TWI791067B - 複合相位差板、光學積層體，以及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種複合相位差板，其於有被搬運、捲繞等的步驟中，即使因為與輥狀構件接觸、或因配置在具有彎曲部之圖像顯示裝置面板的表面等，而使複合相位差板折彎之際，彎曲部之皺褶的產生亦會受到抑制。
本發明之複合相位差板，包含第1相位差層、第2相位差層、及接著第1相位差層與第2相位差層的第1接著層，其中，每單位膜厚之穿刺斜率為6kg/mm2至15kg/mm2。

Description

複合相位差板、光學積層體，以及圖像顯示裝置
本發明係關於一種複合相位差板、含有該複合相位差板之光學積層體，以及具備該光學積層體的圖像顯示裝置。
以往，於圖像顯示裝置中係採用於圖像顯示面板之視覺辨認側配置具有抗反射性能的光學積層體，以抑制因外來光反射所造成之視覺辨認性降低的方法。
具有抗反射性能的光學積層體已知有以偏光板及相位差層所構成之光學積層體。具有抗反射性能的光學積層體係藉由偏光板將朝向圖像顯示面板的外來光轉換成直線偏光，接著藉由相位差層轉換成圓偏光。為圓偏光的外來光雖然會在圖像顯示面板表面反射，但於該反射時偏光面的旋轉方向會逆轉，藉由相位差層轉換成直線偏光後，接著由偏光板而遮光。其結果，可顯著抑制光朝外部射出。
作為具有抗反射性能之光學積層體之構成要素的相位差板，已知有將複數之相位差層以接著層接著而成的複合相位差板。例如，於專利文獻1、2中，記載有將1/2波長層與1/4波長層以接著層接著而成 的複合相位差板。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2015-21975號公報
專利文獻2：日本特開2015-21976號公報
當複合相位差板在單獨，或以含有該複合相位差板之光學積層體的形態，於有被搬運、捲繞等的步驟中，由於會與輥狀構件接觸，或者因配置在具有彎曲部的圖像顯示面板表面等，使複合相位差板折彎之際，於彎曲部會有產生皺褶、品質不佳等可能性。特別是，當以薄膜形成複合相位差板時，發生情形顯著。
本發明之目的在於提供一種複合相位差板、含有該複合相位差板之光學積層體，以及具備該光學積層體的圖像顯示裝置，該複合相位差板於有被搬運、捲繞等的步驟中，即使因為與輥狀構件接觸、或因配置在具有彎曲部之圖像顯示面板的表面等，而使複合相位差板折彎之際，於彎曲部之皺褶的產生亦會受到抑制。
本發明係提供下列所示之複合相位差板、光學積層體，以及圖像顯示裝置。
[1]一種複合相位差板，包含第1相位差層、第2相位差層、及接著第1相位差層與第2相位差層的第1接著層，其中，每單位膜厚之穿刺斜率為6kg/mm2至15kg/mm2。
[2]如[1]所記載之複合相位差板，其中，第1接著層係活性能量線硬化型接著劑的硬化物層。
[3]如[1]或[2]所記載之複合相位差板，其中，第1相位差層為1/2波長層，第2相位差層為1/4波長層。
[4]如[1]或[2]所記載之複合相位差板，其中，第1相位差層為1/2波長層或1/4波長層，第2相位差層為光學補償層。
[5]如[1]至[4]中任一項所記載之複合相位差板，其中，第1相位差層及第2相位差層之至少一者包含屬於液晶層之相位差展現層。
[6]如[1]至[5]中任一項所記載之複合相位差板，厚度為2μm至50μm。
[7]一種光學積層體，包含偏光板與積層於前述偏光板之[1]至[6]中任一項所記載之複合相位差板，其中，前述複合相位差板係以第1相位差層位於前述偏光板側的面向來積層。
[8]如[7]所記載之光學積層體，其係圓偏光板。
[9]如[7]或[8]所記載之光學積層體，進一步含有接著前述偏光板與前述複合相位差板的第2接著層。
[10]如[9]所記載之光學積層體，其中，第2接著層係活性能量線硬化型接著劑的硬化物層。
[11]一種圖像顯示裝置，其係包含圖像顯示面板，以及配置於前述圖 像顯示面板之視覺辨認側之[7]至[10]中任一項所記載之光學積層體。
[12]如[11]所記載之圖像顯示裝置，其中，前述光學積層體係以前述偏光板位於視覺辨認側的面向來配置。
[13]如[12]所記載之圖像顯示裝置，其係有機電致發光顯示裝置。
藉由本發明之複合相位差板，於有被搬運、捲繞等的步驟中，即使因為與輥狀構件接觸、或因配置在具有彎曲部之圖像顯示裝置面板的表面等，而使複合相位差板折彎時，彎曲部之皺褶的產生亦會受到抑制。
1‧‧‧第1相位差層
2‧‧‧第2相位差層
4‧‧‧第1接著層
5‧‧‧複合相位差板
10‧‧‧第1相位差層
11‧‧‧第1基材層
12‧‧‧第1配向層
13‧‧‧第1相位差展現層
20‧‧‧第2相位差層
21‧‧‧第2基材層
22‧‧‧第2配向層
23‧‧‧第2相位差展現層
30‧‧‧相位差層
31‧‧‧基材層
32‧‧‧配向層
33‧‧‧相位差展現層
40‧‧‧第1接著層
50‧‧‧積層體(複合相位差板)
第1圖係示意顯示本發明之複合相位差板之一例的概略剖面圖。
第2圖係示意顯示具備液晶層作為相位差展現層之相位差層之一例的概略剖面圖。
第3圖(A)至(C)係示意顯示本發明之複合相位差板之製造方法中各製造步驟之一例的概略剖面圖。
以下，參照圖式說明本發明之複合相位差板及光學積層體。
[複合相位差板]
第1圖係示意顯示本發明之複合相位差板之一例的概略剖面圖。如第 1圖所示，複合相位差板5包含：第1相位差層1、第2相位差層2，以及接著第1相位差層1與第2相位差層2的第1接著層4。複合相位差板5的每單位膜厚之穿刺斜率為6kg/mm2至15kg/mm2，較佳為6kg/mm2至12kg/mm2，更佳為6.5kg/mm2至10kg/mm2，又更佳為7kg/mm2至10kg/mm2、特佳為8kg/mm2至10kg/mm2。藉由使每單位膜厚之穿刺斜率為6kg/mm2以上，即使於複合相位差板5或含有複合相位差板5之光學積層體折彎之際，亦可抑制皺摺的產生。又，若使複合相位差板5之每單位膜厚之穿刺斜率超過15kg/mm2，則於裁切等加工時，於複合相位差板5、或含有複合相位差板5之光學積層體的端部，容易產生細微的裂縫。
複合相位差板之穿刺斜率係表示以穿刺輔助對複合相位差板垂直地穿刺，在複合相位差板裂開時的強度。穿刺斜率可由穿刺強度計算出，穿刺強度例如可使用小型桌上試驗機[股份有限公司島津製作所之商品名“EZ Test”]進行測定。
穿刺強度之測定係於兩片開有可使穿刺輔助通過之直徑15mm以下之圓形孔洞的樣品台之間，夾著複合相位差板來進行。穿刺輔助為圓柱狀之棒，較佳為於與該複合相位差板相接的前端具備有球形或半球形的穿刺針。前端之球形部或半球形部之直徑較佳為0.5mm
Figure 107139502-A0202-12-0005-13
以上，5mm
Figure 107139502-A0202-12-0005-14
以下。又，其曲率半徑較佳為大於0R，小於0.7R。穿刺輔助的穿刺速度，較佳為0.05cm/秒以上，0.5cm/秒以下。
穿刺強度之測定係將該試驗片固定於輔具，從複合相位差板之主面的法線方向穿刺，測定當有一部位裂開時之強度。使用所得之穿刺強度A(kg)、裂開為止之穿刺深度B(mm)、與複合相位差板厚度d(mm)， 由下述式：E=A/(B×d)
計算出每單位膜厚之穿刺斜率E(kg/mm2)。另外，將採用相同條件製作之5個以上之複合相位差板的穿刺斜率E之平均值作為複合相位差板之穿刺斜率。
在複合相位差板5中，例如，於進行有被搬運、捲繞等的步驟中，即使因為複合相位差板5或包含複合相位差板5之光學積層體，與搬運輥或捲繞輥等輥狀構件接觸，或因配置在具有彎曲部之圖像顯示面板表面等，而使複合相位差板折彎之際，若藉由本發明之複合相位差板5，則亦可抑制於第1相位差層1及/或第2相位差層2產生皺摺。
複合相位差板5之厚度，由薄型化的觀點，較佳為1μm至100μm，更佳為1μm至50μm，又更佳為2μm至50μm。
<第1相位差層及第2相位差層>
第1相位差層1及第2相位差層2中，只要至少含有一個可對光賦予既定之相位差者即可，並無特別限定，例如，可為1/2波長層、1/4波長層、正C板(+C plate)等光學補償層，亦可為逆波長分散性的相位差層。特別是，當為逆波長分散性的相位差層時，由於在任一波長中皆可抑制光的穿透，故可有效地作為具有抗反射性能的光學積層體。第1相位差層1及第2相位差層2中，只要至少含有一個相位差展現層即可，可為僅由相位差展現層所構成者，亦可為與相位差展現層同時含有其他層者。其他層可舉例如基材層、配向膜層、保護層等。又，其他層不會對相位差之值造成影響。
相位差展現層可舉例如使用液晶化合物所形成之層(以下，稱為「液晶層」)或拉伸薄膜。第1相位差層1及第2相位差層2由複合相位差板之薄型化的觀點，較佳為至少一者之相位差展現層為液晶層，更佳為兩者皆為液晶層。為液晶層的相位差展現層，相較於拉伸薄膜的相位差展現層，一般而言更容易薄膜化。第1相位差層1及第2相位差層2之厚度較佳為分別為0.5μm至10μm，更佳為0.5μm至5μm。當第1相位差層1及第2相位差層2分別含有相位差展現層以外之其他層(基材層、配向膜層、保護層等)時，整體厚度較佳為0.5μm至300μm，更佳為0.5μm至150μm。
第1相位差層1及第2相位差層2的厚度愈薄，當複合相位差板折彎時，於複合相位差板的彎曲部愈容易於第1相位差層1及第2相位差層2產生皺摺，但若藉由本發明之複合相位差板，即使第1相位差層1及第2相位差層2薄至上述之5μm以下，亦可抑制皺摺的產生。
本發明之複合相位差板中之第1相位差層1及第2相位差層2的組合，可舉例如：i)1/2波長層與1/4波長層的組合，ii)1/2波長層與光學補償層的組合，iii)1/4波長層與光學補償層的組合，iv)逆分散性1/4波長層與光學補償層的組合等。
1/2波長層係在入射光之電場振動方向(偏光面)賦予π(=λ/2)之相位差者，具有改變直線偏光之方向(偏光方位)的功能。又，若入射圓偏光的光，則可使圓偏光的旋轉方向反轉。
1/2波長層係於特定波長λnm中之平面內延遲值Re(λ)滿足Re(λ)=λ/2的層。只要於可見光區域之任一波長達成Re(λ)=λ/2即可，但其中，較佳為於波長550nm達成。在波長550nm之平面內延遲值Re(550)較佳為滿足210nm≦Re(550)≦300nm。又，更佳為滿足220nm≦Re(550)≦290nm。
於波長550nm所測定之1/2波長層之厚度方向之延遲值Rth(550)，較佳為-150至150nm，更佳為-100至100nm。
1/4波長層係在入射光之電場振動方向(偏光面)賦予π/2(=λ/4)之相位差者，具有將某個特定波長之直線偏光轉換成圓偏光(或將圓偏光轉換成直線偏光)的功能。
1/4波長層係於特定波長λnm中之平面內延遲值Re(λ)滿足Re(λ)=λ/4的層，只要於可見光區域之任一波長達成即可，但較佳為於波長550nm達成。在波長550nm之平面內延遲值Re(550)，較佳為滿足100nm≦Re(550)≦160nm。又，更佳為滿足110nm≦Re(550)≦150nm。
於波長550nm所測定之λ/4波長層之厚度方向之延遲值Rth(550)，較佳為-120至120nm，更佳為-80至80nm。
光學補償層可舉例如正A板(+A plate)、正C板等。正A板係當其面內之慢軸方向之折射率為Nx，其面內之快軸方向之折射率為Ny，其厚度方向之折射率為Nz時，滿足Nx>Ny的關係者。正A板較佳為滿足Nx>Ny≧Nz的關係。又，正A板亦可作為1/4波長層的功能。正C板係滿足Nz>Nx≧Ny的關係。
逆波長分散性係指於短波長之液晶配向面內相位差值較長 波長下之液晶配向面內相位差值小的光學特性，較佳為滿足下述式(a)者：Re(450)≦Re(550)≦Re(650) (a)
又，Re(λ)係表示對於波長λnm之光的面內相位差值。
相位差層之光學特性可藉由構成相位差展現層之液晶化合物的配向狀態或構成相位差展現層之拉伸膜的拉伸方法來調節。藉由適當地調節相位差層的光學特性，積層複合相位差板5與偏光板，可製得具有抗反射性能的光學積層體。本說明書所謂之光學積層體係積層偏光板與複合相位差板5所成者，複合相位差板5係以第1相位差層1位於偏光板側的面向來積層者。即使使用相同的複合相位差板5，若複合相位差板5之積層的面向相反，則通常光學積層體的光學特性會不同。
(由液晶層所形成之相位差展現層)
以下說明相位差展現層為液晶層的情形。第2圖係示意顯示含有屬於液晶層之相位差展現層與其他層之相位差層之一例的概略剖面圖。如第2圖所示，相位差層30係依序積層有基材層31、配向層32、屬於液晶層之相位差展現層33所成。相位差層只要為含有屬於液晶層之相位差展現層33的構成即可，並不限定於第2圖所示之相位差層30，可為由相位差板30剝離基材層31之僅由配向層32與相位差展現層33所構成，亦可僅由從相位差板30剝離基材層31與配向層32之屬於液晶層之相位差展現層33所構成。由薄膜化的觀點，相位差層較佳為剝離有基材層31的構成，更佳為僅由屬於液晶層之相位差展現層33所構成。基材層31具有支持層的功能，其係支持形成於基材層31上之配向層32及屬於液晶層之相位差展現層33。基材層31較佳為以樹脂材料所形成的薄膜。
樹脂材料例如可使用透明性、機械強度、熱安定性、拉伸性等優異的樹脂材料。具體而言，可舉例如聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹脂；降莰烯系聚合物等環狀聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系樹脂；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素及纖維素乙酸酯丙酸酯等纖維素酯系樹脂；聚乙烯醇及聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚丙烯酸酯系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚醚酮系樹脂；聚伸苯硫醚系樹脂；聚伸苯醚系樹脂、及該等之混合物、共聚物等。該等樹脂之中，較佳為使用環狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂之任一者或該等之混合物。又，上述「(甲基)丙烯酸」係指「丙烯酸及甲基丙烯酸之至少一種」。
基材層31可為上述樹脂之一種或混合兩種以上的單層，亦可為兩層以上之多層構造。當具有多層構造時，構成各層之樹脂可為相同或相異。
構成樹脂膜之樹脂材料亦可添加任意的添加劑。添加劑可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、抗著色劑、難燃劑、核劑、抗靜電劑、顏料、及著色劑等。
基材層31之厚度並無特別限定，但一般由強度或操作性等作業性的觀點考量，較佳為5至200μm，更佳為10至200μm，又更佳為10至150μm。
為了讓基材層31與配向層32的密合性提升，可至少對基材 層31之形成有配向層32側的表面進行電漿處理、火焰處理等，亦可形成底漆層。又，剝離基材層31、或剝離基材層31及配向層32以作成相位差層時，可藉由調整剝離界面的密合力來容易地剝離。
配向層32具有使形成於該等配向層32上之屬於液晶層之相位差展現層33所含之液晶化合物，朝所欲方向液晶配向的配向控制力。配向層32可舉例如以配向聚合物形成之配向性聚合物層、以光配向聚合物形成之光配向性聚合物層、於層表面具有凹凸圖案或複數之溝槽(溝)的溝槽配向層。配向層32之厚度通常為0.01至10μm，較佳為0.01至5μm。
配向性聚合物層可藉由將配向性聚合物溶解於溶劑之組成物，塗布於基材層31以除去溶劑，視需要進行摩擦處理以形成。於該情況，配向控制力可在以配向性聚合物所形成之配向性聚合物層中，藉由配向性聚合物的表面狀態或摩擦條件來任意地調整。
光配向性聚合物層可將含有具光反應性基之聚合物或單體與溶劑的組成物塗布於基材層31，藉由照射偏光來形成。於該情況，配向控制力可在光配向性聚合物層中，藉由對光配向性聚合物之偏光照射條件等來任意地調整。
溝槽配向層例如可藉由下述方法形成：於感光性聚醯亞胺膜表面，透過具有圖案形狀之狹縫的曝光用光罩，進行曝光、顯像等以形成凹凸圖案的方法；於表面具有溝槽的原盤，形成活性能量線硬化樹脂之未硬化之層的方法，將該層轉印至基材層31以進行硬化的方法；於基材層31形成活性能量線硬化性樹脂之未硬化的層，對該層藉由擠壓具有凹凸的滾筒狀圓盤等形成凹凸並使其硬化的方法。
屬於液晶層之相位差展現層33只要可對光賦予既定之相位差者即可，並無特別限定，可舉例如，具有作為1/2波長層用之相位差展現層、1/4波長層用之相位差展現層、正C板等光學補償層用之相位差展現層、逆波長分散性1/4波長層用之相位差展現層之功能者。
屬於液晶層之相位差展現層33可使用周知之液晶化合物形成。液晶化合物的種類並無特別限定，可使用棒狀液晶化合物、碟狀液晶化合物、及該等之混合物。又，液晶化合物可為高分子液晶化合物、可為聚合性液晶化合物、亦可為該等之混合物。液晶化合物可舉例如日本特表平11-513019號公報、日本特開2005-289980號公報、日本特開2007-108732號公報、日本特開2010-244038號公報、日本特開2010-31223號公報、日本特開2010-270108號公報、日本特開2011-6360號公報、日本特開2011-207765號公報、日本特開2016-81035號公報、國際公開第2017/043438號及日本特表2011-207765號公報所記載之液晶化合物。
例如，當使用聚合性液晶化合物時，藉由將含有聚合性液晶化合物的組成物，塗布於配向層32上形成塗膜，並使該塗膜硬化，可形成相位差展現層33。相位差展現層33之厚度較佳為0.5μm至10μm，更佳為0.5至5μm。
含有聚合性液晶化合物的組成物，除液晶化合物以外，亦可含有聚合起始劑、聚合性單體、界面活性劑、有溶劑、密合改良劑、塑化劑、配向劑等。含有聚合性液晶化合物之組成物的塗布方法可舉例如模頭塗布法等周知之方法。含有聚合性化合物之組成物的硬化方法可舉例如照射活性能 量線(例如紫外線)等周知之方法。
(具備拉伸膜作為相位差展現層的相位差板)
以下說明相位差展現層為拉伸膜的情形。拉伸膜通常係藉由拉伸基材而得。拉伸基材的方法，例如，準備基材捲繞於滾筒的輥(捲繞體)，從該捲繞體連續地捲出基材，將捲出之基材搬運至加熱爐。加熱爐的設定溫度，為基材之玻璃轉移溫度附近(℃)~[玻璃轉移溫度+100](℃)的範圍，較佳為，玻璃轉移溫度附近(℃)~[玻璃轉移溫度+50](℃)的範圍。於該加熱爐中，當朝基材之進行方向或朝垂直於進行方向的方向拉伸時，調整搬運方向或張力以朝任意角度傾斜，來進行單軸或雙軸之熱拉伸處理。拉伸之倍率通常為1.1至6倍，較佳為1.1至3.5倍。
又，朝斜向拉伸的方法，只要能連續地使配向軸傾斜成所欲角度者即可，並無特別限定，可使用周知之拉伸方法。如此之拉伸方法可舉例如於日本特開昭50-84382號公報或特開平2-113920號公報所記載的方法。藉由拉伸賦予薄膜相位差性時，拉伸後之厚度係視拉伸前之厚度及拉伸倍率而決定。
前述基材通常為透明基材。所謂透明基材係指具有光，特別是可見光能穿透之透明性的基材，所謂的透明性係指對於波長380至780nm之光線穿透率為80%以上的特性。具體的透明基材可舉例如透光性樹脂基材。構成透光性樹脂基材的樹脂可舉例如聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴；降莰烯系聚合物等環狀聚烯烴系樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙酸纖維素；二乙酸纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯等纖維素酯；聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸； 聚醚酮；聚苯硫醚及聚苯醚。由容易取得及透明性的觀點，較佳為聚對苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸酯、纖維素酯、環狀烯烴系樹脂或聚碳酸酯。
纖維素酯係纖維素所含之羥基的一部份或全部經酯化者，可容易地由市場取得。又，纖維素酯基材亦容易地由市場取得。市售之纖維素酯基材可舉例如，“Fujitac(註冊商標)膜”(富士軟片)；“KC8UX2M”、“KC8UY”及“KC4UY”(柯尼卡美達能股份有限公司)等。
聚甲基丙烯酸酯及聚丙烯酸酯(以下，亦將為聚甲基丙烯酸酯及聚丙烯酸酯統稱為(甲基)丙烯酸系樹脂)可容易地由市場取得。
(甲基)丙烯酸系樹脂可舉例如甲基丙烯酸烷基酯或丙烯酸烷基酯的均聚物、甲基丙烯酸烷基酯或丙烯酸烷基酯的共聚物等。各別上，甲基丙烯酸烷基酯具體可舉例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯等，又，丙烯酸烷基酯具體可舉例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯等。該(甲基)丙烯酸系樹脂可使用市售之泛用的(甲基)丙烯酸系樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂亦可使用被稱為耐衝擊(甲基)丙烯酸系樹脂者。
為了進一步提升機械強度，使(甲基)丙烯酸系樹脂含有橡膠粒子亦較佳。橡膠粒子較佳為丙烯酸系者。此處，丙烯酸系橡膠粒子係使以丙烯酸丁酯或丙烯酸2-乙基己酯等以丙烯酸烷基酯為主成分的丙烯酸系單體，於多官能基單體的存在下，進行聚合所得之具有橡膠彈性的粒子。丙烯酸橡膠粒子可為如此之具有橡膠彈性的粒子以單層所形成者，亦可為至少具有一層橡膠彈性層的多層構造體。多層構造之丙烯酸系橡膠粒子可舉例如：以上述之具有橡膠彈性的粒子為核，於其周圍以硬質之甲基丙烯酸烷基酯系聚合物包覆者；以硬質之甲基丙烯酸烷基酯系聚合物為核，其 周圍以上述之具有橡膠彈性的丙烯酸系聚合物包覆者；或以橡膠彈性之丙烯酸系聚合物包覆硬質之核的周圍，在將其周圍以硬質之甲基丙烯酸烷基酯系聚合物包覆者等。以彈性層所形成的粒子，其平均直徑通常為50至400nm左右的範圍。
(甲基)丙烯酸系樹脂中之橡膠粒子的含量，於每(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，通常為5至50質量份左右。(甲基)丙烯酸系樹脂及丙烯酸系橡膠粒子係以將該等混合的狀態販售，故可使用該市售品。調配有丙烯酸系橡膠粒子之(甲基)丙烯酸系樹脂的市售品之例，有住友化學股份有限公司所販賣之“HT55X”及“TECHNOLLOY S001”等。“TECHNOLLOY S001”係以薄膜的形式販售。
環狀烯烴系樹脂，可容易地由市場取得。市售之環狀烯烴系樹脂可舉例如“Topas”(註冊商標)[Ticona公司(獨)]、“ARTON”(註冊商標)[JSR股份有限公司]、“ZEONOR”(註冊商標)[日本ZEON股份有限公司]、“ZEONEX”(註冊商標)[日本ZEON股份有限公司]及“Apel”(註冊商標)[三井化學股份有限公司]。可將如此之環狀烯烴系樹脂，例如藉由溶劑澆鑄法、熔融擠製法等周知之手段製膜來作為基材。又，亦可使用市售之環狀烯烴系樹脂基材。市售之環狀烯烴系樹脂基材可舉例如“ESSINA”(註冊商標)[積水化學工業股份有限公司]、“SCA40”(註冊商標)[積水化學工業股份有限公司]、“ZEONOR FILM”(註冊商標)[OPTES股份有限公司]及“ARTONFILM”(註冊商標)[JSR股份有限公司]。
當環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴、與鏈狀烯烴或具有乙烯基之芳香族化合物的共聚物時，來自環狀烯烴之構造單元的含有比例，相對於 共聚物之總構造單元，通常為50莫耳%以下，較佳為15至50莫耳%的範圍。鏈狀烯烴可舉例如乙烯及丙烯，具有乙烯基之芳香族化合物可舉例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯及烷基取代苯乙烯。當環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴、鏈狀烯烴、與具有乙烯基之芳香族化合物的三元共聚物時，來自鏈狀烯烴之構造單元的含有比例，相對於共聚物之總構造單元，通常為5至80莫耳%，來自具有乙烯基之芳香族化合物之構造單元的含有比例，相對於共聚物之總構造單元，通常為5至80莫耳%。如此之三元共聚物，於製造中，可使用較少之高價環狀烯烴的使用量，為其優點。
<第1接著層>
第1接著層4只要可使複合相位差板5達成每單位膜厚之穿刺斜率為6kg/mm2至15kg/mm2者即可，並無特別限定，例如，可由黏著劑、水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑及該等之組合所形成。其中，第1接著層4藉由為活性能量線硬化型接著劑的硬化物層，可容易得到穿刺斜率為6kg/mm2至15kg/mm2的複合相位差板5。第1接著層4，厚度較佳為0.1μm至50μm，更佳為0.1μm至10μm，又更佳為0.5μm至5μm。本說明書中，所謂「第1接著層」的用語，不僅為由接著劑所構成之接著層，亦包含黏著劑所構成的黏著層。
黏著劑一般較佳為使用含有玻璃轉移溫度Tg為0℃以下之丙烯酸系樹脂、與交聯劑的丙烯酸系黏著劑，該丙烯酸系樹脂係將以(甲基)丙烯酸酯為主成分，含有少量具有官能基之(甲基)丙烯酸單體之丙烯酸系聚合物混合物，於聚合起始劑的存在下進行自由基聚合所得者。
構成丙烯酸系黏著劑的丙烯酸系樹脂，以凝膠滲透層析法 (GPC)所得之標準苯乙烯換算的重量平均分子量Mw，較佳為100萬至200萬的範圍。該量平均分子量若為100萬以上，則高溫高濕下的接著性會提升，於構成液晶單元之玻璃基板與黏著劑層之間，產生浮起或剝離之可能性有減小的傾向，並且重工性有提升的傾向，故較佳。又，丙烯酸系樹脂之上述重量平均分子量若為200萬以下，則即使偏光板的尺寸產生變化，黏著劑層會追循其尺寸變化而改變，而有能抑制顯示器的漏光或色偏差的傾向，故較佳。再者，以重量平均分子量Mw與數量平均分子量Mn的比Mw/Mn所表示的分子量分布，較佳為3至7的範圍。
丙烯酸系黏著劑所含有之丙烯酸系樹脂，可僅由上述之較高分子量者所構成，亦可由其與不同丙烯酸系樹脂的混合物所構成。可混合使用之丙烯酸樹脂之例可舉例如，以上述式(I)所示之來自(甲基)丙烯酸酯之構成單位為主成分，重量平均分子量為5萬至30萬之範圍者。
於如此所得之丙烯酸系樹脂，調配交聯劑以作為黏著劑。交聯劑係於分子內至少具有2個可與來自具有丙烯酸系樹脂中之極性官能基之單體的構造單元進行交聯反應之官能基的化合物，例如，異氰酸酯系化合物、環氧化合物、金屬螯合物系化合物、氮丙啶系化合物等。
於本光學膜上形成黏著劑層的方法可舉例如下述方法：使用剝離膜作為基材，塗布上述之黏著劑組成物以形成黏著劑層，將所得之黏著劑層移設至本光學膜表面的方法；將上述之黏著劑層直接塗布於本光學膜表面上，以形成黏著劑層的方法。又，於一片剝離膜上形成黏著劑層後，亦可再於該黏著劑層之上貼合其他的剝離膜，作成兩面隔離膜型黏著劑片。如此之兩面隔離膜型黏著劑片，於必要之時期可將單側之剝離膜剝下， 貼合至本光學膜上。兩面隔離膜型黏著劑片之市售品，例如有Lintec股份有限公司或日東電工股份有限公司所販售之無載體黏著劑膜或無載體黏著劑片。
水系接著劑例如係使用聚乙烯醇系樹脂或胺酯樹脂作為主成分，為了提升接著性，一般係作成調配有異氰酸酯化合物或環氧化合物等交聯劑或硬化性化合物的組成物。
當使用聚乙烯醇系樹脂作為水系接著劑的主成分時，除部分皂化聚乙烯醇及完全皂化聚乙烯醇之外，亦可使用羧基改質聚乙烯醇、乙醯乙醯基改質聚乙烯醇、羥甲基改質聚乙烯醇、及胺基改質聚乙烯醇等經改質的聚乙烯醇樹脂。將如此之聚乙烯醇系樹脂的水溶液作為水系接著劑使用，而水系接著劑中之聚乙烯醇樹脂的濃度相對於水100質量份，通常為1至10質量份，較佳為1至5質量份。
於聚乙烯醇系樹脂之水溶液所構成之水系接著劑如上述為了提升接著性，可調配多元醛、水溶性環氧樹脂、三聚氰胺系化合物、氧化鋯系化合物、及鋅化合物等之硬化性化合物。水溶性環氧樹脂之例可舉例如，於二伸乙三胺或三伸乙四胺等聚伸烷聚胺與己二酸等二碳酸反應所得的聚醯胺聚胺，使環氧氯丙烷反應所得之水溶性的聚醯胺環氧樹脂。如此之聚醯胺環氧樹脂之市售品，有住化Chemtex股份有限公司所販售之“Sumirez Resin650”及“Sumirez Resin675”、日本PMC股份有限公司所販售之“WS-525”等。當調配水溶性環氧樹脂時，相對於聚乙烯醇系樹脂100質量份，其添加量通常為1至100質量份左右，較佳為1至50質量份。
又，當使用胺酯樹脂作為水系接著劑的主成分時，以聚酯系 離子聚合物型胺酯樹脂作為水系接著劑的主成分為有效。此處，所謂聚酯系離子聚合物型胺酯樹脂係指具有聚酯骨架之胺酯樹脂，於其中導入有少量之離子性成分(親水成分)者。該聚酯系離子聚合物型胺酯樹脂由於不使用乳化劑而直接於水中乳化成為乳膠，故可作成水系的接著劑。當使用聚酯系離子聚合物型胺酯樹脂時，以調配水溶性之環氧化合物作為交聯劑為有效。將聚酯系離子聚合物型胺酯樹脂作為偏光板的接著劑者例如已記載於日本特開2005-70140號公報或特開2005-208456號公報。
構成水系接著劑之該等之各成分通常係以溶於水的狀態使用。藉由將水系接著劑塗布於適當的基材上並使其乾燥，可得接著劑層。不溶解於水的成分可為分散於系統中的狀態。
於本光學膜上形成前述接著劑層的方法可舉例如，於本光學膜表面直接塗布上述接著劑組成物以形成接著劑層的方法。
又，例如，將所得之水系接著劑注入偏光板與本光學膜之間後，可藉由加熱使水蒸發，同時使交聯反應進行，而賦予兩者充分的接著性。
活性能量線硬化型接著劑係受活性能量線之照射而硬化者，只要可得到穿刺斜率為6kg/mm2至15kg/mm2的複合相位差板5即可，並無特別限定。可舉例如，含有環氧化合物與陽離子聚合起始劑之陽離子聚合性的活性能量線硬化型接著劑；含有丙烯酸系硬化成分與自由基聚合起始劑之自由基聚合性的活性能量線硬化型接著劑；含有環氧化合物般之陽離子聚合性等之硬化成分及丙烯酸系化合物般之自由基聚合性等之硬化成分兩者，於其中調配有自由基聚合起始劑及自由基聚合起始劑的活 性能量線硬化型接著劑；以及藉由對不含有起始劑之活性能量線硬化型接著劑照射電子束，以使其硬化的電子射線硬化型接著劑等。較佳為含有丙烯酸系硬化成分與自由基聚合起始劑之自由基聚合性的活性能量線硬化型接著劑。又，較佳為實質上可無溶劑地使用之含有環氧化合物與自由基聚合起始劑之陽離子聚合性的活性能量線硬化型接著劑。
選擇屬於可陽離子聚合之環氧化合物，其本身於室溫為液體，即使不存在溶劑亦具有適度的流動性，且可賦予適當的硬化接著強度者，並對其調配適當之陽離子聚合起始劑的活性能量線硬化型接著劑，於複合相位差板的製造設備中，可省略於接著第1相位差層與第2相位差層之步驟所必需的乾燥設備。又，藉由照射適當的活性能量線，可促進硬化速度，亦可提升生產速度。
於如此之接著劑所使用的環氧化合物可為具有羥基之芳香族化合物或鏈狀化合物之環氧丙醚化物；具有胺基之化合物的環氧丙醚化物；具有C-C雙鍵之鏈狀化合物的環氧化物；於飽和碳環直接或透過伸烷基鍵結有環氧丙氧基或環氧乙基、或於飽和碳環直接鍵結有環氧基的脂環式環氧化合物等。該等環氧化合物，可分別單獨使用，亦可併用不同之複數種。其中，脂環式環氧化合物由於陽離子聚合性優異，故可較佳使用。
具有羥基之芳香族化合物或鏈狀化合物的環氧丙醚化物，例如，可藉由對該等芳香族化合物或鏈狀化合物的羥基，於鹼性條件下使環氧氯丙烷加成縮合的方法來製造。如此之具有羥基之芳香族化合物或鏈狀化合物的環氧丙醚化物，包含雙酚類之二環氧丙醚、多芳香環型環氧樹脂、伸烷二醇或聚伸烷二醇之二環氧丙醚等。
雙酚類之二環氧丙醚可舉例如雙酚A之環氧丙醚化物及其寡聚物、雙酚F之環氧丙醚化物及其寡聚物、3,3’,5,5’-四甲基-4,4’-聯苯酚之環氧丙醚化物及其寡聚物等。
多芳香環型環氧樹脂可舉例如，苯酚醛清漆樹脂之環氧丙醚化物、甲酚醛清漆樹脂之環氧丙醚化物、苯酚芳烷基樹脂之環氧丙醚化物、萘酚芳烷基樹脂之環氧丙醚化物、苯酚二環戊二烯樹脂之環氧丙醚化物等。再者，三酚類之環氧丙醚化物及其寡聚物等，亦屬於多芳香環型環氧樹脂。
伸烷二醇或聚伸烷二醇之二環氧丙醚可舉例如，乙二醇之環氧丙醚化物、二乙二醇之環氧丙醚化物、1,4-丁二醇之環氧丙醚化物、1,6-己二醇之環氧丙醚化物等。
具有胺基之化合物之環氧丙基胺基化物，例如，可藉由對該化合物之胺基，於鹼性條件下使環氧氯丙烷加成縮合的方法來製造。具有胺基之化合物，亦可同時具有羥基。如此之具有胺基之化合物的環氧丙基胺基化物包含1,3-伸苯二胺之環氧丙基胺基化物及其寡聚物、1,4-伸苯二胺之環氧丙基胺基化物及其寡聚物、3-胺基酚之環氧丙基胺基化及環氧丙醚化物及其寡聚物、4-胺基酚之環氧丙基胺基化及環氧丙醚化物及其寡聚物等。
具有C-C雙鍵之鏈狀化合物的環氧化物，可藉由將該鏈狀化合物的C-C雙鍵，使用過氧化物於鹼性條件下進行環氧化的方法來製造。具有C-C雙鍵之鏈狀化合物包含丁二烯、聚丁二烯、異戊二烯、戊二烯、己二烯等。又，具有雙鍵之萜類亦可作為環氧化原料使用，非環式單 萜有沉香醇等。環氧化所使用之過氧化物，例如，可為過氧化氫、過氧乙酸、過氧化第三丁基等。
於飽和碳環直接或透過伸烷基鍵結有環氧丙氧基或環氧乙基的脂環式環氧化合物，有以之前所揭示之雙酚類為代表例之將具有羥基之芳香族化合物之芳香環氫化所得之氫化聚羥基化合物的環氧丙醚化物、具有羥基之環烷化合物的環氧丙醚化物、具有乙烯基之環烷化合物等。
以上所說明之環氧化合物，可容易地取得市售品，例如分別以商品名標示之三菱化學股份有限公司所販售之“jER”系列、DIC股份有限公司所販售之“EPICLON”、東都化成股份有限公司所販售之“EPOTOT(註冊商標)”、股份有限公司ADEKA所販售之“ADEKA RESIN(註冊商標)”、Nagase ChemteX股份有限公司所販售之“Denacol(註冊商標)”、Dow Chemical公司所販售之“Dow Epoxy”、日產化學工業股份有限公司所販售之“TEPIC(註冊商標)”等。
另一方面，於飽和碳環直接鍵結有環氧基之脂環式環氧化合物，例如，可藉由將於環內具有C-C雙鍵之非芳香族環狀化合物的C-C雙鍵，於鹼性條件下使用過氧化物進行環氧化的方法來製造。於環內具有C-C雙鍵之非芳香族環狀化合物可舉例如，具有環戊烯環的化合物、具有環己烯環的化合物、於環戊烯環或環己烯環至少鍵結有2個碳原子而形成追加之環的多環式化合物等。於環內具有C-C雙鍵之非芳香族環狀化合物，亦可於環外具有其他的C-C雙鍵。若舉於環內具有C-C雙鍵之非芳香族環狀化合物的例，有環己烯、4-乙烯環己烯、單環式單萜之檸檬烯及α-蒎烯等。
於飽和碳環直接鍵結有環氧基之脂環式環氧化合物，亦可為透過適當的鍵結基，於分子內至少形成有2個如上述之於環直接鍵結有環氧基的脂環式構造所形成的化合物。此處所謂之鍵結基例如包含酯鍵、醚鍵、伸烷鍵等。
以下舉出於飽和碳環直接鍵結有環氧基之環式化合物的具體例。
3,4-環氧基環己烷羧酸3,4-環氧基環己基甲酯、1,2-環氧基-4-乙烯基環己烷、1,2-環氧基-4-環氧基乙基環己烷、1,2-環氧基-1-甲基-4-(1-甲基環氧基乙基)環己烷、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯、2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇與4-環氧基乙基-1,2-環氧基環己烷的加成物、伸乙基雙(3,4-環氧基環己烷羧酸酯)(ethylene bis(3,4-epoxycyclohexane carboxylate))、二甘醇雙(3,4-環氧基環己烷羧酸酯)、1,4-環己烷二甲基 雙(3,4-環氧基環己烷羧酸酯)、3,4-環氧基環己烷羧酸3-(3,4-環氧基環己基甲氧基羰基)丙酯等。
以上說明之於飽和碳環直接鍵結有環氧基的脂環式環氧化合物亦可容易地由市場取得，可舉例如分別以商品名標示之股份有限公司Dicel所販售之“CELLOXIDE”系列及“CYCLOMER M100”、Dow Chemical公司所販售之“Cyracure UVR”系列等。
含有環氧化合物之硬化性接著劑亦可進一步含有環氧化合物以外的活性能量線硬化性化合物。環氧化合物以外的活性能量線硬化性化合物可舉例如，氧環丁烷(oxetane)化合物或丙烯酸化合物等。其中，由於在陽離子聚合中有可促進硬化速度的可能性，故較佳為併用氧環丁烷化合物。
氧環丁烷化合物係於分子內具有四元環醚之化合物，可舉例如下列所述者。
1,4-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基甲基]苯、3-乙基-3-(2-乙基甲基氧甲基)氧環丁烷、雙(3-乙基-3-氧環丁烷基甲基)醚、3-乙基-3-(苯氧基甲基)氧環丁烷、3-乙基-3-(環己基氧申基)氧環丁烷、苯酚醛清漆樹脂氧環丁烷、對二甲苯雙氧環丁烷、1,3-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]苯等。
氧環丁烷化合物亦可容易地由市場取得，可舉例如分別以商品名標示之東亞合成股份有限公司所販售之“ARONE OXETANE(註冊商標)”系列、宇部興產股份有限公司所販售之“ETERNACOLL(註冊商標)”系列等。
包含環氧化合物或氧環丁烷化合物之硬化性化合物，為了使調配有該等之接著劑無溶劑化，較佳為使用未以有機溶劑等稀釋者。又，構成接著劑之其他成分之包含後述之陽離子聚合起始劑或敏化劑之少量成 分，相較於溶解於有機溶劑者，亦以使用將有機溶劑除去、乾燥之化合物單獨的粉體或液體為佳。
陽離子聚合起始劑係接受活性能量線(例如紫外線)照射而產生陽離子物種的化合物。只要可對調配有該陽離子聚合起始劑之接著劑賦予接著強度及硬化速度者即可，可舉例如芳香族重氮鹽；芳香族錪鎓鹽或芳香族鋶鹽等鎓鹽；鐵-芳烴(arene)錯合物等。該等之陽離子聚合起始劑可分別單獨使用，亦可併用不同之複數種。
芳香族重氮鹽可舉例如下列所述者。
重氮苯 六氟銻酸鹽、重氮苯 六氟磷酸鹽、重氮苯 六氟硼酸鹽。
芳香族錪鎓鹽可舉例如下列所述者。
二苯錪鎓 四(五氟苯基)硼酸鹽、二苯錪鎓 六氟磷酸鹽、二苯錪鎓 六氟銻酸鹽、雙(4-壬基苯基)錪鎓 六氟磷酸鹽等。
芳香族鋶鹽可舉例如下列所述者。
三苯基鋶 六氟磷酸鹽、三苯基鋶 六氟銻酸鹽、三苯基鋶 四(五氟苯基)硼酸鹽、二苯基(4-苯基硫代苯基)鋶 六氟銻酸鹽、4,4’-雙(二苯基磺醯基)二苯基硫醚 雙六氟磷酸鹽、 4,4’-雙[二(β-羥基乙氧基苯基)磺醯基]二苯基硫醚 雙六氟銻酸鹽、4,4’-雙[二(β-羥基乙氧基苯基)磺醯基]二苯基硫醚 雙六氟磷酸鹽、7-[二(對甲苯基)磺醯基]-2-異丙基噻噸酮 六氟銻酸鹽、7-[二(對甲苯基)磺醯基]-2-異丙基噻噸酮 肆(五氟苯基)硼酸鹽、4-苯基羰基-4’-二苯基磺醯基二苯基硫醚 六氟磷酸鹽、4-(對-第三丁基苯基羰基)-4’-二苯基磺醯基二苯基硫醚 六氟銻酸鹽、4-(對-第三丁基苯基羰基)-4’-二(對甲苯基)磺醯基-二苯基硫醚 肆(五氟苯基)硼酸鹽等。
鐵-芳烴錯合物可舉例如下列所述者。
二甲苯-環戊二烯亞鐵(II) 六氟銻酸鹽、異丙苯-環戊二烯亞鐵(II) 六氟磷酸鹽、二甲苯-環戊二烯亞鐵(II) 三(三氟甲基磺醯基)甲烷化物等。
陽離子聚合起始劑之中，芳香族鋶鹽由於在300nm以上的波長範圍亦具有紫外線吸收特性，故硬化性優異，可提供具有良好機械強度及接著強度的接著劑層，故可較佳使用。
陽離子聚合起始劑亦可容易地由市場取得，可舉例如分別以商品名標示之由日本化學股份有限公司所販售之“KAYARAD(註冊商標)”系列、Dow Chemical公司所販售之“Cyracure UVI”系列、San-Apro股份有限公司所販售之光酸產生劑“CPI”系列、綠化學股份有限公司所販售之光酸產生劑“TAZ”、“BBI”及“DTS”、股份有限公司ADEKA所販售之“ADEKA OPTOMER”系列、RHODIA公司所販售之“RHODORSIL(註冊商標)”等。
於活性能量線硬化型接著劑中，陽離子聚合起始劑相對於活性能量線硬化型接著劑之總量100質量份，通常係以0.5至20質量份的比例調配，較佳為1至15質量份。其量若較少，則硬化會不充分，會使接著劑層的機械強度及接著強度降低。又，其量若過多，則由於接著劑層中之離子性物質增加，使接著劑層的吸濕性變高，會使所得之偏光板的耐久性降低。
活性能量線硬化型接著劑當使用電子射線硬化型時，於組成物中不須特別含有光聚合起始劑，當但使用紫外線硬化型時，較佳為使用光自由基產生劑。光自由基產生劑可舉例如脫氫型光自由基產生劑與開裂型光自由基產生劑。
脫氫型光自由基產生劑可舉例如1-甲萘、2-甲萘、1-氟萘、1-氯萘、2-氯萘、1-溴萘、2-溴萘、1-碘萘、2-碘萘、1-萘酚、2-萘酚、1-甲氧基萘酚、2-甲氧基萘酚、1,4-二氰基萘酚等萘酚衍生物；蒽、1,2-苯蒽、9,10-二氯蒽、9,10-二溴蒽、9,10-二苯蒽、9-氰基蒽、9,10-二氰基蒽、2,6,9,10-四蒽等蒽衍生物；芘衍生物；咔唑、9-甲基咔唑、9-苯基咔唑、9-丙烷-2-基-9H-咔唑、9-丙基-9H-咔唑、9-乙烯基咔唑、9H-咔唑-9-乙醇、9-甲基-3-硝基-9H-咔唑、9-甲基-3,6-二硝基-9H-咔唑、9-甲基-3,6-二硝基-9H-咔唑、9-辛醯基咔唑、9-咔唑甲醇、9-咔唑丙酸、9-咔唑丙腈、9-乙基-3,6-二硝基-9H-咔唑、9-乙基-3-硝基咔唑、9-乙基咔唑、9-異丙基咔唑、9-(乙氧基羰基甲基)咔唑、9-(嗎啉基甲基)咔唑、9-乙醯基咔唑、9-烯丙基咔唑、9-苄基-9H-咔唑、9-咔唑乙酸、9-(2-硝基苯基)咔唑、9-(4-甲氧基苯基)咔唑、9-(1-乙氧基-2-甲基-丙基)-9H-咔唑、3-硝基咔唑、4-羥基咔唑、 3,6-二硝基-9H-咔唑、3,6-二苯基-9H-咔唑、2-羥基咔唑、3,6-二乙醯基-9-乙基咔唑等咔唑衍生物；二苯基酮、4-苯基二苯基酮、4,4’-雙(二甲氧基)二苯基酮、4,4’-雙(二甲基胺基)二苯基酮、4,4’-雙(二乙基胺基)二苯基酮、2-苯甲醯基苯甲酸甲基酯、2-甲基二苯基酮、3-甲基二苯基酮、4-甲基二苯基酮、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯基酮、2,4,6-三甲基二苯基酮等二苯基酮衍生物；芳香族羰基化合物、[4-(4-甲基苯基硫代)苯基]-苯基甲酮、氧雜蒽酮、噻噸酮、2-氯噻噸酮、4-氯噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、4-異丙基噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮等噻噸酮衍生物或香豆素衍生物等。
開裂型光自由基產生劑係藉由照射活性能量線使該化合物開裂而產生自由基型的光自由基產生劑，其具體例可舉例如安息香醚衍生物、苯乙酮衍生物等芳基烷基酮類、肟酮類、醯基膦氧化物、硫代苯甲酸S-苯基類、二茂鈦類、及使其高分子量化之衍生物，但並不限定於該等。市售之開裂型光自由基產生劑可舉例如1-(4-十二基苯甲醯基)-1-羥基-1-甲基乙烷、1-(4-異丙基苯甲醯基)-1-羥基-1-甲基乙烷、1-苯甲醯基-1-羥基-1-甲基乙烷、1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯甲醯基]-1-羥基-1-甲基乙烷、1-[4-(丙烯醯氧基乙氧基)-苯甲醯基]-1-羥基-1-甲基乙烷、二苯酮、苯基-1-羥基-環己基酮、苄基二甲基醛、雙(環戊二烯基)-雙(2,6-二氟-3-吡咯基-苯基)鈦、(η6-異丙基苯)-(η5-環戊二烯基)-鐵(II)六氟磷酸鹽、三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基-苯甲醯基)-(2,4,4-三甲基-戊基)-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二戊氧基苯基膦氧化物或雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基-膦氧化物、(4-嗎啉基苯甲醯基)-1-苄基-1-二甲基胺基丙 烷、4-(甲基硫代苯甲醯基)-1-甲基-1-嗎啉基乙烷等，但並不限定於該等。
本發明所使用之活性能量線硬化型接著劑之中，電子射線硬化型所含之光自由基產生劑，亦即脫氫型或開裂型光自由基產生劑皆可分別單獨使用，亦可組合複數來使用，但由光自由基產生劑之安定性、或硬化性方面考量，較佳者為開裂型光自由基產生劑有一種以上的組合。開裂型光自由基產生劑之中，以醯基膦氧化物類為佳，更具體而言，較佳為，三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物(商品名「DAROCURE TPO」；CIBA日本股份有限公司)、雙(2,6-二甲氧基-苯甲醯基)-(2,4,4-三甲基-戊基)-膦氧化物(商品名「CGI 403」；CIBA日本股份有限公司)、或雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二戊氧基苯基膦氧化物(商品名「Irgacure819」；CIBA日本股份有限公司)。
活性能量線硬化型接著劑可視需要含有敏化劑。藉由使用敏化劑，可提升反應性，而能更提升接著層的機械強度及接著強度。敏化劑可適當使用前述者。
當調配敏化劑時，其調配量，相對於活性能量線硬化型接著劑之總量100質量份，較佳為0.1至20質量份的範圍。
活性能量線硬化型接著劑於不損及其效果的範圍內，可調配各種添加劑。可調配的添加劑可舉例如離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、增黏劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、塑化劑、消泡劑等。
構成活性能量線硬化型接著劑的該等各成分，通常係以溶於溶劑的狀態使用。當活性能量線硬化型接著劑含有溶劑時，可藉由將活性能量線硬化型接著劑塗布於塗布面上，使其乾燥而獲得接著層。不溶解於 溶劑的成分，可為分散於系統中的狀態。
活性能量線硬化型接著劑係塗布於第1相位差層1與第2相位差層2的接著面、第2相位差層2與第1相位差層1的接著面、或其兩者。第1相位差層1與第2相位差層2的接著面、及第2相位差層2與第1相位差層1的接著面，可事先進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等，亦可形成底漆層等。底漆層之厚度通常為0.001至5μm左右，較佳為0.01μm以上，又，更佳為4μm以下，再更佳為3μm以下。底漆層若過厚，則複合相位差板5的外觀容易變得不佳。
活性能量線硬化型接著劑的黏度，只要具有可以各種方法進行塗布的黏度即可，而其於溫度25℃的黏度，較佳為10至1000mPa‧sec的範圍，更佳為20至500mPa‧sec的範圍。其黏度若太小，則會有難以以所欲厚度形成層的傾向。另一方面，若其黏度太大，則變得難以流動，而有難以得到無偏差之均質塗膜的傾向。此處所謂之黏度係使用E型黏度劑，於將黏著劑調溫為25℃後，以10rpm進行測定之值。
上述活性能量線硬化型接著劑可使用電子射線硬化型、紫外線硬化型的樣態。本說明書中，所謂活性能量線係定義為可將產生活性物種之化合物分解而產生活性物種的能量線。如此之活性能量線可舉例如可見光、紫外線、紅外線、X射線、α射線、β射線、γ射線及電子射線等。
電子射線硬化型中，電子射線的照射條件，只要可使上述活性能量線硬化型接著劑硬化的條件即可，可採用任意之適當的條件。例如，電子射線照射，加速電壓較佳為5kV至300kV，又更佳為10kV至250kV。當加速電壓未滿5kV時，電子射線無法到達接著劑而有硬化不足之虞，而 加速電壓若超過300kV，則穿透試樣的滲透力過強使電子射線反彈，而有損傷透明保護膜或偏光器之虞。照射劑量為5至100kGy，更佳為10至75kGy。當照射劑量未滿5kGy時，接著劑會硬化不足，而若超過100kGy，則會對相位差板造成損傷，使機械強度降低或產生黃變，而無法得到所欲的光學特性。
電子射線照射通常係於惰性氣體中進行照射，若需要亦可於大氣中或導入少許氧的條件下進行。藉由適當導入氧，蓄意地於最初電子射線照射到的相位差板表面產生氧阻害，可防止相位差板的損害，而能使電子射線有效率地僅照射到接著劑。
於紫外線硬化型中，活性能量線硬化型接著劑的光照射強度係視接著劑的各組成所決定者，並無特別限定，而以10至1000mW/cm2為佳。對樹脂組成物之光照射強度若未滿10mW/cm2，則反應時間變得過長，而若超過1000mW/cm2，則由於來自光源之輻射熱及組成物聚合時之放熱，接著劑之構成材料會有產生黃變的可能性。又，照射強度，較佳為對陽離子聚合起始劑之活性化有效之波長範圍中的強度，更佳為於波長400nm以下之波長範圍中的強度，又更佳為於波長280至320nm之波長範圍中的強度。以如此之光照射強度照射一次或複數次，其累積光量，適宜為設定於10mJ/cm2以上，較佳為100至1000mJ/cm2。若對上述接著劑的累積光量未滿10mJ/cm2，則來自聚合起始劑之活性物種的產生不充分，使得接著劑的硬化不充分。另一方面，若其累積光量超過1000mJ/cm2，則照射時間變得非常長，不利於生產性提升。此時，根據所使用之相位差板之膜的種類或接著劑種類的組合等，於何種波長範圍(UVA(320至390nm)或 UVB(280至320nm)等)下之需要之累積光量並不相同。
本發明中之藉由活性能量線的照射以進行接著劑之聚合硬化所使用之光源並無特別限定，可舉例如低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、氙氣燈、鹵素燈、碳弧燈、鎢絲燈、鉀燈、準分子雷射、發出波長範圍380至440nm之光的LED光源、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈。由能量安定性及裝置簡便性的觀點，較佳為於波長400nm以下具有發光分布的紫外光源。
[光學積層體]
本發明之光學積層體係積層偏光板與上述之複合相位差板所成者。光學積層體亦可含有接著前述偏光板與複合相位差板的第2接著層。藉由調整積層於前述偏光板之複合相位差板的層構成，可做成具有抗反射性能的光學積層體。具有抗反射性能的光學積層體例如圓偏光板。於圖像顯示裝置，藉由於圖像顯示面板的視覺辨認側，設置具有抗反射性能的光學積層體，可抑制因外來光之反射所造成之視覺辨認性的降低。
可抑制因外來光之反射所造成之視覺辨認性降低之前述偏光板、與複合相位差板所構成之光學積層體的層構成，可具體地例示如：v)由視覺辨認側起依序積層偏光板、1/2波長層(第1相位差層)、第2接著層、1/4波長層(第2相位差層)所成之層構層的光學積層體；vi)由視覺辨認側起依序積層偏光板、1/4波長層(第1相位差層)、第2接著劑層、正C板等光學補償層(第2相位差層)所成之層構層的光學積層體。
光學積層體之厚度，由薄型化的觀點，通常為50至500μm， 較佳為50至200μm，更佳為50至150μm。
<偏光板>
偏光板只要具有可從穿透光獲得直線偏光之偏光功能的薄膜即可。該薄膜可舉例如，吸附具有吸收異向性之染料的拉伸膜、或含有塗布具有吸收異向性之染料之薄膜作為偏光器的薄膜等。具有吸收異向性之染料可舉例如二色性染料。偏光器所使用之塗布具有吸收異向性之染料的薄膜可舉例如，吸附具有吸收異向性之染料的拉伸膜；具有塗布含有具液晶性之二色性染料的組成物、或含有二色性染料與聚合性液晶的組成物所得之液相層的薄膜等。
(具備拉伸膜作為偏光器的偏光板)
以下說明具備吸附有具吸收異向性之染料之拉伸膜作為偏光器的偏光板。屬於偏光器之吸附有具吸收異向性之染料之拉伸膜，通常係經由下述步驟製造：將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸拉伸的步驟；以二色性染料對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色，以使該二色性染料吸附的步驟；將吸附有二色性染料之聚乙烯醇系樹脂膜以硼酸水溶液處理的步驟；以及於經硼酸水溶液處理處理後進行水洗的步驟。該偏光器可直接作為偏光板使用，亦可於該偏光器之至少一面貼合透明保護膜來作為偏光板使用。
聚乙烯醇系樹脂可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了為乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯之外，亦可使用乙酸乙烯酯與可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體的共聚物。可與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體可舉例如，不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85至100莫耳左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂亦可經改質，例如，亦可使用以醛類改質之聚乙烯甲醛或聚乙烯乙醛。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1000至10000左右，較佳為1500至5000的範圍。
將如此之聚乙烯醇系樹脂製膜者係使用作為偏光板的原膠膜。將聚乙烯醇系樹脂進行製膜的方法並無特別限定，可使用周知之方法製膜。聚乙烯醇系原膠膜的膜厚例如可為10至150μm左右。
聚乙烯醇系樹脂膜之單軸拉伸，可在以二色性染料染色前、與染色同時、或於染色後進行。當於染色後進行單軸拉伸時，該單軸拉伸可於硼酸處理前進行，亦可於硼酸處理中進行。又，亦可於該等複數的階段進行單軸拉伸。於單軸拉伸時，可於周速不同的輥間單軸地拉伸，亦可使用熱輥單軸地拉伸。又，單軸拉伸可為於大氣中進行拉伸的乾式拉伸，亦可為在使用溶劑使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤的狀態下進行拉伸的濕式拉伸。拉伸倍率通常為3至8倍左右。
聚乙烯醇系樹脂膜之藉由二色性染料的染色，例如可藉由下述方法進行：將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性染料之水溶液的方法。二色性染料具體而言係使用碘或二色性的有機染料。於二色性染料包含C.I.DIRECT RED 39等重氮化合物所構成的二色性直接染料、三偶氮、四偶氮等化合物所構成的二色性直接染料。聚乙烯醇系樹脂膜較佳為，於染色處理之前先施以浸漬於水的浸漬處理。
使用碘作為二色性染料時，通常係採用下述方法：於含有碘或碘化鉀的水溶液，浸漬聚乙烯醇系樹脂膜以進行染色的方法。該水溶液 中之碘的含量，於水每100質量份，通常為0.01至1質量份左右。又，碘化鉀的含量，於水每100質量份，通常為0.5至20質量份左右。染色所使用之水溶液的溫度，通常為20至40℃左右。又，於該水溶液的浸漬時間(染色時間)，通常為20至1800秒左右。
另一方面，使用二色性之有機染料作為二色性染料時，通常係採用下述方法：於含有水溶性二色性染料的水溶液，浸漬聚乙烯醇系樹脂膜以進行染色的方法。該水溶液中之二色性有機染料的含量，於水每100質量份，通常為1×10-4至10質量份，更佳為1×10-3至1×10-2質量份。該水溶液亦可含有如硫酸鈉之無機鹽作為染色助劑。染色所使用之二色性染料水溶液的溫度，通常為20至80℃左右。又，於該水溶液的浸漬時間(染色時間)，通常為10至1800秒左右。
以二色性染料染色後之硼酸處理，通常能以下述方法進行：將染色後之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於硼酸水溶液的方法。該硼酸水溶液中之硼酸的含量，於水每100質量份，通常為2至15質量份左右，較佳為5至12質量份左右。當使用碘作為二色性染料時，該硼酸水溶液較佳為含有碘化鉀，該情況之碘化鉀的含量，於水每100質量份，通常為0.1至15質量份左右，較佳為5至12質量份左右。於硼酸水溶液之浸漬時間通常為60至1200秒左右，較佳為150至600秒，更佳為200至400秒。硼酸處理的溫度，通常為50℃以上，較佳為50至85℃，更佳為60至80℃。
硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜，通常係進行水洗處理。水洗處理例如可藉由將經硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水的方法進行。水洗處理中之水的溫度，通常為5至40℃左右。又，浸漬時間通常為 1至120秒左右。
於水洗後施以乾燥處理，可得偏光器。乾燥處理例如可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器進行。乾燥處理的溫度通常為30至100℃左右，較佳為50至80℃左右。乾燥處理的時間通常為60至600秒左右，較佳為120至600秒。藉由乾燥處理，可使偏光器之水分率降低至實用程度。該水分率通常為5至20質量%左右，較佳為8至15質量%。水分率若低於5質量%，則會失去偏光器的可撓性，或偏光器會於該乾燥後損傷、破裂。又，水分率若高於20質量%，則偏光器之熱安定性會有變差的可能性。
對如此於聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸拉伸、藉由二色性染料的染色、硼酸處理、水洗及乾燥所得之偏光器的厚度，較佳為5至40μm。
於偏光器之單面或兩面所貼合之保護膜的材質，並無特別限定，可舉例如，環狀聚烯烴系樹脂膜、三乙酸纖維素、二乙酸纖維素等樹脂所構成之乙酸纖維素系樹脂膜、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等樹脂所構成之聚酯系樹脂膜、聚碳酸酯系樹脂膜、(甲基)丙烯酸系樹脂膜、聚丙烯系樹脂膜等該領域中周知之薄膜。保護膜之厚度，由薄型化的觀點考量，通常為300μm以下，較佳為200μm以下，更佳為100μm以下，又，通常為5μm以上，較佳為20μm以上。又，視覺辨認側之保護膜可具有相位差，亦可不具相位差。另一方面，積層於第一相位差層側的保護膜之相位差較佳為10nm以下之相位差。
(具備具液晶層之薄膜作為偏光器之偏光板)
以下說明具備具液晶層之薄膜作為偏光器的偏光板。作為偏光器使用之塗布有具有吸收異向性之染料的薄膜可舉例如，塗布有含有具液晶性之 二色性染料的組成物、或含有二色性染料與液晶化合物的組成物所得之薄膜等。該薄膜可單獨地作為偏光板使用，亦可以於其單面或兩面具有保護膜之構成作為偏光板使用。該保護膜可舉例如與上述之具備拉伸膜作為偏光器的偏光板相同者。
塗布有具吸收異向性之染料的薄膜以薄者為佳，但若過薄則強度降低，於加工性有變差的傾向。該薄膜的厚度通常為20μm以下，較佳為5μm以下，更佳為0.5μm以上3μm以下。
前述塗布有具吸收異向性之染料的薄膜，具體而言，可舉例如於日本特開2012-33249號公報所記載之薄膜。
亦可藉由將前述具吸收異向性之染料直接塗布於前述複合相位差板之第1相位差板側，藉以獲得積層複合相位差板與偏光板所成之光學積層體。於該情況，可不具有第2接著層，將複合相位差板與偏光板積層。
<第2接著層>
第2接著層例如可由黏著劑、水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑及該等之組合所構成。其中，藉由使第2接著層為活性能量線硬化型接著劑的硬化物層，即使含本發明之複合相位差層的光學積層體折彎時，亦可進一步地抑制於彎曲部之皺摺的產生，故較佳。本說明書中，「第2接著層」之用語，不僅為接著劑所構成之接著層，亦包含黏著劑所構成之黏著層。
構成第2接著層之黏著劑、水系接著劑活性能量線硬化型接著劑可適用上述於第1接著層之說明。當第1接著層及第2接著層為由活 性能量線硬化型接著劑所形成時，第1接著層與第2接著層可由相同之活性能量線硬化型接著劑形成，亦可由不同之活性能量線硬化型接著劑形成。
[複合相位差板及光學積層體的製造方法]
本發明之複合相位差板可藉由下述方法製造：將第3圖(A)所示之含有第1相位差層13、第1配向層12及第1基材層11的第1相位差層10，與第3圖(B)所示之含有第2相位差展現層23、第2配向層22及第2基材層21的第2相位差層20，透過第1接著劑層40接著來製造。又，本發明之複合相位差板，亦可為依序積層第1相位差層13、第1配向層12、第1基材層11、第1接著劑層40、第2基材層21、第2配向層22、第2相位差展現層23的積層體。
使第1相位差層10與第2相位差層20接著的方法可舉例如下述方法：於第1相位差層10之貼合面或第2相位差層20之貼合面之任一者或兩者塗布接著劑，於其積層另一貼合面，使構成第1接著層40之接著劑硬化的方法。
構成第1接著層40之接著劑的塗布，例如，可利用刮刀塗布機、繞線式棒塗布機、模頭塗布機、缺角輪(comma)式塗布機、凹版塗布機等各種塗布方式。
使構成第1接著劑層之接著劑硬化的方法，可視接著劑之種類適當選擇硬化的方法。當接著劑為活性能量線硬化型接著劑時，較佳為如上述之以活性能量線硬化的方法。於第1相位差層10之貼合面或第2相位差層20之貼合面之任一者或兩者，可進行電暈處理、電漿處理等，亦可形成底漆層。
本發明之複合相位差層可為如第3圖(C)所示之積層體，亦可為將第1基材層11及第2基材層21之至少一層剝離的積層體。又，可為由第3圖(C)所示之從積層體剝離有第1基材層11及第1配向層12的積層體，亦可為由第3圖(C)所示之從積層體剝離有第2基材層21及第2配向層22的積層體。
[光學積層體之用途]
為圓偏光板之光學積層體，作為配置於圖像顯示面板之視覺辨認側之賦予抗反射性能的光學積層體，可使用於各式各樣的圖像顯示裝置。圖像顯示裝置係指具有圖像顯示面板的裝置，包含作為發光源之發光元件或發光裝置。圖像顯示裝置可舉例如，液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、無機電致發光(EL)顯示裝置、觸控面板顯示裝置、電子發射顯示裝置(例如場發射顯示裝置(FED)、表面電場發射顯示裝置(SED))、電子紙(使用電子油墨或電泳元件之顯示裝置)、電漿顯示裝置、投射型顯示裝置(例如柵狀光閥(GLV)顯示裝置、具有數位微鏡裝置(DMD)之顯示裝置)及壓電陶瓷顯示器等。液晶顯示裝置，包含穿透型液晶顯示裝置、半穿透型液晶顯示裝置、反射型液晶顯示裝置、直視型液晶顯示裝置及投影型液晶顯示裝置等任一者。該等圖像顯示裝置，可為顯示二維圖像之圖像顯示裝置，亦可為顯示三維圖像之立體圖像顯示裝置。特別是圓偏光板之光學積層體，可有效地使用於可具備具彎曲部之圖像顯示面板的有機電致發光(EL)顯示裝置。
藉由本發明，即使在具有彎曲部之圖像顯示面板的表面，以沿著該表面的方式使光學積層體彎曲配置，亦可得不會產生皺摺的光學積 層體。
[實施例]
以下，藉由實施例以更詳細地說明本發明。
[相位差層之製造例]
(1)液晶相位差形成用組成物之調製
混合聚合性液晶化合物(A1)80份、聚合性化合物(A2)20份、聚合起始劑6份、整平劑0.1份及環戊酮400份，將所得之混合物以80℃攪拌1小時，藉此製得液晶相位差形成用組成物(1)。
以下，揭示所使用之聚合性液晶化合物A1、聚合性化合物A2、聚合起始劑及整平劑。又，聚合性液晶化合物A1及聚合性化合物A2係以日本特開2010-31223號記載之方法合成。
聚合性化合物A1：
Figure 107139502-A0202-12-0040-11
聚合性化合物A2：
Figure 107139502-A0202-12-0040-12
聚合起始劑：2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉苯基)丁烷-1-酮(IRGACURE 369；汽巴精化公司製)、整平劑(0.1份)：聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司製)
(2)配向層形成用組成物之調製
(2-1)配向層形成用組成物(1)之調製
混合下列所示之化合物5份及環戊酮95份，將所得之混合物以80℃攪拌1小時，藉此製得配向層形成用組成物(1)。
光配向性材料(5份)：
Figure 107139502-A0202-12-0041-4
(2-2)配向層形成用組成物(2)之調製
於配向性聚合物之SUNEVER SE-610(日產化學工業股份有限公司製)，加入2-丁氧乙醇而獲得配向層形成用組成物(2)。又，配向層形成用組成物(2)中之固體成分量為1%。
(3)相位差層之製造例
(3-1)相位差層之製造例(1)(逆分散性1/4波長層之製造例)
使用電暈處理裝置(AGF-B10，春日電機股份有限公司製)，以輸出0.3kW、處理速度3m/分的條件，對聚對苯二甲酸乙二酯(PET)的膜表面進行處理一次。於施以電暈處理的表面，以棒塗機塗布配向層形成用組成物(1)，以80℃乾燥1小時，使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份有限公司製)，以100mJ/cm2的累積光量實施偏光UV曝光。以雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製)測定所得之配向層膜厚的結果，為100nm。接著，使用棒塗機，將液晶相位差形成用組成物(1)塗布於配向層上，以120℃乾燥1分鐘後，使用高壓水銀燈(UnicureVB-15201BY-A，USHIO電機股份有限公司製)，照射紫外線(在氮環境氣氛， 波長：365nm、波長365nm之累積光量：1000mJ/cm2)，藉此製得具備液晶層作為相位差展現層的相位差層(逆分散性1/4波長層)。測定所得之相位差層之相位差值的結果，為Re(550)=138nm、Rth(550)=72nm。又，測定於波長450nm及波長650nm之相位差值的結果，Re(450)=121nm、Re(650)=141nm。於各波長之面內相位差值的關係係如下列所述。又，不含聚對苯二甲酸乙二酯膜的相位差值。
Re(450)/Re(550)=0.87
Re(650)/Re(550)=1.02
(3-2)相位差層之製造例(2)(C層之製造例)
使用電暈處理裝置，以輸出0.3kW、處理速度3m/分的條件，對環烯烴聚合物(COP)的膜表面進行處理一次。於施以電暈處理的表面，以棒塗機塗布配向層形成用組成物(2)，以90℃乾燥1分鐘，獲得配向膜。以雷射顯微鏡測定所得之配向層膜厚的結果，為34nm。接著，使用棒塗機，將液晶相位差形成用組成物(1)塗布於配向層上，以90℃乾燥1分鐘後，使用高壓水銀燈，照射紫外線(在氮環境氣氛，波長：365nm、波長365nm之累積光量：1000mJ/cm2)，藉此製得具備液晶層作為相位差展現層的相位差層(C層)。以雷射顯微鏡測定所得之相位差層膜厚的結果，為450nm。又，測定所得相位差層2之在波長550nm之相位差值的結果，為Re(550)=1nm、Rth(550)=-70nm。又，不含環烯烴聚合物膜之相位差值。
[光硬化型之接著劑1至11之調製]
(1)陽離子硬化性成分的準備
準備下列所示之陽離子硬化性成分。
(A-1)3’,4’-環氧基環己基甲基3,4-環氧基環己烷羧酸酯(商品名：CEL2021P，股份有限公司Dicel製)、
(A-2)2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇之1,2-環氧基-4-(2-環氧乙烷基)環己烷加成物(商品名：EHPE3150，股份有限公司Dicel製)、
(B-1)新戊二醇二環氧丙醚(商品名：EX-211、Nagase ChemteX股份有限公司製)、
(B-2)1,4-丁二醇二環氧丙醚(商品名：EX-214、Nagase ChemteX股份有限公司製)、
(B-3)2-乙基己基環氧丙醚(商品名：EX-121、Nagase ChemteX股份有限公司製)、
(C-1)間苯二酚二環氧丙醚(商品名：EX-201、Nagase ChemteX股份有限公司製)、
(C-2)多官能環氧丙醚(商品名：VG3101L、股份有限公司Printeq製)、
(D-1)3-乙基-3{[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧環丁烷(商品名：OXT-221，東亞合成股份有限公司)
(D-2)對二甲苯雙氧環丁烷(商品名：OXT-121，東亞合成股份有限公司)
(2)自由基硬化性成分的準備
準備下列所示之自由基硬化性成分。
(E-1)4-羥基丁基丙烯酸酯(商品名：4HBA，日本化成股份有限公司)、
(E-2)1,4-環己烷二甲醇單丙烯酸酯(商品名：CHDMMA，日本化成股份有限公司製)
(E-3)二甲基丙烯醯胺(商品名：DMAA，股份有限公司興人製)
(E-4)聚胺基甲酸酯丙烯酸酯(商品名：紫光UV-3000B，日本合成化學工業股份有限公司製)
(3)陽離子聚合起始劑及自由基聚合起始劑
準備下列所示之陽離子聚合起始劑及自由基聚合起始劑(於表1簡稱為「起始劑」)。
(F-1)陽離子聚合起始劑(商品名：CPI-100，San-Apro股份有限公司製)、
(F-2)陽離子聚合起始劑(商品名：IRGACURE1173，BASF公司製)
(4)敏化劑的準備
準備下列所示之敏化劑。
(G-1)1,4-二乙氧基萘(於表1略記為「DEN」)
(5)接著劑1至11之調製
將上述之陽離子硬化性成分及陽離子聚合起始劑、或自由基硬化性成分及自由基聚合起始劑，以表1所示之調配比例(單位為份)混合後，進行脫泡，調製成光硬化型之接著劑1至15。又，陽離子聚合起始劑(F-1)係作成50%丙烯碳酸酯溶液來調配，於表1係顯示其固體成分量。
[黏著劑1之調製]
(1)材料的準備
準備下列所示之丙烯酸系之基質聚合物(G-1)、異氰酸酯系交聯劑(G-2)及矽烷耦合劑(G-3)。
(H-1)丙烯酸丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸及丙烯酸羥基乙酯之共聚物
(H-2)甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成體之乙酸乙酯溶液(固體成分濃度75%)(「CoronateL」(商品名)，東曹(Tosoh)股份有限公司製)
(H-3)3-環氧丙氧基丙基三甲氧矽烷，液體(「KBM-403」(商品名)，信越化學工業股份有限公司製)
(2)黏著劑1之調製
混合上述丙烯酸系之基質聚合物(H-1)100質量份、異氰酸酯系交聯劑(H-2)0.2質量份、與矽烷耦合劑(H-3)0.2質量份，充分攪拌，以乙酸乙酯稀釋，藉此調製成黏著劑1。
[黏度測定]
對上述所調製之接著劑1至11，使用東機產業股份有限公司製之E型黏度計”TVE-25”，測定於溫度25℃及10rpm的黏度。將結果表示於表1。
Figure 107139502-A0202-12-0046-5
[複合相位差板之製造例]
(1-1)第1複合相位差板(實施例1至12及比較例1)之製造
將由屬於液晶層之相位差展現層、配向層及基材層三層所構成之1/2波長層(第1相位差層)，與由屬於液晶層之相位差展現層、配向層及基材層三層所構成之1/4波長層(第2相位差層)，裁切成100×100mm的小片，分別以各相位差層之相位差展現層為內側的方式，依序積層第1相位差層、表2所示之接著劑(接著劑1至12)、與第2相位差層。接著，將該等平板貼合而獲得積層體，之後，由積層體的兩面，使用安裝有FUSION UV SYSTEMS公司製之紫外燈「H blub」的紫外線照射裝置，以使光照射強度為400mW/cm2、波長280至320nm之累積光量為400mJ/cm2的方式，照射紫外線以使光硬化性之接著劑硬化，形成硬化物層，而獲得積層體。由所得之積層體，將第1基材層及第2基材層剝離後，作為複合相位差板(實施例1至12及比較例1)之試驗片。
(2)第1複合相位差板(比較例2、3)之製造
與上述(1)同樣地，將由屬於液晶層之相位差展現層、配向層及基材層三層所構成之1/2波長層(第1相位差層)，與由屬於液晶層之相位差展現層、配向層及基材層三層所構成之1/4波長層(第2相位差層)，裁切出100×100mm的小片，分別以各相位差層之相位差展現層為內側的方式，依序積層第1相位差層、黏著劑1、與第2相位差層。接著，將該等平板貼合而獲得積層體。由所得之積層體，將第1基材層及第2基材層剝離後，作為複合相位差板(比較例2、3)之試驗片。
(3)第2複合相位差板(實施例13至24及比較例4)之製造
將上述「(3-1)相位差層之製造例(1)」所製造之逆分散性1/4波長層(第1相位差層)、與上述「(3-2)相位差層之製造例(2)」所製造之C層，裁切出100×100mm的小片，分別以各相位差層之相位差展現層為內側的方式，依序積層第1相位差層、表3所示之接著劑(接著劑1至11)、與第2相位差層。接著，將該等平板貼合而獲得積層體，之後，由積層體的兩面，使用安裝有FUSION UV SYSTEMS公司製之紫外燈「H blub」的紫外線照射裝置，以使光照射強度為400mW/cm2、波長280至320nm之累積光量為400mJ/cm2的方式，照射紫外線以使光硬化性之接著劑硬化，形成硬化物層，而獲得積層體。由所得之積層體，將第1基材層及第2基材層剝離後，作為複合相位差板(實施例13至24及比較例4)之試驗片。
(2-2)第2複合相位差板(比較例5、6)之製造
與上述(3)同樣地，將上述「(3-1)相位差層之製造例(1)」所製造之逆分散性1/4波長層(第1相位差層)、與上述「(3-2)相位差層之製造例(2)」所製造之C層，裁切出100×100mm的小片，分別以各相位差層之相位差展現層為內側的方式，依序積層第1相位差層、黏著劑1、與第2相位差層。接著，將該等平板貼合而獲得積層體。由所得之積層體，將第1基材層及第2基材層剝離後，作為複合相位差板(比較例5、6)之試驗片。
(5)複合相位差板與接著層之厚度的測定
以接觸式膜厚計[Nikon股份有限公司製之商品名”DIGIMICRO MH-15M”]，測定上述所製造之複合相位差板之試驗片的厚度。又，以與上述同樣之方法，測定硬化後之接著層或黏著劑層的厚度。將測定結果表示於表2及表3。
(6)複合相位差板之穿刺斜率之測定
計算上述所製造之複合相位差板之試驗片的穿刺斜率。使用裝設有直徑1mm、尖端之曲率半徑為0.5R之穿刺輔助的小型桌上試驗機[股份有限公司島津製作所製之商品名”EZ Test”]，進行穿刺強度的測定。使用所得之穿刺強度A(kg)、裂開為止之穿刺深度B(mm)、與複合相位差板厚度d(mm)，由下述式： E=A/(B×d)
計算出每單位膜厚之穿刺斜率E(kg/mm2)。又，複合相位差板之穿刺斜率係以相同條件製作之5個以上之複合相位差板的穿刺斜率E之平均值。將測定結果表示於表2及表3。
[光學積層體之製造]
(7)偏光板之製造
將平均聚合度約2,400、皂化度99.9莫耳%以上之厚度75μm之聚乙烯醇膜，浸漬於30℃之純水後，於30℃浸漬於碘/碘化鉀/水之質量比為0.02/2/100之水溶液中，以進行碘染色(碘染色步驟)。將經碘染色步驟後之聚乙烯醇膜，於56.5℃浸漬於碘化鉀/硼酸/水之質量比為12/5/100之水溶液中，以進行硼酸處理(硼酸處理步驟)。將經硼酸處理步驟後之聚乙烯醇膜以8℃之純水洗淨後，以65℃乾燥。而獲得於聚乙烯醇吸附配向有碘之偏光器(拉伸後之厚度為27μm)。此時，於碘染色步驟與硼酸處理步驟進行拉伸。該拉伸中之總拉伸倍率為5.3倍。於所得之偏光器的兩面，透過水系接著劑，以夾輥貼合皂化處理後之三乙酸纖維素膜(商品名：KC4UYTAC，柯尼卡美達能製，厚度40μm)。於使所得之貼合物之張力保 持於430N/m，同時以60℃乾燥2分鐘，而獲得於兩面具有作為保護膜之乙酸纖維素膜的偏光板。上述之水系接著劑係於水100份中，添加羧基改質聚乙烯醇(KURARAY POVAL KL318，KURARAY製)3份與水溶性聚醯胺環氧樹脂(Sumirez Resin650，住化Chemtex製，固體成分濃度30%之水溶液)1.5份來調製。
(8)第1光學積層體(實施例1至12及比較例1至3)之製造
將上述(7)所製造之偏光板與上述(1)或(2)所製造之第1複合相位差板，以使第1複合相位差板之第1相位差層側為接著面的方式，使用丙烯酸系接著劑(膜厚25μm)貼合，以製造第1光學積層體。具體而言係相對於上述製造之偏光板之吸收軸方向(0°)，以使第1相位差層之慢軸的逆時針旋轉為正，以成為-15°的方式積層，並且，以使上述製造之偏光板之穿透軸與第2相位差層之慢軸成為-75°的方式積層。
(9)第2光學積層體之製造(實施例13至24及比較例4至6)
使用上述(8)所製造之偏光板與上述(3)或(4)所製造之第2複合相位差板，製造第2光學積層體。具體而言係將上述所製造之偏光板，相對於偏光器之吸收軸方向(0°)，以使第1相位差層之慢軸為45°的方式，裁切出100×100mm的小片，將其與第2複合相位差板，以使第1相位差層為接著面的方式，使用丙烯酸系黏著劑(膜厚25μm)平板貼合，製造成圓偏光板之光學積層體。
[試驗例](皺摺之產生的評價)
將上述(8)所製造之第1光學積層體及上述(9)所製造之第2光學積層體，以使複合相位差板側為貼著面的方式，使用丙烯酸系黏著劑(膜厚25μm)，貼合在具有彎曲部(2R)之鋁板，以目視觀察於彎曲部之皺摺的產生，根據下列基準評價皺摺的產生。將評價結果表示於表2及表3。
1：於彎曲部未確認到皺摺，2：於彎曲部僅確認到些微之皺摺(皺摺數：1至5條)，3：於彎曲部確認到皺摺(皺摺數：5條以上)。
Figure 107139502-A0202-12-0051-6
Figure 107139502-A0202-12-0052-7
1‧‧‧第1相位差層
2‧‧‧第2相位差層
4‧‧‧第1接著層
5‧‧‧複合相位差板

Claims (11)

  1. 一種複合相位差板，包含第1相位差層、第2相位差層、及接著第1相位差層與第2相位差層的第1接著層，該第1接著層係活性能量線硬化型接著劑的硬化物層，其中，前述第1相位差層係具有屬於液晶層之第1相位差展現層，前述第2相位差層係具有屬於液晶層之第2相位差展現層，前述第1相位差展現層及前述第2相位差展現層係透過前述第1接著層而接著，厚度為2μm至50μm，前述第1接著層係厚度為0.5μm至5μm，以下述式計算出的每單位膜厚之穿刺斜率為6kg/mm2至15kg/mm2，E=A/(B×d)上述式中，針對複合相位差板，從其主面的法線方向將直徑1mm、尖端之曲率半徑為0.5R之穿刺輔助以0.05cm/秒以上且0.5cm/秒以下的穿刺速度穿刺，將有一部位裂開時之強度設為A(kg)，裂開為止之穿刺深度設為B(mm)，複合相位差板的厚度設為d(mm)。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之複合相位差板，其中，第1相位差層為1/2波長層，第2相位差層為1/4波長層。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之複合相位差板，其中，第1相位差層為1/2波長層或1/4波長層，第2相位差層為光學補償層。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之複合相位差板，前述第1相位差展現層及前述第2相位差展現層的厚度分別為0.5μm至 10μm。
  5. 一種光學積層體，包含偏光板與積層於前述偏光板之申請專利範圍第1至4項中任一項所述之複合相位差板，其中，前述複合相位差板係以第1相位差層位於前述偏光板側的面向來積層。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之光學積層體，其係圓偏光板。
  7. 如申請專利範圍第5或6項所述之光學積層體，進一步含有接著前述偏光板與前述複合相位差板的第2接著層。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之光學積層體，其中，第2接著層係活性能量線硬化型接著劑的硬化物層。
  9. 一種圖像顯示裝置，其係包含圖像顯示面板，以及配置於前述圖像顯示面板之視覺辨認側之申請專利範圍第5至8項中任一項所述之光學積層體。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之圖像顯示裝置，其中，前述光學積層體係以前述偏光板位於視覺辨認側的面向來配置。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之圖像顯示裝置，其係有機電致發光顯示裝置。
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