WO1998042003A1 - Tube cathodique couleur - Google Patents

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WO1998042003A1
WO1998042003A1 PCT/JP1998/001048 JP9801048W WO9842003A1 WO 1998042003 A1 WO1998042003 A1 WO 1998042003A1 JP 9801048 W JP9801048 W JP 9801048W WO 9842003 A1 WO9842003 A1 WO 9842003A1
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WO
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phosphor screen
mask
mask body
envelope
electron beam
Prior art date
Application number
PCT/JP1998/001048
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English (en)
French (fr)
Inventor
Munechika Tani
Takashi Murai
Ichiro Saotome
Masatsugu Inoue
Original Assignee
Kabushiki Kaisha Toshiba
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Publication date
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Priority to US09/180,616 priority patent/US6384522B1/en
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
    • H01J29/07Shadow masks for colour television tubes
    • HELECTRICITY
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    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
    • H01J29/07Shadow masks for colour television tubes
    • H01J29/073Mounting arrangements associated with shadow masks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2229/00Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
    • H01J2229/07Shadow masks
    • H01J2229/0727Aperture plate
    • H01J2229/0766Details of skirt or border
    • H01J2229/0772Apertures, cut-outs, depressions, or the like

Definitions

  • the present invention relates to a color cathode ray tube, and more particularly, to a color cathode ray tube in which thermal expansion of a shadow mask (the deviation of landing of an electron beam with respect to a phosphor layer due to the thermal expansion) is suppressed.
  • a color cathode ray tube includes a vacuum envelope, which has a face panel having a substantially rectangular effective portion having a curved surface, a funnel joined to the face panel, and Is provided. On the inner surface of the effective part of the face panel, a phosphor screen composed of a three-color phosphor layer that emits blue, green, and red light is formed. A shadow mask is arranged inside the phosphor screen at a predetermined distance from the phosphor screen.
  • the shadow mask includes a substantially rectangular mask body and a substantially rectangular mask frame attached to a periphery of the mask body.
  • the mask body has a main surface portion having a curved surface facing a phosphor screen and a large number of electron beam passage holes formed in a predetermined arrangement, and a non-porous portion surrounding a periphery of the main surface portion. And a scart part provided around the main surface through a non-porous part.
  • the mask frame is formed in an L-shaped cross section and is welded to the scar part of the mask body.
  • an electron gun that emits three electron beams is installed in the neck of the funnel. And the electron gun 3 The electron beam is deflected by the magnetic field generated by the deflector mounted outside the funnel, and the phosphor screen is scanned horizontally and vertically through a shadow mask to produce a color image. Is displayed.
  • the phosphor screen is not used.
  • the three-color phosphor layer is formed in a strip shape elongated in the vertical direction (short axis direction, Y axis direction) perpendicular to the tube axis (Z axis), and the electron beam on the mask body is correspondingly formed.
  • the plurality of electron beam passing holes are arranged in a row in the vertical direction through the bridge portion, and the vertical electron beam passing hole row composed of the plurality of electron beam passing holes is arranged in the horizontal direction (long axis direction). , X-axis direction).
  • the shadow mask is provided so as to select three electron beams passing through each electron beam passage hole at different angles so as to land on a predetermined phosphor layer. Then, in order to improve the color purity of the image drawn on the phosphor screen by scanning each electron beam, three electron beams passing through each electron beam passage hole must have a predetermined value.
  • the phosphor layer must be properly landed.
  • the mask body is correctly arranged in a predetermined matching relationship with the phosphor screen, and that the matching relationship is maintained during the operation of the color cathode ray tube. It is.
  • the distance (q value) between the inner surface of the effective portion of the space panel and the main surface of the mask body is within a predetermined allowable range. It needs to be kept in an enclosure.
  • the color cathode ray tube has an electron beam reaching the phosphor screen through each electron beam passage hole of the mask body, and the electron beam emitted from the electron gun is 1 Z 3 Most of the remaining electron beam collides with the mask main body and is converted into thermal energy, thereby heating the mask main body to about 80 ° C. Therefore, in particular, the mask body is made of a cold-rolled steel sheet having a large thermal expansion coefficient and a thickness of (1.210-6 z ° C) and a thickness of 0.1 to 0.3 mm.
  • the main surface of the mask body locally expands toward the phosphor screen due to thermal expansion.
  • the so-called doming is performed. If the distance between the inner surface of the effective portion of the face panel and the main surface of the mask body exceeds an allowable value, the position of the electron beam passage hole in the mask body changes, and the electron beam radiates the three-color phosphor layer. The reading is shifted and the color purity is deteriorated.
  • the electron beam landing deviation with respect to the three-color phosphor layer includes the landing deviation caused by the thermal expansion of the entire mask body at the beginning of the operation of the color cathode ray tube, and the local high brightness.
  • the magnitude of the landing deviation depends on the brightness of the image pattern drawn on the screen, its duration, and the like. For example, when a high-brightness image is displayed over the entire screen for a long time, color purity is deteriorated over a wide area of the screen. In addition, when a high-brightness image is displayed locally, Local doming of the mask occurs, causing the landing position to shift significantly in a short time, resulting in local degradation of color purity.
  • the high-intensity pattern is located at a position approximately 13 W horizontally away from the center of the screen, assuming that the landing deviation due to local doming is W. When drawn, it is the largest in the elliptical area in the middle part of the screen in the horizontal direction.
  • graphite is used as a main component on the surface of the main surface of the mask body to promote heat radiation of the mask body.
  • a graphite layer is provided, and the graphite layer is used as a radiator to lower the temperature of the mask body.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-54139 discloses a mask body in which a glass layer of lead borate glass or the like is provided on the surface of the main surface of the mask body facing the electron gun.
  • the thermal conductivity is lower than that of the mask body, so the amount of heat transferred to the mask body is reduced, and the temperature rise of the mask body is suppressed. Can be.
  • the mechanical strength of the mask body is improved.
  • lead borate glass is deposited and crystallized on the mask body, compressive stress acts on the glass layer and tensile stress acts on the mask body, resulting in mass loss. The tension strength of the main body is improved.
  • the heat treatment repeated in the color cathode ray tube manufacturing process deteriorates the adhesion of the graphite layer and reduces the vibration applied to the color cathode ray tube.
  • the peeled-off small pieces adhere to the mask body and clog the electron beam passage holes, thereby deteriorating the quality of the image displayed on the phosphor screen.
  • the separated small pieces tend to adhere to the electron gun or its vicinity, induce spark discharge, and cause problems such as deterioration of withstand voltage characteristics.
  • lead oxide contained in lead borate glass is used. Since the amount of (PbO) is as high as 70 to 85%, diffuse reflection of the electron beam shielded by the shadow mask in the tube increases, and a decrease in contrast, which is usually called whitening, occurs. Occurs.
  • a lead borate glass layer is provided on a mask body made of a cold-rolled steel sheet having a thickness of about 0.1 to 0.3 mm, the glass layer is compressed by welding and crystallization. Stress, tensile stress acts on the mask body. So this When the balance of the stress collapses, the mask body is easily deformed.
  • the thickness of the glass layer is usually 10 to 20 m, which is considered to be preferable.
  • a mask body made of a cold-rolled steel sheet having a thickness of 0.2 mm or less is added to the manufacturing process.
  • a glass layer having a thickness exceeding 20 ⁇ m is formed due to the variation, there is a problem that the mask body is deformed.
  • the difference in wall thickness between the center part and the peripheral part of the face panel is remarkably large. It doesn't like it.
  • the heat capacity is different between the main surface portion of the mask body where the electron beam passage holes are formed and the non-porous portion where the electron beam passage holes are not formed. There is a difference in heat conduction between the hole and the hole. For this reason, the temperature distribution of the mask body is such that the temperature of the main surface is extremely higher than the temperature of the non-porous portion, and the doping of the main surface is large. It's easy.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to suppress a deviation in landing of an electron beam with respect to a phosphor layer due to doming of a shadow mask, thereby deteriorating color purity.
  • An object of the present invention is to provide a color cathode ray tube which is difficult to be changed.
  • a color cathode ray tube comprises: an envelope having a face panel in which a phosphor screen is formed on an inner surface; and an envelope facing the phosphor screen.
  • a shadow mask provided therein; and an electron gun provided in the envelope and irradiating the phosphor screen with an electron beam through the shadow mask.
  • the shadow mask is provided, via a non-porous portion, around a main surface in which a large number of electron beam passage holes are formed while facing the phosphor screen, and around the main surface.
  • a substantially rectangular mask body having a long axis and a short axis orthogonal to each other, and a substantially rectangular mask frame attached to the scar section.
  • the scar portion has one of a plurality of slit-like openings extending in the major axis direction of the mask body, or an elongated recess.
  • the non-porous portion of the mask main body has one of a plurality of slit-shaped openings extending in the longitudinal direction of the mask main body or an elongated recess. I have.
  • the scar portion and the mask portion of the mask body are provided.
  • the non-perforated portion has either a plurality of slit-shaped openings extending in the major axis direction of the mask body or an elongated recess.
  • the opening and the recess are formed so that the center of the mask body is about 1 Z3 of the length of the mask body in the major axis direction and is separated from the minor axis by the major axis direction.
  • the length is formed in a range of about 14 widths.
  • At least one of the scar portion and the non-porous portion of the mask body has a plurality of circular apertures formed partially at a high density. Or, there is a recess, and the high-density portion has a rectangular shape.
  • the scar portion of the mask body has a long opening or recess in the longitudinal direction, so that the rigidity of the scar portion is low.
  • the thermal expansion is absorbed by the deformation of the scar portion, and the main surface portion is moved in the phosphor screen direction. Doming of the swelling mask body can be reduced. Thereby, it is possible to reduce the landing deviation of the electron beam with respect to the phosphor layer and prevent the color purity from deteriorating.
  • the difference in heat conduction between the main surface and the non-porous portion can be reduced.
  • the temperature of the main surface decreases, and the temperature of the non-porous portion increases.
  • the temperature distribution over the entire mask body is made uniform, and the electron beam is applied to the phosphor layer.
  • the rigidity of the skirt portion is low, and the main surface portion and the non-porous portion are not provided.
  • the heat conduction difference can be reduced at the boundary between the two, and the color purity can be more effectively prevented from deteriorating due to the deviation of the landing of the electron beam on the phosphor layer.
  • the scar portion and the non-porous portion which are located within a width of about 14 of the above-mentioned longitudinal dimension, centered on the major axis position which is away from the short axis of the mask body by about 13 of the longitudinal dimension of the mask body,
  • the most doming occurs by providing a long hole in the long axis direction or a recess with a bottom plate thickness smaller than that of the mask body at least on one side. It is possible to effectively suppress local degradation of color purity due to deviation of landing of the electron beam on the phosphor layer by suppressing local doming of the easy-to-use portion.
  • FIG. 1 to FIG. 6B show a color cathode ray tube according to an embodiment of the present invention.
  • Figure 1 is a cross-sectional view of the above color cathode ray tube.
  • Figure 2 is a perspective view showing the shadow mask body
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III--III of FIG.
  • Fig. 4 is a side view showing the mask frame with a part cut away.
  • Fig. 5 is a shadow mask when the mask body is thermally expanded. Sectional view schematically showing a deformed state of
  • Figures 6A and 6B are top views, respectively, showing the flat mask during different manufacturing steps of the shadow mask
  • FIG. 7 is a perspective view showing a shadow mask main body in a color cathode tube according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a sectional view taken along the line VIII-VIII of FIG. 7,
  • FIG. 9 is a graph showing a temperature distribution in the mask main body
  • FIG. 10 is a perspective view showing a shadow mask main body in a color cathode tube according to a third embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line XI-XI of FIG.
  • FIG. 12 is a plan view of a flat mask used for manufacturing a shadow mask body in a color cathode tube according to a third embodiment of the present invention.
  • FIG. 13 is an enlarged plan view showing a portion A in FIG.
  • the color cathode ray tube is provided with a vacuum envelope 10 which comprises a face panel 2 having a substantially rectangular effective surface 1 consisting of a curved surface; And a funnel 3 joined to the face panel 2.
  • a phosphor screen 4 composed of phosphor layers of three colors emitting blue, green and red is formed.
  • a substantially rectangular shadow mask 30, which will be described later, is arranged at a predetermined distance from the phosphor screen.
  • the three electron beams 14B, 14G, and 14R emitted from the electron gun 15 are transmitted to the deflection device 16 mounted on the outside of the funnel 3. It is deflected by the generated magnetic field, and the phosphor screen 4 is horizontally and vertically scanned through the shadow mask 30 to display a color image.
  • the shadow mask 30 includes a substantially rectangular mask body 34 and a substantially rectangular mask frame 35 fixed to a peripheral portion of the mask body.
  • the mask main body 34 is formed in a substantially rectangular shape made of a cold-rolled steel plate having a thickness of 0.1 to 0.3 mm, and its longitudinal axes (X-axis) are orthogonal to each other. It has a short axis (Y axis).
  • the mask body 34 is formed on a curved surface facing the phosphor screen 4 and has a rectangular main surface portion 31 having a number of slit-like electron beam passage holes 40. And a non-porous portion 32 surrounding the main surface portion 31, and a scar portion 33 provided around the main surface portion 31 via the non-porous portion 32.
  • a plurality of electron beam passage holes 40 are arranged in a row in the short-axis Y direction via the respective prisms 41, and the short-axis direction electron beam composed of the plurality of electron beam passage holes 40 is provided.
  • a plurality of beam passing hole arrays 50 are arranged in parallel in the long axis X direction.
  • the central portion of the main surface portion 31 on the long side, the central portion on the short side, and each corner portion have a plurality of openings at the open edge of the skirt portion.
  • Notch 4 2 is formed.
  • a plurality of slit-shaped openings 38a, 38b are formed in the scart portion 33 of the mask body 34.
  • a plurality of elongated openings 38 a extending in the long axis X direction of the mask body 34 are provided in the middle portion between the center and the corner of the long side scar portion 33 in the long axis X direction. They are formed side by side and adjacent to each other.
  • a plurality of elongated slit-like holes 38b extending in the short axis Y direction of the mask body 34 are provided in the middle of the center of the short side scart 33 and a part of the corner. They are formed side by side in the short axis Y direction and adjacent to each other.
  • the aperture 38 a of the long side scart portion 33 is preferably the length of the mask body 34 in the long axis X direction. It is provided in a range of about 1 to 4 widths of the above-described length W, centered on a position in the long axis direction away from the short axis Y of the mask body 34 by about 1 Z 3 of the length W.
  • the openings 38a and 38b are formed by, for example, an etching method at the same time as the electron beam passage holes 40, and
  • the mask frame 35 is formed in a substantially rectangular shape having an L-shaped cross section made of a cold-rolled steel sheet having a thickness of about 1 mm, and has a mask frame on its side wall.
  • a band-shaped protrusion 44 protruding inside the frame 35 is formed over the entire circumference of the frame.
  • the shadow mask 34 is disposed inside the mask frame 35 and is surrounded by the notch 42 in the scar portion 33.
  • a plurality of tongue pieces 54 are welded to the projections 44 of the mask frame.
  • the shadow mask 30 having the above configuration was attached to a plurality of stud pins 36 protruding from the inner surface of the skirt portion of the face panel 2 and to the mask frame 35. By being engaged with a plurality of elastic supports 37, they are supported inside the face panel 2.
  • slit-shaped openings 38a and 38b are provided in the scart portion 33 of the mask body 34.
  • the rigidity of the scar portion 33 can be reduced as compared with a conventional mask body in which a slit-shaped opening is not provided in the scar portion. Therefore, when the mask body 34 is heated by the collision of the electron beam and thermally expanded, the thermal expansion of the mask body 34 can be absorbed by the deformation of the scar part 33. Accordingly, doming in which the main surface portion 31 bulges in the phosphor screen direction is reduced, and the landing deviation of the electron beam with respect to the three-color phosphor layer is reduced, thereby preventing deterioration in color purity. It comes out.
  • the rigidity of the scar part is relatively high, and when the mask body is heated by the collision of the electron beam, Due to thermal expansion, a doming occurs in which the main surface swells greatly in the phosphor screen direction. As a result, the landing deviation of the electron beam with respect to the three-color phosphor layer is large, and the color purity is deteriorated.
  • the mask body 34 When slit-shaped openings 38a and 38b are provided in the scart portion 33, the rigidity of the scart portion 33 decreases. Further, since the openings 38a and 38b extend almost parallel to the sides of the main surface portion 31, the continuity of the skat material along the direction from the main surface portion to the scar portion 33 is improved. And the thermal conductivity along this direction decreases. As a result, the heat flow to the main frame 31 and the peripheral frame 1 to the scart 3 3 —mask frame 35 is relatively small, and the temperature difference between the center and the periphery of the main surface 31 is reduced. can do. As a result, the heat distribution of the main surface 31 can be made uniform, and local thermal expansion at the center of the main surface 31 can be suppressed.
  • the slit-shaped openings 38a and 38b are provided substantially parallel to each side of the main surface portion 31 so that the overhanging press for the scart portion 33 can be performed. The frictional resistance increases, and the formability of the shadow mask improves.
  • holes 38 a and 3 are formed in the scar section 33 of the mask body 34.
  • the mask main body 34 having the above-described structure is formed by a photo-etching method using a photomask to form an electron beam passage hole 40 and a slit-like opening in a flat flat mask. After the simultaneous formation of 38a and 38b, this flat mask is manufactured by press molding.
  • an electron beam passage hole 40 is formed in the flat mask 46 by a photo-etching method, and then punching is performed as shown in FIG. 6B.
  • slit-shaped openings 38a and 38b may be formed in the portion 33a to be the scart portion.
  • a slit-shaped opening is provided in the skirt portion 33 of the mask body 34.
  • the bottom plate thickness is changed.
  • it may be provided with a scar portion, that is, an elongated concave portion thinner than the thickness of the mask body. Even when such an elongated recess is used, the rigidity of the scart portion can be reduced, and a color cathode ray tube having the same effect as the above-described embodiment can be obtained.
  • FIG. 7 shows a configuration of a mask body 34 in a color cathode ray tube according to a second embodiment of the present invention.
  • the mask body 34 is formed in a substantially rectangular shape made of a cold-rolled steel plate having a thickness of 0.1 to 0.3 mm, and has a number of slit-like electron beam passage holes 40.
  • the long side A plurality of cutouts 42 are formed in the center and corners of the side and short side scart portions 33 at the open edges.
  • the ineffective portion 3 2 on the long side of the mask body 3 4 has a major axis position away from the short axis Y of the mask body 34 by about 1 to 3 of the length W in the major axis X direction of the mask body 34.
  • a plurality of elongated recesses 47 are formed in a range of about 14 widths of the length W around the center. As shown in FIG. 8, the recess 47 has a bottom plate thickness smaller than the thickness of the non-porous portion 32, that is, the plate thickness of the mask body 34, and the major axis X direction of the mask body 34. And are provided adjacent to each other along the major axis X direction.
  • the scar portion 33 on the long side of the mask body 34 is separated from the short axis Y of the mask body 34 by about 13 of the length W in the long axis X direction of the mask body 34.
  • a slit-shaped opening 38a is formed in a range of about 14 widths of the length W centered on the position in the long axis direction.
  • the openings 38a extend in the major axis X direction of the mask main body 34 and are provided adjacent to each other along the major axis X direction.
  • Such a mask main body 34 is manufactured by forming a flat-plate-shaped flat mask by a photo-etching method, and then press-forming the flat mask.
  • the flat mask is processed, by etching from both sides, the electron beam is applied to the part that becomes the main surface 31 facing the phosphor screen.
  • a slit opening 38a is formed in a portion to be a scar portion while forming a system passage hole.
  • a concave portion 47 is formed in a portion to be the non-porous portion 32.
  • the flat mask is etched from one surface to form a recess 47 in a non-porous portion, and then a flat portion of the flat mask is formed by punching. It can also be formed by a method of forming a lit opening.
  • a long recess 47 in the long axis X direction of the mask main body 34 is formed in the non-porous portion 32 on the long side. Even if the mask body is heated by the collision of the electron beam, the temperature distribution of the entire mask body can be made substantially uniform.
  • Curve 48 in FIG. 9 shows the temperature distribution of the mask body when the position along the short axis Y of the mask body is the horizontal axis and the temperature t is the vertical axis.
  • the heat capacity is different between the main surface portion where the electron beam passage hole is formed and the non-porous portion.
  • the temperature of the main surface becomes extremely higher than the temperature of the non-porous part. As a result, the doping of the main surface is increased.
  • the heat conduction difference between the main surface portion 31 and the non-porous portion 32 is increased.
  • the temperature of the main surface decreases and the temperature of the non-porous portion increases, as compared with the conventional mask body.
  • the temperature distribution of the entire mask body 34 becomes uniform.
  • Such uniformity of the temperature distribution of the mask body can be further improved by forming a slit-shaped opening 38a long in the long axis X direction in the scar portion 33. Will be encouraged.
  • the opening 38a of the scar portion 33 reduces the rigidity of the scar portion and absorbs the thermal expansion of the mask body 34, as in the case of the mask body of the above-described embodiment. 1 reduces doming which swells in the phosphor screen direction. Therefore, when the mask body 34 is configured as described above, the doping of the mask body is more effectively reduced due to the uniform temperature distribution and the reduced rigidity of the scar portion, and the color purity is degraded. Can be eliminated.
  • 38 a is a width of about 14 of the length W, centered on the long-axis position of the mask body 34 that is about 1 to 3 of the length W of the mask body and away from the short axis Y of the mask body.
  • the phosphor layer in this portion can be reduced. It is possible to effectively reduce the landing deviation of the electron beam with respect to. Such an effect is difficult to increase the curvature of the mask body in the case of a flat color cathode ray tube in which the effective portion of the face panel has a small curvature like a recent color cathode ray tube. Therefore, it is particularly effective.
  • a slit-shaped opening 38a is provided in the slot portion 33 of the mask body 34, and an elongated recess is formed in the non-hole portion 32.
  • the landing deviation of the electron beam with respect to the three-color phosphor layer due to local doming was measured.
  • the landing deviation at a point on the major axis of the phosphor screen could be improved by about 10%.
  • an elongated recess may be provided in the scar portion 33 instead of the slit-shaped opening 38a.
  • an elongated recess is provided in the scar portion 33 in place of the slit-shaped opening, and conversely, a slot is provided in the non-porous portion 32 in place of the recess 47.
  • a lip-shaped opening may be formed.
  • FIG. 10 shows a shadow mask main body of a color cathode ray tube according to a third embodiment of the present invention.
  • the mask body 34 is formed in a substantially rectangular shape made of a cold-rolled steel sheet having a thickness of 0.1 to 0.3 mm, similarly to the mask body of the first embodiment.
  • a non-porous portion 32 surrounding the main surface portion 31, and a non-porous portion 32.
  • a scar section 33 provided around the main surface section 31.
  • a plurality of cutouts 42 are provided at the center and a part of the corner of the long side and short side scart sections 33 at the open end of the scart section.
  • the center of the long axis direction of the mask body 34 is about 1 to 3 of the length W of the mask body 34 away from the short axis Y of the mask body.
  • the bottom plate thickness is smaller than the thickness of the non-porous portion 32, that is, the thickness of the mask body 34, in the range of the width W of the length W of about 14 as shown in Fig. 11.
  • a plurality of recesses 47 long in the major axis X direction are formed in the mask body 34, and are provided adjacent to each other along the major axis X direction.
  • Other configurations are the same as those of the above-described embodiment, and the same portions are denoted by the same reference characters and detailed description thereof will not be repeated.
  • a slit-shaped opening is provided in the non-porous portion 32 of the mask body 34 instead of the elongated recess 47. In this case, a shadow mask having the same effect can be obtained.
  • the recess 47 provided in the scar portion 33 or the non-porous portion 32 of the mask body is not limited to a rectangular shape but may be a circular shape.
  • Fig. 12 and Fig. 13 show the flat mask 46 before the mask body is formed.
  • a large number of circular recesses 47 are formed over the entire surface of the part 33a to be a scart part. ing.
  • a dense high density portion 70 is provided.
  • the high-density portion is formed in a rectangular shape extending substantially parallel to the major axis X of the mask body, and is set to have a length W of about 14.
  • a circular opening instead of the recess 47.
  • a circular recess shown in FIGS. 12 and 13 is provided instead of the elongated recess 47 formed in the non-porous portion of the mask body, and the recess is partially formed. May be formed to form a rectangular high-density portion 70 in which the density is high.

Landscapes

  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Description

明 細 書
カ ラー陰極線管
技 術 分 野
この発明は、 カ ラー陰極線管に係 り、 特に、 シャ ドウマス ク の熱膨張(こよる蛍光体層に対する電子ビームのランディ ン グずれを抑制 したカ ラー陰極線管に関する。
背 景 技 術
一般に、 カ ラー陰極線管は真空外囲器を備え、 この真空外 囲器は、 曲面からなる実質的に矩形状の有効部を有するフ エ ースパネルと、 フ ェースパネルに接合されたフ ァ ンネルと、 を具備 している。 フ ェースパネルの有効部の内面には、 青、 緑、 赤に発光する 3 色蛍光体層からなる蛍光体スク リ ーンが 形成されている。 蛍光体スク リーンの内側には、 蛍光体スク リーンから所定間隔離れてシャ ドウマスクが配置されてい る。 このシャ ドウマスク は、 実質的に矩形状のマスク本体と、 マスク本体の周辺部に取 り 付け られた実質的に矩形状のマス ク フ レームと を備えている。
マスク本体は、 多数の電子ビーム通過孔が所定の配列で形 成されている と と もに蛍光体スク リーンと対向 した曲面から なる主面部と、 主面部の周囲を囲んだ無孔部と、 無孔部を介 して主面部のまわ り に設けられたスカー ト部と、 で構成され ている。 マスク フ レームは、 断面 L字形に形成され、 マスク 本体のスカー ト部に溶接されている。
一方、 ファ ンネルのネ ック 内には、 3 電子ビームを放出す る電子銃が配設されている。 そ して、 この電子銃から放出さ れる 3 電子ビームをファ ンネルの外側に装着された偏向装置 の発生する磁界によ り偏向 し、 シャ ドウマスク を介 して蛍光 体スク リーンを水平、 垂直走査する こ とによ り 、 カ ラー画像 が表示される。
このよ う なカ ラー陰極線管の う ち、 特に、 同一水平面上を 通る一列配置の 3 電子ビームを放出する電子銃を有するイ ン ライ ン形のカ ラー陰極線管においては、 蛍光体スク リーンの 3 色蛍光体層は、 管軸 ( Z軸) と直交する垂直方向 (短軸方 向、 Y軸方向) に細長いス トライ プ状に形成され、 これに対 応 して、 マスク本体の電子ビーム通過孔は、 ブリ ッ ジ部を介 して複数個づっ垂直方向に一列に並んで配置され、 この複数 個の電子ビーム通過孔からなる垂直方向の電子ビーム通過孔 列が水平方向 (長軸方向、 X軸方向) に複数列並列配置され ている。
と こ ろで、 シャ ドウマスク は、 各電子ビーム通過孔を異な る角度で通過する 3 電子ビームがそれぞれ所定の蛍光体層上 にラ ンディ ングするよ う に選別するために設け られている。 そ して、 各電子ビームの走査によ って蛍光体スク リ ーン上に 描かれる画像の色純度を良好にするためには、 各電子ビーム 通過孔を通過する 3 電子ビームがそれぞれ所定の蛍光体層に 正 し く ラ ンディ ングする必要がある。 そのためには、 蛍光体 スク リ ーンに対してマスク本体が所定の整合関係に正 し く 配 置され、 かつ、 カ ラー陰極線管の動作中、 その整合関係が保 持される こ とが必要である。 特に、 フ ヱ一スパネルの有効部 内面とマスク本体の主面部との間隔 ( q値) が所定の許容範 囲に保たれる こ とが必要である。
しか しながら、 カ ラー陰極線管は、 動作原理上、 マスク本 体の各電子ビーム通過孔を通って蛍光体スク リーンに達する 電子ビームは、 電子銃から放出される全電子ビーム量の 1 Z 3 以下であ り 、 残 り の電子ビームは、 そのほとんどがマスク 本体に衝突して熱エネルギに変換され、 マスク本体を 8 0 °C 程度に加熱する。 そのため、 特に、 マスク本体が、 熱膨張係 数の大きし、 ( 1 . 2 1 0 - 6 z °C ) 板厚 0 . 1 〜 0 . 3 m m の冷間圧延鋼板か らな り 、 マスク フ レームがそれよ り も機械 的強度の大きい板厚 1 m m程度の冷間圧延鋼板からなるシャ ドウマスクでは、 熱膨張によ り マスク本体の主面部が局部的 に蛍光体スク リーン側に膨出するいわゆる ドーミ ングをおこ す。 そ して、 フ ェースパネルの有効部内面とマスク本体の主 面部との間隔が許容値を越える と、 マスク本体の電子ビーム 通過孔の位置変化によ り 、 3 色蛍光体層に対する電子ビーム のラ ンディ ングがずれ、 色純度の劣化がおこ る。
このよ う な 3 色蛍光体層に対する電子ビームのラ ンディ ン グずれには、 カ ラー陰極線管の動作開始初期に、 マスク本体 全体が熱膨張して生ずるラ ンディ ングずれと、 局部的に高輝 度画像を表示 した場合に生ずる局部的な ドーミ ングに基因 し たランディ ングずれとがある。 そのラ ンディ ングずれの大き さは、 画面上に描かれる画像パターンの輝度、 その継続時間 などによって異なる。 例えば、 画面全体に長時間高輝度画像 を表示 した場合、 画面の広い範囲で色純度の劣化がおこ る。 また、 局部的に高輝度の画像を表示 した場合、 シャ ドウマス クの局部的な ドーミ ングが生 じ、 短時間にランディ ング位置 が大き く ずれ、 局部的な色純度の劣化がおこ る。
局部的な ドーミ ングによ るラ ンディ ングずれは、 蛍光体ス ク リーンの水平方向の長さ を Wとすると、 高輝度パターンを 画面中心から水平方向にの 1 3 ■ W程度離れた位置に描い た場合に、 画面の水平方向中間部の楕円領域で最も大き く な る。
従来、 マスク本体の ドーミ ングによるラ ンディ ングずれを 抑制するい く つかの手段が開発されている。 例えば、 カ ラー 陰極線管の動作開始初期のラ ンディ ングずれを抑制する技術 と して、 下記 ( a ) および ( b ) が知 られている。
( a ) 米国特許第 2 , 8 2 6 , 5 3 8号明細書に開示され た技術によれば、 マスク本体の熱放射を促進すべく 、 マスク 本体の主面部表面に黒鉛を主成分とする黒鉛層を設け、 この 黒鉛層を放熱器と してマスク本体の温度を低下させるよ う に している。
( ) 特開昭 6 0 — 5 4 1 3 9号公報には、 マスク本体の 主面部の電子銃側の面に、 鉛ホウ酸塩ガラスなどのガラス層 を設けたものが開示されている。 鉛ホウ酸塩ガラス層を設け ると、 その熱伝導率がマスク本体のそれよ リ も小さ いため、 マスク本体に伝達される熱量が少な く なリ、 マスク本体の温 度上昇を抑制する こ とができる。 また、 鉛ホウ酸塩ガラス層 を設ける こ とによ り 、 マスク本体の機械的強度が向上する。 更に、マスク本体に鉛ホウ酸塩ガラスが溶着 し結晶化する と、 ガラス層に圧縮応力、 マスク本体に引張応力が作用 し、 マス ク本体の張 り強度が向上する。
なお、 これらの技術によ り 、 マスク本体の局部的な ドーミ ングを抑制する こ と も可能である。
また、 従来、 マスク本体の局部的な ドーミ ングを抑制する 手段と して、
( c ) マスク本体の主面部の曲率を大き く する方法がある。 この方法では、 特に、 マスク本体の短軸方向の曲率を大き く する と有効であるこ とが知 られている。
しか し、 マスク本体の主面部表面に黒鉛層を設ける技術 ( a ) では、 カ ラー陰極線管の製造工程で繰返される熱処理 によ り黒鉛層の密着が劣化 し、 カ ラー陰極線管に加わる振動 によ り剥離 しやす く 、 その剥離 した微小片がマスク本体に付 着 して電子ビーム通過孔を詰ま らせ、 蛍光体スク リーン上に 表示される画像の品位を低下させる。 また、 剥離した微小片 が、 電子銃あるいはその付近に付着 してスパーク放電を誘発 させ、 耐電圧特性を低下させるなどの問題が生 じやすい。
また、 上記 ( b ) のよ う に、 マスク本体の主面部の電子銃 側の面に、 鉛ホウ酸塩ガラスなどのガラス層を設ける方法で は、 鉛ホウ酸塩ガラス中に含まれる酸化鉛 ( P b O ) の量が 7 0 〜 8 5 %と 多いため、 シャ ドウマスク によ り遮蔽される 電子ビームの管内での乱反射が増 し、 通常白浮き と いわれる コ ン トラス トの低下が生ずる。 また、 板厚が 0 . 1 ~ 0 . 3 m m程度の冷間圧延鋼板か らなるマスク本体に鉛ホウ酸塩ガ ラス層を設ける と、 その溶着、 結晶化によ り 、 ガラス層に圧 縮応力、 マスク本体に引張応力が作用する。 そのため、 これ ら応力のバラ ンスが崩れた場合にマスク本体が変形 しやす い。 すなわち、 ガラス層の厚さ は、 通常、 1 0 ~ 2 0 mが 好ま しいと されている力《、 例えば、 板厚 0 . 2 m m以下の冷 間圧延鋼板からなるマスク本体に、 製造上のばらつきによ り 2 0 ;u mを越える厚さのガラス層が形成される と、 マスク本 体が変形すると いう 問題がある。
また、 ( c ) に示 したよ う に、 マスク本体の主面部の曲率 を大き く する技術を、 最近のフ ェースパネルの有効部の曲率 が小さ い平坦化されたカ ラ一陰極線管に適用 した場合、 シャ ドウマスクの有効部内面の曲率も小さ く 、 それに対応 してマ スク本体の主面部の曲率も、 マスク本体の中心から周辺に至 るまで小さ く なる。 そのため、 平坦化されたカ ラー陰極線管 では、 ドーミ ングの発生 し易い領域がマスク本体の長辺側周 辺まで広がる傾向がある。
更に、 平坦化されたカ ラー陰極線管において、 マスク本体 の主面部の曲率を大き く するためには、 フ ェースパネルの有 効部内面の曲率も大き く する必要がある。 そのため、 特に、 画面のァスぺク 卜比が 4 : 3 の横長のカ ラー陰極線管では、 フ ェースパネルの中央部と周辺部との肉厚の差が著 し く 大き く な リ 、 特性上好ま し く な く なる。 通常のカ ラー陰極線管で も、 マスク本体の電子ビーム通過孔の形成されている主面部 と電子ビーム通過孔の形成されていない無孔部とでは、 熱容 量が異なるため、主面部と無孔部との間に熱伝導差が生ずる。 そのため、 マスク本体の温度分布は、 無孔部の温度に対して 主面部の温度が極端に高 く な リ 、 主面部の ドーミ ングが大き く な リ 易い。
発 明 の 開 示
この発明は、 上記問題点に鑑みてなされたものであ り 、 そ の目的は、 シャ ドウマスクの ドーミ ングによる蛍光体層に対 する電子ビームのラ ンディ ングずれを抑制 して、 色純度の劣 化をおこ しに く いカ ラー陰極線管を提供する こ とにある。
上記目的を達成するため、 この発明に係るカ ラー陰極線管 は、 内面に蛍光体スク リ ーンが形成されたフ ェースパネルを 有する外囲器と、 上記蛍光体スク リーンに対向 して外囲器内 に設け られたシャ ドウマスク と、 上記外囲器内に設け られ、 上記シャ ドウマスク を介 して上記蛍光体スク リ ーンに電子ビ ームを照射する電子銃と、 を備えている。 上記シャ ドウマス ク は、 上記蛍光体スク リーンと対向 している と と もに多数の 電子ビーム通過孔が形成された主面部と、 上記主面部のまわ り に無孔部を介 して設けられたスカー ト部と、 互いに直交す る長軸および短軸と、 を有する実質的に矩形状のマスク本体 上記スカー 卜部に取付け られた実質的に矩形状のマスク フ レームと、 を備えている。 そ して、 上記スカー ト部は、 上記 マスク本体の長軸方向に延びた複数のス リ ツ ト状の開孔、 ま たは細長い凹所のいずれかを有 している。
また、 この発明によれば、 マスク本体の無孔部は、 上記マ スク本体の長軸方向に延びた複数のス リ ツ 卜状の開孔、 また は細長い凹所のいずれかを有 している。
更に、 この発明によれば、 上記マスク本体のスカー ト部お よび無孔部は、 上記マスク本体の長軸方向に延びた複数のス リ ッ 卜状の開孔、 または細長い凹所のいずれかをそれぞれ有 している。
上記構成のカ ラー陰極線管において、 上記開孔および凹所 は、 マスク本体の上記長軸方向の長さの約 1 Z 3 だけ上記短 軸から離れた位置を中心と して、 上記長軸方向の長さの約 1 4の幅の範囲に形成されている。
更に、 この発明に係る他のカ ラー陰極線管によれば、 マス ク本体のスカー ト部および無孔部の少な く と も一方は、 部分 的に高密度で形成された複数の円形の開孔または凹所のいず れかを有 し、 上記高密度の部分は矩形状をな している。
上記のよ う に、 この発明に係るカ ラー陰極線管によれば、 マスク本体のスカー ト部は長軸方向に長い開孔または凹所を 備えているこ とから、 スカー ト部の剛性が低く な リ 、 電子ビ ームの衝突によ り マスク本体が加熱され熱膨張 しても、 その 熱膨張をスカー ト部の変形によ り 吸収 し、 主面部が蛍光体ス ク リ ーン方向に膨出するマスク本体の ドーミ ングを低減する こ とができる。 これによ り 、 蛍光体層に対する電子ビームの ラ ンディ ングずれを低減し、 色純度の劣化を防止する こ とが できる。
また、 マスク本体の無孔部に長軸方向に長い開孔または凹 孔を設けると、 主面部と無孔部との間の熱伝導差を減少させ るこ とができ、 従来のマスク本体に く らべて、 主面部の温度 が下がり 、 無孔部の温度が高 く なる。 これによ り 、 マスク本 体全体の温度分布を均一化 し、 蛍光体層に対する電子ビーム 03 PC
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のラ ンディ ングずれによる色純度の劣化を防止するこ とがで きる
マスク本体のスカー ト部および無孔部の両方に、 長軸方向 に長い開孔または凹所のいずれかをそれぞれ設けると、 スカ ー ト部の剛性を低 く 、 かつ主面部と無孔部との境界部で熱伝 導差を減少させる こ とができ、 よ り効果的に蛍光体層に対す る電子ビームのラ ンディ ングずれによる色純度の劣化を防止 する こ とができる。
更に、 マスク本体の長手寸法の約 1 3 だけマスク本体の 短軸か ら離れた長軸方向位置を中心と して、 上記長手寸法の 約 1 4 の幅の範囲に位置したスカー 卜部および無孔部の少 な く と も一方に、 長軸方向に長い開孔または底部板厚がマス ク本体の板厚よ り も薄い凹所を設けるこ とによ り 、 従来、 最 も ドーミ ングが発生 しやすかつた部分の局部的な ドーミ ング を抑制 して、 蛍光体層に対する電子ビームのラ ンディ ングず れによ る局部的な色純度の劣化を効果的に防止するこ とがで きる
図面の簡単な説明
図 1 ない し図 6 B は、 この発明の実施例に係るカ ラー陰極 線管を示 し、
図 1 は、 上記カ ラー陰極線管の断面図、
図 2 は、 シャ ドウマスク本体を示す斜視図、
図 3 は、 図 2の線 III一 IIIに沿った断面図、
図 4 は、 マスク フ レームを一部破断 して示す側面図、 図 5 は、 上記マスク本体が熱膨張した際のシャ ドウマスク の変形状態を概略的に示す断面図、
図 6 A および 6 B は、 シャ ドウマスク の異なる製造工程に おける、 フラ ッ トマスク をそれぞれ示す平面図 ;
図 7 は、 この発明の第 2の実施例に係るカ ラー陰極選管に おけるシャ ドウマスク本体を示す斜視図、
図 8 は、 図 7 の VIII- VIIIに沿った断面図、
図 9 は、 上記マスク本体における温度分布を示すグラ フ、 図 1 0 は、 この発明の第 3 の実施例に係るカ ラー陰極選管 におけるシャ ドウマスク本体を示す斜視図、
図 1 1 は、 図 1 0 の XI-XIに沿つた断面図、
図 1 2 は、 この発明の第 3 の実施例に係るカ ラー陰極選管 におけるシャ ドウマスク本体の製造に用いるフラ ッ トマスク の平面図、
図 1 3 は、 図 1 2の A部分を拡大 して示す平面図。
発明を実施するための最良の形態 以下、 図面を参照 して、 この発明の実施例に係るカ ラー陰 極線管について詳細に説明する。
図 1 に示すよ う に、 カ ラ一陰極線管は真空外囲器 1 0 を備 え、 この真空外囲器は、 曲面からなる実質的に矩形状の有効 面 1 を有するフ ヱースパネル 2 と、 フ ヱースパネル 2 に接合 されたフ ァ ンネル 3 と、 を有 している。 フ ェースパネル 2の 有効部 1 の内面には、 青、 緑、 赤に発光する 3 色の蛍光体層 からなる蛍光体スク リーン 4が形成されている。 蛍光体スク リ ーン 4の内側には、蛍光体スク リ ーンから所定間隔離れて、 後述する実質的に矩形状のシャ ドウマスク 3 0が配置されて しゝる。 フ ァ ンネル 3 のネ ック 1 3 内には、 3 電子ビーム 1 4 B , 1 4 G , 1 4 R を放出する電子銃 1 5 が配設されている。 そ して、 カ ラー陰極線管では、 電子銃 1 5 から放出される 3 電子ビーム 1 4 B , 1 4 G , 1 4 Rを、 フ ァ ンネル 3 の外 側に装着された偏向装置 1 6 の発生する磁界によ り偏向 し、 シャ ドウマスク 3 0 を介 して蛍光体スク リ ーン 4 を水平、 垂 直走査するこ とによ り 、 カ ラー画像を表示する。
シャ ドウマスク 3 0 は、 ほぼ矩形状のマスク本体 3 4 と、 マスク本体の周縁部に固定されたほぼ矩形状のマスク フ レー ム 3 5 と、 を備えている。 図 2 に示すよ う に、 マスク本体 3 4 は、 板厚 0 · 1 〜 0 . 3 m mの冷間圧延鋼板か らなる実質 的に矩形状に形成され、 互いに直交する長手軸 ( X軸) およ び短軸 ( Y軸) を有 している。 また、 マスク本体 3 4 は、 蛍 光体スク リーン 4 と対向する曲面に形成されている と と もに 多数のス リ ッ ト状の電子ビーム通過孔 4 0 を有する矩形状の 主面部 3 1 と、 主面部 3 1 を取巻 く 無孔部 3 2 と、 この無孔 部 3 2 を介 して主面部 3 1 のまわ り に設け られたスカー 卜部 3 3 と、 で構成されている。
電子ビーム通過孔 4 0 は、 それぞれプリ ッ ジ 4 1 を介 して 複数個だけ短軸 Y方向に一列状に配置され、 この複数個の電 子ビーム通過孔 4 0からなる短軸方向の電子ビーム通過孔列 5 0が長軸 X方向に複数列並列配置されている。 また、 スカ — ト部 3 3 の内、 主面部 3 1 の長辺側の中央部、 短辺側の中 央部、 および各コーナ部には、 スカー ト部の開放端縁に開口 した複数の切欠 4 2が形成されている。 また、 マスク本体 3 4 のスカー ト部 3 3 には、 複数個のス リ ッ 卜状の開孔 3 8 a、 3 8 b が形成されている。すなわち、 長辺側スカー 卜部 3 3 の中央部と コーナー部との中間部に は、 マスク本体 3 4の長軸 X方向に延びた細長い複数個の開 孔 3 8 a が、 長軸 X方向に並んでかつ互いに隣接 して形成さ れている。 短辺側スカー ト部 3 3 の中央部と コーナ一部との 中間部に、 マスク本体 3 4 の短軸 Y方向に延びた細長い複数 個のス リ ッ ト状の開孔 3 8 b が、 短軸 Y方向に並んでかつ互 いに隣接 して形成されている。
これらの開孑 L 3 8 a, 3 8 b の う ち、 特に、 長辺側スカー ト部 3 3 の開孔 3 8 a は、 好ま し く は、 マスク本体 3 4の長 軸 X方向の長さ Wの約 1 Z 3 だけマスク本体 3 4の短軸 Yか ら離れた長軸方向位置を中心と して、 上記長さ Wの約 1 ノ 4 の幅の範囲に設けられる。
後述するよ う に、 開孔 3 8 a 、 3 8 b は、 例えば、 電子ビ ーム通過孔 4 0 と 同時にエ ッチング法によ って形成され、 図
3 に示すよ う に、 スカー ト部 3 3 の表面側に開口 した大孔 5
2 a と、 スカー ト部の裏面側に開口 した小孔 5 2 b とで構成 されている。
図 4 に示すよ う に、 マスク フ レーム 3 5 は、 板厚 1 m m程 度の冷間圧延鋼板からなる断面 L字形の実質的に矩形状に形 成され、 その側壁部には、 マスク フ レーム 3 5 の内側に突出 した帯状の突出部 4 4 がフ レーム全周に亘つて形成されてい る。 そ して、 シャ ドウマスク 3 4 は、 マスク フ レーム 3 5の 内側に配置され、 スカー ト部 3 3 の内、 切欠 4 2 で囲まれた 複数の舌片部 5 4がマスク フ レームの突出部 4 4 に溶接され ている。
図 1 に示すよ う に、 上記構成のシャ ドウマスク 3 0 は、 フ エースパネル 2のスカー ト部内面に突設された複数個のスタ ッ ドピン 3 6 と、 マスク フ レーム 3 5 に取付け られた複数個 の弾性支持体 3 7 と、 を係合させるこ と によ り 、 フェースパ ネル 2の内側に支持されている。
上記のよ う に構成されたカ ラ一陰極線管によれば、 マスク 本体 3 4のスカー ト部 3 3 にス リ ツ 卜状の開孔 3 8 a, 3 8 b を設ける こ と によ り 、 スカー ト部にス リ ッ ト状の開孔を設 けない従来のマスク本体に く らベて、 スカー ト部 3 3 の剛性 を低 く する こ とができる。 そのため、 マスク本体 3 4が電子 ビームの衝突によ り 加熱されて熱膨張 した際、 このマスク本 体 3 4 の熱膨張をスカー ト部 3 3 の変形によ り 吸収する こ と ができる。 従って、 主面部 3 1 が蛍光体スク リーン方向に膨 出する ドーミ ングを軽減し、 3 色蛍光体層に対する電子ビー ムのラ ンディ ングずれを小さ く して、 色純度の劣化を防止す る こ とがでる。
すなわち、 マスク本体のスカー ト部にス リ ッ 卜状の開孔が 設け られていない場合、スカー ト部の剛性が比較的高いため、 電子ビームの衝突によ り マスク本体が加熱されると、 熱膨張 によ リ 主面部が蛍光体スク リ ーン方向に大き く 膨出する ドー ミ ングが生 じる。 これによ り 、 3 色蛍光体層に対する電子ビ ームのラ ンディ ングずれが大き く 、 色純度の劣化が生 じる。
これに対して、 本実施の形態によれば、 マスク本体 3 4の スカー ト部 3 3 にス リ ツ ト状の開孔 3 8 a , 3 8 b を設ける と、 スカー ト部 3 3 の剛性が低く なる。 また、 開口 3 8 a 、 3 8 b は、 主面部 3 1 の各辺とほぼ平行に延びているため、 主面部か らスカー ト部 3 3へ向かう方向に沿ったスカ一 ト材 の連続性が低く な り 、この方向に沿つた熱伝導性が低下する。 そのため、 主面部 3 1 周縁一スカー ト部 3 3 —マスク フ レー ム 3 5 への熱の流れが比較的少な く な り 、 主面部 3 1 の中心 部と周辺部との温度差を小さ く する こ とができる。その結果、 主面部 3 1 の熱分布を均一にする こ とができ、 主面部 3 1 の 中心部における局部的な熱膨張を抑える こ とができる。
以上の こ とから、 図 5 に示すよ う に、 電子ビームの衝突に よ り マスク本体 3 4が加熱されても、 その結果生ずるマスク 本体の熱膨張は、 破線で示すスカー ト部 3 3 の変形によ リ 吸 収され、 主面部 3 1 が蛍光体スク リ ーン 4方向に膨出する ド 一ミ ングを軽減できる。 従って、 3 色蛍光体層に対する電子 ビームのラ ンディ ングずれを小さ く し、 色純度の劣化を防止 するこ とがでる。 また、 ス リ ッ ト状の開孔 3 8 a 、 3 8 b を 主面部 3 1 の各辺とほぼ平行に設けるこ とによ り 、 スカー ト 部 3 3 を押さ える張り 出 し成形時に、 摩擦抵抗が増大 しシャ ドウマスクの成形性が向上する。
また、 マスク本体 3 4 のスカー ト部 3 3 に開孔 3 8 a , 3
8 b を設けた場合でも、 スカー ト部 3 3 の開放端縁は、 従来 のマスク本体のスカー 卜部と同様に、 繋がってお り 、 組立時、 マスク フ レーム 3 5 の内側へのスカー ト部 3 3 の揷入が困難 になる こ とはな く 、 従来のシャ ドウマスク と同様に組立てる こ とができる。
なお、 上記構成のマスク本体 3 4 は、 従来のマスク本体と 同様に、 フォ トエッチング法によ り 、 平板状のフラ ッ トマス ク に電子ビーム通過孔 4 0 およびス リ ツ ト状の開孔 3 8 a 、 3 8 b を同時に形成した後、 このフラ ッ トマスク をプレス成 形するこ と によ り製造される。
あるいは、 図 6 Aに示すよ う に、 フォ トエ ッチング法によ リ 、 フラ ッ トマスク 4 6 に電子ビーム通過孔 4 0 を形成した 後、 図 6 Bに示すよ う に、 打ち抜き加工によ り 、 スカー ト部 となる部分 3 3 a にス リ ツ 卜状の開孔 3 8 a , 3 8 b を形成 してもよい。
なお、 上述した実施例においては、 マスク本体 3 4 のスカ ー ト部 3 3 にス リ ッ ト状の開孔を設けたが、 このス リ ッ 卜状 の開孔に代わって、 底部板厚がスカー ト部、 すなわちマスク 本体の板厚よ り も薄い細長い凹所を設けてもよい。 このよ う な細長い凹所を用いた場合でも、 スカー ト部の剛性を低 く す る こ とができ、 上述 した実施例と同様の効果をもつカ ラー陰 極線管を得る こ とができる。
図 7 は、 この発明の第 2の実施例に係るカ ラー陰極線管に おけるマスク本体 3 4の構成を示 している。 このマスク本体 3 4 は、 板厚 0 . 1 〜 0 . 3 m mの冷間圧延鋼板からなる実 質的に矩形状に形成され、 多数のス リ ッ ト状の電子ビーム通 過孔 4 0が形成されたほぼ矩形状の主面部 3 1 と、 主面部 3 1 を取巻 く 無孔部 3 2 と、 無孔部 3 2 を介 して主面部 3 1 の まわ り に設け られたスカー ト部 3 3 と、 を備えている。 長辺 側および短辺側スカー ト部 3 3 の中央部およびコーナー部に は、 開放端縁に開孔 した複数個の切欠き 4 2が設け られてい る。
マスク本体 3 4の長辺側の無効部 3 2 には、 マスク本体 3 4の長軸 X方向の長さ Wの約 1 ノ 3 だけマスク本体 3 4の短 軸 Yから離れた長軸方向位置を中心と して、 長さ Wの約 1 4の幅の範囲に、 細長い複数の凹所 4 7 が形成されている。 図 8 に示すよ う に、 凹所 4 7 は、 底部板厚が無孔部 3 2の板 厚、 すなわちマスク本体 3 4の板厚よ り も薄く 、 かつマスク 本体 3 4 の長軸 X方向に延びている と と もに、 長軸 X方向に 沿って互いに隣接 して設け られている。
また、 マスク本体 3 4 の長辺側のスカー ト部 3 3 には、 マ スク本体 3 4の長軸 X方向の長さ Wの約 1 3 だけマスク本 体 3 4 の短軸 Yから離れた長軸方向位置を中心と して、 長さ Wの約 1 4の幅の範囲に、 ス リ ッ 卜状の開孔 3 8 a が形成 されている。 開孔 3 8 a は、 マスク本体 3 4 の長軸 X方向に 延びていると と もに、 長軸 X方向に沿って互いに隣接 して設 けられている。
他の構成は前述した実施例と 同一であ り 、 同一の部分には 同一の参照符号を付 してその詳細な説明を省略する。
このよ う なマスク本体 3 4 は、 フォ 卜エッチング法によ り 平板状のフラ ッ 卜マスク を形成したのち、 このフラ ッ トマス ク をプレス成形するこ とによ り 製造される。 フラ ッ トマスク を加工する と き、 両面側からエッチングするこ と によ り 、 蛍 光体スク リ ーンと対向する主面部 3 1 となる部分に電子ビー ム通過孔を形成する と と もに、 スカー 卜部となる部分にス リ ッ ト状開孔 3 8 a を形成する。 また、 フラ ッ トマスク を一方 の表面か らエッチングする こ と によ り 、 無孔部 3 2 となる部 分に凹所 4 7 を形成する。
あるいは、 フラ ッ トマスク を一方の表面からエッチングし て無孔部となる部分に凹所 4 7 を形成した後、 このフラ ッ ト マスクのスカー ト部となる部分に、 打抜き加工によ り、 ス リ ッ ト状の開孔を形成する方法でも形成する こ とができる。 上記のよ う に構成されたマスク本体 3 4 によれば、 長辺側 の無孔部 3 2 にマスク本体 3 4の長軸 X方向に長い凹所 4 7 を形成する こ とによ リ、 電子ビームの衝突によ リ マスク本体 が加熱されても、 マスク本体全体の温度分布をほぼ均一化す る こ とができる。 図 9 における曲線 4 8 は、 マスク本体の短 軸 Y に沿った位置を横軸、 温度 t を縦軸と した場合のマスク 本体の温度分布を示 している。
すなわち、無孔部に細長い凹所を持たないマスク本体では、 電子ビーム通過孔の形成されている主面部と無孔部とで熱容 量が異なるため、 これら主面部と無孔部との間に熱伝導差が 生 じ、 図 9 に曲線 2 3 で示すよ う に、 無孔部の温度に対 して 主面部の温度が極端に高 く なる。 その結果、 主面部の ドーミ ングを大き く する原因となる。
これに対 して、 本実施例によれば、 無孔部 3 2 に細長い凹 所 4 7 を形成する こ とによ り 、 主面部 3 1 と無孔部 3 2 との 間の熱伝導差が減り 、 従来のマスク本体に比べて、 主面部の 温度が下がり 、 逆に、 無孔部の温度が高 く なる。 その結果、 マスク本体 3 4全体の温度分布が均一化する。 このよ う なマ スク本体の温度分布の均一化は、 スカー ト部 3 3 に長軸 X方 向に長いス リ ッ ト状の開孔 3 8 a を形成する こ とによ り 、 さ らに助長される。 しかも、 スカー ト部 3 3 の開孔 3 8 a は、 前述した実施例のマスク本体と 同様に、 スカー ト部の剛性を 低く し、 マスク本体 3 4の熱膨張を吸収して、 主面部 3 1 が 蛍光体スク リ ーン方向に膨出する ドーミ ングを低減する。 従 つて、 上記のよ う にマスク本体 3 4 を構成する と、 温度分布 の均一化およびスカー 卜部の剛性低下によ リ 、 マスク本体の ドーミ ングを一層効果的に軽減 して、 色純度の劣化をな く す こ とができる。
また、 無子 L部 3 2の凹孔 4 7 およびスカー 卜部 3 3 の開孔
3 8 a を、 マスク本体 3 4の長さ Wの約 1 ノ 3 だけマスク本 体の短軸 Yから離れた長軸方向位置を中心と して、 長さ Wの 約 1 4 の幅の範囲に形成したこ と によ り 、 従来、 局部的に 高輝度画像を表示 した場合、 最も ドーミ ングが発生 しやすか つた部分の局部的な ドーミ ングを軽減でき、 この部分におけ る蛍光体層に対する電子ビームのラ ンディ ングずれを効果的 に低減するこ とができる。 このよ う な効果は、 最近のカ ラー 陰極線管のよ う にフ ヱースパネルの有効部の曲率が小さ い平 坦化 したカ ラー陰極線管の場合、 マスク本体の曲率を大き く するこ とが困難なため、 特に有効である。
上記第 2の実施例では、 マスク本体 3 4のス力一 ト部 3 3 にス リ ッ ト状の開孔 3 8 a を設け、 無孔部 3 2 に細長い凹所
4 7 を設けたが、 この無孔部に、 凹所に代わってス リ ッ ト状 の開孔を形成しても、 第 2 の実施例と 同様の効果をもつシャ ドウマスク とするこ とができる。
このよ う に無孔部およびスカー ト部の両方にス リ ッ ト状の 開孔を設けた場合、 無孔部およびスカー ト部のいずれか一方 に細長い凹所を形成 したシャ ドウマスク に比較して、 主面部 3 1 と無孔部 3 2 との熱容量差を一層小さ く するこ とがで き、 よ り大きな効果が得られる。
実際にこのシャ ドウマスク を組込んだカ ラー陰極線管につ いて、 局部的な ドーミ ングによ る 3 色蛍光体層に対する電子 ビームのランディ ングずれを測定 したと こ ろ、 従来のカ ラー 陰極線管に比べて、 蛍光体スク リーンの長軸上の点における ランディ ングずれを約 1 0 %改善するこ とができた。
また、 第 2 の実施例において、 スカー ト部 3 3 に、 ス リ ツ 卜状の開孔 3 8 a に代えて、 細長い凹所を設けてもよい。 こ のよ う にスカ一 ト部 3 3 および無孔部 3 2の両方に細長い凹 所を設けた場合でも、 上記第 2 の実施例と 同様の作用効果を 得る こ とができる。
更に、 上記第 2の実施例において、 スカー ト部 3 3 にス リ ッ ト状開孔に代えて細長い凹所を設け、 逆に、 無孔部 3 2 に、 凹所 4 7 に代えてス リ ッ ト状の開孔を形成するよ う に しても よい。
図 1 0 は、 この発明の第 3 の実施例に係るカ ラー陰極線管 のシャ ドウマスク本体を示 している。このマスク本体 3 4 は、 第 1 の実施例のマスク本体と 同様に、 板厚 0 . 1 ~ 0 . 3 m mの冷間圧延鋼板からなる実質的に矩形状に形成され、 多数 のス リ ッ ト状の電子ビーム通過孔 4 0が形成された矩形状の 主面部 3 1 と、 主面部 3 1 を取巻 く 無孔部 3 2 と、 無孔部 3 2 を介 して主面部 3 1 のまわ り に設け られたスカー 卜部 3 3 と、 で構成されている。 長辺側および短辺側スカー ト部 3 3 の中央部およびコーナ一部には、 スカー ト部の開放端縁に開 口 した複数個の切欠き 4 2が設け られている。
マスク本体 3 4の長辺側の無孔部 3 2 において、 マスク本 体 3 4 の長さ Wの約 1 ノ 3 だけマスク本体の短軸 Yか ら離れ た長軸方向位置を中心と して、 その長さ Wの約 1 4 の幅の 範囲に、 図 1 1 に示 したよ う に、 底部板厚が無孔部 3 2 の板 厚、 すなわちマスク本体 3 4 の板厚よ り も薄く 、 かつマスク 本体 3 4の長軸 X方向に長い複数個の凹所 4 7 が形成され、 長軸 X方向に沿って互いに隣接して設けられている。 他の構 成は前述した実施例と 同一であ り 、 同一の部分には同一の参 照符号を付してその詳細な説明を省略する。
このよ う に無孔部 3 2 に凹所 4 7 を設けるだけでも、 主面 部 3 1 と無孔部 3 2 との間の熱伝導差が減 り 、 従来のマスク 本体に比べて、 主面部 3 1 の温度が下がり、 逆に、 無孔部 3 2の温度が高 く なる。 それによ り 、 マスク本体 3 4全体の温 度分布を均一化できる。 その結果、 従来、 局部的に高輝度画 像を表示 した場合、 最も ドーミ ングが発生 しやすかつた部分 の局部的な ドーミ ングを低減でき、 蛍光体層に対する電子ビ ー厶のラ ンディ ングずれを低減する こ とができる。
上記第 3 の実施例において、 マスク本体 3 4の無孔部 3 2 に、 細長い凹所 4 7 の代わ り に、 ス リ ッ ト状の開孔を設けた 場合でも、 同様の効果をもつシャ ドウマスク を得る こ とがで き る。
一方、 マスク本体のスカー ト部 3 3 あるいは無孔部 3 2 に 設ける凹所 4 7 は、 矩形状に限らず、 円形と してもよい。 図 1 2、 図 1 3 は、 マスク本体成形前のフラ ッ トマスク 4 6 を 示 し、 スカー ト部となる部分 3 3 a には、 全面に亘つて多数 の円形の凹所 4 7 が形成されている。 そ して、 主面部 3 1 の 長辺側に位置 した部分 3 3 a において、 マスク本体の長さ W の約 1 ノ 3 だけマスク本体の短軸 Y から離間 した領域には、 凹所 4 7 の密集 した高密度部 7 0が設け られている。 高密度 部は、 マスク本体の長軸 X と ほぼ平行に延びる矩形状に形成 され、 長さ Wの約 1 4の長さ に設定されている。
このよ う に構成されたマスク本体を用いた場合でも、 前述 した種々の実施例と 同様の作用効果を得る こ とができる。 ま た、 凹所 4 7 に代えて、 円形の開孔を設けるよ う に しても、 同様の作用効果を得る こ とができる。 更に、 前述した実施例 において、 マスク本体の無孔部に形成された細長い凹所 4 7 に代えて、 図 1 2、 1 3 に示 した円形の凹所を設け、 かつ、 部分的に凹所が密集 した矩形状の高密度部 7 0 を形成するよ う に してもよい。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 内面に蛍光体スク リーンが形成されたフ ェースパネ ルを有する外囲器と、
上記蛍光体スク リーンに対向 して外囲器内に設けられたシ ャ ドウマスク と、
上記外囲器内に設け られ、 上記シャ ドウマスク を介 して上 記蛍光体スク リーンに電子ビームを照射する電子銃と、 を備 え、
上記シャ ドウマスク は、
上記蛍光体スク リ ーンと対向 している と と もに多数の電子 ビーム通過孔が形成された主面部と、 上記主面部のまわ り に 無孔部を介 して設けられたスカー ト部と、 互いに直交する長 軸および短軸と、 を有する実質的に矩形状のマスク本体と、 上記スカー ト部に取付けられた実質的に矩形状のマスク フ レームと、 を備え、
上記スカー ト部は、 上記マスク本体の長軸方向に延びた複 数のス リ ッ ト状の開孔、 または細長い凹所のいずれかを有 し ている こ と を特徴とするカ ラー陰極線管。
2 . 内面に蛍光体スク リーンが形成されたフ ェースパネ ルを有する外囲器と、
上記蛍光体スク リーンに対向 して外囲器内に設け られたシ ャ ドウマスク と、
上記外囲器内に設けられ、 上記シャ ドウマスク を介 して上 記蛍光体スク リーンに電子ビームを照射する電子銃と、 を備 え、 上記シャ ドウマスク は、
上記蛍光体スク リ ーンと対向 していると と もに多数の電子 ビーム通過孔が形成された主面部と、 上記主面部のまわ り に 無孔部を介して設けられたスカー ト部と、 互いに直交する長 軸および短軸と、 を有する実質的に矩形状のマスク本体と、 上記スカー ト部に取付け られた実質的に矩形状のマスク フ レームと、 を備え、
上記無孔部は、 上記マスク本体の長軸方向に延びた複数の ス リ ッ ト状の開孔、 または細長い凹所のいずれかを有 してい る こ と を特徴とするカ ラー陰極線管。
3 . 内面に蛍光体スク リーンが形成されたフ ェースパネ ルを有する外囲器と、
上記蛍光体スク リ ーンに対向 して外囲器内に設け られたシ ャ ドウマスク と、
上記外囲器内に設け られ、 上記シャ ドウマスク を介 して上 記蛍光体スク リーンに電子ビームを照射する電子銃と、 を備 え
上記シャ ドウマスク は、
上記蛍光体スク リ ーンと対向 していると と もに多数の電子 ビーム通過孔が形成された主面部と、 上記主面部のまわ り に 無孔部を介 して設け られたスカー ト部と、 互いに直交する長 軸および短軸と、 を有する実質的に矩形状のマスク本体と、 上記スカー 卜部に取付け られた実質的に矩形状のマスク フ レームと、 を備え、
上記マスク本体のスカー ト部および無孔部は、 上記マスク 本体の長軸方向に延びた複数のス リ ッ ト状の開孔、 または細 長い凹所のいずれかをそれぞれ有 しているこ と を特徴とする カ ラー陰極線管。
4 . 上記開孔および凹所は、 マスク本体の上記長軸方向 の長さの約 1 3 だけ上記短軸から離れた位置を中心と し て、 上記長軸方向の長さの約 1 4の幅の範囲に形成されて いるこ と を特徴とする請求項 1 ない し 3 のいずれか 1 項に記 載のカ ラー陰極線管。
5 . 内面に蛍光体スク リーンが形成されたフ ェースパネ ルを有する外囲器と、
上記蛍光体スク リ ーンに対向 して外囲器内に設け られたシ ャ ドウマスク と、
上記外囲器内に設け られ、 上記シャ ドウマスク を介 して上 記蛍光体スク リーンに電子ビームを照射する電子銃と、 を備 え、
上記シャ ドウマスク は、
上記蛍光体スク リーンと対向 している と と もに多数の電子 ビーム通過孔が形成された主面部と、 上記主面部のまわ り に 無孔部を介 して設け られたスカー ト部と、 互いに直交する長 軸および短軸と、 を有する実質的に矩形状のマスク本体と、 上記スカー ト部に取付けられた実質的に矩形状のマスク フ レームと、 を備え、
上記スカー ト部は、 部分的に高密度で形成された複数の円 形の開孔または凹所のいずれかを有 し、 上記高密度の部分は 矩形状をな している こ と を特徴とするカ ラー陰極線管。
6 . 内面に蛍光体スク リ ーンが形成されたフェースパネ ルを有する外囲器と、
上記蛍光体スク リーンに対向 して外囲器内に設けられたシ ャ ドウマスク と、
上記外囲器内に設けられ、 上記シャ ドウマスク を介 して上 記蛍光体スク リ ーンに電子ビームを照射する電子銃と、 を備 え、
上記シャ ドウマスク は、
上記蛍光体スク リ ーンと対向 している と と もに多数の電子 ビーム通過孔が形成された主面部と、 上記主面部のまわ り に 無孔部を介 して設け られたスカー ト部と、 互いに直交する長 軸および短軸と、 を有する実質的に矩形状のマスク本体と、 上記スカー ト部に取付け られた実質的に矩形状のマスク フ レームと、 を備え、
上記無孔部は、 部分的に高密度で形成された複数の円形の 開孔または凹所のいずれかを有 し、 上記高密度の部分は矩形 状をな している こ と を特徴とするカ ラ一陰極線管。
7 . 内面に蛍光体スク リーンが形成されたフ ェースパネ ルを有する外囲器と、
上記蛍光体スク リ ーンに対向 して外囲器内に設けられたシ ャ ドウマスク と、
上記外囲器内に設けられ、 上記シャ ドウマスク を介 して上 記蛍光体スク リ ーンに電子ビームを照射する電子銃と、 を備 え、
上記シャ ドウマスク は、 上記蛍光体スク リ ーンと対向 している と と もに多数の電子 ビーム通過孔が形成された主面部と、 上記主面部のまわ り に 無孔部を介 して設け られたスカー ト部と、 互いに直交する長 軸および短軸と、 を有する実質的に矩形状のマスク本体と、 上記スカー ト部に取付けられた実質的に矩形状のマスク フ レームと、 を備え、
上記スカー ト部および無孔部は、 部分的に高密度で形成さ れた複数の円形の開孔または凹所のいずれかをそれぞれ有 し、 上記高密度の部分は矩形状をな している こ と を特徴とす るカ ラー陰極線管。
8 . 上記高密度部分は、 マスク本体の上記長軸方向の長 さの約 1 3 だけ上記短軸から離れた位置を中心と して、 上 記長軸方向の長さの約 1 ノ 4の幅の範囲に形成されている こ と を特徴とする請求項 5 ない し 7 のいずれか 1 項に記載の力 ラー陰極線管。
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