DE4208764A1 - Verfahren zum Erzeugen eines Teilchenstrahls sowie ein Teilchenbeschleuniger zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents
Verfahren zum Erzeugen eines Teilchenstrahls sowie ein Teilchenbeschleuniger zur Durchführung des VerfahrensInfo
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- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
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- H05H1/02—Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen eines elek
trisch geladenen Teilchenstrahls sowie einen Teilchenbeschleu
niger zur Durchführung des Verfahrens und zur Anwendung des
selben.
Bei derartigen Verfahren und Beschleunigern werden Teilchen
vorgegebener Ladung und Masse aus einem Reservoir extrahiert
und einem Beschleunigungsraum zwischen zwei verschiedenen
elektrischen Potentialen zugeführt, um letztlich als Strahl
für weitere Bearbeitungsprozesse zur Verfügung zu stehen.
Im Patent DP 38 34 402 wird ein Verfahren vorgestellt, bei dem
der magnetisch selbstfokussierte Elektronenstrahl einer
Pseudofunkenentladung am Anodenausgang von einem elektrisch
isolierenden Quarzröhrchen aufgenommen und darin über eine
Wegstrecke transportiert wird. Eine leichte Krümmung der Röhre
hat keine spürbare Auswirkung auf den Strahltransport und er
leichtert damit die Suche nach dem günstigsten Auftreffwinkel
des Strahls auf das Target. Die Röhre schützt in einem gewis
sen Umfang die Pseudofunkenkammer vor den Ablationsdämpfen und
erlaubt wegen des geringen Pumpquerschnittes differentielles
Pumpen. Die Erzeugung des Elektronenstrahls mit der technisch
aufwendigen Pseudofunkenkammer stößt an Grenzen hinsichtlich
Strahlstärke und Divergenz.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, hohe Teilchen
strahlintensitäten oder äquivalent dazu einen hohen Strom bzw.
eine hohe Stromdichte und eine scharfe Bündelung des Teilchen
strahls mit wirtschaftlich akzeptablen Mitteln und Aufwendun
gen zu erreichen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch das Verfahren nach
Anspruch 1 und den darin aufgeführten kennzeichnenden Verfah
rensschritten sowie durch den Teilchenbeschleuniger gemäß den
Kennzeichen des Anspruchs 6 gelöst.
Die Verfahrensansprüche 2 bis 6 sowie die Unteransprüche 8 bis
13 weisen vorteilhafte Verfahrensschritte bzw. Ausgestaltungen
des Teilchenbeschleunigers auf.
Wesentlich an dem Verfahren ist, daß die geladenen Teilchen im
Reservoir mit hoher Stromstärke und Stromdichte in einem in
der Elektrode, die teilweise die Reservoirwand bildet, begin
nenden dielektrischen Rohrraum gesaugt und dort über die Po
tentialdifferenz zwischen beiden Elektroden beschleunigt wer
den. Beim Eintreffen der Teilchen in einem Targetraum, haben
diese dann ihre Prozeßenergie erreicht. Für die Strahlformie
rung ist weiter von Bedeutung, daß eine residuale Gasfüllung
mit dem Restdruck p im dielektrischen Rohrraum durch den Teil
chenstrom ionisiert und elektrisch polarisiert wird. Eine La
dungswolke an und entlang der inneren Rohrwand wirkt abstoßend
auf den Teilchenstrom. Es findet eine Raumladungskompensation
und eine elektrostatische Fokussierung des Teilchenstrahl
statt. Dieser Vorgang läuft gut ab, wenn das Produkt aus
residualem Gasdruck p und Innendurchmesser d des Rohres so
niedrig angelegt wird, daß die von außen angelegte Beschleuni
gungsspannung zwischen den Elektroden trotz parasitärer Entla
dung in der residualen Gasfüllung im wesentlichen für die
Teilchenstrahlbeschleunigung erhalten bleibt.
In den Unteransprüchen 2 bis 5 sind zusätzlich Verfahrens
schritte gekennzeichnet, mit denen eine Strahlablenkung oder
ein veränderter Strahlquerschnitt erreicht wird. Desweiteren
werden Schritte zur gezielten Strahlbeschleunigung gekenn
zeichnet.
So wird durch ein örtlich begrenztes Magnetfeld im Bereich des
Rohrraumes eine Strahlablenkung bewirkt. Über Querschnittsän
derungen des dielektrischen Rohrraums wird der Querschnitt des
Teilchenstrahls beeinflußt.
Es kann zweckmäßig sein, zur Einstellung der Prozeßenergie des
Teilchenstrahls bzw. seiner Strahlstärke, die Beschleunigungs
strecke über eine resistiv oder induktiv gekoppelte Hilfselek
trode zwischen beiden äußeren Elektroden zu verkürzen. Deswei
teren ist über eine Potentialsteuerung durch resistiv gekop
pelte Hilfselektroden zwischen den beiden Hauptelektroden die
Beschleunigungsstrecke für den Teilchenstrahl definiert aufge
teilt.
Zur Durchführung des Verfahrens ist der in Anspruch 6 gekenn
zeichnete Teilchenbeschleuniger geeignet. Um die geladenen
Teilchen aus dem Reservoir stromstark abziehen zu können, bil
det die eine Elektrode teilweise die Reservoirwand. An ihr be
ginnt der dielektrische Rohrraum bzw. weitere, falls viele
solche zweckmäßig wären. Die Gegenelektrode befindet sich
außerhalb des Reservoirs. Auf sie ist der dielektrische Rohr
raum in seinem weiteren Verlauf gerichtet.
Als eine optimale Geometrie hat sich experimentell erwiesen,
wenn die Länge des Rohrraumes mindestens dreimal so groß ist
wie der Innendurchmesser desselben. Zur Erhaltung der axialen
elektrischen Isolation bei Kontamination, ist der Rohrraum
zweckmäßigerweise teils oder ganz durch ein System fluchtend
angeordneter, dielektrischer Röhrensegmente gebildet. Die Seg
mente bilden radial gestaltete Schlitze miteinander. Dadurch
werden Oberflächenströme unterbunden.
Vorteilhafterweise besteht die Schlitzung derart, daß radial
von der Rohrachse ausgehende Strahlung oder Teilchen das ra
diale Schlitzende nicht erreichen, oder wenn überhaupt nur
über einen weiten Umweg.
Zur Verbesserung der Teilchenstrahlformierung ist im Endbe
reich zur Gegenelektrode eine elektrisch ausreichend isolierte
Gaszufuhr angebracht, über die in den Rohrraum in beiden Rich
tungen Gas eingeströmt werden kann.
Die auffällige Qualitätsverbesserung des Teilchenstrahles ist
einerseits wesentlich der baulichen Maßnahme zuzuschreiben,
den Stapel an Elektroden und Isolatoren der Pseudofunken
strecke durch einen mit dielektrischem Material begrenzten
Rohrraum, im Ausführungsbeispiel, das unten beschrieben wird,
eine Quarzröhre bzw. eine fluchtende Aneinanderreihung von
mehreren kürzeren Quarzröhren, zu ersetzen. Andererseits rührt
die hohe Strahlqualität wiederum maßgeblich von der eigenstän
digen Ausbildung eines geladenen Teilchenstroms in der
Quarzröhrenanordnung her.
Ausführungsbeispiele sind in der Zeichnung dargestellt und
werden in folgendem näher beschrieben. Im einzelnen wird ge
zeigt:
Fig. 1 schematisierte Darstellung der Beschleunigungs-
und Transportstrecke für den Teilchenstrahl;
Fig. 1a Querschnitt durch das dielektrische Rohr mit
positiver Raumladung in der Achse und negativer
Raumladungsanlagerung an der Rohrwand, wenn
Elektronen den Teilchenstrahl bilden;
Fig. 2 gekrümmte Beschleunigungs- und Transportstrecke
im Rezipienten mit zusätzlicher magnetischer
Strahlfokussierung;
Fig. 3a Aufteilung des dielektrischen Rohres in Beschleu
nigungs- und Transportstrecke durch eine Hilfs
elektrode;
Fig. 3b Potentialsteuerung durch Hilfselektroden zwischen
den Endelektroden;
Fig. 4a grundsätzliche radiale Rohrraumerweiterung zwischen
den Rohrsegmenten:
Fig. 4b konstruktiv einfache Rohrraumerweiterung;
Fig. 4c konstruktiv aufwendige Rohrraumerweiterung;
Fig. 5 Rohrraum mit elektrisch abgekoppelter Pumpein
richtung;
Fig. 6 elektrisch hochliegendes Teilchenreservoir,
einfaches schematisches Beispiel für die
Teilchenerzeugung und das Absaugen in den
Rohrraum;
Fig. 7 gepulste Lichtquelle.
Eine genauere Untersuchung hat ergeben, daß der Elektro
nenstrahl, der die Quarzröhre verläßt, aus zwei Anteilen be
steht, nämlich aus einem Anteil aus der Gasentladung in der
Pseudofunkenkammer und aus einem Anteil der von einer selb
ständigen Strahlformierung in der Quarzröhre herrührt.
Zunächst koppelt der Elektronenstrahl aus der Pseudofunkenkam
mer nur dann zuverlässig in die dielektrische Röhre, wenn das
Ende der dielektrischen Röhre auf einer Zwischenelektrode auf
liegt, und das um so besser, je kathodischer sie aufgeladen
ist, d. h. je tiefer sie in die Pseudofunkenkammer hineinge
schoben wird.
Messungen mit einem Spannungstastkopf zeigen, daß in diesen
Fällen die Elektronen aus der Pseudofunkenentladung die Zwi
schenelektrode, auf der die dielektrische Röhre aufliegt, über
100 ns stark negativ (bis auf Kathodenpotential) auflädt und
dann das kathodische Ende der dielektrischen Röhre aus dem
Plasma im Kanal der Pseudofunkenkammer Elektronen ansaugt und
ein Elektronenstrahl gebildet wird, der in Reichweite (nach
Verlassen der dielektrischen Röhre), Parallelität und Wir
kungsgrad dem Pseudofunken-Elektronenstrahl überlegen ist. Das
Plasma im Kanal der Pseudofunkenkammer dient als Quelle und
Reservoir für Elektronen.
So gelingt es erfindungsgemäß in einer Vorrichtung (Fig. 1)
magnetisch selbstfokussierte Elektronenstrahlen 7 zu erzeugen,
die z. B. aus dem Plasma 1 einer schnell veränderlichen Hohlka
thode und einer darin hineinragenden dielektrischen Röhre 5
besteht. Das andere Ende der dielektrischen Röhre 5 ragt, von
der Kathodenelektrode 2 isoliert, frei in einen Rezipienten 8
(s. Fig. 2). Von diesem Ende löst sich bei vergleichsweise
niedriger Spannung (10 kV) und Pulsleistung (5 MW) ein scharf
gebündelter Elektronenstrahl 7 mit einer zeitlichen Halbwerts
breite von 100 ns, der selbst nach 6 cm freiem Flugweg noch
Ablationseffekte zeigt, wie in Fig. 2 durch die Materialwolke
33 angedeutet.
In der eben beschriebenen Anordnung spielt die Anode 3 eine
untergeordnete Rolle. Man kann auf eine Anode 3 auch verzich
ten; die Aufgabe der Anode 3 übernimmt dann der metallische
Rezipient 8. Beide sammeln die negative Überschußladung und
bilden aus ihr den Rückstrom zu den Kondensatoren.
Zur Erzeugung von Teilchenströmen 7 hoher Stromdichte, etwa
104 A/cm2 für Elektronen reicht eine äußere elektrostatische
oder magnetische Fokussierung nicht aus. Zur Reduktion der
Raumladung muß der dielektrische Rohrraum 5 eine residuale
Gasfüllung mit dem Druck p enthalten. Der Teilchenstrom 7 io
nisiert und polarisiert das Restgas, so daß die Wand des Rohr
raums 5 für den Teilchenstrahl 7 abstoßend und die Achse an
ziehend aufgeladen wird (siehe schematische Darstellung in Fig.
1a dazu). Durch das Verteilen der negativen Raumladung 38
an die Innenwand der Röhre 5, vermindert sich im Falle des
Elektronenstrahls 7 die Raumladungsabstoßung in der Achse 12
(Fig. 1a). Gleichzeitig werden die negativen Ladungswolken 38
an der Wand durch das äußere elektrische Feld aus der Röhre 5
gesaugt, wodurch die Ladungsträger, die aus dem Gas gebildet
wurden, eine positive Überschußladung 39 bilden. Diese posi
tive Überschußladung 39 reduziert die durch den Strahl 7
herangetragene negative Raumladung.
Das Profil des Elektronenstrahls 7 ähnelt einem Hohlzylinder.
Das weist auf eine verbleibende Raumladungsabstoßung während
des Beschleunigungsvorganges hin. Bei Verlassen des Rohrraums
5 bleibt der Strahl 7 stabil und weitet sich längs einer
Wegstrecke von 15 cm nur geringfügig auf; jedoch muß der resi
duale Druck im Rezipienten 8 größer 0,2 Pa (Sauerstoff) sein.
Das Profil des Strahls 7 weist auf die Fähigkeit des Rohrraums
5 hin, auch diejenigen Elektronen zu halten und mitzubeschleu
nigen, die in einer offenen Beschleunigungsstruktur den Strahl
7 verlassen würden. Das erklärt die gute Effizienz der Be
schleunigung von Teilchen im Rohrraum 5. Zur Vermeidung von
Elektronenverlusten muß allerdings die dielektrische Röhre 5
bzw. die erste Sektion derselben mindestens dreimal so lang
wie ihr Innendurchmesser sein.
Im Anwendungsbeispiel zur Erzeugung eines Elektronenstrahls
liegt der Spannungszusammenbruch an der Röhre 5 bei etwa 4 Pa
bei angelegter Spannung von 20 kV und einem Durchmesser d der
dielektrischen Röhre von 3 mm. Der bevorzugte Arbeitsdruckbe
reich im Durchführungsbeispiel liegt etwa zwischen 0.1 Pa und
1.5 Pa. Als Gasfüllung wurde Sauerstoff genommen. Es kann je
doch jedes Gas als residuale Gasfüllung genommen werden.
Die Diagnose der Energieverteilung der Elektronen mit Hilfe
der Röntgenbremsstrahlung und Magnetfeldspektroskopie zeigt,
daß im o.e. bevorzugten Druckbereich durch kollektive Effekte
in der dielektrischen Röhre 5 die Energie-Verteilung der Elek
tronen konstant bleibt. Man mißt bei einer von außen angeleg
ten Spannung von 20kV über einen Zeitraum von 70 nsec eine
mittlere Elektronenenergie zwischen 11 und 12 keV, unabhängig
von Schwingungen des Gesamtstromes in der Röhre, der bis zu 6
kA beträgt.
Es zeigt sich, daß der extrahierte Elektronenstrom anwächst,
wenn in die dielektrische Röhre 5 eine Hilfsanode 9 integriert
wird, die über einen ohmschen oder induktiven Widerstand 10
mit der Anode 3 verbunden ist (Fig. 3a). Der Widerstand 10 ist
so dimensioniert, daß ab einer geringen Stromstärke (10 mA-10
A) das Anodenpotential von der Hilfsanode 9 wegdriftet und das
Potential an der gesamten dielektrischen Röhre 5 anliegt.
Diese Maßnahme empfiehlt sich grundsätzlich, dann insbeson
dere, wenn die dielektrische Röhre 5 sehr lang ist (z. B. 100
cm) und/oder gekrümmt ist, und/oder wenn zur Erniedrigung oder
Erhöhung der Stromdichte der Querschnitt sich längs der di
elektrischen Röhre 5 ändert.
Die Strecke vom Reservoir 1 zur Hilfselektrode 9 in Fig. 3a
wird Kanalbeschleuniger 11 genannt und die Formierung des
Teilchenstrahls 7 Kanalfunke. Der Abschnitt von der Hilfselek
trode 9 zum anodischen Ende der dielektrischen Röhre 5 wird
mit Strahlleiter 12 bezeichnet.
Das elektrische Isolationsvermögen der Innenwand 23 des Be
schleunigerröhrchens 5 wird durch Kontamination beeinträch
tigt; dadurch ist eine Störung der Betriebsweise des Kanalfun
kens gegeben. Unvermeidbar ist auch das Entstehen einer Sekun
därentladung in den Adsorbaten der Innenwand 23 der dielektri
schen Röhre 5, wenn der Teilchenstrom aus dem Reservoir 1 an
wächst. Die Entladung an der Innenwand der dielektrischen
Röhre 5 führt zu einer Abschirmung des äußeren Feldes, wodurch
die Fokussierung des Teilchenstromes 7 aus dem Reservoir 1 auf
die Achse 12 behindert wird. Zur Unterdrückung von durchge
henden Wandströmen zeigt Fig. 4 drei Lösungsbeispiele a), b),
c) für eine segmentierte Anordnung 16 des Röhrchens 5 jeweils
in Verbindung mit einem dielektrischen Körper 18, 19, 20, der
eine innere radiale 18 bzw. topologisch beliebige Schlitzung
19, 20 aufweist, die eine Unterbrechung von etwaigen schädli
chen inneren Oberflächenströmen 23 von einem zum anderen
dielektrischen Röhrensegment bewirken soll. Diese Schlitzung
kann auch mindestens eine Senke 22 o. ä. beinhalten, die das
weitere Eindringen von Dämpfen in den Hinterraum der Schlit
zung verhindert. So wird die Isolation der Segmente von
einander gewährleistet, was eine sichere Betriebsweise des Ka
nalfunkens bedeutet.
Als Reservoir 1 für Elektronen in Fig. 1 kann an Stelle einer
schnell veränderlichen Hohlkathode auch ein gepulstes Oberflä
chenentladungs- oder Laserplasma genommen werden. Für den
Transport des stromstarken Strahls im Anodenraum muß jedoch
ein minimaler Druck in der Größenordnung 0.2 Pa eingestellt
werden.
Für den Fall, daß der Reservoirraum 1 potentialmäßig hoch
liegt, kann ein Triggerplasma 29 durch eine dielektrische
Röhre 30 mit etwa gleichem Innendurchmesser und gleicher Länge
wie die Beschleunigerröhre 11 in den Reservoirraum 1 geleitet
und damit der Betrieb eingeleitet werden. Das andere Ende der
dielektrischen Röhre ist mit der Triggerquelle 31 über einen
in einer solchen Weise dimensionierten Widerstand 32 geerdet,
daß eine etwaige Nebenentladung zur Triggerquelle 31 keine
Zerstörung anrichtet (s. Fig. 6).
Druckunterschiede zwischen dem Reservior 1 und dem Targetraum
8, in dem sich die Gegenelektrode 3 befindet, kann durch
differentielles Pumpen leicht realisiert werden, da der
Pumpwiderstand der dielektrischen Röhre 5 mit der 4-ten Potenz
des Innendurchmessers und linear mit der Länge zunimmt.
Einen zuverlässigen Schutz des gesamten dielektrischen Röhren
systems vor Kontamination ist gewährleistet, wenn am Ende der
dielektrischen Röhre 5 zur Gegenelektrode 3, 8 eine Gaszufuhr
24 an die Röhre 5 angebracht wird, so daß das Gas sowohl in
Richtung Reservior 1 als auch in den Rezipienten 8 einströ
men kann, in dem sich die Gegenelektrode 3 befindet (Fig. 5).
In den Gaszufuhrschlauch 25 zwischen dem Röhrchenende und der
Gasquelle 26 muß zur Vermeidung einer parasitären Gasentladung
zwischen der dielektrischen Röhre 5 und der Gasquelle 26, ein
weiteres dielektrisches Röhrchen 27 eingebracht werden, das
einen inneren Durchmesser von höchstens 1/2 d aufweist und das
beidseitig an den Stirnflächen metallisiert bzw. mit Elektro
den 28 versehen ist, wobei die zur Gasquelle 26 hin weisende
Elektrode 28 geerdet ist und die andere frei flotiert.
Zur Beschleunigung von Ionen liegt das Potential des Reser
voirs 1 auf Anodenpotenial. Wegen der Abschirmwirkung der
Elektronen und der geringen Beweglichkeit der Ionen muß die
Dichte des Plasmas im Reservoir 1 am Eingang der dielektri
schen Röhre 5 hoch sein. Zur effektiven Extraktion der Ionen
aus dem Plasma in die dielektrische Röhre 5 muß die
Beschleunigungssektion (bis zur ersten Hilfselektrode 13, s.
Fig. 3b) kurz und wegen dem Child-Langmuir Gesetz die Spannung
hoch gewählt werden. Die Hilfselektrode beginnt Strom zu tra
gen. Der ohmsche oder induktive Widerstand 11, der die Hilfs
elektrode 13 mit der Kathode verbindet, läßt die erste Hilfs
elektrode 13 auf Anodenpotential abdriften. Nun übernimmt eine
sich anschließende zweite Hilfselektrode 13 die Aufgabe, das
elektrische Feld aufzubauen und wenn diese durch Strombela
stung deaktiviert wird ist es eine nachfolgende usw. (s. Fig.
3b). Um die Wirkungsquerschnitte für die Umladung der Ionen
niedrig zu halten, muß der residuale Druck so klein wie mög
lich sein. Er lag im Durchführungsbeispiel bei etwa 0.1 Pa.
Diese Art Ionen zu beschleunigen hat zwei Vorteile: Erstens
die Hilfselektroden 13 wirken wie ein Linearbeschleuniger;
zweitens der Ionenstrahl verläßt mit guter Parallelität die
dielektrische Röhre 5.
Der Kanalfunke ist zunächst eine einfache und kostengünstige
Quelle für stromstarke gerichtete Elektronen- und Ionenstrah
len mit deren Hilfe Prozeßenergie in ruhende bzw. differen
tiell gepumpte Gase, Gasgemische und Gemische aus Gas und
Aerosolen deponiert werden kann. Beispielsweise kann durch
differentielles Pumpen in der dielektrischen Röhre 5 ein
Gastarget geschaffen werden, in dem der Elektronenstrahl unter
Erzeugung von Brems- und charakteristischer Strahlung im Gas
abgebremst wird. Aerosole unbekannter Zusammensetzung können
kontinuierlich durch die dielektrische Röhre geleitet werden,
vom Elektronenstrahl vollständig ionisiert und an Hand der
charakteristischen Strahlung bestimmt werden.
Mit Hilfe der Teilchenstrahlen kann Material bestrahlt, abge
tragen und bearbeitet werden (s. Fig. 2). Der Abtragungsprozeß
im Falle der Elektronen ist die Ablation, im Falle der Ionen
die Zerstäubung einschließlich heißer Prozesse.
Die gesputterten, ablatierten und verdampften Materialien 33
entfernen sich vorwiegend in der Targetnormalen vom Target 14
weg und bestehen, in etwa geordnet nach der Leistungsdichte
des Teilchenstrahls, aus Ionen, Atomen, Molekülen, Clustern
und Aerosolen jeder Größe, die zum Teil noch angeregt sind und
Überschußladungen tragen.
Das vom Teilchenstrahl gesputterte, ablatierte und verdampfte
Targetmaterial kann zur Herstellung von Schichten auf Substra
ten nach dem Tayloringverfahren (jede atomare Schicht ver
schieden), als atomare Mischung (zwischen sonst unverträgli
chen Materialien) und als Compoundsubstanz auf hochfesten Fa
sern o. ä. verwendet werden.
Schichten auf Substraten können auch mit atomaren Material
hergestellt werden, das mit Hilfe der Teilchen- und/oder elek
tromagnetischen Strahlen aus seiner gasförmigen chemischen
Verbindung freigesetzt wird.
Die stromstarken Elektronen-/Ionenstrahlen aus dem Kanalfunken
bilden eine Teilchenquelle mit hoher Brillianz und Stromstärke
und können nach einer differentiell-gepumpten Strecke in Mit
tel- und Hochenergiebeschleuniger eingeleitet werden.
Das Plasma, das beim Auftreffen der Teilchenstrahlen auf einem
Target gebildet wird, ist eine ergiebige gepulste Quelle für
elektromagnetische Strahlung (Licht, UV, VUV, weiche Röntgen
strahlung).
Eine sehr intensive-gepulste Lichtquelle 37 erhält man durch
den Beschuß der Stirnfläche eines Lichtleiters 35 mittels des
Teilchenstrahls (s. Fig. 7). Dabei wird ein sehr heißes Plasma
36 aus dem Lichtleitermaterial erzeugt, dessen abgestrahltes
Licht wegen seiner spektralen Zusammensetzung und der Lei
stungsdichte am Ort der Entstehung, mit hoher Ausbeute in den
Lichtleiter eingekoppelt wird.
Zeitgleich mit der Entstehung des Elektronenstrahls bildet
sich in der dielektrischen Röhre ein Plasma und es werden Mi
krowellen aus der Wechselwirkung des Elektronenstrahls mit dem
Plasma erzeugt, die ungeschwächt und ungestört die dielektri
schen Röhre durchdringen und nach außen gelangen.
Am kathodischem Eingang der dielektrischen Röhre bildet sich
eine Zone sehr heißen Plasmas aus. Benutzt man den Kanalfunken
als Vorprozeß für einen nachfolgenden Z-Pinchs, kann man die
ses Gebiet für eine längere Zeit magnetisch komprimieren und
durch ohmsche Prozesse heizen. So gelingt es mit einer Primär
energie von nur 15 J über eine Mikrosekunde das Plasma auf ei
ner Temperatur von Te = 200 eV zu halten. Durch gezielte Kon
tamination mit Atomen höherer Kernladungszahl verfügt man dann
über eine einfache Plasmaquelle für Licht, UV, VUV und weiche
Röntgenstrahlung bis zu einer Energie von 2 keV. Wegen der ge
ringen Liniendichte des aus dem residualen Gas gebildeten
Plasmas ist die Linienverbreiterung der Strahlung ebenfalls
gering. Der Wirkungsgrad für die abgegebene Strahlung zwischen
10 eV und 2 keV liegt bei 10 %, der zwischen 700 eV und 2 keV
unter ein Promille.
Der Elektronenstrahl der Kanalentladung zeichnet sich durch
einen hohen Strom im unteren kA-Bereich bei vergleichsweise
niedriger Beschleunigungsspannung (5-10 kV) aus und eignet
sich zur Herstellung gepulster weicher Bremsstrahlung nach
Auftreffen des gut fokusierten Elektronenstrahls auf ein Tar
get. Mit dieser Bremsstrahlung können biologische Strukturen
im Mikrometerbereich durch Schattenwurf abgebildet werden.
Da an der Beschleunigersektion 11 Spannungsdifferenzen bis
über 100 kV gehalten werden können eignet sich die Kanalentla
dung als freilaufender und triggerbarer Schalter für hohe
Spannungen. Für geringere Spannungen kann die Kanalentladung
auch als Impulsgenerator mit Repetitionsfrequenzen bis 10 kHz
eingesetzt werden.
Bezugszeichenliste
1 Reservoir
2 Elektrode, Kathodenelektrode
3 Elektrode, Anode
4 Öffnung
5 Rohrraum, Rohr, Quarzröhre
6 Spannungsteiler
7 Ionen-, Teilchenstrahl, Elektronenstrahl
8 Rezipient, Targetraum
9 Hilfselektrode, Hilfsanode
10 Widerstand, Induktivität
11 Rohrsegment, Kanalbeschleuniger
12 Achse
13 Hilfselektroden
14 Target, Targetbereich
15 Magnet
16 Rohrsegment
17 geschlitzter, dielektrischer Körper
18 geschlitzter, dielektrischer Körper
19 geschlitzter, dielektrischer Körper
20 geschlitzter, dielektrischer Körper
21 Oberflächenströme
22 Senke
24 Gaszufuhr
25 Gaszufuhrschlauch
26 Gasquelle
27 dielektrisches Röhrchen
28 Elektrode
29 Triggerplasma
30 dielektrische Röhre
31 Triggerquelle
32 Widerstand
33 Material, Materialwolke
34 Stirnfläche
35 Lichtleiter
36 Plasma
37 Licht, Lichtquelle
38 negative Ladungswolke, negative Raumladung
39 positive Raumladung
2 Elektrode, Kathodenelektrode
3 Elektrode, Anode
4 Öffnung
5 Rohrraum, Rohr, Quarzröhre
6 Spannungsteiler
7 Ionen-, Teilchenstrahl, Elektronenstrahl
8 Rezipient, Targetraum
9 Hilfselektrode, Hilfsanode
10 Widerstand, Induktivität
11 Rohrsegment, Kanalbeschleuniger
12 Achse
13 Hilfselektroden
14 Target, Targetbereich
15 Magnet
16 Rohrsegment
17 geschlitzter, dielektrischer Körper
18 geschlitzter, dielektrischer Körper
19 geschlitzter, dielektrischer Körper
20 geschlitzter, dielektrischer Körper
21 Oberflächenströme
22 Senke
24 Gaszufuhr
25 Gaszufuhrschlauch
26 Gasquelle
27 dielektrisches Röhrchen
28 Elektrode
29 Triggerplasma
30 dielektrische Röhre
31 Triggerquelle
32 Widerstand
33 Material, Materialwolke
34 Stirnfläche
35 Lichtleiter
36 Plasma
37 Licht, Lichtquelle
38 negative Ladungswolke, negative Raumladung
39 positive Raumladung
Claims (13)
1. Verfahren zum Beschleunigen elektrisch geladener Teilchen
aus einem gepulsten Plasmareservoir hoher Teilchendichte
mittels einer an zwei Elektroden angelegten Spannung, da
durch gekennzeichnet, daß
- - aus dem Reservoir (1) die geladenen Teilchen mit hoher Stromstärke und -dichte in mindestens einem an der Re servoirwand beginnenden dielektrischen Rohrraum (5) ge saugt trotz elektrostatischer Abstoßung darin gefangen und in Richtung der Elektrode (3) beschleunigt werden und danach durch sie in einen Targetraum (8) fliegen und dort als Prozeßenergie der Benutzung zugeführt werden;
- - zur Raumladungsreduktion und elektrostatischen Fo kussierung eine residuale Gasfüllung im dielektrischen Rohrraum (5) mit dem Restdruck p durch den Teilchenstrom (7) ionisiert und elektrisch polarisiert wird, so daß die innere Wand des Rohrraums für den Teilchenstrahl ab stoßend und die Achse anziehend aufgeladen wird;
- - das Produkt aus residualem Druck p und Innendurchmesser d des Rohrraumes (5) so niedrig eingestellt wird, daß die von außen angelegte Beschleunigungsspannung trotz einer parasitären Entladung in der residualen Gasfüllung im wesentlichen für die Beschleunigung des Teilchenstrahls (7) erhalten bleibt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
durch lokal begrenzte und an vorgegebenen Orten, auf den
Teilchenstrahl (7) im Rohrraum (5) wirkende Magnetfelder
eine vorgegebene Ablenkung des Strahls (7) bewirkt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß über
eine Querschnittsänderung des Rohrraumes (5) die Strom
dichte des austretenden Teilchenstrahls (7) geändert wird.
4. Verfahren nach Anspruch 2 und 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die Beschleunigungsstrecke im Rohrraum (5) durch eine
an die Elektrode (3) über einen Widerstand (10) oder eine
Induktivität (10) gekoppelte Hilfselektrode (9), die um den
Rohrraum (5) angebracht ist, verkürzt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
Potentialabstufung zwischen den Elektroden (2, 3) über einen
Spannungsteiler (6) eingestellt wird, an dessen Zwischenab
zweige um den Rohrraum (5) liegende Hilfselektroden (13)
angeschlossen sind.
6. Teilchenbeschleuniger zur Durchführung des Verfahrens nach
Anspruch 1, bestehend aus einer gepulsten Quelle, die die
geladenen Teilchen liefert, und einem Reservoir, das mit
den geladenen Teilchen beschickt wird sowie einer Beschleu
nigungseinrichtung, dadurch gekennzeichnet, daß
- - zwischen zwei Elektroden (2, 3), von denen die eine (2) das Reservoir (1) teilweise mitbegrenzt und die andere (3) außerhalb liegt, mindestens ein dielektrischer Rohr raum (5) eingerichtet ist, der mit einer Öffnung in der Elektrode (2) beginnt und zur andern Elektrode (3) ge richtet ist und in dem die Teilchenbeschleunigung raum ladungsreduziert stattfindet und der Teilchenstrahl (7) elektrostatisch fokussiert wird;
- - der an der Elektrode (2) beginnende dielektrische Rohr raum (5) eine Mindestlänge von dreimal seinem Innen durchmesser hat;
- - zur Erhaltung der axialen elektrischen Isolation bei Kontamination der dielektrische Rohrraum (5) zwischen den beiden Elektroden (2, 3) teilweise oder ganz durch ein System von fluchtend angeordneten, dielektrischen Rohrsegmente (16) ausgebildet ist, die ein innen radial (bzw. topologisch beliebig) geschlitzter, dielektrischer Körper (18, 19, 20) mit fluchtender Innenbohrung jeweils verbindet, so daß innere Oberflächenströme (21) zwischen den Röhrensegmenten (16) nicht fließen können.
7. Teilchenbeschleuniger nach Anspruch 6, dadurch gekennzeich
net, daß die radiale bzw. topologisch beliebige Schlitzung
des dielektrischen Körpers (18, 19, 20) zusätzlich eine Senke
(22) enthält, so daß der nach der Senkung sich an
schließende Hinterraum vor Kontamination und Oberflä
chenleitfähigkeit geschützt ist.
8. Teilchenbeschleuniger nach den Ansprüchen 6 und 7, dadurch
gekennzeichnet, daß am Ende der dielektrischen Röhre (5)
zur Gegenelektrode (3, 8) hin eine Gaszufuhr (24) in Rich
tung Reservoir (1) als auch in den Rezipienten (8) einströ
men kann, in dem sich die Gegenelektrode (3, 8) befindet.
9. Teilchenbeschleuniger nach den Ansprüchen 6 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, daß in den Gaszufuhrschlauch (25) zwischen
dem Röhrchenende (24) und der Gasquelle (26), zur Vermei
dung einer parasitären Gasentladung zur Gasquelle (26), ein
dielektrisches Röhrchen (27) eingebracht wird, das einen
inneren Durchmesser von höchstens 1/2 d aufweist und das
beidseitig an den Stirnflächen metallisiert bzw. mit Elek
troden (28) versehen ist, wobei die zur Gasquelle (26) hin
weisende Elektrode (28) geerdet ist und die andere frei
flotiert.
10. Teilchenbeschleuniger nach Anspruch 6, dadurch gekennzeich
net, daß das Reservoir (1) ein gepulstes Festkörperplasma
ist.
11. Teilchenbeschleuniger nach Anspruch 6 dadurch gekennzeich
net, daß die Quelle eine gepulste Hohlkathode und das Re
servoir (1) ein Hohlkathodenplasma ist.
12. Teilchenbeschleuniger nach Anspruch 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß im Falle eines potentialmäßig hochliegenden
Reservoirraums (1) ein Triggerplasma (29) oder Teilchen
ströme niederer Energie durch den dielektrischen Rohrraum
(30) mit etwa gleichem Innendurchmesser und gleicher Länge
wie die Beschleunigerröhre in den Reservoirraum (1) gelei
tet wird.
13. Teilchenbeschleuniger nach Anspruch 12, dadurch gekenn
zeichnet, daß die dielektrische Röhre (5), die das Trigger
plasma (29) oder die Teilchenströme niederer Energie in den
Reserviorraum transportiert am anderen Ende über einen Wi
derstand (32) geerdet ist, so daß die Nebenentladung zur
Triggerquelle (31) keine Zerstörung anrichten kann.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19813589A1 (de) * | 1998-03-27 | 1999-09-30 | Karlsruhe Forschzent | Verfahren zur Erzeugung eines gepulsten Elektronenstrahls und Triggerplasmaquelle zur Durchführung des Verfahrens |
DE19902146A1 (de) * | 1999-01-20 | 2000-08-03 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Einrichtung zur gepulsten Plasmaaktivierung |
WO2003071577A2 (de) * | 2002-02-25 | 2003-08-28 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Kanalfunkenquelle zur erzeugung eines stabil gebündelten elektronenstrahls |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3482949B2 (ja) * | 2000-08-04 | 2004-01-06 | 松下電器産業株式会社 | プラズマ処理方法及び装置 |
US6906338B2 (en) * | 2000-08-09 | 2005-06-14 | The Regents Of The University Of California | Laser driven ion accelerator |
DE10310623B8 (de) * | 2003-03-10 | 2005-12-01 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas durch elektrische Entladung in einem Entladungsraum |
WO2005027913A1 (en) * | 2003-09-19 | 2005-03-31 | Pfizer Products Inc. | Pharmaceutical compositions and methods comprising combinations of 2-alkylidene-19-nor-vitamin d derivatives and a growth hormone secretagogue |
ITMI20040008A1 (it) * | 2004-01-08 | 2004-04-08 | Valentin Dediu | Processo per la produzione di nanotubi di carbonio a singola parete |
ITMI20050585A1 (it) * | 2005-04-07 | 2006-10-08 | Francesco Cino Matacotta | Apparato e processo per la generazione accelerazione e propagazione di fasci di elettroni e plasma |
US7557511B2 (en) * | 2005-08-01 | 2009-07-07 | Neocera, Llc | Apparatus and method utilizing high power density electron beam for generating pulsed stream of ablation plasma |
KR20080041285A (ko) * | 2005-08-30 | 2008-05-09 | 어드밴스드 테크놀러지 머티리얼즈, 인코포레이티드 | 저압 가스 이송 장치 및 방법 |
DE102006028856B4 (de) * | 2006-06-23 | 2008-05-29 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Verfahren zum Aufbringen einer bioaktiven, gewebeverträglichen Schicht auf einen Formkörper, solche Formkörper sowie Verwendung solchermaßen beschichteter Formkörper |
IT1395701B1 (it) | 2009-03-23 | 2012-10-19 | Organic Spintronics S R L | Dispositivo per la generazione di plasma e per dirigere un flusso di elettroni verso un bersaglio |
JP5681030B2 (ja) * | 2011-04-15 | 2015-03-04 | 清水電設工業株式会社 | プラズマ・電子ビーム発生装置、薄膜製造装置及び薄膜の製造方法 |
RU2462009C1 (ru) * | 2011-06-08 | 2012-09-20 | Мурадин Абубекирович Кумахов | Способ изменения направления движения пучка ускоренных заряженных частиц, устройство для осуществления этого способа, источник электромагнитного излучения, линейный и циклический ускорители заряженных частиц, коллайдер и средство для получения магнитного поля, создаваемого током ускоренных заряженных частиц |
ITBO20120695A1 (it) * | 2012-12-20 | 2014-06-21 | Organic Spintronics S R L | Dispositivo di deposizione a plasma impulsato |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4201921A (en) * | 1978-07-24 | 1980-05-06 | International Business Machines Corporation | Electron beam-capillary plasma flash x-ray device |
US4335465A (en) * | 1978-02-02 | 1982-06-15 | Jens Christiansen | Method of producing an accellerating electrons and ions under application of voltage and arrangements connected therewith |
DE3834402C1 (de) * | 1988-10-10 | 1989-05-03 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe, De | |
DE3844814A1 (de) * | 1988-03-19 | 1992-02-27 | Kernforschungsz Karlsruhe | Teilchenbeschleuniger zur erzeugung einer durchstimmbaren punktfoermigen hochleistungs-pseudofunken-roentgenquelle |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3546524A (en) * | 1967-11-24 | 1970-12-08 | Varian Associates | Linear accelerator having the beam injected at a position of maximum r.f. accelerating field |
US3864640A (en) * | 1972-11-13 | 1975-02-04 | Willard H Bennett | Concentration and guidance of intense relativistic electron beams |
US4020384A (en) * | 1975-08-25 | 1977-04-26 | The Raymond Lee Organization, Inc. | Linear particle accelerator |
US4128764A (en) * | 1977-08-17 | 1978-12-05 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Collective field accelerator |
US4363774A (en) * | 1978-01-24 | 1982-12-14 | Bennett Willard H | Production and utilization of ion cluster acceleration |
SU793343A1 (ru) * | 1979-11-06 | 1982-01-30 | Предприятие П/Я А-7094 | Ускор юща структура |
US4748378A (en) * | 1986-03-31 | 1988-05-31 | The United States Of America As Represented By The Department Of Energy | Ionized channel generation of an intense-relativistic electron beam |
JPS63100364A (ja) * | 1986-10-16 | 1988-05-02 | Fuji Electric Co Ltd | 酸化物超微粉膜の製造装置 |
US4894546A (en) * | 1987-03-11 | 1990-01-16 | Nihon Shinku Gijutsu Kabushiki Kaisha | Hollow cathode ion sources |
US4912421A (en) * | 1988-07-13 | 1990-03-27 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Variable energy constant current accelerator structure |
US4990229A (en) * | 1989-06-13 | 1991-02-05 | Plasma & Materials Technologies, Inc. | High density plasma deposition and etching apparatus |
DE69226360T2 (de) * | 1991-03-25 | 1999-02-25 | Commw Scient Ind Res Org | Makroteilchenfilter in lichtbogenquelle |
-
1992
- 1992-03-19 DE DE4208764A patent/DE4208764C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-03-18 DE DE59308583T patent/DE59308583D1/de not_active Expired - Lifetime
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- 1993-03-18 WO PCT/DE1993/000253 patent/WO1993019572A1/de active IP Right Grant
- 1993-03-18 JP JP5516169A patent/JP2831468B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-09-06 US US08/301,078 patent/US5576593A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4335465A (en) * | 1978-02-02 | 1982-06-15 | Jens Christiansen | Method of producing an accellerating electrons and ions under application of voltage and arrangements connected therewith |
US4201921A (en) * | 1978-07-24 | 1980-05-06 | International Business Machines Corporation | Electron beam-capillary plasma flash x-ray device |
DE3844814A1 (de) * | 1988-03-19 | 1992-02-27 | Kernforschungsz Karlsruhe | Teilchenbeschleuniger zur erzeugung einer durchstimmbaren punktfoermigen hochleistungs-pseudofunken-roentgenquelle |
DE3834402C1 (de) * | 1988-10-10 | 1989-05-03 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe, De |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Appl. Phys. Lett. Bd. 56(18)(1990) S. 1746-1748 * |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19813589A1 (de) * | 1998-03-27 | 1999-09-30 | Karlsruhe Forschzent | Verfahren zur Erzeugung eines gepulsten Elektronenstrahls und Triggerplasmaquelle zur Durchführung des Verfahrens |
WO1999050878A2 (de) * | 1998-03-27 | 1999-10-07 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Verfahren zur erzeugung eines gepulsten elektronenstrahls und triggerplasmaquelle zur durchführung des verfahrens |
WO1999050878A3 (de) * | 1998-03-27 | 2001-12-20 | Karlsruhe Forschzent | Verfahren zur erzeugung eines gepulsten elektronenstrahls und triggerplasmaquelle zur durchführung des verfahrens |
DE19813589C2 (de) * | 1998-03-27 | 2002-06-20 | Karlsruhe Forschzent | Verfahren zum Erzeugen eines gepulsten Elektronenstrahls und Elektronenstrahlquelle zur Durchführung des Verfahrens |
DE19902146A1 (de) * | 1999-01-20 | 2000-08-03 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Einrichtung zur gepulsten Plasmaaktivierung |
DE19902146C2 (de) * | 1999-01-20 | 2003-07-31 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Einrichtung zur gepulsten Plasmaaktivierung |
WO2003071577A2 (de) * | 2002-02-25 | 2003-08-28 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Kanalfunkenquelle zur erzeugung eines stabil gebündelten elektronenstrahls |
WO2003071577A3 (de) * | 2002-02-25 | 2003-12-24 | Karlsruhe Forschzent | Kanalfunkenquelle zur erzeugung eines stabil gebündelten elektronenstrahls |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0631712A1 (de) | 1995-01-04 |
US5576593A (en) | 1996-11-19 |
DE59308583D1 (de) | 1998-06-25 |
DE4208764C2 (de) | 1994-02-24 |
EP0631712B1 (de) | 1998-05-20 |
JP2831468B2 (ja) | 1998-12-02 |
JPH07501654A (ja) | 1995-02-16 |
WO1993019572A1 (de) | 1993-09-30 |
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