WO1995032322A1 - Appareil pour le traitement d'une bande - Google Patents

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WO1995032322A1
WO1995032322A1 PCT/JP1995/000982 JP9500982W WO9532322A1 WO 1995032322 A1 WO1995032322 A1 WO 1995032322A1 JP 9500982 W JP9500982 W JP 9500982W WO 9532322 A1 WO9532322 A1 WO 9532322A1
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WO
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electrode
strip
liquid
electrodes
processing apparatus
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PCT/JP1995/000982
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English (en)
French (fr)
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Tadashi Fujii
Eiichiro Sugioka
Original Assignee
Toyo Kohan Co., Ltd.
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614Strips or foils
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F7/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic removal of material from objects; Servicing or operating

Definitions

  • the present invention relates to a strip processing apparatus for a steel plate or the like, for example, a plating apparatus, a cleaning apparatus, and the like.
  • the present invention relates to a strip processing apparatus of a type for running a strip. (Background technology)
  • the present applicant has arranged insulators (stabilizers) on the inner surfaces of the same-polarity electrodes facing each other so as to face each other or in a staggered manner, and provided these insulators facing forward in the running direction of the strip.
  • the first problem relates to a mechanism for adjusting the distance between the electrodes.
  • the gap between the electrodes is narrow, if the electrodes are fixed, it is not possible to pass through the holes at the time of initial passing. Also, at the beginning of the development, it was thought that if the connecting part of the strip was thickened by welding etc., that part would contact the stabilizer and damage the stabilizer. Therefore, an opening and closing mechanism for the electrode is required for such a reason.
  • a twin An opening / closing mechanism capable of opening each of the electrodes to the other side and an operation unit thereof are provided.
  • a processing liquid such as a plating liquid (not shown) is placed in the vertical path type liquid tank 1.
  • a processing liquid such as a plating liquid (not shown) is placed in the vertical path type liquid tank 1.
  • an anode or a force sword, or an electrode capable of switching between the anode and the force sword can be applied.
  • the upper side of the electrode 2 is supported by an upper electrode receiver 3, and the upper electrode receiver 3 is provided with an air cylinder 4 for opening and closing the upper electrode.
  • the lower side of each electrode 2 is received by a lower electrode receiver 5, and a lower opening / closing cam 6 is provided in the lower electrode receiver 5.
  • a pair of air cylinders 4 are used. And by moving all of the pair of cams 6.
  • the operating part of the lower opening / closing cam 6 of the electrode 2 must be drawn out of the liquid tank 1 from the wall of the liquid tank 1 and disposed outside, that is, the liquid tank 1 must be opened. There was a problem of causing liquid leakage.
  • the second problem is related to the stirring of the processing solution such as the plating solution.
  • a plurality of through holes 9 communicating the inner and outer surfaces of the electrodes are provided. (Refer to 59 No. 9).
  • the third problem relates to the stabilization of the liquid level of the processing liquid that occurs when the strip runs between the electrodes.
  • Figure 15 Figure (a) is a plan view with one of the electrodes removed, and some of the strips have been cut away for clarity).
  • the operation is performed with the interval between the electrodes 2 and 2 such as force swords extremely small, as shown in Fig. 15 (b)
  • the liquid is drawn in by the strip 10 traveling downward,
  • the liquid level in the gap becomes unstable, that is, the liquid level rises and falls as indicated by reference symbols P and q, causing unevenness in cleaning or uneven cleaning.
  • FIG. 16 is a plan view with one of the electrodes removed, and a part of the strip is cut away for easy viewing).
  • a liquid injection device 11 is provided above the electrode 2, whereby the liquid is poured into the gap between the electrodes to prevent the liquid level in the gap from becoming unstable.
  • the voltage drop is small even if the liquid level is low, but in the case of a plating device, the liquid level is low and the distance between the conductor roll and the water level is long. As the voltage drop increases and extra power is required, more liquid is poured between the electrodes 2 and 2 to raise the liquid level.
  • liquid injection device 11 is necessary. However, disposing the liquid injection device 11 above the intricate anode or force sword, such as various devices, pipes, etc. It was extremely complicated. Also stabilizer
  • a first object of the present invention is to provide a plating apparatus or a cleaning apparatus having an electrode opening / closing mechanism that can be attached to a small liquid tank / existing liquid tank by using the minimum necessary equipment. Etc. are provided.
  • Another object of the present invention is to provide a strip processing apparatus having an electrode opening / closing mechanism that does not involve liquid leakage.
  • a second object of the present invention is to provide a plating apparatus and a cleaning apparatus having the above configuration, wherein a predetermined rectifying member is provided so that a fluid flowing from the outer surface of the electrode is perpendicular to the strip running direction on the inner surface of the electrode.
  • An object of the present invention is to prevent the occurrence of the above-mentioned stripe-shaped flow by making the flow uniform in the direction.
  • a third object of the present invention is to provide a plating apparatus or a plating apparatus capable of preventing the occurrence of unevenness in cleaning or unevenness due to instability of the liquid level in the gap between the electrodes by a simple filter without providing the liquid injection device 11.
  • An object of the present invention is to provide a cleaning device and the like.
  • the present invention provides a strip in which a same-polarity electrode is opposed to a liquid tank, and a strip is run between these electrodes to perform mask cleaning of the strip.
  • a same-polarity electrode is opposed to a liquid tank, and a strip is run between these electrodes to perform mask cleaning of the strip.
  • An insulator is protrudingly provided on the opposing surfaces of the two electrodes, and a tapered surface is formed on the insulator, which slopes from the electrode side to the strip side toward the front in the running direction of the strip,
  • an opening / closing mechanism capable of adjusting the interval between the electrodes is provided on the other electrode arranged oppositely.
  • the switching mechanism is provided on a bus bar connected to an upper end of the other-side electrode and on an upper end side of the other-side electrode.
  • the upper electrode receiver, a slide system that slidably supports the busper on the upper electrode receiver, and a linear actuator that slides a bus bar on the slide system may be provided.
  • the present invention provides a strip processing apparatus in which same-polarity electrodes are arranged oppositely in a liquid tank, and a strip is run between these electrodes to perform a method for cleaning the strip.
  • a stabilizer having a tapered surface inclined from the electrode side to the strip side toward the front in the running direction of the strip is provided on the facing surface of the electrode, and the stabilizer is provided on the upstream and downstream sides of the strip in the strip running direction.
  • a plurality of through-holes are formed to communicate the inner and outer surfaces of the electrode, and a rectifying member facing the through-hole is provided on both the upstream side and the downstream side of the stabilizer or only on the downstream side.
  • a liquid reservoir is formed on the hole side, and a slit-shaped hole intersecting the running direction of the strip is formed in the flow regulating member.
  • a configuration in which the stabilizer also functions as a rectifying member a configuration in which the electrode has a concave portion, and the rectifying member is attached to the concave portion, or a configuration in which the rectifying member is formed of a chemical resistant material and / or a heat resistant material Is preferable.
  • the electrode or the rectifying member is provided with a mounting hole for coupling the electrode and the rectifying member, and the other of the mounting holes is provided with a bolt that loosely fits into the mounting hole. It is desirable to adopt a configuration in which elongation due to thermal expansion or the like is released.
  • the electrode may be an anode or a force source, or an electrode capable of switching between the anode and the cathode.
  • the present invention provides a liquid cleaning apparatus, comprising: placing a same-polarity electrode facing a liquid tank, running a strip between these electrodes, and cleaning the strip.
  • a strip processing device that performs
  • the electrode is characterized in that the upper end of the discharge surface is located below the liquid surface in the liquid tank.
  • the upper end of the electrode is supported by a bus bar whose surface is covered with an insulator, a portion of the bus bar that supports the electrode has a curved portion, and the upper end of the discharge surface of the electrode is positioned at the liquid. It may be configured to be arranged below the liquid level in the tank.
  • One of the electrodes of the same polarity placed opposite to each other is fixed after positioning, and the other electrode is arranged to be openable and closable. Therefore, when the rope is passed through the initial threading plate, only the other electrode is opened to obtain the necessary gap. At this time, the one side electrode is fixed in the closed position, so there is a risk of contact of the strip during the initial passing.However, the strip is not It does not come into contact with extreme surfaces as it slides on the insulator. Also, since the strip is not tensioned, there is no damage to the insulator (the strip stabilizer).
  • the electrode on the wall side of the liquid tank a fixed-side electrode, there is no need to secure this moving space, so a small liquid tank can be used, and the strip processing device can be attached to an existing liquid tank without this space. be able to. Also, since the opening / closing mechanism is attached only to the other electrode, the cost of the opening / closing mechanism is reduced by half.
  • the operation unit refers to a part that generates a driving force for driving the opening / closing mechanism.
  • manual driving it refers to a part where a hand acts.
  • automatic driving a part that generates a driving force.
  • a simple mechanism and a small space opening / closing mechanism can be obtained by using a pair of frames that are fitted to the cams of the camshafts fixed to both ends, and both ends of the other electrode are connected to a pair of frames. The opening and closing are performed together by the cam shaft supported by the electrode receiver, so that reliable opening and closing can be obtained.
  • an opening and closing mechanism is provided in the slide system provided between the upper electrode receiver and the bus bar of the other electrode, and in the upper electrode receiver.
  • the linear electrode to slide the other electrode on the slide system, the other electrode can be moved with low friction, and thus the electrode can be moved with a small force.
  • One night can be made compact.
  • the liquid is in a negative pressure state on the upstream side of the strip running between the stabilizers. This is because the liquid is taken in the direction of travel as the strip travels. Therefore, this part is the suction side. Then, the liquid is drawn into the inner surface of the electrode through a through hole communicating from the outer surface of the electrode to the inner and outer surfaces of the electrode. This liquid first enters the liquid reservoir of the flow regulating member provided on the suction side. Then, here the pressure is equalized and drawn from the holes in the strip towards the strip.
  • the pressure on the inner surface of the electrode is increased by being blocked by the stabilizer, so that it is on the discharge side of the liquid and passes through the through hole communicating with the inner and outer surfaces of the electrode to the outer surface of the electrode.
  • the liquid is exhaled.
  • a part flows along the inner surface of the electrode to the strip traveling upstream side.
  • the flow differs between the portion having holes and the portion having no holes. Therefore, if a rectifying member is also provided on the discharge side, the flow on the discharge side becomes uniform.
  • a rectifying member may not be required depending on the pitch and size of the holes.
  • the discharge surface is reduced by the amount of the rectifying member.
  • the above-described reduction of the discharge surface can be prevented by using the stabilizer as the rectifying member.
  • the height of the rectifying member can be reduced.
  • the stabilizer also serves as the rectifying member, the height of the stabilizer is thereby reduced. Since it can be prevented from becoming high, short t and the distance between the poles can be maintained.
  • the rectifying member is formed using a heat-resistant material and / or a chemical-resistant material. Then, deformation of the rectifying member due to heat or chemicals is prevented, and the function of the rectifying member is maintained. In addition, the straightening member is prevented from being deformed and coming into contact with the strip.
  • a hole is provided in the electrode or the rectifying member, which also serves as a hole for attaching the rectifying member, for releasing expansion of the rectifying member due to thermal expansion or the like.
  • the ion flows from the discharge surface of the anode into the liquid or adheres to the discharge surface of the force source, causing plating or cleaning.
  • the position of the upper end of the anode or cathode discharge surface is the position of the liquid in the liquid tank. Since the position is below the surface, the discharge surface portion is always present in the liquid, so that uneven plating or cleaning can be performed.
  • FIG. 1 (a) is a perspective view of a strip processing apparatus according to a first embodiment which achieves the first object of the present invention
  • FIG. 1 (b) is a view of the cam and frame pair of FIG. 1 (a). Plan view showing a mated state
  • FIG. 2 is a perspective view showing a modification of the strip processing apparatus of FIG. 1,
  • FIG. 3 is a perspective view of a strip processing apparatus according to a second embodiment which achieves the first object of the present invention
  • FIG. 4 is an enlarged front view of an opening / closing mechanism showing a modification of the strip processing apparatus of FIG. 3
  • FIG. 5 is a first embodiment for achieving the second object of the present invention.
  • Perspective view of the vane or force sword viewed from the inside FIG. (B) is a perspective view of the rectifying member,
  • FIG. (C) is a longitudinal sectional view of the rectifying member, and
  • FIG. (E) is a plan view of the anode or force sword viewed from the inside showing the flow of the liquid.
  • FIG. 6 is a perspective view of the anode or the force sword of the second embodiment which achieves the second object of the present invention, as viewed from the inside,
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of a stabilizer part of a third embodiment that achieves the second object of the present invention.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view of a stabilizer portion of a fourth embodiment for achieving the second object of the present invention.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view of a part of a splicer of a fifth embodiment which achieves the second object of the present invention.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view of a stabilizer section of a sixth embodiment which achieves the second object of the present invention.
  • FIG. 11 is a plan view of the anode or the force sword according to the seventh embodiment which achieves the second object of the present invention, as viewed from the outside.
  • FIG. 12 (a) is an explanatory plan view of an embodiment for achieving the third object of the present invention
  • FIG. 12 (b) is an explanatory side view thereof
  • FIG. 12 (c) is a plan view from the inside of the anode or force sword.
  • Figure, Figure (d) is the side view
  • FIG. 13 is a perspective view of a conventional strip processing apparatus
  • FIG. 14 is a cross-sectional view showing a state of a liquid flow in a conventional plating device or cleaning device.
  • FIG. 15 (a) is a plan view for explaining the drawing in of a plating device or a cleaning device
  • FIG. 15 (b) is a side view of the same.
  • FIG. 16A is a plan view of a conventional plating device or cleaning device provided with a liquid injection device for preventing liquid entrainment
  • FIG. 16B is a side view of the same.
  • a plating liquid (not shown) is stored in the vertical path type liquid tank 1, and the upper part 2d of the plating liquid is located above the liquid tank 1 liquid level (not shown).
  • the anode electrodes 2 and 2 are vertically opposed to each other.
  • An insulator (stabilizer) is projected from the inner surface of the electrode 2, and the insulator has a tapered surface that slopes from the electrode side to the strip side toward the front in the strip running direction (downward in the figure). (Not shown).
  • a bus bar 2 c is attached to the upper end of the electrode 2, through which electricity is supplied.
  • the one-sided electrode 2a of the same-polarity electrode that is disposed to face is fixed. That is, the upper electrode receiver 3 and the lower electrode receiver 5 are fixed in the liquid tank 1 by positioning the positions of the bus bar fitting portions 3a and 5a provided on the upper electrode receiver 3 and the upper and lower ends of the one electrode 2a. By fitting the bus bar 2c provided on the bus bar to the bus bar fitting portions 3a and 5a, the one-side electrode 2a is positioned and fixed.
  • the upper electrode receiver 3 is located above the liquid level of the liquid tank 1.
  • the one-side electrode 2a may be fixed close to the wall of the liquid tank 1.
  • the upper bus bar 2c of the other electrode 2b is slidably mounted on the upper electrode receiver 3, and thus can be opened and closed with respect to the one electrode 2a.
  • the contact portions 3 b and 5 b for positioning the other electrode 2 b in a closed state are provided on the upper and lower electrode receivers 3 and 5.
  • An opening / closing mechanism 20 is provided on the other electrode 2b. That is, the camshaft 20a is rotatably supported by the pair of upper and lower electrode receivers 3, 5, and the cams 2Ob are fixed at both end positions of the other electrode 2b, respectively.
  • An operation section 20c comprising a manual lever is fixedly provided. The position of the operation unit 20 c is above the liquid level of the liquid tank 1.
  • the cam 20b is a disc-shaped and eccentric cam as shown in FIG. 1 (b), and the direction of the manual lever 20c is perpendicular to the electrode side. b is pressed against the contact portions 3 b and 5 b and closed against the one-side electrode 2 a, and the direction of the manual lever 20 c is set in a direction parallel to the electrode surface. With d, the other-side electrode 2b is configured to open with respect to the one-side electrode 2a. The amount of eccentricity of the cam 20b is determined so as to obtain an opening through which the rope can be passed only by moving the other electrode. It is set to the size of.
  • the frame 20d is provided on both ends of the other electrode by being fixed to the bus bar 2c.
  • the frame 20d is rectangular, has a width equal to the diameter of the cam 2Ob, and the cam 2Ob is fitted to the frame 20d. Therefore, when the position of the eccentric cam 20b changes, the frame 20d follows that position.
  • An induction drum 7 is arranged at the bottom of the liquid tank 1, and a strip running between the pair of electrodes 2, 2 is wound around the induction drum 7 to change its direction.
  • the manual lever 210c When the rope is passed through the initial threading plate, the manual lever 210c is moved to make the direction parallel to the electrode surface (dotted line in Fig. 1 (b)). Then, at both the upper end and the lower end of the other electrode, the frame moves in accordance with the movement of the eccentric cam, so that the other electrode is opened. At this time, since both the upper end and the lower end of the other electrode are opened, the opening and closing are ensured. Further, since only the manual lever 20c above the liquid level needs to be operated, the operation can be easily performed. Since the one-side electrode is fixed in the closed position, there is a risk of strip contact during the initial passing of the plate. However, because of the presence of an insulator (stabilizer) on the extreme surface, the strip is made of this insulator. It does not touch the poles as it slides on top. Also, since the strip has no tension, the insulator (stabilizer) will not be damaged.
  • the other-side electrode 2b is opened again and passed therethrough, and then the high current density plating is performed again in the same manner as described above.
  • the operation unit can be performed automatically instead of manually.
  • a rotary cylinder 20f may be provided at the upper end of the camshaft 20a to rotate the camshaft 20a.
  • the low pressure cylinder 20 f since the low pressure cylinder 20 f is located above the liquid level of the liquid tank 1, the plating liquid in the liquid tank 1 is treated with the low pressure cylinder 20 f having an electric system or the like. Liquid can be prevented from splashing.
  • the other electrode 2 b can be opened and closed by sliding on an upper electrode receiver 3, and an air cylinder 21 f is fixed to the upper electrode receiver 3 as an opening / closing mechanism 21.
  • the tip of the shaft 21 a of the air cylinder 21 f is fixed to the upper bus bar 2 c of the other electrode 2 b, and the vertical rod 21 is fixed in the middle of the shaft 21 a, The lower end of the vertical rod 21b is bent 90 ° to form a horizontal part 21c, and the tip is fixed to the lower bus bar 2c of the other electrode 2b.
  • the air cylinder 21 f becomes the automatic operation part.
  • the contact portions 3 b and 5 b for positioning the other electrode in a closed state are provided on the upper and lower electrode receivers 3 and 5.
  • the other electrode 2 b slides on the upper electrode receiver 3 and opens.
  • the lower end is also directly fixed to the axis 2 la via the vertical bar 21 b, the upper and lower ends of the electrode can be directly moved by moving the axis 21 a, Even when the sliding surface of the upper electrode receiver 3 has friction and therefore the other electrode 2b is liable to sway when sliding, the electrode can be opened and closed without shaking the electrode surface.
  • the frictional force of the sliding surface can be further reduced. That is, as shown in FIG. 4, between the upper electrode receiver 3 and the upper bus bar 2c of the other electrode 2b, the LM guide 22a fixed to the upper electrode receiver 3 and the fitting fixed to the bus bar are provided. A slide system consisting of the composite member 2 2 b is provided. Then, a shaft 22d of a linear actuator 22c composed of an air cylinder fixed to the upper electrode 3 is fixed to the bus bar 2c.
  • the sliding frictional force is small, it can be driven by a small air cylinder 122c to open and close the other electrode. Also, while the electrode surface is moving Since it does not swing, there is no need to provide a vertical bar connecting directly from the shaft 22d to the lower end of the electrode, simplifying the mechanism.
  • the present invention can be applied to other strip processing apparatuses, for example, a cleaning apparatus by electrolysis of a soil adhered to the surface of a strip in an alkaline processing liquid. In this case, the electrode becomes a force sword.
  • the plating device or the cleaning device includes an anode or a power source in a liquid tank (not shown). Electrodes 2 are arranged facing each other. (Fig. 5 (a) shows only one of them.) Then, stabilizers 8 are arranged on the surfaces facing each other.
  • the stabilizer 8 has a tapered surface that is inclined from the electrode side toward the strip side toward the strip running direction a forward.
  • the vicinity of the upper side and the vicinity of the lower side of the stabilizer 8 in FIGS. 5A and 5E correspond to the liquid suction side and the liquid discharge side, respectively.
  • a plurality of through holes 23 and 24 communicating with the inner and outer surfaces of the electrode are provided along the stabilizer 8.
  • a rectifying member 25 is provided on the suction side on the inner surface side of the electrode 1.
  • the rectifying member 25 has a box shape as shown in FIGS. 3 (b), 3 (c) and 3 (d). On the liquid suction side, it covers a plurality of through holes 24 provided along the stabilizer, and the inside becomes a liquid reservoir 25a.
  • a slit-shaped hole 25b extending between the plurality of through holes 23 and perpendicular to the strip traveling direction is provided on the strip-side surface of the rectifying member 25, a slit-shaped hole 25b extending between the plurality of through holes 23 and perpendicular to the strip traveling direction is provided.
  • the rectifying member 25 protrudes from the electrode 2. Therefore, in consideration of contact with the strip, it is preferable to use an insulating material and a material having heat resistance and chemical resistance.
  • the plating device or the cleaning device of the present invention is formed as described above, a plating solution or a cleaning solution flows from the outside of the electrode 1 through the through-holes 23 into the inner surface side.
  • This liquid is equalized in pressure in the liquid reservoir 25a in the flow regulating member 25, and flows toward the strip through the slit hole 25b.
  • the liquid flow at this time is uniform , So that uneven plating or cleaning becomes possible.
  • the liquid blocked by the stabilizer 8 is discharged to the outer surface through the plurality of through holes 24.
  • a part flows along the inner surface of the electrode to the strip running upstream.
  • a flow regulating member 26 having the same shape as that of the first embodiment is arranged on the discharge side (the side of the through hole 24). Therefore, the liquid blocked by the stabilizer 8 enters the liquid reservoir 26a of the flow regulating member 26 through the slit hole 26b, where the liquid is stirred, and this influence is exerted on the strip surface. Therefore, unevenness in plating or cleaning near the discharge side is also prevented.
  • the installation of the rectifying member on the discharge side is not as important as on the suction side.
  • a flow regulating member may not be necessary depending on the pitch and size of the holes.
  • a suction hole 35 on the suction side is provided to face the stabilizer 32.
  • a part of the stabilizer 32 is formed as a rectifying member 37 facing the through hole 35. That is, the recess of the liquid reservoir 38 is provided in the stabilizer 32 so as to face the through hole 35.
  • a slit-shaped hole 39 is provided between the electrode 2 and the upstream end of the strip of the stabilizer 32 in the running direction a, connected to the liquid reservoir 38.
  • a discharge hole 46 on the discharge side is provided to face the stabilizer 42 first.
  • a rectifying member 47 is formed in the stabilizer 42 so as to face the through-hole 46.
  • a recess of the liquid reservoir 48 is provided in the stabilizer 42 so as to face the through hole 46.
  • a slit-shaped hole 49 is provided between the electrode 2 and the downstream end of the strip 3 of the stabilizer 42, which is connected to the liquid reservoir 48.
  • a recess 51 a is formed in the electrode 51 so as to be connected to the position of the through hole 55 on the suction side.
  • a stabilizer 52 having an L-shaped cross section is arranged in the recess 51 a so as to form a liquid reservoir 58.
  • a slit 59 is formed between the electrode 51 and the stabilizer 52. If a liquid reservoir is provided in the stabilizer and one of the stabilizers is used as a rectifying member, the stabilizer becomes larger. (Examples 1 and 2) Therefore, the stabilizer prevents the gap between the electrodes from being shortened.
  • a recess 61 a is formed in the electrode 61 by being connected also to the position of the through hole 66 on the discharge side. ing.
  • a stabilizer 62 having a T-shaped cross section is arranged in the recess 61 a so as to form a liquid reservoir 68. Further, a slit 69 is formed between the electrode 61 and the stabilizer 62.
  • FIG. 1 is a diagram of the electrode viewed from the outer surface side.
  • a stabilizer 42 which also serves as a rectifying member having the configuration shown in Fig. 8, has its mounting shaft 42a loosely fitted into the electrode 71, into the elongated hole 71a facing the longitudinal direction of the stabilizer. ing.
  • Each of the mounting shafts 42 a is fixed to a flange (not shown) that slides along the outer surface of the electrode 71 on the outer surface side of the electrode 71. And, it is possible to expand and contract in the longitudinal direction due to a temperature change of the stabilizer 42 and the like.
  • the rectifying member (in this embodiment, a stabilizer that also serves as the rectifying member) is made of a material different from that of the electrode, and thus may be displaced from each other due to a temperature change or may swell due to water absorption. . Therefore, a hole 71 a (also serving as a hole for mounting the rectifying member) for releasing the elongation of the rectifying member due to thermal expansion or the like is provided in the electrode 71 so that the joint between the rectifying member and the electrode can be moved. In addition, it prevents unnecessary deformation and also prevents the straightening member from contacting the strip.
  • holes are made in the rectifying member and the electrode, and both are fixed by bolts and nuts penetrating these holes.
  • a hole may be provided to allow the rectifying member, which also serves as a hole, to escape from expansion due to thermal expansion or the like.
  • FIG. 12 (a) is a plan view with one of the electrodes removed, and a part of the strip is cut away for easy viewing.
  • Fig. 12 (b) is a side view.
  • FIGS. 12 (c) and (d) are a plan view and a side view of the bus bar and the electrode.
  • a plating liquid or a cleaning liquid 80 is stored in a liquid tank (not shown), and the electrodes 2 are arranged to face each other. '
  • the electrode 2 is provided with a stabilizer 8 on the inner surface side, and the stabilizer 8 is provided from the electrode side to the strip side in the forward direction of the strip running. Is formed.
  • a bus bar 82 for suspending the electrode 1 and flowing current has a surface insulated by a predetermined insulating material 83 near the position where the electrode 2 is suspended, and is bent downward in a substantially U-shape. Have been.
  • the electrode 2 is suspended from the curved portion 84.
  • the electrode 2 was not covered with an insulator.
  • the depth of the curve of the curved portion 84 of the busper 82 is such that when the busper 82 suspending the electrode 2 is suspended in the liquid tank, the upper end of the electrode 2, that is, the covering portion of the busbar 82.
  • the lower end position r is set to be lower than the lowermost position q of the fluctuation of the liquid level in the gap.
  • a conductor roll (not shown) is provided above the electrode 2, and the strip 10 contacts the conductor roll and then runs downward between the opposing electrodes 2. Power is supplied between the bus bar 82 and the conductor roll.
  • the spar 82 whose surface was insulated was bent below the liquid surface and the electrode was hung below the liquid surface, so that the strip was applied to the electrode above the plating liquid surface.
  • the occurrence of scratches and the like due to contact can be prevented.
  • the water level of the conductor roll and the liquid can be made closer, the voltage drop can be reduced, and the power can be reduced.
  • the present invention since only the other electrode is opened and closed, there is no need to secure a space for moving the one electrode, so that a small liquid tank can be used, and the existing liquid without this space can be used.
  • a strip processing apparatus provided with a stabilizer can be attached to the tank, and the use of the strip processing apparatus can be expanded. Since the switchgear is attached only to the other electrode, the cost of the switchgear is reduced by half.
  • all the operation parts of the opening and closing mechanism are arranged above the liquid surface of the liquid tank, so that the operation part opens the wall of the liquid tank. Therefore, it is not necessary to draw out the operation part, so that the liquid leakage is prevented, and the operation part is prevented from being immersed in the liquid.
  • the rectifying member having the liquid reservoir and the slit-shaped hole since the rectifying member having the liquid reservoir and the slit-shaped hole is provided, the liquid comes into contact with the strip through the slit-shaped hole, and the liquid having a uniform flow comes into contact with the strip, Uneven plating or cleaning becomes possible.
  • the present invention is configured such that the upper end of the discharge surface of the anode or the power source is located below the liquid surface in the liquid tank, so that there is no unevenness or cleaning regardless of the fluctuation of the liquid surface. It became possible to do.
  • the device configuration is extremely simple, so that the present invention can be carried out very easily at low cost, and the maintenance is very easy. Therefore, the electrode side is moved from the electrode side to the strip side in the running direction of the strip. It is possible to greatly spread a plating apparatus and a cleaning apparatus in which an anode or a force sword provided with an insulator having a tapered surface inclined toward the surface is arranged to face each other.

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Description

明 細 書
ストリツプ処理装置 〔技術分野〕
この発明は、 鋼板等のストリップ処理装置、 たとえば、 メツキ装置、 クリ一二 ング装置等に関し、 特に、 液槽内にアノード又は力ソード等の同極電極を対向配 置し、 これらの電極間にストリップを走行させる形式のストリップ処理装置に関 する。 〔背景技術〕
上記のストリップ処理装置においては、 増産や生産性を向上するために、 スト リップとアノード又は力ソード等の電極間の間隔短縮、 ストリップとアノード又 は力ソード等の電極間内におけるメツキ液等の処理液の攪拌、 ストリップとァノ ード又は力ソード等の電極間へのイオンの供給が望まれる。 そこで、 本出願人は 、 対向配置される同極電極の内面に、 絶縁体 (スタビライザー) を対向するよう に、 又は千鳥状に突設配置し、 これらの絶縁体にストリップの走行方向前方に向 かって電極側からストリップ側へと傾斜するテーパー面を設けた装置を開発した (特開平 3— 2 0 4 9 4 ) 。 これにより、 同極電極間の間隙を極めて狭くするこ とが可能となり、 ストリップ処理装置の生産性が極めて向上した。
しかしながら、 上記のストリップ処理装置にも、 いくつかの問題があり、 さら なる改良が望まれている。
第 1の問題は、 電極相互間の間隔を調整する機構に関するものである。 上記の ストリップ処理装置では極間が狭いために電極を固定式にすると初期通板時の口 ープ通しができない。 また、 開発当初はストリップの接続部が溶接等で厚くなつ ている場合にはその部分がスタビライザーに接触しスタビライザーを破損してし まうと考えられていた。 従ってこのような理由のために電極の開閉機構が必要と なる。
そこで、 従来は、 初期通板時のロープ通しの為のスペース確保、 並びにストリ ップの溶接部が走行中に接触しないようにするために、 図 1 3に示すような、 双 方の電極のそれぞれを相手側に対して開くことができる開閉機構とその操作部と を設けていた。
図 1 3において、 垂直パス式液槽 1内には、 図示しないがメツキ液等の処理液 が入れられている。 電極 2としては、 アノードもしくは力ソード、 又はアノード と力ソードの切り替えが可能な電極を適用することができる。 そして、 電極 2の 上側を上側電極受け 3で支持し、 この上側電極受け 3に電極の上側開閉用のエア シリンダー 4を設けている。 また、 それぞれの電極 2の下側を下側電極受け 5で 受け、 この下側電極受け 5に下側開閉用のカム 6を設けておき、 電極間を開閉す るときには、 一対のエアシリンダー 4及び一対のカム 6の全てを動かすことによ り行っていた。
従って、 双方の電極を開くので、 特に誘導ドラム 7に対して反対側にある電極 、 即ち液槽 1の壁側に位置する電極 2 aも移動させるスペースを液槽 1に確保し なければならず、 従ってより大きな液槽が必要になりコスト高になり、 また既存 の液槽 1にストリップ処理装置を取り付ける場合に、 このスペースがない場合に は、 液槽 1を改造しなければならないという問題があった。
また、 電極 2の下側開閉用のカム 6の操作部を液槽 1の壁から液槽 1の外部に 引き出して配置しなければならず、 即ち液槽 1を開口しなければならず、 従って 液漏れを起こしてしまうという問題があつた。
しかし、 実際に運転を行ってみたところ、 板厚 1 . 2 mmのストリップで重ね 合わせ溶接を行った溶接部をスタビライザー間 6mmでもスタビライザーに接触 する事なく通板できることがわかった。 したがって電極 2の開閉は初期通板時の ロープ通し時のみでよいことになった。 このことから上記問題の解決が可能とな るだけでなく新たに省スペースでの設備設置も可能となった。
第 2の問題は、 メツキ液等の処理液の攪抻に関するものである。 上記のストリ ップ処理装置では、 図 1 4に示すように、 電極 2のスタビライザー 8相互間に、 電極の内外面を連通する複数の透孔 9を設けている (特公平 6— 1 3 7 5 9号公 報参照) 。 このような構成なので、 ストリップ 1 0が電極 2, 2 (対向する電極 2は図示していない) 間を走行すると、 スタビライザー 8, 8間において矢線の ような流体の攪乱が起き、 透孔 9を通じて、 電極 2の内面側と外面側とで流体の 循環が起こる。 その結果、 電極内面側の古い流体と電極外面側の新しい流体とが 入れ替わる構造になっていた。
しかしこの方法では、 透孔と透孔との間には流速の遅い部分ができ、 流速の不 均一な縞模様の流れが生じてしまう。 そして、 この縞模様状の不均一な流れが、 化学的に不均一性をもたらすことになつていた。 透孔と透孔との間を無くし、 走 行方向に垂直な長孔を 1つあけることで縞模様の流れの発生を防ぐことができる 。 しかし、 この方法では電極の強度上の問題が生じ、 これを解決しょうとすると 電極の大きさを大きくしなければならない。
第 3の問題は、 電極間をストリップが走行する際に起こる処理液の液面高さの 安定に関するものである。 図 1 5 (同図 (a ) は電極の一方を除いた状態での平 面図であり、 また図を見易くするためにストリップの一部が切り欠かれている) に示すように、 アノード又は力ソード等の電極 2, 2相互間の間隔を極めて狭く して、 運転を行うと、 図 1 5 ( b ) に示すように、 ストリップ 1 0の下方向への 走行に伴う液の連れ込みにより、 極間内の液面が不安定になり、 即ち符号 P及び 符号 qで示すように液面が上下し、 メツキムラ又はクリーニングムラを生じてし まう。
そこで、 図 1 6 (同図 (a ) は電極の一方を除いた状態での平面図であり、 ま た図を見易くするためにストリップの一部が切り欠かれている) に示すように、 電極 2の上部に液注入装置 1 1を設けて、 これにより極間内に液を注ぎ込んで、 極間内の液面の不安定を防止している。 さらにはクリーニング装置のようなグリ ッド通電の場合は液面水位が低くても電圧ドロップは小さいが、 メツキ装置の場 合には液面水位が低くなりコンダクタロールと水位との距離が長くなると電圧ド 口ップが大きくなり、 余分な電力が必要となるので液面水位を高くするようにさ らに多くの液を電極 2, 2間に注ぎ込んでいる。
従って、 液注入装置 1 1が必要となるが、 種々の装置'パイプ等の入り組んだ アノード又は力ソードの上部に、 更にこの液注入装置 1 1を配置することは、 メ ツキ装置又はクリーニング装置を極めて複雑化させていた。 またスタビライザー
8を設けて極めて狭くすることが可能になった電極 2 , 2間に、 液を注ぎ込ませ ること (図 1 6 ) は容易ではなく、 これを可能とするためには更に種々の装置を 付加しなければならなかった。 従ってこれらにより、 メツキ装置又はクリーニン グ装置のコストを増大させ、 またメンテナンスも繁雑になるので、 ス夕ビライザ 一 8を設けて電極 2, 2の間隔を極めて狭くすることが可能になったメツキ装置 又はクリーニング装置 (特開平 3— 2 0 4 9 4 ) の普及を妨げる大きな要因にも なっていた。
以上のことから、 本発明の第 1の目的は、 必要最小限の設備とする事で小さな 液槽ゃ既存の液槽にも取り付けることが可能な電極の開閉機構を有するメッキ装 置又はクリーニング装置等のストリップ処理装置を提供することにある。 また、 液漏れを伴わない電極の開閉機構を有するストリップ処理装置を提供することに ある。
また、 本発明の第 2の目的は、 上記構成のメツキ装置及びクリーニング装置に おいて、 所定の整流部材を設けて電極の外面側から流れ込む流体が電極の内面側 にストリップ走行方向に対し垂直な方向に均一な流れとなるようにして、 上記の 縞模様の流れの発生を防止することにある。
さらに、 本発明の第 3の目的は、 液注入装置 1 1を設けることなく、 簡単な搆 成により、 極間内の液面の不安定によるメツキムラ又はクリーニングムラの発生 を防止可能なメッキ装置又はクリ一二ング装置等を提供することにある。
〔発明の開示〕
上記の第 1の目的を達成するために、 本発明は、 液槽内に同極電極を対向配置 し、 これらの電極間にストリップを走行させて該ストリップのメツキゃクリー二 ング等を行うストリップ処理装置において、
上記両電極の対向面に絶縁体を突設し、 該絶縁体にストリップの走行方向前方 に向かって電極側からストリップ側へと傾斜するテーパー面を形成し、
上記対向配置された同極電極の一方側電極を液層内に固定し、
上記対向配置された他方側電極に、 两電極間の間隔を調整できる開閉機構を設 けた構成を特徴としている。
同極電極が液槽内に垂直方向に対向配置されている場合に、 開閉機構の操作部 の全ては液槽の液面より上側に配置されていることが好ましい。 上記開閉機構が、 上記他方側電極の両端部に配置された一対の電極受けと、 該 両電極受けに形成された枠体と、 該電極受けに回転可能に軸支されたカム軸と、 該カム軸の両端側に固着され上記枠体内に嵌装されたカムと、 上記力ム軸の一端 側に設けられた操作部とを有する構成とすることもできる。
また、 同極電極が液槽内に垂直方向に対向配置されている場合に、 上記開閉機 構が、 上記他方側電極の上端に接続されたブスバーと、 上記他方側電極の上端側 に設けられた上側電極受けと、 該上側電極受け上に上記ブスパーを摺動自在に支 持するスライドシステムと、 該スライドシステム上のブスバーを摺動させるリニ ァァクチユエ一夕とを有する構成としてもよい。
上記第 2の目的を達成するために、 本発明は、 液槽内に同極電極を対向配置し 、 これらの電極間にストリップを走行させて該ストリップのメツキゃクリーニン グ等を行うストリップ処理装置において、
上記電極の対向面に、 ストリップの走行方向前方に向かって電極側からストリ ップ側へと傾斜するテーパ面を備えたスタビライザーを設け、 該スタビライザー のストリップ走行方向上流側及び下流側における上記電極に複数の透孔を穿設し て電極の内外面を連通させ、 スタビライザーの上記上流側と下流側の双方又は、 下流側のみに上記透孔と対向する整流部材を設け、 該整流部材の上記透孔側に液 溜を形成し、 該整流部材に、 上記ストリップの走行方向と交叉するスリット状の 孔を穿設した構成を特徴としている。
上記の構成において、 スタビライザーが整流部材を兼ねている構成や、 電極が 凹部を有し、 該凹部に上記整流部材をとりつけた構成や、 整流部材が耐薬品材料 及び/又は耐熱材料で形成されている構成とすることが好ましい。
上記電極又は上記整流部材のいずれかに電極と整流部材とを結合する取付孔を 設け、 いずれか他方に該取付孔に遊嵌するボルトを設け、 該遊嵌部分によって整 流部材と電極との間の熱膨張等による伸びを逃がす構成とすることが望ましい。 上記の構成において、 電極がアノード又は力ソード、 若しくはアノードとカソ ードの切り替えが可能な電極とすることができる。
上記第 3の目的を達成するために、 本発明は、 液槽内に同極電極を対向配置し 、 これらの電極間にストリップを走行させて該ストリップのメツキゃクリーニン グ等を行うストリップ処理装置において、
上記電極の放電面上端の位置が上記液槽内の液面より下側に配置された構成を 特徴としている。
上記の構成において、 上記電極が表面を絶縁体で被覆したブスバーでその上端 を支持され、 該ブスバーの上記電極を支持する部分が湾曲部を有し、 上記電極の 放電面上端の位置が上記液槽内の液面より下側に配置された構成とすることがで きる。
〔作用〕
第 1の目的を達成するストリップ処理装置の作用を説明する。 対向配置された 同極電極の一方側電極は位置決めした後固定され、 他方側電極は開閉可能に配置 してその開閉機構を設ける。 従って初期通板のロープ通し時に他方側電極のみを 開いて必要な極間を得る。 このとき一方側電極は閉じたときの位置に固定されて いるので初期通板時にストリップの接触の恐れがあるが、 極面上には絶縁体 (ス 夕ビライザ一) があるためにストリップはこの絶縁体上を滑るので極面には接触 しない。 また、 ストリップにはテンションがかかっていないので、 絶縁体 (ス夕 ビライザ一) を破損することもない。 液槽の壁側の電極を固定側電極にすること により、 この移動スペースを確保する必要がないので小さな液槽を用いることが でき、 またこのスペースのない既存の液槽にストリップ処理装置を取り付けるこ とができる。 また、 開閉機構を他方側電極にのみ取り付けるので開閉機構のコス トが半減する。
同極電極が液槽内に垂直方向に対向配置されている場合に、 開閉機構の操作部 の全てを液槽の液面より上側に配置することにより、 操作部を液槽の壁を開口し て引き出す必要がなく従って液漏れが防止でき、 また操作部が液に漬かることか ら防止できるのでこれによる操作部の故障等を予防できる。 ここに操作部とは開 閉機構を駆動する力を発生する部分をいい、 手動で駆動する場合には手が作用す る部分を指し、 自動で駆動する場合には駆動力を発生する部分、 即ちロータリー シリンダ一等のロー夕リーアクチユエ一夕、 エアシリンダ一等のリニアァクチュ エー夕の部分等をいう。 開閉機構が、 一対の電極受けに回転可能に軸支され、 かつ他方側電極の両端部 位置においてそれぞれカムが固着され、 かつ一端部において操作部が設けられて いるカム軸と、 他方側電極の両端部に固着された、 上記カム軸のカムの嵌合する 一対の枠体により構成することにより、 簡易な機構でかつ小さなスペースの開閉 機構が得られ、 かつ他方側電極の両端部を一対の電極受けに軸支されたカム軸に より共に開閉するので確実な開閉が得られる。
同極電極が液槽内に垂直方向に対向配置されている場合に、 開閉機構を、 上側 電極受けと他方側電極のブスバーとの間に設けられたスライドシステムと、 上側 電極受けに設けられた、 スライドシステム上で他方側電極をスライドさせるリニ ァァクチユエ一夕とにより構成することにより、 低い摩擦で他方側電極を動かす ことが可能になり、 従って小さな力で電極を動かすことができるので、 ァクチュ ェ一夕をコンパクトにすることができる。
第 2の目的を達成するメツキ装置及びクリーニング装置の作用を説明する。 こ の装置において、 スタビライザー間のストリップ走行上流側では、 液は負圧状態 になる。 なぜならば、 ストリップの走行で液は進行方向に連れて行かれからであ る。 従ってこの部分が吸い込み側になる。 そして、 電極外面側より電極内外面に 連通する透孔を通って、 電極内面に液が引き込まれる。 この液は、 まず吸い込み 側に設けた整流部材の液溜に入る。 それから、 ここで圧力が均一化され、 ストリ ップの孔からストリップに向かって引き込まれる。
このとき、 スリット状の孔から引き出される流れは均一になるので、 ムラのな ぃメツキ又はクリーニングが可能になる。
次に、 スタビライザー間のストリップ走行下流側では、 スタビライザーによつ てブロックされて電極内面の圧力が高くなるので、 液の吐き出し側となり、 電極 内外面に連通する透孔を通って電極外面側に液が吐き出される。
また、 一部は電極内面に沿ってストリップ走行上流側に流れる。
この際、 孔のある部分と孔のない部分とで流れに違いが生じるので、 吐き出し 側にも整流部材が設けられていると、 吐き出し側での流れも均一になる。
なお、 吐き出し側においては、 孔のピッチや大きさ等により整流部材が不要な 場合もある。 整流部材を取り付けた場合は、 整流部材の分だけ、 放電面が減少するが、 ス夕 ビライザ一が整流部材を兼ねるようにすると上記の放電面の減少を防ぐことがで きる。
液溜を電極に設けた凹部を利用して形成すると、 整流部材の高さを減じること ができ、 スタビライザーが整流部材を兼ねている場合には、 これによりス夕ビラ ィザ一の高さが高くなることを防止することができるので、 短 t、極間距離を維持 することができる。
整流部材を耐熱材料及び/又は耐薬品材料を用いて形成する。 すると、 整流部 材の熱や薬品による変形等が防止されて、 整流部材の機能が維持さる。 また整流 部材が変形してストリップに接触する等が防止される。
整流部材の取付用の孔を兼ねた、 整流部材の熱膨張等による伸びを逃すための 孔を、 電極又は整流部材に設ける。 それにより、 整流部材と電極との材質が異な つても (従って熱膨張が異なっても) 、 又、 整流部材が膨潤しても整流部材の撓 み変形が防止され、 これにより、 整流部材のストリップへの当接等が防止される 第 3の目的を達成するメツキ装置及びクリーニング装置の作用を説明する。 ァ ノードの放電面より液中にィォンが流れて又は力ソードの放電面にィォンが付着 して、 メツキ又はクリーニングが行われるが、 アノード又はカゾードの放電面の 上端の位置が液槽内の液面より下側の位置であるので、 放電面部分は必ず液中に 存在することになり、 従ってムラのないメツキ又はクリーニングを行うことがで きる。
〔図面の簡単な説明〕
図 1 ( a ) は本発明の第 1の目的を達成する第 1の実施例のストリップ処理装 置の斜視図であり、 同図 (b ) は同図 (a) のカムと枠対との嵌合状態を示す平 面説明図、
図 2は、 図 1のストリップ処理装置の変形例を示す斜視図、
図 3は、 本発明の第 1の目的を達成する第 2の実施例のストリップ処理装置の 斜視図、 図 4は、 図 3のストリップ処理装置の変形例を示す開閉機構部の拡大正面図、 図 5は、 本発明の第 2の目的を達成する第 1実施例であり、 同図 (a) はァノ —ド又は力ソードを内側から見た斜視図、 同図 (b) は整流部材の斜視図、 同図 (c) は整流部材の縦方向断面図、 同図 (d) は液の流れの様子を示す整流部材 の横方向断面図、 同図 (e) は液の流れの様子を示すアノード又は力ソードを内 側から見た平面図、
図 6は、 本発明の第 2の目的を達成する第 2実施例のアノード又は力ソードを 内側から見た斜視図、
図 7は、 本発明の第 2の目的を達成する第 3実施例のスタビライザー部の断面 図、
図 8は、 本発明の第 2の目的を達成する第 4実施例のスタビライザー部の断面 図、
図 9は、 本発明の第 2の目的を達成する第 5実施例のス夕ピライザ一部の断面 図、
図 10は、 本発明の第 2の目的を達成する第 6実施例のスタビライザー部の断 面図、
図 11は、 本発明の第 2の目的を達成する第 7実施例のアノード又は力ソード の外側から見た平面図、
図 12 (a) は本発明の第 3の目的を達成するための実施例の平面説明図、 同 図 (b) は同側面説明図、 同図 (c) はアノード又は力ソード内側からみた平面 図、 同図 (d) は同側面図、
図 13は、 従来のストリップ処理装置の斜視図、
図 14は、 従来のメツキ装置又はクリーニング装置における液の流れの様子を 示す断面図、
図 15 (a) は、 メツキ装置又はクリーニング装置の液連れ込みを説明する平 面図、 同図 (b) は同側面図、
図 16 (a) は、 液連れ込みを防止するための液注入装置を設けた従来のメッ キ装置又はクリーニング装置の平面図、 同図 (b) は同側面図である。
〔実施例〕 まず、 本発明の第 1の目的を達成する実施例を図面に基づいて詳細に説明する 。 図 1 ( a) に示すように、 垂直パス式液槽 1内にメツキ液 (図示省略) が蓄え られ、 このメツキ液に、 その上部 2 dが液槽 1液面 (図示省略) より上側の位置 になる状態で、 アノード電極 2, 2が、 垂直状態に、 対向して配置されている。 電極 2の内面には絶縁体 (スタビライザー) が突設されており、 絶縁体はストリ ップの走行方向前方 (図の下方向) に向かって電極側からストリップ側へと傾斜 するテーパー面が形成されている (図示省略) 。 電極 2の上端にはブスバ一 2 c が取り付けられており、 これを介して電気が供給される。
次に対向配置されている同極電極の一方側電極 2 aが固定されている。 即ち上 側電極受け 3、 下側電極受け 5はそれに設けられたブスバー嵌合部 3 a, 5 aの 位置を位置決めして液槽 1内に固定してあり、 一方側電極 2 aの上下端に設けら れているブスバー 2 cをブスバー嵌合部 3 a, 5 aに嵌合することにより、 一方 側電極 2 aは位置決めして固定されている。 なお、 上側電極受け 3は液槽 1の液 面より上側になっている。 一方側電極 2 aは液槽 1の壁側に接近して固定されて いてもよい。
次に、 他方側電極 2 bの上側ブスバー 2 cが上側電極受け 3に摺動可能に載置 されており、 従って一方側電極 2 aに対して開閉可能になっている。 なお他方側 電極 2 bの閉じた状態での位置決めを行う当接部 3 b, 5 bが上下の電極受け 3 , 5に設けられている。 そして、 他方側電極 2 bに開閉機構 2 0が設けられてい る。 即ち、 カム軸 2 0 aが上下一対の電極受け 3, 5に回転可能に軸支されてお り、 かつ他方側電極 2 bの両端部位置においてそれぞれカム 2 O bが固着され、 かつ上端部において手動レバーからなる操作部 2 0 cが固着して設けられている 。 操作部 2 0 cの位置は液槽 1の液面より上側になっている。 そして、 カム 2 0 bは図 1 (b ) に示すように、 円板状でかつ偏心カムであり、 手動レバ一 2 0 c の方向を電極側に直角方向にした状態で、 他方側電極 2 bを当接部 3 b , 5 bに 押圧する状態で一方側電極 2 aに対して閉じ、 手動レバ一 2 0 cの方向を電極面 に平行方向にした状態で、 後述する枠体 2 0 dと共に、 他方側電極 2 bを一方側 電極 2 aに対して開くように構成されている。 なお、 カム 2 0 bの偏心量は、 他 方側電極の移動のみによりロープを通すことが可能な開きが得られるように所定 の大きさに設定されている。 次に枠体 2 0 dが、 ブスバー 2 cに固着されること により、 他方側電極の両端部に設けられている。 枠体 2 0 dは矩形状であり、 か つカム 2 O bの径と等しい幅を有しており、 枠体 2 0 dにカム 2 O bを嵌合して いる。 従って偏心カム 2 0 bの位置が変わったときにその位置に枠体 2 0 dが追 従する。
液槽 1の底部には誘導ドラム 7が配置されており、 一対の電極 2, 2間を走行 するストリップは誘導ドラム 7に巻き付いてその方向が変えられる。
このように構成されており、 初期通板のロープ通しを行うときには、 手動レバ 一 2 0 cを動かしてその方向を電極面と平行にする (図 1 (b ) の点線) 。 する と他方側電極の上端部及び下端部の双方において、 枠体が偏心カムの移動に従つ て移動するので、 他方側電極が開く。 この際、 他方側電極の上端部及び下端部の 双方を開くので開閉が確実になる。 また液面より上側にある手動レバー 2 0 cの みを操作すればよいので、 操作を容易に行うことができる。 なお、 一方側電極は 閉じたときの位置に固定されているので初期通板時にストリップの接触の恐れが あるが、 極面上には絶縁体 (スタビライザー) があるためにストリップはこの絶 縁体上を滑るので極面には接触しない。 また、 ストリップにはテンションがかか つていないので、 絶縁体 (スタビライザー) を破損することもない。
そして、 この状態で初期通板のロープ通しを行い、 また誘導ドラム 7でストリ ップの方向を変え、 次に、 手動レバー 2 0 cを動かしてその方向を電極面と垂直 にする (図 1 ( b ) の実線) 。 すると、 上記と同様にして開くときとは反対方向 に枠体 2 0 dが偏心カム 2 0 bに従って移動して、 他方側電極 2 bが閉じる。 こ の際、 他方側電極が当接部 3 b , 5 bに当接して閉じ動作を終了するが、 偏心力 ム 2 0 bでブスバー 2 cを、 より当接部 3 b, 5 bに押さえ付けることにより、 この当接が確実になる。 また、 この間の手動レバー 2 0 cの回動は手動レバー 2 0 cに所定の長さを与えておくことにより、 てこの原理により小さな力で行うこ とができる。
このようにして初期通板のロープ通しが終わると、 狭い間隔の電極 2を用いて ストリツプに高電流密度メッキが行われる。
次に、 溶接等で厚くなつているストリップの接続部分を通過させる際には、 必 要に応じて、 他方側電極 2 bを再び開いてこれを通過させ、 その後再び上記と同 様にして高電流密度メツキを行う。
本実施例において、 操作部は手動でなく自動で行うことができる。 例えば、 図 2に示すように、 カム軸 2 0 aの上端にロータリーシリンダー 2 0 f を設け、 こ れによりカム軸 2 0 aを回動してもよい。 この場合にも、 ロー夕リーシリンダー 2 0 fが液槽 1の液面より上側の位置にあるので、 電気系統等を有するロー夕リ ーシリンダー 2 0 f に液槽 1内のメッキ液等の処理液がかかるのを防止できる。 次に本発明の第 1の目的を達成する第 2の実施例を図 3を用いて説明する。 同図において、 他方側電極 2 bは上側電極受け 3上を摺動して開閉可能であり 、 かつ開閉機構 2 1として、 エアシリンダ一 2 1 fが上側電極受け 3に固定され ている。 即ち、 エアシリンダー 2 1 f の軸 2 1 aの先端が他方側電極 2 bの上側 ブスバー 2 cに固着されており、 かつ軸 2 1 aの途中部において垂直棒 2 1わが 固着されており、 垂直棒 2 1 bの下端部が 9 0° 曲げられて水平部 2 1 cを形成 しており、 その先端が他方側電極 2 bの下側ブスバー 2 cに固着されている。 な おエアシリンダー 2 1 fが自動操作部になる。 他方側電極の閉じた状態での位置 決めを行う当接部 3 b , 5 bが上下の電極受け 3, 5に設けられている。
このように構成されておりエアシリンダ一2 1 f を駆動してその軸 2 1 aを縮 めると他方側電極 2 bが上側電極受け 3上を摺動して開く。 この際、 軸 2 l aに は、 下端部も垂直棒 2 1 bを介して直接固着されているので、 軸 2 1 aの移動に より電極の上端部及び下端部を直接移動することができ、 上側電極受け 3の摺動 面に摩擦があり従って他方側電極 2 bが摺動時に揺れやすい場合においても、 電 極面を揺らすこと等なく電極を開閉することができる。
次に本実施例において、 摺動面の摩擦力をより低減することができる。 即ち、 図 4に示すように、 上側電極受け 3と他方側電極 2 bの上側ブスバー 2 cとの間 に、 上側電極受け 3に固定された LMガイド 2 2 aとブスバーに固定されたその 嵌合部材 2 2 bとからなるスライドシステムを設ける。 そして、 ブスバー 2 cに 上側電極 3に固定されたエアシリンダ一からなるリニアァクチユエ一夕 2 2 cの 軸 2 2 dを固定する。 これにより、 摺動摩擦力が小さいので小さなエアシリンダ 一 2 2 cで駆動して他方側電極を開閉することができる。 また電極面が移動中に 揺れないので、 軸 2 2 dから直接電極の下端部へ接続する垂直棒を設ける必要が なく機構が簡単になる。
上記実施例はメツキ装置であるが、 本発明は、 他のストリップ処理装置、 例え ば、 ストリップの表面付着汚物のアルカリ処理液中における電気分解によるクリ 一二ング装置にも適用することができる。 この場合電極が力ソードになる。
次に、 本発明の第 2の目的を達成する実施例を図面に基づいて詳細に説明する 図 5において、 メツキ装置又はクリーニング装置には、 液槽 (図示省略) 内に アノード又は力ソードとなる電極 2が対向して配置されている。 (図 5 ( a) は 一方のみを示す) そして、 相互に対向する面にはスタビライザー 8が配置されて いる。
スタビライザー 8は、 ストリップの走行方向 a前方に向かって電極側からスト リップ側へと傾斜するテーパー面を形成している。 スタビライザー 8の、 図 5 ( a) , ( e ) での上側近傍及び下側近傍は、 それぞれ液の吸い込み側及び吐き出 し側となる。 そして、 スタビライザー 8に沿って、 電極の内外面に連通する透孔 2 3, 2 4が複数個設けられている。
また、 吸い込み側には電極 1の内面側に整流部材 2 5が設けられている。 整流 部材 2 5は、 同図 (b ) , (c ), (d ) に示すように箱形になっている。 液の 吸い込み側において、 スタビライザーに沿って設けられている複数個の透孔 2 4 を覆っており、 内部が液溜 2 5 aになる。
整流部材 2 5のストリップ側の面には、 上記の複数個の透孔 2 3間に亘る長さ の、 ストリップの走行方向とに垂直なスリット状の孔 2 5 bが設けられている。 整流部材 2 5は、 電極 2から突出している。 よって、 万が一のストリップとの接 触を考慮して、 絶縁性の材料であり、 かつ耐熱及び耐薬品性を有する材料を 用いるのが望ましい。
本発明のメツキ装置又はクリーニング装置は、 上記のように形成されているの で、 電極 1の外側よりメッキ液又はクリ一二ング液が透孔 2 3を通過して内面側 に流入する。 この液は整流部材 2 5内の液溜 2 5 aで圧力が均一化されスリット 孔 2 5 bを経てストリップに向かって流れ込む。 このときの液の流れは均一化さ れているので、 ムラのないメツキ又はクリーニングが可能になる。 吐き出し側で はスタビライザー 8によってプロックされた液が複数個の透孔 2 4を通じて外面 にお出される。
また、 一部は電極内面に沿ってストリップ走行上流に流れる。
次に本発明の第 2の目的を達成する第 2実施例を図 6に基づいて説明する。 第 1実施例に加え、 吐き出し側 (透孔 2 4側) にも、 第 1実施例と同様の形状の整 流部材 2 6を配置している。 従ってスタビライザー 8によってブロックされた液 はスリッ ト孔 2 6 bを経て整流部材内 2 6の液溜 2 6 aに入り、 この中で液の攪 抻がおき、 従ってこの影響がストリップ表面には及ばないので、 吐き出し側近傍 におけるメツキ又はクリーニングの不均一さも防止される。 なお、 吐き出し側に おける液の攪拌によるメツキ又はクリーニングの不均一さへの影響は吸い込み側 に比して小さいので、 吐き出し側においては整流部材の設置は吸い込み側ほどに は重要ではなく、 また、 吐き出し側においては、 孔のピッチや大きさ等により整 流部材が不要な場合もある。
次に本発明の第 2の目的を達成する第 3実施例を図 7に基づいて説明する。 ま ず、 吸い込み側の透孔 3 5がスタビライザー 3 2に対向して設けられている。 な おかつ透孔 3 5に対向してスタビライザー 3 2の一部が整流部材 3 7となってい る。 即ち、 透孔 3 5に対向してスタビライザー 3 2に液溜 3 8の凹部が設けられ ている。 さらに、 液溜 3 8に接続して、 スタビライザー 3 2のストリップの走行 方向 aの上流側端部の、 電極 2との間に、 スリッ ト状の孔 3 9が設けられている 。 このようにスタビライザーを整流部材と兼用することにより、 放電面積の減少 を防止することができる。
本発明の第 2の目的を達成する第 4実施例は、 図 8に示すように、 まず吐き出 し側の透孔 4 6がスタビライザー 4 2に対向して設けられている。 そのうえ、 透 孔 4 6に対向してスタビライザー 4 2内に整流部材 4 7が形成されたものである 。 まず、 透孔 4 6に対向してスタビライザー 4 2に液溜 4 8の凹部が設けらてい る。 更に液溜 4 8に接続して、 スタビライザー 4 2のストリップ 3の走行下流側 端部の、 電極 2との間に、 スリッ ト状の孔 4 9が設けられている。
次に本発明の第 2の目的を達成する第 5実施例を図 9に基づいて説明する。 ま ず、 吸い込み側の透孔 5 5の位置に接続して、 電極 5 1に凹部 5 1 aが形成され てされている。 この凹部 5 1 a内に断面 L字形のスタビライザー 5 2が液溜 5 8 を形成するごとく配置されている。 また電極 5 1とスタビライザー 5 2との間に スリツト 5 9が形成されている。 スタビライザー内に液溜を設けてス夕ビライザ 一を整流部材と兼用すると、 スタビライザーが大きくなる。 (第 1, 2実施例) そのため、 スタビライザーは、 極間の短縮を妨げることとなるが、 電極 5 1に凹 部 5 1 aを形成してこれを液溜の一部として用いることにより、 電極内面より突 出しているスタビライザーの高さを減じて極間の短縮を維持することができる。 本発明の第 2の目的を達成する第 6実施例は、 図 1 0に示すように、 吐き出し 側の透孔 6 6の位置にも接続して、 電極 6 1に凹部 6 1 aが形成されている。 そ して、 この凹部 6 1 a内に断面 T字形のスタビライザー 6 2が液溜 6 8を形成す るごとく配置されている。 また電極 6 1とスタビライザー 6 2との間にスリット 6 9が形成されている。
次に本発明の第 2の目的を達成する第 7実施例を図 1 1に基づいて説明する。 同図は電極を外面側から見た図である。 図 8の構成の整流部材を兼用したス夕ビ ライザ一 4 2が、 その取付け軸 4 2 aを、 電極 7 1の、 スタビライザーの長手方 向を向いた長孔 7 1 a内に遊嵌されている。 そして、 取付け軸 4 2 aはそれぞれ 、 電極 7 1の外面側で、 上記電極 7 1の外面に沿って摺動する不図示のフランジ に固定されている。 そして、 スタビライザー 4 2の温度変化等による長手方向の 伸縮を可能にしている。 整流部材 (本実施例においては整流部材を兼用するス夕 ビライザ一) は、 電極とは異なる材質が用いられるので温度変化により互いの位 置ずれを引き起こしたり、 吸水して膨潤を起こすことがある。 そこで、 整流部材 の熱膨張等による伸びを逃がすための孔 7 1 a (整流部材の取付用の孔を兼ねて いる) を電極 7 1に設け、 整流部材と電極との結合部を移動可能にしておき、 無 理な変形を生じないようにし、 併せて整流部材がストリップに接触するのを防止 している。
なお、 整流部材及び電極に孔を開け、 これらの孔を貫通するボルト及びナット により両者を固定する場合もある。 その場合には、 孔を兼ねた上記整流部材の熱 膨張等による伸びを逃がすための孔を設けてもよい。 次に、 本発明の上記第 3の目的を達成する実施例を図面に基づいて詳細に説明 する。
図 1 2 ( a ) は、 電極の一方を除いた状態での平面図であり、 また図を見易く するためにストリップの一部が切り欠かれている。 図 1 2 ( b ) は側面図である 。 また図 1 2 ( c ) 及び (d ) はブスバー及び電極の平面図及び側面図である。 同図 (a ) , (b ) において、 液槽 (図示省略) 内に、 メツキ液又はクリ一二 ング液 8 0が蓄えられており、 電極 2が対向配置されている。 '
同図 (c ) , (d ) に示すように、 電極 2には内面側にスタビライザー 8が突 設されており、 スタビライザー 8には、 ストリップの走行方向前方に向かって電 極側からストリップ側へと傾斜するテーパー面 8 aが形成されている。 そして、 電極 1を吊り下げかつ電流を流すためのブスバー 8 2は、 電極 2を吊り下げる位 置付近で、 所定の絶縁材料 8 3で表面が絶縁されており、 かつ略 U字形に下方に 湾曲されている。 そして、 この湾曲部 8 4に電極 2が吊り下げられている。 なお 電極 2には絶縁体による被覆は行われていない。 ブスパー 8 2の湾曲部 8 4の湾 曲の深さは、 この電極 2を吊り下げたブスパー 8 2を液槽内に吊り下げたときに 、 電極 2の上端即ちブスバー 8 2の被覆部の最下端位置 rが、 極間内の液面の変 動の最下端位置 qよりも下側位置となるように、 定められている。
次に、 電極 2の上方にコンダクタロール (図示省略) が設けられており、 スト リップ 1 0はコンダクタロールに接触した後、 対向する電極 2間内を下方向へ走 行するようになっており、 ブスバー 8 2とコンダクタロールとの間に電力が供給 される。
このように構成されており、 ストリップを走行させると、 極間が狭いために、 液の連れ込みにより、 極間内の液面が下がり最上端位置 p及び最下端位置 qの間 で変動する。 しかしながら、 放電面の上端 rが液面変動の最下端位置 qよりも下 側位置にあるので、 放電面は全て必ず液中に存在し、 従ってムラのないメツキ又 はクリーニングが行われる。
なお、 本実施例において、 表面を絶縁したブスパー 8 2を液面より下側まで湾 曲してその下側に電極を吊り下げることとしたので、 メッキ液面より上の部分で ストリップが電極に接触しすりきず等が発生することを防ぐことができる。 さら には、 湾曲したことによりコンダクタロールと液の水位を近づけることができ電 圧ドロップを減らすことができ電力低減も可能となる。
〔発明の効果〕
本発明は他方側電極のみを開閉することとしたので、 一方側電極の移動スぺー スを確保する必要がなく従って小さな液槽を用いることができ、 またこのスぺ一 スのない既存の液槽に、 スタビライザーを設けたストリップ処理装置を取り付け ることができ、 このストリップ処理装置の利用の拡大を図ることができる。 また 開閉機搆を他方側電極にのみ取り付けるので開閉機構のコストが半減する。 同極電極が液槽内に垂直方向に対向配置されている場合に、 開閉機構の操作部 の全てを液槽の液面より上側に配置することにより、 操作部を液槽の壁を開口し て引き出す必要がなく、 従って液漏れが防止され、 また操作部が液に漬かること から防止されるので操作部の故障等が防止される。
また、 本発明は、 液溜及びスリット状の孔を有する整流部材を設けたので、 ス リッ ト状の孔を通じて液がストリップに接触するようになり、 均一な流れの液が ストリップに接触し、 ムラのないメツキ又はクリーニングが可能になる。
また、 本発明は、 アノード又は力ソードの放電面の上端の位置が液槽内の液面 より下側に位置になるように構成したので、 液面の変動にかかわらずムラのない メツキ又はクリーニングを行うことが可能となった。 同時に、 装置構成が極めて 簡単であり、 従って低コストで本発明の実施を極めて容易に行うことができ、 ま たメンテナンスも極めて容易であり、 従って、 ストリップの走行方向に向かって 電極側からストリップ側に向かって傾斜するテーパー面を有する絶縁体を突設し たァノード又は力ソードを対向配置してなるメッキ装置及びクリーニング装置の 普及を大きく図ることが可能になる。

Claims

請 求 の 範 囲
( 1 ) 液槽内に同極電極を対向配置し、 これらの電極間にストリップを走行さ せて該ストリップのメツキやクリーニング等を行うストリップ処理装置において 、 上記两電極の対向面に絶縁体を突設し、 該絶縁体にストリップの走行方向前方 に向かって電極側からストリップ側へと傾斜するテーパー面を形成し、
上記対向配置された同極電極の一方側電極を液層内に固定し、
上記対向配置された他方側電極に、 両電極間の間隔を調整できる開閉機構を設 けたことを特徴とするストリップ処理装置。
(2) 請求項 1において、 上記同極電極は上記液槽内に垂直方向に対向配置さ れており、
上記開閉機構の操作部は全て上記液槽の液面より上側に配置されていることを 特徴とするストリップ処理装置。
(3 ) 請求項 1又は 2において、 上記開閉機構が、 上記他方側電極の両端部に 配置された一対の電極受けと、 該両電極受けに形成された枠体と、 該電極受けに 回転可能に軸支されたカム軸と、 該カム軸の両端側に固着され上記枠体内に嵌装 されたカムと、 上記カム軸の一端側に設けられた操作部とを有することを特徴と するストリップ処理装置。
(4 ) 請求項 2において、 上記開閉機構が、 上記他方側電極の上端に接続され たブスバーと、 上記他方側電極の上端側に設けられた上側電極受けと、 該上側電 極受け上に上記ブスバーを摺動自在に支持するスライドシステムと、 該スライド システム上のブスバーを摺動させるリニアァクチユエ一夕とを有することを特徴 とするストリップ処理装置。
( 5 ) 液槽内に同極電極を対向配置し、 これらの電極間にストリップを走行さ せて該ストリップのメツキやクリーニング等を行うストリップ処理装置において 、 上記電極の対向面に、 ストリップの走行方向前方に向かって電極側からストリ ップ側へと傾斜するテーパ面を備えたスタビライザーを設け、 該スタビライザー のストリップ走行方向上流側及び下流側における上記電極に複数の透孔を穿設し て電極の内外面を連通させ、 上記上流側と下流側の双方又は、 下流側のみに上記 透孔と対向する整流部材を設け、 該整流部材の上記透孔側に液溜を形成し、 該整 流部材に、 上記ストリップの走行方向と交叉するスリット状の孔を穿設したこと を特徴とするストリップ処理装置。
( 6) 上記スタビライザーが上記整流部材を兼ねた請求項 5記載のストリップ 処理装置。
( 7 ) 上記電極が凹部を有し、 該凹部に上記整流部材を取り付けたことを特徴 とする請求項 5又は 6記載のストリップ処理装置。
( 8 ) 上記整流部材が耐薬品材料及び 又は耐熱材料で形成されている請求項 5から 7のいずれかに記載のストリップ処理装置。
(9 ) 上記電極又は上記整流部材のいずれかに電極と整流部材とを結合する取 付孔を設け、 いずれか他方に該取付孔に遊嵌するボルトを設け、 該遊嵌部分によ つて整流部材と電極との間の熱膨張等による伸びを逃がすことを特徴とする請求 項 5から 8のいずれかに記載のストリップ処理装置。
( 1 0 ) 上記電極がアノード又は力ソード、 若しくはアノードと力ソードの切り 替えが可能な電極であることを特徴とする請求項 5から 9のいずれかに記載のス トリップ処理装置。
( 1 1 ) 液槽内に同極電極を対向配置し、 これらの電極間にストリップを走行さ せて該ストリップのメツキやクリーニング等を行うストリップ処理装置において 上記電極の放電面上端の位置が上記液槽内の液面より下側に配置されたことを 特徴とするストリツプ処理装置。
( 1 2 ) 上記電極が表面を絶縁体で被覆したブスバーでその上端を支持され、 該 ブスバーの上記電極を支持する部分が湾曲部を有し、 上記電極の放電面上端の位 置が上記液槽内の液面より下側に配置されたことを特徴とする請求項 1 1記載の ストリツプ処理装置。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW592859B (en) * 2001-09-11 2004-06-21 Ebara Corp Electrolytic processing apparatus and method
DE102009060937A1 (de) * 2009-12-22 2011-06-30 Siemens Aktiengesellschaft, 80333 Verfahren zum elektrochemischen Beschichten
CN104419974B (zh) * 2013-08-19 2017-06-16 柳广德 供成捆不锈钢线可连续进行电浆抛光及降低表面粗糙度的装置方法
EP3156523B1 (en) * 2014-06-11 2019-03-27 Shanghai Meishan Iron & steel Co., Ltd. Continuous electroplating test device simulating different linear speeds of band steel

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4518664Y1 (ja) * 1966-12-14 1970-07-29
JPS61217596A (ja) * 1985-03-25 1986-09-27 Sumitomo Metal Ind Ltd 鋼帯の均一電気メツキ方法及びその装置
JPS62211399A (ja) * 1986-03-11 1987-09-17 Nippon Kokan Kk <Nkk> 合金電気鍍金用電解槽
JPS63303100A (ja) * 1987-06-03 1988-12-09 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 帯鋼連続処理設備
JPH01306596A (ja) * 1988-06-06 1989-12-11 Eagle Ind Co Ltd 鍍金装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4652346A (en) * 1984-12-31 1987-03-24 Olin Corporation Apparatus and process for the continuous plating of wide delicate metal foil

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4518664Y1 (ja) * 1966-12-14 1970-07-29
JPS61217596A (ja) * 1985-03-25 1986-09-27 Sumitomo Metal Ind Ltd 鋼帯の均一電気メツキ方法及びその装置
JPS62211399A (ja) * 1986-03-11 1987-09-17 Nippon Kokan Kk <Nkk> 合金電気鍍金用電解槽
JPS63303100A (ja) * 1987-06-03 1988-12-09 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 帯鋼連続処理設備
JPH01306596A (ja) * 1988-06-06 1989-12-11 Eagle Ind Co Ltd 鍍金装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
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