CN217997387U - 一种用于薄膜基材的水电镀设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种用于薄膜基材的水电镀设备，其包括：串联设置的若干电镀槽，电镀槽的内部设置有电镀阳极、以及分别设置在电镀阳极两侧的第一过辊和第二过辊，电镀阳极横向设置；一个或多个导电辊，设置在每两个相邻的电镀槽之间，薄膜基材从所述导电辊的左侧接触绕过，并从所述导电辊的右侧接触绕出；放卷装置和收卷装置，分别用于对待电镀的薄膜基材进行放卷以及对电镀后的薄膜基材进行收卷。本实用新型实施例能够增加薄膜基材与导电辊的接触面积，提高电镀的效率与电镀质量。

Description

一种用于薄膜基材的水电镀设备

技术领域

本实用新型涉及电镀技术领域，具体涉及一种用于薄膜基材的水电镀设备。

背景技术

水电镀是一种电离子沉积过程，是利用电极通过电流，使金属附着在物体表面上，其目的为改变物体表面的特性或尺寸。但是，在现有的电镀设备中，薄膜基材在整个电镀设备中的行进路径为直线，例如专利号为CN212451694U的实用新型专利中，薄膜在走膜路径上为直线，这样就导致了薄膜基材与导电辊的接触面积很小，例如宽度只有10mm左右，接触面较小会导致导电能力较差，直接影响电镀效率和电镀质量。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型实施例的目的在于提供一种用于薄膜基材的水电镀设备，以解现薄膜基材与导电辊的接触面积很小导致的导电能力差的技术问题。

为达上述目的，本实用新型实施例提供了一种用于薄膜基材的水电镀设备，所述水电镀设备包括：

串联设置的若干电镀槽，所述电镀槽的内部设置有电镀阳极、以及分别设置在所述电镀阳极前后两侧的第一过辊和第二过辊，所述电镀阳极横向设置；

一个或多个导电辊，设置在每两个相邻的所述电镀槽之间，薄膜基材从所述导电辊的左侧接触绕过，并从所述导电辊的右侧接触绕出；

放卷装置和收卷装置，分别用于对待电镀的薄膜基材进行放卷以及对电镀后的薄膜基材进行收卷。

在一些可能的实施方式中，所述水电镀设备还包括：

一个或多个第三过辊，设置在每两个相邻的所述电镀槽之间，所述第三过辊的个数与所述导电辊的个数之和为奇数。

在一些可能的实施方式中，所述第三过辊、所述导电辊、所述第一过辊和所述第二过辊均在同一水平线上。

在一些可能的实施方式中，所述第三过辊设置于所述导电辊的两侧，所述第三过辊和所述导电辊均高于所述第一过辊和所述第二过辊。

在一些可能的实施方式中，所述第三过辊设置于所述导电辊的任意一侧，所述第三过辊和所述导电辊均高于所述第一过辊和所述第二过辊。

在一些可能的实施方式中，所述第三过辊与所述导电辊交替设置，所述第三过辊和所述导电辊均高于所述第一过辊和所述第二过辊。

在一些可能的实施方式中，在所述第三过辊上设置有张力传感器，所述张力传感器与所述第三过辊的驱动电机控制器电连接，用于检测所述薄膜基材的张力。

在一些可能的实施方式中，所述电镀阳极为钛蓝，所述钛蓝的个数为两个，且两个所述钛蓝上下对称设置。

在一些可能的实施方式中，所述第一过辊的个数为两个，且两个所述第一过辊上下滚动接触；

所述第二过辊的个数为两个，且两个所述第二过辊上下滚动接触。

在一些可能的实施方式中，所述导电辊、所述第一过辊、所述第二过辊和所述第三过辊均为主动辊或从动辊。

上述技术方案的有益技术效果在于：

本实用新型实施例提供的一种用于薄膜基材的水电镀设备，其包括：串联设置的若干电镀槽，电镀槽的内部设置有电镀阳极、以及分别设置在电镀阳极两侧的第一过辊和第二过辊，电镀阳极横向设置；一个或多个导电辊，设置在每两个相邻的电镀槽之间，薄膜基材从所述导电辊的左侧接触绕过，并从所述导电辊的右侧接触绕出；放卷装置和收卷装置，分别用于对待电镀的薄膜基材进行放卷以及对电镀后的薄膜基材进行收卷。本实用新型实施例能够增加薄膜基材与导电辊的接触面积，提高电镀的效率与电镀质量。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例的第一种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图；

图2是本实用新型实施例的第二种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图；

图3是本实用新型实施例的第三种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图；

图4是本实用新型实施例的第四种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图；

图5是本实用新型实施例的第五种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图；

图6是本实用新型实施例的第六种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图；

图7是本实用新型实施例的第七种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图。

附图标号说明：

1、电镀槽；11、电镀阳极；12、第一过辊；13、第二过辊；

2、导电辊；

3、放卷装置；

4、收卷装置；

5、薄膜基材；

6、第三过辊。

具体实施方式

下面将详细描述本实用新型的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本实用新型的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本实用新型可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本实用新型的示例来提供对本实用新型的更好的理解。在附图和下面的描述中，至少部分的公知结构和技术没有被示出，以便避免对本实用新型造成不必要的模糊；并且，为了清晰，可能夸大了部分结构的尺寸。此外，下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。

图1是本实用新型实施例的第一种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图，如图1所示，该第一种水电镀设备包括：串联设置的若干电镀槽1，电镀槽1的内部设置有电镀阳极11、在每个电镀槽1内还设置有第一过辊12和第二过辊13，分别位于电镀阳极11的两侧并且隔开一定距离，电镀阳极11横向设置在电镀槽1中，在电镀过程中提供阳极电，第一过辊12和第二过辊13用于对薄膜基材5进行导向；一个或多个导电辊2，设置在每两个相邻的电镀槽1之间，薄膜基材5从导电辊2的左侧绕过，又从导电辊2的右侧绕出，这样在走膜过程中，薄膜基材5在第二过辊13和导电辊2之间成一定的角度走带，增加了薄膜基材5与导电辊2之间的接触面积；导电辊2作为电镀阴极，薄膜基材5绕过导电辊2时，包角增大，与导电辊2的接出面积会增大，宽度可达到50mm左右，提升接触面的导电能力，相应的，可以在导电辊2上增加更大的电流，提高电镀效率。另外，该水电镀设备还包括放卷装置3和收卷装置4，分别用于对待电镀的薄膜基材5进行放卷以及对电镀后的薄膜基材5进行收卷。

本实用新型实施例能够增加薄膜基材5与导电辊2之间的接触面积，不仅可以提高电镀的效率，还可以提高电镀质量。

图2是本实用新型实施例的第二种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图，如图2所示，第二种水电镀设备还包括：一个或多个第三过辊6，设置在每两个相邻的电镀槽1之间，第三过辊6的个数与导电辊2的个数之和为奇数，以保证薄膜基材5可以从导电辊2和第三过辊6的左侧绕过，又从导电辊2和第三过辊6的右侧绕出。

如图2所示，在一些实施例中，导电辊2、第三过辊6、第一过辊12和第二过辊13均在同一水平线上，在增加了薄膜基材5与导电辊2的接触面积的同时，也便于控制薄膜基材5的张力。

图3是本实用新型实施例的第三种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图，如图3所示，在一些实施例中，第三过辊6在导电辊2的两侧，第三过辊6和导电辊2在竖直方向上的设置高度均高于第一过辊12和第二过辊13，可以根据需要调整第三过辊6与导电辊2之间的距离来调整薄膜基材5与导电辊2之间的接触面积，例如，当导电辊2两侧的第三过辊6均靠近导电辊2时，可以增加薄膜基材5与导电辊2之间的接触面积，反之，当导电辊2两侧的第三过辊6均远离导电辊2时，可以适当减少薄膜基材5与导电辊2之间的接触面积，因此，本实用新型实施例中可以灵活的调整薄膜基材5与导电辊2之间的接触面积。

图4是本实用新型实施例的第四种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图，如图4所示，本实施例中，第三过辊6设置于导电辊2的任意一侧，第三过辊6和导电辊2在竖直方向上的设置高度均高于第一过辊12和第二过辊13，在较佳的实施方式中，第三过辊6与多个导电辊2的安装高度相同，这样，导电辊2的包角相同，接触面大小相同，导电能力也相同。另外，在第三过辊6的个数与导电辊2的个数之和为奇数的基础上，导电辊2的数量可以根据实际需要任意设置，例如，如果需要对薄膜基材5的一面进行导电，那么仅需要设置一根导电辊2即可，如果需要对薄膜基材5的两面均进行导电，那么导电辊2的数量需要2个以上。本实用新型实施例中，不仅可以增加薄膜基材5与导电辊2之间的接触面积，在针对需要对薄膜基材5进行双面电镀的情况下，可以对薄膜基材5的双面提供阳极电。

图5是本实用新型实施例的第五种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图，图6是本实用新型实施例的第六种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图。如图5所示，第三过辊6与导电辊2沿第一方向交替设置，第一方向可以是图4中的水平方向，第三过辊6和导电辊2的安装高度均高于第一过辊12和第二过辊13，另外，第三过辊6的安装高度还可以低于导电辊2，这样不仅可以对薄膜基材5进行双面导电，还可以进一步提高薄膜基材5与导电辊2的接触面积。如图6所示，第三过辊6与导电辊2交替设置，第三过辊6的安装高度高于第一过辊12和第二过辊13，第三过辊6的安装高度还可以高于导电辊2，本实用新型实施例中，在提高薄膜基材5与导电辊2的接触面积的同时，还可以对薄膜基材5的两面提供不同的电流量，实现薄膜基材5的双面的镀层厚度不同。

在一些实施例中，在第三过辊6上设置有张力传感器，张力传感器与第三过辊6的驱动电机控制器电连接，用于检测薄膜基材5的张力。本实用新型实施例中，可以在第三过辊6上设置张力传感器，检测薄膜基材的张力，并实现张力控制，避免断膜，解决了现有技术中薄膜水平走膜时，无法在过辊上设置张力传感器，无法测量薄膜基材张力的技术问题。

图7是本实用新型实施例的第七种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图，如图7所示，在一些实施例中，电镀阳极11为钛蓝，电镀阳极11横向设置于电镀槽1中。另外，在需要对薄膜基材5进行双面电镀的情况下，钛蓝的个数为两个，且两个钛蓝上下对称设置。

如图7所示，在一些实施例中，第一过辊12的个数为两个，且两个第一过辊12上下滚动接触；第二过辊13的个数为两个，且两个第二过辊13上下滚动接触。本实用新型实施例中，第一过辊12和第二过辊13不仅可以对薄膜基材5进行导向，还可以对薄膜基材5进行挤压，避免薄膜基材5发生褶皱，也可以起到阻液的作用，避免镀液溢出电镀槽1。

在一些实施例中，导电辊2、第一过辊12、第二过辊13和第三过辊6为主动辊或从动辊。当然，导电辊2、第一过辊12、第二过辊13和第三过辊6优选为主动辊。本实用新型实施例不仅可以避免导电辊2、第一过辊12、第二过辊13和第三过辊6对薄膜基材5产生摩擦，损坏薄膜基材5，还可以给予薄膜基材5前进的动力，提高镀膜效率。

本实用新型实施例的有益效果如下：

本实用新型实施例能够增加薄膜基材5与导电辊2之间的接触面积，不仅可以提高电镀的效率、还可以提高电镀质量；

本实用新型实施例中，不仅可以增加薄膜基材5与导电辊2之间的接触面积，在针对需要对薄膜基材5进行双面电镀的情况下，可以对薄膜基材5的双面提供阳极电；

本实用新型实施例中，在提高薄膜基材5与导电辊2的接触面积的同时，还可以对薄膜基材5的两面提供不同的电流量，实现薄膜基材5的双面的镀层厚度不同；

本实用新型实施例中，第一过辊12和第二过辊13不仅可以对薄膜基材5进行导向，还可以对薄膜基材5进行挤压，避免薄膜基材5发生褶皱，也可以起到阻液的作用，避免镀液溢出电镀槽1；

本实用新型实施例不仅可以避免导电辊2、第一过辊12、第二过辊13和第三过辊6对薄膜基材5产生摩擦，损坏薄膜基材5，还可以给予薄膜基材5前进的动力，提高镀膜效率。

在本实用新型实施例的描述中，需要说明的是，术语中的“上、下、内和外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一、第二或第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

本实用新型实施例中除非另有明确的规定和限定，术语“安装、相连、连接”应做广义理解，例如：可以是固定连接、可拆卸连接或一体式连接；同样可以是机械连接、电连接或直接连接，也可以通过中间媒介间接相连，也可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

虽然已经参考优选实施例对本实用新型进行了描述，但在不脱离本实用新型的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本实用新型并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。

Claims (10)

1.一种用于薄膜基材的水电镀设备，其特征在于，所述水电镀设备包括：

若干电镀槽(1)，所述电镀槽(1)的内部设置有电镀阳极(11)以及分别设置在所述电镀阳极(11)前后两侧的第一过辊(12)和第二过辊(13)，所述电镀阳极(11)横向设置；

一个或多个导电辊(2)，设置在每两个相邻的所述电镀槽(1)之间，薄膜基材(5)从所述导电辊(2)的左侧接触绕过，并从所述导电辊(2)的右侧接触绕出；

放卷装置(3)和收卷装置(4)，分别用于对待电镀的薄膜基材(5)进行放卷以及对电镀后的薄膜基材(5)进行收卷。

2.根据权利要求1所述的一种用于薄膜基材的水电镀设备，其特征在于，所述水电镀设备还包括：

一个或多个第三过辊(6)，设置在每两个相邻的所述电镀槽(1)之间，所述第三过辊(6)的个数与所述导电辊(2)的个数之和为奇数。

3.根据权利要求2所述的一种用于薄膜基材的水电镀设备，其特征在于，所述第三过辊(6)、所述导电辊(2)、所述第一过辊(12)和所述第二过辊(13)均在同一水平线上。

4.根据权利要求2所述的一种用于薄膜基材的水电镀设备，其特征在于，

所述第三过辊(6)设置于所述导电辊(2)的两侧，所述第三过辊(6)和所述导电辊(2)均高于所述第一过辊(12)和所述第二过辊(13)。

5.根据权利要求2所述的一种用于薄膜基材的水电镀设备，其特征在于，

所述第三过辊(6)设置于所述导电辊(2)的任意一侧，所述第三过辊(6)和所述导电辊(2)均高于所述第一过辊(12)和所述第二过辊(13)。

6.根据权利要求2所述的一种用于薄膜基材的水电镀设备，其特征在于，

所述第三过辊(6)与所述导电辊(2)交替设置，所述第三过辊(6)和所述导电辊(2)均高于所述第一过辊(12)和所述第二过辊(13)。

7.根据权利要求4至6任意一项所述的一种用于薄膜基材的水电镀设备，其特征在于，

在所述第三过辊(6)上设置有张力传感器，所述张力传感器与所述第三过辊(6)的驱动电机控制器电连接，用于检测所述薄膜基材(5)的张力。

8.根据权利要求1所述的一种用于薄膜基材的水电镀设备，其特征在于，所述电镀阳极(11)为钛蓝，所述钛蓝的个数为两个，且两个所述钛蓝上下对称设置。

9.根据权利要求1所述的一种用于薄膜基材的水电镀设备，其特征在于，

所述第一过辊(12)的个数为两个，且两个所述第一过辊(12)上下滚动接触；

所述第二过辊(13)的个数为两个，且两个所述第二过辊(13)上下滚动接触。

10.根据权利要求2所述的一种用于薄膜基材的水电镀设备，其特征在于，

所述导电辊(2)、所述第一过辊(12)、所述第二过辊(13)和所述第三过辊(6)均为主动辊或从动辊。

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