JP3073662B2 - めっき装置及びクリーニング装置 - Google Patents
めっき装置及びクリーニング装置Info
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- JP3073662B2 JP3073662B2 JP07053325A JP5332595A JP3073662B2 JP 3073662 B2 JP3073662 B2 JP 3073662B2 JP 07053325 A JP07053325 A JP 07053325A JP 5332595 A JP5332595 A JP 5332595A JP 3073662 B2 JP3073662 B2 JP 3073662B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、液槽内に、内面側
に、ストリップの走行方向に向かって電極側からストリ
ップ側に向かって傾斜するテーパー面を有する絶縁体を
突設したアノード又はカソードを対向配置し、アノード
又はカソード間にストリップを走行させるめっき装置又
はクリーニング装置に関するものである。
に、ストリップの走行方向に向かって電極側からストリ
ップ側に向かって傾斜するテーパー面を有する絶縁体を
突設したアノード又はカソードを対向配置し、アノード
又はカソード間にストリップを走行させるめっき装置又
はクリーニング装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】鋼板等のめっき装置，クリーニング装置
における増産，生産性向上のために、ストリップとアノ
ード又はカソードの極間の短縮，ストリップとアノード
又はカソードの極間内のめっき液又はクリーニング液の
撹拌，ストリップとアノード又はカソードの極間へのイ
オンの供給を目的として、図２（同図（ａ）は電極の一
方を除いた状態での平面図であり、また図を見易くする
ためにストリップの一部が切り欠かれている）に示すよ
うに、本出願人は、対向配置されるアノード又はカソー
ド３１の内面に絶縁体（スタビライザー）３２を突設
し、絶縁体にストリップ３３の走行方向に向かって電極
側からストリップ側に向かって傾斜するテーパー面３１
ａを形成する技術を開発している（特開平３−２０４９
４）。これは、アノード又はカソード３１間の間隔を極
めて狭くすることを可能にするものであり、増産，生産
性向上に極めて大きく寄与するものである。
における増産，生産性向上のために、ストリップとアノ
ード又はカソードの極間の短縮，ストリップとアノード
又はカソードの極間内のめっき液又はクリーニング液の
撹拌，ストリップとアノード又はカソードの極間へのイ
オンの供給を目的として、図２（同図（ａ）は電極の一
方を除いた状態での平面図であり、また図を見易くする
ためにストリップの一部が切り欠かれている）に示すよ
うに、本出願人は、対向配置されるアノード又はカソー
ド３１の内面に絶縁体（スタビライザー）３２を突設
し、絶縁体にストリップ３３の走行方向に向かって電極
側からストリップ側に向かって傾斜するテーパー面３１
ａを形成する技術を開発している（特開平３−２０４９
４）。これは、アノード又はカソード３１間の間隔を極
めて狭くすることを可能にするものであり、増産，生産
性向上に極めて大きく寄与するものである。
【０００３】しかしながら、アノード又はカソード３１
間の間隔を極めて狭くして、運転を行うと、図２に示す
ように、ストリップの下方向への走行に伴う液の連れ込
みにより、極間内の液面が不安定になり、即ち符号ｐ及
び符号ｑで示すように液面が上下し、めっきムラ又はク
リーニングムラを生じてしまう。
間の間隔を極めて狭くして、運転を行うと、図２に示す
ように、ストリップの下方向への走行に伴う液の連れ込
みにより、極間内の液面が不安定になり、即ち符号ｐ及
び符号ｑで示すように液面が上下し、めっきムラ又はク
リーニングムラを生じてしまう。
【０００４】そこで、図３（同図（ａ）は電極の一方を
除いた状態での平面図であり、また図を見易くするため
にストリップの一部が切り欠かれている）に示すよう
に、アノード又はカソードの上部に液吹き込み装置３５
を設けて、これにより極間内に液を吹き込んで、極間内
の液面の不安定を防止している。さらにはクリーニング
装置のようなグリッド通電の場合は液面水位が低くても
電圧ドロップは小さいが、メッキ装置の場合には液面水
位が低くなりコンダクタロールと水位との距離が長くな
ると電圧ドロップが大きくなり、余分な電力が必要とな
るので液面水位を高くするようにさらに多くの液を極間
内に吹き込んでいる。
除いた状態での平面図であり、また図を見易くするため
にストリップの一部が切り欠かれている）に示すよう
に、アノード又はカソードの上部に液吹き込み装置３５
を設けて、これにより極間内に液を吹き込んで、極間内
の液面の不安定を防止している。さらにはクリーニング
装置のようなグリッド通電の場合は液面水位が低くても
電圧ドロップは小さいが、メッキ装置の場合には液面水
位が低くなりコンダクタロールと水位との距離が長くな
ると電圧ドロップが大きくなり、余分な電力が必要とな
るので液面水位を高くするようにさらに多くの液を極間
内に吹き込んでいる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、液吹き込み装
置３５が必要となるが、種々の装置・パイプ等の入り組
んだアノード又はカソードの上部に、更にこの液吹き込
み装置３５を配置することは、めっき装置又はクリーニ
ング装置を極めて複雑化させていた。またスタビライザ
ー３２を設けて極めて狭くすることが可能になったアノ
ード又はカソード３１間に、液を吹き込ませること（図
３）は容易ではなく、これを可能とするためには更に種
々の装置を付加しなければならなかった。従ってこれら
により、めっき装置又はクリーニング装置のコストを増
大させ、またメンテナンスも繁雑になるので、スタビラ
イザー３２を設けてアノード又はカソード３１の間隔を
極めて狭くすることが可能になっためっき装置又はクリ
ーニング装置（特開平３−２０４９４）の大きな普及を
妨げる要因にもなっていた。
置３５が必要となるが、種々の装置・パイプ等の入り組
んだアノード又はカソードの上部に、更にこの液吹き込
み装置３５を配置することは、めっき装置又はクリーニ
ング装置を極めて複雑化させていた。またスタビライザ
ー３２を設けて極めて狭くすることが可能になったアノ
ード又はカソード３１間に、液を吹き込ませること（図
３）は容易ではなく、これを可能とするためには更に種
々の装置を付加しなければならなかった。従ってこれら
により、めっき装置又はクリーニング装置のコストを増
大させ、またメンテナンスも繁雑になるので、スタビラ
イザー３２を設けてアノード又はカソード３１の間隔を
極めて狭くすることが可能になっためっき装置又はクリ
ーニング装置（特開平３−２０４９４）の大きな普及を
妨げる要因にもなっていた。
【０００６】そこで本発明の目的は、液吹き込み装置３
５を設けることなく、簡単な構成により、極間内の液面
の不安定によるめっきムラ又はクリーニングムラの発生
を防止可能なめっき装置又はクリーニング装置を提供す
ることにある。
５を設けることなく、簡単な構成により、極間内の液面
の不安定によるめっきムラ又はクリーニングムラの発生
を防止可能なめっき装置又はクリーニング装置を提供す
ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のめっき装置又はクリーニング装置は、液槽
内に、内面側に、ストリップの走行方向に向かって電極
側からストリップ側に向かって傾斜するテーパー面を有
する絶縁体を突設したアノード又はカソードを対向配置
し、アノード又はカソード間にストリップを走行させる
めっき装置又はクリーニング装置において、アノード又
はカソードの放電面の上端の位置が液槽内の液面より下
側の位置である。
に、本発明のめっき装置又はクリーニング装置は、液槽
内に、内面側に、ストリップの走行方向に向かって電極
側からストリップ側に向かって傾斜するテーパー面を有
する絶縁体を突設したアノード又はカソードを対向配置
し、アノード又はカソード間にストリップを走行させる
めっき装置又はクリーニング装置において、アノード又
はカソードの放電面の上端の位置が液槽内の液面より下
側の位置である。
【０００８】表面を絶縁体で被覆したブスバーが、アノ
ード又はカソードを吊り下げる位置で、下方に液槽内の
液面より下側の位置まで屈曲していることが好ましい。
ード又はカソードを吊り下げる位置で、下方に液槽内の
液面より下側の位置まで屈曲していることが好ましい。
【０００９】
【作用】アノードの放電面より液中にイオンが流れて又
はカソードの放電面にイオンが付着して、めっき又はク
リーニングが行われるが、アノード又はカソードの放電
面の上端の位置が液槽内の液面より下側の位置であるの
で、放電面部分は必ず液中に存在することになり、従っ
てムラのないめっき又はクリーニングを行うことができ
る。
はカソードの放電面にイオンが付着して、めっき又はク
リーニングが行われるが、アノード又はカソードの放電
面の上端の位置が液槽内の液面より下側の位置であるの
で、放電面部分は必ず液中に存在することになり、従っ
てムラのないめっき又はクリーニングを行うことができ
る。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１に基づいて詳
細に説明する。なお、以下、アノード又はカソードを電
極という。なお、図１（ａ）は電極の一方を除いた状態
での平面図であり、また図を見易くするためにストリッ
プの一部が切り欠かれている。図１（ｂ）は側面図であ
る。また図１（ｃ）及び（ｄ）はブスバー及び電極の平
面図及び側面図である。
細に説明する。なお、以下、アノード又はカソードを電
極という。なお、図１（ａ）は電極の一方を除いた状態
での平面図であり、また図を見易くするためにストリッ
プの一部が切り欠かれている。図１（ｂ）は側面図であ
る。また図１（ｃ）及び（ｄ）はブスバー及び電極の平
面図及び側面図である。
【００１１】同図（ａ）（ｂ）において、液槽（図示省
略）内に、めっき液又はクリーニング液４が蓄えられて
おり、電極１が対向配置されている。
略）内に、めっき液又はクリーニング液４が蓄えられて
おり、電極１が対向配置されている。
【００１２】同図（ｃ）（ｄ）に示すように、電極１に
は内面側にスタビライザー２が突設されており、スタビ
ライザー２はストリップの走行方向に向かって電極側か
らストリップ側に向かって傾斜するテーパー面２ａが形
成されている。そして、電極１を吊り下げかつ電流を流
すためのブスバー６は、電極１を吊り下げる位置付近
で、所定の絶縁材料７で表面が絶縁されており、かつ略
Ｕ字形に下方に湾曲されている。そして、この湾曲部８
に電極１が吊り下げられている。なお電極１には絶縁体
による被覆は行われていない。ブスバー６の湾曲部８の
湾曲の深さは、この電極１を吊り下げたブスバー６を液
槽内に吊り下げたときに、電極１の上端即ちブスバー６
の被覆部の最下端位置ｒが、極間内の液面の変動の最下
端位置ｑよりも下側位置となるように、定められてい
る。
は内面側にスタビライザー２が突設されており、スタビ
ライザー２はストリップの走行方向に向かって電極側か
らストリップ側に向かって傾斜するテーパー面２ａが形
成されている。そして、電極１を吊り下げかつ電流を流
すためのブスバー６は、電極１を吊り下げる位置付近
で、所定の絶縁材料７で表面が絶縁されており、かつ略
Ｕ字形に下方に湾曲されている。そして、この湾曲部８
に電極１が吊り下げられている。なお電極１には絶縁体
による被覆は行われていない。ブスバー６の湾曲部８の
湾曲の深さは、この電極１を吊り下げたブスバー６を液
槽内に吊り下げたときに、電極１の上端即ちブスバー６
の被覆部の最下端位置ｒが、極間内の液面の変動の最下
端位置ｑよりも下側位置となるように、定められてい
る。
【００１３】次に、電極１の上方にコンダクタロール
（図示省略）が設けられており、ストリップ３はコンダ
クタロールに接触した後、対向する電極１間内を下方向
へ走行するようになっており、ブスバー６とコンダクタ
ロールとの間に電力が供給される。
（図示省略）が設けられており、ストリップ３はコンダ
クタロールに接触した後、対向する電極１間内を下方向
へ走行するようになっており、ブスバー６とコンダクタ
ロールとの間に電力が供給される。
【００１４】このように構成されており、ストリップを
走行させると、極間が狭いために、液の連れ込みによ
り、極間内の液面が下がり最上端位置ｐ及び最下端位置
ｑの間で変動する。しかしながら、放電面の上端ｒが液
面変動の最下端位置ｑよりも下側位置にあるので、放電
面は全て必ず液中に存在し、従ってムラのないめっき又
はクリーニングが行われる。
走行させると、極間が狭いために、液の連れ込みによ
り、極間内の液面が下がり最上端位置ｐ及び最下端位置
ｑの間で変動する。しかしながら、放電面の上端ｒが液
面変動の最下端位置ｑよりも下側位置にあるので、放電
面は全て必ず液中に存在し、従ってムラのないめっき又
はクリーニングが行われる。
【００１５】なお、本実施例において、表面を絶縁した
ブスバー６を液面より下側まで湾曲してその下側に電極
を吊り下げることとしたので、めっき液面より上の部分
でストリップが電極に接触しすりきず等が発生すること
を防ぐことができる。さらには、湾曲したことによりコ
ンダクタロールと液の水位を近づけることができ電圧ド
ロップを減らすことができ電力低減も可能となる。
ブスバー６を液面より下側まで湾曲してその下側に電極
を吊り下げることとしたので、めっき液面より上の部分
でストリップが電極に接触しすりきず等が発生すること
を防ぐことができる。さらには、湾曲したことによりコ
ンダクタロールと液の水位を近づけることができ電圧ド
ロップを減らすことができ電力低減も可能となる。
【００１６】
【発明の効果】本発明は以上のように構成して液面の変
動にかかわらずムラのないめっき又はクリーニングを行
うこととしたので、装置構成が極めて簡単であり、従っ
て低コストで本発明の実施を極めて容易に行うことがで
き、またメンテナンスも極めて容易であり、従って、ス
トリップの走行方向に向かって電極側からストリップ側
に向かって傾斜するテーパー面を有する絶縁体を突設し
たアノード又はカソードを対向配置してなるめっき装置
及びクリーニング装置の普及を大きく図ることが可能に
なる。
動にかかわらずムラのないめっき又はクリーニングを行
うこととしたので、装置構成が極めて簡単であり、従っ
て低コストで本発明の実施を極めて容易に行うことがで
き、またメンテナンスも極めて容易であり、従って、ス
トリップの走行方向に向かって電極側からストリップ側
に向かって傾斜するテーパー面を有する絶縁体を突設し
たアノード又はカソードを対向配置してなるめっき装置
及びクリーニング装置の普及を大きく図ることが可能に
なる。
【図１】同図（ａ）は本発明の一実施例の平面説明図，
同図（ｂ）は同側面説明図，同図（ｃ）、（ｄ）はそれ
ぞれブスバー及び電極の平面図、側面図である。
同図（ｂ）は同側面説明図，同図（ｃ）、（ｄ）はそれ
ぞれブスバー及び電極の平面図、側面図である。
【図２】同図（ａ）はテーパー面３２ａを有するスタビ
ライザー３２を設けて極間を狭くすることを可能にした
めっき装置又はクリーニング装置の液連れ込みの平面説
明図，同図（ｂ）は同側面説明図である。
ライザー３２を設けて極間を狭くすることを可能にした
めっき装置又はクリーニング装置の液連れ込みの平面説
明図，同図（ｂ）は同側面説明図である。
【図３】同図（ａ）は液連れ込みを防止するための液吹
き込み装置３５を設けた従来のめっき装置又はクリーニ
ング装置の平面説明図，同図（ｂ）は同側面説明図であ
る。
き込み装置３５を設けた従来のめっき装置又はクリーニ
ング装置の平面説明図，同図（ｂ）は同側面説明図であ
る。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C25D 1/00 - 7/12
Claims (2)
- 【請求項１】 液槽内に、内面側に、ストリップの走行
方向に向かって電極側からストリップ側に向かって傾斜
するテーパー面を有する絶縁体を突設したアノード又は
カソードを対向配置し、上記アノード又はカソード間に
ストリップを走行させるめっき装置又はクリーニング装
置において、上記アノード又はカソードの放電面の上端
の位置が上記液槽内の液面より下側の位置であることを
特徴とするめっき装置及びクリーニング装置。 - 【請求項２】 請求項１において、表面を絶縁体で被覆
したブスバーが、上記アノード又はカソードを吊り下げ
る位置で、下方に上記液槽内の液面より下側の位置まで
屈曲していることを特徴とするめっき装置及びクリーニ
ング装置。
Priority Applications (16)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07053325A JP3073662B2 (ja) | 1995-02-17 | 1995-02-17 | めっき装置及びクリーニング装置 |
| KR1019960706130A KR100297274B1 (ko) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | 스트립처리장치 |
| EP95918766A EP0765953B1 (en) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | Strip treating apparatus |
| AU24557/95A AU697938B2 (en) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | Apparatus for treating strip |
| CA002191225A CA2191225C (en) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | Strip treating apparatus |
| DE69528458T DE69528458T2 (de) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | Bandbehandlungsvorrichtung |
| CN95193196A CN1122121C (zh) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | 带材处理装置 |
| DE69532422T DE69532422T2 (de) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | Bandbehandlungsvorrichtung |
| CNB031220754A CN1276132C (zh) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | 带材处理装置 |
| ES99202743T ES2214810T3 (es) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | Aparato para tratamiento de una tira. |
| EP99202742A EP1029950B1 (en) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | Strip treating apparatus |
| US08/737,489 US5837109A (en) | 1994-06-14 | 1995-05-22 | Apparatus for treating a strip |
| PCT/JP1995/000982 WO1995032322A1 (fr) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | Appareil pour le traitement d'une bande |
| EP99202743A EP1029951B1 (en) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | Strip treating apparatus |
| ES99202742T ES2210968T3 (es) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | Aparato para tratamiento de bandas. |
| DE69532421T DE69532421T2 (de) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | Bandbehandlungsvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07053325A JP3073662B2 (ja) | 1995-02-17 | 1995-02-17 | めっき装置及びクリーニング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08225990A JPH08225990A (ja) | 1996-09-03 |
| JP3073662B2 true JP3073662B2 (ja) | 2000-08-07 |
Family
ID=12939579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07053325A Expired - Fee Related JP3073662B2 (ja) | 1994-05-24 | 1995-02-17 | めっき装置及びクリーニング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3073662B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102305025B1 (ko) * | 2019-11-18 | 2021-09-23 | 최윤석 | 전해 세척기 |
| KR102305026B1 (ko) * | 2019-11-18 | 2021-09-23 | 최윤석 | 전해 세척기 |
-
1995
- 1995-02-17 JP JP07053325A patent/JP3073662B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08225990A (ja) | 1996-09-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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