みによ り保持穴 5 1 内を下降し、 図 1 2 Cに示すよ う にその底部がテーパ部 5 8 に当接して停止する。 これによ り 、 吸着パッ ド 5 2 は、 保持穴 5 1 内で固定される。

このよ う に上記第 3 の実施の形態によれば、 球面状に形成 した接触面部 5 2 a を有する吸着パッ ド 5 2 を、 ハウジング 5 0 の保持穴 5 1 内に精密すきまばめ構造によ る点接触で保 持し、 吸着パッ ド 5 2 を保持穴 5 1 内において全周方向に亘 つて回転可能に したので、 吸着パッ ド 5 2 は、 保持穴 5 1 内 において摩擦抵抗が極めて小さ く 、 僅かな外力で全周方向に 里って回転でき る。 従って、 ガラス基板 S の下方から僅かな 当て付け力でガラス基板 S の裏面に接触する こ と によ り 、 吸 着パッ ド 5 2 は、 ガラス基板 Sの裏面の傾き方向に倣ってェ ァー漏れなく 真空吸引 して確実にガラス基板 Sの裏面に吸着 でき る。 これによ り 、 ガラス基板 S に反り ゃ撓みがあっても、 これらに倣って吸着パッ ド 5 2 が傾いて確実に吸着でき る。

吸着パッ ド 5 2 は、 ハウジング 5 0 の保持穴 5 1 内に精密 すきまばめの構造によ り保持する ので、 吸着パッ ド 5 2 が保 持穴 5 1 内での位置ずれは極めて小さい。 これによ り 、 ガラ ス基板 S を吸着保持したと きに高精度な位置決めが可能にな る。

ガラス基板 S の裏面に吸着パッ ド 5 2が吸着する と き、 吸 着パッ ト支持部材 6 0 内の負圧によ り べローズ 6 0 a が縮み、 吸着パッ ド 5 2がテーパ部 5 8 に当接して下方への移動を規 制するので、 ガラス基板 S を吸着した状態で正確な高さ に固 定でき る。

ノヽウジング 5 0 をュニッ ト本体 6 2 に対して回転させる こ と によ りべローズ 6 0 a の伸縮量を調整する ので、 吸着パッ ド 5 2 をガラス基板 S に対する当て付け力を最適値に調整で き る と共に、 吸着パッ ド 5 2 の高さ位置を調整でき る。

ノ、ウジング 5 0 に絞り形状部 5 5 を設けたので、 球状の吸 着パッ ド 5 2 が保持穴 5 1 から飛び出 して脱落する こ と がな い _α

上記基板吸着装置 Ε ₂は、 上記図 5 及び図 6 に示すエアー 浮上搬送装置の基板吸着装置 Ε ₁ に代える こ と が可能である。 基板吸着装置 Ε ₂をエアー浮上搬送装置に適用すれば、 上記 第 1 の実施の形態と 同様に、 ガラス基板 S の反り ゃ撓みに倣 つて各基板吸着装置 Ε ₂の吸着パ ッ ト 5 2 をガラ.ス基板 S の 裏面に確実に吸着でき、 かつガラス基板 S を位置ずれさせる こ とがない。

次に、 本発明の第 4 の実施の形態について説明する。 なお、 図 1 1 と 同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省 略する。

図 1 3 は基板吸着装置 E ₃ の構成図を示す。 この基板吸着 装置 E ₃は、 図 7 に示す大型基板検査装置の検査ステージ上 の基板吸着装置 E に変わって設ける こ とが可能である。 ハ ウジング 5 0 は、 各凹部 7 0 の底部に形成されたねじ部 7 1 に対して螺合し、 ロ ックナツ ト 7 2 のねじ部 7 1 に対する締 め付けによ り 固定される。 これによ り 、 ハウジング 5 0 をね じ部 7 1 に対して回転させれば、 ベローズ 6 0 の伸縮量が調 整でき る。 この調整された状態は、 ロ ックナッ ト 7 2 を締め 付ける こ と によ り 固定される。 ステージ本体 4 1 と各橈み防 止桟 4 3 の各ベース 7 3 には、 吸着パッ ト支持部材 6 0 内の エアー引き通路 6 1 に連通するエアー吸引通路 7 4が設け ら れている。

この よ う な基板吸着装置 E ₃を設けた検査ステージであれ ば、 反り ゃ撓みのあるガラス基板 S を確実に吸着保持でき、 かつ吸着パッ ト 5 2 の高さ位置を調整する こ と によ り 、 反り や撓みを矯正してガラス基板 S を平面度を高く 吸着保持でき る。

基板吸着装置 E ₃は、 図 1 4 に示す大型基板搬送用ロ ボッ ト のアーム部 Rにも適用可能である。 このアーム部 Rは、 ァ ーム支持部 8 0 に複数、 例えば 4本のアーム 8 1 が所定の間 隔をおいて互いに平行に設けられている。 これらアーム 8 1 上には、 基板吸着装置 E ₃が複数設け られている。

この大型基板搬送用ロボッ トは、 アーム支持部 8 0 を収納 部に挿入し、 大型のガラス基板 S を取 り 出 し、 検査部のステ ージゃ搬送ライ ン上に搬送する。 各アーム 8 1 上にガラス基 板 S が載置される と、 ガラス基板 S に橈みが生じる。 このと き吸着パッ ト 5 2 は、 吸着面 5 4 がガラス基板 Sの裏面の傾 きに倣い、 エアーの真空吸引によ り ガラス基板 S の裏面に密 着し、 ガラス基板 S を確実に吸着保持する。

このよ う に上記第 4 の実施の形態によれば、 ハウジング 5 0 の高さ を低く して小型化が可能であ り 、 大型基板検査装置 の検查ステージや大型基板搬送用ロボッ トのアーム部な どに 適用 して、 ガラス基板 S を位置ずれさせずに、 ガラス基板 S に生じる反 り ゃ撓みに倣って確実に吸着保持でき る。

次に、 本発明の第 5 の実施の形態について図面を参照 して 説明する。 なお、 図 1 、 図 1 1 、 図 5及び図 6 と 同一部分に は同一符号を付 してその詳しい説明は省略する。

この第 5 の実施の形態は、 図 5及び図 6 に示すエアー浮上 搬送装置に、 上記第 1 の実施の形態の基板吸着装置 （以下、 第 1 の基板吸着装置と称する） と 上記第 3 の実施の形態 の基板吸着装置 （以下、 第 2 の基板吸着装置と称する） E ₂ と を適用 した。

図 1 5 は各吸着載置台 5 7上に設け られた第 1 の基板吸着 装置 と第 2 の基板吸着装置 E ₂ と を示す。 なお、 同図で は符号を付すと煩雑になるために必要部分の符号のみを付す。 第 1 と第 2 の基板吸着装置 E ₂ と は、 ガラ ス基板 S の 搬送方向 T と同一方向に複数並設されている。 第 1 の基板吸 着装置 E は、 ガラ ス基板 S の搬送方向 T に沿ってガラス基 板 S の先端部側に複数個、 例えば 2個設け られている。 第 2 の基板吸着装置 E ₂は、 第 1 の基板吸着装置 よ り も後端 側に複数個、 例えば 6個設け られている。 これら第 1 及び第 2 の基板吸着装置 E i、 E ₂は、 ガラ ス基板 S を吸着 した状 態において、 各吸着パッ ド 1 6、 5 2 の各吸着面 1 6 a、 5 4 の高さ位置が基準平面 Hに一致する よ う に高さ調整されて いる。 各第 1 の基板吸着装置 E は、 吸着パッ ド 1 6 がハウ ジング 1 内に下降して端部 1 a に面接触した と きの吸着面 1 6 a の高さ位置が基準平面 Hに一致する よ う に高さ調整され ている。 第 1 と 第 2 の基板吸着装置 Ε _{1 Λ} E ₂は、 それぞれ 高さが異なるので、 吸着載置台 5 7 には、 段差 Gが設け られ てレヽる。

図 1 6 はエアー真空引き系統を示す図である。 ガラス基板 S の搬送方向 Tに対して左側の各第 1 の基板吸着装置 E に は、 それぞれ別系統の各エアー吸引路を通 して各レギュ レー タ 9 0、 9 1 が接続され、 かつ右側の各第 1 の基板吸着装置 には、 それぞれ各レギユ レータ 9 2、 9 3 が接続されて いる。 これら レギユ レータ 9 0、 9 1、 '·'、 9 3 は、 それぞ れ各第 1 の基板吸着装置 に対して予め設定された各エア 一吸引力に個別に制御する。

一方、 ガラス基板 S の搬送方向 Tに対して左側の第 2 の基 板吸着装置 E ₂には、 それぞれ各レギユ レータ 9 4 — 1、 9 4 — 2 、 ー、 9 4 一 nが接続され、 かつ右側の第 2 の基板吸 着装置 E ₂にも各レギユ レータ 9 5 — 1 、 9 5 — 2 、 ···、 9

5 - nが接続されている。 これら レギユ レータ 9 4 — 1 、 9

4 一 2 、 ···、 9 4 一 n 、 9 5 - 1 , 9 5 — 2 、 ···、 9 5 - n は、 それぞれ各第 2 の基板吸着装置 E ₂に対して予め設定さ れた各エアー吸引力に個別に制御する。

ガラス基板 S の搬送方向 Tに対して左側の各レギユ レータ 9 0 、 9 1 には真空バルブ 9 6 が共通接続され、 同 じく 左側 の各レギユ レータ 9 4 一 1 、 9 4 — 2 、 ·'·、 9 4 — n には真 空バルブ 9 7が共通接続されている。 なお、 各真空バルブ 9 6 、 9 7 の各レギユ レータ 9 0 、 9 1 、 9 4 — 1 、 …ヽ 9 4 — n側には、 それぞれ各エアー圧力計 9 8 、 9 9 が設け られ ている。

エアー圧力計 9 8 は、 各レギユ レータ 9 0 、 9 1 力 ら吸引 するエアー吸引力を測定し、 このエアー吸引力が設定吸引力 よ り 低く な らないと き にエラー信号を真空バルブ 9 6 に送出 し、 この真空バルブ 9 6 を遮断させる。 エアー圧力計 9 9 は、 各レギユ レータ 9 4 一 1 、 '··、 9 4 — n力 ら吸引するエアー 圧力を測定し、 このエアー吸引力が設定吸引力よ り も低く な らないと きにエラー信号を真空バルブ 9 7 に送出 し、 この真 空バルブ 9 7を遮断させる。 同様に、 ガラス基板 Sの搬送方 向 Tに対して右側の各レギュ レータ 9 2 、 9 3 には真空バル ブ 1 0 0 が共通接続され、 同 じく 右側の各レギユ レータ 9 5 一 1 、 …、 9 5 — n には真空バルブ 1 0 1 が共通接続されて いる。 これら真空パルプ 1 0 0 、 1 0 1 の各レギユ レータ 9 2、 9 3、 9 5 — 1、 …、 9 5 — η側には、 それぞれ各エア 一圧力計 1 0 2、 1 0 3 が設け られている。 これらエアー圧 力計 1 0 2、 1 0 3 は、 それぞれ各レギユ レータ 9 2、 9 3、 9 5 — 1、 …、 9 5 — ηから吸引する各エアー吸引力を測定 し、 このエアー吸引力が設定吸引力よ り も低く な らないと き にエラー信号を真空バルブ 9 6 に送出 して遮断させる。

各第 1 の基板吸着装置 Ε ェ側の各真空バルブ 9 6、 1 0 0 は、 主レギユ レータ 1 0 4 a に共通接続され、 さ らに主レギ ユ レータ 1 0 4 にエアー吸引源 1 0 5 が接続されている。 同 様に、 各第 2 の基板吸着装置 E ₂側の各真空バルブ 9 7、 1 0 1 は、 主レギユ レータ 1 0 4 b に共通接続され、 さ らに主 レギユ レータ 1 0 4 b にエアー吸引源 1 0 5 が接続されてい る。 なお、 各主レギユ レータ 1 0 4 a、 1 0 4 b の各真空バ ルブ 9 6、 9 7、 1 0 0、 1 0 1側には、 エアー圧力計 1 0 6 a、 1 0 6 b が接続されている。

次に、 上記の如く 構成された装置のガラス基板 Sへの吸着 動作について説明する。

浮上搬送ステージ 3 0上にガラス基板 S が浮上又は載置さ れている状態で、 各吸着載置台 5 7 を上昇させる と、 第 1及 ぴ第 2 の各基板吸着装置 E 、 E ₂の各吸着パッ ト 1 6、 5 2 が図 1 5 に示すよ う にガラス基板 S の裏面に向って上昇す る。 ガラス基板 S の搬送方向 Tに対して先端部側に反 ゃ撓 みが生じている と 、 先ず、 第 1 の基板吸着装置 における 吸着パッ ド 1 6 の一端がガラス基板 S の裏面に接触する。 ガ ラス基板 S は、 搬送方向 Tに対して先端側になる程反 りゃ撓 み量が大き く なるが、 搬送方向 Tに対して先端部側に各吸着 パッ ド 1 6 を高さ調整可能な第 1 の基板吸着装置 E を配置 するこ と によって、 反 りや撓みを生じているガラス基板 Sの 裏面に各吸着パッ ド 1 6 を接触する こ とが可能である。 これ ら吸着パッ ド 1 6 は、 ガラス基板 S の下方から僅かな当て付 け力でガラス基板 S の裏面に接触 し、 ガラス基板 S の反りや 橈みによ る傾きに倣って首振り し、 吸着面 3 6 がガラス基板 S の裏面に密着する。

この状態で、 エアー吸引源 1 0 5 がエアー吸引動作を開始 する と 、 各第 1 及び第 2 の基板吸着装置 £ 、 E ₂に対 して 各レギユ レータ 9 0、 9 1 、 ···、 9 3 、 及び各レギユ レータ 9 4 — 1、 9 4 — 2 、 "ヽ 9 4 — n、 9 5 — 1 、 9 5 — 2、 ·''、 9 5 — n力 ら各真空バルブ 9 6 、 9 7 、 1 0 0 、 1 0 1 、 主レギユ レータ 1 0 4 を通 してエアー吸引が行なわれる。 こ れによ り 、 第 1 の基板吸引装置 は、 上記第 1 の実施の形 態と 同様に、 吸着パッ ド 1 6 の吸着面 1 6 a が反 りゃ撓みが 生じているガラス基板 S の裏面に倣って密着 し、 エアー漏れ な く 確実にガラス基板 S を真空吸引する。 これと共に吸着パ ッ ド 1 6 の裏面の外周縁 1 6 e がハウジング 1 の端部 1 a に 面接触して停止 し、 ガラス基板 S の反りや橈みを平面状に矯 正する。

このと き、 ガラス基板 S の裏面は、 複数の第 2 の基板吸着 装置 E ₂の各吸着パッ ド 5 2 に接近する。 これら第 2 の基板 吸着装置 E ₂は、 ガラス基板 S の下方から僅かな当て付け力 でガラス基板 S の裏面に接触する こ と によ り 、 各吸着パッ ド 5 2 は回転し、 吸着面 5 4 の面方向がガラス基板 Sの裏面の 方向と 同一になる よ う に倣う。 '

この状態で、 ノ、。ッ ト凹部 5 4 a 、 エアー吸引孔 5 4 b 及び 各エアー引き通路 6 1 、 6 5 を通 してエアーを真空吸引する と、 吸着パッ ド 5 2 の吸着面 5 4 は、 ガラス基板 S の裏面に 吸着する。 これと共に、 エアー真空吸引によ り べローズ 6 0 が縮むので、 吸着パッ ド 5 2 は、 保持穴 5 1 内を下降してテ ーパ部 5 8 に当て付いて停止する。 この結果、 第 1及び第 2 の基板吸着装置 Ε _{1 Λ} E ₂によ り ガラス基板 S の裏面が吸着 保持される と、 ガラス基板 Sは、 反りゃ撓みが矯正されて基 準平面 H上に水平に保持される。

この後、 各搬送部 3 4 、 3 5 が各ガイ ドレール 3 2 、 3 3 上をそれぞれ同期 して移動する と、 エアー浮上しているガラ ス基板 S は、 各搬送部 3 4 、 3 5 の移動に引っ張られて浮上 搬送ステージ 3 0上を搬送方向 Tに高速でエアー搬送される。

このよ う に上記第 5 の実施の形態によれば、 ガラス基板 S の搬送方向 Tの先端側において反 りゃ撓み量が大き く ても、 このガラス基板 S の裏面を吸着パ ッ ド 1 6 で確実に吸着保持 でき る。 反 り ゃ撓み量の大きなガラス基板 S の先端側を各第 1 の基板吸着装置 E によ り 吸着保持して基準平面 Hに向け て降ろすので、 ガラ ス基板 S の裏面が各第 2 の基板吸着装置 E ₂に次第に接近させる こ と ができ、 各第 2 の基板吸着装置 E ₂によ り ガラス基板 S の裏面を確実に吸着保持でき る。

第 1 及び第 2 の基板吸着装置 E i 、 E ₂は、 それぞれ別系 統の各レギユ レータ 9 0 、 9 1 、 … 9 5 — n を通 してエアー の吸引を行う ので、 た と え 1 箇所の吸着パッ ド 1 6又は 5 2 がガラス基板 S の裏面に吸着せずにエアー漏れしても、 この エアー漏れした吸着パッ ド 1 6又は 5 2 に対する第 1 の基板 吸着装置 E ！又は第 2 の基板吸着装置 E ₂へのエアー供給が 停止されるだけで、 L C Dの製造ライ ンを緊急停止させる必 要がな く 、 処理が終了するまで他の第 1 の基板吸着装置 と第 2 の基板吸着装置 E ₂ と は各吸着パッ ド 1 6 又は 5 2 で の吸着動作を維持する こ と ができ る。 これによ り 、 ガラス基 板 Sの吸着保持が途中で停止する こ と なく 安全性を向上でき、 かつエアー漏れした吸着パッ ド 1 6又は 5 2 の第 1 又は第 2 の基板吸着装置 Ε _{1 Λ} Ε ₂の系統のみを修理すればよ く 、 メ ンテナンスの面でも有利と なる。 なお、 各第 1 の基板吸着装 置 Ε ₁ と各第 2 の基板吸着装置 Ε ₂へのエアー供給を 2 つの 系統にする こ と によ り 、 一方の主レギユ レータ 1 0 4 a 又は 1 0 4 b が故障しても、 他方の主レギユ レータ 1 0 4 b 又は 1 0 4 a が作動 している ので、 全ての各第 1 の基板吸着装置 A及び各第 2 の基板吸着装置 B でのエアー吸引ができなく な る とい う 問題を解消でき る。

上記第 5 の実施の形態では、 第 1 及び第 2 の基板吸着装置 E ₁ E ₂ と を用いているが、 全てを第 1 の基板吸着装置 E ェ に しても よい。 この場合、 各第 1 の基板吸着装置 の吸 着パッ ド 1 6 の高さがガラス基板 S の搬送方向 Tに向けて順 次高く なる よ う に吸着パッ ド 1 6 の高さを調整機構 2 7 によ り調整する。

次に、 本発明の第 6 の実施の形態について説明する。 なお、 図 5 及び図 6 と 同一部分には同一符号を付してその詳しい説 明は省略する。

図 1 7 は検査ステージと しても使用可能なエアー浮上搬送 装置の構成図である。 複数、 例えば 3つの吸着載置台 3 7 a、 3 7 b、 3 7 c が設け られている。 これら吸着載置台 3 7 a、 3 7 b , 3 7 c は、 ガラス基板 S の搬送方向 Tに対して先端 部側と後端部側と 中間部と にそれぞれ設け られている。 これ ら吸着載置台 3 7 a、 3 7 b、 3 7 c 上には、 それぞれ第 1 又は第 2 の基板吸着装置 E 、 E ₂が複数並設されている。 これら第 1 又は第 2 の基板吸着装置 E i、 E ₂は、 ガラ ス基 板 S を吸着した状態で、 各吸着パッ ド 1 6、 5 2 の各吸着面 1 6 a、 5 4 の高さ位置が基準平面 Hに一致する よ う に高さ 調整されている。 これら第 1 又は第 2 の基板吸着装置 E ₁ E ₂は、 上記第 5 の実施の形態と 同様にそれぞれ別系統の各 エアー吸引路を通 して各レギユ レータが接続され、 例えば 1 つの第 1 又は第 2 の基板吸着装置 E ₁ E ₂ でエアー漏れが 生じても、 他の第 1 又は第 2 の基板吸着装置 Ε _{1 Λ} E ₂で吸 着動作を維持でき、 ガラス基板 S の吸着保持が途中で停止す る こ と な く 安全性を向上でき る ものと なっている。

これら第 1 又は第 2 の基板吸着装置 E ₁ E ₂に対する吸 着制御方法は、 先ず、 中央部に設け られた吸着載置台 3 7 c 上の各第 1 又は第 2 の基板吸着装置 E 又は E ₂に対する吸 着動作を開始する。 次に先端部又は後端部に設け られた吸着 载置台 3 7 a 又は 3 7 b上の各第 1又は第 2の基板吸着装置 E i又は E ₂に対する吸着動作を開始する。 このよ う な吸着制御方法であれば、 浮上搬送ステージ 3 0 上にエアー浮上しているガラス基板 S を吸着保持する と き、 反 り の小さな中間部に設け られた吸着載置台 3 7 c 上の各第 1 又は第 2 の基板吸着装置 E 又は E ₂から吸着動作を開始 する こ と によ り 、 ガラ ス基板 S の中央部は、 各第 1 又は第 2 の基板吸着装置 E i又は E ₂によ り 確実に吸着保持される。 この と き、 ガラス基板 Sが中間部の各第 1 又は第 2 の基板吸 着装置 又は E ₂に よ り 吸着保持される こ と に よ り 、 ガラ ス基板 S の反り ゃ撓みが低下する。

次に、 先端部又は後端部に設け られた吸着載置台 3 7 a 又 は 3 7 b 上の各第 1 又は第 2 の基板吸着装置 E 又は E ₂が 吸着動作を開始する。 これによ り 、 先端部の各第 1 又は第 2 の基板吸着装置 E i又は E ₂は、 中央部側から先端部側に向 つて順次ガラス基板 S の裏面に接触し、 吸着保持する。

このよ う に反 り の小さなガラス基板 Sの中間部から反 り の 大きなガラス基板 S の先端部又は後端部に向けて順次吸着を 開始する こ とで、 ガラス基板 S の反りや撓みを矯正しなが ら 確実に吸着保持でき る。 なお、 吸着載置台は、 中央部、 先端 部、 後端部の 3箇所に限らず、 ガラス基板 S のサイズに応じ て増加する こ と ができ、 かつ中央部以外の反 の小さな部分 から反り の大きな領域に配置しても よい。

次に、 本発明の第 7 の実施の形態について説明する。 なお、 図 5 及ぴ図 6 と 同一部分には同一符号を付してその詳しい説 明は省略する。

図 1 8 はエアー浮上搬送装置の構成図である。 浮上搬送ス テージ 1 の両側面には、 それぞれ 1 台の吸着載置台 3 7 が設 け られている。 この吸着载置台 3 7上には、 第 1 又は第 2 の 基板吸着装置 又は E ₂がガラ ス基板 S の搬送方向 T と 同 一方向に複数並設されている。 これら第 1 又は第 2 の基板吸 着装置 又は E ₂は、 上記第 5 の実施の形態と 同様にそれ ぞれ別系統の各エアー吸引路を通 して各レギユ レータが接続 されてレヽる。

これら第 1 又は第 2 の基板吸着装置 又は E ₂に対する 吸着制御方法は、 各第 1 又は第 2 の基板吸着装置 E 又は E ₂に対 してガラス基板 S の反 り の小さい中央部側から反り の 大き な端部側に向けて順番に吸着動作を開始する。

この よ う な吸着制御方法であれば、 浮上搬送ステージ 3 0 上にエアー浮上しているガラス基板 S を吸着保持する と き、 各第 1 又は第 2 の基板吸着装置 又は E ₂は、 ガラ ス基板 Sの中間部側から先端部側に向って順次ガラス基板 Sの裏面 に接触し、 吸着保持する。 この吸着保持によ り 、 ガラ ス基板 S の反り は、 中間部側から端部側に順次矯正され、 各第 1 又 は第 2 の基板吸着装置 E i又は E ₂は、 中間部側から端部側 に向けて確実にガラス基板 S を吸着保持する。

又、 各第 1 又は第 2 の基板吸着装置 E ェ又は E ₂が同時に 吸着動作しても、 ガラス基板 S の反り の小さ な部分から反り の大きな部分に向けて吸着が順次開始されるこ と によ り 、 ガ ラス基板 S の反りゃ撓みが基準平面 H上に水平に矯正される。

上記第 7 の実施の形態によれば、 吸着パッ ド 5 2 の突き出 し高さが小さい第 2 の基板吸着装置 E ₂や周知の基板吸着装 置でも反 り の大きなガラス基板 S を確実に吸着保持する こ と が可能と なる。

なお、 本発明は、 上記各実施の形態に限定される ものでは なく 、 次の通り 変形しても よい。

例えば、 上記各実施の形態は、 ガラス基板 Sのエアー浮上 搬送に用いているが、 ガラス基板 Sの検査部においてガラス 基板 S を検査ステージ上に吸着保持する場合にも適用でき る。

図 1 9 に示すよ う に複数個の基板吸着装置 又は E ₂を 1 組とするブロ ッ ク H H と する と共に、 各プロ ッ ク H i H 毎にエアー真空引き系統に しても よい。 各第 1 の基 板吸着装置群 H i〜 H ₄は、 それぞれ複数の基板吸着装置群 E をガラス基板 S の搬送方向 T に沿って配列 している。 こ の う ち各第 1 の基板吸着装置群 H i、 H ₂が隣接 して設け ら れ、 各第 1 の基板吸着装置群 H ₃、 H ₄が隣接 して設け られ ている。 なお、 これら第 1 の基板吸着装置群 H H Aは、 第 2 の基板吸着装置 E ₂を用いても よい。

これら第 1 の基板吸着装置 H i 〜 H ₄のおける各第 1 の基 板吸着装置 は、 各レギユ レータ 1 1 0 に接続され、 さ ら に各第 1 の基板吸着装置群 〜 H ₄別に共通接続されて各 真空パルプ i 丄 丄 〜 1 1 4 に接続されている。 第 1 の基板吸 着装置群 H i と H ₃ と に対応する各真空パルプ 1 1 1 、 1 1 3 とが共通接続されて主レギユ レータ 1 1 5 a に接続されて いる。 又、 第 1 の基板吸着装置群 H ₂ と H ₄ と に対応する各 真空バルブ 1 1 2、 1 1 4 とが共通接続されて主レギユ レ一 タ 1 1 5 b に接続されている。 このよ う なエアー真空引き系統であれば、 上記第 5 の実施 の形態 同様に 1 つの第 1 又は第 2 の基板吸着装置 E i、 E ₂でエアー漏れが生じてもガラス基板 S に対する吸着動作を 維持して安全性を向上でき る。 又、 第 1 の基板吸着装置群 H と ^1₂ と 、 H ₃ と H ₄ と が隣接して設け、 その一方の第 1 の 基板吸着装置群 H i、 H ₃ と他方の第 1 の基板吸着装置群 H ₂、 H ₄ と をそれぞれ別のエアー真空引 き系統に構成する こ と によ り 、 隣接する一方の第 1 の基板吸着装置群 、 H 3 が吸引不能になっても隣接する他の基板吸着装置 H ₂で確実 にガラス基板 S を吸着保持する こ とができ る。 例えば第 1 の 基板吸着装置群 H iの全体がエアー漏れしても、 隣接する第 1 の基板吸着装置群 H ₂でガラス基板 S に対する吸着動作を 維持でき る。

又、 上記第 1 の実施の形態における吸着パッ ド 1 6 の接触 面部 1 6 c の形状は、 図 2 O A乃至図 2 O Dに示す一部断面 図及ぴ図 2 0 E に示す上面図に示すよ う に変形しても よい。 図 2 O Aに示す接触面部 1 6 c は、 各傾斜面 1 2 0、 1 2 1 を交差させて例えば鈍角を有する頂点 1 2 2 を形成している。 この頂点 1 2 2 は、 接触面部 1 6 c の全周方向に形成されて いる。 この よ う な吸着パッ ド 1 6 の接触面部 1 6 c であれば、 接触面部 1 6 c の頂点 1 2 2 がハウジング 1 の内壁 2 a に対 して全周方向で線接触する。

図 2 0 B に示す接触面部 1 6 c は、 例えば鈍角の頂点 1 2 3 を有する凸状体 1 2 4 を形成している。 この接触面部 1 6 c も凸状体 1 2 4 の頂点 1 2 3 がノヽウジング 1 の内壁 2 a に 対して全周方向で線接触する。

図 2 0 C に示す接触面部 1 6 c は、 筒状の曲面本体 1 2 5 に半球状の凸状体 1 2 6 を形成している。 この接触面部 1 6 c であれば、 凸状体 1 2 6 がハ ウジング 1 の内壁 2 a に対し て全周方向で線接触する。

図 2 O Dに示す接触面部 1 6 c は、 筒状の曲面本体 1 2 5 に突起体 1 2 7 を形成している。 この接触面部 1 6 c であれ ば、 突起帯体 1 2 7 がハウジング 1 の内壁 2 a に対して全周 方向で線接触する。

図 2 O Eに示す接触面部 1 6 c は、 筒状の曲面本体 1 2 5 の外周面上に少なく と も 3個以上、 例えば 4個の突起 1 2 8 を形成している。 この接触面部 1 6 c であれば、 各突起体 1 2 8 がハウジング 1 の内壁 2 a に対して各点接触する。

これら吸着パッ ド 1 6 の接触面部 1 6 c の形状であれば、 吸着パッ ド 1 6 は、 横方向に位置ずれする こ となく 、 かつ小 さな摩擦抵抗で円滑かつス ムーズに首振り動作でき る。

上記各実施の形態は、 ガラス基板 S をエアー浮上搬送する 場合について説明 したが、 エアー浮上に限らず、 静電浮上、 超音波浮上によ り浮上させたガラス基板 S の搬送にも適用で さ る。

以下、 本発明の他の特徴とする と ころについて説明する。 第 1 の本発明は、 基板の側緣部に沿つて配列された複数の 基板吸着装置によ り 前記基板を吸着保持する基板吸着方法に おいて、 前記各基板吸着装置の う ち前記基板の先端側を突出 高さの大きな第 1 の基板吸着装置を用いて前記基板を吸着保 持して前記基板を水平に矯正 し、 前記第 1 の基板吸着装置で 前記ガラス基板を水平に矯正した状態で突出高さ の小さ な第 2 の基板吸着装置を用いて前記ガラス基板を吸着保持する こ と を特徴とする基板吸着方法である。

第 2 の本発明は、 第 1 の本発明において、 前記第 1 の基板 吸着装置の吸着動作を開始 し、 次に前記第 2 の基板吸着装置 の吸着動作を開始する こ と を特徴とする基板吸着方法である。

第 3 の本発明は、 第 1 の本発明において、 前記第 1 の基板 吸着装置と前記第 2 の基板吸着装置と は、 同時に吸着動作を 開始する こ と を特徴とする基板吸着方法である。

第 4 の本発明は、 基板の側縁部に沿つて配列された複数の 基板吸着装置によ り 前記基板を吸着保持する基板吸着方法に おいて、 前記基板の反 り の小さな部分に対応する前記基板吸 着装置から前記基板の反り の大きな部分に対応する前記基板 吸着装置に向けて吸着動作を開始する こ とを特徴とする基板吸 着方法である。

第 5 の本発明は、 基板の側縁部に沿つて配列された複数の 基板吸着装置によ 前記基板を吸着保持する基板吸着方法に おいて、 前記基板吸着装置の 1 つ又は複数のプロ ック毎に各 エアー真空引き系統を設け、 前記各エアー真空引き系統を同 時に動作させ前記基板の反 り の小さな部分から大きな部分に 向けて前記各基板吸着装置を前記基板に対して順次吸着させ て前記基板の反り を矯正する こ と を特徴とする基板吸着方法 である。

産業上の利用可能性 本発明は、 例えば L C D製造ライ ンにおける液晶ディ スプ レイ のガラス基板の搬送、 半導体製造ライ ンにおける半導体 ウェハや各種部材の搬送の分野にも適用でき る。

Claims

請 求 の 範 囲

1 . 中空状に形成され、 一端側に開口部を有するハウジング と、

前記ハウジングの前記中空形状内に設け られ、 かつエアー を吸引するエアー引 き通路が設け られた吸着パッ ド支持部材 と、

前記ハウジングの前記開口部から突出 した状態で前記吸着 パッ ド支持部材上に載置され、 前記ハウジングの前記開 口部 に少なく と も 3 点で点接触して首振り 可能で、 前記エアー引 き通路と気密に連通するエアー吸引孔が設け られた吸着パッ と、

前記吸着パッ ドを前記ハウジングの前記開 口部に保持する 吸着パッ ド保持手段と、

を具備したこ と を特徴とする基板吸着装置。

2 . 前記吸着パッ ドは、 平面状に形成された吸着面を有する 吸着部と、 前記吸着部に一体的に形成された接触面部と を有 し、 前記接触面部は、 前記ハウジングの前記開口部の内壁面 に対して前記少なく と も 3 点で点接触する こ と を特徴とする 請求項 1 記載の基板吸着装置。

3 . 前記接触面部と前記内壁面と の各点接触する箇所は、 前 記接触面部における同一周方向上である こ と を特徴とする請 求項 2記載の基板吸着装置。

4 . 前記接触面部は、 前記ハウ ジングの前記開 口部の前記内 壁面に対して線接触する こ と を特徴とする請求項 2記載の基 板吸着装置。

5 . 前記接触面部は、 円筒状で、 上下方向の中間部に最大径 を有する半球面状に形成されたこ と を特徴とする請求項 2記 载の基板吸着装置。

6 . 前記吸着部は、 前記ハウジングの前記開 口部の外径と 同 一径に形成されたこ と を特徴とする請求項 2記載の基板吸着 装置。

7 . 前記吸着部は、 前記ハウジングの前記開 口部の外径よ り も大きな外径に形成されたこ と を特徴とする請求項 2記載の 基板吸着装置。

8 . 前記吸着パ ッ ドの前記吸着部及び前記接触面部は、 弾性 部材によ り 形成されたこ と を特徴とする請求項 2記載の基板 吸着装置。

9 . 前記ハ ウジングの前記開口部の端部は、 前記吸着パッ ド の裏面と 当接し、 前記ハウジングの前記中空形状内への前記 吸着パッ ドの下降を制限するス ト ツパとなる こ と を特徴とす る請求項 1 記載の基板吸着装置。

1 0 . 前記ハウジングの前記開口部の前記端部は、 前記吸着 パッ ドの前記裏面に当接し、 前記吸着パッ ドの前記吸着部の 傾き を基準平面に矯正する こ と を特徴とする請求項 8記載の 基板吸着装置。

1 1 . 前記吸着パッ ド支持部材は、 弾性部材によ り 形成され たチューブ部材によ り なる こ と を特徴とする請求項 2記載の 基板吸着装置。

1 2 . 前記チューブ部材は、 前記吸着パッ ドと密着する ジャ バラ状の屈曲部が上部に形成されたこ と を特徴とする請求項 1 1記載の基板吸着装置。

1 3 . 前記吸着パッ ド保持手段は、 前記吸着パッ ドに設け ら れた第 1 の支持板と 、 前記ハウジングの他端側に設け られた 第 2 の支持板と、 前記第 1 の支持板と前記第 2 の支持板との 間を前記吸着パッ ド支持部材内を通 して連結する連結部材と を有する こ と を特徴とする請求項 1記載の基板吸着装置。

1 4 . 前記連結部材は、 線材である こ と を特徴とする請求項 1 3記載の基板吸着装置。

1 5 . 前記連結部材は、 捩れ剛性を有する ワイヤーであるこ と を特徴とする請求項 1 3記載の基板吸着装置。

1 6 . 前記ハウジングには、 前記吸着パッ ド、 前記吸着パッ ド支持部材及ぴ前記吸着パッ ド保持手段を一体に前記ハウジ ングの前記中空形状内に移動させて、 前記ハ ウジングの前記 開口部の端部に対する前記吸着パッ ドの高さ位置を調整する 吸着パッ ド高さ調整機構が設け られたこ と を特徴とする請求 項 1 記載の基板吸着装置。

1 7 . 前記吸着パッ ドは、 前記ハウジングの前記開口部の前 記内壁面に少なく と も 3点で点接触する接触面部を有する球 状のパッ ド本体と、 前記パッ ド本体に形成された平面状の吸 着面と を有し、 前記吸着面には前記エアー吸引孔が設け られ、 前記吸着パッ ド支持部材によって支持される こ と を特徴とす る請求項 1記載の基板吸着装置。

1 8 . 前記吸着パッ ドは、 前記ハ ウジングの前記開口部の端 部から突出 した状態で保持される こ と を特徴とする請求項 1 7記載の基板吸着装置。

1 9 . 前記接触面部と前記内壁面との各点接触する箇所は、 前記接触面部における同一周方向上である こ と を特徴とする 請求項 1 7記載の基板吸着装置。

2 0 . 前記接触面部と前記ハウジングの前記開 口部の内壁面 と は、 線接触する こ と を特徴とする請求項 1 7記載の基板吸 着装置。

2 1 . 前記接触面部と前記ハウジングの前記開 口部の内壁面 とは、 精密すき まばめ構造を有する こ と を特徴とする請求項 1 7記載の基板吸着装置。

2 2 . 前記ハウジングの前記開口部は、 前記吸着パッ トの前 記接触面部の形状に倣って形成されたこ と を特徴とする請求 項 1 7記載の基板吸着装置。

2 3 . 前記ハウジングの前記開 口部は、 底部に設け られた平 面部と、 前記平面部の外周縁に設け られたテーパ部と を有し、 前記平面部は、 前記吸着パッ ト の底部が当接して前記吸着パ ッ トの傾き角を規制する こ と を特徴とする請求項 1 7記載の 基板吸着装置。

2 4 . 前記吸着パッ ド保持手段は、 前記ハウジングの前記開 口部の端部に設け られ、 前記吸着パッ ドを前記ハウジングの 前記開口部内に保持する係止部を有する こ と を特徴とする請 求項 1 7記載の基板吸着装置。

2 5 . 前記係止部は、 前記開口部の端部に設け られ、 前記開 口部を内側に絞った形状に形成されたこ と を特徴とする請求 項 2 4記載の基板吸着装置。