WO1999043618A1 - Dispositif antisalissure electrochimique comprenant une structure sous-marine et procede de fabrication de la structure sous-marine utilisee pour ce dispositif - Google Patents

Dispositif antisalissure electrochimique comprenant une structure sous-marine et procede de fabrication de la structure sous-marine utilisee pour ce dispositif Download PDF

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WO1999043618A1
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potential
underwater structure
conductive film
underwater
counter electrode
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PCT/JP1998/003784
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Inventor
Tadashi Matsunaga
Tsuruo Nakayama
Hitoshi Wake
Kin-Ichi Ozawa
Noriyuki Nakamura
Nobuyuki Murakami
Hiromichi Takahashi
Toshihiro Takimoto
Hideo Kadoi
Original Assignee
Pentel Kabushiki Kaisha
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B63SHIPS OR OTHER WATERBORNE VESSELS; RELATED EQUIPMENT
    • B63BSHIPS OR OTHER WATERBORNE VESSELS; EQUIPMENT FOR SHIPPING 
    • B63B59/00Hull protection specially adapted for vessels; Cleaning devices specially adapted for vessels
    • B63B59/04Preventing hull fouling
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F13/00Inhibiting corrosion of metals by anodic or cathodic protection
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/48Treatment of water, waste water, or sewage with magnetic or electric fields
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2303/00Specific treatment goals
    • C02F2303/04Disinfection

Definitions

  • the present invention relates to underwater structures such as ships, fishing nets, bay structures, cooling water intake pipes for ships, cooling seawater intake pipes or cooling pipes used in power plants and coastal plants, seawater transport pipes, and water supply pipes.
  • the present invention relates to an antifouling device for an underwater structure suitable for electrochemically controlling organisms attached to a water contact surface of an object, and a method for manufacturing an underwater structure used in the antifouling device. Background technology
  • the mechanism by which organisms attach to the water-contact surface of underwater structures is as follows. First, adherent Gram-negative bacteria adsorb to the surface of underwater structures and secrete large quantities of lipid-derived slime-like substances. In addition, Gram-negative bacteria collect and grow in this slime layer to form a microbial membrane. Large organisms such as algae, shellfish, and fujibobo adhere to the microbial film layer, Large creatures that have arrived will breed and grow, eventually covering the wetted surfaces of underwater structures.
  • an underwater structure in which a conductive resin layer such as a conductive rubber or a conductive coating film is coated on a water-contact surface;
  • a device including a counter electrode disposed so as not to be in contact with the conductive resin layer and a power supply for supplying a direct current between the conductive resin layer and the counter electrode.
  • the conductive resin layer in the above-described antifouling device is formed by dispersing conductive fine particles such as carbon black graphite in a synthetic resin, and includes a conductive resin layer containing such conductive fine particles.
  • conductive fine particles such as carbon black graphite
  • the generated chlorine gas may promote corrosion of underwater structures made of metal, inhibit the growth of useful cultured fish, and affect the ecosystem. Therefore, when a conductive resin is used for an electrode, a potential control using a reference electrode is performed in order to apply an accurate potential at which seawater is not electrolyzed (Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-78848). Pp. 4-311 379).
  • the counter electrode area is smaller than the conductive resin layer area, the potential of the counter electrode increases and toxic chlorine is generated by electrolysis of seawater, so the counter electrode area is increased.
  • the counter electrode needs to be installed facing the conductive resin layer while keeping the distance to the conductive resin layer constant.
  • new problems such as an increase in propulsion resistance due to the counter electrode and damage to the counter electrode and the hull when the counter electrode contacts the pier when calling at a port I do.
  • An object of the present invention is to prevent the adhesion of organisms and scales to the surface of an underwater structure by controlling the electrochemical living things, and to maintain the antifouling effect for a long period of time.
  • An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a pollution apparatus, an underwater structure used in the pollution control apparatus, and a method of electrochemically controlling an organism using the pollution control apparatus.
  • the electrochemical antifouling device for an underwater structure is an underwater structure in which at least the antifouling surface is a conductive film that does not generate chlorine even when a potential of 5 V vs. SCE or less is applied. And a counter electrode arranged so as not to contact the underwater structure, and a power supply device for supplying a direct current between the underwater structure on which the conductive film is formed and the counter electrode.
  • a device includes a working electrode and a counter electrode formed of a conductive film of an underwater structure, and thus can be referred to as a two-electrode system.
  • a device provided with a reference electrode is provided with three electrodes, a working electrode made of a conductive film of an underwater structure and a reference electrode, and thus can be called a three-electrode system.
  • the electrochemical antifouling device having such a configuration, since a conductive film without generation of chlorine is formed on the underwater structure, it is difficult to accurately control the applied potential. Even if it does, there is no concern about marine pollution due to toxic chlorine since there is no generation of chlorine due to potential fluctuations. In the case of a three-electrode system, even if the potential of the counter electrode fluctuates, chlorine is not generated from the conductive film, so that the area of the counter electrode can be reduced.
  • Another embodiment of the electrochemical antifouling device for underwater structures of the present invention is to provide at least an antifouling surface with a conductive film that does not generate chlorine even when a potential of 5 V vs. SCE or less is applied.
  • the conductive film may be composed of an underwater structure in which the conductive film is divided by an insulating portion, and a power supply device that conducts DC current to each of the conductive films divided by the insulating portion. In such a configuration, the counter electrode is not required, and the structure of the device can be simplified.
  • the conductive film formed on the substrate of the underwater structure used in the antifouling device of the present invention can be composed of a metal or a compound thereof. Specifically, a valve metal, a metal nitride, a metal carbide, a metal Or a metal silicate. These conductive films have high corrosion resistance, are extremely stable without dissolution by applying an electric potential, and have high abrasion resistance, so that it is possible to control organisms and prevent contamination in a long term. Furthermore, since these conductive films have a low electric resistance value, a decrease in potential due to the electric resistance of the conductive film is small, so that biological contamination of an underwater structure having a large area can be prevented.
  • Preferred conductive films include thermal spray coatings made of metal nitride.
  • the method for producing an underwater structure having a conductive film formed by a thermal spray coating made of a metal nitride includes a step of converting a metal wire into molten metal particles, and contacting the molten metal particles with a cooled nitrogen-containing gas. The process comprises the steps of nitriding the surface of the molten metal particles and bringing the molten metal into a supercooled state, and laminating the supercooled molten metal particles on the underwater structure substrate to form a thermal spray coating.
  • a preferred embodiment of the power supply device in the above-described three-electrode antifouling device includes a potential control unit electrically connected to a working electrode, a counter electrode, and a reference electrode formed of a conductive film of an underwater structure; A data processing unit that instructs the unit to control the potential.
  • the potential control section applies the potential specified by the data processing section to the working electrode and the counter electrode, measures the potentials of the collation electrode and the working electrode, and provides the measured value to the data processing section.
  • the data processing unit analyzes the measured potential value given by the potential control unit, and adjusts a potential control instruction to the potential control unit.
  • a potential of 0.1 to 5 V vs. SCE is applied to the underwater structure on which the conductive film is formed.
  • the organism can be electrochemically sterilized or controlled by the direct electron transfer reaction of the organism attached to the surface of the conductive film and / or by the OH radical generated by the electrolysis of water.
  • a potential of 1.5 V to 5 VV s. SCE to the underwater structure on which the conductive film is formed, OH radicals generated by electrolysis of water adhere to the surface of the conductive film. Can be electrochemically killed or controlled.
  • FIG. 1 is an explanatory view showing an embodiment of an antifouling device for underwater structures according to the present invention.
  • FIG. 2 is an explanatory view showing another embodiment of the antifouling device for underwater structures according to the present invention.
  • FIG. 3 is an explanatory view showing still another embodiment of the antifouling device for underwater structures according to the present invention.
  • FIG. 4 is an explanatory view showing still another embodiment of the antifouling device for underwater structures according to the present invention.
  • FIG. 5 is an explanatory view showing still another embodiment of the antifouling device for underwater structures according to the present invention.
  • FIG. 6 is an explanatory view showing still another embodiment of the antifouling device for underwater structures according to the present invention.
  • FIG. 7 is an explanatory view showing still another embodiment of the antifouling device for underwater structures according to the present invention.
  • FIG. 8 is an electric block diagram of a power supply device in the electrochemical antifouling device shown in FIGS. 6 and 7.
  • FIG. 9 is a timing chart of the output potential and the output time in the power supply device of FIG.
  • FIG. 10 is an electric block diagram inside the potential control unit of FIG.
  • FIG. 11 is a block diagram of communication between a data processing unit and a potential control unit in the power supply device of FIG.
  • FIG. 12 is a block diagram of communication between the data processing unit and the potential control unit in the embodiment in which a plurality of potential control units in FIG. 11 are provided.
  • FIG. 13 is an electric block diagram of a power supply device according to an embodiment using a net-like underwater structure.
  • FIG. 14 shows an electrical plot of the embodiment of FIG. 13 in which a plurality of reference electrodes are provided.
  • FIG. 15 is an electrical block diagram of an embodiment in which a temperature sensor and a PH sensor are arranged in the embodiment of FIG.
  • FIG. 16 is a cross-sectional view showing an embodiment of a laminated structure of an underwater structure having a conductive film.
  • FIG. 17 is a cross-sectional view showing another embodiment of a laminated structure of an underwater structure having a conductive film.
  • FIG. 18 is a cross-sectional view showing still another embodiment of a laminated structure of an underwater structure having a conductive film.
  • FIG. 19 is a cross-sectional view showing still another embodiment of a laminated structure of an underwater structure having a conductive film.
  • FIG. 20 is a cross-sectional view showing still another embodiment of a laminated structure of an underwater structure having a conductive film.
  • FIG. 21 is a cross-sectional view showing still another embodiment of a laminated structure of an underwater structure having a conductive film.
  • FIG. 22 is a cross-sectional view showing an example of a laminated structure of an underwater structure having a conductive film made of a metal nitride thermal spray coating.
  • FIG. 23 is a cross-sectional view showing another embodiment of a laminated structure of an underwater structure having a conductive film made of a metal nitride spray coating.
  • FIG. 24 is a cross-sectional view showing still another example of a laminated structure of an underwater structure having a conductive film made of a metal nitride thermal spray coating.
  • FIG. 25 is a cross-sectional view showing still another embodiment of a laminated structure of an underwater structure having a conductive film made of a metal nitride thermal spray coating.
  • FIG. 26 is a cross-sectional view showing still another embodiment of a laminated structure of an underwater structure having a conductive film made of a metal nitride thermal spray coating.
  • Figure 27 shows an underwater structure with a conductive film consisting of a metal nitride spray coating. Sectional drawing which shows further another Example of the laminated structure of FIG.
  • FIG. 28 is a cross-sectional view showing still another embodiment of a laminated structure of an underwater structure having a conductive film made of a metal nitride thermal spray coating.
  • Figure 29 is an illustration of the thermal spraying equipment used to form a thermal spray coating of metal nitride.
  • FIG. 30 is an explanatory view of the apparatus used for the durability evaluation test of the thermal spray coating.
  • FIG. 1 is an explanatory view of an antifouling device for a two-electrode system of an underwater structure according to the present invention. s.
  • the conductive film 2 which does not generate chlorine even when a potential lower than SEC is applied is formed.
  • the entire structure in which the conductive film 2 is formed on the underwater structure substrate 1 is referred to as an underwater structure 3.
  • the conductive film will be described later.
  • the counter electrode substrate 4 is installed so as not to contact the conductive film 2 of the underwater structure 3.
  • the conductive film 2 formed on the surface of the base material 1 of the underwater structure 3 and the conductive film 2 formed on the surface of the counter electrode base material 4 are connected to a power supply device 6 by a lead wire 5.
  • the power supply device 6 is a device for passing a direct current between the conductive film 2 of the underwater structure 3 and the conductive film 2 of the counter electrode substrate 4, and has a function of converting polarity.
  • FIG. 2 is an explanatory view showing an embodiment in which the two-electrode antifouling device for an underwater structure of the present invention is modified.
  • the difference from Fig. 1 is that no counter electrode is installed.
  • the gap 8 may be filled with an inorganic material, an organic material, or an insulating material obtained by filling an organic material with an inorganic material.
  • the conductive films 2 a and 2 b are connected to a power supply 6 by lead wires 5, respectively.
  • FIG. 3 is an explanatory diagram of an embodiment in which the two-electrode antifouling device for an underwater structure according to the present invention is modified and applied to a water distribution pipe.
  • a conductive film 2a and a conductive film 2b are formed in a completely insulated state by fixed gaps 8a and 8b. Seawater and freshwater 7 are distributed.
  • the gaps 8a and 8b may be filled with an inorganic material, an organic material, or an insulating material in which an organic material is filled with an inorganic material.
  • the conductive film 2 a and the conductive film 2 b are respectively connected to a power supply 6 by a lead wire 5.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram showing an embodiment in which the two-electrode antifouling device for an underwater structure according to the present invention is modified and adapted to a water distribution pipe connection.
  • the conductive film 2 is formed on the inner surface of each water distribution pipe 9, and many water distribution pipes are connected by flanges 9 a and 9 b provided on both outer surfaces of the water distribution pipe 9 to form a long distribution pipe. It is a water pipe connected body.
  • the connecting portion between the adjacent flanges 9a and 9b is provided with a packing 10 made of insulating silicon rubber, NBR, natural rubber, etc., so that the adjacent conductive film formed on the inner surface of each water pipe 9 2 is insulated.
  • the two flanges 9a and 9b of the connecting portion for holding the packing 10 are fixed by bolts 11 and nuts 12. Seawater and freshwater 7 circulate in the connected body of the water distribution pipes 9, and the conductive film 2 formed on each water distribution pipe 9 is connected to a power supply device 6 by a lead wire 5.
  • FIG. 5 is an explanatory diagram showing an embodiment in which the two-electrode antifouling device for an underwater structure according to the present invention is modified and adapted to a fishing net such as a fixed net or a fish cage.
  • Fishing net 1 3a with The fishing net 13b is formed by forming a conductive film on the fishing net base material that does not generate chlorine even when an electric potential is applied.
  • the fishing net 13b is fixed to a frame 14 made of an insulating material and installed at a predetermined position. is there.
  • a DC voltage When a DC voltage is applied to the conductive membrane 2 in the two-electrode antifouling device shown in Fig. 1, a voltage that maintains a potential that can kill aquatic organisms even if the conductivity of seawater or freshwater fluctuates.
  • a positive potential is applied to the conductive film 2 formed on the underwater structure, and a negative potential is applied to the conductive film 2 formed on the counter electrode substrate.
  • a positive potential and a negative potential are periodically applied to the conductive film, thereby causing the conductive film to adhere to the surface of the conductive film.
  • Aqueous organisms can be sterilized and desorbed.
  • the counter electrode is unnecessary, so that the antifouling device for a complicated underwater structure in which the counter electrode cannot be installed. It can be used as an antifouling device for water distribution pipes composed of thin and complicated snake tubes.
  • a conductive film that does not generate chlorine even when an electric potential is applied means that platinum is used as a counter electrode in 50 m 1 seawater, and a reference electrode is used as the conductive film. It means that the chlorine in seawater measured with a residual chlorine electrode is below the detection limit after applying a potential for 30 minutes with a potentiostat.
  • FIG. 6 is an explanatory view of an antifouling device for a three-electrode system of an underwater structure according to the present invention, in order to accurately control a potential applied to a conductive film 2 formed on the surface 1 of a substrate 1 of the underwater structure.
  • the reference electrode 15 is connected via a lead wire 5 to a potentiostat 16 which is a DC power supply device.
  • a potentiostat 16 which is a DC power supply device.
  • a conductive film 2 that does not generate chlorine even when an electric potential is applied is formed.
  • the conductive film 2 of the base material 1 and the conductive film 2 of the counter electrode base material 4 are connected to a potentiostat 16 via a lead wire 5.
  • the three-electrode system can accurately apply a potential that can kill aquatic organisms to the conductive film on the surface of the underwater structure, so it is possible to control aquatic organisms with high accuracy, and the power consumption is less than that of the two-electrode system be able to.
  • the potential of the counter electrode is not controlled, if the counter electrode area is smaller than the surface area of the underwater structure, the current density of the counter electrode will increase, and the conductivity of scale and seawater, etc. attached to the counter electrode surface will fluctuate. The resistance fluctuates and the counter electrode potential increases, resulting in the generation of toxic chlorine.
  • a counter electrode with a conductive film that does not generate chlorine even when a potential is applied chlorine can be prevented from being generated even when the potential of the counter electrode fluctuates, and the counter electrode area can be reduced. It can be used as an antifouling device for underwater structures with complicated structures.
  • the materials used for the counter electrode substrate 4 include ABS, AS, and polycarbonate.
  • Thermoplastic resins such as net, acrylic resin, PET, polyethylene, polypropylene, polyimide resin, etc., and thermosetting resins such as base resin and unsaturated polyester resin are used.
  • a metal that can be used as the conductive film 2 may be used as the counter electrode substrate 4 as it is.
  • conventional counter electrode materials such as carbon, carbon fiber, carbon materials such as graphite, iron and its alloys, platinum, gold, rhodium, palladium, and oxides thereof are used as counter electrodes. It can also be used as a material.
  • the shape of the counter electrode may be appropriately designed according to the structure of the underwater structure, such as a mesh, a plate, a tube, or a line.
  • FIG. 7 is an explanatory view of another embodiment of the three-electrode antifouling device of the present invention, and shows an example in which the device is installed on the ocean or a large lake where power cannot be supplied from a land by a transmission line. .
  • the difference from the embodiment of FIG. 6 is the method of supplying power to the power supply device. That is, as a method of supplying electric power to the potentiostat 16, a storage battery 17, a charging device 18, and a solar cell 19 are used, and these are connected by the lead wire 5.
  • a lead storage battery an Eckel-cadmium battery, a nickel-metal hydride battery, a nickel zinc battery, an air zinc battery, and other alkaline storage batteries, a lithium secondary battery, and the like are used.
  • the power supply device may be any commercially available DC power supply that can periodically convert the polarity, and a potentiostat is also used.
  • the power supply device according to the present invention is for applying a potential efficiently to a conductive film having a large area.
  • the source device includes a data processing unit 20 and a potential control unit 21.
  • the data processing unit 20 sets a timing chart (FIG. 9) of the potential output from the power output unit 26 (FIG. 10) of the potential control unit 21 and the output time of the potential at that time. Then, the data of the timing chart set by the data processing unit 20 is sent to the potential control unit 21.
  • the potential control section 21 gives a potential between the working electrode 22 made of a conductive film of the underwater structure and the counter electrode 23 based on the timing chart sent from the data processing section 20.
  • the potential control section 21 receives the potential between the working electrode 22 and the reference electrode 15 and inputs the potential between the working electrode 22 and the reference electrode 15 and the current timing chart execution status into data.
  • Send to processing unit 20 The data processing unit 20 collects the transmitted potential data between the working electrode 22 and the reference electrode 15, and transmits the potential between the working electrode 22 and the reference electrode 15 and the current execution state of the timing chart. And sends correction data of the potential between the working electrode 22 and the counter electrode 23 to the potential controller 21.
  • the working electrode 22, the counter electrode 23, and the reference electrode 15 are installed in water.
  • the potential control section 21 includes a CPU 24, an analog input section 25, and a power output section 26.
  • the CPU 24 inputs the potential applied between the working electrode 22 and the counter electrode 23 sent from the data processing unit 20, the timing chart data for that time, and the correction data at that time, and inputs the data. It manages the time specified by the timing chart, instructs the power output unit 26 to output the potential corresponding to that time, and instructs the analog input unit 25 to input an external situation, and inputs the input information. Output to the data processing unit 20.
  • the power output unit 26 generates a potential instructed by the CPU 24 via a DAC (digital-analog converter), and gives a potential between the working electrode 22 and the counter electrode 23.
  • DAC digital-analog converter
  • the ADC specified by the CPU 24 Input the external situation.
  • the CPU 24 measures the potential between the working electrode 22 and the reference electrode 15 via the ADC.
  • the timing chart shown in FIG. 9 will be described in detail below.
  • the vertical axis represents the potential output from the potential controller 21 and the horizontal axis represents the time axis at that time.
  • “10” on the vertical axis indicates that a positive potential is applied between the working electrode 22 and the counter electrode 23, and sterilizes aquatic organisms attached to the working electrode 22.
  • “One” indicates that a negative potential is applied between the working electrode 22 and the counter electrode 23, and the sterilized aquatic organisms attached to the working electrode 22 are detached.
  • the method of applying a positive potential or a negative potential involves changing the waveform of the potential in various ways, such as gradually applying the potential to the target potential on the time axis or directly applying the target potential. Can also. In the timing chart of Fig.
  • FIG. 8 shows an example of a power supply device in which the data processing unit 20 and the potential control unit 21 are integrated, but in FIG. 11, the data processing unit 20 and the potential control unit 21 are separated. Also, an embodiment is shown in which the data processing unit 20 controls the potential control unit 21 installed in a remote place. In the embodiment of FIG. 11, the potential control section 21 can be sealed in a waterproof case (not shown), submerged in water, and the data processing section 20 can be installed on land. The data processing unit 20 and the potential control unit 21 are connected by a communication line. In the data processing unit 20, similarly to the embodiment of FIG. 8, the potential applied between the set working electrode 22 and the counter electrode 23, the data of the timing chart at that time, and the input data from the potential control unit 21. Data 27 is analyzed and the data for correction is used as control data 28 The data is transmitted to the control unit 21, and data on the external situation is received from the potential control unit 21 as input data 27.
  • the embodiment of the power supply device shown in FIG. 12 includes one data processing unit 20, a first potential control unit 21, a second potential control unit 21 a, and a third potential control unit 21 b.
  • a plurality of such potential control units are provided, and between the data processing unit 20 and each of the potential control units 21, 21 a, and 21 b, as in the embodiment of FIG. Communication between input data 28 and input data 27.
  • the data processing unit 20 is installed on land, and the first potential control unit 21, the second potential control unit 21 a, and the third potential control unit are placed in water at a plurality of locations.
  • Each of the 2 1b can be sealed and submerged in a waterproof case.
  • the data processing unit 20 is connected to the first potential control unit 21, the second potential control unit 21 a, and the third potential control unit 21 b by a communication line.
  • the potential applied between the set working electrode 22 and the counter electrode 23 the data of the timing chart at that time, and the data from the plurality of potential control units 21, 21 a and 21 b
  • the input data 27 is analyzed, and the data for correction is transmitted as control data 28 to the plurality of potential control units 21, 21 a, 21 b.
  • the external status data is received as input data 27 from 1a and 21b.
  • the data processing unit 20 and the plurality of potential control units 21 can be connected by, for example, an interface RS-485.
  • FIG. 13 shows a basic configuration in which the working electrode 22, the counter electrode 23, and the reference electrode 15 are connected to the potential control unit 21 as shown in FIG. 8.
  • the specific form of the electrode is a collation consisting of a working electrode 22 (see Fig. 5) in which conductive substrates are arranged in a mesh, a counter electrode 23 consisting of a plate-shaped conductive substrate, and a rod-shaped conductive substrate.
  • the electrodes consist of 15. These three electrodes are submerged in water, and sterilize and desorb aquatic organisms in the water that adhere to the working electrode 22. 0.
  • the embodiment shown in FIG. 14 is different from the embodiment shown in FIG. 13 in that a plurality of reference electrodes, that is, a first reference electrode 15, a second reference electrode 15 a, and a third reference electrode 15b and a fourth reference electrode 15c.
  • a plurality of reference electrodes 15, 15 a, 15 b, and 15 c are connected to the mesh-like working electrode 22. It is desirable to arrange them along the working electrode 22.
  • the analog input section 25 (FIG. 10) of the potential control section 21 has a connection between the working electrode 22 and a plurality of reference electrodes 15, 15 a, 15 b, and 15 c.
  • Each potential is input, and data of each potential is transmitted to the data processing unit 20 via the CPU 24 (FIG. 10) of the potential control unit 21.
  • the data processing unit 20 collects and analyzes the transmitted data, calculates an average value, a maximum value, and a minimum value, and divides the average value into a working electrode 22 and a plurality of reference electrodes 15, 15 a, 1.
  • the reference value of the potential between 5b and 15c.
  • one of the plurality of potentials between the working electrode 22 and the plurality of reference electrodes 15, 15 a, 15 b, and 15 c can be used as the reference value.
  • the current timing chart is applied to the “ten” side with respect to the potential control unit 21, that is, the underwater in the water adhering to the working electrode 22 by applying a positive potential between the working electrode 22 and the counter electrode 23. If the aquatic organisms are sterilized, the maximum value is within the range of +0 to 101.5 V vs. SCE if the maximum value exceeds the upper limit of +0 to 101.5 vs. SCE The correction data for lowering the potential between the working electrode 22 and the counter electrode 23 is transmitted from the data processing unit 20 to the potential control unit 21 such that If the limit is not exceeded, maintain that state.
  • the current timing chart applies a negative potential to the “ ⁇ ” side of the potential control unit 21, that is, applies a negative potential between the working electrode 22 and the counter electrode 23, and removes aquatic organisms in the water that adhere to the working electrode 22.
  • the minimum value is between 10 V and 0.4 V vs. SCE.
  • the potential between the working electrode 22 and the counter electrode 23 is supplied from the data processing unit 20 to the potential control unit 21 so that the minimum value is within 10.4 V vs. SCE. To send correction data. If the value does not fall below the lower limit, the condition will be maintained.
  • a temperature sensor 29 for detecting water temperature and a pH sensor 30 for detecting acidity in water are added to the configuration of the embodiment shown in FIG. These sensors are electrically connected to the analog input section 25 (FIG. 10) of the potential control section 21. Since an electric potential is applied between the working electrode 22 and the counter electrode 23, in water, for example, in seawater, electric decomposition may occur and the acidity may fluctuate. Thus, a change in acidity can be detected.
  • Data from the temperature sensor 29 and the pH sensor 30 are input to the analog input unit 25 of the potential control unit 21 and transmitted to the data processing unit 20 via the CPU 24.
  • the data processing unit 20 collects and analyzes the transmitted data.
  • the current timing chart indicates that the potential control unit 21 is on the “+” side.
  • the potential between the working electrode 22 and the counter electrode 23 is set to +
  • the correction data for raising the potential between the working electrode 22 and the counter electrode 23 is transmitted from the data processing unit 20 to the potential control unit 21 so that the potential is within 0 to 11 ⁇ 5 V vs. SCE.
  • the current timing chart shows that the potential control unit 21 is on the “one” side, that is, aquatic organisms in water that adhere to the working electrode 22 by applying a negative potential between the working electrode 22 and the counter electrode 23.
  • the working electrode 22 and the counter electrode 23 are applied to the working electrode from the data processing unit 20 so that the potential between the working electrode 22 and the counter electrode 23 is within the range of 0 to 10.4 V vs. SCE. Correction data to lower the potential between 22 and counter electrode 23 Send
  • correction data for changing the potential between the working electrode 22 and the counter electrode 23 has been described, but correction data for changing the potential application time may be used. That is, if the data processing unit 20 determines that the data of the temperature sensor 29 is the water temperature indicating the activity of aquatic organisms in the water, the current timing chart indicates “10” to the potential control unit 21. In the state where a positive potential is applied between the working electrode 22 and the counter electrode 23 to kill the aquatic organisms in the water that adhere to the working electrode 22, +0 to 111.5 V vs. SCE The data processing unit 20 applies the potential application time between the working electrode 22 and the counter electrode 23 to the potential control unit 21 so that the application time of the potential applied between the working electrode 22 and the counter electrode 23 is longer. Is transmitted.
  • the current timing chart is applied to the “one” side of the potential control unit 21, that is, a negative potential is applied between the working electrode 22 and the counter electrode 23, and the underwater is attached to the working electrode 22.
  • the data processing unit 20 is designed to extend the potential application time between the working electrode 22 and the counter electrode 23 within the range of 0 to 0.4 V vs. SCE. Further, correction data for extending the application time of the potential between the working electrode 22 and the counter electrode 23 is transmitted to the potential control unit 21.
  • the current timing chart controls the potential control so that electrolysis does not occur.
  • the data processing unit From 20 correction data for lowering the potential between the working electrode 22 and the counter electrode 23 is transmitted to the potential control unit 21.
  • the current timing chart shows that the aquatic organisms attached to the working electrode 22 by applying a negative potential to the “one” side with respect to the potential control unit 21, that is, the working electrode 22 and the counter electrode 23.
  • the potential The correction data for raising the potential between the working electrode 22 and the counter electrode 23 is transmitted to the control unit 21.
  • the data processing unit 20 uses a case where the data from the pH sensor 30 indicates the limit value at which electrolysis starts.
  • the data of the pH sensor 30 is preferentially transmitted to the potential control unit 21 so that the processing is performed with the highest priority.
  • FIGS. 16 and 17 schematically show an example of a laminated structure of the base material 1 and the conductive film 2 when the base material of the underwater structure is made of a material that does not melt or corrode electrochemically.
  • the base material metal materials, resin materials, inorganic materials, and natural materials can be used.
  • the metal material include valve metals such as titanium and its alloys, tantalum and its alloys, zirconium and its alloys, and niob and its alloys. Since these valve metals can also be used as a material for the conductive film 2, the underwater-structure substrate 1 and the conductive film 2 may be integrally formed of the valve metal.
  • resin materials include aliphatic polyamids such as ABS, AS, polyester, polystyrene, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, nylon, vinyl chloride, PET, FRP, 6_Nylon, 6,6_Nylon, and 1-2Nylon. And nomex, and alicyclic polyamides such as Kepler.
  • the inorganic material include glass, alumina, zirconium, cement, graphite, and carbon fiber.
  • natural materials include wood, stone, silk, cotton, and hemp. The shape of these materials is not particularly limited as long as they have a fibrous shape or a shape having a function of maintaining the structure.
  • FIG. 16 shows an example in which the conductive film 2 is directly formed on the surface of the underwater-structure substrate 1
  • FIG. 17 shows an example in which the conductive film 2 is laminated on the substrate 1 via the adhesive layer 1a.
  • the adhesive used for the adhesive layer 1a is a pressure-sensitive adhesive, a hot-melt adhesive, an anaerobic adhesive, or the like, and these may be used alone or in combination of two or more.
  • FIGS. 18 to 21 schematically show an embodiment of a laminated structure of the base material 1 and the conductive film 2 when the base material of the underwater structure is made of a material that is electrochemically dissolved or corroded.
  • materials that dissolve or corrode include metallic materials such as iron and its alloys or stainless steel, aluminum and its alloys, copper and its alloys, zinc and its alloys, magnesium and its alloys.
  • FIG. 18 shows an example of a laminated structure in which an insulating layer 1b is interposed between the substrate 1 and the conductive film 2 formed on the water contact surface.
  • Examples of the material of the insulating layer 1b include inorganic insulators composed of oxides such as alumina, zirconia, titanium oxide, and silicon oxide, unsaturated polyester resins, acrylic urethane resins, polyester urethane resins, and silicon-urethane resins. , Silicone-acrylic resin, epoxy resin, thermosetting melamine-alkyd resin, melamine-acrylic resin, melamine-polyester resin, acrylic resin, acrylic-urethane resin, polyimide resin, etc.
  • Examples of the insulating resin film include polyethylene resin, polypropylene resin, polyester resin, polyimide resin, polystyrene resin, fluorine resin, and PTFE resin.
  • FIG. 19 shows an example in which an insulating layer 1b is formed on a base material 1, and a conductive film 2 is laminated on the insulating layer 1b via an adhesive layer 1c.
  • the material of the insulating layer 1b and the adhesive layer 1c the same material as the insulating material and the adhesive described in the laminated example of FIG. 17 can be used.
  • an insulating layer in this example, an insulating resin film
  • lb is provided on the base material 1 via the same adhesive layer 1 c as described above, and the conductive film 2 is laminated on the insulating layer lb.
  • Fig. 21 shows the weir layer structure of Fig. 20. This is an example in which an adhesive layer 1c is further interposed between the insulating layer 1b and the conductive film 2.
  • the conductive film used in the present invention is made of a metal or a compound thereof that does not generate chlorine even when a potential of 5 V vs. SCE or less is applied.
  • Metals include valve metals, specifically, titanium and its alloys, tantalum and its alloys, zirconium and its alloys, niobium and its alloys, vanadium and its alloys, hafnium and its alloys, molybdenum and its alloys, and tungsten. And alloys thereof.
  • valve metals can be used as a film having a thickness of 0.1 ⁇ m or more, and the upper limit of the thickness is not particularly limited, and may be appropriately set according to the method of forming the conductive film and the purpose of use.
  • the valve metal used as the conductive film may have a thin oxide film formed on its surface, and depending on the formation method, may contain two or more metals, oxides of those metals, Nitride, carbide, etc. may be contained.
  • metal compounds such as metal nitrides, metal carbides, metal borides, and metal silicates
  • metal nitride include titanium nitride, zirconium nitride, vanadium nitride, tantalum nitride, niobium nitride, chromium nitride, and the like.
  • metal carbide include titanium carbide, zirconium carbide, vanadium carbide, niobium carbide, tantalum carbide, chromium carbide, molybdenum carbide, and tungsten carbide.
  • metal boride examples include titanium boride, zirconium boride, hafnium boride, vanadium boride, niobium boride, tantalum boride, chromium boride, molybdenum boride, and tungsten boride.
  • metal silicides include titanium silicide, zirconium silicide, niobium silicide, tantalum silicide, and vanadium silicide. And tungsten silicate.
  • These metal compounds can be used as a film having a thickness of 0.1 / m or more, and the upper limit of the thickness is not particularly limited, and may be appropriately set according to the method of forming the conductive film and the purpose of use. .
  • These metal compounds can be used as a mixture of two or more kinds.Furthermore, depending on the formation method, two or more kinds of metals may be contained, or an oxide thereof may be contained. .
  • a conductive film made of a metal compound such as a valve metal or a metal nitride, a metal carbide, a metal boride, or a metal silicide on a base material of an underwater structure
  • a metal compound such as a valve metal or a metal nitride, a metal carbide, a metal boride, or a metal silicide on a base material of an underwater structure
  • physical vapor deposition methods such as sputtering and ion plating
  • plasma spraying methods such as plasma spraying, arc spraying, in-pressure spraying, and low-temperature spraying can be employed.
  • the following method can be used to form a conductive film made of metal nitride, metal carbide, metal boride, and metal metal silicate.
  • metal nitrides for example, an ion nitriding method in which metals such as titanium, zirconium, tantalum, and chromium, which constitute metal nitrides, are treated with nitrogen ions under a bias in a vacuum, and in a nitrogen or ammonia gas atmosphere in the air.
  • a nitride film can be formed on the surface of these metals by performing a treatment such as a gas nitridation method in which heat treatment is performed in a molten salt or a salt bath nitridation method in which the mixture is dipped in a molten salt containing NaCN or NaCNO.
  • metal carbide for example, a metal carburizing method in which metals such as titanium, zirconium, tantalum, and chromium are heat-treated in a gas atmosphere containing CO, and molten salts mainly composed of NaCN Carbide films can be formed on the surfaces of these metals by treatment using a salt bath carburizing method in which the metal is immersed, or an electrolytic carburizing method in which a force salt is electrolyzed in a molten salt mainly containing Na 2 CO 3 carbonate.
  • a metal carburizing method in which metals such as titanium, zirconium, tantalum, and chromium are heat-treated in a gas atmosphere containing CO, and molten salts mainly composed of NaCN Carbide films can be formed on the surfaces of these metals by treatment using a salt bath carburizing method in which the metal is immersed, or an electrolytic carburizing method in which a force salt is electrolyzed in a molten salt mainly containing Na 2 CO 3 carbon
  • metal borides for example, a gas porosity in which a metal such as titanium, zirconium, niobium, and tantalum, which constitutes metal borides, is heat-treated in a gas atmosphere containing hydrogen and diborane
  • the surface of these metals can be treated by a boriding method, a molten boronization method of dipping in a molten salt mainly composed of borax, or an electrolytic polonization method of performing cathodic electrolysis in a molten salt mainly composed of borax.
  • a boride film can be formed on the substrate.
  • the metal constituting the metal silicide is treated by the immersion method or the like in which a heat treatment is performed in a gas atmosphere in which SiC14 is mixed with hydrogen or nitrogen, so that the surface of the metal is reduced.
  • a silicide film can be formed.
  • FIGS. 22 to 25 are diagrams schematically showing examples of a laminated structure in which a thermal spray coating of a metal nitride is formed on the underwater-structure substrate 1.
  • Fig. 22 shows that the base material 1 is made of a material other than metal, such as a resin material, an inorganic material, or a natural material, and a fiber layer 1e is laminated on the surface of the base material 1 via an adhesive layer 1d.
  • a conductive film 2 made of metal nitride is formed on the fiber layer 1e by thermal spraying.
  • the substrate 1 is a resin
  • the surface of the substrate 1 is subjected to blasting or chemical treatment to increase the adhesion strength between the substrate 1 and the adhesive layer 1d, depending on the type of resin and the type of adhesive. It is desirable to form fine irregularities (not shown) by a typical etching process.
  • the adhesive used for the adhesive layer 1d can be any type of adhesive that is excellent in seawater resistance and water resistance, such as a pressure-sensitive adhesive, a hot-melt adhesive, and a two-component adhesive. Agents, anaerobic adhesives and the like.
  • Such an adhesive layer 1d can be formed by a spray method, brush coating, a roll coater method, or the like.
  • any of natural fibers, inorganic fibers, and synthetic fibers, or a cloth-mesh material woven by blending these fibers is used.
  • Natural fibers include cotton, hemp, silk, wool, and the like, and inorganic fibers include asbestos, glass fiber, and carbon fiber.
  • polyamide fiber aliphatic polyamide, aromatic polyamide, alicyclic polyamide
  • polyester fiber polyethylene terephthalate fiber
  • acrylonitrile fiber Fiber modacrylic fiber
  • polyvinyl chloride fiber polyvinylidene chloride fiber
  • polyolefin fiber polyethylene fiber, polypropylene fiber
  • polyurethane fiber polyclar fiber
  • fluorine fiber polyglycol fiber
  • phenol System fibers and the like synthetic fibers
  • FIGS. 23 to 25 show examples of a laminated structure in which the base material 1 is made of metal.
  • an adhesive layer 1d is formed on a base material 1 via an insulating layer 1b, a fiber layer 1e is laminated on the adhesive layer 1d, and the surface of the fiber layer 1e is melted.
  • the conductive film 2 made of metal nitride is formed by irradiation.
  • the insulating layer 1b is interposed between the substrate 1 and the adhesive layer 1d for the purpose of improving the adhesion between them.
  • the insulating layer 1b is interposed to prevent the base material 1 from being corroded or dissolved.
  • the metal surface of the base material 1 may be roughened by blasting and jetting, or a metal material having a low melting point, such as aluminum and its alloys, zinc and its alloys, magnesium and its alloys, may be used. Nickel and its alloys, chromium and its alloys, etc. may be formed by thermal spraying and plating. Fig.
  • FIG. 24 shows that after forming an insulating layer 1b consisting of an insulating coating film on the substrate 1, the fiber layer 1e is laminated via the bonding layer 1d, and the surface of the fiber layer 1e is sprayed with metal.
  • Fig. 25 shows that the insulating layer 1b made of an insulating resin film is laminated on the base material 1 via the adhesive layer 1c, and the fiber layer 1e is laminated on the insulating layer 1b via the adhesive layer 1d.
  • the conductive layer 2 made of metal nitride by spraying on the surface of the fiber layer 1 e Is formed.
  • the inorganic layer having a particle diameter of 10 to 200 ⁇ m was used without using the fiber layer 1 e used in the lamination examples of FIGS. 22 to 25.
  • the inorganic powder contained in the resin layer 1f is alumina, zirconium, silicon oxide, titanium oxide, or the like, and one or a mixture of two or more of these can be used.
  • the inorganic powder weighs 10 to 300 weight based on the resin solid content used. Mix in the range of / 0 .
  • the resin used for the resin layer 1 f is a two-part curable unsaturated polyester resin, acryl-urethane resin, polyester-urethane resin, silicon-urethane resin, silicon-acrylic resin, epoxy resin Melamine-alkoxy resin, melamine-acrylic resin, melamine-epoxy resin, acryl resin, acryl-urethane resin, etc., which are thermosetting types, and one or more of these are used in combination. be able to.
  • the resin layer 1 can be formed by applying by a spray method, brush coating, a roll coater method, and the like, and then drying naturally or by heating.
  • FIG. 26 shows an example in which a resin layer 1f is formed on a base material 1 made of a resin, and then a conductive film 2 made of a metal nitride is formed by thermal spraying.
  • the surface of the substrate 1 is roughened by blasting or chemical etching in order to increase the adhesion between the resin substrate 1 and the resin layer 1f.
  • Fig. 27 shows that after forming an insulating layer 1b made of an insulating coating film on a base material 1 made of metal, a resin layer 1f is formed via an adhesive layer 1d, and the surface of the resin layer 1f is formed.
  • a conductive film 2 made of metal nitride is formed by thermal spraying.
  • Fig. 28 shows an example in which an insulating layer 1b made of an insulating resin film is laminated on a base material 1 made of metal via an adhesive layer 1c, and is placed on the insulating layer 1b with an adhesive layer 1d
  • a resin layer 1 f is formed, and a conductive film 2 made of metal nitride is formed on the surface of the resin layer 1 f by thermal spraying.
  • a method for forming a conductive film made of a sprayed metal nitride film on an antifouling surface of an underwater structure will be described below.
  • Fig. 29 shows an apparatus for thermal spraying metal nitride by low-temperature thermal spraying.
  • This spraying equipment consists of high frequency arc spray gun 31, high frequency DC power supply 32, compressor 33, cooling device 34 and spool 35 a,
  • the spray gun 31 has two sets of supply rollers 38a, 38b for separately transferring the sprayed metal wires 36a, 36b from the gun to the tip of the nozzle 37, respectively.
  • An electric arc is generated when the sprayed metal wires 36a and 36b, which are given different polarities by the high-frequency DC power supply 32, come into contact at the sprayed metal wire melting point 39, and this electric arc causes the sprayed metal wire 3 6a and 36b melt.
  • the nitrogen-containing gas is sent from the container 41 filled with nitrogen gas and ammonia gas to the cooling device 34 through the connecting pipe 42 and cooled, and is compressed by the compressor 33.
  • the cooled nitrogen-containing compressed gas is introduced into the spraying gun 31 through the inlet pipe 43 and is sent in the direction of the arrow through the gap 40 to reach the sprayed metal wire melting point 39, where the high-speed airflow When passing, the pressure is reduced and the metal melted at the melting point 39 is granulated.
  • the compressed gas containing cooling nitrogen introduced into the spray gun 31 is also sent to the sprayed metal wire melting point 39 through the gap 44, but the amount of compressed gas passing through the gaps 40 and 44 depends on the gap. The cross-sectional area of the gap is adjusted so that 40 is larger.
  • the molten metal particles 45 at the decompressed spray wire melting point 39 are
  • the particle surface is nitrided to produce nitride.
  • the nitrided molten metal particles 45 fly toward the substrate 46 (the underwater structure substrate on which the thermal spray coating is to be formed) together with the high-speed airflow of the cooling nitrogen-containing compressed gas from the gap 40.
  • the molten metal particles 45 are rapidly cooled by the low-temperature high-speed airflow and become supercooled. Since the molten metal particles 45 in the supercooled state are at a low temperature and are in a molten state, they impinge on the surface of the base material 46 and deposit on the surface to form a sprayed metal nitride film.
  • the base material such as resin
  • the high frequency voltage is applied by the high frequency DC power supply 32
  • the high frequency of the high frequency voltage to be applied is preferably in the range of 200 kHz to 200 kHz. If it is less than 200 kHz, the refractory metal material may not be melted efficiently.If it exceeds 200 kHz, the sprayed metal wire melts and breaks, making continuous spraying impossible. Sometimes.
  • a positive potential By applying a positive potential of +0.4 IV vs. SCE to 105.0 V vs. SCE to the conductive film of the underwater structure, the organisms in the water are made conductive. It can be adsorbed on the membrane surface.
  • the positive potential applied to the conductive film is such that organisms adsorbed on the conductive film surface Has the effect of electrochemical sterilization. If the applied potential is less than +0.4 IV vs. SCE, the organism cannot be adsorbed on the conductive membrane and sterilized.
  • a potential exceeding +5 OV vs. SCE is applied, a thick insulating oxide film may be formed on the surface of the conductive film or the conductive film may be deteriorated.
  • the application time of the positive potential is preferably about 1 minute to 6 hours. If the application time exceeds 6 hours, other organisms may adsorb on the sterilized organisms on the surface of the conductive membrane of the underwater structure. However, since the organism adsorbed later is not in direct contact with the conductive membrane, it is not subjected to the electrochemical bactericidal action due to the positive potential.
  • OH radicals When such a high potential is applied, water is electrolyzed to generate OH radicals.
  • the OH radical has a very high oxidizing effect, destroys the cell membrane of an organism attached to the surface of the conductive membrane, further affects the intracellular DNA, and can kill the organism, so the present invention
  • These OH radicals can be actively used for electrochemical control and sterilization of aquatic organisms. Since the OH radicals generated at this time are very short-lived, there is no pollution of seawater or freshwater.
  • a wide range of potentials such as SCE is applied to a conductive membrane, a relatively low potential is generated by the conventional electron transfer reaction between cells and electrodes, and a relatively high potential is generated by electrolysis of water. Both effects, OH radicals, allow for more effective electrochemical control and sterilization of aquatic organisms.
  • OH radicals are used instead of the electron transfer reaction between cells and electrodes. Since control or disinfection is performed with priority, it is possible to control or disinfect organisms in a short time by using OH radicals that have a strong oxidizing effect.
  • a negative potential of —0. IV vs. SCE 2.0 V vs. SCE is applied to the conductive membrane to remove bacteria that have been adsorbed and sterilized on the conductive membrane surface. Can be separated. If the applied potential is higher than 10 IV vs. SCE, organisms cannot be detached from the surface of the conductive film, and if the applied potential is lower than 1.0 V vs. SCE, the pH rises, which is preferable. Absent.
  • the time for applying the negative potential is preferably about 1 minute to 2 hours. If the application time exceeds 2 hours, effective sterilization of living organisms cannot be performed.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the obtained resin composition was applied to the etched PET resin surface by a spray method, and dried for 90 and 60 minutes.
  • titanium was sprayed under the following conditions using the spraying device shown in Fig. 29 (“PC250iDEX” manufactured by Arc Techno Co., Ltd.).
  • the titanium used was a pure titanium wire with a diameter of 1.3 mm.
  • the voltage is 14 V
  • the feed rate of the titanium wire is 5.2 mZ
  • the air cooled to 11 t is introduced into the spray gun at a pressure of 8 kg / cm 2
  • P A spray coating of titanium nitride having a thickness of 200 // m was formed on the ET resin.
  • the obtained thermal spray coating had a pale yellow color tone.
  • Example 1 After roughening the surface of a cement plate (30 ⁇ 50 ⁇ 5 cm) by blast treatment, titanium was sprayed under the same conditions as in Example 1 using the thermal spraying device used in Example 1, and the cement was cemented. A spray coating of titanium nitride having a thickness of 200 // m was formed on the plate. In Example 1, thermal spraying was performed using cooled air. However, the cooled air was replaced with nitrogen gas, and the gas pressure was the same as in Example 1. The obtained thermal spray coating had a pale yellow color tone.
  • the surface of the stainless steel plate (30 X 50 X lmm) was roughened by sandblasting.
  • alumina was sprayed on stainless steel in a nitrogen gas (flow rate: 100 LZ) by ordinary plasma jet spraying to form a sprayed alumina film with a thickness of 100 ⁇ .
  • titanium was sprayed with the same spraying equipment as in Example 2 under the same conditions, and a thickness of 200 ⁇ m was formed on the alumina coating.
  • a titanium nitride thermal spray coating was formed.
  • the resulting sprayed coating had a pale yellow color tone.
  • the surface of the FRP plate (30 X 50 X 1 O mm) was roughened by sandblasting.
  • 100 g of silicon-acrylic resin ("Bell Tight 600" manufactured by NOF Corporation) having an average particle diameter of 70 ⁇ based on the solid content of silicon-acrylic resin.
  • Alumina powder manufactured by Nippon Abrasive Industry Co., Ltd. was added in an amount of 200% by weight, and sufficiently stirred.
  • An exclusive curing agent and an exclusive thinner were added to the obtained resin composition, applied to the surface of the etched FR resin by a spray method, and dried for 100 and 60 minutes.
  • a spray coating of titanium nitride having a thickness of 200 ⁇ m was formed on the surface of the FR plate (30 ⁇ 50 ⁇ 10 mm). The obtained thermal spray coating had a pale yellow color tone.
  • the surface of the FRP plate (30 ⁇ 500 ⁇ 5 mm) was roughened with a piece of paper (No. 100).
  • PET-360S30J polyester-based adhesive
  • colonate L isocyanate-based curing agent
  • a cloth woven of glass fiber (“H201M104F” manufactured by Unitika Glass Fiber Co., Ltd.) is placed on an FRP plate coated with an adhesive, and the temperature is set at 200 ° C.
  • Thermocompression bonding was performed at a pressure of O kg Z cm 2 for 2 minutes.
  • a thermal spray coating of titanium nitride having a thickness of 200 ⁇ was formed on the glass fiber cloth under the same conditions as in Example 1 using the thermal spraying apparatus used in Example 1.
  • Example 1 The adhesive used in Example 1 was applied to a nylon plate (30 ⁇ 50 ⁇ 5 mm) under the same conditions as in Example 6 to the surface of the nylon plate.
  • a cloth woven from a polyalamide fiber (“KE303 3j” manufactured by Dupont 'Toray' Kepler Co., Ltd.) was applied to the adhesive-coated nylon plate under the same conditions as in Example 6.
  • titanium was sprayed on the polyaramide-based fiber cloth using the thermal spraying device used in Example 1.
  • the air pressure was 8 kcm 2 , but the air was applied. Was replaced with nitrogen gas, and the gas pressure was 15 kg / cm 2 , and the other conditions were the same as those in Example 1.
  • a titanium nitride having a thickness of 200 / m was formed on the polyaramid fiber cloth.
  • Example 8 A thermal spray coating was formed.
  • the surface of the stainless steel plate (30 X 50 X lmm) was roughened by sandblasting.
  • alumina was sprayed on a stainless steel plate in a nitrogen gas (flow rate: 100 LZ) by a normal plasma jet spraying method to form a sprayed alumina film having a thickness of 100 ⁇ .
  • a two-part curable epoxy adhesive (“Bond Quick” manufactured by Konishi Co., Ltd.) is applied on the sprayed alumina film, and then a cloth woven with carbon fibers (“C06” manufactured by Toray Industries, Inc.) 4 1)) were laminated.
  • titanium was thermally sprayed under the same conditions as in Example 7 to form a thermal sprayed film having a thickness of 200 ⁇ m on the carbon fiber cloth.
  • Example 6 After roughening the surface of the FRP plate used in Example 6 with emery paper (No. 100), titanium was sprayed under the same conditions as in Example 1 using the thermal spraying apparatus used in Example 1. The sprayed titanium nitride film was hardly formed on the FRP surface.
  • Example 2 After roughening the surface of the nip plate used in Example 2 by sandblasting, titanium was sprayed under the same conditions as in Example 1 using the thermal spraying apparatus used in Example 1. No sprayed titanium nitride film was formed on the surface of the nylon plate, and the nylon plate was deformed.
  • the thermal spray coatings obtained in Examples 1 to 8 were analyzed by X-ray diffraction.
  • X-ray diffraction was performed by the thin film method using Cu Ka for X-rays at an incident angle of 0.2 °.
  • diffraction peaks attributed to TiN were observed from the thermal sprayed coatings obtained in Examples 1 to 8, confirming that a titanium nitride coating was formed by the method of the present invention.
  • the members having the sprayed titanium nitride coatings obtained in Examples 1 to 8 were used as working electrodes to evaluate the durability.
  • the test device shown in Fig. 30 was used for the durability evaluation test.
  • a working electrode composed of a member 48 having a sprayed titanium nitride film obtained in Examples 1 to 8
  • a counter electrode 23 composed of a platinum plate
  • a reference electrode 15 composed of a sweet copper electrode (SCE) is arranged, and each electrode is electrically connected to a potentiostat 16.
  • the potentiostat 16 is electrically connected to the function generator 49.
  • a stirring device 50 and a stirring member 51 are arranged.
  • OV vs. SCE was continuously applied to the working electrode of the test device having such a configuration for three days.
  • the amount of metal eluted from the sprayed coating surface of the working electrode composed of the member 48 is quantified by ICP spectroscopy, and the resistance value of the sprayed coating on the member 48 is measured by a multimeter (John Proof MF G. Co. , Inc., "73 Multimeter”). Table 1 shows the test results.
  • the marine bacterium Vibrioalginolyticus was used as an aquatic organism.
  • the cells were aerobically cultured for 25 to 10 hours in a synthetic medium ("Marinebroth 222 16" manufactured by DIFCOL aboratory).
  • the cells after the culture are collected by centrifugation, washed with sterile seawater, suspended in sterile seawater, and the number of bacteria is counted with a hematite meter, and the number of bacteria is determined to be ixio 8 ce 11 s Zm L.
  • a body suspension was prepared and used for the test.
  • the members obtained in Examples 1 to 8 It was immersed in a cell suspension of 1 ⁇ 10 8 ce 11 s L for 90 minutes to adsorb marine bacteria on the surface of the conductive membrane of the member.
  • the member to which the marine bacteria obtained above was attached was installed, and 1. OV vs. SCE A constant voltage was applied for 30 minutes.
  • marine bacteria adsorbed on the surface of the conductive film of the member were collected by pipetting, the number of viable bacteria was determined by the colony counting method, and the viable cell rate was determined by the following equation.
  • Viable cell rate (viable cell count after potential application / viable cell count before potential application) ⁇ 100 The results are shown in Table 2.
  • Table 2
  • An FRP plate (5 cm x 2 cm, lcm thick) was used as the base material 1 for the underwater structure 3 of the two-electrode antifouling device shown in Fig. 1, and a titanium foil (in seawater) was used as the conductive film 2.
  • a metal that does not generate chlorine even when a potential is applied) was laminated via an adhesive by the following method.
  • the surface of the FRP board base material should be 1 ⁇ -1 par (1 After roughening the surface with No. 00), 100 parts by weight of a polyester-based adhesive (“PES-360S30”) was mixed with 5 parts by weight of an isocyanate-based curing agent (“Coronate LJ”), and the solvent was mixed.
  • the marine bacterium Vibrio alginolyticus was adhered to the titanium foil of the working electrode composed of an FRP plate laminated with titanium foil, and after applying a voltage of +1.8 V to the working electrode for 30 minutes in sterile seawater, The viability of marine bacteria on the titanium foil was examined by the method used in Example 9. As a result, assuming that the viable cell rate before applying the electric potential was 100%, the viable cell rate after applying the electric potential was 0%.
  • the potential of the titanium foil as the working electrode to which a voltage of 1.8 V was applied and the potential of the titanium plate as the counter electrode were measured by an electrometer using a silver Z silver chloride electrode as a reference electrode. A potential of 1.2 V vs. Ag / AgC1 was applied to the foil, and a potential of 0.6 V vs. AgZAgCl was applied to the counter electrode titanium plate.
  • the marine bacterium Vibrio alginolyticus was attached to the surface of the titanium plate at the counter electrode, and a voltage of 1.8 V was applied to the working electrode for 30 minutes in sterile seawater.
  • the viability of the bacteria was examined by the method used in Example 9. As a result, assuming that the viable cell rate before applying the potential was 100%, the viable cell rate after applying the potential was 0%.
  • a voltage of 1.1 V is applied to the working electrode
  • the potential of the titanium plate, which is the counter electrode, and the potential of the titanium foil, which is the working electrode are compared using a silver Z silver chloride electrode as the reference electrode.
  • the potential of g C 1 was applied to the titanium foil serving as the working electrode at a potential of 0.6 V vs. Ag / Ag C 1.
  • Example 10 Using an FRP plate (5 cm x 2 cm, thickness lcm) as the substrate 1 of the underwater structure 3 of the three-electrode antifouling device shown in Fig. 6, the conductivity was measured in the same manner as in Example 10.
  • a film 2 a titanium foil was laminated on an FRP plate via an adhesive.
  • a silver-silver chloride electrode was used as the reference electrode
  • a titanium plate (5 cm x 2 cm, 2 mm thick) was used as the counter electrode
  • a potentiostat was used as the DC power supply.
  • Marine bacteria Vibrio alginolyticus
  • the working electrode is put on the working electrode in sterile seawater by potentiostat. 1.
  • OV vs. Ag ZAg C1 After a positive potential of 30 minutes was applied, the viability of marine bacteria on the titanium foil was examined by the method used in Example 9. As a result, assuming that the viable cell rate before applying the electric potential was 100%, the viable cell rate after applying the electric potential was 2%.
  • a negative potential was applied to the working electrode to remove marine bacteria attached to the titanium foil.
  • the marine bacterium Vibrio alginolyticus was deposited on the titanium foil of the working electrode, and a negative potential of 0.6 V vs. Ag ZAg C1 was applied to the working electrode in sterile seawater by a potentiostat for 10 minutes. Thereafter, the viability of marine bacteria on the titanium foil was examined by the method used in Example 9. As a result, assuming that the viable cell rate before applying the negative potential is 100%, the viable cell rate after applying the negative potential is 45%, and the marine bacteria adhered to the titanium foil by applying the negative potential. Has detached.
  • Example 10 Using an FRP plate (5 cm x 2 cm, thickness lcm) as the base material 1 of the underwater structure 3 of the antifouling device shown in Fig. 2, and using a titanium foil with titanium nitride formed on the surface as the conductive film 2 Laminated on the FRP plate via an adhesive in the same manner as in Example 10.
  • the conductive film laminated on the FRP plate was divided into two parts by providing a lmm gap near the center, and completely insulated
  • the titanium foil having titanium nitride formed on the surface was prepared by treating the titanium foil in a nitrogen atmosphere at 1000 ° C. for 1 hour.
  • the marine bacterium Vibrio alginolyticus is attached to the conductive film, and a voltage of +1.8 V is applied in sterilized seawater for 30 minutes using a DC power supply.
  • a voltage of +1.8 V is applied in sterilized seawater for 30 minutes using a DC power supply.
  • the viability rate on one conductive membrane was 100% before the potential was applied, and was 0% after the potential was applied.
  • the viability rate on the other conductive membrane was 40% after applying the potential.
  • the potential of the conductive film to which a voltage of 1.8 V was applied was measured with an electometer using a silver Z silver chloride electrode as a reference electrode.
  • the potential of 1.2 V vs. AgZAgC1 was applied to the other conductive film, and the potential of -0.6 V vs. AgZAgC1 was applied.
  • the conductive film divided into two parts was laminated on the surface of the underwater structure via the insulating part, and when a voltage was applied to this conductive film by a DC power supply, the conductive film was divided into two parts. It was confirmed that the creature was killed and the creature on the other conductive membrane was detached. In other words, by periodically changing the polarity and applying a voltage, it is possible to sterilize or desorb organisms on the conductive membrane divided into two. No counter electrode is required in the device of this embodiment. Becomes
  • Titanium was used as the base material 1 of the underwater structure 3 of the three-electrode antifouling device shown in FIG. 6, and titanium nitride was formed as the conductive film 2 by sputtering to obtain a working electrode.
  • a counter electrode a mesh in which platinum was coated on a titanium base material was used.
  • a silver Z silver chloride electrode was used as the reference electrode, and a potentiostat was used as the power supply.
  • the marine bacterium Vibrio alginolyticus was attached to a conductive film made of titanium nitride at the working electrode, and a potential of 0.8 V and 2 V vs. Ag / Ag C1 was applied for 5 minutes in sterile seawater.
  • the viability of the marine bacteria on the conductive membrane was examined by the method used in Example 9. As a result, assuming that the bacteria rate before applying the potential is 100%, the bacteria rate when a potential of 0.8 V vs. Ag Ag C1 is applied is 63. When a potential of / 0 , 2.0 V vs. AgZAgCl was applied, the viability was 0%.
  • Example 13 a marine bacterium on a conductive film made of titanium nitride as a working electrode was produced in the same manner as in Example 13 except that titanium nitride formed by sputtering on a titanium substrate was used as a counter electrode.
  • the viability was examined. That As a result, assuming that the viable cell rate before applying the electric potential is 100%, the viable cell rate when the electric potential of 0.8 V vs. Ag ZAg C1 is applied is 68%, 2.0 VV s The viability rate when the potential of Ag / AgC1 was applied was 0 ⁇ 1 ⁇ 2.
  • the generation of chlorine at each applied potential was examined with a residual chlorine electrode, and the generation of OH radicals was examined with ESR.

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Description

明 糸田 書 水中構造物の電気化学的防汚装置及びこの装置に
使用する水中構造物の製造方法 技 術 分 野
本発明は、 船舶や漁網、 湾岸構造物、 船舶の冷却用取水管、 発電所や 臨海工場で用いられる冷却用海水の取水管または冷却用配管、 海水輸送 用配管、 給水用配管等の水中構造物の接水面に付着した生物を電気化学 的に制御するために好適な水中構造物の防汚装置、 およびこの防汚装置 に使用する水中構造物の製造方法に関するものである。 背 景 技 術
海水や淡水中には多くの生物が存在し、 病原性を示したり、 水中構造 物表面に付着し、 様々な問題を引き起こしている。 例えば、 船舶では生 物が付着すると推進抵抗の増大、 火力発電所で用いられている冷却用配 管では熱交換効率の低下や、 冷却用配管内面に付着して増殖した大型生 物が脱離して冷却管の閉塞を招く。 さらに、 食品加工や飲料水、 化粧品 製造では多量の水が用いられており、 これらの水は配水管を通して供給 されているが、 配水管内面に微生物が付着して増殖すると製品へ微生物 が混入し、 製品の品質に重大な欠陥をもたらす。
一般に、 水中構造物の接水面に生物が付着する機構は次の通りである。 まず、 付着性のグラム陰性菌が水中構造物の表面に吸着して脂質に由来 するスライム状物質を多量に分泌する。 さらに、 グラム陰性菌は、 この スライム層に集まって増殖し、 微生物皮膜を形成する。 そして、 この微 生物皮膜層上に大型の生物である藻類、 貝類、 フジッボ等が付着し、 付 着した大型の生物が繁殖し成長し、 最終的に水中構造物の接水面を覆い 尽くすことになる。
近年、 こうした船舶、 漁網、 配水管などの水中構造物の接水面に付着 した生物の防汚手段として、 塩素などの有害物質を発生させないで電気 化学的に水中構造物に付着する生物を制御する方法が提案されている。 この電気化学的制御方法は、 微生物との直接反応が確認されている所定 電位以上の電位を微生物に印加すると、 微生物内部の酸化還元物質の一 つである補酵素 Aが不可逆的に酸化され、 微生物の呼吸活性及び微生物 膜の透過障壁の低下を誘発し、 微生物を死滅させることが可能であると いうものである (特公平 6— 9 1 8 2 1号公報) 。 すなわち、 グラム陰 性菌の付着を電気化学的に制御することにより大型の生物の付着を防止 する方法が示されている。
上記の電気化学的制御方法を利用した海水や淡水が接する水中構造物 の防汚装置として、 導電性ゴムや導電性塗膜などの導電性樹脂層を接水 面に被覆した水中構造物と、 導電性樹脂層と接触しないように対向して 設置した対極と、 導電性樹脂層と対極との間に直流を通電する電源より なる装置が提案されている。
上記の防汚装置における導電性樹脂層は、 カーボンブラックゃグラフ アイ トなどの導電性微粒子を合成樹脂中に分散して形成したものであり、 かような導電性微粒子を含んだ導電性樹脂層に海水中で電位を印加する と、 海水が電気分解して有害な塩素が発生する。 発生した塩素ガスは金 属からなる水中構造物の腐食を促進したり、 あるいは有用な養殖魚の成 長阻害、 さらには、 生態系への影響が懸念される。 従って、 導電性樹脂 を電極に用いる場合には、 海水が電気分解しない正確な電位を印加する ために照合電極を用いた電位制御が行われている (特開平 4 - 7 8 4 8 2号公報、 同 4— 3 1 3 3 7 9号公報) 。 この照合電極を用いた電位制御では、 導電性樹脂層面積に対して対極 面積が小さいと、 対極の電位が上昇して海水の電気分解により有毒な塩 素が発生するので、 対極面積を広くする必要があり、 また、 対極は導電 性樹脂層との距離を一定にして導電性樹脂層と対向して設置する必要が ある。 しかしながら、 船舶などにおいて船体に対向して大面積の対極を 設置すると、 対極による推進抵抗の増大や、 寄港時に対極が桟橋に接触 して対極やさらには船体が破損するなどの新たな問題が発生する。 また、 冷却用取水管などでは、 配管内の容積に制限があり、 大面積の対極を設 置すると給水能力の低下、 さらに、 水中構造物の種類や構造によっては 対極の設置が不可能な場合もある。 従って、 上記のような問題点が解消 できる、 新たな水中構造物の電気化学的防汚装置が望まれている。 発 明 の 開 示
本発明の目的は、 電気化学的な生物の制御により水中構造物表面への 生物やスケールなどの付着を防止し、 長期間防汚効果を維持させるたこ とができる水中構造物の電気化学的防汚装置、 この防汚装置に使用する 水中構造物の製造方法、 さらにはこの防汚装置を使用する生物の電気化 学的制御方法を提供することである。
すなわち本発明による水中構造物の電気化学的防汚装置は、 少なく と も防汚面を、 5 V v s . S C E以下の電位を印加しても塩素が発生し ない導電性膜となした水中構造物と、 該水中構造物と接触しないように 配置した対極と、 前記導電性膜が形成された水中構造物と対極との間に 直流を通電する電源装置とを備えてなるものである。 かような装置は、 水中構造物の導電性膜からなる作用極と対極の 2つの電極を備えている ため、 2電極系と称することができる。
前記水中構造物と対極との間にさらに照合電極を配置することによつ て、 水中構造物の導電性膜に印加する電位を精度良く制御することがで きる。 照合電極を配置した装置は、 水中構造物の導電性膜からなる作用 極、 対極おょぴ照合電極の 3つの電極と備えるため、 3電極系と称する ことができる。
かような構成の電気化学的防汚装置によれば、 水中構造物に塩素の発 生のない導電性膜が形成されているため、 正確な印加電位の制御がしに くい 2電極系を用いた場合でも、 電位の変動による塩素の発生がないこ とから、 有毒な塩素による海洋汚染の心配がない。 また、 3電極系とし た場合には、 対極の電位が変動しても導電性膜から塩素が発生しないた め、 対極の面積を小さくすることができる。
本発明の水中構造物の電気化学的防汚装置の別な実施例は、 少なく と も防汚面を、 5 V v s . S C E以下の電位を印加しても塩素が発生し ない導電性膜となすとともに、 該導電性膜を絶縁部によって分割した水 中構造物と、 絶縁部によって分割された導電性膜のそれぞれに直流を通 電する電源装置とから構成することもできる。 かような構成においては、 対極が不要となり装置の構造が簡略化できる。
本発明の防汚装置で使用する水中構造物の基材上に形成する導電性膜 は、 金属またはその化合物から構成でき、 具体的には、 バルブ金属、 金 属窒化物、 金属炭化物、 金属ホウ化物、 金属ケィ化物のいずれかから構 成することができる。 これらの導電性膜は耐食性が高く、 電位印加によ る溶解がなく非常に安定であり、 かつ、 耐摩耗性が高いことから、 長期 的に生物の制御および汚損の防止が可能となる。 さらに、 これらの導電 性膜は電気抵抗値が低いことから、 導電性膜の電気抵抗による電位の低 下が少なく、 従って広い面積を有する水中構造物の生物汚損の防止が可 能となる。
好ましい導電性膜としては、 金属窒化物からなる溶射皮膜が挙げられ る。 金属窒化物からなる溶射皮膜で形成された導電性膜を有する水中構 造物の製造方法は、 金属線材を溶融金属粒子とする工程と、 該溶融金属 粒子を冷却された窒素含有ガスと接触させることにより溶融金属粒子表 面を窒化するとともに溶融金属を過冷却状態にする工程と、 過冷却状態 の溶融金属粒子を水中構造物基材上に積層して溶射皮膜を形成する工程 とからなる。
前記した 3電極系の防汚装置における電源装置の好ましい実施例は、 水中構造物の導電性膜からなる作用極、 対極および照合電極と電気的に 接続されている電位制御部と、 該電位制御部に対して電位の制御の指示 を行うデータ処理部とを有している。 前記電位制御部においては、 前記 データ処理部から指示された電位を作用極と対極に与えるとともに、 照 合電極と作用極の電位を測定して該測定値を前記データ処理部に与える。 前記データ処理部においては、 前記電位制御部より与えられた電位測定 値を解析して、 電位制御部に対する電位の制御の指示を調整する。 この ようなデータ処理部に対する電位制御部よりの情報のブイ一ドバックに より、 周囲の環境から影響を受けたり、 周辺の環境へ影響を与えたりす る可能性を最小限にすることができる。
上述した防汚装置を用いて生物の電気化学的制御を行うに際しては、 導電性膜が形成された前記水中構造物に、 0 . 1乃至 5 V v s . S C Eの電位を印加する。 これにより、 該導電性膜表面に付着した生物の直 接電子移動反応によって及び 又は水の電気分解により発生した O Hラ ジカルによって生物を電気化学的に殺菌または制御することができる。 また、 導電性膜が形成された前記水中構造物に、 1 . 5 V乃至 5 V V s . S C Eの電位を印加することにより、 水の電気分解により発生し た O Hラジカルによって導電性膜表面に付着した生物を電気化学的に殺 菌または制御することができる。 図面の簡単な説明
図 1は、 本発明による水中構造物の防汚装置の実施例を示す説明図。 図 2は、 本発明による水中構造物の防汚装置の他の実施例を示す説明図。 図 3は、 本発明による水中構造物の防汚装置の更に他の実施例を示す説 明図。
図 4は、 本発明による水中構造物の防汚装置の更に他の実施例を示す説 明図。
図 5は、 本発明による水中構造物の防汚装置の更に他の実施例を示す説 明図。
図 6は、 本発明による水中構造物の防汚装置の更に他の実施例を示す説 明図。
図 7は、 本発明による水中構造物の防汚装置の更に他の実施例を示す説 明図。
図 8は、 図 6及び図 7に示した電気化学的防汚装置における電源装置の 電気的ブロック図。
図 9は、 図 8の電源装置における出力電位と出力時間のタイミングチヤ 一ト。
図 1 0は、 図 8の電位制御部内部における電気的プロック図。
図 1 1は、 図 8の電源装置におけるデータ処理部と電位制御部との通信 のブロック図。
図 1 2は、 図 1 1における電位制御部を複数設けた実施例のデータ処理 部と電位制御部との通信のプロック図。
図 1 3は、 網状の水中構造物を用いた実施例における電源装置の電気的 ブロック図。
図 1 4は、 図 1 3における照合電極を複数設けた実施例の電気的プロッ ク図。
図 1 5は、 図 1 3の実施例に温度センサと P Hセンサを配置した実施例 の電気的ブロック図。
図 1 6は、 導電性膜を有する水中構造物の積層構造の実施例を示す断面 図。
図 1 7は、 導電性膜を有する水中構造物の積層構造の他の実施例を示す 断面図。
図 1 8は、 導電性膜を有する水中構造物の積層構造の更に他の実施例を 示す断面図。
図 1 9は、 導電性膜を有する水中構造物の積層構造の更に他の実施例を 示す断面図。
図 2 0は、 導電性膜を有する水中構造物の積層構造の更に他の実施例を 示す断面図。
図 2 1は、 導電性膜を有する水中構造物の積層構造の更に他の実施例を 示す断面図。
図 2 2は、 金属窒化物の溶射皮膜からなる導電性膜を有する水中構造物 の積層構造の実施例を示す断面図。
図 2 3は、 金属窒化物の溶射皮膜からなる導電性膜を有する水中構造物 の積層構造の他の実施例を示す断面図。
図 2 4は、 金属窒化物の溶射皮膜からなる導電性膜を有する水中構造物 の積層構造の更に他の実施例を示す断面図。
図 2 5は、 金属窒化物の溶射皮膜からなる導電性膜を有する水中構造物 の積層構造の更に他の実施例を示す断面図。
図 2 6は、 金属窒化物の溶射皮膜からなる導電性膜を有する水中構造物 の積層構造の更に他の実施例を示す断面図。
図 2 7は、 金属窒化物の溶射皮膜からなる導電性膜を有する水中構造物 の積層構造の更に他の実施例を示す断面図。
図 2 8は、 金属窒化物の溶射皮膜からなる導電性膜を有する水中構造物 の積層構造の更に他の実施例を示す断面図。
図 2 9は、 金属窒化物の溶射皮膜の形成に使用する溶射装置の説明図。 図 3 0は、 溶射皮膜の耐久性評価試験に用いた装置の説明図。 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明の実施例を添付図面に基づき詳述する。
図 1は、 本発明の水中構造物の 2電極系での防汚装置の説明図であり、 水中構造物の基材 1の海水や淡水 7に接する面 (防汚面) には、 5 V V s . S E C以下の電位を印加しても塩素の発生がない導電性膜 2が形 成されている。 水中構造物基材 1に導電性膜 2を形成したもの全体を水 中構造物 3という。 導電性膜については後述する。
水中構造物 3の導電性膜 2に接触しないように、 対極基材 4を設置す る。 対極基材 4の表面には、 水中構造物基材 1に形成したものと同様の、 5 V v s . S E C以下の電位を印加しても塩素の発生がない導電性膜 2を形成してある。 水中構造物 3の基材 1の表面に形成された導電性膜 2と対極基材 4の表面に形成された導電性膜 2とは、 リード線 5により 電源装置 6に接続されている。 電源装置 6は、 水中構造物 3の導電性膜 2と対極基材 4の導電性膜 2との間に直流を通電する装置であって、 極 性が変換できる機能を有している。
図 2は、 本発明の水中構造物の 2電極系防汚装置を変形した実施例を 示す説明図である。 図 1 と異なる点は、 対極が設置されてないことであ る。 水中構造物 3の基材 1表面には、 海水中で電位を印加しても塩素の 発生がない導電性膜が形成されており、 この導電性膜は、 一定の隙間 8 により完全に絶縁された状態で、 導電性膜 2 a と導電性膜 2 bとに分割 されている。 この隙間 8には、 無機物、 有機物または有機物に無機物を 充填した絶縁材料を充填してあっても良い。 導電性膜 2 a と 2 bは、 そ れぞれリード線 5により電源装置 6に接続されている。 なお、 防汚面が 広い場合では、 導電性膜 2 a、 2 bをさらに多数に分割すると、 生物の 付着防止効果はさらに高まる。
図 3は、 本発明の水中構造物の 2電極系防汚装置を変形して配水管に 適応した実施例の説明図である。 配水管 9の基材 1内面には、 導電性膜 2 a と導電性膜 2 bが一定の隙間 8 a と 8 b とにより完全に絶縁された 状態で形成してあり、 配水管 9内を海水や淡水 7が流通する。 隙間 8 a と隙間 8 bには、 無機物、 有機物または有機物に無機物を充填した絶縁 材料を充填してあっても良い。 導電性膜 2 a と導電性膜 2 bは、 それぞ れリード線 5により電源装置 6に接続されている。
図 4は、 本発明の水中構造物の 2電極系防汚装置を変形して配水管連 結体に適応した実施例を示す説明図である。 本実施例においては、 個々 の配水管 9の内面に導電性膜 2が形成されていて、 配水管 9の両端外面 に設けたフランジ 9 a、 9 bにより多数の配水管を連結して長い配水管 連結体としたものである。 隣接するフランジ 9 a、 9 b間の連結部には、 絶縁性のシリコンゴム、 N B R、 天然ゴム等からなるパッキング 1 0を 介在させることによって、 各配水管 9内面に形成した隣接する導電性膜 2は絶縁状態とされる。 なお、 パッキング 1 0を挟持する連結部の 2つ のフランジ 9 a、 9 bは、 ボルト 1 1 とナッ ト 1 2により固定している。 配水管 9の連結体内には、 海水や淡水 7が流通しており、 各配水管 9に 形成した導電性膜 2は、 リード線 5によりそれぞれ電源装置 6に接続さ れている。
図 5は、 本発明の水中構造物の 2電極系防汚装置を変形して定置網や 生け簀などの漁網に適応した実施例を示す説明図である。 漁網 1 3 a と 漁網 1 3 bは、 電位を印加しても塩素の発生がない導電性膜を漁網基材 上に形成したものであり、 絶縁材料からなる枠 1 4に固定されて所定位 置に設置してある。 また、 表面に導電性膜を形成した漁網 1 3 a と漁網
1 3 bはリード線 5によりそれぞれ電源装置 6に接続されている。
図 1に示した 2電極系防汚装置における導電性膜 2に、 海水や淡水の 伝導度が変動しても水生生物を殺菌することができる電位が保たれる電 圧を直流電源により印加すると、 水中構造物上に形成された導電性膜 2 には正電位が印加され、 対極基材上に形成された導電性膜 2には、 負電 位が印加される。 この際、 印加電位の極性を周期的に変換することによ り、 導電性膜には正電位と負電位が周期的に印加されることになり、 こ れによって導電性膜の表面に付着した水性生物を殺菌して脱離すること が可能となる。
一方、 図 2乃至図 5に示した 2電極系防汚装置の変形例においては、 対極が不要となるため、 対極が設置不可能な複雑な水中構造物の防汚装 置として、 また、 内径が細くて複雑な蛇管からなる配水管の防汚装置と して用いることが可能となる。
従来の 2電極系防汚装置においては、 分極に起因する電位の平衡値か らのズレゃ海水の伝導度の変動によって電位が変動し、 正確な電位の制 御が困難であつたのに対して、 本発明においては、 海水中で電位を印加 しても塩素の発生がない導電性膜を水中構造物基材上に形成してあるた め、 水生生物を殺菌できる電位が保持できる程度の十分に高い電圧を印 加することができ、 分極や海水の伝導度の変動による電位の変動が発生 しても、 効果的な生物汚損の防止を行うことが可能となる。 さらに、 高 い電位を導電性膜に印加しても、 海水の電気分解による有毒な塩素の発 生がないため、 水中構造物基材が鉄やアルミニウム等の耐食性が低い金 属からなる場合でも基材の腐食が発生せず、 養殖魚の成長阻害や海洋汚 染の危険もない。
なお、 本明細書において、 "電位を印加しても塩素の発生がない導電 性膜" とは、 5 0 m 1 の海水中で対極に白金を用い、 導電性膜に照合電 極を基準電極として電位をポテンショスタツ トにより 3 0分間印加した 後、 残留塩素電極を用いて測定した海水中の塩素が検出限界以下である 場合を云う。
図 6は、 本発明の水中構造物の 3電極系での防汚装置の説明図であり、 水中構造物の基材 1表面に形成した導電性膜 2に印加する電位を正確に 制御するための照合電極 1 5を配置したものであり、 照合電極 1 5は、 リード線 5より直流電源装置であるポテンシヨスタツ ト 1 6に接続され ている。 また、 水中構造物 3の導電性膜 2に接触しないように配置され た対極基材 4の表面には、 電位を印加しても塩素の発生がない導電性膜 2が形成され、 水中構造物の基材 1の導電性膜 2および対極基材 4の導 電性膜 2は、 リード線 5よりポテンシヨスタツ ト 1 6と接続されている。 3電極系は、 水中構造物表面の導電性膜に水生生物が殺菌できる電位を 正確に印加できるため、 精度良く水生生物の制御が可能であり、 さらに、 消費電力も 2電極系よりも少なくすることができる。 しかしながら、 対 極の電位は制御されないため、 対極面積を水中構造物の表面積よりも小 さくすると、 対極の電流密度が高くなり、 さらに、 対極表面に付着する スケールや海水などの導電性の変動による抵抗値が変動して対極電位が 高くなり、 有毒な塩素の発生をもたらす。 そのため、 電位を印加しても 塩素の発生がない導電性膜を表面に形成した対極を用いることで、 対極 の電位が変動しても塩素が発生しないようにできるとともに、 対極面積 を小さくすることが可能となり、 構造が複雑な水中構造物の防汚装置に も利用できる。
なお、 対極基材 4に用いる材料としては、 A B S、 A S、 ポリカーボ ネー ト、 アク リル樹脂、 P E T、 ポリエチレン、 ポリプロピレン、 ポリ ィミ ド榭脂などの熱可塑性樹脂、 ベ一クライ ト、 不飽和ポリエステル樹 脂などの熱硬化型樹脂が用いられる。 また、 導電性膜 2として使用でき る金属を対極基材 4としてそのまま用いても良い。 さらに、 従来一般的 に用いられている対極材料、 例えば、 カーボンやカーボン繊維、 グラフ アイ ト等の炭素材料、 鉄およびその合金、 白金、 金、 ロジウム、 パラジ ゥムおよびそれらの酸化物などを対極材料として使用することもできる。 対極の形状は、 メ ッシュ状、 板状、 筒状、 線状など、 水中構造物の構造 に合わせて適宜設計すれば良い。
図 7は、 本発明の 3電極系防汚装置の別な実施例の説明図であり、 陸 から送電線で電力が供給できない海洋上や広い湖水上に装置を設置する 例を示すものである。 図 6の実施例と異なる点は電源装置に電力を供給 する方法である。 すなわち、 ポテンシヨスタツ ト 1 6に電力を供給する 方法として、 蓄電池 1 7、 充電装置 1 8および太陽電池 1 9を用い、 こ れらをリード線 5によりそれぞれ接続している。 蓄電池 1 7は鉛蓄電池 やエッケル · カドミウム電池、 ニッケル水素電池、 ニッケル亜鉛電池、 空気亜鉛電池などのアル力リ蓄電池、 リチウム 2次電池などが用いられ る。
本発明の防汚装置における電位制御に用いる電源装置について説明す る。 電源装置は、 一般に市販されている極性が周期的に変換できる直流 電源であれば良く、 他にポテンシヨスタツ トも用いられる。 本発明にお ける電源装置は、 広い面積を有する導電性膜に電位を効率よく印加する ためのものである。
電源装置の具体例を、 図 8に示した電源装置全体の電気的プロック図 と、 図 9に示したタイミングチャートと、 図 1 0に示した電位制御部内 部の電気的ブロック図を参照して説明する。 図 8からわかるように、 電 源装置はデータ処理部 2 0と電位制御部 2 1 とから構成されている。 電 位制御部 2 1の電力出力部 2 6 (図 1 0 ) より出力される電位と、 その ときの電位の出力時間とのタイミングチャート (図 9 ) をデータ処理部 2 0にて設定する。 そして、 データ処理部 2 0で設定されたタイ ミング チヤ一トのデータを電位制御部 2 1に送る。 電位制御部 2 1ではデータ 処理部 2 0から送られてきたタイミングチャートをもとに、 水中構造物 の導電性膜からなる作用極 2 2と対極 2 3間に電位を与える。 また、 電 位制御部 2 1では、 作用極 2 2と照合電極 1 5間の電位を入力し、 作用 極 2 2と照合電極 1 5間の電位と現在のタイミングチヤ一トの実行状況 をデータ処理部 2 0に送る。 データ処理部 2 0では、 送られてきた作用 極 2 2と照合電極 1 5間の電位のデータを収集し、 作用極 2 2と照合電 極 1 5間の電位と現在のタイミングチヤートの実行状況を解析して、 電 位制御部 2 1に作用極 2 2と対極 2 3間の電位の補正データを送る。 こ こでは、 作用極 2 2と対極 2 3 と照合電極 1 5は、 水中に設置されてい る。
次に、 図 1 0の電位制御部 2 1内部の電気的プロック図について説明 する。 電位制御部 2 1は、 C P U 2 4とアナログ入力部 2 5 と電力出力 部 2 6より構成されている。 C P U 2 4では、 データ処理部 2 0から送 られてくる作用極 2 2と対極 2 3間に与える電位とその時間のタイミン グチヤ一卜のデータとそのときの補正データの入力を行うと共に、 その タイミングチヤ一トで指定されている時間を管理し、 その時間にあった 電位の出力を電力出力部 2 6に指示し、 また、 アナログ入力部 2 5より 外部状況の入力を指示し、 その入力情報をデータ処理部 2 0に出力する。 電力出力部 2 6では、 D A C (デジタルアナログコンバータ) を介して、 C P U 2 4に指示される電位を生成し、 作用極 2 2と対極 2 3間に電位 を与える。 アナログ入力部 2 5では、 C P U 2 4に指示された A D C (アナログデジタルコンバータ) より外部状況を入力する。 たとえば、 C P U 2 4は、 A D Cを介して作用極 2 2と照合電極 1 5間の電位を計 測する。
図 9に示すタイミングチャートを以下に詳細に説明する。 縦軸は、 電 位制御部 2 1 より出力される電位を表し、 横軸は、 そのときの時間軸を 表す。 縦軸の 「十」 は、 作用極 2 2と対極 2 3間に正電位を印加するこ とを表し、 作用極 2 2に付着する水生生物の殺菌を行う。 「一」 は、 作 用極 2 2と対極 2 3間に負電位の印加をすることを表し、 作用極 2 2に 付着する殺菌された水生生物の脱離を行う。 正電位または負電位の印加 方法は、 目的とする電位に対し時間軸上で徐々に電位を与えたり、 直接 に目的とする電位を与えたりするなど種々の方法で電位の波形を変更す ることもできる。 図 9のタイミングチャートでは、 T 1の期間での作用 極 2 2に付着する水生生物の殺菌を、 T 3の期間での作用極 2 2に付着 する水生生物の脱離を、 T 2の期間での作用極 2 2に付着する水生生物 の殺菌を停止する勾配を、 T 4の期間での作用極 2 2に付着する水生生 物の脱離を停止する勾配を、 それぞれ示している。
図 8では、 データ処理部 2 0と電位制御部 2 1 とがー体の電源装置の 例を示したが、 図 1 1では、 データ処理部 2 0と電位制御部 2 1 とを分 離して、 データ処理部 2 0が遠隔地に設置した電位制御部 2 1に対して 制御する実施例を示している。 図 1 1の実施例では、 電位制御部 2 1を 例えば防水を施した筐体 (図示せず) に封入して水中に沈め、 データ処 理部 2 0を陸上に設置することができる。 データ処理部 2 0と電位制御 部 2 1 とは通信回線で結ばれる。 データ処理部 2 0では、 図 8の実施例 と同様に、 設定された作用極 2 2と対極 2 3間に与える電位、 その時間 のタイミングチャートのデータ、 および電位制御部 2 1からの入力デー タ 2 7を解析し、 補正用のデータをコントロールデータ 2 8として電位 制御部 2 1に送信し、 また、 電位制御部 2 1 より外部状況のデータを入 力データ 2 7として受信する。
図 1 2に示す電源装置の実施例は、 一つのデータ処理部 2 0と、 第 1 の電位制御部 2 1、 第 2の電位制御部 2 1 a、 第 3の電位制御部 2 1 b のような複数の電位制御部とによって構成され、 データ処理部 2 0と各 電位制御部 2 1、 2 1 a、 2 1 bとの間は、 図 1 1の実施例と同様に、 コント口一ルデータ 2 8と入力データ 2 7の通信を行っている。 この場 合も、 例えば、 データ処理部 2 0を陸上に設置し、 複数の箇所の水中に、 第 1の電位制御部 2 1、 第 2の電位制御部 2 1 a、 第 3の電位制御部 2 1 bのそれぞれを防水を施した筐体に封入して沈めることができる。 図 1 1の実施例と同様に、 データ処理部 2 0と第 1の電位制御部 2 1、 第 2の電位制御部 2 1 a、 第 3の電位制御部 2 1 bとは通信回線で結ばれ ている。 データ処理部 2 0では、 設定された作用極 2 2と対極 2 3間に 与える電位、 その時間のタイミングチャートのデータ、 および複数の電 位制御部 2 1、 2 1 a、 2 1 bからの入力データ 2 7を解析し、 補正用 のデータをコント口一ルデータ 2 8として複数の電位制御部 2 1 、 2 1 a、 2 1 bに送信し、 また、 複数の電位制御部 2 1、 2 1 a、 2 1 bよ り外部状況のデータを入力データ 2 7として受信する。 データ処理部 2 0と複数の電位制御部 2 1間は、 例えばインターフェースの R S — 4 8 5によって接続することができる。
図 1 3に示す実施例は、 図 8で示したように、 電位制御部 2 1に作用 極 2 2と対極 2 3と照合電極 1 5を接続した基本的な構成を示している が、 各電極の具体的な形態は、 導電性基材を網状に配置した作用極 2 2 (図 5参照) と板状の導電性基材ょりなる対極 2 3 と棒状の導電性基材 よりなる照合電極 1 5からなつている。 これら 3つの電極は水中に沈め られていて、 作用極 2 2に付着する水中の水生生物の殺菌及び脱離を行 0。
図 1 4に示す実施例は、 図 1 3で示した実施例の構成を、 複数の照合 電極、 すなわち第 1の照合電極 1 5、 第 2の照合電極 1 5 a、 第 3の照 合電極 1 5 b、 第 4の照合電極 1 5 cを設けるように変形したものであ る。 図 1 3の実施例における網状の作用極 2 2より大きな表面積の網状 の作用極 2 2を用いる際には、 複数の照合電極 1 5、 1 5 a , 1 5 b、 1 5 cを網状の作用極 2 2に沿って配置することが望ましい。 この場合、 電位制御部 2 1のアナログ入力部 2 5 (図 1 0) には、 作用極 2 2と複 数の照合電極 1 5、 1 5 a、 1 5 b、 1 5 c との間のそれぞれの電位を 入力し、 電位制御部 2 1の C PU 24 (図 1 0 ) を介して、 それぞれの 電位のデータをデータ処理部 2 0に送信する。 データ処理部 20では、 送信されたデータを収集するとともに解析して、 平均値、 最大値、 最小 値を算出し、 平均値を作用極 2 2と複数の照合電極 1 5、 1 5 a , 1 5 b、 1 5 c との間の電位の基準値とする。 あるいはまた、 作用極 2 2と 複数の照合電極 1 5、 1 5 a、 1 5 b、 1 5 c との間の複数の電位のう ちの一つを基準値とすることもできる。
ここで、 現在のタイ ミ ングチャー トが、 電位制御部 2 1 に対して 「十」 側、 即ち、 作用極 2 2と対極 2 3間に正電位を与えて作用極 2 2 に付着する水中の水生生物を殺菌している状餱ならば、 最大値が、 + 0 〜十 1. 5 v s . S C Eの上限を超えた際には、 最大値が + 0〜十 1 · 5 V v s . S C E以内になるように、 データ処理部 2 0より電位制御 部 2 1に作用極 2 2と対極 2 3間の電位を下げる補正用データを送信す る。 上限を超えなければ、 その状態を維持する。 また、 現在のタイミン グチヤートが、 電位制御部 2 1に対して 「―」 側、 即ち、 作用極 2 2と 対極 2 3間に負電位を与えて作用極 2 2に付着する水中の水生生物を脱 離している状態ならば、 最小値が、 一 0〜一 0. 4 V v s . S C Eの 下限を下回った際には、 最小値が一 0 0 . 4 V v s . S C E以内 になるように、 データ処理部 2 0より電位制御部 2 1に作用極 2 2と対 極 2 3間の電位を上げる補正用データを送信する。 下限を下回らなけれ ば、 その状態を維持する。
図 1 5に示す実施例では、 図 1 3で示した実施例の構成に、 水温を検 出するための温度センサ 2 9と水中の酸性度を検出するための p Hセン サ 3 0を追加したものであり、 これらのセンサは電位制御部 2 1 のアナ ログ入力部 2 5 (図 1 0 ) に電気的に接続されている。 作用極 2 2と対 極 2 3間に電位を与えているために、 水中、 例えば、 海水中では電気分 解が発生して酸性度が変動する可能性があるために、 p Hセンサ 3 0に より酸性度の変動を検出することができる。 温度センサ 2 9や p Hセン サ 3 0からのデータは、 電位制御部 2 1のアナログ入力部 2 5に入力す るされ、 C P U 2 4を介してデータ処理部 2 0に送信される。 データ処 理部 2 0では、 送信されたデータを収集するとともに、 解析を行う。 データ処理部 2 0で、 温度センサ 2 9のデータが水中の水生生物の活 性を表す水温であると判断したならば、 現在のタイミングチャートが、 電位制御部 2 1に対して 「 +」 側、 すなわち、 作用極 2 2と対極 2 3間 に正電位を与えて作用極 2 2に付着する水中の水生生物を殺菌している 状態では、 作用極 2 2と対極 2 3間の電位を + 0〜十 1 · 5 V v s . S C E以内になるように、 データ処理部 2 0より電位制御部 2 1に作用 極 2 2と対極 2 3間の電位を上げる補正用データを送信する。 また、 現 在のタイミングチャートが、 電位制御部 2 1に対して 「一」 側、 即ち、 作用極 2 2と対極 2 3間に負電位を与えて作用極 2 2に付着する水中の 水生生物を脱離している状態では、 作用極 2 2と対極 2 3の電位を— 0 〜一 0 . 4 V v s . S C E以内になるように、 データ処理部 2 0より 電位制御部 2 1に作用極 2 2と対極 2 3間の電位を下げる補正用データ を送信する。
上記の説明は、 作用極 2 2と対極 2 3間の電位を変化させるための補 正用データについて述べたが、 電位の印加時間を変化させるための補正 用データとすることもできる。 すなわち、 データ処理部 2 0で、 温度セ ンサ 2 9のデータが水中の水生生物の活性を表す水温であると判断した ならば、 現在のタイミングチャートが、 電位制御部 2 1に対して 「十」 側、 即ち、 作用極 2 2と対極 2 3間に正電位を与えて作用極 2 2に付着 する水中の水生生物を殺菌している状態では、 + 0〜十 1 . 5 V v s . S C E以内の作用極 2 2と対極 2 3間に与える電位の印加時間を長くす るように、 データ処理部 2 0より電位制御部 2 1に作用極 2 2と対極 2 3間の電位の印加時間を長くする補正用データを送信する。 また、 現在 のタイミングチヤ一トが、 電位制御部 2 1に対して 「一」 側、 即ち、 作 用極 2 2と対極 2 3間に負電位を与えて作用極 2 2に付着する水中の水 生生物を脱離している状態では、 — 0〜一 0 . 4 V v s . S C E以内 の作用極 2 2と対極 2 3間に与える電位の印可時間を長くするように、 データ処理部 2 0より電位制御部 2 1に作用極 2 2と対極 2 3間の電位 の印加時間を長くする補正用データを送信する。
同様に、 データ処理部 2 0で、 p Hセンサ 3 0によるデータが、 電気 分解が始まる限界の値を示したならば、 電気分解が起こらないように、 現在のタイミングチヤ一トが、 電位制御部 2 1に対して 「十」 側、 即ち、 作用極 2 2と対極 2 3間に正電位を与えて作用極 2 2に付着する水中の 水生生物を殺菌している状態では、 データ処理部 2 0より電位制御部 2 1に作用極 2 2と対極 2 3間の電位を下げる補正用データを送信する。 また、 現在のタイミングチャートが、 電位制御部 2 1に対して 「一」 側、 即ち、 作用極 2 2と対極 2 3間に負電位を与えて作用極 2 2に付着する 水中の水生生物を脱離している状態では、 データ処理部 2 0より電位制 御部 2 1に作用極 2 2と対極 2 3間の電位を上げる補正用データを送信 する。 ただし、 温度センサ 2 9と p Hセンサ 3 0の両方設置する際には、 データ処理部 2 0では、 p Hセンサ 3 0によるデータが、 電気分解が始 まる限界の値を示している場合を最優先で処理するように、 p Hセンサ 3 0のデータを優先的に電位制御部 2 1に送信する。
以下に、 本発明の防汚装置に用いる水中構造物の基材について説明す る。
図 1 6およぴ図 1 7は、 水中構造物の基材が電気化学的に溶解または 腐食しない材料からなる場合の基材 1 と導電性膜 2との積層構造の実施 例を模式的に示した図である。 基材 1 としては、 金属材料、 樹脂材料、 無機材料、 天然材料が使用できる。 金属材料としては、 チタンおよびそ の合金、 タンタルおよびその合金、 ジルコニウムおよびその合金、 ニォ ブおよびその合金などのバルブ金属が挙げられる。 これらのバルブ金属 は導電性膜 2の材料としても使用できるため、 水中構造物基材 1 と導電 性膜 2とを一体としてバルブ金属で製造しても良い。 樹脂材料としては、 A B S、 A S、 ポリエステル、 ポリスチレン、 ポリカーボネート、 ポリ エチレン、 ポリプロピレン、 ナイロン、 塩化ビュル、 P E T、 F R P、 6 _ナイロン、 6, 6 _ナイロン、 1, 2 —ナイロン等の脂肪族ポリア ミ ド、 ノメックス等の芳香族ポリアミ ド、 ケプラーなどの脂環式ポリア ミ ド等が挙げられる。 無機材料としては、 ガラス、 アルミナ、 ジルコ二 ァ、 セメント、 グラフアイ ト、 カーボン繊維などが挙げられる。 天然材 料としては、 木材、 石、 絹、 木綿、 麻などが挙げられる。 これらの材料 の形状は、 繊維状または構造を維持する機能を有する形状であれば特に 限定されない。
図 1 6は、 水中構造物基材 1の表面に導電性膜 2を直接形成した例で あり、 図 1 7は、 基材 1上に接着層 1 aを介して導電性膜 2を積層した 例である。 なお、 接着層 1 aに用いられる接着剤は、 感圧系接着剤ゃホ ッ トメルト系接着剤、 嫌気性接着剤などであり、 これらは 1種または 2 種以上混合して用いても良い。
図 1 8乃至図 2 1は、 水中構造物の基材が電気化学的に溶解または腐 食する材料からなる場合の基材 1 と導電性膜 2との積層構造の実施例を 模式的に示した図である。 溶解または腐食する材料の例としては、 鉄お よびその合金またはステンレス、 アルミニウムおよびその合金、 銅およ びその合金、 亜鉛およびその合金、 マグネシウムおよびその合金などの 金属材料が挙げられる。 図 1 8は、 これらの基材 1 と接水面に形成する 導電性膜 2との間に、 絶縁層 1 bを介在させた積層構造の例を示してい る。 絶縁層 1 bの材料としては、 アルミナ、 ジルコニァ、 酸化チタン、 酸化ケィ素などの酸化物からなる無機絶縁物や、 不飽和ポリエステル樹 脂、 アクリル一ウレタン樹脂、 ポリエステル一ウレタン樹脂、 シリコン —ウレタン樹脂、 シリコン一アクリル樹脂、 エポキシ樹脂、 熱硬化型で あるメラミン一アルキッ ド榭脂、 メラミン一アクリル樹脂、 メラミン一 ポリエステル樹脂、 アクリル榭脂、 アクリル一ウレタン樹脂、 ポリイミ ド樹脂などからなる絶縁樹脂や、 ポリエチレン樹脂、 ポリプロピレン榭 脂、 ポリエステル榭脂、 ポリイミ ド榭脂、 ポリスチレン樹脂、 フッ素榭 脂、 P T F E樹脂などからなる絶縁樹脂フィルムなどが挙げられる。 図 1 9は、 基材 1上に絶縁層 1 bを形成し、 この絶縁層 1 b上に接着 層 1 cを介して導電性膜 2を積層した例である。 絶縁層 1 b と接着層 1 cの材料は、 図 1 7の積層例で説明した絶縁材料や接着剤と同じものが 使用できる。
図 2 0は、 基材 1上に前述したものと同様の接着層 1 cを介して絶縁 層 (この例では絶縁樹脂フィルム) l bを設け、 この絶縁層 l b上に導 電性膜 2を積層した例である。 また図 2 1は、 図 2 0の堰層構造におい て、 絶縁層 1 b と導電性膜 2との間にさらに接着層 1 cを介在させた例 である。
次に、 水中構造物の接水面に形成する導電性膜 2について説明する。 本発明において使用する導電性膜は、 5 V v s . S C E以下の電位を 印加しても塩素が発生しない金属又はその化合物から構成される。 金属 としては、 バルブ金属、 すなわち具体的には、 チタンおよびその合金、 タンタルおよびその合金、 ジルコニウムおよびその合金、 ニオブおよび その合金、 バナジウムおよびその合金、 ハフニウムおよびその合金、 モ リブデンおよびその合金、 タングステンおよびその合金などが挙げられ る。 これらのバルブ金属は 0 . 1 μ m以上の厚さの膜として使用でき、 厚さの上限は特に限定されることはなく、 導電性膜の形成方法や使用目 的により適宜設定すれば良い。 なお、 導電性膜として使用するバルブ金 属は、 その表面に薄い酸化皮膜が形成されていてもよく、 さらに、 形成 方法によっては 2種類以上の金属が含まれたり、 それらの金属の酸化物、 窒化物、 炭化物などが含まれていても差し支えない。
水中構造物の導電性膜 2としては、 金属窒化物、 金属炭化物、 金属ホ ゥ化物、 金属ケィ化物などの金属化合物の一種もしくは二種以上を使用 することもできる。 金属窒化物としては、 窒化チタン、 窒化ジルコニゥ ム、 窒化バナジウム、 窒化タンタル、 窒化ニオブ、 窒化クロム等が挙げ られる。 金属炭化物としては、 炭化チタン、 炭化ジルコニウム、 炭化バ ナジゥム、 炭化ニオブ、 炭化タンタル、 炭化クロム、 炭化モリブデン、 炭化タングステン等が挙げられる。 金属ホウ化物としては、 ホウ化チタ ン、 ホウ化ジルコユウム、 ホウ化ハフニウム、 ホウ化バナジウム、 ホウ 化ニオブ、 ホウ化タンタル、 ホウ化クロム、 ホウ化モリブデン、 ホウ化 タングステン等が挙げられる。 金属ケィ化物としては、 ケィ化チタン、 ケィ化ジルコニウム、 ケィ化ニオブ、 ケィ化タンタル、 ケィ化バナジゥ ム、 ケィ化タングステン等が挙げられる。 これらの金属化合物は、 0 . 1 / m以上の厚さの膜として使用でき、 厚さの上限は特に限定されるこ とはなく、 導電性膜の形成方法や使用目的により適宜設定すれば良い。 なお、 これらの金属化合物は 2種以上混合して使用することもでき、 さ らに、 形成方法によっては 2種類以上の金属が含まれたり、 それらの酸 化物などが含まれていても差し支えない。
上述したバルブ金属、 または、 金属窒化物、 金属炭化物、 金属ホウ化 物、 金属ケィ化物等の金属化合物からなる導電性膜を水中構造物の基材 上に形成する方法は、 使用する目的により適宜選択することができる。 例えば、 スパッタリングやイオンプレーティングなどの物理蒸着法、 プ ラズマ溶射、 アーク溶射、 减圧内溶射、 低温溶射などの溶射法が採用で きる。 金属窒化物、 金属炭化物、 金属ホウ化物、 金属金属ケィ化物から なる導電性膜の形成は、 例えば以下に示した方法が採用できる。 金属窒 化物については、 金属窒化物を構成する例えば、 チタン、 ジルコニウム、 タンタル、 クロム等の金属を、 真空中でバイアス下、 窒素イオンにより 処理するイオン窒化法、 大気中で窒素やアンモニアガス雰囲気中で加熱 処理するガス窒化法、 N a C Nや N a C N Oを含む溶融塩中に浸漬処理 する塩浴窒化法等により処理することにより、 これらの金属表面に窒化 物膜を形成できる。 金属炭化物については、 金属炭化物を構成する例え ば、 チタン、 ジルコニウム、 タンタル、 クロム等の金属を、 C Oを含む ガス雰囲気中で加熱処理するガス浸炭法、 N a C Nを主成分とする溶融 塩に浸漬する塩浴浸炭法、 N a 2 C O 3の炭酸塩を主成分とする溶融塩 中で力ソード電解する電解浸炭法等により処理することにより、 これら の金属表面に炭化物膜を形成できる。 金属ホウ化物については、 金属ホ ゥ化物を構成する例えば、 チタン、 ジルコニウム、 ニオブ、 タンタル等 の金属を、 水素とジボランを含むガス雰囲気中で加熱処理するガスポロ ン化法、 ホウ砂を主成分とする溶融塩に浸漬する溶融ボロン化法、 ホウ 砂を主成分とする溶融塩中でカソード電解する電解ポロン化法等で処理 することにより、 これらの金属表面にホウ化物膜を形成できる。 金属ケ ィ化物については、 金属ケィ化物を構成する金属を、 S i C 1 4 と水素 や窒素を混合したガス雰囲気中で加熱処理する浸ケィ法等により処理す ることにより、 その金属表面にケィ化物膜を形成できる。
本発明の防汚装置においては、 水中構造物基材上に導電性膜として金 属窒化物からなる溶射皮膜を形成した水中構造物が特に好ましく使用で きる。 図 2 2乃至図 2 5は、 水中構造物基材 1の上に金属窒化物の溶射 皮膜を形成した積層構造の例を模式的に示した図である。
図 2 2は、 基材 1が樹脂材料、 無機材料または天然材料といった金属 以外の材料からなり、 かような基材 1の表面に接着層 1 dを介して繊維 層 1 eを積層し、 この繊維層 1 eの上に溶射により金属窒化物からなる 導電性膜 2を形成した例である。 基材 1が樹脂の場合には、 樹脂の種類 や接着剤の種類にもよるが、 基材 1 と接着層 1 dとの密着強度を高める ために、 基材 1表面にブラス ト処理や化学的なエッチング処理により微 細な凹凸 (図示省略) を形成することが望ましい。
接着層 1 dに用いられる接着剤は、 耐海水性や耐水性に優れた接着剤 であればいかなる種類でも使用でき、 例えば感圧系接着剤、 ホッ トメル ト型接着剤、 2液硬化型接着剤、 嫌気性接着剤などが挙げられる。 かよ うな接着層 1 dは、 スプレー法、 刷毛塗り、 ロールコーター法などによ り形成することができる。
繊維層 1 e としては、 天然繊維、 無機繊維、 合成繊維のいずれかまた はこれらの繊維を混紡して織られた布ゃメッシュ状物が用いられる。 天 然繊維としては、 木綿、 麻、 絹、 羊毛などが挙げられ、 無機繊維として は、 石綿、 ガラス繊維、 炭素繊維などが挙げられる。 合成繊維としては、 ビスコースレーヨン、 ァセテ一ト繊維、 ポリアミ ド系繊維 (脂肪族ポリ アミ ド、 芳香族ポリアミ ド、 脂環式ポリアミ ド) 、 ポリエステル系繊維 (ポリエチレンテレフタ レー ト繊維) 、 アク リ ロニ ト リル系繊維、 モダ クリル繊維、 ポリ塩化ビニル系繊維、 ポリ塩化ビニリデン系繊維、 ポリ ォレフィ ン系繊維 (ポリエチレン繊維、 ポリプロピレン繊維) 、 ポリウ レタン系繊維、 ポリクラール系繊維、 フッ素系繊維、 ポリグリコール繊 維、 フエノール系繊維などが挙げられる。
図 2 3乃至図 2 5は、 基材 1が金属からなる積層構造の例を示してい る。 図 2 3においては、 基材 1 の上に絶緣層 1 bを介して接着層 1 dを 形成し、 接着層 1 dの上に繊維層 1 eを積層し、 繊維層 1 eの表面に溶 射により金属窒化物からなる導電性膜 2を形成している。 絶縁層 1 bは、 基材 1 と接着層 1 dとの間の密着性を向上させる目的で、 両者間に介在 させたものである。 絶縁層 1 bを介在させる理由は、 水中や海水中で導 電性膜 2に電位を印加した場合、 基材 1の金属の種類によっては腐食や 溶解が発生し、 繊維層 1 eが剥離する場合があるので、 絶縁層 1を介在 させて基材 1 の腐食や溶解を防止するためである。 また必要に応じて、 基材 1 の金属表面をブラスト処理ゃェツチング処理により粗面化したり、 金属表面に低融点の金属材料、 例えばアルミニウムおよびその合金、 亜 鉛およびその合金、 マグネシウムおよびその合金、 ニッケルおよびその 合金、 クロムおよびその合金などを溶射やめつきにより形成しても良い。 図 2 4は、 基材 1上に絶縁塗膜からなる絶縁層 1 bを形成した後、 接 着層 1 dを介して繊維層 1 eを積層し、 繊維層 1 eの表面に溶射による 金属窒化物からなる導電性膜 2を形成した例を示している。
図 2 5は、 基材 1上に絶縁樹脂フィルムからなる絶縁層 1 bを接着層 1 cを介して積層し、 絶縁層 1 b上に接着層 1 dを介して繊維層 1 eを 積層し、 繊維層 1 eの表面に溶射により金属窒化物からなる導電性膜 2 を形成した例を示している。
図 2 6乃至図 2 8の積層例においては、 図 2 2乃至図 2 5の積層例に 使用していた繊維層 1 eを用いずに、 粒子径が 1 0〜 2 0 0 μ mの無機 粉体を混合した樹脂層 1 f を使用する。 樹脂層 1 f に含まれる無機粉体 は、 アルミナ、 ジルコユア、 酸化ケィ素、 酸化チタンなどであり、 これ らの一種もしくは二種以上を混合して使用することができる。 無機粉体 は、 用いられる樹脂固形分に対して 1 0〜 3 0 0重量。 /0の範囲で混合す る。 榭脂層 1 f に用いられる樹脂としては、 2液硬化型である不飽和ポ リエステル榭脂、 アク リル一ウレタン樹脂、 ポリエステル一ウレタン樹 脂、 シリコン一ウレタン樹脂、 シリコン一アク リル樹脂、 エポキシ樹脂、 熱硬化型であるメラミン一アルキッ ト樹脂、 メラミン一アタ リル樹脂、 メラミン一エポキシ樹脂、 アク リル樹脂、 アク リル一ウレタン樹脂など が挙げられ、 これらの一種もしくは二種以上を混合して使用することが できる。 この樹脂層 1 は、 スプレー法、 刷毛塗り、 ロールコーター法 などにより塗布した後、 自然乾燥または加熱乾燥することにより形成す ることができる。
図 2 6は、 樹脂からなる基材 1上に樹脂層 1 f を形成した後、 溶射に より金属窒化物からなる導電性膜 2を形成した例である。 なお、 この例 においては樹脂からなる基材 1 と樹脂層 1 f の間の密着性を高めるため に、 基材 1 の表面をブラスト処理や化学エッチングにより粗面化処理し ている。
図 2 7は、 金属からなる基材 1上に絶縁塗膜からなる絶縁層 1 bを形 成した後、 接着層 1 dを介して榭脂層 1 f を形成し、 樹脂層 1 f の表面 に溶射による金属窒化物からなる導電性膜 2を形成した例である。
図 2 8は、 金属からなる基材 1上に絶縁樹脂フィルムからなる絶縁層 1 bを接着層 1 cを介して積層し、 絶縁層 1 b上に接着層 1 dを介して 樹脂層 1 f を形成し、 榭脂層 1 f の表面に溶射により金属窒化物からな る導電性膜 2を形成した例である。
上述したごとき金属窒化物の溶射皮膜からなる導電性膜を水中構造物 の防汚面に形成する方法について以下に説明する。
図 2 9は、 金属窒化物を低温溶射法により溶射するための装置を示す ものである。 この溶射装置は、 高周波アーク溶射ガン 3 1、 高周波直流 電源 3 2、 コンプレッサー 3 3、 冷却装置 3 4およびスプール 3 5 a、
3 5 bを備えた溶射金属線供給装置から構成されている。 溶射ガン 3 1 は、 溶射金属線 3 6 a、 3 6 bを、 ガンからノズル 3 7の先端にそれぞ れ別個に移送する 2セッ トの供給ローラー 3 8 a、 3 8 bを有する。 高 周波直流電源 3 2により異なる極性を付与された溶射金属線 3 6 a と 3 6 bが溶射金属線溶融箇所 3 9において接触する際に電気アークが発生 し、 この電気アークにより溶射金属線 3 6 a、 3 6 bが溶融する。
一方、 窒素ガスおょぴアンモニアガスが満たされた容器 4 1から窒素 含有ガスが接続管 4 2を通って冷却装置 3 4に送られて冷却され、 コン プレッサ 3 3により圧縮される。 冷却された窒素含有圧縮ガスは、 導入 管 4 3を介して溶射ガン 3 1に導入され、 間隙 4 0を通って矢印方向に 送られて溶射金属線溶融個所 3 9に達し、 ここを高速気流となって通過 する際に减圧されるとともに、 この溶融個所 3 9で溶融した金属を粒状 化させる。 なお、 溶射ガン 3 1に導入された冷却窒素含有圧縮ガスは、 間隙 4 4を通しても溶射金属線溶融箇所 3 9に送られるが、 圧縮ガスが 間隙 4 0および 4 4を通過する量は、 間隙 4 0の方が多くなるように間 隙断面積を調整してある。
減圧された溶射線溶融箇所 3 9における溶融金属粒子 4 5は、 、 間隙
4 0を通して送られてくる冷却窒素含有圧縮ガスの高速気流および間隙 4 4を通して矢印の方向に送られてくる冷却窒素含有圧縮ガスと接触し、 その粒子表面が窒化されて窒化物を生成する。 窒化された溶融金属粒子 4 5は、 間隙 4 0からの冷却窒素含有圧縮ガスの高速気流とともに基材 4 6 (溶射皮膜を形成すべき水中構造物基材) に向けて飛翔する。 高速 気流とともに飛翔する際に、 溶融金属粒子 4 5は低温の高速気流により 急激に冷却されて過冷却状態となる。 この過冷却状態の溶融金属粒子 4 5は、 低温で、 しかも溶融状態となっているため、 基材 4 6表面に衝突 してその表面に堆積し、 金属窒化物の溶射皮膜を形成する。
上述したように、 溶融金属粒子を過冷却状態にすることで、 溶融金属 粒子表面の酸化が極力抑えられ、 さらには、 低温で溶融状態にある金属 粒子が基材表面に衝突して溶射皮膜を形成する際にも、 樹脂などの基材 を変型させることがない。 また、 溶射金属線 3 6 a、 3 6 bが接触して 溶融される溶射金属線溶融箇所 3 9が減圧されること、 および、 高周波 直流電源 3 2により高周波電圧を印加することから、 高融点の金属材料 でも容易に溶射することができる。 なお、 印加する高周波電圧の高周波 は、 2 0 k H z力 ら 2 0 0 k H zの範囲が好ましい。 2 0 k H z未満で は、 高融点金属材料を効率よく溶融できないことがあり、 2 0 0 k H z を超えると、 溶射金属線が溶融して破断し、 連続して溶射ができなくな ることがある。
本発明の電気化学的防汚装置を用いて生物の電気化学的制御を行う際 の電位印加条件について説明する。 水中構造物の防汚面に形成された導 電性膜に電位を印加するには、 正電位と負電位とを周期的に印加すれば 良い。
先ず正電位を印加する場合を説明すると、 + 0 . I V v s . S C E 〜十 5 . 0 V v s . S C Eの正電位を水中構造物の導電性膜に印加 することにより、 水中の生物を導電性膜表面に吸着させることができる。 さらに、 導電性膜に印加する正電位には、 導電性膜表面に吸着た生物を 電気化学的に殺菌する作用がある。 印加電位が + 0. I V v s . S C E未満では、 生物を導電性膜に吸着させて殺菌することができない。 ま た、 + 5. O V v s . S C Eを超える電位を印加すると、 導電性膜表 面に絶縁性の高い酸化皮膜が厚く形成したり、 導電性膜が劣化する場合 があるので、 所望の効果が得られない。 正電位の印加時間は 1分間から 6時間程度が好ましく、 印加時間が 6時間を超えると、 水中構造物の導 電性膜表面で殺菌された生物の上に他の生物が吸着することがあり、 後 から吸着した生物は導電性膜と直接接触していないので、 正電位による 電気化学的な殺菌作用を受けない。
なお、 2電極系の防汚装置で + 0. I V v s . S C E〜十 5. 0 V V s . S C Eの正電位を導電性膜 (作用極) に印加しようとするする 場合は、 対極に対して 0. 3 V〜 7. 5 Vの電圧を印加すれば良い。 従来は、 1. 5 V以下といった比較的低電位を印加することにより、 主として細胞一導電性膜間の電子移動反応により導電性膜上に付着した 水生生物を電気化学的に制御または殺菌していた。 これに対して本発明 では、 + 5. 0 V v s . S C Eといった比較的高電位を印加しても有 毒な塩素の発生がない導電性膜を使用しているため、 導電性膜に + 1. 5 V v s . S C E以上の比較的高電位を印加することが可能となった。 かような高電位を印加すると、 水が電気分解されて OHラジカルを発生 する。 OHラジカルは非常に高い酸化作用を有し、 導電性膜表面に付着 した生物の細胞膜を破壊し、 さらには細胞内の DN Aに影響を及ぼし、 生物を殺菌することができるため、 本発明ではこの OHラジカルを水生 生物の電気化学的な制御や殺菌に積極的に利用できるのである。 この時 発生した OHラジカルは非常に短命であることから、 海水や淡水の汚染 はない。
従って本発明によれば、 + 0. I V v s . S CE〜十 5. 0 V V s . S C Eといった広範囲の電位を導電性膜に印加する場合には、 比較 的低電位の印加では従来の細胞一電極間の電子移動反応、 比較的高電位 の印加では水の電気分解で発生する OHラジカル、 という両方の作用に より、 より一層効果的な水生生物を電気化学的制御や殺菌が可能となる。 一方、 + 1 . 5 V v s . S C E〜十 5 V v s . S C Eといった比較 的限られた範囲の電位を導電性膜に印加する場合には、 細胞一電極間の 電子移動反応よりは OHラジカルによる制御または殺菌が優先的に行わ れることになるため、 強力な酸化作用を有する OHラジカルを利用して 短時間に生物を制御または殺菌することが可能となる。
正電位の印加に引き続いて、 — 0. I V v s . S C E 2. 0 V v s . S C Eの負電位を導電性膜に印加することにより、 導電性膜表 面に吸着して殺菌された生物を脱離させることができる。 印加電位が一 0. I V v s . S C Eより高いと、 生物を導電性膜表面から脱離させ ることができず、 一 2. 0 V v s . S C Eより低いと、 p Hが上昇す るので好ましくない。 負電位を印加する時間は 1分間から 2時間程度が 好ましく、 印加時間が 2時間を超えると、 生物の効果的な殺菌を行うこ とができない。
なお、 2電極法の防汚装置で— 0 · I V v s . S C E〜― 2. 0 V v s . S C Eの負電位を導電性膜 (作用極) に印加する場合は、 対極 に対して 0. 3 V〜 7. 5 Vの電圧を印加すれば良い。
以下、 実施例によって本発明を具体的に説明する。
[水中構造物の導電性膜の形成]
実施例 1
ポリエチレンテレフタレート (P E T) 樹脂板 ( 3 0 X 5 0 X 5 m m) の表面を、 6 0 のクロム酸 2 0 0 g/L (リッ トル) 、 硫酸 5 5 0 gZL含む水溶液に 60分間浸漬してエッチングした。 次に、 ポリエ ステル系接着剤 (東亞合成 (株) 製 「P E S— 3 6 0 S 3 0」 ) 1 0 0 g、 イソシァネート系硬化剤 (日本ポリウレタン工業 (株) 製 「コロネ ート L」 ) 1 0 gを混合し、 得られた混合物の榭脂固形分に対して平均 粒子径 7 0 // mのアルミナ粉 (日本研磨工業 (株) 製) 2 0 0重量%を 加え、 混合溶剤 (トルエン : MEK= 8 : 2) を 1 5 0 g加えて十分に 撹拌した。 得られた樹脂組成物をエッチングされた P E T榭脂表面にス プレー法で塗布し、 9 0 、 6 0分間乾燥した。 次に図 2 9に示した溶 射装置 (アークテクノ (株) 製 「P C 2 5 0 i DE X」 ) を用いてチタ ンを次の条件で溶射した。 なお、 チタンは径が 1. 3 mmの純チタン線 材を用いた。 4 0 k H zの高周波で、 電圧は 1 4 V、 チタン線材の送り 速度は 5. 2 mZ分、 1 1 tに冷却した空気を圧力 8 k gノ c m2とし て溶射ガンに導入し、 P ET樹脂上に厚さ 2 0 0 // mの窒化チタンの溶 射皮膜を形成した。 得られた溶射皮膜は淡黄色の色調であった。
実施例 2
セメント板 ( 3 0 X 5 0 X 5 c m) の表面をブラス ト処理により粗面 化した後、 実施例 1で用いた溶射装置を用いて実施例 1 と同じ条件でチ タンを溶射し、 セメント板上に厚さ 2 0 0 // mの窒化チタンの溶射皮膜 を形成した。 なお、 実施例 1では冷却した空気を用いて溶射したが、 冷 却した空気を窒素ガスに代え、 ガス圧は実施例 1 と同様の条件で行った。 得られた溶射皮膜は淡黄色の色調であった。
実施例 3
ステンレス板 (3 0 X 50 X l mm) 表面をサンドブラス ト処理によ り粗面化した。 次に通常のプラズマジエツ ト溶射法によりアルミナを窒 素ガス中 (流量: 1 0 0 LZ分) でステンレス上に溶射し、 厚さ 1 0 0 μ πιのアルミナの溶射皮膜を形成した。 次に、 実施例 2と同様の溶射装 置で同様の条件でチタンを溶射し、 アルミナ皮膜の上に厚さ 20 0 μ m の窒化チタンの溶射皮膜を形成した。 得られた溶射皮膜は淡黄色の色調 であった。
実施例 4
F R P板 (3 0 X 5 0 X 1 O mm) 表面をサンドブラス ト処理により 粗面化した。 次に、 シリコン一アク リル樹脂 (日本油脂 (株) 製 「ベル タイ ト 6 0 0 0」 ) 1 0 0 g、 シリコンーァクリル榭脂の固形分に対し て平均粒子径 7 0 μ πιのアルミナ粉 (日本研磨工業 (株) 製) 2 0 0重 量%を加え、 十分に撹拌した。 得られた樹脂組成物に専用硬化剤と専用 シンナーを加え、 ェツチングされた F R Ρ樹脂表面にスプレー法で塗布 し、 1 0 0 、 6 0分間乾燥した。 次に溶射ガンに窒素ガスとアンモニ ァガスの混合ガス (容量比で窒素ガス : アンモニアガス = 1 0 : 1 ) を 8 k g / c m 2で導入し、 他の条件は実施例 1 と同様として、 厚さ 1 5 0 μ πιの窒化チタンの溶射皮膜を形成した。 得られた溶射皮膜は淡黄色 の色調であった。
実施例 5
実施例 4で用いた窒素ガスとアンモニアガスの混合ガスを、 空気とァ ンモニァガスの混合ガス (容量比で空気:アンモニアガス = 5 : 1 ) に 代えた以外は、 実施例 4と同様の条件で F R Ρ板 (3 0 X 5 0 X 1 0 m m) 表面に厚さ 2 0 0 μ mの窒化チタンの溶射皮膜を形成した。 得られ た溶射皮膜は淡黄色の色調であった。
実施例 6
F R P板 (3 0 X 5 0 X 5 mm) の表面をェメ リ一ペーパー ( 1 0 0 番) で粗面化した。 ポリエステル系接着剤 ( 「 P E S— 3 6 0 S 3 0 J ) 1 0 0重量部にィソシァネート系硬化剤 ( ("コロネ一ト L」 ) 5 重量部と溶剤 (トルエン : ME K= 8 : 2) 1 0 0重量部を加えて十分 に撹拌混合し、 この接着剤を粗面化した F R P表面にスプレー法で塗布 した後、 8 0 、 1 0分間乾燥した。 次に、 ガラス繊維で織られた布 (ュニチカグラスファイバー (株) 製 「H 2 0 1 M 1 0 4 F」 ) を接着 剤を塗布した F R P板上に置き、 2 0 0 °C、 l O k g Z c m2の圧力で 2分間加熱圧着した。 次に実施例 1で用いた溶射装置を用いて実施例 1 と同じ条件で、 ガラス繊維布上に厚さ 2 0 0 μ ιηの窒化チタンの溶射皮 膜を形成した。
実施例 7
ナイロン板 (3 0 X 5 0 X 5 mm) に実施例 1で用いた接着剤を実施 例 6と同様の条件でナイロン板表面に塗布した。 次にポリアラミ ド系繊 維で織られた布 (デュポン ' 東レ ' ケプラー (株) 製 「K E 3 0 3 3 j ) を接着剤を塗布したナイロン板の上に実施例 6と同様の条件で加 熱圧着した。 次に、 実施例 1で用いた溶射装置を用いて、 ポリアラミ ド 系繊維布の上にチタンを溶射した。 なお、 実施例 6では空気圧 8 k c m2の条件で行ったが、 空気を窒素ガスに代え、 ガス圧を 1 5 k g / c m2として他の条件は実施例 1 と同様とした。 その結果、 ポリアラミ ド系繊維布の上に厚さ 2 0 0 / mの窒化チタンの溶射皮膜を形成した。 実施例 8
ステンレス板 ( 3 0 X 5 0 X l mm) 表面をサンドブラス ト処理によ り粗面化した。 次に通常のプラズマジエツ ト溶射法によりアルミナを窒 素ガス中 (流量: 1 0 0 LZ分) でステンレス板上に溶射し、 厚さ 1 0 0 μ πιのアルミナの溶射皮膜を形成した。 次に 2液硬化型エポキシ系接 着剤 (コニシ (株) 製 「ボンドクイック」 ) をアルミナ溶射皮膜上に塗 布した後、 カーボン繊維で織られた布 (東レ (株) 製 「C 0 6 4 1」 ) を積層した。 次いで、 実施例 1で用いた溶射装置を用い、 実施例 7と同 様の条件でチタンを溶射し、 カーボン繊維布の上に厚さ 2 0 0 μ mの溶 射皮膜を形成した。 例
実施例 6で用いた F R P板表面をエメ リーペーパー ( 1 0 0番) で粗 面化した後、 実施例 1で用いた溶射装置を用い、 実施例 1 と同様の条件 でチタンを溶射した。 F R P表面には窒化チタン溶射皮膜はほとんど形 成されなかった。
比較例 2
実施例 2で用いたナイ口ン板表面をサンドプラス ト処理により粗面化 した後、 実施例 1で用いた溶射装置を用い、 実施例 1 と同様の条件でチ タンを溶射した。 ナイロン板表面には窒化チタン溶射皮膜は形成されず、 また、 ナイロン板は変形した。
溶射皮膜の分析
実施例 1〜 8で得られた溶射皮膜を X線回折法で解析した。 X線回折 は薄膜法で、 X線に C u K aを用い、 入射角度を 0 . 2 ° で行った。 そ の結果、 実施例 1〜 8で得られた溶射皮膜から T i Nに帰属する回折ピ —クが認められ、 本発明の方法で窒化チタン皮膜が形成されていること が確認された。
溶射皮膜の耐久性評価
実施例 1〜 8で得られた窒化チタン溶射皮膜を有する部材を作用極と して、 その耐久性を評価した。 耐久性評価試験には、 図 3 0に示した試 験装置を用いた。 5 0 0 m Lの海水を入れた試験槽 4 7には実施例 1〜 8で得られた窒化チタン溶射皮膜を有する部材 4 8からなる作用極と、 白金板からなる対極 2 3と、 飽和甘コゥ電極 (S C E ) からなる照合電 極 1 5とが配置されており、 各電極はポテンシヨスタツ ト 1 6と電気的 に接続されている。 また、 ポテンシヨスタツ ト 1 6は関数発生器 4 9と 電気的に接続されている。 試験槽 4 7の底部には撹拌装置 5 0およぴ撹 拌部材 5 1が配置されている。 かような構成の試験装置の作用極に 1. O V v s . S C Eの定電位 を 3 日間連続して印加した。 部材 4 8からなる作用極の溶射皮膜表面か らの金属溶出量を I C P分光分析法により定量し、 部材 4 8上の溶射皮 膜の抵抗値をマルチメ一ター (ジョンフルーフ MF G. C o . , I n c . 製 「 7 3マルチメーター」 ) を用いて測定した。 試験結果を表 1に示す。
Figure imgf000036_0001
[殺菌効果の確認]
実施例 9
水生生物として海洋細菌ビブリオ · アルギノ リティカス (V i b r i o a l g i n o l y t i c u s ) を用いた。 合成培地 (D I F C O L a b o r a t o r y社製、 「マリンブロス (Ma r i n e b r o t h) 2 2 1 6」 ) 中で 2 5 、 1 0時間好気的に培養した。 培養後の菌 体を遠心集菌し、 その後滅菌海水で洗浄後滅菌海水中に懸濁させ、 菌数 をへマタイ トメ一ターにてカウントし、 i x i o8 c e 1 1 s Zm L濃 度の菌体懸濁液を作製し試験に用いた。 実施例 1〜 8で得られた部材を 1 X 1 08 c e 1 1 s L濃度の菌体懸濁液液に 9 0分間浸漬し、 部 材の導電性膜表面に海洋細菌を吸着させた。 次に、 図 3 0に示した装置 の滅菌海水が満たされた試験槽 4 7中の作用極として、 上記で得られた 海洋細菌を付着させた部材を設置し、 1. O V v s . S C Eの定電圧 を 3 0分間印加した。 なお、 評価は部材の導電性膜表面に吸着している 海洋細菌をピペティングにより回収し、 コロニー計数法により生菌数を 求め、 次に示した式により生菌率を求めた。
生菌率 = (電位印加後の生菌数/電位印加前の生菌数) X 1 0 0 結果を表 2に示す。 表 2
Figure imgf000037_0001
実施例 1 0
図 1 に示した 2電極系防汚装置の水中構造物 3の基材 1に F R P板 ( 5 c m X 2 c m、 厚さ l c m) を用い、 導電性膜 2と してチタン箔 (海水中で電位を印加しても塩素の発生がない金属) を、 次の方法によ り接着剤を介して積層した。 F RP板基材表面をェメ リ一^ ^一パー ( 1 0 0番) で粗面化した後、 ポリエステル系接着剤 ( 「P E S— 3 6 0 S 3 0」 ) 1 0 0重量部にィソシァネート系硬化剤 ( 「コロネート LJ ) を 5重量部混合し、 溶剤 (キシレン : MEK= 1 : 1 ) を 1 5 0重量部 加え、 粗面化した F R P板表面にスプレー法で塗布し、 1 0 0°C、 5分 間乾燥した。 次に、 5 0 /z mのチタン箔を接着剤が塗布された F R P板 上に置き、 2 0 0°C、 5分間、 2 0 k g Z c m 2の圧力で加熱圧着した。 対極はチタン板 (5 c mX 2 c m、 厚さ 2mm) を用い、 電源は直流電 源を用いた。
チタン箔を積層した F R P板からなる作用極のチタン箔上に、 海洋細 菌ビブリオ · アルギノ リティカスを付着させ、 滅菌海水中で作用極に + 1. 8 Vの電圧を 3 0分間印加した後、 チタン箔上の海洋細菌の生菌率 を実施例 9で用いた方法により調べた。 その結果、 電位を印加する前の 生菌率を 1 0 0 %とすると、 電位印加後の生菌率は 0 %であった。 また、 1. 8 Vの電圧を印加した作用極であるチタン箔の電位と、 対極である チタン板の電位を照合電極として銀 Z塩化銀電極を用い、 エレク トロメ 一ターで測定した結果、 チタン箔には 1 · 2 V v s . A g /A g C 1 の電位が、 対極のチタン板には一 0. 6 V v s . A gZA g C lの電 位が印加されていた。
次に、 対極のチタン板表面に、 海洋細菌ビブリオ ·アルギノ リティカ スを付着させ、 滅菌海水中で作用極に一 1. 8 Vの電圧を 3 0分間印加 した後、 対極のチタン板上の海洋細菌の生菌率を実施例 9で用いた方法 により調べた。 その結果、 電位を印加する前の生菌率を 1 0 0 %とする と、 電位印加後の生菌率は 0 %であった。 また、 一 1. 8 Vの電圧を作 用極に印加した場合の対極であるチタン板の電位と、 作用極であるチタ ン箔の電位を照合電極として銀 Z塩化銀電極を用い、 エレク トロメータ 一で測定した結果、 対極であるチタン板には 1. 2 V v s . A g /A g C 1 の電位が、 作用極であるチタン箔には一 0. 6 V v s . A g / A g C 1 の電位が印加されていた。
以上の結果から、 作用極と対極に付着した海洋細菌は、 直流電源によ り極性を変換して電圧を印加することにより殺菌できることが確認でき た。
実施例 1 1
図 6に示した 3電極系防汚装置装置の水中構造物 3の基材 1に F R P 板 (5 c mX 2 c m、 厚さ l c m) を用い、 実施例 1 0と同様の方法で、 導電性膜 2としてチタン箔を接着剤を介して F R P板上に積層した。 照 合電極には銀ノ塩化銀電極を、 対極にはチタン板 ( 5 c mX 2 c m、 厚 さ 2 mm) を、 直流電源はポテンシヨスタツ トをそれぞれ用いた。
チタン箔を積層した F R P板からなる作用極のチタン箔上に、 海洋細 菌ビブリオ ·アルギノ リティカスを付着させ、 滅菌海水中で作用極にポ テンシヨスタツ トにより 1. O V v s . A g ZA g C 1 の正電位を 3 0分間印加した後、 チタン箔上の海洋細菌の生菌率を実施例 9で用いた 方法により調べた。 その結果、 電位を印加する前の生菌率を 1 0 0 %と すると、 電位印加後の生菌率は 2 %であった。
さらに、 作用極に負電位を印加し、 チタン箔上に付着した海洋細菌の 脱離について実施した。 海洋細菌ビブリォ ·アルギノ リティカスを作用 極のチタン箔上に付着させ、 滅菌海水中で作用極にポテンシヨスタ ツ ト により一 0. 6 V v s . A g ZA g C 1 の負電位を 1 0分間印加した 後、 チタン箔上の海洋細菌の生菌率を実施例 9で用いた方法により調べ た。 その結果、 負電位を印加する前の生菌率を 1 0 0 %とすると、 負電 位印加後の生菌率は 4 5 %となり、 負電位を印加することによりチタン 箔上に付着した海洋細菌は脱離した。
以上の結果から、 作用極に付着した海洋細菌は、 正電位を印加すると 殺菌され、 負電位を印加すると脱離することが確認できた。
実施例 1 2
図 2に示した防汚装置の水中構造物 3の基材 1に F R P板 (5 c mX 2 c m、 厚さ l c mを用い、 導電性膜 2として窒化チタンを表面に形成 したチタン箔を、 実施例 1 0と同様の方法で接着剤を介して F R P板上 に積層した。 F R P板上に積層した導電性膜は、 その中央付近で l mm の隙間を設けることにより 2分割して完全に絶縁した。 なお、 窒化チタ ンを表面に形成したチタン箔は、 チタン箔を窒素雰囲気中で 1 0 00°C、 1時間処理することにより作成した。
導電性膜上に海洋細菌ビブリオ ·アルギノリティカスを付着させ、 滅 菌海水中で + 1. 8 Vの電圧を直流電源を用いて 3 0分間印加した後、 2分割した各々の導電性膜上の海洋細菌を実施例 9で用いた方法により 調べた。 その結果、 一方の導電性膜上の生菌率は、 電位を印加する前を 1 00 %とすると、 電位印加後は 0 %となった。 また他方の導電性膜上 の生菌率は、 電位印加後には 40 %となった。
また、 1. 8 Vの電圧を印加した導電性膜の電位を、 照合電極として 銀 Z塩化銀電極を用い、 エレク ト口メーターで測定した結果、 2分割し た一方の導電性膜には、 1. 2 V v s . A g ZA g C 1の電位が、 他 方の導電性膜には— 0. 6 V v s . A gZA g C 1 の電位が印加され ていた。
以上の結果から、 水中構造物の表面に、 絶縁部を介して 2分割した導 電性膜を積層し、 この導電性膜に直流電源により電圧を印加すると、 2 分割した一方の導電性膜上の生物は殺菌され、 他方の導電性膜上の生物 は脱離することが確認された。 すなわち、 極性を周期的に変換して電圧 を印加することにより、 2分割した導電性膜上の生物を殺菌または脱離 することが可能となる。 なお、 この実施例の装置においては対極は不要 となる。
実施例 1 3
図 6に示した 3電極系防汚装置の水中構造物 3の基材 1にチタンを用 い、 導電性膜 2として窒化チタンをスパッタ リ ングで形成し、 作用極と した。 対極にはチタン基材に白金を被覆したメッシュを用いた。 照合電 極には銀 Z塩化銀電極を用い、 電源にはポテンショスタツ トを用いた。 作用極の窒化チタンからなる導電性膜上に海洋細菌ビブリオ · アルギ ノ リティカスを付着させ、 滅菌海水中で 0. 8 Vと 2 V v s . A g / A g C 1 の電位を 5分間印加した後、 導電性膜上の海洋細菌の生菌率を 実施例 9で用いた方法により調べた。 その結果、 電位を印加する前の生 菌率を 1 0 0 %とすると、 0. 8 V v s . A g A g C 1 の電位を印 加した場合の生菌率は 6 3。/0、 2. 0 V v s . A gZA g C l の電位 を印加した場合の生菌率は 0 %であった。
また、 それぞれの印加電位における塩素の発生を残留塩素電極で、 O Hラジカルの発生を E S Rで調べた。 その結果、 塩素は 0. 8 Vおよび 2. 0 V v s . A g/A g C l ともに検出限界以下であり、 また、 O Hラジカルは 0. 8 V v s . A gノ A g C 1 では発生しなかったが、 2. 0 V v s . A g /A g C 1では発生した。
これらの結果より、 窒化チタンを導電性膜に用いることにより比較的 低い電位で海洋細菌が効果的に殺菌できることが示され、 さらに、 OH ラジカルを発生させることにより、 海洋細菌を完全に殺菌できることが 示された。
実施例 1 4
実施例 1 3において、 対極としてチタン基材にスパッタリングで窒化 チタンを形成したものを用いた以外は、 実施例 1 3と同様にして、 作用 極の窒化チタンからなる導電性膜上の海洋細菌の生菌率を調べた。 その 結果、 電位を印加する前の生菌率を 1 00 %とすると、 0. 8 V v s . A g ZA g C 1 の電位を印加した場合の生菌率は 6 8 %、 2. 0 V V s . A g /A g C 1の電位を印加した場合の生菌率は 0 <½であった。 また、 それぞれの印加電位における塩素の発生を残留塩素電極で、 O Hラジカルの発生を E S Rで調べた。 その結果、 塩素は 0. 8 Vおよび 2. 0 V v s . A g/A g C l ともに検出限界以下であり、 また、 O Hラジカルは 0. 8 V v s . A g A g C 1 では発生しなかったが、 2. 0 V v s . A g ZA g C 1 では発生した。
これらの結果より、 実施例 1 3において、 チタン基材にスパッタリン グで窒化チタンを形成した対極を使用した場合でも、 作用極の導電性膜 に窒化チタンを用いることにより比較的低い電位で海洋細菌が効果的に 殺菌できることが示され、 さらに、 OHラジカルを発生させることによ り、 海洋細菌を完全に殺菌できることが示された。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 少なく とも防汚面を、 5 V v s . S C E以下の電位を印加して も塩素が発生しない導電性膜となした水中構造物と、 該水中構造物と接 触しないように配置した対極と、 前記導電性膜が形成された水中構造物 と対極との間に直流を通電する電源装置とを備えた水中構造物の電気化 学的防汚装置。
2 . 前記対極の表面に、 5 V v s . S C E以下の電位を印加しても 塩素が発生しない導電性膜を形成した請求の範囲第 1項に記載の水中構 造物の電気化学的防汚装置。
3 . 前記電源装置により直流電圧を、 前記水中構造物と対極との間に、 極性を周期的に変換して印加するようにした請求の範囲第 1項又は第 2 項に記載の水中構造物の電気化学的防汚装置。
4 . 少なく とも防汚面を、 5 V v s . S C E以下の電位を印加して も塩素が発生しない導電性膜となすとともに、 該導電性膜を絶縁部によ つて分割した水中構造物と、 絶縁部によって分割された前記導電性膜の それぞれに直流を通電する電源装置とを備えた水中構造物の電気化学的 防汚装置。
5 . 前記電源装置により直流電圧を、 絶縁部によって分割された前記 導電性膜のそれぞれに、 極性を周期的に変換して印加するようにした請 求の範囲第 4項に記載の水中構造物の電気化学的防汚装置。
6 . 少なく とも防汚面を、 5 V v s . S C E以下の電位を印加して も塩素が発生しない導電性膜となした水中構造物の複数個を絶縁部を介 して連結した水中構造物連結体と、 絶縁部を介して接続された各水中構 造物の前記導電性膜のそれぞれに直流を通電する電源装置とを備えた水 中構造物の防汚装置。
7 . 前記電源装置により直流電圧を、 絶縁部を介して接続された水中 構造物の前記導電性膜のそれぞれに、 極性を周期的に変換して印加する ようにした請求の範囲第 6項に記載の水中構造物の電気化学的防汚装置。
8 . 少なく とも防汚面を、 5 V v s . S C E以下の電位を印加して も塩素が発生しない導電性膜となした水中構造物と、 該水中構造物と接 触しないように配置した対極と、 前記導電性膜が形成された水中構造物 と対極との間に直流を通電する電源装置と、 前記水中構造物表面に形成 された導電性膜との電位差を制御するために前記水中構造物と対極との 間に配置した照合電極とを備えた水中構造物の電気化学的防汚装置。
9 . 前記対極の表面に、 5 V v s . S C E以下の電位を印加しても 塩素が発生しない導電性膜を形成した請求の範囲第 8項に記載の水中構 造物の電気化学的防汚装置。
1 0 . 前記電源装置により直流電圧を、 前記水中構造物の導電性膜に 対して正電位と負電位とを交互に印加するようにした請求の範囲第 8項 又は第 9項に記載の水中構造物の電気化学的防汚装置。
1 1 . 前記導電性膜が金属又はその化合物である請求の範囲第 1項乃 至第 1 0項のいずれか 1項に記載の水中構造物の電気化学的防汚装置。
1 2 . 前記金属がバルブ金属である請求の範囲第 1 1項に記載の水中 構造物の電気化学的防汚装置。
1 3 . 前記金属化合物が金属窒化物、 金属炭化物、 金属ホウ化物及び 金属ケィ化物からなる群から選ばれた一種もしくは二種以上よりなる請 求の範囲第 1 1項に記載の水中構造物の電気化学的防汚装置。
1 4 . 前記導電性膜が金属窒化物からなる溶射皮膜で形成されたもの である請求の範囲第 1項乃至第 1 0項のいずれか 1項に記載の水中構造 物の電気化学的防汚装置。
1 5 . 請求の範囲第 1 4項に記載の金属窒化物からなる溶射皮膜で形 成された導電性膜を有する水中構造物の製造方法であって、 金属線材を 溶融金属粒子とする工程と、 該溶融金属粒子を冷却された窒素含有ガス と接触させることにより溶融金属粒子表面を窒化するとともに溶融金属 粒子を過冷却状想にする工程と、 過冷却状態の溶融金属粒子を水中構造 物基材上に積層して溶射皮膜を形成する工程とからなる水中構造物の製 造方法。
1 6 . 前記水中構造物基材上に予め接着層を介して繊維層を積層した 後、 該繊維層の上に前記溶射皮膜を形成する請求の範囲第 1 5項に記載 の水中構造物の製造方法。
1 7 . 前記水中構造物基材が樹脂材料よりなり、 該樹脂材料表面を物 理的及び 又は化学的に粗面化処理した後、 該粗面化処理した表面に粒 子径が 1 0〜 2 0 0 // mの無機粉体を含む樹脂層を設け、 該樹脂層の上 に前記溶射皮膜を形成する請求の範囲第 1 5項に記載の水中構造物の製 造方法。
1 8 . 前記水中構造物基材が金属材料よりなり、 該金属材料表面に第 1の接着層を介して又は介さずに絶縁層を設け、 該絶縁層上に第 2の接 着層を介して又は介さずに粒子径が 1 0〜 2 0 0 / mの無機粉体を含む 樹脂層を設け、 該榭脂層の上に前記溶射皮膜を形成する請求の範囲第 1 5項に記載の水中構造物の製造方法。
1 9 . 請求の範囲第 8項又は第 9項に記載の水中構造物の電気化学的 防汚装置であって、 前記電源装置は、 前記水中構造物の導電性膜からな る作用極、 対極および照合電極と電気的に接続されている電位制御部と、 該電位制御部に対して電位の制御の指示を行うデータ処理部とを有し、 前記電位制御部においては、 前記データ処理部から指示された電位を作 用極と対極に与えるとともに、 照合電極と作用極の電位を測定して該測 定値を前記データ処理部に与え、 前記データ処理部においては、 前記電 位制御部より与えられた電位測定値を解析して、 電位制御部に対する電 位の制御の指示を調整する電気化学的防汚装置。
2 0 . 前記データ処理部と電位制御部とは、 通信回線で接続されてい る請求の範囲第 1 9項に記載の水中構造物の電気化学的防汚装置。
2 1 . 前記電位制御部は複数設けられており、 前記データ処理部は、 前記複数の電位制御部のそれぞれと電気的に接続されている請求の範囲 第 1 9項に記載の水中構造物の電気化学的防汚装置。
2 2 . 前記電位制御部に複数の照合電極を電気的に接続し、 前記複数 の照合電極の電位の測定値の平均値または前記複数の照合電極の電位の 測定値の一つを、 前記複数の照合電極の電位の基準の値として前記デー タ処理部に与える請求の範囲第 1 9項に記載の水中構造物の電気化学的 防汚装置。
2 3 . 前記電位制御部に温度センサおょぴ p Hセンサを電気的に接続 し、 前記温度センサおよび p Hセンサの測定値を前記データ処理部へ与 え、 これらの測定値によりデータ処理部から電位制御部に対する電位の 制御の指示を補正する請求の範囲第 1 9項に記載の水中構造物の電気化 学的防汚装置。
2 4 . 請求の範囲第 1項、 第 2項、 第 8項又は第 9項に記載の防汚装 置を用いる生物の電気化学的制御方法であって、 導電性膜が形成された 前記水中構造物に 0 . 1乃至 5 V v s . S C Eの電位を印加し、 前記 導電性膜表面に付着した生物の直接電子移動反応によって及び/又は水 の電気分解により発生した O Hラジカルによって生物を電気化学的に殺 菌または制御する電気化学的制御方法。
2 5 . 導電性膜が形成された前記水中構造物に 1 . 5 乃至5 V s . S C Eの電位を印加し、 水の電気分解により発生した O Hラジカル によって前記導電性膜表面に付着した生物を電気化学的に殺菌または制 御する請求の範囲第 2 4項に記載の生物の電気化学的制御方法。
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