WO2003071577A3 - Kanalfunkenquelle zur erzeugung eines stabil gebündelten elektronenstrahls - Google Patents

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Abstract

Es wird eine über Gasentladung getriggerte Kanalfunkenquelle zur Erzeugung von stabil gebündelten Elektronenstrahlen vorgestellt, die sich durch eine Gaszufuhr mit einer Druckdifferenz von 10-4 Pascal zwischen der Hohlkathode und dem Kanalausgang auszeichnet, so dass die durch ein äuβeres Magnetfeld unterstützte Ladungsträgervermehrung im Triggerplasma eine Hohlkathodengasentladung zuverlässig zündet und der Strahl ohne Neigung zu Instabilitäten und Berührung bzw. Beschädigung des inneren Kanals das System verlässt.
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ITMI20040008A1 (it) * 2004-01-08 2004-04-08 Valentin Dediu Processo per la produzione di nanotubi di carbonio a singola parete
ITMI20050585A1 (it) 2005-04-07 2006-10-08 Francesco Cino Matacotta Apparato e processo per la generazione accelerazione e propagazione di fasci di elettroni e plasma
JP2009267203A (ja) * 2008-04-28 2009-11-12 Panasonic Corp プラズマドーピング装置
IT1395701B1 (it) * 2009-03-23 2012-10-19 Organic Spintronics S R L Dispositivo per la generazione di plasma e per dirigere un flusso di elettroni verso un bersaglio
DE102009017648A1 (de) * 2009-04-16 2010-10-21 Siemens Aktiengesellschaft Gasinjektionssystem und Verfahren zum Betrieb eines Gasinjektionssystems, insbesondere für eine Partikeltherapieanlage
IT1401417B1 (it) 2010-08-23 2013-07-26 Organic Spintronics S R L Dispositivo per la generazione di plasma e per dirigere un flusso di elettroni verso un bersaglio
JP5681030B2 (ja) * 2011-04-15 2015-03-04 清水電設工業株式会社 プラズマ・電子ビーム発生装置、薄膜製造装置及び薄膜の製造方法
US10225919B2 (en) * 2011-06-30 2019-03-05 Aes Global Holdings, Pte. Ltd Projected plasma source
US9028289B2 (en) * 2011-12-13 2015-05-12 Federal-Mogul Ignition Company Electron beam welded electrode for industrial spark plugs
ITBO20120320A1 (it) 2012-06-11 2013-12-12 Libuse Skocdopolova Un apparato ed un metodo per la grenerazione di elettroni e di plasma da un getto di gas
GB2528141B (en) * 2014-09-18 2016-10-05 Plasma App Ltd Virtual cathode deposition (VCD) for thin film manufacturing
IT201600115342A1 (it) * 2016-11-15 2018-05-15 Consorzio Di Ricerca Hypatia Macchina per la deposizione di film sottili
CN107633986B (zh) * 2017-08-25 2023-09-05 金华职业技术学院 一种产生电子束的方法
US11812540B1 (en) * 2019-09-30 2023-11-07 Board Of Trustees Of The University Of Alabama, For And On Behalf Of The University Of Alabama In Huntsville Continuous large area cold atmospheric pressure plasma sheet source
CN111145623B (zh) * 2019-12-31 2021-12-10 河海大学常州校区 不同参数的正负电晕与物质作用实验研究装置及方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4208764A1 (de) * 1992-03-19 1993-09-30 Kernforschungsz Karlsruhe Verfahren zum Erzeugen eines Teilchenstrahls sowie ein Teilchenbeschleuniger zur Durchführung des Verfahrens
DE19813589A1 (de) * 1998-03-27 1999-09-30 Karlsruhe Forschzent Verfahren zur Erzeugung eines gepulsten Elektronenstrahls und Triggerplasmaquelle zur Durchführung des Verfahrens
DE19849894C1 (de) * 1998-10-29 2000-06-29 Karlsruhe Forschzent Gepulste Plasmaquelle für einen gasgefüllten Teilchenbeschleuniger

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3864640A (en) * 1972-11-13 1975-02-04 Willard H Bennett Concentration and guidance of intense relativistic electron beams
US4363774A (en) * 1978-01-24 1982-12-14 Bennett Willard H Production and utilization of ion cluster acceleration
US4201921A (en) * 1978-07-24 1980-05-06 International Business Machines Corporation Electron beam-capillary plasma flash x-ray device
DE3014151C2 (de) * 1980-04-12 1982-11-18 Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe Generator für gepulste Elektronenstrahlen
US4748378A (en) * 1986-03-31 1988-05-31 The United States Of America As Represented By The Department Of Energy Ionized channel generation of an intense-relativistic electron beam
DE3844814A1 (de) * 1988-03-19 1992-02-27 Kernforschungsz Karlsruhe Teilchenbeschleuniger zur erzeugung einer durchstimmbaren punktfoermigen hochleistungs-pseudofunken-roentgenquelle
JP2819420B2 (ja) * 1989-11-20 1998-10-30 東京エレクトロン株式会社 イオン源
US7122949B2 (en) * 2004-06-21 2006-10-17 Neocera, Inc. Cylindrical electron beam generating/triggering device and method for generation of electrons

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4208764A1 (de) * 1992-03-19 1993-09-30 Kernforschungsz Karlsruhe Verfahren zum Erzeugen eines Teilchenstrahls sowie ein Teilchenbeschleuniger zur Durchführung des Verfahrens
DE19813589A1 (de) * 1998-03-27 1999-09-30 Karlsruhe Forschzent Verfahren zur Erzeugung eines gepulsten Elektronenstrahls und Triggerplasmaquelle zur Durchführung des Verfahrens
DE19849894C1 (de) * 1998-10-29 2000-06-29 Karlsruhe Forschzent Gepulste Plasmaquelle für einen gasgefüllten Teilchenbeschleuniger

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
BLUHM H ET AL: "Industrial applications of high voltage pulsed power techniques: developments at Forschungszentrum Karlsruhe (FZK)", PULSED POWER CONFERENCE, 1997. DIGEST OF TECHNICAL PAPERS. 1997 11TH IEEE INTERNATIONAL BALTIMORE, MA, USA 29 JUNE-2 JULY 1997, NEW YORK, NY, USA,IEEE, US, PAGE(S) 1-12, ISBN: 0-7803-4213-5, XP010280169 *

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