WO2004069893A1 - エポキシ樹脂、その製造方法、それを用いたエポキシ樹脂組成物及び硬化物 - Google Patents

エポキシ樹脂、その製造方法、それを用いたエポキシ樹脂組成物及び硬化物 Download PDF

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WO2004069893A1
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epoxy resin
epichlorohydrin
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metal hydroxide
reacting
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PCT/JP2004/000994
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Masashi Kaji
Kohichiro Ohgami
Kazuhiko Nakahara
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Nippon Steel Chemical Co., Ltd.
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/02Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule
    • C08G59/04Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof
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    • C08G59/06Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols
    • C08G59/063Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols with epihalohydrins

Definitions

  • Epoxy resin method for producing the same, epoxy resin composition and cured product using the same Technical field
  • the present invention is excellent in handling properties such as low viscosity, curing reactivity and blocking resistance, and low moisture absorption.
  • the present invention relates to a production method, an epoxy resin composition using the same, and a cured product thereof.
  • Background Technology Epoxy resins have been used in a wide range of industrial applications, but their required performance has been increasingly sophisticated in recent years. For example, a typical field of resin compositions containing epoxy resin as a main component is a semiconductor encapsulating material. In recent years, as the integration degree of semiconductor elements has been improved, the package size has been increased toward a larger area and thinner. At the same time, the mounting method is shifting to surface mounting, and the development of materials with better solder heat resistance is desired.
  • low-viscosity epoxy resins include bisphenol A-type epoxy resin and bisphenol F-type epoxy resin.
  • these epoxy resins are usually liquid at room temperature, and it is difficult to prepare a resin composition for transfer molding. Therefore, a crystalline epoxy resin having a melting point at room temperature has been proposed, and a biphenyl-based epoxy resin (Japanese Patent Publication No. 4-73665) and a diphenylmethane-based epoxy resin (JP-A-6-34) No. 5850).
  • epoxy resins have excellent low-viscosity properties and excellent characteristics such as increasing the filling ratio of fillers, but on the other hand, due to their low viscosity, the melting of powder in the epoxy resin composition state There was a problem in the anti-blocking property due to easy adhesion. Also, the obtained cured product was not sufficient in terms of low moisture absorption and adhesion.
  • an object of the present invention is to provide an epoxy resin, an epoxy resin composition and an epoxy resin composition which are excellent in curability, low viscosity and blocking resistance, and provide a cured product excellent in low moisture absorption and heat resistance. It is to provide a cured product.
  • the epoxy resin of the present invention is synthesized by reacting 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfides with epichlorohydrin.
  • a resin is synthesized, especially when a substituent such as a tertiary butyl group exists at a position adjacent to the hydroxyl group, It was found that the obstruction hindered the progress of the epoxidation reaction, and increased the amount of the remaining monoepoxy compound in which one end group was not epoxidized in the product.
  • the present inventors have found that the monoepoxy compound has a great influence on the curability, blocking resistance, heat resistance and moisture resistance of the cured product as an epoxy resin.
  • the present invention relates to an epoxy resin obtained by reacting 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfide with epichlorohydrin, comprising 4,4′_diglycidyloxydiphenyl sulfide as a main component, It is a crystalline epoxy resin with a monoepoxy content of 2 wt% or less.
  • the present invention also relates to an epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent, wherein the above-mentioned crystalline epoxy resin is used as part or all of an epoxy resin component. Further, the present invention is a cured product obtained by curing the above epoxy resin composition.
  • 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfides include 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 2,2'-dimethyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, , 2 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, but preferably 1,2'-dimethyl-5,5'-ditert-butyl- 4,4'-dihydrid xidiphenyl sulfide is exemplified.
  • 4,4'-diglycidyloxydiphenyl sulfides include 2,2'-dimethyl-5,5'-diquinone-butyl-4,4'-diglycidyloxydiphenyl sulfide Is exemplified.
  • the epoxy resin of the present invention includes 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfides (hereinafter sometimes abbreviated as dihydroxy compounds) and epichlorohydridyl. The content of monoepoxy is less than 2 wt%.
  • the monoepoxy compound refers to a compound in which one end group is not epoxidized.
  • the main component is a chlorohydrin derivative represented by the following formula (d) formed by further adding epichlorohydrin to a hydroxyl group of the chlorohydrin derivative.
  • the monoepoxy compound referred to in the present invention means the sum of the above 1) to 4).
  • the following formula explains the structure of the terminal group, and does not explain the epoxy resin of the present invention.
  • the epoxy resin of the present invention has a content of these monoepoxy compounds of 2 wt% or less. And preferably 1.5 wt% or less, more preferably 1.0 wt% or less.
  • these compounds remain, not only does the curability and heat resistance decrease, but also the moisture resistance of the cured product decreases, and as a result, the reliability of the semiconductor encapsulant decreases.
  • the physical properties are not substantially reduced, it is not always necessary to set the content to 0.1 wt% or less.
  • the epoxy resin of the present invention is a crystalline solid at room temperature. However, when the amount of the monoepoxy compound remaining in the epoxy resin of the present invention increases, the melting point of the epoxy resin decreases, and the crystallinity of the epoxy resin decreases. The quality of the crystallinity of the epoxy resin is judged by the endothermic amount and the endothermic peak temperature associated with the melting of the crystal, and the preferred endothermic amount and endothermic peak temperature differ depending on the structure of the target epoxy resin.
  • the endothermic amount accompanying melting of the crystal is in the range of 68 to 8 OJ / g. And more preferably in the range of 70 to 80 J / g.
  • the endothermic peak temperature is in the range from 118 ° C to 124, more preferably in the range from 119 ° C to 123.
  • the half width of the endothermic peak is preferably 7.5 or less, more preferably 7.0 ° C or less. Outside these ranges, the crystallinity of the epoxy resin will be low, and the blocking resistance of the epoxy resin composition will be low.
  • the endothermic amount referred to here was measured from a normal temperature to 180 under a nitrogen gas flow under a condition of a temperature rise rate of 10 Z using a sample weighed approximately 10 mg by a differential thermal analyzer. It is the calorific value calculated by subtracting the calorific value based on the progress of crystallization in the process of raising the temperature from the endothermic amount accompanying the melting of the crystal.
  • the half width of the endothermic peak is represented by the peak width at the midpoint between the baseline of the endothermic curve at the endothermic peak based on the melting of the crystal and the endothermic peak.
  • Epoxy resins are generally synthesized by reacting the corresponding bisphenol with an excess of epichlorohydrin.
  • the epoxy resin of the present invention is an epoxy resin obtained by reacting 44'-dihydroxy-diphenyl sulfides with epichlorohydrin, and has the following formula (1)
  • R and R 4 independently represent hydrogen or an alkyl group having 16 carbon atoms, and n represents the number of 0 10). % Or more and the content of the monoepoxy compound is 2 wt% or less.
  • This epoxy resin has the following formula (2)
  • R and R 4 independently represent hydrogen or an alkyl group having 16 carbon atoms
  • the resulting di (hydroxyphenyl) sulfide and epichlorohydrin are reacted in the presence of an alkali metal hydroxide to obtain a crude epoxy resin. It is obtained by reacting with a metal hydroxide.
  • R and R 4 independently represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms
  • R or R 2 is preferably a bulky group such as an isopropyl group and a t-butyl group. No. However, it is not preferred that both and R 2 are t-butyl groups. More preferably, R 3 and R 4 are H or a methyl group.
  • a preferred bisphenol compound is 2,2'-dimethyl-5,5'-dibutyl-4,4'-dihydridoxidiphenyl sulfide.
  • the epoxy resin of the present invention can be synthesized by using such a histphenol compound and reacting it with epichlorohydrin.
  • the method for producing the epoxy resin of the present invention is not particularly limited, but the bisphenol compound to be used has a sterically bulky monosaccharide group adjacent to the hydroxyl group. However, since the epoxidation reaction tends to be suppressed, it is difficult to obtain an epoxy resin having excellent crystallinity by applying the same synthesis conditions as ordinary epoxy resins.
  • an epoxy resin is usually synthesized by dissolving a bisphenol compound in an excess of epichlorohydrin and then reacting it in the presence of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide (primary).
  • an epoxy resin having a group such as a butyl group is obtained, it is then contacted with an alkali metal hydroxide to form a ring-closing reaction (secondary reaction) of the remaining chlorohydrin compound. Is preferably performed.
  • the epichlorohydrin used in the primary reaction is a phenylphenol compound It must be used in excess with respect to the amount of the phenolic hydroxyl group. Usually, it is at least 2 mol, preferably at least 2.5 mol, more preferably at least 5 mol, per mol of the phenolic hydroxyl group. If the amount is less than this, the production amount of the multimeric epoxy increases, and the crystallinity of the epoxy resin decreases.
  • the amount of the alkali metal hydroxide to be used is usually in the range of 0.80 to 1.10 mol per mol of the hydroxyl group of the bisphenol compound. And preferably in the range of 0.86 to 1.0 mol. Furthermore, the range of 0.88 to 0.99 mol is more preferable.
  • the reaction temperature is usually from 20 to 120 ° C. As the reaction temperature is lower, a high-purity epoxy resin having a lower chlorine content can be obtained, but the reaction time is longer, which is not industrially preferable. Thus, the preferred reaction temperature is between 40 and 100, more preferably between 40 and 75.
  • generated water is preferably removed out of the system, and can be removed out of the system by azeotropic distillation with epichlorohydrin under reduced pressure. It is preferable to keep the amount of epichlorohydrin in the system as constant as possible, and the distilled epichlorohydrin is returned to the system after separation from water.
  • the reaction time is usually 1 to 10 hours.
  • a solvent can be used.
  • the solvent include aliphatic hydrocarbon solvents, aromatic solvents, alcohols, ethers, ketones and the like.
  • a non-protonic solvent is suitably selected from the viewpoint of increasing the purity of the epoxy resin, and examples thereof include dimethyl sulfoxide and diethylene dalicol dimethyl ether.
  • the amount of the solvent added is 10 to 300 wt% based on the bisphenol compound. A range is preferred. If the amount is less than this, the effect of addition is small, and if it is more than this, volumetric efficiency decreases, which is not economically preferable.
  • a phase transfer catalyst such as a quaternary ammonium salt may be used.
  • quaternary ammonium salts examples include tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, benzyltriethylammonium chloride, and the like.
  • the range is preferably from 1 to 2.0 wt%. If the amount is less than this, the effect of adding a quaternary ammonium salt is small, and if it is more than this, the amount of hardly hydrolyzable chlorine is increased, making it difficult to achieve high purity.
  • a secondary reaction is performed in which the crude epoxy resin is reacted with the alkali metal hydroxide to cause a ring-closing reaction of the remaining chlorohydrin compound.
  • This secondary reaction can be performed by dissolving the epoxy resin obtained in the primary reaction in a solvent and bringing it into contact with an alkali metal hydroxide.
  • the solvent to be used ketones such as methyl isobutyl ketone, alcohols such as n-butanol, and aromatic solvents such as toluene are selected.
  • the amount of the solvent used is usually in the range of 200 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin.
  • the amount of alkali metal hydroxide used in the reaction It is 1 to 30 times, preferably 1.2 to 10 times, the amount of hydrolyzable chlorine remaining in the oxy resin.
  • the reaction temperature is preferably in the range of 40 to 120 ° C, and the reaction time is preferably in the range of 0.5 to 6 hours.
  • the epoxy resin of the present invention can be obtained by removing salts generated by filtration or washing with water and further removing the solvent from the system by distillation.
  • the obtained epoxy resin tends to be supercooled, so if it is taken out of the reactor and left at room temperature, it will remain as a viscous liquid for a long time.
  • a crystallization method there is a method in which a solvent is used to lower the viscosity to promote crystallization.
  • the solvent in this case, alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, and hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane are preferably used.
  • there is a method of performing crystallization by adding a seed crystal prepared in advance to a liquid epoxy resin.
  • the content of the multimeric epoxy after synthesis is high, the content of the monomer epoxy in which n is 0 in the general formula (1) can be increased by methods such as molecular distillation and recrystallization.
  • a solvent for the recrystallization alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, esters such as ethyl acetate, hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane, and mixtures thereof are preferable.
  • the curing agent used in the resin composition of the present invention all those generally known as curing agents for epoxy resins can be used. For example, dicyandiamide, polyhydric phenols, acid anhydrides, aromatic and aliphatic amines, etc. is there.
  • polyphenols include, for example, a) bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorenebisphenol, 4,4, -biphenol, 2,2'-biphenol, There are divalent phenols such as quinone, quinone, resorcinol, naphthalene diol, etc. b) tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hi) There are trivalent or higher phenols represented by droxyphenyl) ethane, phenol nopolak, o-cresol nopolak, naphthol nopolak, polyvinyl phenol, etc., and c) phenols and naphthols.
  • Examples of the acid anhydrides include fluoric anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrohydrofluoric anhydride, methylhymic anhydride, and methyl anhydride. There are nadic acid and trimellitic anhydride.
  • Amines include 4,4, diaminodiphenylmethane, 4,4 'diaminodiphenylpropane, 4,4, diaminodiphenylsulfone, m-phenylenediamine, p-xylylenediamine and the like.
  • Aromatic amines ethylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine And aliphatic amines such as triethylenetetramine.
  • one or more of these curing agents can be used in combination.
  • a normal epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule may be used in combination with the resin composition of the present invention.
  • Examples include: a) Bivalent phenols such as bisphenol A, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hide-mouth quinone, resorcinol, etc.
  • epoxy resins can be used singly or in combination of two or more.
  • the amount of the epoxy resin according to the present invention is 5 to: L 00 wt%, preferably 30%, in the whole epoxy resin.
  • L 0 wt% more preferably in the range of 50 to 100 ⁇ %.
  • an oligomer or a high molecular compound such as a polyester, a polyamide, a polyimide, a polyether, a polyurethane, a petroleum resin, an indkmalone resin, and a phenoxy resin may be appropriately compounded.
  • the resin composition of the present invention may contain additives such as an inorganic filler, a pigment, a repellent, a thixotropic agent, a coupling agent, and a fluidity improver.
  • the inorganic filler for example, spherical or crushed powders such as molten silica powder, crystal powder, alumina powder, glass powder, or my powder, talc, calcium carbonate, alumina, hydrated alumina, etc.
  • a pigment are organic or inorganic extenders, flaky pigments and the like.
  • the thixotropic agent include a silicone type, a castor oil type, an aliphatic amide wax, a polyethylene oxide wax, and an organic bentonite type.
  • a known curing accelerator can be used in the resin composition of the present invention, if necessary.
  • examples include amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids, and the like.
  • the amount of addition is usually in the range of 0.2 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin.
  • the resin composition of the present invention may contain a releasing agent such as carnauba wax and OPEX, a force coupling agent such as r-dalicidoxypropyltrimethoxysilane, a coloring agent such as carbon black, and the like.
  • Flame retardants such as antimony oxide, low stress agents such as silicone oil, and lubricants such as calcium stearate can be used.
  • the epoxy resin of the present invention is suitably used for semiconductor encapsulation.
  • a high-purity epoxy resin to be used in the present invention is preferably used, and the amount of hydrolyzable chlorine is preferably at most 1,000 ppm.
  • the amount of the inorganic filler used in the epoxy resin composition used for this application is usually 75 wt% or more, but from the viewpoint of low moisture absorption and high solder heat resistance, it should be 80 wt% or more. Is preferred.
  • the epoxy resin cured product of the present invention can be obtained by heating the above epoxy resin composition, which is excellent in low moisture absorption, high solder heat resistance and the like.
  • a method for obtaining a cured product transfer molding, compression molding, casting, and the like are suitably used, and the temperature at that time is usually in the range of 140 to 230 ° C. It is. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • the present invention will be described more specifically with reference to examples.
  • the measurement of hydrolyzable chlorine in the following examples was performed according to the following method.
  • the purity analysis of the epoxy resin was performed by GPC measurement.
  • the measurement conditions were as follows: an apparatus: HLC-82A (manufactured by Tohso-I) and a force ram; three TSK-GEL2000 and one TSK-GEL4000 (both from Tohso-I); a solvent; Flow rate: 1 ml / min, Temperature: 38 ° C, Detector: RI.
  • HLC-82A manufactured by Tohso-I
  • TSK-GEL2000 and one TSK-GEL4000 both from Tohso-I
  • a solvent Flow rate: 1 ml / min
  • Temperature 38 ° C
  • Detector RI
  • Example 1 100 g of the epoxy resin obtained in Example 1 was recrystallized from methanol to obtain 88 g of a white crystalline epoxy resin (Epoxy resin B).
  • the epoxy equivalent was 236, the hydrolyzable chlorine was 90 ppm, the purity of DGS in the resin was 98.2 wt%, and the content of dimer epoxy was 1.5 wt%.
  • the content of the monoepoxy compound was 0.3 wt%.
  • the peak temperature of the melting point of the obtained crystal in DSC measurement was 122.2 ° C, the endothermic amount was 77.2 J / g, and the half width of the endothermic peak was 5.6 ° C.
  • Example 3 100 g of the epoxy resin obtained in Example 1 was recrystallized from methanol to obtain 88 g of a white crystalline epoxy resin (Epoxy resin B).
  • the epoxy equivalent was 236, the hydrolyzable chlorine was 90 ppm, the purity of DGS in the resin was 98.2 wt%, and the
  • Example 2 240 g of DHS, 240 g of DEGDME, 900 g of epichlorohydrin, and 107.Og of a 48% aqueous sodium hydroxide solution were reacted in the same manner as in Example 1 to obtain 298 g of a liquid crude epoxy resin.
  • Epoxy equivalent was 253 and hydrolyzable chlorine was 4600 ⁇ 1.
  • the DGS purity in the resin was 88.5 wt%, and the dimer epoxy content was 8.4 wt%.
  • the content of the epoxy resin was 3.1%.
  • 100 g of the obtained crude epoxy resin was dissolved in 800 g of MIBK, and at 80, a 10% -NaOH aqueous solution and 10.3 g were added and reacted for 2 hours.
  • the mixture was filtered and washed with water, and MIBK was distilled off to obtain 94 g of a single yellow liquid epoxy resin.
  • the epoxy equivalent of the obtained epoxy resin is 242
  • the hydrolyzable chlorine is 240PP1H
  • the purity of DGS in the resin is 92.6 wt%
  • the content of the dimer of the bisphenol compound is 6. 2 wt%.
  • the content of the monoepoxy compound was 1.4 wt%.
  • Example 2 The same reaction as in Example 1 was carried out using 120 g of DHS, 240 g of DEGME, 340 g of epichlorohydrin, and 52.Og of a 48% aqueous sodium hydroxide solution to obtain 149 g of a liquid crude epoxy resin.
  • Epoxy equivalent was 255 and hydrolysable chlorine was 5300 ppm.
  • the purity of DGS in the resin was 87.6 wt%, and the content of dimer epoxy was 8.6 wt%.
  • the content of the monoepoxy compound was 3.8 wt%.
  • Example 2 The crude epoxy resin obtained in Example 1 was allowed to stand at room temperature for 3 days to precipitate crystals to obtain a solid epoxy resin (Epoxy resin E).
  • Epoxy resin E The peak temperature of the melting point of the obtained crystal in DSC measurement was 119.1 ° C, the endothermic amount was 53.2 j / g, and the half-width of the endothermic peak was 7.4 ° C. Comparative Example 2
  • Example 3 The crude epoxy resin obtained in Example 3 was allowed to stand at room temperature for 3 days to precipitate crystals to obtain a solid epoxy resin (Epoxy resin F).
  • the peak temperature of the melting point in the DSC measurement of the obtained crystal was 118.6 ° C
  • the endothermic amount was 61.6 j / g
  • the half width of the endothermic peak was 7.2 ° C. Comparative Example 3
  • Epoxy equivalent was 244 and hydrolyzable chlorine was 450 ppm.
  • the DGS purity in the resin was 89.6 wt%, and the dimer epoxy content was 7.6 wt%. Also, the content of the monoepoxy compound is 2.8 wt%.
  • Epoxy resins A to G obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 were used as epoxy resin components, phenol nopolak resin (softening point 71 ° C, OH equivalent 107) as a curing agent, and a filler. Crushed silica (average particle size, 16 xm) or spherical silica force (average particle size, 22 / xm), triphenylphosphine as a hardening accelerator, glycidoxypropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent, And other additives shown in Table 1 in the proportions (parts by weight) shown in Table 1, and then heated and kneaded to obtain an epoxy resin composition.
  • This epoxy resin composition was molded at 175, and subjected to stoichiometry at 175 ° C. for 12 hours to obtain a cured product test piece, which was then subjected to various physical property measurements.
  • the glass transition point was determined with a thermomechanical measuring device at a heating rate of 10 under the same conditions.
  • the flexural strength and flexural modulus were measured at two levels: normal temperature (25) and high temperature (260 ° C).
  • the adhesive strength was evaluated by the shear strength after compression molding at 175 ° C between two substrates with a thickness of 0.5 band and performing 175-hour post-storage at 175.
  • the water absorption is the value obtained when a disk having a diameter of 50 ⁇ and a thickness of 3 mm is formed using the epoxy resin composition, and after absorbing the boss for 24 hours and 100 hours at 85 ° C and 85% RH.
  • the element failure rate was determined by using a package obtained by subjecting a test chip having aluminum wiring to a copper frame to transfer molding at 175 ° C for 2 minutes, and then post-curing at 175 ° C for 12 hours.
  • 85 ° C, 85% RH After absorbing moisture for the specified time shown in Table 2 and further immersing in a solder bath at 260 ° C for 10 seconds, a PCT test was performed at 121 ° C and 2 atm, and the aluminum wiring of the package used for the test was broken.
  • the weight of the agglomerated composition was ⁇ 1 ratio.
  • the storage stability was defined as the retention of the finely ground epoxy resin composition relative to the initial value of the spiral flow after standing at 25 ° C for 7 days (leaving for 0 days).
  • Example 5 Example 6 Example 7 Example 8 Example 4 Example 5 Example 6
  • the epoxy resin of the present invention has excellent curability and high crystallinity. Because of this, it has excellent blocking resistance during storage when used as an epoxy resin composition. Furthermore, since the cured product has high heat resistance, moisture resistance, and high adhesiveness, when applied to a resin composition for semiconductor encapsulation, the reliability of the package obtained by encapsulating the semiconductor element is significantly increased. improves.

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Abstract

本発明は、硬化性に優れ、高い結晶性を有するエポキシ樹脂と、耐ブロッキング性に優れるエポキシ樹脂組成物と、耐熱性、耐湿性、接着性に優れるエポキシ樹脂硬化物に関する。このエポキシ樹脂は、4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルフィド類とエピクロロヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂であり、繰返数n=0体の含有率が90wt%以上であり、かつモノエポキシ体の含有率が2wt%以下であるものであり、例えば、2,2'-ジメチル-5,5'-ジターシャリーブチル-4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルフィドと過剰のエピクロロヒドリンをアルカリ金属水酸化物の存在下に反応させることにより得られる。

Description

明 細 書 エポキシ樹脂、 その製造方法、 それを用いたエポキシ樹脂組成物及び硬化 物 技 術 分 野 本発明は、 低粘度性、 硬化反応性及び耐ブロッキング性等の取り扱い性 に優れるとともに、 低吸湿性及び金属材料との密着性等に優れた硬化物を 与える半導体素子に代表される電気 · 電子部品等の封止、 粉体塗料、 積層 材料、 複合材料等に有用な結晶状エポキシ樹脂、 その製造法、 それを用い たエポキシ樹脂組成物及びその硬化物に関するものである。 背 景 技 術 従来より、 エポキシ樹脂は工業的に幅広い用途で使用されてきているが、 その要求性能は近年ますます高度化している。 例えば、 エポキシ樹脂を主 剤とする樹脂組成物の代表的分野に半導体封止材料があるが、 近年、 半導 体素子の集積度の向上に伴い、 パッケージサイズが大面積化、 薄型化に向 かうとともに、 実装方式も表面実装化への移行が進展しており、 より半田 耐熱性に優れた材料の開発が望まれている。
上記問題点を克服するためフィラーの高充填化が強く指向されており、 かつ低粘度なエポキシ樹脂が望まれている。 低粘度エポキシ樹脂としては、 ビスフエノール A型エポキシ樹脂、 ビスフエノール F型エポキシ樹脂等が 一般に広く知られているが、 これらのエポキシ樹脂は通常、 常温で液状で あり、 トランスファ一成形用の樹脂組成物とすることは困難である。 そこ で、 常温で融点を有する結晶性のエポキシ樹脂が提案され、 ビフエ二ル系 エポキシ樹脂 (特公平 4一 7 3 6 5号公報) 、 ジフエ二ルメタン系ェポキ シ樹脂 (特開平 6— 3 4 5 8 5 0号公報) が提案されている。 これらのェ ポキシ樹脂は低粘度性に優れており、 フィラーの高充填率化等に優れた特 性があるが、 反面、 低粘度であるためにエポキシ樹脂組成物の状態での粉 体の融着が起こり易く、 耐ブロッキング性に問題があった。 また、 得られ た硬化物としても低吸湿性、 密着性の面で十分ではなかった。
耐ブロッキング性、 低吸湿性及び金属材料との密着性向上の観点から、 特開平 6 - 1 4 5 3 0 0号公報には、 ダリシジルエーテル基の隣接位に夕 —シャリ一ブチル基を有するジフエニルスルフィ ド構造を有するエポキシ 樹脂が提案されているが、 硬化性、 低粘度性、 耐ブロッキング性及び耐熱 性の点で十分ではなかった。 発 明 の 開 示 従って、 本発明の目的は、 硬化性、 低粘度性及び耐ブロッキング性に優 れるとともに、 低吸湿性及び耐熱性に優れた硬化物を与えるエポキシ樹脂、 エポキシ樹脂組成物及びその硬化物を提供することにある。
本発明のエポキシ樹脂は、 4, 4' -ジヒ ドロキシジフエニルスルフィ ド類と ェピクロロヒドリンを反応させることにより合成されるが、 本発明者らの 検討の結果、 これらの原料からエポキシ樹脂を合成した場合、 特に水酸基 に隣接した位置にターシャリーブチル基等の置換基が存在するとその立体 障害により、 エポキシ化反応の進行が阻害され、 生成物中に一方の末端基 がエポキシ化されていないモノエポキシ体の残存量が多くなることがわか つた。 更に詳細な検討の結果、 モノエポキシ体が、 エポキシ樹脂としての 硬化性、 耐ブロッキング性及び硬化物の耐熱性、 耐湿性に大きく影響して いることを見出し本発明に至った。 本発明は 4, 4' -ジヒドロキシジフエニルスルフィ ド類とェピクロロヒ ド リンを反応させて得られるエポキシ樹脂であり、 4, 4'_ジグリシジルォキシ ジフエニルスルフィ ド類を主成分とし、 モノエポキシ体の含有率が 2 wt% 以下である結晶状のエポキシ樹脂である。
また、 本発明は、 エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物 において、 エポキシ樹脂成分の一部又は全部として上記結晶状のエポキシ 樹脂を用いたエポキシ樹脂組成物である。 更に本発明は、 上記エポキシ樹 脂組成物を硬化してなる硬化物である。 ここで、 4, 4'-ジヒドロキシジフエ ニルスルフィ ド類としては、 4, 4' -ジヒ ドロキシジフエニルスルフィ ド、 2, 2'-ジメチル- 4, 4'-ジヒドロキシジフエニルスルフィ ド、 2, 2' , 5, 5'-テト ラメチル- 4, 4'-ジヒ ドロキシジフエニルスルフィ ドが例示されるが、 好ま しくは、 1, 2'-ジメチル- 5, 5'-ジターシャリ一プチル- 4, 4'-ジヒド口キシジ フエニルスルフィ ドが例示される。 また、 4, 4' -ジグリシジルォキシジフエ ニルスルフィ ド類としては、 2, 2'-ジメチル- 5, 5'-ジ夕一シャ リーブチル -4, 4' -ジグリシジルォキシジフェニルスルフィ ドが例示される。 本発明のエポキシ樹脂は、 4, 4'-ジヒ ドロキシジフエニルスルフイ ド類 (以下、 ジヒ ドロキシ化合物と略称することがある) とェピクロルヒ ドリ ンを反応させて得られるが、 モノエポキシ体の含有率が 2 w t %以下である。 ここで、 モノエポキシ体とは、 片方の末端基がエポキシ化されていない化 合物を指しているが、 例えば、 1)ジヒドロキシ化合物の一方のフエノール 性水酸基にェピクロロヒ ドリンが付加していない化合物、 2)下式 ( a ) で 表されるェピクロロヒドリンが付加したクロロヒ ドリン体、 3)下式の ( c ) で表されるクロロヒドリン体の塩素が加水分解されたジオール体、 4)更に はクロロヒドリ ン体の水酸基に更にェピクロロヒ ドリンが付加して生成し た下式の( d )で表されるクロロヒドリン体が主な成分として挙げられる。 そして、 他の構造のモノエポキシ体は生成したとしても微量で、 無視でき るので、 本発明でいうモノエポキシ体とは、 上記 1)〜4)の合計をいう。 な お、 下式は末端基の構造を説明するものであり、 本発明のエポキシ樹脂を 説明するものではないと理解される。
OH CI o
Figure imgf000005_0001
(a) ( )
Figure imgf000005_0002
(d) 本発明のエポキシ樹脂は、 これらモノエポキシ体の含有率が 2 w t %以下 であり、 好ましくは 1 . 5 wt %以下、 更に好ましくは 1 . O w t %以下であ る。 これらの化合物が残存すると、 硬化性及び耐熱性の低下を招くだけで なく、 硬化物の耐湿性低下を招き、 その結果として半導体封止材とした場 合の'信頼性を低下させる。 しかし、 物性の低下が実質的に見られないので 0 . 1 wt %以下にする必要は必ずしもない。
本発明のエポキシ樹脂は、 常温固形の結晶状固体であるが、 本発明のェ ポキシ樹脂中におけるモノエポキシ体の残存量が多くなると、 融点降下を 起こすとともに、 エポキシ樹脂の結晶性を低下させる。 エポキシ樹脂の結 晶性の良否は、 結晶の融解に伴う吸熱量、 吸熱ピーク温度等により判断さ れ、 好ましい吸熱量、 吸熱ピーク温度は、 対象となるエポキシ樹脂の構造 により異なるが、 例えば、 2, 2' -ジメチル- 5, 5 ' -ジターシャ リーブチル - 4, 4' -ジグリシジルォキシジフエニルスルフイ ドの場合、 結晶の融解に伴 う吸熱量は、 6 8〜 8 O J/ gの範囲であり、 更に好ましくは 7 0〜 8 0 J/ gの範囲である。 吸熱ピーク温度は、 1 1 8 °Cから 1 2 4での範囲の中に あり、 更に好ましくは 1 1 9 °Cから 1 2 3での範囲の中にある。 また、 好 ましい吸熱ピークの半値幅は 7 . 5 以下であり、 より好ましくは 7 . 0 °C 以下である。 これらの範囲以外では、 エポキシ樹脂としての結晶化度が低 くなり、 エポキシ樹脂組成物としての耐ブロッキング性が低下する。 ここ でいう吸熱量は、示差熱分析計により、約 10m gを精秤した試料を用いて、 窒素気流下、 昇温速度 1 0 Z分の条件で常温から 1 8 0でまで測定し、 その間の結晶の融解に伴う吸熱量から、 昇温の過程で結晶化が進行するこ とに基づく発熱量を減じることにより計算される熱量を指す。 また、 吸熱 ピークの半値幅は、 結晶の融解に基づく吸熱ピークにおける吸熱曲線のベ ースラインと吸熱ピークの中間点におけるピーク幅で表すものである。 エポキシ樹脂は、 一般的に対応するビスフェノール体と過剰のェピクロ ロヒ ドリンを反応させることにより合成されるが、 その際に、 ビスフエノ —ルの両末端がエポキシ化された化合物 (単量体エポキシ) の他に、 生成 したエポキシ化合物が更にビスフェノール体と反応することにより生成す る.ことを繰り返すことにより、 ビスフエノールの多量体エポキシ化合物(多 量体エポキシ)が副生する。エポキシ樹脂の結晶化度を高くするためには、 単量体エポキシの含有率が高いほど良く、 通常は 8 8 wt%以上、 好ましく は 9 0 wt%以上、 更に好ましくは 9 2 wt%以上である。 本発明のエポキシ樹脂は、 4 4' -ジヒ ドロキシ-ジフエニルスルフィ ド類 とェピクロロヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂であり、 下記式 ( 1 )
Figure imgf000007_0001
(但し、 R, R4は、 独立に水素又は炭素数 1 6のアルキル基を示し、 nは 0 1 0の数を示す)で表される化合物において n=0体の含有率が 9 0 wt% 以上であり かつモノエポキシ体の含有率が 2 wt%以下である。
このエポキシ樹脂は、 下記式 ( 2 )
Figure imgf000007_0002
(但し、 R, R4は、 独立に水素又は炭素数 1 6のアルキル基を示す) で表 されるジ (ヒ ドロキシフエニル) スルフイ ド類とェピクロロヒドリンをァ ルカリ金属水酸化物の存在下に反応させて粗製のエポキシ樹脂を得た後、 再度、 得られた粗製エポキシ樹脂をアル力リ金属水酸化物と反応させるこ とにより得られる。 '
ここで、 R,〜R4は独立に水素又は炭素数 1〜 6のアルキル基を示すが、 R, 又は R2は、 イソプロピル基、 t -ブチル基等の嵩高い基であることが好まし い。 但し、 と R2の両方が t -ブチル基であることは好ましくない。 また、 R3と R4が H又はメチル基であることがより好ましい。
好ましいビスフエノール化合物として 2, 2 ' -ジメチル- 5, 5 ' -ジ夕ーシャ リ一ブチル -4, 4' -ジヒド口キシジフエニルスルフィ ドがある。 このような ヒスフエノール化合物を使用し、 これとェピクロロヒ ドリンを反応させる ことにより本発明のエポキシ樹脂を合成することができる。 本発明のェポ キシ樹脂の製造方法としては、 特に限定するものではないが、 用いるビス フェノール化合物は、 水酸基の隣接位に立体的に嵩高い夕一シャリ一プチ ル基を有している場合は、 エポキシ化反応が抑制される傾向にあることか ら、 通常のエポキシ樹脂と同様の合成条件を適用して、 結晶性に優れたェ ポキシ樹脂を得ることは難しい。 すなわち、 通常、 エポキシ樹脂は、 ビス フエノール化合物を過剰のェピクロルヒ ドリンに溶解した後、 水酸化ナト リウム、 水酸化力リウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に反応させる ことによる合成される (一次反応という) 力^ 夕ーシャリーブチル基のよ うな基を有しているエポキシ樹脂を得る場合には、 その後、 更にアルカリ 金属水酸化物と接触させることにより、 残存したクロロヒドリン体の閉環 反応 (二次反応という) を行うことが好ましい。
一次反応に用いるェピクロロヒドリンは、 ピスフエノ一ル化合物のフェ ノール性水酸基の量に対して過剰に用いる必要があり、 通常、 フエノール 性水酸基 1モルに対して 2モル以上であるが、好ましくは 2. 5モル以上、 更に好ましくは 5モル以上である。 これより少ないと多量体エポキシの生 成量が多くなり、 エポキシ樹脂の結晶性が低下する。 また、 アルカリ金属 水酸化物の使用量は、 ビスフエノール化合物の水酸基 1モルに対して、 通 常 0. 8 0〜 1. 1 0モルの範囲であるが、 本発明においては、 1. 0モ ルを超えないことが望ましく、 0. 8 6〜 1. 0 0モルの範囲が好ましい。 更には、 0. 8 8〜 0. 9 9モルの範囲がより好ましい。 これより、 少な いと残存する塩素量が多くなるため好ましくない。 また、 これより多いと ゲルの生成量が多くなる。 反応温度は、 通常、 2 0〜 1 2 0 °Cである。 反 応温度が低いほど、 塩素含有率の低い高純度なエポキシ樹脂を得ることが できるが、 反応時間が長くなるため工業的には好ましくない。 従って、 好 ましい反応温度は 4 0〜 1 0 0でであり、 更に好ましくは 4 0〜 7 5 の 範囲である。 反応の間、 生成する水は系外に除く ことが好ましく、 減圧下 でェピクロロヒドリンと共沸させることにより系外に除く ことができる。 系内のェピクロロヒ ドリンの量をできるだけ一定に保つことが好ましく、 留出したェピクロロヒドリンは水と分離後、 系内に戻される。反応時間は、 通常、 1〜 1 0時間である。
また、 一次反応の際、 溶媒を用いることができる。 溶媒としては、 脂肪 族炭化水素溶媒、 芳香族溶媒 アルコール類、 エーテル類、 ケトン類等を 挙げることができる。 なかでも、 エポキシ樹脂の高純度化の観点からは、 非プロ トン性の溶媒が好適に選択され、 例えば、 ジメチルスルホキシド、 ジエチレンダリコールジメチルエーテル等を例示することができる。 溶媒 の添加量としては、 ビスフエノール化合物に対して、 1 0〜 3 0 0 wt%の 範囲が好ましい。 これより少ないと添加の効果が小さく、 これより多いと 容積効率が低下し、 経済上好ましくない。 また、 反応の際、 四級アンモニ ゥム塩等の相間移動触媒を用いてもよい。 四級アンモニゥム塩としては、 たとえばテトラメチルアンモニゥムクロライ ド、 テチラプチルアンモニゥ ムクロライ ド、 ベンジルトリェチルアンモニゥムクロライ ド等があり、 そ の添加量としては、 ビスフエノール化合物に対して、 0 . 1〜 2 . 0 wt % の範囲が好ましい。 これより少ないと四級アンモニゥム塩添加の効果が小 さく、 これより多いと難加水分解性塩素の生成量が多くなり、 高純度化が 困難になる。
反応終了後、 過剰のェピクロルヒ ドリン及び溶媒を留去した後、 残留物 をトルエン、 メチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解し、 濾過し、 水洗し て無機塩を除去し、 次いで溶剤を留去することによりエポキシ樹脂を得る ことができる。
本発明のエポキシ樹脂を得るには、 一次反応だけでも可能であるが、 高 度の精製操作が必要となり、 水洗の際にェマルジョンが多くなり歩留が低 下する欠点があるので、 本発明の製造方法を適用することが有利である。 本発明の製造方法では、 粗製エポキシ樹脂をアル力リ金属水酸化物と反 応させ、 残存したクロロヒ ドリン体の閉環反応を生じさせる二次反応が行 われる。 この二次反応では、 一次反応で得られたエポキシ樹脂を溶媒に溶 解し、 アルカリ金属水酸化物と接触させることにより行うことができる。 用いる溶媒としては、 メチルイソプチルケトン等のケトン類、 n —ブタノ ール等のアルコール類、 トルエン等の芳香族溶媒が選択される。 溶媒の使 用量としては、 エポキシ樹脂 1 0 0重量部に対して、 通常、 2 0 0〜 1 0 0 0重量部の範囲である。 反応に用いるアルカリ金属水酸化物の量は、 ェ ポキシ樹脂中に残存した加水分解性塩素量の 1〜 3 0倍、 好ましくは 1 . 2〜 1 0倍である。 また、 反応温度は 4 0〜 1 2 0 °Cの範囲であり、 反応 時間は 0 . 5〜 6時間の範囲であることがよい。 二次反応後、 ろ過又は水 洗により生成した塩を除き、 更に蒸留により溶媒を系外に除いて、 本発明 のエポキシ樹脂を得ることができる。
得られたエポキシ樹脂は、 過冷却状態をとりやすいため、 反応器から取 り出した後、 そのまま常温に放置すると、 長期に渡り粘稠な液体として存 在する。 本発明の結晶状のエポキシ樹脂を得るためには、 結晶化を促進さ せる操作を行うことが好ましい。 結晶化の方法としては、 溶媒を用いて低 粘度化を図り、 結晶化を促進させる方法がある。 この場合の溶媒種として は、 メタノール、 エタノール、 イソプロピルアルコール等のアルコール類、 ペンタン、 へキサン、 ヘプタン等の炭化水素系溶媒が好適に用いられる。 あるいは、 液状のエポキシ樹脂にあらかじめ調製した種結晶を加えること による結晶化を行う方法がある。
合成後の多量体エポキシの含有量が高い場合には分子蒸留、 再結晶等の 方法により、 一般式 ( 1 ) において nが 0である単量体エポキシ含有量を 高めることができる。 再結晶を行う場合の溶媒としては、 メタノール、 ェ 夕ノール、 イソプロピルアルコール等のアルコール類、 酢酸ェチル等のェ ステル類、 ペンタン、 へキサン、 ヘプタン等の炭化水素系溶媒又はこれら の混合物が好適に用いられる。 本発明の樹脂組成物に使用する硬化剤としては、 一般にエポキシ樹脂の 硬化剤として知られているものはすべて使用できる。 例えば、 ジシアンジ アミ ド、 多価フエノール類、 酸無水物類、 芳香族及び脂肪族ァミン類等が ある。
具体的に例示すれば、 多価フエノール類としては、 例えば、 a) ビスフエ ノール A、 ビスフエノール F、 ビスフエノール S、 フルオレンビスフエノ —ル、 4 , 4, ービフエノール、 2 , 2 ' —ビフエノール、 ノ、イ ド口キノ ン、 レゾルシン、 ナフタレンジオール等の 2価のフエノール類がある他、 b) 卜リス— ( 4ーヒ ドロキシフエニル) メタン、 1 , 1, 2, 2—テトラ キス ( 4ーヒ ドロキシフエニル) ェタン、 フエノールノポラック、 o —ク レゾールノポラック、 ナフ トールノポラック、 ポリ ビニルフエノール等に 代表される 3価以上のフエノール類があり、 更には c)フエノール類、 ナフ トール類等の 1価のフエノール類又はビスフエノール A、 ビスフエノール F、 ビスフエノール S、 フルオレンビスフエノール、 4 , 4, —ビフエノ ール、 2 , 2 , ービフエノール、 ハイ ドロキノン、 レゾルシン、 ナフタレ ンジオール等の 2価のフエノール類と、 ホルムアルデヒ ド、 ァセトアルデ ヒ ド、 ベンズアルデヒ ド、 p—ヒ ドロキシベンズアルデヒ ド、 p —キシリ レンダリコール等の縮合剤から合成される多価フエノール性化合物等があ る。
酸無水物類としては、 無水フ夕ル酸、 テトラヒ ドロ無水フタル酸、 メチ ルテトラヒ ドロ無水フタル酸、 へキサヒ ドロ無水フタル酸、 メチルへキサ ヒ ドロ無水フ夕ル酸、 メチル無水ハイミック酸、 無水ナジック酸、 無水ト リメリッ ト酸等がある。
また、 アミ ン類としては、 4, 4, ージアミノジフエニルメタン、 4 , 4 ' ージアミ ノジフエニルプロパン、 4 , 4, ージアミノジフエニルスル ホン、 m—フエ二レンジァミン、 p—キシリ レンジァミン等の芳香族アミ ン類、 エチレンジァミン、 へキサメチレンジァミン、 ジエチレントリアミ ン、 トリエチレンテトラミン等の脂肪族ァミン類がある。
本発明の樹脂組成物には、 これら硬化剤の 1種又は 2種以上を混合して 用いることができる。
また、 本発明の樹脂組成物には、 本発明のエポキシ樹脂以外に、 分子中 にエポキシ基を 2個以上有する通常のエポキシ樹脂を併用してもよい。 例 を挙げ.れば、 a)ビスフエノール A、 ビスフエノール S、 フルオレンビスフ ェノール、 4 , 4 ' —ビフエノール、 2, 2 ' —ビフエノール、 ハイ ド口 キノン、 レゾルシン等の 2価のフエノール類、 あるいは、 b) トリス一 ( 4 ーヒ ドロキシフエニル) メタン、 1 , 1 , 2 , 2 —テトラキス ( 4ーヒ ド ロキシフエニル) ェタン、 フエノールノポラック、 o —クレゾールノボラ ック等の 3価以上のフエノ一ル類、 又は c)テトラプロモビスフエノール A 等のハロゲン化ビスフエノール類等のフエノール類から誘導されるグルシ ジルェ一テル化物等がある。 これらのエポキシ樹脂は、 1種又は 2種以上 を混合して用いることができるが、 本発明に関わるエポキシ樹脂の配合量 はエポキシ樹脂全体中、 5〜 : L 0 0 wt %、 好ましくは 3 0〜: L 0 0 wt %、 より好ましくは 5 0〜 1 0 0 ^ %の範囲である。
更に、 本発明の組成物中には、 ポリエステル、 ポリアミ ド、 ポリイミ ド、 ポリエーテル、 ポリウレタン、 石油樹脂、 ィンデンクマロン樹脂、 フエノ キシ樹脂等のオリゴマ一又は高分子化合物を適宜配合してもよい。 また、 本発明の樹脂組成物には、 無機充填剤、 顔料、 難然剤、 揺変性付与剤、 力 ップリング剤、 流動性向上剤等の添加剤を配合できる。
無機充填剤としては、 例えば、 球状あるいは、 破砕状の溶融シリ力、 結 晶シリ力等のシリ力粉末、 アルミナ粉末、 ガラス粉末、 又はマイ力、 タル ク、 炭酸カルシウム、 アルミナ、 水和アルミナ等が挙げられ、 顔料として は、 有機系又は無機系の体質顔料、 鱗片状顔料等がある。 揺変性付与剤と しては、 シリコン系、 ヒマシ油系、 脂肪族アマイ ドワックス、 酸化ポリェ チレンワックス、 有機ベントナイ 卜系等を挙げることができる。
また、 本発明の樹脂組成物には必要に応じて、 公知の硬化促進剤を用い ることができる。 例を挙げれば、 アミン類、 イミダゾール類、 有機ホスフ イ ン類、 ルイス酸等がある。 添加量としては、 通常、 エポキシ樹脂 1 0 0 重量部に対して、 0 . 2〜 5重量部の範囲である。 更に、 必要に応じて、 本発明の樹脂組成物には、 カルナバワックス、 O Pヮックス等の離型剤、 r一ダリシドキシプロピルトリメ トキシシラン等の力ップリング剤、 カー ボンブラック等の着色剤、 三酸化アンチモン等の難燃剤、 シリコンオイル 等の低応力化剤、 ステアリン酸カルシウム等の滑剤等を使用できる。 本発明のエポキシ樹脂は半導体封止に好適に使用される。 この場合、 本 発明に用いるエポキシ樹脂は高純度のものが好適に使用され、 加水分解性 塩素量が 1 , 0 0 O ppm以下であることが好ましい。 本用途の場合、 無機充 填剤の配合量を増やすことにより、 吸水率、 熱膨張率の低減、 熱時強度の 向上等を図ることが可能であり、 大幅に半田耐熱性を向上させることがで きる。 本用途に使用するエポキシ樹脂組成物に用いる無機充填剤の配合量 は、 通常、 7 5 w t %以上であるが、 低吸湿性、 高半田耐熱性の観点からは 8 0 wt %以上であることが好ましい。
本発明のエポキシ樹脂硬化物は、 上記のエポキシ樹脂組成物を加熱する ことにより得ることができ、 これは低吸湿性、 高半田耐熱性等に優れる。 硬化物を得るための方法としてはトランスファー成形、 圧縮成形、 注型等 が好適に用いられ、 その際の温度としては通常、 1 4 0〜 2 3 0 °Cの範囲 である。 発明を実施するための最良の形態 以下、 実施例により本発明を更に具体的に説明する。 なお、 下記実施例 における加水分解性塩素の測定は以下の方法に従った。即ち、樹脂試料 0.5g を 100ml 共栓付三角フラスコに秤量し、 ジォキサン 30ml を加え溶解する。 これに IN- KOH 5ml を加え、 還流する。 室温まで冷却後、 還流冷却管を 10ml の MeOHで洗浄し、 全量を 200mlのビーカ一に移す。 更に、 80%アセトン水 100ml でフラスコを洗浄し、 ビ一カーに移す。 次に、 2ml の con HN03を 加えて、 1/500N- AgN03水溶液で電位差滴定を行なうとともにブランク試験 も行なう。
また、 エポキシ樹脂の純度分析は GPC 測定により行った。 測定条件は、 装置; HLC- 82A (東ソ一(株)製)、力ラム; TSK- GEL2000 x 3本及び TSK- GEL4000 1本 (いずれも東ソ一 (株) 製) 、 溶媒 ; THF 、 流量 ; 1 ml/min、 温度 ; 38°C、 検出器 ; RI である。 この純度分析では、 単量体エポキシ、 多量体ェ ポキシ及び前記 1)〜 の 4種類のモノエポキシ体の含有量が測定される。 実施例中で使用する略号は次のとおり。
DHS: 2, 2' -ジメチル -5, 5' -ジ- tert-ブチル -4, 4'-ジヒド口キシジフエニル スルフィ ド
DGS: 2, 2' -ジメチル- 5, 5' -ジ -tert -プチル- 4, 4'-ジグリシジルォキシジフ ェニルスルフィ ド
DEGME: ジエチレンダリコールジメチルエーテル 実施例 1
240gの DHS を、 DEGME 240g、 ェピクロルヒ ド; <jン 1480gに溶解し、 減圧 下、 還流させながら、 45°Cにて 48%水酸化ナトリゥム水溶液 108.4gを 4 hr かけて滴下した。 この間、 生成する水はェピクロルヒドリンとの共沸によ り系外に除き、 溜出したェピクロルヒ ドリンは凝縮させて系内に戻した。 滴下終了後、 更に 1 hr 反応を継続した。 その後、 濾過により生成した塩を 除き、 更に水洗した後、 MGME及びェピクロルヒドリンを留去し、 無色透明 で液状の粗製エポキシ樹脂 302gを得た。 エポキシ当量は 248であり、 加水 分解性塩素は 2100ppm であった。 樹脂中の DGS (単量体エポキシ) 純度は 91. Owt%、 ピスフエノール化合物単位を二つ含む二量体エポキシの含有量 は 5.7wt%であった。 また、 前記モノエポキシ体の含有率は 3. 3wt%であつ た。
得られた粗製エポキシ樹脂 100gをメチルイソプチルケトン (MIBK) 800g に溶解し、 80°Cにて 14. 2gの 10%— NaOH水溶液を加え、 2hr反応させた。 反応後、 濾過、 水洗し MIBKを留去することにより、 単黄色液状のエポキシ 樹脂 97g を得た。 得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は 241 であり、 加 水分解性塩素は 260ppmであり、 樹脂中の DGSの純度は 94. 5wt%、 二量体ェ ポキシの含有量は 4. 2wt %であった。 また、 モノエポキシ体の含有率が 1. 3wt%であつた。
得られたエポキシ樹脂を 120°Cに加熱し攪拌しながら、 別途調製した DGS の微粉末結晶 lgを加えた。 微粉末結晶がよく分散させた後、 バッ トに抜き 出し 30°Cで静置し樹脂の結晶化を行い、 固形のエポキシ樹脂 (結晶) を得 た (エポキシ樹脂 A) 。 得られた結晶の D S C測定における融点のピーク 温度は 121. 3で、吸熱量は 74.3J/g、吸熱ピークの半値幅は 5.9でであった。 実施例 2
実施例 1で得られたエポキシ樹脂 100g をメタノールより再結晶を行い、 白色結晶状のエポキシ樹脂 88 gを得た (エポキシ樹脂 B ) 。 エポキシ当量 は 236 であり、 加水分解性塩素は 90ppm であり、 樹脂中の DGS の純度は 98. 2wt %、 二量体エポキシの含有量は 1. 5wt %であった。 また、 モノェポキ シ体の含有率が 0. 3wt %であった。得られた結晶の D S C測定における融点 のピーク温度は 122. 2°C、 吸熱量は 77. 2 J/g、 吸熱ピークの半値幅は 5. 6°C であった。 実施例 3
DHSを 240g、 DEGDMEを 240g、 ェピクロルヒドリンを 900g、 48 %水酸化ナ トリウム水溶液を 107. Og用いて、 実施例 1 と同様に反応させ、 液状の粗製 エポキシ樹脂 298gを得た。 エポキシ当量は 253であり、 加水分解性塩素は 4600 ΡΡΠ1であった。 樹脂中の DGS純度は 88. 5wt %、 二量体エポキシの含有 量は 8. 4w t %であった。また、乇ノエポキシ体の含有率が 3. 1 %であった。 得られた粗製エポキシ樹脂 100gを 800gの MIBKに溶解し、 80でにて 10 % -NaOH水溶液、 10. 3g を加え 2hr 反応させた。 反応後、 濾過、 水洗し MIBK を留去することにより、 単黄色液状のエポキシ樹脂 94g を得た。 得られた エポキシ樹脂のエポキシ当量は 242であり、 加水分解性塩素は 240PP1Hであ り、 樹脂中の DGSの純度は 92. 6w t %、 ビスフエノール化合物の二量体の含 有量は 6. 2w t %であった。 また、 モノエポキシ体の含有率が 1. 4wt %であつ た。
得られたエポキシ樹脂を 120°Cに加熱し攪拌しながら、 別途調製した DGS の微粉末結晶 lgを加えた。 微粉末結晶がよく分散させた後、 バッ トに抜き 出し 3 0 °Cで静置し樹脂の結晶化を行い、 固形のエポキシ樹脂を得た (ェ ポキシ樹脂 C ) 。 得られた結晶の D S C測定における融点のピーク温度は 120. 8°C, 吸熱量は 71. 9J/g、 吸熱ピークの半値幅は 6. 2°Cであった。 実施例 4
120gの DHS、 240gの DEGME、 ェピクロルヒドリン 340g、 48%水酸化ナト リウム水溶液 52. Og を用いて、 実施例 1 と同様に反応させ、 液状の粗製ェ ポキシ樹脂 149g を得た。 エポキシ当量は 255 であり、 加水分解性塩素は 5300ppmであった。 樹脂中の DGS の純度は 87. 6wt%、 二量体エポキシの含 有量は 8. 6wt%であった。 また、 モノエポキシ体の含有率が 3. 8wt%であつ た。
得られた粗製エポキシ樹脂 100gを MIBK 800gに溶解し、 80°Cにて 10%— NaOH水溶液 9. Ogを加え 2 hr反応させた。 反応後、 濾過、 水洗し MIBKを留 去することにより、 単黄色液状のエポキシ樹脂 95g を得た。 得られたェポ キシ樹脂のエポキシ当量は 243 であり、 加水分解性塩素は 180ppmであり、 樹脂中の DGS の純度は 91. 8wt%、 二量体エポキシの含有量は 6.7wt%であ つた。 また、 モノエポキシ体の含有率が 1. lwt%であった。
得られたエポキシ榭脂を 120°Cに加熱し攪拌しながら、 別途調製した DGS の微粉末結晶 lgを加えた。 微粉末結晶をよく分散させた後、 バッ トに抜き 出し 30°Cで静置し樹脂の結晶化を行い、 固形のエポキシ樹脂を得た (ェポ キシ樹脂 D ) 。 得られた結晶の D S C測定における融点のピーク温度は 121. 3 、 吸熱量は 71. 2j/g、 吸熱ピークの半値幅は 6. 1 であった。 比較例 1
実施例 1 で得られた粗製エポキシ樹脂を常温に 3 日間静置し、 結晶を析 出させ、 固形のエポキシ樹脂を得た (エポキシ樹脂 E ) 。 得られた結晶の D S C測定における融点のピーク温度は 119. 1°C、 吸熱量は 53. 2j/g、 吸熱 ピークの半値幅は 7.4°Cであった。 比較例 2
実施例 3で得られた粗製エポキシ樹脂を常温に 3 日間静置し、 結晶を析 出させ、 固形のエポキシ樹脂を得た (エポキシ樹脂 F ) 。 得られた結晶の D S C測定における融点のピーク温度は 118. 6°C、 吸熱量は 61. 6j/g、 吸熱 ピークの半値幅は 7. 2°Cであった。 比較例 3
DHS 1 2 0 gをェピクロルヒ ドリン 430g、 ジメチルスルホキシド 220gに 溶解し、 減圧下、 還流させながら、 50°Cにて 48%水酸化ナトリウム水溶液 56. Ogを 4hrかけて滴下した。 この間、 生成する水はェピクロルヒドリンと の共沸により系外に除き、 溜出したェピクロルヒドリンは系内に戻した。 滴下終了後、 更に lhr 反応を継続した。 その後、 濾過により生成した塩を 除き、 更に水洗した後、 ェピクロルヒドリンを留去し、 無色透明で液状の 粗製エポキシ樹脂 148gを得た。 エポキシ当量は 244であり、 加水分解性塩 素は 450ppmであった。 樹脂中の DGS純度は 8 9 . 6 wt%、 二量体エポキシ の含有量は 7. 6wt%であった。 また、 モノエポキシ体の含有率が 2. 8wt%で めつ こ。
得られたエポキシ樹脂を 120°Cに加熱し攪拌しながら、 別途調製した DGS の微粉末結晶 1 gを加えた。 微粉末結晶がよく分散させた後、 バッ トに抜 き出し 30°Cで静置し樹脂の結晶化を行い、 固形 エポキシ樹脂を得た (ェ ポキシ樹脂 G) 。 得られた結晶の D S C測定における融点のピーク温度は 118.7°C, 吸熱量は 67.5j/g、 吸熱ピークの半値幅は 7.3°Cであった。 実施例 5〜 8、 比較例 4〜 6
エポキシ樹脂成分として実施例 1〜 4、 比較例 1〜 3で得られたェポキ シ樹脂 A〜Gを使用し、 硬化剤としてフエノールノポラック樹脂 (軟化点 71°C、 OH当量 107) 、 充填剤としての破碎シリカ (平均粒径、 16 xm) 又 は球状シリ力 (平均粒径、 22/xm) 、 硬化促進剤としての 卜リフエニルホ スフイン、 シランカップリング剤として ァ一グリシドキシプロピルトリメ トキシシラン、 及びその他の表 1に示す添加剤を表 1 に示す割合 (重量部) で配合した後、 加熱混練しエポキシ樹脂組成物を得た。
このエポキシ樹脂組成物を用いて 175でにて成形し、 175°Cにて 12hrボス トキユアを行い、 硬化物試験片を得た後、 各種物性測定に供した。 ガラス 転移点は、 熱機械測定装置により、 昇温速度 10でノ分の条件で求めた。 曲 げ強度、 曲げ弾性率の測定は、 常温(25 )、 高温(260°C)の 2水準にて行つ た。接着強度は、 0.5匪厚で 2枚の基材の間に、 175°Cにて圧縮成形し、 175で、 12hr ボス トキユアを行った後のせん断強度で評価した。 また、 吸水率は、 本エポキシ樹脂組成物を用いて直径 50πιπκ 厚さ 3mmの円盤を成形し、 ボス トキユア後 85°C、 85%R.H. の条件で 24hr及び lOOhr吸湿させた時のもの である。 素子不良率は、 アルミニウム配線を有するテス トチップを銅フレ ームに配したものを 175°C、 2 分間でトランスファー成形した後、 175° ( 、 12hr ポストキュアして得られたパッケージを用いて、 85°C、 85%R. H.の条 件で表 2に示す所定の時間吸湿させ、更に 260°Cの半田浴に l Osec浸漬した 後、 121°C 2 気圧の条件で P C T試験を行い、 試験に用いたパッケージに 対するアルミニウム配線の断線の発生したパッケージの割合で評価した。 ブロッキング性は、微粉砕したエポキシ樹脂組成物を 25°Cで 24hr放置後の
1
凝集した組成物の重量 <1割合とした。 保存安定性は、 微粉砕したエポキシ樹 脂組成物の 25°C 7 日間放置後のスパイラルフローの初期値 ( 0 日間放置) に対する保持率とした。
結果をまとめて表 2に示す。
1
Q
実施 実施 実施 実施 比較 比較 比較
例 5 例 6 例 7 例 8 例 4 例 5 例 6
C E
エポキシ樹脂
104. 0 105. 0
硬化剤 46. 2 46. 9 46. 0 45. 8 45. 3 44. 3 45. 8 cn
シリ力 800 800 800 800 800 800 800
硬化促進剤 1. 8 1. 8 1. 8 1. 8 1. 8 1. 8 1. 8
シランカツフ"リンク"
3 3 3 3 3 3 3
カ-ホ'ンフ。ラック 5 5 5 5 5 5 5
カルナ ワックス 3 3 3 3 3 3 3
表 2
Figure imgf000022_0001
産業上の利用の可能性
本発明のエポキシ樹脂は、 硬化性に優れるとともに、 高い結晶性を有し ているためエポキシ樹脂組成物としたときの保存時の耐ブロッキング性に も優れる。 更に、 硬化物は、 高い耐熱性、 耐湿性、 及び高接着性を有する ため、 半導体封止用樹脂組成物に応用した場合、 半導体素子を封止して得 られたパッケージの信頼性が大幅に向上する。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 4, 4' -ジヒ ドロキシ-ジフエニルスルフィ ド類とェピクロロヒドリンを 反応させて得られる下記式 ( 1 )
Figure imgf000024_0001
(但し、 R!〜R4は、 独立に水素又は炭素数 1〜 6のアルキル基を示し、 nは 0〜 1 0の数を示す) で表される化合物からなるエポキシ樹脂であり、 n=0 体の含有率が 9 0 wt%以上であり、 かつモノエポキシ体の含有率が 2 wt% 以下であることを特徴とする結晶状のエポキシ樹脂。
2. 2, V -ジメチル -5, 5'-ジターシャリーブチル- 4, 4'-ジヒドロキシジフエ ニルスルフイ ドとェピクロロヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂 であり、 1, 2'-ジメチル- 5, 5'-ジターシャリ一ブチル -4, 4'-ジグリシジルォ キシジフエニルスルフィ ドの含有率が 9 0 wt%以上であり、 かつモノェポ キシ体の含有率が 2 wt%以下であることを特徴とする結晶状のエポキシ樹 脂。
3. 結晶状のエポキシ樹脂の示差熱分析による吸熱量が 6 8〜 8 0 J/g の範囲であり、 かつ吸熱ピークの半値幅が 7. 0で以下である請求の範囲 1 又は 2に記載の結晶状のエポキシ樹脂。
4. 請求の範囲 1 に記載の結晶状のエポキシ樹脂を製造するにあたり、 下 記式 ( 2 )
Figure imgf000025_0001
(但し、 R,〜R4は、 独立に水素又は炭素数 1〜 6のアルキル基を示す) で表 されるジ (ヒ ドロキシフエニル) スルフイ ド類とェピクロロヒ ドリンをァ ルカリ金属水酸化物の存在下に反応させて粗製のエポキシ樹脂を得た後、 再度、 得られた粗製エポキシ樹脂をアル力リ金属水酸化物と反応させるこ とを特徴とする結晶状のエポキシ樹脂の製造方法。
5 . 請求の範囲 2に記載の結晶状のエポキシ樹脂を製造するにあたり、 2, V -ジメチル -5, 5 ' -ジターシャリ一ブチル -4, 4' -ジヒ ドロキシジフエ二 ルスルフィ ドとェピクロロヒ ドリンをアル力リ金属水酸化物の存在下に反 応させて粗製のエポキシ樹脂を得た後、 再度、 得られた粗製エポキシ樹脂 をアルカリ金属水酸化物と反応させることを特徴とする結晶状のエポキシ 樹脂の製造方法。
6 . 2, 2 ' -ジメチル- 5 , 5 ' _ジタ一シャリ一ブチル -4, 4 ' -ジヒドロキシジフ ェニルスルフイ ド中の水酸基 1モルに対して、 0 . 8 5〜0 . 9 9モルの アルカリ金属水酸化物を反応させて粗製のエポキシ樹脂を得た後、 粗製ェ ポキシ樹脂中の加水分解性塩素 1モルに対して、 1 . 0〜 1 5 . 0倍モル のアル力リ金属水酸化物を反応させることを特徴とする請求の範囲 5に記 載の製造方法。
7 . エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物において、 ェ ポキシ樹脂成分の一部又は全部として請求の範囲 1又は請求の範囲 2に記 載の結晶状エポキシ樹脂を用いることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
8 . 請求の範囲 7に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化させてなる硬化物。
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122 Ep: pct application non-entry in european phase