WO2000076945A2 - Uv-aktivierte chlorierung - Google Patents

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WO2000076945A2
WO2000076945A2 PCT/DE2000/001953 DE0001953W WO0076945A2 WO 2000076945 A2 WO2000076945 A2 WO 2000076945A2 DE 0001953 W DE0001953 W DE 0001953W WO 0076945 A2 WO0076945 A2 WO 0076945A2
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mol
hcfc
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Max Braun
Kerstin Eichholz
Stefan Palsherm
Carsten Brosch
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Solvay Fluor Und Derivate Gmbh
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    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
    • C07C17/10—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • C07C17/395—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by treatment giving rise to a chemical modification of at least one compound

Definitions

  • the invention relates to a process for the production of certain chlorine-containing alkanes by UV-assisted chlorination.
  • the object of the present invention is to provide a process with which chlorine-containing alkanes can be prepared with high reaction rate and high selectivity. This object is achieved by the method of the present invention.
  • the process according to the invention for the production of chlorine-containing alkanes selected from the group comprising pentachloroethane; 1, 1, 1-trifluoro-2, 2, 2-trichloroethane; 1,1,1-trifluoro-2,2-dichloroethane and 1, 1, 1, 2-tetrachloro-2, 2-difluoro-ethane by adding chlorine to starting compounds with CC double bonds or by exchanging hydrogen for chlorine and for the preparation of purified 1, 1, 1, 3, 3-pentafluorobutane from 1, 1, 1, 3, 3-pentafluorobutane which is contaminated by compounds with CC double bonds or CC triple bonds with chlorination of these unsaturated compounds that contacting the starting compound in the gas phase or liquid phase with elemental chlorine under the irradiation of UV light with a wavelength of ⁇ > 280 nm.
  • a variant of the invention relates to use as a manufacturing process (production process).
  • Another variant relates to the use as a cleaning process. In the following, the application as a manufacturing process is first explained.
  • the process for the preparation of pentachloroethane from trichlorethylene is very particularly preferably used, for the preparation of 1, 1, 1, 2-tetrachloro-2, 2-difluoroethane from 1-chloro-l, 1-difluoroethane and for the preparation of 1,1 , 1-trifluoro-2, 2, 2-trichloroethane from 1, 1, 1-trifluoro-2, 2-dichloroethane.
  • the molar ratio of starting compound to elemental chlorine is in the range from 1: 0.1 to 1:10 when adding chlorine, and in the range from 1: 0.01 to 1: 5 when replacing hydrogen with chlorine. If you want to replace only one of two H atoms when replacing hydrogen with chlorine, the ratio of starting compounds to chlorine is in the upper range (lower chlorine content).
  • the chlorine is preferably used in 0.9 times to 1.3 times the amount stoichiometrically required.
  • Another variant of the invention relates to the purification of 1, 1, 1, 3, 3-pentafluorobutane (HFC-365mfc) with the aim of removing photochlorinated olefinic impurities. It has been shown that the olefinic compounds which are contained as a result of production can be converted essentially selectively by the photochlorination according to the invention and can be separated off in a simplified manner in the form of the chlorination products.
  • Irradiation lamps e.g. Philips fluorescent tubes
  • UV light a wavelength at or above 280 nm ( ⁇ > 280 nm) can advantageously be used for the irradiation. Irradiation through quartz glass is possible here.
  • this variant is that these lamps emit in the absorption area of elemental chlorine.
  • radiation lamps for example Hg medium or high-pressure lamps
  • irradiation must be carried out through a glass which is only permeable to light of a wavelength of 280 nm or above ( ⁇ > 280 nm), that is to say the shorter-wave radiation component with ⁇ ⁇ 280 nm is filtered out.
  • Borosilicate glasses for example, are well suited for this.
  • Such glasses usually contain 7 to 13% B 2 0 3 , 70 to 80% Si0 2 , further 2 to 7% Al 2 0 3 and 4 to 8% Na 2 0 + K 2 0 and 0 to 5% alkaline earth metal oxides.
  • Well-known trademarks for borosilicate glasses are Duran, Pyrex and Solidex.
  • an irradiation lamp which emits light above the specified wavelength
  • glasses which are transmissive to light above the specified wavelength (ie are correspondingly opaque to light below the specified wavelength).
  • Lamps e.g. B. Hg high-pressure lamps that emit mainly or only in the wave range at or above 280 nm due to a dopant.
  • Hg high-pressure lamps for example, have a very intense band in the range of 254 nm, which, as has been described above, e.g. B. is filtered out by borosilicate glass. This line is strongly suppressed in Hg high-pressure lamps doped with metal iodides. Surprisingly, the often disproportionate increase in the conversion rate in the case of such doped emitters is excellent.
  • Hg high-pressure emitters which are doped with gallium iodide and especially with emitters that are doped with thallium iodide or cadmium iodide. Even when such radiators are used, glass is advantageously used which filters out the shorter-wave radiation component with ⁇ ⁇ 280 nm. It is expedient and technically advantageous to use the entire radiation range with wavelengths above the limit mentioned.
  • HFC-365mfc can be cleaned in the liquid or gas phase.
  • Pentachloroethane is expediently prepared in the liquid phase.
  • CFC-112a, CFC-113a and HCFC-123 are expediently produced in the gas phase. Continuous work is particularly possible in the gas phase.
  • the process is advantageously carried out in a flow-through apparatus.
  • the procedure is such that the starting material (the corresponding hydrogen and halogen-containing starting compound and chlorine) is fed continuously into the flow-through apparatus and the reaction product is continuously drawn off in accordance with the amount fed in.
  • the average residence time in the reaction vessel is preferably between 0.01 and 30 minutes, preferably between 0.01 and 3 minutes, in particular between 0.5 and 3.0 minutes. Even with very short dwell times, e.g. B. between 0.04 and 0.5 minutes, good results are already achieved.
  • the optimal average residence time which u. a. depends on the lamp power and on the geometric parameters of the irradiation apparatus (flow apparatus), you can do it by simple manual tests and analysis of the product flow, e.g. B. by gas chromatography.
  • the product is ß separated after leaving the respective reactions, e.g. B. by freezing.
  • the process is preferably carried out batchwise.
  • the advantage of the process is high turnover with high selectivity.
  • Double jacket glass reactor double jacket for oil heating
  • immersion shaft made of quartz glass (400 ml reaction volume) equipped with HQ immersion lamp TQ 718 from Heraeus Noble-light with water cooling.
  • the 1, 1, 1-trifluoro-2, 2-dichloroethane was evaporated and fed to the reactor in gaseous form from below together with chlorine.
  • the outlet of the product flow was on the top.
  • the reaction temperature was 110 ° C.
  • the 365mfc is pumped into the Pfaudier.
  • the Hg immersion lamp 700 watts was switched on with stirring.
  • 20 ml / h of chlorine are metered through an immersion tube until no more olefins were detectable in the SIM run of the GC-MSD.
  • the mercury immersion lamp was operated for another hour.
  • the 365mfc treated in this way is drained off and finely distilled in a distillation column (height: 3 m, diameter 100 mm, filled with 10 mm Raschig packing made of glass).
  • the pentachloroethane produced in this way had a purity of 99.4% (remainder: unreacted trichlorethylene and hexachloretane) and can be used without further cleaning.
  • the pentachloroethane thus produced had a purity of 83.3% (remainder: unreacted trichlorethylene and large amounts of hexachloroethane). Examples 15 to 19;

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Abstract

Chlor enthaltende Alkane können durch Anlagerung von Chlor an C-C-Doppelbindungen oder C-C-Dreifachbindungen oder einen Austausch von Wasserstoff gegen Chlor hergestellt werden, wobei man die Ausgangsverbindung in der Gasphase oder Flüssigphase mit elementarem Chlor unter Einstrahlung von UV-Licht einer Wellenlänge mit μ ≥ 280 nm kontaktiert. Auf diese Weise kann Pentachloretahn aus Trichlorethylen, CFC-113 aus HCFC-123 oder HFC-133a, CFC-112a aus HCFC-142b oder HCFC-123 aus HCFC-133a hergestellt werden. Das Verfahren eignet sich auch zur Reinigung von HFC-365mfc mit dem Ziel der Abrennung photochlorierbarer Verunreinigungen. Vorteil des Verfahrens ist, daß die Produkte mit hoher Ausbeute und in hoher Selektivität entstehen.

Description

UV-aktivierte Chlorierung
Beschreibung
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von bestimmten, Chlor enthaltenden Alkanen durch UV-Licht unterstützte Chlorierung.
Es ist bereits seit langem bekannt, daß elementares Chlor unter Lichteinstrahlung an ungesättigte Kohlenstoffbindungen anlagert bzw. ein Austausch von Wasserstoff gegen Chlor erfolgt .
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren anzugeben, mit welchem sich mit hoher Reaktionsgeschwindigkeit und hoher Selektivität Chlor enthaltende Alkane herstellen lassen. Diese Aufgabe wird durch das Verfahren der vorliegenden Erfindung gelöst.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von Chlor enthaltenden Alkanen ausgewählt aus der Gruppe umfassend Pentachlorethan; 1, 1, 1-Trifluor-2 , 2, 2-trichlorethan; 1,1,1- Trifluor-2,2-dichlorethan und 1, 1, 1, 2-Tetrachlor-2, 2-difluor- ethan durch Anlagerung von Chlor an Ausgangsverbindungen mit C-C-Doppelbindungen oder durch einen Austausch von Wasserstoff gegen Chlor und zur Herstellung von gereinigtem 1, 1, 1, 3 , 3-Pentafluorbutan aus 1, 1, 1, 3 , 3-Pentafluorbutan, das durch Verbindungen mit C-C-Doppelbindungen oder C-C-Dreifach- bindungen verunreinigt ist unter Chlorierung dieser ungesättigten Verbindungen sieht vor, daß man die Ausgangsverbindung in der Gasphase oder Flüssigphase mit elementarem Chlor unter Einstrahlung von UV-Licht einer Wellenlänge von λ >280 nm kontaktiert.
Dabei kann man in der Flüssigphase arbeiten oder auch in der Gasphase. Generell kann man bei einer Temperatur im Bereich von Raumtemperatur bis 200 °C und bei einem Druck von 1 bis 10 bar (abs.) arbeiten. Die Reaktionstemperatur und der Druck wird so gewählt, daß die zu behandelnde Ausgangsverbindung oder das Ausgangsgemisch in der Gasphase bzw. in der Flüssigphase vorliegt. Eine Variante der Erfindung betrifft die Anwendung als Herstellungsverfahren (Produktionsverfahren) . Eine andere Variante betrifft die Anwendung als Reinigungsverfahren. Im folgenden wird zunächst die Anwendung als Herstellungsverfahren erläutert.
Ganz besonders bevorzugt wendet man das Verfahren zur Herstellung von Pentachlorethan aus Trichlorethylen an, zur Herstellung von 1, 1, 1, 2-Tetrachlor-2 , 2-difluorethan aus 1-Chlor-l, 1-difluorethan sowie zur Herstellung von 1,1,1-Tri- fluor-2 , 2 , 2-trichlorethan aus 1, 1, 1-Trifluor-2 , 2-dichlor- ethan.
Das Molverhältnis von Ausgangsverbindung zu elementarem Chlor liegt bei der Anlagerung von Chlor im Bereich von 1:0,1 bis 1:10, beim Austausch von Wasserstoff gegen Chlor im Bereich von 1:0,01 bis 1:5. Will man beim Austausch von Wasserstoff gegen Chlor nur eins von zwei H-Atomen austauschen, liegt das Verhältnis von Ausgangsverbindungen zu Chlor im oberen Bereich (geringerer Chlorgehalt) . Bevorzugt setzt man das Chlor in der 0,9-fachen bis 1,3-fachen Menge der stöchio- metrisch benötigten Menge ein.
Eine andere Variante der Erfindung betrifft die Reinigung von 1, 1, 1, 3 , 3-Pentafluorbutan (HFC-365mfc) mit dem Ziel der Abtrennung photochlorierbarer olefinischer Verunreinigungen. Es hat sich gezeigt, daß die olefinischen Verbindungen, die herstellungsbedingt enthalten sind, im wesentlichen selektiv durch die erfindungsgemäße Photochlorierung umgewandelt und in Form der Chlorierungsprodukte vereinfacht abgetrennt werden können. Zur Bestrahlung kann man vorteilhaft Bestrahlungslampen (z. B. Philips-Leuchtstoff-Röhren) verwenden, die nur (UV) -Licht einer Wellenlänge bei oder oberhalb von 280 nm (λ >280 nm) abstrahlen. Hier ist die Bestrahlung durch Quarzglas möglich. Einzige Voraussetzung für diese Variante ist, daß diese Lampen im Absorptionsbereich des elementaren Chlor emittieren. Alternativ dazu kann man auch beispielsweise Bestrahlungslampen (z. B. Hg-Mittel- oder Hochdruckstrahler) verwenden, die auch einige Linien im Bereich unterhalb von 280 nm (λ >280 nm) emittieren. Bei dieser Variante muß durch ein Glas bestrahlt werden, das nur für Licht einer Wellenlänge von 280 nm oder darüber (λ >280 nm) durchlässig ist, also den kürzerwelligen Bestrahlungsanteil mit λ <280 nm herausfiltert. Gut geeignet dafür sind beispielsweise Borosili- kat-Gläser. Derartige Gläser enthalten üblicherweise 7 bis 13 % B203, 70 bis 80 % Si02, ferner 2 bis 7 % Al203 und 4 bis 8 % Na20 + K20 sowie 0 bis 5 % Erdalkalimetalloxide. Bekannte Warenzeichen für Borosilikat-Gläser sind Duran, Pyrex und Solidex. Selbstverständlich kann man auch so vorgehen, daß man einerseits eine Bestrahlungslampe einsetzt, die Licht oberhalb der angegebenen Wellenlänge abstrahlt, und zusätzlich Gläser verwendet, die für Licht oberhalb der angegebenen Wellenlänge durchlässig sind (d. h. für Licht unterhalb der angegebenen Wellenlänge entsprechend undurchlässig sind) .
Gut geeignet zur Bestrahlung sind auch Lampen, z. B. Hg-Hochdrucklampen, die aufgrund eines Dotierungsmittels überwiegend oder nur im Wellenbereich bei oder oberhalb von 280 nm abstrahlen. Hg-Hochdruckstrahler beispielsweise weisen eine recht intensive Bande im Bereich von 254 nm auf, die, wie oben beschrieben worden ist, z. B. durch Borosilikat-Glas herausgefiltert wird. Bei durch Metalliodide dotierten Hg- Hochdruckstrahlern ist diese Linie stark unterdrückt. Überraschend ist die oft überproportionale Erhöhung der Umsatzrate bei solchen dotierten Strahlern hervorragende Ergebnisse im Hinblick auf Umsatzrate und Selektivität erzielt man mit Hg-Hochdruckstrahlern, die mit Galliumiodid dotiert sind, und besonders mit Strahlern, die mit Thalliumiodid oder Cadmium- iodid dotiert sind. Auch bei Verwendung solcher Strahler setzt man vorteilhaft Glas ein, das den kürzerwelligen Strahlungsanteil mit λ <280 nm herausfiltert . Zweckmäßig und technisch vorteilhaft ist es, den gesamten Strahlungsbereich mit Wellenlängen oberhalb der genannten Grenze auszunutzen.
Die Reinigung von HFC-365mfc kann in der Flüssig- oder Gasphase erfolgen. Die Herstellung von Pentachlorethan erfolgt zweckmäßig in der Flüssigphase. Die Herstellung von CFC-112a, CFC-113a und HCFC-123 erfolgt zweckmäßig in der Gasphase. In der Gasphase ist kontinuierliches Arbeiten besonders gut möglich.
In der Gasphase führt man das Verfahren vorteilhaft in einer Durchflußapparatur durch. Man geht so vor, daß man kontinuierlich Ausgangsmaterial (die entsprechende Wasserstoff und Halogen enthaltende Ausgangsverbindung sowie Chlor) in die Durchflußapparatur einspeist und entsprechend der eingespeisten Menge kontinuierlich Reaktionsprodukt abzieht.
Die durchschnittliche Verweilzeit im Reaktionsgefäß liegt vorzugsweise zwischen 0,01 und 30 Minuten, vorzugsweise zwischen 0,01 und 3 Minuten, insbesondere zwischen 0,5 und 3,0 Minuten. Selbst bei sehr kurzen Verweilzeiten, z. B. zwischen 0,04 und 0,5 Minuten, werden schon gute Ergebnisse erzielt. Die optimale durchschnittliche Verweilzeit, die u. a. von der Lampenleistung und von geometrischen Parametern der Bestrahlungsapparatur (Durchflußapparatur) abhängig ist, kann man durch einfache Handversuche und Analyse des Produktstromes, z. B. durch Gaschromatographie, ermitteln.
Bessere Umsatzraten und höhere Selektivität können erzielt werden, wenn statt einer einzelnen Bestrahlungslampe mit bestimmter Leistung zwei oder mehr leistungsschwachere Lampen gleicher Gesamtleistung in hintereinandergeschalteten Reaktoren eingesetzt werden. Dabei wird das Produkt zweckmä- ßig nach Verlassen der jeweiligen Reaktionen abgetrennt, z. B. durch Ausfrieren. Auch ist eine gute Verwirbelung der Reaktionsmischung, z. B. durch geeignete Einbauten im Reaktor, oft von Vorteil. In der Flüssigphase arbeitet man bevorzugt batchweise .
Vorteil des Verfahrens ist hoher Umsatz bei hoher Selektivität .
Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung weiter erläutern, ohne sie in ihrem Umfang einzuschränken.
Beispiele 1 bis 6;
Herstellung von 1, 1, 1-Trifluor-2, 2 , 2-trichlorethan (CFC-113a) durch Photochlorierung von 1, 1, 1-Trifluor-2 , 2-dichlorethan (HCFC-123) durch Duran 50 mit Licht der Wellenlänge λ >280 nm
Apparatur: Doppelmantel Glasreaktor (Doppelmantel für Ölheizung) mit Tauchschacht aus Duran® 50 (400 ml Reaktionsvolumen) , ausgestattet mit Hg-Tauchlampe TQ 718 von Heraeus Noblelight mit Wasserkühlung. Das 1, 1, 1-Trifluor-2 , 2 , -Di- chlorethan wurde mit einem Vorverdampfer verdampft und gasförmig von unten zusammen mit Chlor dem Reaktor (gemischt) zugeführt. Der Austritt des Produktstromes lag an der Oberseite. Die Reaktionstemperatur betrug 110 °C. Der den Reaktor verlassende Gasstrom wurde durch GC (Probenahme in Gasmaus) analysiert.
Versuch 1 bis 6 durchgeführt mit unterschiedlichen Chlor- feeds :
rsuch mol % Chlor Umsatz 113a-Selektivität
1 10 3,79 99,13
2 30 6,18 99,04
3 60 17,41 97,7
4 90 31 ,94 98,29
5 120 80,63 95,9
6 150 100 97,3
Angabe der Analysen in GC Flächenproze r:
Beispiele 7 bis 11 (Vergleichsversuche) ;
Herstellung von 113a durch Photochlorierung von 123 durch Quarzglas
Apparatur: Doppelmantel Glasreaktor (Doppelmantel für Ölheizung) mit Tauchschacht aus Quarzglas (400 ml Reaktionsvolumen) ausgestattet mit Hg-Tauchlampe TQ 718 von Heraeus Noble- light mit Wasserkühlung. Das 1, 1, 1-Trifluor-2 , 2-Dichlorethan wurde verdampft und gasförmig von unten zusammen mit Chlor dem Reaktor zugeführt. Der Austritt des Produktstromes lag an der Oberseite. Die Reaktionstemperatur betrug 110 °C.
Versuch 1 bis 5 durchgeführt mit unterschiedlichen Chlor- feeds :
Versuch mol % Chlor Conversion 113a-select.
7 10 1 ,44 96,4
8 30 13,5 95,64
9 60 13,4 90,1
10 90 26,64 93,5
11 120 77.24 79,17
Angabe der Analysen in GC Flächenprozent Beispiel 12;
Entfernung von olefinischen Nebenprodukten aus 1,1,1,3,3- Pentafluorbutan (365mfc) durch Photochlorierung mit λ >280 nm
a) Laborversuche
In 2 100 ml Glaskölbchen aus Duran® 50 werden jeweils 50 g 365mfc verunreinigt mit 7.000 ppm C4ClF3H4 (2 Isomere) gegeben und gerührt.
Thermischer Versuch:
Das eine Kölbchen wurde sofort nach der Zugabe von 0,4 g (5,6 mmol) Chlor mit Aluminiumfolie umwickelt. Nach 24 h wurde die Probe gaschromatographisch untersucht . Von den 7.000 ppm C4CIF3H4 (2 Isomere) wurden noch 4450 ppm gefunden, der 365 mfc Gehalt hatte sich jedoch weit über 1 % verringert .
Photochemischer Versuch:
Das 2. Kölbchen wurde mit nach der Zugabe von 0,2 g (2,8 mmol) Chlor mit einer Leuchtstofflampe von Philips (Philips-Reflektorlampen Nr. 1099415, Leistung 40 W) über Nacht bestrahlt. Anschließend wurde die Probe gaschromatographisch untersucht. Von den 7.000 ppm C C1F3H4 (2 Isomere) wurden noch 160 ppm ppm gefunden, der 365 mfc Gehalt hatte sich nahezu nicht verändert. Nochmalige Zugabe von 0,2 g (2,8 mmol) Chlor und nochmalige Bestrahlung über Nacht ergab eine nicht mehr nachweisbare Menge an C4C1F3H4 (<0,1 ppm, SIM-Lauf, GC-MSD) bei wiederum nahezu konstantem 365mfc Gehalt. Technikumsversuch
Versuchsaufbau: Pfaudier-Reaktor (V = 100 1) mit aufgesetzter Glaskolonne mit Kopfkühler (Wasserkühlung) . In den Deckel des Pfaudiers ist eine Hg-Tauchlampe TQ 718 von Heraeus Noblelight mit einem Tauchrohr aus Duran 50 Glas installiert. Die Bestrahlung erfolgte somit mit einer Wellenlänge λ >280 nm. Die Leistung wurde auf 700 W eingestellt.
Versuchsdurchführung: Das 365mfc wird in den Pfaudier gepumpt. Eine halbe Stunde vor der Chlor Dosierung wurde unter Rühren die Hg- Tauchlampe (700 Watt) eingeschaltet. Es werden durch ein Tauchrohr mit ca. 20 1/h Chlor dosiert, bis im Sim-Lauf des GC-MSD keine Olefine mehr nachweisbar waren. Nach Beendigung der Chlorierung wurde die Hg-Tauchlampe noch eine Stunde betrieben. Das so behandelte 365mfc wird abgelassen und in einer Destillationskolonne (Höhe: 3 m, Durchmesser 100 mm, gefüllt mit 10 mm Raschig Füllkörper aus Glas) feindestilliert.
12.1. Versuch; 62,3 kg Edukt mit 40,9 g Chlor behandelt/Versuchsdauer 3 h/ GC-Analyse Edukt (vor Photochlorierung)
99,5 w/w % 365mfc,
Summe C4C1F3H4 0,112 w/w %
GC-Analyse Produkt (nach Photochlorierung) : 99,4 w/w % 365mfc, Summe C4C1F3H4 : <10 ppm
12.2. Versuch: 62,0 kg Edukt mit 110,9 g Chlor behandelt/Versuchsdauer 5 h/ Analyse Edukt: 99,7 % 365mfc,
Summe C4C1F3H4 0,210 %
Analyse Produkt : 99 , 6 w/w % 365mfc Summe C4C1F3H4 : <10 ppm
Reinigung: Die aus den Versuchen erhaltenen Fraktionen wurden vereinigt und in der Glaskolonne feindestilliert. Die Reinheit nach Destillation betrug 99,98 % w/w % 365 mfc
Beispiel 13;
Herstellung von Pentachlorethan (120) aus Trichlorethylen durch Photochlorierung mit λ >280 nm
a) Photochlorierungsversuch im 5 1 Maßstab
Versuchsaufbau: 5 1 Doppelmantelgefäß aus Duran 50 Glas mit aufgesetztem Rückflußkühler, Blasenzähler und Tauchrohr mit Fritte. Im Gefäß befand sich ebenso eine Kühlschlange gekühlt mit Wasser. Das Gefäß wurde von außen mit einer Leuchtstofflampe von Philips (Philips-Reflektor- lampe Nr. 1099415, Leistung 40 W) bestrahlt. Durchführung: 3,24 kg (24,7 mol) Trichlorethylen wurden in das Gefäß gefüllt, auf 60 °C temperiert (Thermostat, an Doppelmantel angeschlossen. Anschließend wurden 1,926 kg (27,17 mol) Chlor so dosiert, daß kein Chlor durchschlug bzw. die Apparatur über den Blasenzähler verläßt. Nach 3 h war die Reaktion beendet.
Reinigung: Das so hergestellte Pentachlorethan hatte eine Reinheit von 99,4 % (Rest: nicht umgesetztes Trichlorethylen und Hexachloretan) und kann ohne weitere Reinigung weiterverwendet werden.
Photochlorierungsversuch im Technikum
Versuchsaufbau: Pfaudier-Reaktor (V = 100 1) mit aufgesetzter Glaskolonne mit Kopfkühler (Wasserkühlung) . In den Deckel des Pfaudlers ist eine Hg- Tauchlampe TQ 718 von Heraeus Noblelight mit einem Tauchrohr aus Duran® 50 Glas installiert. Die Bestrahlung erfolgte somit mit einer Wellenlänge λ >280 nm. Die Leistung wurde auf 500 W eingestellt.
Durchführung: 65,7 kg (507 mol) Trichlorethylen wurden in den Pfaudler gefüllt und auf 60 °C temperiert und gerührt. Anschließend wurden nach dem Zünden und Einbrennen der Lampe 35,36 kg (500,1 mol) Chlor so eingeleitet, daß das Chlor nicht "durchschlug" .
Reinigung: Das so hergestellte Pentachlorethan hatte ohne weitere Reinigung nach Versuchsende eine Reinheit von 99,1 % (GC %) ; Rest: Trichlorethylen und Hexachlorethan. Beispiel 14 (Vercrleichsbeispiel) ;
Thermische Chlorierung
14a) Thermische Chlorierung von Trichlorethylen
50 g (0,381 mol mmol) Trichlorethylen wurden mit 28 g (0,423 mol) Chlor in einem 250 ml Roth Autoklaven vereinigt und in ein auf 100 °C vortemperiertes Ölbad gestellt. Bei Erreichen einer Innentemperatur von ca. 50 °C kam es zu einer starken Exothermie und ein Entleeren des Autoklaveninhaltes über die Berstscheibe in den Abzug.
14b) Thermischer Versuch im 5 1 Maßstab
Versuchsaufbau: 5 1 Doppelmantelgefäß aus Duran 50 Glas mit aufgesetztem Rückflußkühler, Blasenzähler und Tauchrohr mit Fritte. Im Gefäß befand sich ebenso eine Kühlschlange gekühlt mit Wasser. Die Apparatur wurde vollständig mit Aluminiumfolie bedeckt.
Durchführung: 3,24 kg (24,7 mol) Trichlorethylen wurden in das Gefäß gefüllt, auf 60 °C temperiert (Thermostat, an Doppelmantel angeschlossen) . Anschließend wurden 1,926 kg (27,17 mol) Chlor so dosiert, daß kein Chlor durchschlug bzw. die Apparatur über den Blasenzähler verließ. Nach 15 h war die Chloreinleitung beendet.
Reinigung: Das so hergestellte Pentachlorethan hatte eine Reinheit von 83,3 % (Rest: nicht umgesetztes Trichlorethylen und große Mengen an Hexachlorethan) . Beispiele 15 bis 19;
Herstellung von 1, 1, 1-Trifluor-2 , 2-dichlorethan (123) aus
1, 1, 1-Trifluor-2-Chlorethan (133a) durch Photochlorierung mit λ >280 nm
Allgemeiner Aufbau und Durchführung für Versuche 15 bis 19: In einem 4,3 1 fassenden Photoreaktor (Durchmesser 100 mm), Wandstärke 2 mm) aus Duran® 50 wird eine Mischung aus 94,8 g (0,80 mol) 133a und einer variablen Menge an Chlor gemischt und gasförmig eingeleitet. Die Reaktionstemperatur betrug während der 30-minütigen Versuche ~ 40 °C. Die Bestrahlung erfolgte mit 3x40 W UV Lampen Typ "Cleo Performance R-UVA 40 W" von Philips. Die Lampen sind zylindrisch um den Photoreaktor angeordnet . Die Auswertung der Versuche erfolgte anhand GC-Analyse des Reaktorabgases .
Beispiel 15;
Feed: 94,8 g (0,80 mol) 133a, 5,67 g (0,08 mol) Chlor Ergebnis : Umsatz : 13 , 8 % ;
Selektivität 123: 86 %;
Selektivität 113a: 13 %.
Beispiel 16;
Feed: 94,8 (0,80 mol) 133a, 17.01 g (0,24 mol) Chlor Ergebnis: Umsatz: 25,2 %;
Selektivität 123: 74 %;
Selektivität 113a: 26 %. Beispiel 17 ;
Feed: 94,8 % (0,80 mol) 133a, 34,03 g (0,48 mol) Chlor Ergebnis: Umsatz: 38,8 %;
Selektivität 123: 57,4 %;
Selektivität 113a: 42 %.
Beispiel 18;
Feed: 94,8 g (0,80 mol) 133a, 51,05 g (0,08 mol) Chlor Ergebnis: Umsatz: 45,8 %;
Selektivität 123: 47 %;
Selektivität 113a: 53 %.
Beispiel 19;
Feed: 94,8 g (0,80 mol) 133a, 68,06 g (0,96 mol) Chlor Ergebnis: Umsatz: 51 %;
Selektivität 123: 44,3 %;
Selektivität 113a: 56 %.
Beispiel 20;
Photochlorierung von 142 b zwecks Herstellung von 112a
Die Reaktion wurde analog zu den Beispielen 1 bis 6 durchgeführt. Umsatz und Ausbeute waren ähnlich wie bei der Herstellung von 113a.

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zur Herstellung von Chlor enthaltenden Alkanen ausgewählt aus der Gruppe umfassend Pentachlorethan; 1,1, l-Trifluor-2,2,2-trichlorethan; 1,1, 1-Trifluor-2 , 2-di- chlorethan und 1, 1, 1, 2-Tetrachlor-2 , 2-difluorethan durch Anlagerung von Chlor an Ausgangsverbindungen mit C-C-Doppelbindungen oder durch einen Austausch von Wasserstoff gegen Chlor, und zur Herstellung von gereinigtem 1, 1, 1, 3 , 3-Penta- fluorbutan aus 1, 1, 1, 3 , 3-Pentafluorbutan, das durch Verbindungen mit C-C-Doppelbindungen oder C-C-Dreifachbindungen verunreinigt ist unter Chlorierung dieser ungesättigten Verbindungen, wobei man die Ausgangsverbindung in der Gasphase oder Flüssigphase mit elementarem Chlor unter Einstrahlung von UV-Licht einer Wellenlänge von λ >280 nm kontaktiert.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man in der Flüssigphase arbeitet.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man bei einer Temperatur im Bereich von Raumtemperatur bis 200 °C arbeitet.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man bei einem Druck von 1 bis 10 bar (abs.) arbeitet.
5. Verfahren nach Anspruch 1, wobei man Pentachlorethan aus Trichlorethylen herstellt.
6. Verfahren nach Anspruch 5, wobei man 1, 1, 1-Trifluor- 2, 2, 2-trichlorethan aus 1, 1, l-Trifluor-2 , 2-difluorethan oder 1,1, 1-Trifluor-2-chlorethan herstellt.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß man 1, 1, 1-Trifluor-2 , 2-dichlorethan aus 1, 1, 1-Trifluor-2- chlorethan herstellt.
8. Verfahren nach Anspruch 1 zur Herstellung von 1, 1, 1, 2-Tetrachlor-2, 2-difluorethan, wobei man von 2,2- Difluor-2-chlorethan ausgeht.
9. Verfahren nach Anspruch 1 zur Reinigung von
1, 1, 1, 3 , 3-Pentafluorbutan, wobei man ungesättigte Verunreinigungen in Chlor enthaltende Verunreinigungen überführt und gewünschtenfalls abtrennt .
10. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das elementare Chlor in der 0,9-fachen bis 1,3-fachen Menge der stöchiometrisch benötigten Menge eingesetzt wird.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3613722A1 (de) 2018-07-30 2020-02-26 Fujian Yongjing Technology Co., Ltd. Neues verfahren zur herstellung von 2,2-dichlor-1,1,1-trifluorethan (hcfc-123) und/oder hcfc-122 (1,1,2-trichlor-2,2-difluorethan)
EP3650437A1 (de) 2018-11-08 2020-05-13 Fujian Yongjing Technology Co., Ltd. Neues verfahren zur herstellung von 1,1,1-trifluor-2-chlorethan (hcfc-133a) und/oder trifluorethylamin (tfea)

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1678552B (zh) 2000-08-10 2012-07-11 索尔维公司 获得纯化氟代烷烃的方法
US20020077513A1 (en) * 2000-12-15 2002-06-20 Yates Stephen Frederic Purification of 1,1,1,3,3-pentafluorobutane
FR2823206B1 (fr) * 2001-04-05 2004-02-20 Atofina Procede photochimique semi-continu et dispositif pour sa mise en oeuvre
US20050087434A1 (en) * 2003-10-22 2005-04-28 Gregorio Tarancon Method and apparatus for transforming chemical fluids using halogen or oxygen in a photo-treatment process
US8766020B2 (en) 2008-07-31 2014-07-01 Honeywell International Inc. Process for producing 2,3,3,3-tetrafluoropropene
JP2010533678A (ja) * 2007-07-20 2010-10-28 ゾルファイ フルーオル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 精製ヒドロフルオロアルカンを得るための方法
US8975454B2 (en) 2008-07-31 2015-03-10 Honeywell International Inc. Process for producing 2,3,3,3-tetrafluoropropene
EP2349961B1 (de) * 2008-10-13 2016-11-23 Blue Cube IP LLC Verfahren zur herstellung chlorierter und/oder fluorierter propene
CN102686544B (zh) 2009-10-09 2017-02-15 蓝立方知识产权公司 用于生产氯化和/或氟化丙烯和高级烯烃的方法
KR20120093857A (ko) * 2009-10-09 2012-08-23 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 염화 및/또는 불화 프로펜의 제조 방법
JP5947214B2 (ja) * 2009-10-09 2016-07-06 ブルー キューブ アイピー エルエルシー 断熱栓流反応器及び該断熱栓流反応器を組み込んだプロセス
EP2485832B1 (de) 2009-10-09 2016-11-23 Blue Cube IP LLC Verfahren zur herstellung eines chlorierten und/oder fluorierten propens in einem isothermischen multiröhrenreaktoren
CA2837292C (en) 2011-05-31 2020-01-28 Max Markus Tirtowidjojo Process for the production of chlorinated propenes
JP6212035B2 (ja) 2011-05-31 2017-10-11 ブルー キューブ アイピー エルエルシー 塩素化プロペンの製造方法
JP6267114B2 (ja) 2011-06-08 2018-01-24 ダウ アグロサイエンシィズ エルエルシー 塩素化および／またはフッ素化プロペンを生成するためのプロセス
EP2739595B1 (de) 2011-08-07 2018-12-12 Blue Cube IP LLC Verfahren zur herstellung von chlorierten propenen
EP2739596B1 (de) 2011-08-07 2019-05-01 Blue Cube IP LLC Verfahren zur herstellung von chlorierten propenen
CN104039744B (zh) 2011-11-21 2016-04-20 陶氏环球技术有限责任公司 制备氯化烷烃的方法
JP6059246B2 (ja) 2011-12-02 2017-01-11 ブルー キューブ アイピー エルエルシー 塩素化アルカンの製造方法
EP2785671B1 (de) 2011-12-02 2017-03-01 Blue Cube IP LLC Verfahren zur herstellung von chlorierten propanen
JP6170068B2 (ja) 2011-12-13 2017-07-26 ブルー キューブ アイピー エルエルシー 塩素化プロパン及びプロペンの製造方法
CA2860203C (en) 2011-12-22 2018-01-30 Dow Global Technologies Llc Process for the production of tetrachloromethane
BR112014015123A2 (pt) 2011-12-23 2017-06-13 Dow Global Technologies Llc processo para a produção de um ou mais alcenos ou compostos aromáticos
EP2897930A1 (de) 2012-09-20 2015-07-29 Dow Global Technologies LLC Verfahren zur herstellung von chlorierten propenen
EP2897932A1 (de) 2012-09-20 2015-07-29 Dow Global Technologies LLC Verfahren zur herstellung von chlorierten propenen
CN104718020A (zh) 2012-09-30 2015-06-17 陶氏环球技术有限公司 堰式骤冷器和并入所述堰式骤冷器的工艺
EP2911773B1 (de) 2012-10-26 2017-10-04 Blue Cube IP LLC Mischer sowie reaktor und verfahren damit
EP2935165A1 (de) 2012-12-18 2015-10-28 Blue Cube IP LLC Verfahren zur herstellung von chlorierten propenen
EP2935166A1 (de) 2012-12-19 2015-10-28 Blue Cube IP LLC Verfahren zur herstellung von chlorierten propenen
WO2014134233A2 (en) 2013-02-27 2014-09-04 Dow Global Technologies Llc Process for the production of chlorinated propenes
CN105026348A (zh) 2013-03-09 2015-11-04 蓝立方知识产权有限责任公司 用于生产氯化烷烃的方法
CN104058928B (zh) * 2014-06-19 2017-11-21 巨化集团技术中心 一种含溴氟代烷烃合成中提高装置生产能力的方法
WO2019003896A1 (ja) * 2017-06-27 2019-01-03 Ａｇｃ株式会社 ２－クロロ－１，１，１，２－テトラフルオロプロパンおよび／または３－クロロ－１，１，１，２－テトラフルオロプロパンの製造方法、ならびに２，３，３，３－テトラフルオロプロペンの製造方法
JP6958596B2 (ja) * 2019-07-01 2021-11-02 ダイキン工業株式会社 アルカンの製造方法
JP7247045B2 (ja) * 2019-07-26 2023-03-28 関東電化工業株式会社 １，１，２－トリクロロ－２－フルオロエテン（ｔｃｆｅ）の製造方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4060469A (en) * 1976-12-21 1977-11-29 Allied Chemical Corporation Preparation of 1,1,1-trifluoro-2,2-dichloroethane
EP0407989A1 (de) * 1989-07-14 1991-01-16 Hoechst Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung von 1,1,1-Trifluor-2,2-dichlorethan durch Photochlorierung
WO1993012058A1 (en) * 1991-12-18 1993-06-24 Allied-Signal Inc. Process for removing 2-chloro-1,1-difluoroethylene from 1,1,1,2-tetrafluoroethane and co-producing 2-chloro-1,1,1,2-tetrafluoroethane
US5421971A (en) * 1993-09-03 1995-06-06 Alliedsignal Inc. Hydrochlorofluorocarbons and hydrofluorocarbons and methods for producing the same
WO1997037955A1 (en) * 1996-04-04 1997-10-16 Alliedsignal Inc. PURIFICATION OF 1,1,1,3,3-PENTAFLUOROPROPANE (R-245fa)
GB2318350A (en) * 1996-10-18 1998-04-22 Atochem Elf Sa Purification of hydrochlorofluoroethanes
US5944962A (en) * 1995-10-03 1999-08-31 Laroche Industries, Inc. Process for photochlorination

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB698127A (en) 1951-03-14 1953-10-07 Ici Ltd Improvements in or relating to the production of tetrafluorodichloroethane
JPS5013179B2 (de) 1972-08-31 1975-05-17
EP0143864B1 (de) 1983-12-01 1987-04-22 The Dow Chemical Company Verfahren zur Herstellung von 1,1,2-Trichlor-2,2-difluoräthan
US4948479A (en) * 1989-06-07 1990-08-14 Atochem North America, Inc. Removal of unsaturated carbon compounds from 1,1-dichloro-1-fluoroethane
CN1034999C (zh) * 1993-07-05 1997-05-28 浙江省化工研究院 一种1，1，1-三氟-2，2，2-三氯乙烷的制备方法
JPH08198783A (ja) * 1995-01-18 1996-08-06 Central Glass Co Ltd １，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンの製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4060469A (en) * 1976-12-21 1977-11-29 Allied Chemical Corporation Preparation of 1,1,1-trifluoro-2,2-dichloroethane
EP0407989A1 (de) * 1989-07-14 1991-01-16 Hoechst Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung von 1,1,1-Trifluor-2,2-dichlorethan durch Photochlorierung
WO1993012058A1 (en) * 1991-12-18 1993-06-24 Allied-Signal Inc. Process for removing 2-chloro-1,1-difluoroethylene from 1,1,1,2-tetrafluoroethane and co-producing 2-chloro-1,1,1,2-tetrafluoroethane
US5421971A (en) * 1993-09-03 1995-06-06 Alliedsignal Inc. Hydrochlorofluorocarbons and hydrofluorocarbons and methods for producing the same
US5944962A (en) * 1995-10-03 1999-08-31 Laroche Industries, Inc. Process for photochlorination
WO1997037955A1 (en) * 1996-04-04 1997-10-16 Alliedsignal Inc. PURIFICATION OF 1,1,1,3,3-PENTAFLUOROPROPANE (R-245fa)
GB2318350A (en) * 1996-10-18 1998-04-22 Atochem Elf Sa Purification of hydrochlorofluoroethanes

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
DATABASE WPI Section Ch, Week 199719 Derwent Publications Ltd., London, GB; Class E16, AN 1997-203978 XP002154532 & CN 1 097 189 A (ZHEJIANG PROV CHEM ACAD) , 11. Januar 1995 (1995-01-11) *
K.L. M]LLER ET AL: "Die photochemischen Chlorierungen von cis-Dichlor{thylen zu Tetrachlor{than und von Trichlor{thylen zu Pentachlor{than" Z.PHYS.CHEM.ABT.B, Bd. 35, 1937, Seiten 455-462, XP000972376 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3613722A1 (de) 2018-07-30 2020-02-26 Fujian Yongjing Technology Co., Ltd. Neues verfahren zur herstellung von 2,2-dichlor-1,1,1-trifluorethan (hcfc-123) und/oder hcfc-122 (1,1,2-trichlor-2,2-difluorethan)
US10633310B2 (en) 2018-07-30 2020-04-28 Fujian Yongjing Technology Co., Ltd Process for the manufacture of 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane (HCFC-123) and/or HCFC-122 (1,1,2-Trichloro-2,2-difluoroethane)
EP3650437A1 (de) 2018-11-08 2020-05-13 Fujian Yongjing Technology Co., Ltd. Neues verfahren zur herstellung von 1,1,1-trifluor-2-chlorethan (hcfc-133a) und/oder trifluorethylamin (tfea)
US11046637B2 (en) 2018-11-08 2021-06-29 Fujian Yongjing Technology Co., Ltd. Process for the manufacture of 1,1,1-trifluoro-2-chloroethaneand/or trifluoroethylamine

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US20050101811A1 (en) 2005-05-12
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DE50011826D1 (de) 2006-01-12
WO2000076945A3 (de) 2001-05-31
JP2003502298A (ja) 2003-01-21
US20020125122A1 (en) 2002-09-12
DE10029283A1 (de) 2000-12-21
ATE312065T1 (de) 2005-12-15
ES2251386T3 (es) 2006-05-01
EP1189856A2 (de) 2002-03-27
US20040016633A1 (en) 2004-01-29
JP4891503B2 (ja) 2012-03-07
EP1189856B1 (de) 2005-12-07
US7282120B2 (en) 2007-10-16

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