TWI828762B - 偏光板複合體及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供抑制干涉不均勻的產生的新偏光板複合體。
偏光板複合體係依序具備直線偏光板、1/2波長層、活性能量線硬化型接著劑硬化所成的第1接著層及1/4波長層；其中前述1/2波長層的快軸與前述直線偏光板的穿透軸所成的角度為10°以上20°以下；前述第1接著層在波長589nm的折射率與前述1/2波長層在波長589nm的快軸方向的折射率之差的絕對值未達0.05。

Description

偏光板複合體及圖像顯示裝置
本發明係關於偏光板複合體及具有該偏光板複合體的圖像顯示裝置。
傳統上，在圖像顯示裝置中，採用有在圖像顯示面板的視覺辨認側配置具有抗反射功能的光學積層體，抑制因外來光的反射所導致之視覺辨認性的降低的方法。
作為具有抗反射功能的光學積層體，已知有藉由直線偏光板及相位差層所構成的圓偏光板。圓偏光板係將朝向圖像顯示面板的外來光，藉由直線偏光板而轉換成直線偏光，接著藉由相位差層而轉換成圓偏光。轉換成圓偏光的外來光在圖像顯示面板的表面被反射，但是在此反射之際，偏光面的旋轉方向會反轉，藉由相位差層而轉換成直線偏光後，接著因直線偏光板而被遮蔽。結果，顯著地抑制朝外部的射出。
於日本公開專利特開2018-17996號公報(專利文獻1)中記載在一種具有複數相位差層的附相位差層的偏光板，其係能夠藉由調整複數相位差層的平均折射率的差，抑制反射光的不均勻，改善視覺辨認 性。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本公開專利特開2018-17996號公報
本發明之目的在於提供干涉不均勻的產生被抑制的新偏光板複合體及具備該偏光板複合體的圖像顯示裝置。
本發明提供下列所示的偏光板複合體及圖像顯示裝置。
〔1〕一種偏光板複合體，依序具備直線偏光板、1/2波長層、活性能量線硬化型接著劑硬化所成的第1接著層、以及1/4波長層；
其中前述1/2波長層的快軸與前述直線偏光板的穿透軸所成的角度為10°以上20°以下；
前述第1接著層在波長589nm的折射率與前述1/2波長層在波長589nm的快軸方向的折射率之差的絕對值未達0.05。
〔2〕如〔1〕所記載的偏光板複合體，其中前述第1接著層在波長589nm的折射率未達1.55。
〔3〕如〔1〕或〔2〕所記載的偏光板複合體，其中前述1/4波長層在波長589nm的快軸方向的折射率與慢軸方向的折射率的平均值(亦即面內平均折射率)未達1.58。
〔4〕如〔1〕至〔3〕中任一項所記載的偏光板複合體，其中「前述第1接著層在波長589nm的折射率」、和「前述1/4波長層在波長589nm的快軸方向的折射率與慢軸方向的折射率的平均值(亦即面內平均折射率)」之差的絕對值未達0.05。
〔5〕如〔1〕至〔4〕中任一項所記載的偏光板複合體，該偏光板複合體係圓偏光板。
〔6〕如〔1〕至〔5〕中任一項所記載的偏光板複合體，其中前述1/2波長層包括：為液晶層的相位差展現層。
〔7〕如〔1〕至〔6〕中任一項所記載的偏光板複合體，其中前述1/4波長層包括：為液晶層的相位差展現層。
〔8〕如〔1〕至〔7〕中任一項所記載的偏光板複合體，其中前述第1接著層的厚度為5μm以下。
〔9〕一種圖像顯示裝置，包括圖像顯示面板及配置於前述圖像顯示面板的視覺辨認側的〔1〕至〔8〕中任一項所記載的偏光板複合體。
〔10〕如〔9〕所記載的圖像顯示裝置，其中前述偏光板複合體係以前述直線偏光板位於視覺辨認側的方向而配置。
〔11〕如〔9〕或〔10〕所記載的圖像顯示裝置，其係有機電致發光顯示裝置。
根據本發明的偏光板複合體，可抑制干涉不均勻。
10‧‧‧偏光板複合體
11‧‧‧1/2波長層
12‧‧‧1/4波長層
13‧‧‧直線偏光板
21‧‧‧第1接著層
22‧‧‧第2接著層
30‧‧‧相位差層
31‧‧‧基材層
32‧‧‧配向層
33‧‧‧相位差展現層
40,40’‧‧‧複合相位差板
111‧‧‧第1基材層
112‧‧‧第1配向層
113‧‧‧第1相位差展現層
121‧‧‧第2基材層
122‧‧‧第2配向層
123‧‧‧第2相位差展現層
第1圖係示意表示本發明的偏光板複合體的一例之概略剖面圖。
第2圖係示意表示具備液晶層作為相位差展現層的相位差層的一例之概略剖面圖。
第3圖(A)至(D)係表示本發明的偏光板複合體的製造方法中之各製造步驟的一例之概略剖面圖。
第4圖(A)及(B)係表示本發明的偏光板複合體的製造方法中之各製造步驟的其他例之概略剖面圖。
以下，參考圖面的同時，說明本發明的偏光板複合體及圖像顯示裝置。
〔複合相位差板〕
第1圖係示意表示本發明的偏光板複合體的一例之概略剖面圖。如第1圖所示，偏光板複合體10係依序積層有直線偏光板13、第2接著層22、1/2波長層11、第1接著層21及1/4波長層12。在偏光板複合體10中，1/2波長層11的快軸與直線偏光板13的穿透軸所成的角度為10°以上20°以下，較理想為12°以上18°以下，更理想為約15°。在偏光板複合體10中，1/4波長層12的快軸與直線偏光板13的穿透軸所成的角度， 較理想為70°以上80°以下，更理想為72°以上78°以下，更加理想為約75°。在偏光板複合體10中，1/2波長層11的慢軸與1/4波長層12的慢軸所成的角度，較理想為55°以上65°以下，更理想為57°以上63°以下，更加理想為約60°。藉由在成為這種角度的方式積層，偏光板複合體10可適合使用作為圓偏光板。
雖然即便在上述角度以外的角度關係亦可構成適合使用作為圓偏光板的偏光板複合體，但是藉由滿足上述關係，即使第1接著層在波長589nm的折射率未達1.55的情況，亦可有效地抑制干涉不均勻。
從薄型化的觀點，偏光板複合體10的厚度較理想為30μm至50μm，更理想為30μm至200μm，更加理想為30μm至150μm。
關於第1接著層21，將在波長589nm的折射率設為「折射率n21」。第1接著層21沒有相位差，可視為任何方向的折射率皆為相同的值。所以，「折射率n21」可為任何方向的折射率。
關於1/2波長層11，將在波長589nm的慢軸方向的折射率設為「折射率n11x」，快軸方向的折射率設為「折射率n11y」，厚度方向的折射率設為「折射率n11z」，n11x與n11y的平均值設為「面內平均折射率n11x,y」，n11x、n11y及n11z的平均值設為「三維平均折射率n11x,y,z」。面內平均折射率n11x,y與三維平均折射率n11x,y,z分別為藉由下列的式(1)、式(2)所算出的值。
n11x,y=(n11x+n11y)/2 (1)
n11x,y,z=(n11x+n11y+n11z)/3 (2)
關於1/4波長層12，將在波長589nm的慢軸方向的折射 率設為「折射率n12x」，快軸方向的折射率設為「折射率n12y」，厚度方向的折射率設為「折射率n12z」，n12x與n12y的平均值設為「面內平均折射率n12x,y」，n12x、n12y及n12z的平均值設為「三維平均折射率n12x,y,z」。面內平均折射率n12x,y與三維平均折射率n12x,y,z分別為藉由下列的式(3)、式(4)算出的值。
n12x,y=(n12x+n12y)/2 (3)
n12x,y,z=(n12x+n12y+n12z)/3 (4)
<第1接著層>
第1接著層21為使活性能量線硬化型接著劑硬化所成。第1接著層21的厚度較理想為0.1μm至50μm，更理想為0.1μm至5μm。
第1接著層21在波長589nm的折射率n21與1/2波長層11在波長589nm的快軸方向的折射率n11y之差，即式(5)算出的絕對值X1：
X1=｜n11y-n21｜ (5)
係未達0.05，較理想為0.04以下。因為第1接著層21與1/2波長層11的折射率滿足上述關係，故可抑制干涉不均勻。為了使第1接著層21與1/2波長層11的折射率滿足上述關係，可藉由例如調整第1接著層21的形成所使用的活性能量線硬化型接著劑的組成，或調整1/2波長層11的形成所使用的液晶材料而實現。
第1接著層21在波長589nm的折射率n21與1/4波長層12在波長589nm的面內平均折射率n12x,y之差，即式(6)算出的絕對值X2：
X2=｜n12x,y-n21｜ (6)
較理想為未達0.05，更理想為0.04以下。因為第1接著層21與1/4波長層12的折射率滿足上述關係，故可抑制干涉不均勻。為了使第1接著層21與1/4波長層12的折射率滿足上述關係，可藉由例如調整第1接著層21的形成所使用的活性能量線硬化型接著劑的組成，或調整1/4波長層12的形成所使用的液晶材料而實現。
第1接著層21在波長589nm的折射率n21，例如未達1.55。於本發明中，即使於第1接著層21的折射率n21小至未達1.55的情況，仍可抑制干涉不均勻。
活性能量線硬化型接著劑係接受活性能量線的照射而硬化者。可舉例如，含有環氧化合物及陽離子聚合起始劑的陽離子聚合性的活性能量線硬化型接著劑、含有丙烯酸系硬化成分及自由基聚合起始劑的自由基聚合性的活性能量線硬化型接著劑、含有如環氧化合物的陽離子聚合性硬化成分及如丙烯酸系化合物的自由基聚合性硬化成分兩者之其中調配陽離子聚合起始劑及自由基聚合起始劑的活性能量線硬化型接著劑、以及對不含起始劑的活性能量線硬化型接著劑照射電子束而硬化的電子線硬化型接著劑等。因自由基聚合有硬化收縮大的傾向，較理想為含有環氧化合物及陽離子聚合起始劑的陽離子聚合性的活性能量線硬化型接著劑。
選擇為能夠陽離子聚合的環氧化合物，其自體在室溫下為液體，即使不存在溶劑亦具有適度的流動性，賦予合適的硬化接著強度者，並對之調配有合適的陽離子聚合起始劑的活性能量線硬化型接著劑，可省略在接著1/2波長層與1/4波長層的步驟通常需要的乾燥設備。而 且，藉由適當的活性能量線量，促進硬化速度，可提高生產速度。
這種接著劑所使用的環氧化合物，可以為例如具有羥基的芳香族化合物或鏈狀化合物的縮水甘油醚化物、具有胺基的化合物的縮水甘油胺基化物、具有C-C雙鍵的鏈狀化合物的環氧化合物、飽和碳環直接或隔著伸烷基鍵結有縮水甘油氧基或環氧基乙基、或飽和碳環直接鍵結有環氧基之脂環式環氧化合物等。該等的環氧化合物可分別單獨使用，亦可併用不同的複數種。其中，由於陽離子聚合性佳，使用脂環式環氧化合物較理想。
具有羥基的芳香族化合物或鏈狀化合物的縮水甘油醚化物，可例如對該等的芳香族化合物或鏈狀化合物的羥基，將環氧氯丙烷在鹼性條件下藉由加成縮合的方法而製造。如此地，具有羥基的芳香族化合物或鏈狀化合物的縮水甘油醚化物，包括雙酚類的二縮水甘油醚、多芳香環型烷氧樹脂、烷二醇或聚烷二醇的二縮水甘油醚等。
作為雙酚類的二縮水甘油醚，例如雙酚A的縮水甘油醚化物及其寡聚物、雙酚F的縮水甘油醚化物及其寡聚物、3,3’,5,5’-四甲基-4,4’-雙酚的縮水甘油醚化物及其寡聚物等。
作為多芳香環型烷氧樹脂，例如酚醛清漆樹脂(phenol novolac resin)的縮水甘油醚化物、甲酚酚醛清漆樹脂的縮水甘油醚化物、酚芳烷基樹脂的縮水甘油醚化物、萘酚芳烷基樹脂的縮水甘油醚化物、酚二環戊二烯樹脂的縮水甘油醚化物等。再者，三酚類的縮水甘油醚化物及其寡聚物等也屬於多芳香環型烷氧樹脂。
作為烷二醇或聚烷二醇的二縮水甘油醚，例如乙二醇的縮 水甘油醚化物、二乙二醇的縮水甘油醚化物、1,4-丁二醇的縮水甘油醚化物、1,6-己二醇的縮水甘油醚化物等。
具有胺基的化合物的縮水甘油胺基化物，例如對該化合物的胺基，環氧氯丙烷在鹼性條件下藉由加成縮合的方法而可製造。具有胺基的化合物，可同時具有羥基。如此地，於具有胺基的化合物的縮水甘油胺基化物，包括1,3-伸苯基二胺的縮水甘油胺基化物及其寡聚物、1,4-伸苯基二胺的縮水甘油胺基化物及其寡聚物、3-胺基酚的縮水甘油胺基化及縮水甘油醚化物以及其寡聚物、4-胺基酚的縮水甘油胺基化及縮水甘油醚化物以及其寡聚物等。
具有C-C雙鍵的鏈狀化合物的環氧化合物，可藉由將該鏈狀化合物的C-C雙鍵，在鹼性條件下，使用過氧化物環氧基化的方法而製造。具有C-C雙鍵的鏈狀化合物，包括丁二烯、聚丁二烯、異戊二烯、戊二烯、己二烯等。而且，具有雙鍵的萜烯類也可使用作為環氧基化原料，作為非環式單萜烯，有芳樟醇等。環氧基化所使用的過氧化物，例如過氧化氫、過乙酸、第3丁基過氧化氫等。
飽和碳環直接或隔著伸烷基鍵結有縮水甘油氧基或環氧基乙基之脂環式環氧化合物，有先前揭露的以雙酚類為代表例之具有羥基的芳香族化合物的芳香環氫化所得之氫化聚羥基化合物的縮水甘油醚化物、具有羥基的環烷化合物的縮水甘油醚化物、具有乙烯基的環烷化合物的環氧化合物等。
以上說明的環氧化合物，能夠容易地取得市售品，例如分別以商品名標示之三菱化學(股)販售的”jER”系列、DIC(股)販售 的”EPICLON”、東都化成(股)販售的”EPOTOT(註冊商標)”、(股)ADEKA販售的”ADEKA RESIN(註冊商標)”、NAGASE CHEMTEX(股)販售的”DENACOL”(註冊商標)、陶氏化學公司販售的”DOWEPOXY”、日產化學工業(股)販售的”TEPIC”等。
另一方面，飽和碳環直接鍵結有環氧基的脂環式環氧化合物，例如可藉由將環內具有C-C雙鍵的非芳香族環狀化合物的C-C雙鍵，在鹼性條件下，使用過氧化物環氧基化的方法製造。作為環內具有C-C雙鍵的非芳香族環狀化合物，例如具有環戊烯環的化合物、具有環己烯環的化合物、在環戊烯環或環己烯環又至少鍵結2個碳原子而形成追加環的多環式化合物等。環內具有C-C雙鍵的非芳香族環狀化合物，可在環外具有其他的C-C雙鍵。舉環內具有C-C雙鍵的非芳香族環狀化合物的例時，有環己烯、4-乙烯基環己烯、單環式單萜烯之檸檬烯及α-蒎烯等。
飽和碳環直接鍵結有環氧基的脂環式環氧化合物，可為如上述的具有直接鍵結於環的環氧基的脂環式結構，隔著適當的連結基，分子內至少形成2個的化合物。此處，所謂的連結基，例如包含酯鍵結、醚鍵結、伸烷鍵結等。
舉飽和碳環直接鍵結環氧基的脂環式環氧化合物的具體例時，有如下列之例子。
3,4-環氧基環己烷甲酸3,4-環氧基環己基甲酯、
1,2-環氧基-4-乙烯基環己烷、
1,2-環氧基-4-環氧基乙基環己烷、
1,2-環氧基-1-甲基-4-(1-甲基環氧基乙基)環己烷、
(甲基)丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯、
2,2-雙(羥基甲基)-4-丁醇與4-環氧基乙基-1,2-環氧基環己烷的加成物、
雙(3,4-環氧基環己烷甲酸)乙烯酯、
雙(3,4-環氧基環己烷甲酸)氧乙烯酯、
雙(3,4-環氧基環己烷甲酸)1,4-環己烷二甲酯、
3,4-環氧基環己烷甲酸3-(3,4-環氧基環己基甲氧基羰基)丙酯等。
以上說明的飽和碳環直接鍵結環氧基的脂環式環氧化合物，也可以容易地取得市售品，例如分別以商品名標示之(股)DAICEL販售的”CELLOXIDE(註冊商標)”系列以及”CYCLOMER(註冊商標)”系列、陶氏化學公司販售的”SYRACURE UVR”系列等。
含有環氧化合物的硬化性接著劑，可再含有環氧化合物以外的活性能量線硬化性化合物。作為環氧化合物以外的活性能量線硬化性化合物，例如氧雜環丁烷(oxetane)化合物、丙烯酸化合物等。其中，在陽離子聚合中，由於具有促進硬化速度的可能性，併用氧雜環丁烷化合物較理想。
氧雜環丁烷化合物為分子內具有4員環醚的化合物，例如以下。
1,4-雙[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基甲基1苯、
3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧雜環丁烷、
雙(3-乙基-3-氧雜環丁烷基甲基)醚、
3-乙基-3-(苯氧基甲基)氧雜環丁烷、
3-乙基-3-(環己氧基甲基)氧雜環丁烷、
酚醛清漆氧雜環丁烷、
二甲苯雙氧雜環丁烷、
1,3-雙[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]苯等。
氧雜環丁烷化合物也可以容易地取得市售品，例如分別以商品名標示之東亞合成(股)販售的”Aronoxetane(註冊商標)”系列、宇部興產(股)販售的”ETERNACOLL(註冊商標)”系列等。
包含環氧化合物、氧雜環丁烷化合物的硬化性化合物，為了使含有該等的接著劑不含溶劑，使用不被有機溶劑等稀釋者較理想。而且，構成接著劑的其他成分，包含後述的陽離子聚合起始劑、敏化劑之少量成分，比起溶解於有機溶劑者，使用除去‧乾燥有機溶劑的化合物單獨的粉末或液體較理想。
陽離子聚合起始劑，係接受活性能量線，例如紫外線的照射而產生陽離子種的化合物。只要是能提供調配好的接著劑所需的接著強度及硬化速度者即可，例如芳香族重氮鹽；如芳香族錪鹽、芳香族鋶鹽的鎓鹽；鐵-芳烴錯合物等。該等的陽離子聚合起始劑，可分別單獨使用，亦可併用不同的複數種。
作為芳香族重氮鹽，例如以下。
苯重氮 六氟銻酸鹽、
苯重氮 六氟磷酸鹽、
苯重氮 六氟硼酸鹽等。
作為芳香族錪鹽，例如以下。
二苯基錪 四(五氟苯基)硼酸鹽、
二苯基錪 六氟磷酸鹽、
二苯基錪 六氟銻酸鹽、
雙(4-壬基苯基)錪 六氟磷酸鹽等。
作為芳香族鋶鹽，例如以下。
三苯基鋶 六氟磷酸鹽、
三苯基鋶 六氟銻酸鹽、
三苯基鋶 四(五氟苯基)硼酸鹽、
二苯基(4-苯基硫苯基)鋶 六氟銻酸鹽、
4,4’-雙(二苯基磺醯基)二苯硫醚 雙六氟磷酸鹽、
4,4’-雙[二(β-羥基乙氧基苯基)磺醯基]二苯硫醚 雙六氟銻酸鹽、
4,4’-雙[二(β-羥基乙氧基苯基)磺醯基]二苯硫醚 雙六氟磷酸鹽、
7-[二(對-甲苯基)磺醯基]-2-異丙基噻噸酮 六氟銻酸鹽、
7-[二(對-甲苯基)磺醯基]-2-異丙基噻噸酮 四(五氟苯基)硼酸鹽、
4-苯基羰基-4’-二苯基磺醯基二苯硫醚 六氟磷酸鹽、
4-(對-第3丁基苯基羰基)-4’-二苯基磺醯基-二苯硫醚 六氟銻酸鹽、
4-(對-第3丁基苯基羰基)-4’-二(對-甲苯基)磺醯基-二苯硫醚 四(五氟苯基)硼酸鹽等。
作為鐵-芳烴錯合物，例如下列者。
二甲苯-環戊二烯基鐵(II) 六氟銻酸鹽、
異丙苯-環戊二烯基鐵(II) 六氟磷酸鹽、二甲苯-環戊二烯基鐵(II)三(三氟甲基磺醯基)甲烷化物等。
陽離子聚合起始劑中，由於在300nm以上的波長區域具有紫外線吸收特性，硬化性佳，可提供具有良好的機械強度、接著強度的接著劑層，使用芳香族鋶鹽較理想。
陽離子聚合起始劑也可以容易地取得市售品，例如分別以商品名標示之日本化藥(股)販售的”KAYARAD(註冊商標)”系列、陶氏化學公司販售的”SYRACURE UVI”系列、SUNAPRO(股)販售的光酸產生劑”CPI”系列、綠化學(股)販售的光酸產生劑”TAZ”、”BBI”及”DTS”、(股)ADEKA販售的”ADEKAOPTOMER”系列、RHODIA公司販售的”RHODORSIL(註冊商標)”等。
於活性能量線硬化型接著劑，對活性能量線硬化型接著劑的總量100質量份而言，陽離子聚合起始劑，通常以0.5至20質量份的比例調配，較理想為1至15質量份。量少時，硬化變得不充分，接著劑層的機械強度、接著強度降低。而且，該量太多時，因接著劑層中的離子性物質增加，接著劑層的吸濕性變高，所得之偏光板的耐久性降低。
於使用電子線硬化型之活性能量線硬化型接著劑的情況，組成物中沒有特別需要含有光聚合起始劑，於使用紫外線硬化型的情況，使用光自由基產生劑較理想。作為光自由基產生劑，例如奪氫型光自由基產生劑及裂解型光自由基產生劑。
作為奪氫型光自由基產生劑，例如1-甲基萘、2-甲基萘、 1-氟萘、1-氯萘、2-氯萘、1-溴萘、2-溴萘、1-碘萘、2-碘萘、1-萘酚、2-萘酚、1-甲氧基萘、2-甲氧基萘、1,4-二氰基萘等的萘衍生物、蒽、1,2-苯並蒽、9,10-二氯蒽、9,10-二溴蒽、9,10-二苯基蒽、9-氰基蒽、9,10-二氰基蒽、2,6,9,10-四氰基蒽等的蒽衍生物、蒎烯衍生物、咔唑、9-甲基咔唑、9-苯基咔唑、9-丙-2-炔基-9H-咔唑、9-丙基-9H-咔唑、9-乙烯基咔唑、9H-咔唑-9-乙醇、9-甲基-3-硝基-9H-咔唑、9-甲基-3,6-二硝基-9H-咔唑、9-辛醯基咔唑、9-咔唑甲醇、9-咔唑丙酸、9-咔唑丙腈、9-乙基-3,6-二硝基-9H-咔唑、9-乙基-3-硝基咔唑、9-乙基咔唑、9-異丙基咔唑、9-(乙氧基羰基甲基)咔唑、9-(嗎啉基甲基)咔唑、9-乙醯基咔唑、9-烯丙基咔唑、9-苯甲基-9H-咔唑、9-咔唑乙酸、9-(2-硝基苯基)咔唑、9-(4-甲氧基苯基)咔唑、9-(1-乙氧基-2-甲基-丙基)-9H-咔唑、3-硝基咔唑、4-羥基咔唑、3,6-二硝基-9H-咔唑、3,6-二苯基-9H-咔唑、2-羥基咔唑、3,6-二乙醯基-9H-乙基咔唑等的咔唑衍生物、二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、4,4’-雙(二甲氧基)二苯甲酮、4,4’-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4，4’-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、2-苯甲醯基苯甲酸甲酯、2-甲基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮等的二苯甲酮衍生物、芳香族羰基化合物、[4-(4-甲基苯硫基)苯基]-苯基甲酮、氧雜蒽酮(xanthone)、噻噸酮(thioxanthone)、2-氯噻噸酮、4-氯噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、4-異丙基噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮等的噻噸酮衍生物、香豆素衍生物等。
裂解型光自由基產生劑，係由於照射活性能量線，該化合 物裂解而產生自由基型的光自由基產生劑，作為其具體例，例如安息香醚衍生物、苯乙酮衍生物等的芳香基烷基酮類、肟酮類、醯基氧化膦類、硫代安息香酸S-苯酯類、茂鈦(titanocene)類以及該等的高分子量化的衍生物，但不限於該等例。作為市售的裂解型光自由基起始劑，可舉例如1-(4-十二烷基苯甲醯基)-1-羥基-1-甲基乙烷、1-(4-異丙基苯甲醯基)-1-羥基-1-甲基乙烷、1-苯甲醯基-1-羥基-1-甲基乙烷、1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯甲醯基]-1-羥基-1-甲基乙烷、1-[4-(丙烯醯氧基乙氧基)-苯甲醯基]-1-羥基-1-甲基乙烷、二苯基酮、苯基-1-羥基-環己基酮、苯甲基二甲基縮酮、雙(環戊二烯基)-雙(2,6-二氟-3-吡啶基-苯基)鈦、(η6-異丙基苯)-(η5-環戊二烯基)-鐵(II)六氟磷酸鹽、三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基-苯甲醯基)-(2,4,4-三甲基戊基)氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二戊氧基苯基氧化膦或雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦、(4-嗎啉基苯甲醯基)-1-苯甲基-1-二甲基胺基丙烷、4-(甲硫基苯甲醯基)-1-甲基-1-嗎啉基乙烷等，但不限於該等例。
本發明所使用的活性能量線硬化型接著劑中，包含電子線硬化型的光自由基產生劑，亦即奪氫型或裂解型光自由基產生劑，除了皆可分別單獨使用外，亦可複數組合使用，但在光自由基產生劑自體的安定性、硬化性方面，更理想為裂解型光自由基產生劑的1種以上的組合。裂解型光自由基產生劑中，較理想為乙醯基氧化膦類，更具體地，三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦(商品名「DAROCURE TPO」；日本汽巴(CIBA)(股))、雙(2,6-二甲氧基-苯甲醯基)-(2,4,4-三甲基戊 基)氧化膦(商品名「CGI 403」；日本汽巴(股))、或雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二戊氧基苯基氧化膦(商品名「Irgacure 819」；日本汽巴(股))較理想。
活性能量線硬化型接著劑視需要可含有敏化劑。藉由使用敏化劑，可提高反應性，可再提高接著層的機械強度、接著強度。作為敏化劑，適合使用前述者。
於調配敏化劑的情況，對活性能量線硬化型接著劑的總量100質量份而言，較理想為0.1至20質量份的範圍。
於活性能量線硬化型接著劑，在無損其效果的範圍下可調配各種添加劑。作為可調配的添加劑，例如離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、黏著賦予劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、塑化劑、消泡劑等。
構成活性能量線硬化型接著劑的該等的各成分，通常在溶解於溶劑的狀態下使用。於活性能量線硬化型接著劑包含溶劑的情況，將活性能量線硬化型接著劑塗佈於塗佈面，使其乾燥，可得接著層。不溶解於溶劑的成分，只需要分散在系統中。
活性能量線硬化型接著劑，被塗佈於1/2波長層11的與1/4波長層12的接著面、1/4波長層12的與1/2波長層11的接著面，或是兩者。在1/2波長層11的與1/4波長層12的接著面及1/4波長層12的與1/2波長層11的接著面，可預先進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等，亦可形成底塗層等。底塗層的厚度，通常為0.001至5μm左右，較理想為0.01μm以上，又較理想為4μm以下，更理想為3μm以下。底 塗層太厚時，容易變成複合相位差板5的外觀不良。
作為活性能量線硬化型接著劑的黏度，只要具有可用各種方法塗佈的黏度即可，在溫度25℃之黏度為10至1,000mPa‧sec的範圍較理想，20至500mPa‧sec的範圍更理想。其黏度太小時，有不易形成所期望的厚度的層的傾向。另一方面，其黏度太大時，變得不易流動，有不易得到沒有不均勻的均勻塗膜的傾向。此處所謂的黏度，係使用E型黏度計，接著劑調溫為25℃後，在10rpm測定的值。
上述活性能量線硬化型接著劑，可使用電子線硬化型、紫外線硬化型的態樣。於本說明書，所謂活性能量線，定義為使產生活性物質的化合物分解而可產生活性物質的能量線。作為這種活性能量線，例如可見光、紫外線、紅外線、X射線、α線、β線、γ線及電子線等。
於電子線硬化型中，電子線的照射條件只要是可使上述活性能量線硬化型接著劑硬化的條件的話，可採用任意適合的條件。例如電子線照射的加速電壓為5kV至300kV較理想，更理想為10kV至250kV。加速電壓未達5kV的情況，電子線可能無法到達接著劑，硬化可能不充分，加速電壓超過300kV時，穿過樣品的穿透力太強，電子線可能會反彈，可能破壞透明保護膜、偏光件。照射線量為5至100kGy，較理想為10至75kGy。照射線量未達5kGy的情況，接著劑變得硬化不充分，超過100kGy時，破壞相位差層，產生機械強度的降低、黃變，無法得到所期望的光學特性。
電子線照射通常在非活性氣體中進行照射，但如果有需要，可在大氣中或導入有少許的氧氣的條件下進行。藉由適當地導入氧 氣，最初暴露於電子線的相位差層表面，產生氧氣阻礙，可防止對相位差層的破壞，可有效地只對接著層照射電子線。
於紫外線硬化型中，活性能量線硬化型接著劑的光照射強度係隨著每種接著劑的組成而決定，無特別限制，較理想為10至1,000mW/cm2。對樹脂組成物的光照射強度未達10mW/cm2時，反應時間變得太長，超過1,000mW/cm2時，由光源輻射的熱及組成物聚合時的發熱，可能產生接著劑的構成材料的黃變。再者，照射強度較理想為光陽離子聚合起始劑的活性化有效的波長區域之強度，更理想為波長400nm以下的波長區域之強度，更加理想為波長280至320nm的波長區域之強度。以這種光照射強度，照射1次或複數次，其累積光量，較理想地設定為10mJ/cm2以上，更理想地100至1,000mJ/cm2。上述對接著劑的累積光量未達10mJ/cm2時，來自聚合起始劑的活性物質的產生不充分，接著劑的硬化變得不充分。另一方面，其累積光量超過1,000mJ/cm2時，照射時間變得非常長，在提高生產性上不利。此時，隨著所使用的相位差層的膜的種類、接著劑的種類的組合等，需要哪個波長範圍(UVA(320至390nm)、UVB(280至320nm)等)的累積光量不同。
為了本發明的藉由活性能量線的照射而進行接著劑的聚合硬化所使用的光源，無特別限制，例如低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射、發出波長範圍380至440nm的LED光源、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈。從能量的安定性裝置的簡易性的觀點，較理想為波長400nm以下具有發光分佈的紫外光源。
<1/2波長層‧1/4波長層>
1/2波長層11及1/4波長層12只要包含至少一相位差展現層的話，可僅由相位差展現層所構成，亦可為與相位差展現層一起包含其他層者。作為其他層，例如基材層、配向膜層、保護層等。再者，其他層不影響相位差的值。而且，無關其他層的存在與否，本說明書中，相位差層的折射率是指相位差展現層的折射率。
作為相位差展現層，例如藉由使用液晶化合物所形成的層(以下稱為「液晶層」)或延伸膜。相位差展現層，從偏光板複合體的薄型化的觀點，較理想為液晶層。比起為延伸膜的相位差展現層，為液晶層的相位差展現層，一般較容易薄膜化。相位差展現層的厚度為0.5μm至10μm較理想，更理想為0.5μm至5μm。再者，於1/2波長層11及1/4波長層12包含相位差展現層以外的其他層(基材層、配向膜層、保護層等)的情況，全體的厚度為0.5μm至300μm較理想，更理想為0.5μm至150μm。
相位差層的光學特性，可藉由構成相位差展現層的液晶化合物的配向狀態或構成相位差展現層的延伸膜的延伸方法而調節。
(1/2波長層)
1/2波長層11係在入射光的電場振動方向(偏光面)賦予π(=λ/2)的相位差者，具有改變直線偏光的方向(偏光方向)的功能。而且，圓偏光的光入射時，可以將圓偏光的旋轉方向反轉。
1/2波長層11係特定波長λ nm的面內延遲值之Re(λ)滿足Re(λ)=λ/2的層。在可見光區域的任意波長達成Re(λ)=λ/2者 即可，其中在波長550nm達成較理想。波長550nm的面內延遲值之Re(550)滿足210nm≦Re(550)≦300nm較理想。而且滿足220nm≦Re(550)≦290nm更理想。
1/2波長層11，在波長589nm的快軸方向的折射率(n11y)未達1.60較理想，更理想為1.59以下。
(1/4波長層)
1/4波長層12，係在入射光的電場振動方向(偏光面)賦予π/2(=λ/4)的相位差者，具有改變某特定波長的直線偏光為圓偏光的功能。
1/4波長層12，係特定波長λnm的面內延遲值之Re(λ)滿足Re(λ)=λ/4的層，在可見光區域的任意波長達成即可，其中在波長550nm達成較理想。波長550nm的面內延遲值之Re(550)滿足100nm≦Re(550)≦160nm較理想。而且滿足110nm≦Re(550)≦150nm更理想。
1/4波長層12，在波長589nm的折射率的平均值(n12x,y)未達1.58較理想，更理想為1.57以下。
(由液晶層所形成的相位差展現層)
說明相位差層的相位差展現層為液晶層的情況。相位差層可為1/2波長層，亦可為1/4波長層。第2圖係表示包含液晶層作為相位差展現層及其他層的相位差層的一例之概略剖面圖。如第2圖所示，相位差層30係由基材層31、配向層32、為液晶層的相位差展現層33依序積層所成。相位差層只要是包含液晶層的相位差展現層33的構成即可，不限定為第2圖表示的相位差層30，可為從相位差層30剝離基材層31之只由配向層 32及相位差展現層33所構成，亦可為從相位差層30剝離基材層31及配向層32之只由相位差展現層33所構成。從薄膜化的觀點，相位差層為基材層被剝離的構成較理想，只由液晶層的相位差展現層33所構成更理想。基材層31具有作為支持形成於基材層31上的配向層32及液晶層的相位差展現層33的支持層的功能。基材層31較理想地為樹脂材料所形成的膜。
作為樹脂材料，使用例如透明性、機械強度、熱安定性、延伸性等優異的樹脂材料。具體地例如聚乙烯、聚丙烯等的聚烯烴系樹脂；降莰烯系聚合物等的環狀聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等的聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等的(甲基)丙烯酸系樹脂；三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素及纖維素乙酸酯丙酸酯等的纖維素酯系樹脂；聚乙烯醇及聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚醚酮系樹脂；聚苯硫醚系樹脂；聚苯醚系樹脂以及該等的混合物、共聚物等。該等的樹脂中，使用環狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂中的任一種或該等的混合物較理想。再者，上述「(甲基)丙烯酸」，係指「丙烯酸及甲基丙烯酸的至少1種」。
基材層31可為上述樹脂的1種或2種以上混合的單層，亦可具有2層以上的多層結構。於具有多層結構的情況，構成各層的樹脂，可為相同，亦可為不同。
構成基材層的樹脂材料，可添加任意的添加劑。作為添加 劑，例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、離型劑、著色防止劑、難燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料及著色劑等。
基材層31的厚度無特別限制，一般從強度、操作性等的作業性的點，較理想為5至200μm，更理想為10至200μm，更加理想為10至150μm。
為了提高基材層31與配向層32的黏合性，至少於基材層31的形成配向層32側的表面，進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等，可形成底塗層等。再者，於剝離基材層31或者基材層31及配向層32成為相位差層的情況，藉由調整在剝離界面的黏合力，可容易地剝離。
配向層32具有使形成於該等的配向層32上的包含於液晶層的相位差展現層33的液晶化合物在所期望的方向液晶配向之配向控制力。作為配向層32，可舉例如配向性聚合物所形成的配向性聚合物層、光配向聚合物所形成的光配向性聚合物層、層表面具有凹凸圖案、複數溝槽(溝)的溝槽配向層。配向層32的厚度，通常為0.01至10μm，較理想為0.01至5μm。
配向性聚合物層可由將配向性聚合物溶解於溶劑的組成物，塗佈於基材層31，除去溶劑，視需要進行刷磨處理而形成。於該情況，於配向性聚合物所形成的配向性聚合物層中，配向控制力可藉由配向性聚合物的表面狀態、刷磨條件而任意調整。
光配向性聚合物層可將包含具有光反應性基的聚合物或單體及溶劑的組成物塗佈於基材層31，照射偏光而形成。於該情況，於光配向性聚合物層中，配向控制力可藉由對光配向性聚合物之偏光照射條件 等而任意調整。
溝槽配向層例如在感光性聚醯亞胺膜表面隔著具有圖案形狀的狹縫的曝光用遮罩進行曝光、顯像等而形成凹凸圖案的方法；在表面具有溝槽的板狀母盤，形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化層，將該層轉印至基材層31而使其硬化的方法；在基材層31，形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化層，對該層壓入具有凹凸的滾輪狀的母盤等而形成凹凸，使其硬化的方法等而形成。
為液晶層的相位差展現層33係對光賦予指定的相位差者，可舉例為例如1/2波長層用的相位差展現層、1/4波長層用的相位差展現層。
為液晶層的相位差展現層33可使用習知的液晶化合物形成。液晶化合物的種類無特別限制，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物以及該等的化合物。而且，液晶化合物，可為高分子液晶化合物，亦可為聚合性液晶化合物，可為該等的混合物。作為液晶化合物，例如特表平11-513019號公報、特開2005-289980號公報、特開2007-108732號公報、特開2010-244038號公報、特開2010-31223號公報、特開2010-270108號公報、特開2011-6360號公報、特開2011-207765號公報、特開2016-81035號公報、國際公開第2017/043438號及特表2011-207765號公報記載的液晶化合物。
例如於使用聚合性液晶化合物的情況，可藉由將包含聚合性液晶化合物的組成物塗佈於配向層32上，形成塗膜，使該塗膜硬化，形成相位差展現層33。相位差展現層33的厚度，較理想為0.5至10 μm，更理想為0.5至5μm。
除了液晶化合物以外，包含聚合性液晶化合物的組成物，可包含聚合起始劑、聚合性單體、界面活性劑、溶劑、黏合改良劑、塑化劑、配向劑等。作為包含聚合性液晶化合物的組成物的塗佈方法，例如模頭塗佈法等的習知的方法。作為包含聚合性液晶化合物的組成物的硬化方法，例如照射活性能量線(例如紫外線)等的習知的方法。
(具備延伸膜作為相位差展現層的相位差層)
說明相位差展現層為延伸膜的情況。延伸膜，通常藉由延伸基材而得。作為延伸基材的方法，例如準備基材纏繞在捲筒上的捲筒輪(捲繞體)，從這種捲繞體，連續地捲出基材，將捲出的基材傳送至加熱爐。加熱爐的設定溫度為基材的玻璃轉化溫度附近(℃)至[玻璃轉化溫度+100℃](℃)的範圍，較理想為玻璃轉化溫度附近(℃)至[玻璃轉化溫度+50℃](℃)的範圍。於該加熱爐，朝基材的行進方向或與行進方向垂直的方向進行延伸時，調整傳送方向張力，賦予傾斜任意角度，進行單軸或二軸的熱延伸處理。延伸的倍率，通常為1.1至6倍，較理想為1.1至3.5倍。
而且，作為在傾斜方向延伸的方法，只要是連續地將配向軸傾斜所期望的角度的話，則無特別限制，可使用習知的延伸方法。這種延伸方法，例如特開昭50-83482號公報、特開平2-113920號公報記載的方法。於藉由延伸而賦予膜相位差性的情況，延伸後的厚度，依據延伸前的厚度、延伸倍率而決定。
前述基材通常為透明基材。所謂透明基材係指可讓光、特 別是可見光通過的具有透明性的基材，所謂透明性係指對橫跨波長為380至780nm的光線的穿透率為80%以上的特性。作為具體的透明基材，例如透光性樹脂基材。作為構成透光性樹脂基材的樹脂，例如聚乙烯、聚丙烯等的聚烯烴；降莰烯系聚合物等的環狀烯烴系樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯等的纖維素酯；聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚苯硫醚以及聚苯醚。從取得的容易性、透明性的觀點，較理想為聚對苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸酯、纖維素酯、環狀烯烴系樹脂或聚碳酸酯。
纖維素酯係使纖維素所包含的羥基之一部分或全部被酯化者，可容易地從市場上取得。而且，纖維素酯基材也可容易地從市場上取得。作為市售的纖維素酯基材，例如”FUJITAC(註冊商標)Film”(FUHIFILM(股)公司)；”KC8UX2M”、”KC8UY”及”KC4UY”(KONICA MINOLTA OPTO(股)公司)等。
聚甲基丙烯酸酯及聚丙烯酸酯(以下將聚甲基丙烯酸酯及聚丙烯酸酯統稱為(甲基)丙烯酸系樹脂)，可容易地從市場上取得。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，可舉例如甲基丙烯酸烷酯或丙烯酸烷酯的單獨聚合物、甲基丙烯酸烷酯與丙烯酸烷酯的共聚物等。作為甲基丙烯酸烷酯，具體地例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯等，或者作為丙烯酸烷酯，具體地例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯等。這種(甲基)丙烯酸系樹脂，可使用市售廣泛作為(甲基)丙烯酸系樹脂者。作為(甲基)丙烯酸系樹脂，可使用被稱為耐 衝擊的(甲基)丙烯酸系樹脂。
為了更進一步提高機械強度，在(甲基)丙烯酸系樹脂含有橡膠粒子亦較理想。橡膠粒子為丙烯酸系者較理想。此處，所謂丙烯酸系橡膠粒子，係指如丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯的丙烯酸烷酯為主成分的丙烯酸系單體，在多官能基單體的存在下聚合所得之具有橡膠彈性的粒子。丙烯酸系橡膠粒子可為使這種具有橡膠彈性的粒子以單層所形成者，亦可為具有至少一層的橡膠彈性層的多層結構體。作為多層結構的丙烯酸系橡膠粒子，例如如上述具有橡膠彈性的粒子為核，其周圍包覆硬質的甲基丙烯酸烷酯系聚合物者；硬質的甲基丙烯酸烷酯系聚合物為核，其周圍包覆如上述具有橡膠彈性的丙烯酸系聚合物者；或硬質的核的周圍包覆橡膠彈性的丙烯酸系聚合物，再於其周圍包覆硬質的甲基丙烯酸烷酯系聚合物者等。彈性層所形成的橡膠粒子，其平均直徑，通常為50至400nm左右的範圍。
對(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份而言，(甲基)丙烯酸系樹脂的橡膠粒子的含量，通常為5至50質量份左右。(甲基)丙烯酸系樹脂及丙烯酸系橡膠粒子，因該等在混合狀態下有被販售，可使用其市售品。調配丙烯酸系橡膠粒子的(甲基)丙烯酸系樹脂的市售品的例，可舉住友化學(股)販售的”HT55X”、”TECHNOLOY S001”等。”TECHNOLOY S001”是以膜的形態販售。
環狀烯烴系樹脂可容易地從市場上取得。作為市售的環狀烯烴系樹脂，可舉”Topas”(註冊商標)[Ticona公司(獨)]、”ARTON”(註冊商標)[JSR公司(股)]、”ZEONOR”(註冊商標)[日本ZEON 公司(股)]、”ZEONEX”(註冊商標)[日本ZEON公司(股)]及”APEL”(註冊商標)[三井化學公司(股)]。這種環狀烯烴系樹脂，例如藉由溶劑鑄膜法、熔融擠出法等習知的手段製膜，可成為基材。而且，可使用市售的環狀烯烴系樹脂基材。作為市售的環狀烯烴系樹脂基材，例如”ESCENA”(註冊商標)[積水化學工業(股)]、”SCA40”(註冊商標)[積水化學工業(股)]、”ZEONOR FILM”(註冊商標)[OPTES(股)]及”ARTON FILM”(註冊商標)[JSR公司(股)]。
於環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴、鏈狀烯烴、具有乙烯基的芳香族化合物的共聚物的情況，對共聚物的全部結構單元而言，來自環狀烯烴的結構單元的含有比例通常為50莫耳%以下，較理想為15至50莫耳%的範圍。作為鏈狀烯烴，可舉乙烯及丙烯，作為具有乙烯基的芳香族化合物，可舉苯乙烯、α-甲基苯乙烯及烷基取代苯乙烯。於環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴、鏈狀烯烴、具有乙烯基的芳香族化合物的三元共聚物的情況，對共聚物的全部結構單元而言，來自鏈狀烯烴的結構單元的含有比例通常為5至80莫耳%，來自具有乙烯基的芳香族化合物的結構單元的含有比例，對共聚物的全部結構單元而言，通常為5至80莫耳%。這種三元共聚物，在其製造，具有高價的環狀烯烴的使用量可為較少的優點。
<直線偏光板>
直線偏光板13，只要是具有由透過光得到直線偏光的偏光功能的膜即可。作為該膜，可舉吸附有具有吸收各向異性的色素之延伸膜或包含塗有具有吸收各向異性的色素之膜作為偏光件的膜等。作為具有吸收各向異性的色素，例如二色性色素。被使用作為偏光件之塗有具有吸收各向異性 的色素之膜，可舉吸附有具有吸收各向異性的色素之延伸膜、或者塗佈包含具有液晶性的二色性色素的組成物或包含二色性色素及聚合性液晶的組成物所得之具有液相層的膜。
(具備延伸膜作為偏光件的直線偏光板)
說明具備吸附有具有吸收各向異性的色素之延伸膜作為偏光件的直線偏光板。作為偏光件之吸附有具有吸收各向異性的色素之延伸膜，通常係經過將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸的步驟、藉由聚乙烯醇系樹脂膜用二色性色素染色而使二色性色素吸附的步驟、以及吸附有二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜用硼酸水溶液處理的步驟以及硼酸水溶液處理後的水洗步驟而製造。這種偏光件可原樣地使用作為直線偏光板，或者在這種偏光件的至少一側的面貼合透明保護膜者，使用作為直線偏光板。
如此地，對聚乙烯醇系樹脂膜，進行單軸延伸、藉由二色性色素染色、硼酸處理、水洗及乾燥所得之偏光件的厚度，較理想為5至40μm。
作為貼合於偏光件的單面或兩面的保護膜的材質，無特別限制，可舉例如環狀聚烯烴系樹脂膜、如三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素之樹脂所構成的乙酸纖維素系樹脂膜、如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯的樹脂所構成的聚酯系樹脂膜、聚碳酸酯系樹脂膜、(甲基)丙烯酸系樹脂膜、聚丙烯系樹脂膜等本領域習知的膜。保護膜的厚度，從薄型化的觀點，通常為300μm以下，較理想為200μm以下，更理想為50μm以下，而且通常為5μm以上，較理想為20μm以上。而且，視覺辨認側的保護膜，可具有相位差，亦可不具有相 位差。另一方面，積層於1/2波長層11側的保護膜，其相位差為10nm以下較理想。
(具備具有液晶層的膜作為偏光件的直線偏光板)
說明關於具備具有液晶層的膜作為偏光件的直線偏光板。使用作為偏光件的塗佈具有吸收各向異性的色素的膜，例如塗佈包含具有液晶性的二色性色素的組成物或包含二色性色素及液晶化合物的組成物所得之膜等。該膜可單獨使用作為直線偏光板，亦可在藉由其單面或兩面具有保護膜的構成來使用作為直線偏光板。作為該保護膜，例如與具備上述延伸膜作為偏光件的直線偏光板相同者。
塗佈具有吸收各向異性的色素的膜，薄者較理想，太薄時，強度降低，有加工性變差的傾向。該膜的厚度，通常為20μm以下，較理想為5μm以下，更理想為0.5μm以上3μm以下。
作為前述塗佈具有吸收各向異性的色素的膜，具體地，例如特開2012-33249號公報等記載的膜。
可將前述具有吸收各向異性的色素，直接塗佈於1/2波長層11而構成偏光板複合體。於該情況，不需要設置第2接著層22。
<第2接著層>
第2接著層22，例如可由黏著劑、水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑及該等的組合所構成。於本說明書，「第2接著層」的用語，不僅包含由接著劑所構成的接著層，也包含黏著劑所構成的黏著層。
成為第2接著層22的活性能量線硬化型接著劑，可適用上述第1接著層21的說明。第1接著層21及第2接著層22為活性能量線 硬化型接著劑所形成的情況，第1接著層21及第2接著層22可由相同的活性能量線硬化型接著劑所形成，亦可由不同的活性能量線硬化型接著劑所形成。第2接著層22的在波長589nm的折射率n22未達1.55較理想。
<其他層>
偏光板複合體，可具有上述以外的層，例如可具有光學補償用的相位差層，可具有第1接著層21及第2接著層22以外的第3接著層。第3接著層，例如為設置於1/4波長層12的與第1接著層21相反側的表面之黏著劑層，偏光板複合體係為了貼合於圖像顯示面板而使用。
〔偏光板複合體的製造方法〕
第3圖(A)至(D)係表示本發明的偏光板複合體的製造方法的一例之概略剖面圖。將如第3圖(A)所示的包含第1相位差展現層113、第1配向層112及第1基材層111的1/2波長層11，與如第3圖(B)所示的包含第2相位差展現層123、第2配向層122及第2基材層121的1/4波長層12，隔著第1接著層21積層，得到複合相位差板40。複合相位差板40，例如，如第3圖(C)所示，為使第1基材層111、第1配向層112、第1相位差展現層113、第1接著層21、第2相位差展現層123、第2配向層122、第2基材層121依序積層的積層體。然後，如第3圖(D)所示，在1/2波長層11側，隔著第2接著層22，積層直線偏光板13，得到偏光板複合體10。
1/2波長層11及1/4波長層12，相位差展現層113、123可配置於內側，亦可配置於外側，如第3圖(C)、(D)所示，各相位 差展現層113、123配置於內側，與第1接著層32接觸地配置較理想。
作為使1/2波長層11及1/4波長層12接著的方法，可舉在1/2波長層11的貼合面或1/4波長層12的貼合面之任一者或兩者，塗佈構成第1接著層21的活性能量線硬化型接著劑，將另一貼合面積層於其上，然後，從1/2波長層11或1/4波長層12側，照射活性能量線，使接著劑硬化的方法。構成第1接著層21的接著劑的塗佈，例如可利用刮刀、線棒、模頭塗佈機、缺角輪塗佈機、凹版塗佈機等的各種塗佈方式。
在1/2波長層11的貼合面或1/4波長層12的貼合面之任一者或兩者，可進行電暈處理、電漿處理等，亦可形成底塗層。
複合相位差板40可為如第3圖(C)所示的積層體，亦可為將第1基材層111及第2基材層121的至少一層剝離的積層體。而且，亦可為從如第3圖(C)所示的積層體剝離第1基材層111及第2基材層121之積層體，可為從如第3圖(C)所示的積層體剝離第2基材層121及第2配向層122之積層體。在第4圖(A)、(B)中表示具體例。
第4圖(A)、(B)係表示從第3圖(C)所示的複合相位差板40之偏光板複合體的製造方法的其他例之概略剖面圖。如第4圖(A)所示，從第3圖(C)所示的複合相位差板40，剝離第1基材層111及第2基材層121、第2基材層121及第2配向層122，得到複合相位差板40’，然後如第4圖(B)所示，在1/2波長層11(第1相位差展現層113)側，隔著第2接著層22，積層直線偏光板13，得到偏光板複合體10。
〔偏光板複合體的用途〕
圓偏光板之偏光板複合體，作為配置於圖像顯示面板的視覺辨認側的賦予抗反射功能的光學積層體，可使用於各種圖像顯示裝置。所謂圖像顯示裝置，係指具有圖像顯示面板的裝置，包含發光元件或發光裝置作為發光源。作為圖像顯示裝置，例如液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、無機電致發光(EL)顯示裝置、觸控面板顯示裝置、電子發射顯示裝置(例如電場發射顯示裝置(FED)、表面電場發射顯示裝置(SED))、電子紙(使用電子墨水、電泳元件的顯示裝置)、電漿顯示裝置、投影型顯示裝置(例如光柵光閥(GLV)顯示裝置、具有數位微鏡(DMD)的顯示裝置)以及壓電陶瓷顯示器等。液晶顯示裝置，包括透過型液晶顯示裝置、半透過型液晶顯示裝置、反射型液晶顯示裝置、直視型液晶顯示裝置及投影型液晶顯示裝置的任一種。該等的圖像顯示裝置，可為顯示二維圖像的圖像顯示裝置，亦可為顯示三維圖像的立體圖像顯示裝置。特別是圓偏光板的光學積層體，可有效地使用於可具備具有彎曲部的圖像顯示面板的有機電致發光(EL)顯示裝置。
[實施例]
以下，顯示實施例及比較例，更具體地說明本發明，但本發明不限於該等例。以下，表示使用量、含量的份及%，除非另有說明，為質量基準。
〔活性能量線硬化型接著劑的調整〕
將以下所示的各成分，以表1所示的調配比例(單位為質量份)混合後，脫泡，調整接著劑A至F。再者，陽離子聚合起始劑(B)，調配為50質量%碳酸丙烯酯溶液，表1表示其固體成分量。
(環氧化合物)
A-1：3,4-環氧基環己烷甲酸3,4-環氧基環己基甲酯(商品名：CEL2021P、DAICEL(股)製)
A-2：雙酚F型環氧樹脂(商品名：EXA-830CRP、DIC(股)製)
A-3：茀型環氧樹脂(商品名：OGSOL EG-200、大阪煤氣化學(股)製)
A-4：DCPDM型環氧樹脂(商品名：EP-4088S、(股)ADEKA製)
A-5：新戊二醇二縮水甘油醚(商品名：EX-211L、NAGASE CHEMTEX(股)製)
A-6：聯苯型環氧樹脂(商品名：EX-142、NAGASE CHEMTEX(股)製)
A-7：2-乙基己基縮水甘油醚(商品名：EX-121、NAGASE CHEMTEX(股)製)
(起始劑)
B：陽離子聚合起始劑(商品名：CPI-100P、SUN-APRO(股)製、50質量%溶液)
Figure 108134235-A0202-12-0035-1
(折射率測定方法)
將上述調製的接著劑，使用棒塗器[第一理化(股)製]塗佈於延伸降莰烯系樹脂膜[日本ZEON(股)製”ZEONOR FILM”]的單面，以紫外線照射裝置[FUSION UV SYSTEM(股)製]，累積光量600mJ/cm2(UV-B)，照射紫外線，得到硬化物。所得之硬化物的膜厚為約30μm。從所得之硬化物剝離降莰烯系樹脂膜，硬化物層的折射率(589nm)，在25℃環境下，使用多波長阿貝折射率計[ATAGO(股)公司製”DR-M2”]測定。結果表示於表1。
〔偏光板的製造〕
將平均聚合度約2,400、皂化度99.9莫耳%以上的厚度75μm的聚乙烯醇膜，浸漬於30℃的純水後，30℃下浸漬於碘/碘化鉀/水的質量比為0.02/2/100的水溶液，進行碘染色(碘染色步驟)。經過碘染色步驟的聚乙烯醇膜，在56.5℃浸漬於碘化鉀/硼酸/水的質量比為12/5/100的水溶液，進行硼酸處理(硼酸處理步驟)。
經過硼酸處理步驟的聚乙烯醇膜，用8℃的純水洗淨後，在65℃乾燥，得到碘吸附配向於聚乙烯醇膜的偏光件。此時，在碘染色步驟及硼酸處理步驟，進行延伸。這種延伸的全部延伸倍率為5.3倍，所 得之偏光件的厚度為27μm。
於所得之偏光件的兩面，隔著水系接著劑，以夾持滾輪貼合皂化處理過的三乙醯基纖維素膜(商品名：KC4UYTAC、KONICA MINOLTA製、厚度40μm)。所得之貼合物的張力保持於430N/cm的同時，在60℃乾燥2分鐘，得到兩面具有三乙醯基纖維素膜為保護膜的偏光板。再者，上述水系接著劑，係在水100份，添加3份的接基改性聚乙烯醇(KURARAY POVAL KL318、KURARAY製)及1.5份的水溶性聚醯胺環氧樹脂(SUMIREZ RESIN650、住化化學製、固體成分濃度30%的水溶液)而調製。
〔1/2波長層的製造〕
在透明樹脂基材上塗佈配向膜塗佈液，藉由乾燥，進行λ/2配向處理。然後，在配向面，塗佈包含盤狀液晶化合物的塗佈液，進行加熱及UV照射，藉由液晶化合物的配向固定化，在透明樹脂基材製作厚度2μm的具有相位差展現層的1/2波長層。所得之1/2波長層的波長589nm的快軸方向的折射率n11y為1.50，慢軸方向的折射率n11x為1.62，厚度方向的折射率n11z為1.62。由3個折射率n11x、n11y、n11z算出的三維平均折射率n11x,y,z為1.58，由面內的2個折射率n11x、n11y算出的面內平均折射率n11x,y為1.56。
〔1/4波長層的製造〕
在透明樹脂基材上塗佈配向膜塗佈液，藉由乾燥，進行λ/4配向處理。然後，在配向面塗佈包含棒狀向列型液晶單體的塗佈液，藉由保持折射率的各向異性的狀態下固化，在透明樹脂基材上製作厚度1μm的具有 相位差展現層的1/4波長層。所得之1/4波長層的波長589nm的快軸方向的折射率n12y為1.49，慢軸方向的折射率n12x為1.60，厚度方向的折射率n12z為1.49。由3個折射率n12x、n12y、n12z算出的三維平均折射率n12x,y,z為1.53，由面內的2個折射率n12x、n12y算出的面內平均折射率n12x,y為1.55。
<實施例1>
對所得之1/4波長層的相位差展現層及1/2波長層的相位差展現層實施電暈處理。對實施電暈處理過的1/4波長層的相位差展現層，塗佈表1的接著劑A，以使電暈處理過的1/2波長層的相位差展現層側相對向地積層1/2波長層，用層合機貼合，得到積層體。此時，1/2波長層的慢軸與1/4波長層的慢軸所成的角度為60°地貼合。
從積層體的1/4波長層，使用紫外線照射裝置[FUSION UV SYSTEM(股)製]，累積光量400mJ/cm2(UV-B)，照射紫外線，使接著劑硬化，得到具有[1/4波長層]/第1接著層/[1/2波長層]的積層結構的複合相位差板。再者，第1接著層的厚度為1.5μm。
剝離所得之複合相位差板的1/2波長層的配向膜及透明樹脂基材，上述偏光板與1/2波長層的相位差展現層，使用丙烯酸系黏著劑貼合。再者，丙烯酸系黏著劑的膜厚(第2接著層的膜厚)為5μm，偏光板的穿透軸與1/2波長層的快軸所成的角度(在表1為「軸角度」)為15°。
然後，剝離1/4波長層側的配向膜及透明樹脂基材，得到具有偏光板/第2接著層/[1/2波長層]/第1接著層/[1/4波長層]的積層結構的偏光板複合體。
<實施例2>
除使用接著劑B作為形成第1接著層的接著劑以外，與實施例1同樣地，製作偏光板複合體。
<實施例3>
除使用接著劑C作為形成第1接著層的接著劑以外，與實施例1同樣地，製作偏光板複合體。
<實施例4>
除使用接著劑D作為形成第1接著層的接著劑以外，與實施例1同樣地，製作偏光板複合體。
<比較例1>
除使用接著劑E作為形成第1接著層的接著劑以外，與實施例1同樣地，製作偏光板複合體。
<比較例2>
除使用接著劑F作為形成第1接著層的接著劑以外，與實施例1同樣地，製作偏光板複合體。
<比較例3>
除偏光板的穿透軸與1/2波長層的快軸所成的角度(在表1為「軸角度」)為105°以外，與實施例1同樣地，製作偏光板複合體。
〔評估方法〕
(干涉不均勻評估方法)
實施例及比較例的偏光板複合體，隔著丙烯酸系黏著劑(膜厚25μm)，貼附於鋁反射板，在3波長螢光燈下目視觀察，根據以下的基準評估。評估結果表示於表2。
A：沒有見到干涉不均勻
B：可見到少許干涉不均勻
C：見到干涉不均勻
Figure 108134235-A0202-12-0040-2
10‧‧‧偏光板複合體
11‧‧‧1/2波長層
12‧‧‧1/4波長層
13‧‧‧直線偏光板
21‧‧‧第1接著層
22‧‧‧第2接著層

Claims (10)

  1. 一種偏光板複合體，依序具備直線偏光板、1/2波長層、活性能量線硬化型接著劑硬化所成的第1接著層、以及1/4波長層；其中前述1/2波長層的快軸與前述直線偏光板的穿透軸所成的角度為10°以上20°以下；前述第1接著層在波長589nm的折射率未達1.55；前述第1接著層在波長589nm的折射率與前述1/2波長層在波長589nm的快軸方向的折射率之差的絕對值未達0.05。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板複合體，其中前述1/4波長層在波長589nm的快軸方向的折射率與慢軸方向的折射率的平均值，亦即面內平均折射率未達1.58。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板複合體，其中前述第1接著層在波長589nm的折射率、和前述1/4波長層在波長589nm的快軸方向的折射率與慢軸方向的折射率的平均值，亦即面內平均折射率之差的絕對值未達0.05。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板複合體，該偏光板複合體係圓偏光板。
  5. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板複合體，其中前述1/2波長層包括：為液晶層的相位差展現層。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板複合體，其中前述1/4波長層包括：為液晶層的相位差展現層。
  7. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板複合體，其中前述第1接著層的厚度為5μm以下。
  8. 一種圖像顯示裝置，包括圖像顯示面板及配置於前述圖像顯示面板的視覺辨認側的申請專利範圍第1項至第7項中任一項所述之偏光板複合體。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之圖像顯示裝置，其中前述偏光板複合體係以前述直線偏光板位於視覺辨認側的方向而配置。
  10. 如申請專利範圍第8或9項所述之圖像顯示裝置，其係有機電致發光顯示裝置。
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