TWI780410B - 柔版印刷原版及柔版印刷版之製造方法 - Google Patents

柔版印刷原版及柔版印刷版之製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI780410B
TWI780410B TW109106155A TW109106155A TWI780410B TW I780410 B TWI780410 B TW I780410B TW 109106155 A TW109106155 A TW 109106155A TW 109106155 A TW109106155 A TW 109106155A TW I780410 B TWI780410 B TW I780410B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
mass
layer
flexographic printing
infrared
infrared ablation
Prior art date
Application number
TW109106155A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202102379A (zh
Inventor
豊岡壮太
藤木優壮
Original Assignee
日商旭化成股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商旭化成股份有限公司 filed Critical 日商旭化成股份有限公司
Publication of TW202102379A publication Critical patent/TW202102379A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI780410B publication Critical patent/TWI780410B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2014Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
    • G03F7/2016Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
    • G03F7/202Masking pattern being obtained by thermal means, e.g. laser ablation
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/095Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/02Engraving; Heads therefor
    • B41C1/04Engraving; Heads therefor using heads controlled by an electric information signal
    • B41C1/05Heat-generating engraving heads, e.g. laser beam, electron beam
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/12Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

本發明之柔版印刷原版係至少依序積層有支持體、感光性樹脂組合物層、紅外線剝蝕層、及覆蓋膜者,且上述紅外線剝蝕層含有紅外線吸收劑、黏合劑聚合物、及分散劑,上述分散劑之鹼值為5~100mgKOH/g。

Description

柔版印刷原版及柔版印刷版之製造方法
本發明係關於一種柔版印刷原版及柔版印刷版之製造方法。
近年來,於柔版印刷版之製造技術中,CTP(Computer To Plate,電腦直接製版)技術不斷發展。
於該CTP技術中,作為柔版印刷版製造用之原版,通常使用於PET(Polyethylene Terephthalate,聚對苯二甲酸乙二酯)樹脂等基板上依序積層有感光性樹脂組合物層、紅外線剝蝕層、覆蓋膜者。
柔版印刷版之製造例如係以如下之方式進行。
首先,於上述基板整體中,進行對感光性樹脂組合物層之整個面照射紫外線之背面曝光,藉此設置均勻之硬化層。
其次,剝離紅外線剝蝕層上之覆蓋膜,使紅外線剝蝕層露出,照射雷射並進行描繪,藉此將上述紅外線剝蝕層之一部分去除,而製作圖像遮罩。
進而,藉由進行介隔上述圖像遮罩對感光性樹脂組合物層照射紫外線之凸紋曝光,使去除了紅外線剝蝕層之部位光硬化。
其後,去除感光性樹脂組合物層中之未曝光之部分(即,未光硬化之 部分),形成作為所需之圖像之凸紋圖像,而獲得柔版印刷版。
上述紅外線剝蝕層通常含有作為對輻射不透明之材料之紅外線吸收劑及黏合劑聚合物。
紅外線剝蝕層係利用紅外線雷射進行剝蝕者,故而就剝蝕效率之觀點而言,較佳為製成更薄之層。
另一方面,紅外線剝蝕層係具有作為遮罩層之功能者,該遮罩層阻擋對於感光性樹脂組合物之化學輻射之透過,故而亦需要具有一定以上之遮光性。
又,於上述紅外線剝蝕層中無缺陷(針孔)亦較重要。
於在紅外線剝蝕層中存在針孔之情形時,於進行凸紋曝光時,與針孔接觸之感光性樹脂組合物層被曝光,故而產生如下問題:產生非期望之圖像之形成,未能形成微小之點,或與目的相反而形成凸紋深度較淺之凸紋。
通常,紅外線剝蝕層係藉由將紅外線剝蝕層形成用之積層體之該紅外線剝蝕層側貼合於感光性樹脂組合物層,經轉印並積層於感光性樹脂組合物層而形成。
上述紅外線剝蝕層形成用之積層體,例如係藉由向支持體(覆蓋膜)上塗佈紅外線剝蝕層而製造。
於上述紅外線剝蝕層形成用之積層體之製造時,於向支持體(覆蓋膜)上塗佈紅外線剝蝕層時,有因塗敷不均、收縮而於紅外線剝蝕層產生缺陷 (針孔)之虞。
又,於將紅外線剝蝕層形成用之積層體與感光性樹脂組合物層貼合時,有因層壓之溫度或壓力或與經混錬擠出之感光性樹脂組合物之擠壓而於紅外線剝蝕層中產生針孔之虞。
鑒於上述情況,為了防止於紅外線剝蝕層中產生缺陷(針孔),為了實現紅外線剝蝕層中之紅外線吸收劑之分散性良好,且不會產生於塗佈於支持體上時之塗敷不均或收縮,進而耐損傷性較高之紅外線剝蝕層,自先前起業界提出有使用苯乙烯-共軛二烯共聚物作為黏合劑聚合物之技術(例如參照下述專利文獻1)、或使用丁醛樹脂與含極性基之聚醯胺之技術(例如參照下述專利文獻2)。
且說,上述紅外線剝蝕層形成用之積層體係於製成長條之卷狀物之狀態、或製成切割為任意大小之片狀物且複數片片狀物重疊之狀態下保管。
於保管該紅外線剝蝕層形成用之積層體時,紅外線剝蝕層之表面呈現與支持體之背面或聚乙烯等保護膜接觸之狀態。於該狀態下,向接觸面施加由自重所引起之壓力。因此,有產生紅外線剝蝕層之表面貼附於支持體之背面、或保護膜而剝離之不良情況之虞。
鑒於上述情況,業界提出有藉由使脂肪醯胺於紅外線剝蝕層之表面析出,防止紅外線剝蝕層貼附於支持體之背面、或保護膜而剝離之不良情況之技術(例如參照下述專利文獻3)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第4080068號公報
[專利文獻2]日本專利第4200510號公報
[專利文獻3]日本專利第6232279號公報
然而,紅外線剝蝕層之針孔之產生原因除如上所述之各種針孔的產生原因以外亦存在,於先前技術中無法充分地防止。
例如,於柔版印刷版之製造時,於剝離覆蓋膜而使紅外線剝蝕層露出時,於覆蓋膜與紅外線剝蝕層之密接力較高之情形時,有無法正常地進行覆蓋膜之剝離而產生針孔之虞。
又,根據保管柔版印刷原版時之溫濕度環境,亦存在覆蓋膜與紅外線剝蝕層之密接力變得更高之情形,於該情形時,於自紅外線剝蝕層剝離覆蓋膜時,有產生缺陷之可能性增高之虞。
進而於專利文獻1、2中所提出之使用黏合劑聚合物之技術之提高紅外線剝蝕層的耐損傷性之效果優異,但根據保存環境,覆蓋膜與紅外線剝蝕層之間之密接力增高,於剝離該等時,存在有於紅外線剝蝕層中產生缺陷之虞之問題。
又,進而於專利文獻3中所提出之使脂肪酸聚醯胺於表面析出之紅外線剝蝕層形成用之積層體具有抑制與載置於支持體(覆蓋膜)的背面或紅外線剝蝕層之上表面之保護膜的密接之效果,但於抑制支持體(覆蓋膜)與紅外線剝蝕層間之密接之方面並無效果,同樣根據保存環境,支持體(覆蓋膜)與紅外線剝蝕層之間之密接力增高,於剝離該等時,存在有於紅外線剝蝕層中產生缺陷之虞之問題。
因此,於本發明中,鑒於該先前技術之問題,目的在於提供一種紅外線剝蝕層之耐針孔性(以下,亦存在記載為耐PH性之情形)優異,且與保存環境無關容易剝離紅外線剝蝕層上之覆蓋膜之柔版印刷原版、及使用該柔版印刷原版之柔版印刷版之製造方法。
本發明者等人為了解決上述課題而進行了努力研究,結果發現,利用紅外線剝蝕層設為含有紅外線吸收劑、黏合劑聚合物及分散劑者,且該分散劑之鹼值為特定之數值範圍之柔版印刷原版,可解決上述課題,從而完成本發明。
即,本發明係如下所述。
[1]
一種柔版印刷原版,其係至少依序積層有支持體、感光性樹脂組合物層、紅外線剝蝕層、及覆蓋膜者,且上述紅外線剝蝕層 含有紅外線吸收劑、黏合劑聚合物、及分散劑,上述分散劑之鹼值為5~100mgKOH/g。
[2]
如上述[1]中所記載之柔版印刷原版,其中上述黏合劑聚合物與上述分散劑之溶解度參數(SP值)之差的絕對值為0.3~4(cal/cm3)1/2
[3]
如上述[1]或[2]中所記載之柔版印刷原版,其中上述紅外線吸收劑為碳黑。
[4]
如上述[1]至[3]中任一項所記載之柔版印刷原版,其中上述分散劑之利用凝膠滲透管柱層析法(GPC)測定之以標準聚苯乙烯換算測定的重量平均分子量為1000以上且10000以下。
[5]
如上述[1]至[4]中任一項所記載之柔版印刷原版,其中於上述紅外線剝蝕層中,相對於上述紅外線吸收劑100質量份包含上述分散劑0.5~50質量份。
[6]
如上述[1]至[5]中任一項所記載之柔版印刷原版,其中上述黏合劑聚合物包含選自由如下成分所組成之群中之至少1種:包含單乙烯基取代芳香族烴單體與共軛二烯單體之共聚物之熱塑性彈性體、上述共聚物之氫化物、聚醯胺、聚丁醛、聚乙烯醇、聚(甲基)丙烯酸酯、及該等之改性物或部分皂化體。
[7]
如上述[1]至[6]中任一項所記載之柔版印刷原版,其中於上述感光性樹脂組合物層與上述紅外線剝蝕層之間,進而具有包含接著層或氧抑制層之中間層。
[8]
一種柔版印刷版之製造方法,其具有如下步驟:對如上述[1]至[6]中任一項所記載之柔版印刷原版,自上述支持體側照射紫外線之步驟;對上述紅外線剝蝕層照射紅外線而描繪加工圖案之步驟;對上述感光性樹脂組合物層照射紫外線,進行圖案曝光之步驟;及去除上述紅外線剝蝕層與上述感光性樹脂組合物層之未曝光部之步驟。
[9]
一種柔版印刷版之製造方法,其具有如下步驟:對如上述[7]中所記載之柔版印刷原版,自上述支持體側照射紫外線之步驟;對上述紅外線剝蝕層照射紅外線而描繪加工圖案之步驟;對上述感光性樹脂組合物層照射紫外線,進行圖案曝光之步驟;及去除上述紅外線剝蝕層、上述中間層及上述感光性樹脂組合物層之未曝光部之步驟。
根據本發明,可提供一種紅外線剝蝕層之耐針孔性優異,且與保存 環境無關容易剝離紅外線剝蝕層上之覆蓋膜之柔版印刷原版、及使用該柔版印刷原版之柔版印刷版之製造方法。
以下,對用以實施本發明之形態(以下,稱為「本實施形態」)詳細地進行說明,但本發明並不限定於此,可於不脫離其主旨之範圍內進行各種變化。
[柔版印刷原版]
本實施形態之柔版印刷原版至少依序積層有支持體、感光性樹脂組合物層、紅外線剝蝕層、及覆蓋膜,且上述紅外線剝蝕層含有紅外線吸收劑、黏合劑聚合物、及分散劑,上述分散劑之鹼值為5~100mgKOH/g。
(支持體)
作為本實施形態之柔版印刷原版中所使用之支持體,並無特別限定,例如可列舉:聚丙烯膜、聚乙烯膜、聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯膜、以及聚醯胺膜等。
作為支持體,較佳為厚度為75μm~300μm之尺寸穩定之膜,尤佳為聚酯膜。
又,較佳為於支持體上具有接著劑層。
作為接著劑層之材料,例如可列舉:聚胺基甲酸酯或聚醯胺、含有熱塑性彈性體等黏合劑聚合物與異氰酸酯化合物或乙烯性不飽和化合物等接著有效成分之樹脂組合物。
進而,可向接著劑層中添加各種輔助添加成分例如塑化劑、熱聚合防止劑、紫外線吸收劑、防暈光劑、光穩定劑、光聚合起始劑、光聚合性單體、染料等。
又,為了於接著劑層與支持體之間獲得更高之接著力,更佳為設置至少1層以上之底塗層。
(感光性樹脂組合物層)
構成本實施形態之柔版印刷原版之感光性樹脂組合物層於溶劑顯影、水顯影、及熱顯影之任一種中均有用。
作為感光性樹脂組合物層之材料,例如可適宜地列舉包含(a)熱塑性彈性體、(c)光聚合性單體、(d)光聚合起始劑之感光性樹脂組合物。
於在水系洗淨液中進行顯影步驟之情形時,感光性樹脂組合物層較佳為進而包含(b)親水性共聚物。
上述(a)~(d)之化合物例如可使用於「日本專利特開2018-120131號公報」中所記載者。
<(a)熱塑性彈性體>
作為(a)熱塑性彈性體,較佳為含有以共軛二烯為主體之至少1個聚合物嵌段、及以乙烯基芳香族烴為主體之至少1個聚合物嵌段之熱塑性彈性體。
本說明書全文中所使用之「為主體」之用語係指為聚合物嵌段中之60質量%以上。
於以共軛二烯為主體之聚合物嵌段中,共軛二烯較佳為該聚合物嵌段中之80質量%以上,更佳為90質量%以上。
作為共軛二烯,例如可列舉:1,3-丁二烯、異戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、2-甲基-1,3-戊二烯、1,3-己二烯、4,5-二乙基-1,3-辛二烯、3-丁基-1,3-辛二烯、氯丁二烯之單體,但並不限定於該等,就耐磨性之觀點而言,尤佳為1,3-丁二烯。該等單體可僅使用一種,亦可併用兩種以上。
以共軛二烯為主體之聚合物嵌段之共軛二烯總量中的乙烯基含量、例如1,2-丁二烯或3,4-異戊二烯之含量並無特別限定。就印刷版形成性之觀點而言,乙烯基含量較佳為5mol%~50mol%,更佳為8mol%~50mol%,進而較佳為10mol%~40mol%。
就耐印力之觀點而言,以共軛二烯為主體之聚合物嵌段之數量平均分子量較佳為20,000~250,000,更佳為30,000~200,000,進而較佳為40,000~150,000。
以共軛二烯為主體之聚合物嵌段可含有伸烷基單元。該伸烷基單元之導入方法並無特別限定,可列舉:使用乙烯或丁烯等單烯烴作為以共軛二烯為主體之聚合物嵌段之原料單體而進行聚合之方法、或將共軛二烯聚合物嵌段氫化之方法等。尤其是就獲取容易性之觀點而言,較佳為將以共軛二烯為主體之聚合物嵌段氫化之方法。
關於以共軛二烯為主體之聚合物嵌段中的伸烷基單元之含量,就耐 溶劑性之觀點而言,較佳為5mol%以上,就確保感光性樹脂組合物之透明性之觀點而言,較佳為50mol%以下。更佳為10mol%~35mol%之範圍,進而較佳為10mol%~25mol%之範圍。
較佳為上述伸烷基單元含有於以丁二烯為主體之聚合物嵌段中。又,更佳為將以丁二烯為主體之聚合物嵌段部氫化而含有1,4-丁二烯單元、1,2-丁二烯(乙烯基)單元及丁烯(伸烷基)單元之全部。又,於以丁二烯為主體之聚合物嵌段中,進而較佳為至少以25mol%~70mol%之範圍含有1,4-丁二烯單元,以0mol%~50mol%之範圍含有1,2-丁二烯(乙烯基)單元,以10mol%~50mol%之範圍含有丁烯單元。
再者,共軛二烯、共軛二烯之乙烯基含量及乙烯基芳香族烴之含量或比率可使用核磁共振裝置(1H-NMR)而測定。
作為乙烯基芳香族烴,例如可列舉:苯乙烯、第三丁基苯乙烯、二乙烯苯、1,1-二苯基苯乙烯、N,N-二甲基-對胺基乙基苯乙烯、N,N-二乙基-對胺基乙基苯乙烯、乙烯基吡啶、對甲基苯乙烯、三級丁基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、1,1-二苯基乙烯等單體。尤其就可於相對低溫下使柔版印刷原版平滑地成型之方面而言(以下,記載為高成型性),較佳為苯乙烯。該等單體可僅使用一種,亦可併用兩種以上。
關於以乙烯基芳香族烴為主體之聚合物嵌段之數量平均分子量,就於印刷版中不顯示出配向性之觀點而言,較佳為100,000以下,就製版時 或印刷時之耐缺損性之觀點而言,較佳為3,000以上。以乙烯基芳香族烴為主體之聚合物嵌段之數量平均分子量更佳為5,000~80,000之範圍,進而較佳為5,000~60,000之範圍。
關於嵌段共聚物中之乙烯基芳香族烴之含量,就感光性樹脂組合物之高成型性、印刷版之凸部較高之耐缺損性、及將附著有油墨成分時之印刷版硬度維持為較高之觀點而言,較佳為設為25質量%以下。另一方面,就提高本實施形態之柔版印刷原版之耐冷流性之觀點而言,較佳為13質量%以上。更佳為15質量%~24質量%之範圍,進而較佳為16質量%~23質量%之範圍。
關於感光性樹脂組合物層中之(a)熱塑性彈性體之含量,就印刷時之耐印力之觀點而言,於將感光性樹脂組合物之總量設為100質量%時,較佳為15質量%~90質量%。(a)熱塑性彈性體之含量更佳為15質量%~80質量%,進而較佳為20質量%~75質量%。
<(b)親水性共聚物>
所謂(b)親水性共聚物,係包含源自親水性之不飽和單體之單元之進行了內部交聯之聚合物粒子。作為該聚合物粒子,例如可列舉自水分散乳膠中去除水所獲得者,該水分散乳膠係將使用親水性之不飽和單體、及視需要可與其共聚之其他單體進行乳化聚合所獲得之聚合物粒子作為分散質分散於水中所得者。於全部單體中,源自親水性之不飽和單體之單元例如可設為0.1~20質量%,可設為0.5~15質量%,亦可設為1~10質量%。
作為親水性之不飽和單體,較佳為包含至少一個親水性基及不飽和雙鍵之單體。作為親水性之不飽和單體,例如可列舉:包含羧酸基、磺酸基、磷酸基等及該等之鹽、以及酸酐基等之包含不飽和雙鍵之單體;包含羥基及不飽和雙鍵之單體;包含丙烯醯胺及不飽和雙鍵之單體;包含反應性之不飽和雙鍵之界面活性劑(單體)等。該等親水性之不飽和單體可單獨僅使用一種,亦可使用兩種以上。
作為水分散乳膠,例如可列舉:丙烯腈-丁二烯共聚物乳膠、聚氯丁二烯乳膠、聚異戊二烯乳膠、聚胺基甲酸酯乳膠、(甲基)丙烯酸酯-丁二烯乳膠、乙烯基吡啶聚合物乳膠、丁基聚合物乳膠、聚硫橡膠聚合物乳膠、丙烯酸酯聚合物乳膠等水分散乳膠聚合物等。
又,較佳為如下水分散乳膠聚合物,其係於該等水分散乳膠中(甲基)丙烯酸酯、或丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、乙烯苯甲酸、桂皮酸等羧酸、或苯乙烯磺酸等磺酸等一元酸;伊康酸、反丁烯二酸、順丁烯二酸、檸康酸、黏康酸等二元酸等含酸性官能基之不飽和單體之1種以上進行共聚所得。
再者,於上述水分散乳膠中,除使用親水性之不飽和單體、及視需要可與其共聚之其他單體進行乳化聚合所獲得之聚合物粒子以外,進而亦可包含作為分散質之其他聚合物粒子。作為此種其他聚合物粒子,例如可列舉:聚丁二烯、天然橡膠、苯乙烯-丁二烯共聚物之粒子。
該等水分散乳膠之中,就耐印力之觀點而言,較佳為於聚合物之分 子鏈中含有丁二烯骨架或異戊二烯骨架之水分散乳膠。例如較佳為聚丁二烯乳膠、苯乙烯-丁二烯共聚物乳膠、丙烯腈-丁二烯共聚物乳膠、及於該等水分散乳膠中(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、伊康酸等進行共聚所得者。作為水分散乳膠,更佳於為苯乙烯-丁二烯共聚物中,(甲基)丙烯酸酯、或丙烯酸、甲基丙烯酸、伊康酸等含酸性官能基之不飽和單體之1種以上進行共聚所得之共聚物之水分散乳膠。
於(b)親水性共聚物之合成中所使用之不飽和單體總量中,含酸性官能基之不飽和單體之使用量較佳為1~30質量%。藉由將使用量設為1質量%以上,有容易進行水系顯影之傾向,藉由設為30質量%以下,可防止感光性樹脂組合物之吸濕量之增加或油墨之膨潤量之增加,而可防止感光性樹脂組合物於混合時之加工性之惡化。
作為(b)親水性共聚物之合成中可使用之含酸性官能基的不飽和單體以外之不飽和單體,例如可列舉:共軛二烯、芳香族乙烯系化合物、(甲基)丙烯酸酯、具有羥基之乙烯系單羧酸烷基酯單體、不飽和二元酸烷基酯、順丁烯二酸酐、丙烯腈化合物、(甲基)丙烯醯胺及其衍生物、乙烯酯類、乙烯醚類、鹵化乙烯類、具有胺基之鹼性單體、乙烯基吡啶、烯烴、含矽之α,β-乙烯性不飽和單體、烯丙基化合物等,但並不限定於該等。
作為共軛二烯,例如可列舉:1,3-丁二烯、異戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、2-乙基-1,3-丁二烯、2-甲基-1,3-丁二烯、1,3-戊二烯、氯丁二烯、2-氯-1,3-丁二烯、環戊二烯等,但並不限定於該等。
作為芳香族乙烯系化合物,例如可列舉:苯乙烯、α-甲基苯乙烯、鄰甲基苯乙烯、間甲基苯乙烯、對甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基二甲苯、溴苯乙烯、乙烯基苄基氯、對第三丁基苯乙烯、氯苯乙烯、烷基苯乙烯、二乙烯苯、三乙烯苯等,但並不限定於該等。
作為(甲基)丙烯酸酯,例如可列舉:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-乙基-己酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基環己酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,5-戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、雙(4-丙烯醯氧基聚乙氧基苯基)丙烷、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、β-(甲基)丙烯醯氧基乙基氫鄰苯二甲酸酯、β-(甲基)丙烯醯氧基乙基氫琥珀酸酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、2-羥基- 1,3-二(甲基)丙烯醯氧基丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯醯氧基乙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯醯氧基-二乙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯醯氧基-聚乙氧基)苯基]丙烷、(甲基)丙烯酸異
Figure 109106155-A0305-02-0017-2
酯等,但並不限定於該等。
作為具有羥基之乙烯系單羧酸烷基酯單體,例如可列舉:丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、甲基丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸1-羥基丙酯、甲基丙烯酸1-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基環己酯等,但並不限定於該等。
作為不飽和二元酸烷基酯,例如可列舉:丁烯酸烷基酯、伊康酸烷基酯、反丁烯二酸烷基酯、順丁烯二酸烷基酯等,但並不限定於該等。
作為丙烯腈化合物,例如可列舉丙烯腈、甲基丙烯腈等,但並不限定於該等。
作為(甲基)丙烯醯胺及其衍生物,例如可列舉:(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-烷氧基(甲基)丙烯醯胺等,但並不限定於該等。
作為乙烯酯類,例如可列舉:乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、硬脂酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯、肉豆蔻酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、柯赫酸乙烯酯等,但並不限定於該等。
作為乙烯醚類,例如可列舉:甲基乙烯醚、乙基乙烯醚、丙基乙烯醚、丁基乙烯醚、戊基乙烯醚、己基乙烯醚等,但並不限定於該等。
作為鹵化乙烯類,例如可列舉:氯乙烯、臭乙烯、氟乙烯、偏二氯乙烯、偏二氟乙烯等,但並不限定於該等。
作為具有胺基之鹼性單體,例如可列舉:(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基胺基乙酯等,但並不限定於該等。
作為烯烴,例如可列舉乙烯等,但並不限定於此。
作為含矽之α,β-乙烯性不飽和單體,例如可列舉乙烯基三氯矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷等,但並不限定於該等。
作為烯丙基化合物,例如可列舉:烯丙酯、鄰苯二甲酸二烯丙酯等,但並不限定於該等。
除此以外,亦可使用異氰尿酸三烯丙酯等具有3個以上之雙鍵之單體。
該等單體可單獨僅使用一種,亦可混合兩種以上而使用。含酸性官能基之不飽和單體與其他單體之質量比(含酸性官能基之不飽和單體/其他 單體)較佳為5/95~95/5,更佳為50/50~90/10。
藉由為5/95~95/5,可使感光性樹脂組合物之橡膠彈性成為實用上良好者。
(b)親水性共聚物較佳為藉由乳化聚合進行合成所得之聚合物,於該情形時,作為於聚合時所使用之乳化劑(界面活性劑),較佳為反應性乳化劑。
作為反應性乳化劑,較佳為於分子結構中包含自由基聚合性之雙鍵、親水性官能基及疏水性基,且與一般之乳化劑同樣地具有乳化、分散、及濕潤功能者。又,於使(b)親水性共聚物乳化聚合時,於相對於除該反應性乳化劑以外之含酸性官能基之不飽和單體及其他單體之合計100質量份,使用0.1質量份以上之反應性乳化劑之情形時,較佳為使用可合成平均粒徑為5~500nm之聚合物之乳化劑(界面活性劑)。
作為反應性乳化劑之分子結構中之自由基聚合性的雙鍵之結構,例如可列舉:乙烯基、丙烯醯基、或甲基丙烯醯基等。
作為反應性乳化劑之分子結構中之親水性官能基,例如可列舉:硫酸基、硝酸基、磷酸基、硼酸基、羧基等陰離子性基;胺基等陽離子性基;聚氧乙烯、聚甲醛、聚氧丙烯等聚氧伸烷基鏈結構等;或羥基等。
作為反應性乳化劑之分子結構中之疏水性基,例如可列舉烷基、苯基等。
反應性乳化劑根據其結構中所含之親水性官能基之種類,包含陰離子性乳化劑、非離子性乳化劑、陽離子性乳化劑、兩性乳化劑等。又,分子結構中之自由基聚合性之雙鍵、親水性官能基及疏水性基可分別包含複數種。
反應性乳化劑可使用市售之界面活性劑,作為市售之陰離子界面活性劑,並無特別限定,例如可列舉:ADEKA REASOAP SE(旭電化工業公司製造)、AQUALON HS或BC或KH(第一工業製藥公司製造)、LATEMUL S(花王公司製造)、ANTOX MS(日本乳化劑公司製造)、ADEKA REASOAP SDX或PP(旭電化工業公司製造)、HYTENOL A(第一工業製藥公司製造)、ELEMINOL RS(三洋化成工業公司製造)、SPINOMAR(東洋曹達工業公司製造)等,作為市售之非離子界面活性劑,並無特別限定,例如可列舉:AQUALON RN或NOIGEN N(第一工業製藥公司製造)、ADEKA REASOAP NE(旭電化工業公司製造)等。
該等可單獨僅使用一種,亦可組合兩種以上而使用。
關於反應性乳化劑之使用量,相對於根據原料之添加量算出之(b)親水性共聚物100質量份,較佳為1~20質量份之範圍。若反應性乳化劑之量為1質量份以上,則有所獲得之印刷版之圖像再現性提高之傾向,若為20質量份以下,則有所獲得之印刷版之耐印刷性提高之傾向。
於藉由乳化聚合合成(b)親水性共聚物之情形時,視需要亦可使用非反應性乳化劑。
作為上述非反應性乳化劑,例如可列舉:脂肪酸皂、松脂酸皂、磺酸鹽、硫酸酯、磷酸酯、多磷酸酯、肌胺酸醯酯等陰離子界面活性劑;腈化油脂衍生物、油脂衍生物、脂肪酸衍生物、α-烯烴衍生物等陽離子界面活性劑;醇乙氧基化物、烷基苯酚乙氧基化物、丙氧基化物、脂肪族烷醇醯胺、烷基多糖苷、聚氧乙烯山梨糖醇酐脂肪酸酯、氧化乙烯氧化丙烯嵌段共聚物等非離子界面活性劑,但並不限定於該等。該等可單獨僅使用一種,亦可組合兩種以上而使用。
作為磺酸鹽,例如可列舉:烷基磺酸鹽、烷基硫酸鹽、烷基磺基琥珀酸鹽、聚氧乙烯烷基硫酸鹽、磺化油脂、烷基二苯醚二磺酸鹽、α-烯烴磺酸鹽、烷基甘油醚磺酸鹽、N-醯基甲基牛磺酸鹽等,但並不限定於該等。
作為非反應性乳化劑之其他例,可列舉於「界面活性劑手冊(高橋、難波、小池、小林:工學圖書、1972)」中所記載者。
相對於根據原料之添加量算出之(b)親水性共聚物100質量份,非反應性乳化劑之使用量較佳為未達1質量份。藉由非反應性乳化劑之使用量未達1質量份,所獲得之印刷版具有適當之水膨潤率,可防止油墨附著時之耐磨性之降低及吸濕後之圖像再現性之降低。
作為(b)親水性共聚物之乳化聚合方法,通常向調整為可聚合之溫度之反應系統中,預先添加特定量之水、乳化劑、其他添加劑,以批次操作 或連續操作向反應系統內添加聚合起始劑及不飽和單體、乳化劑、調整劑等。又,視需要預先向反應系統中添加特定量之種子乳膠、聚合起始劑、不飽和單體、其他調整劑亦為通常經常使用之方法。
又,藉由鑽研向反應系統中添加不飽和單體、乳化劑、其他添加劑、調整劑之方法,亦可階段性地改變所合成之親水性共聚物粒子之層構造。
於該情形時,作為以各層之構造為代表之物性,可列舉:親水性、玻璃轉移點、分子量、交聯密度等。又,該層構造之級數並無特別限制。
於(b)親水性共聚物之聚合步驟中,可使用公知之鏈轉移劑。
作為鏈轉移劑,可適宜地使用包含硫元素之鏈轉移劑。作為包含硫元素之鏈轉移劑,例如可列舉:第三-十二烷基硫醇、正十二烷基硫醇等烷烴硫醇;巰基乙醇、巰基丙醇等硫代烷基醇;硫代乙醇酸、硫代丙酸等硫代烷基羧酸;硫代乙醇酸辛酯、硫代丙酸辛酯等硫代羧酸烷基酯;二甲基硫醚、二乙基硫醚等硫醚,但並不限定於該等。
作為其他鏈轉移劑,例如可列舉:異松油烯、二戊烯、第三萜品烯及四氯化碳等鹵化烴,但並不限定於該等。
該等鏈轉移劑中,就鏈轉移速度較大,又,所獲得之(b)親水性共聚物之物性平衡性良好之方面而言,較佳為烷烴硫醇。
該等鏈轉移劑可單獨僅使用一種,亦可混合兩種以上而使用。
該等鏈轉移劑係混合至單體中而供於反應系統、或單獨於特定之時期內添加特定量。相對於(b)親水性共聚物之聚合中所使用之不飽和單體 總量,該等鏈轉移劑之使用量較佳為0.1~10質量%。
藉由設為0.1質量%以上,進行感光性樹脂組合物之混合時之加工性變得良好,藉由設為10質量%以下,可使(b)親水性共聚物之分子量成為實用上充分者。
於(b)親水性共聚物之聚合中,視需要可使用聚合反應抑制劑。
所謂聚合反應抑制劑係藉由添加至乳化聚合系統中,降低自由基聚合速度之化合物。更具體而言,所謂聚合反應抑制劑係聚合速度延遲劑、聚合抑制劑、自由基再起始反應性較低之鏈轉移劑、及自由基再起始反應性較低之單體。聚合反應抑制劑通常用於聚合反應速度之調整及乳膠物性之調整。該等聚合反應抑制劑係以批次操作或連續操作添加至反應系統中。於使用聚合反應抑制劑之情形時,於感光性樹脂組合物中乳膠覆膜之強度提高,耐印力提高。反應機制之詳細情況尚不明確,但認為聚合反應抑制劑與(b)親水性共聚物之立體結構密切地相關,由此推測對乳膠覆膜之物性之調整有效果。
作為聚合反應抑制劑,例如可列舉:鄰、間、或對苯醌等醌類;硝基苯、鄰、間、或對二硝基苯等硝基化合物;如二苯基胺之胺類;如第三丁基鄰苯二酚之鄰苯二酚衍生物;1,1-二苯基乙烯或α-甲基苯乙烯、2,4-二苯基-4-甲基-1-戊烯等1,1-二取代乙烯系化合物;2,4-二苯基-4-甲基-2-戊烯、環己烯等1,2-二取代乙烯系化合物等,但並不限定於該等。除此以外,亦可列舉於「POLYMER HANDBOOK 3rd Ed.(J.Brandup,E.H.Immergut:John Wiley & Sons,1989)」、「改訂高分子合成之化學(大津: 化學同人、1979.)」中以記載為聚合抑制劑或聚合抑制劑之化合物。
該等之中,就反應性之觀點而言,尤佳為2,4-二苯基-4-甲基-1-戊烯(α-甲基苯乙烯二聚物)。該等聚合反應抑制劑可單獨僅使用一種,亦可混合兩種以上而使用。
相對於(b)親水性共聚物之聚合中所使用之不飽和單體總量,該等聚合反應抑制劑之使用量較佳為10質量%以下。藉由設為10質量%以下,有可獲得實用上充分之聚合速度之傾向。
作為上述(b)親水性共聚物之聚合中所使用之聚合起始劑的適宜之例之自由基聚合起始劑係於熱或還原性物質之存在下進行自由基分解,使單體之加成聚合開始者,可使用無機系起始劑及有機系起始劑中之任一種。
作為上述自由基聚合起始劑,例如可列舉:水溶性或油溶性之過氧二硫酸鹽、過氧化物、偶氮雙化合物等,但並不限定於該等,具體而言,可列舉:過氧二硫酸鉀、過氧二硫酸鈉、過氧二硫酸銨、過氧化氫、第三丁基過氧化氫、過氧化苯甲醯、2,2-偶氮二丁腈、氫過氧化異丙苯等。
作為上述自由基聚合起始劑,亦可使用POLYMER HANDBOOK(3rd edition)、J.Brandrup及E.H.Immergut著、John Willy & Sons刊(1989)中所記載之化合物。
又,亦可採用將酸性亞硫酸鈉、抗壞血酸或其鹽、異抗壞血酸或其鹽、雕白粉等還原劑與聚合起始劑組合而使用之所謂氧化還原聚合法。
該等之中,過氧二硫酸鹽適宜作為聚合起始劑。
相對於(b)親水性共聚物之聚合中所使用之不飽和單體總量,聚合起始劑之使用量通常為0.1~5.0質量%之範圍,較佳為選自0.2~3.0質量% 之範圍。
若聚合起始劑之使用量為0.1質量%以上,則於(b)親水性共聚物之合成時可獲得較高之穩定性,若聚合起始劑之使用量為5.0質量%以下,則可將感光性樹脂組合物之吸濕量抑制為實用上良好之範圍內。
於(b)親水性共聚物之合成時,視需要可添加各種聚合調整劑。
作為pH值調整劑,例如可添加氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化銨、碳酸氫鈉、碳酸鈉、磷酸氫二鈉等pH值調整劑作為聚合調整劑,但並不限定於以下。
又,乙二胺四乙酸鈉等各種螯合劑等亦可作為聚合調整劑添加。
進而,作為其他添加劑,亦可添加鹼感應乳膠、六偏磷酸等減黏劑、聚乙烯醇、羧甲基纖維素等水溶性高分子、增黏劑、各種抗老化劑、紫外線吸收劑、防腐劑、殺菌劑、消泡劑、聚丙烯酸鈉等分散劑、耐水化劑、鋅白等金屬氧化物、異氰酸酯系化合物、環氧化合物等交聯劑、潤滑劑、保水劑等各種添加劑。
該等添加劑之添加方法並無特別限制,無論於(b)親水性共聚物之合成時、合成後均可添加。
於使(b)親水性共聚物乳化聚合之情形時之聚合溫度通常係於60~120℃之範圍內選擇。
又,藉由上述氧化還原聚合法等,可於更低之溫度下進行聚合。進而作為氧化還原觸媒,可使金屬觸媒例如二價鐵離子、三價鐵離子、銅離子等共存。
(b)親水性共聚物較佳為粒子狀,其平均粒徑較佳為500nm以下,更佳為100nm以下。藉由平均粒徑為500nm以下,於所獲得之印刷原版中可獲得良好之水系顯影性。
又,(b)親水性共聚物之甲苯凝膠分率較佳為60%~99%。若凝膠分率為60%以上,則有於所獲得之印刷版中獲得實用上充分之強度之傾向。
若凝膠分率為99%以下,則有(b)親水性共聚物與(a)熱塑性彈性體之混合性變得良好之傾向。
此處,所謂甲苯凝膠分率,係指將(b)親水性共聚物之約30質量%之分散液之適當量滴於鐵氟龍(註冊商標)片材上,於130℃下乾燥30分鐘,取(b)親水性共聚物0.5g,將其浸漬於25℃之甲苯30mL中,使用振盪器振盪3小時,其後利用320SUS篩網進行過濾,將使不通過成分以130℃乾燥1小時後之質量除以0.5(g)所得之質量分率(%)。
關於感光性樹脂組合物層中之(b)親水性共聚物之含量,於水系顯影液中進行顯影之情形時,就印刷版製作時之顯影性之觀點而言,於將感光性樹脂組合物之總量設為100質量%時,較佳為10質量%~70質量%。(b)親水性共聚物之含量更佳為15質量%~60質量%,進而較佳為20質量%~50質量%。
<(c)光聚合性單體>
作為光聚合性單體(c),例如可列舉:丙烯酸、甲基丙烯酸、反丁烯 二酸、順丁烯二酸等酸之酯類;丙烯醯胺或甲基丙烯醯胺之衍生物;烯丙酯、苯乙烯及其衍生物;N取代順丁烯二醯亞胺化合物等,但並不限定於該等。
作為光聚合性單體(c),例如可列舉:1,6-己二醇、1,9-壬二醇等烷二醇之二丙烯酸酯及二甲基丙烯酸酯;或乙二醇、二乙二醇、丙二醇、二丙二醇、聚乙二醇、丁二醇、二環戊二烯基之二丙烯酸酯及二甲基丙烯酸酯;三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異
Figure 109106155-A0305-02-0027-15
酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、N,N'-六亞甲基雙丙烯醯胺及甲基丙烯醯胺、苯乙烯、乙烯基甲苯、二乙烯苯、鄰苯二甲酸二丙烯醯酯、氰尿酸三烯丙酯、反丁烯二酸二乙酯、反丁烯二酸二丁酯、反丁烯二酸二辛酯、反丁烯二酸二硬脂酯、反丁烯二酸丁酯辛酯、反丁烯二酸二苯酯、反丁烯二酸二苄酯、順丁烯二酸二丁酯、順丁烯二酸二辛酯、反丁烯二酸雙(3-苯基丙基)酯、反丁烯二酸二月桂酯、反丁烯二酸二山萮酯、N-月桂基順丁烯二醯亞胺等,但並不限定於該等。
該等可單獨使用一種,亦可組合兩種以上而使用。
就印刷版之凸部之更高之耐缺損性的觀點而言,較佳為於感光性樹脂組合物中含有2.0質量%以上之每1mol單體具有2mol甲基丙烯酸酯基之單體作為(c)光聚合性單體。
關於感光性樹脂組合物層中之(c)光聚合性單體之含量,就獲得鮮明 之印刷之觀點而言,於將感光性樹脂組合物之總量設為100質量%時,較佳為1質量%~25質量%。(c)光聚合性單體之含量更佳為5質量%~20質量%,進而較佳為8質量%~15質量%。
((d)光聚合起始劑)
所謂(d)光聚合起始劑係吸收光之能量而產生自由基之化合物,可使用公知之各種者,較適宜為各種有機羰基化合物、或尤其是芳香族羰基化合物。
作為(d)光聚合起始劑,例如可列舉:二苯甲酮、4,4-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、第三丁基蒽醌、2-乙基蒽醌、2,4-二乙基-9-氧硫
Figure 109106155-A0305-02-0028-29
、異丙基-9-氧硫
Figure 109106155-A0305-02-0028-31
、2,4-二氯-9-氧硫
Figure 109106155-A0305-02-0028-24
等9-氧硫
Figure 109106155-A0305-02-0028-25
類;二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苯偶醯二甲基縮酮、1-羥基環己基-苯基酮、2-甲基-2-嗎啉基(4-硫代甲基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮等苯乙酮類;安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚等安息香醚類;2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦等醯基氧化膦類;苯甲醯甲酸甲酯;1,7-雙吖啶基庚烷;9-苯基吖啶;2,6-二-第三丁基-對甲酚等,但並不限定於該等。
該等可單獨僅使用一種,亦可組合兩種以上而使用。
關於感光性樹脂組合物層中之(d)光聚合起始劑之含量,就提高製版 時之版形成性之觀點及獲得鮮明之印刷之觀點而言,於將感光性樹脂組合物之總量設為100質量%時,較佳為0.1質量%~10.0質量%。(d)光聚合起始劑之含量更佳為1.0質量%~8.0質量%,進而較佳為1.5質量%~5.0質量%。
又,作為(d)光聚合起始劑,亦可併用崩解型光聚合起始劑及奪氫型光聚合起始劑。就印刷版之圖像再現性或耐磨性較高之方面而言,感光性樹脂組合物中之奪氫型光聚合起始劑之量較佳為1.0質量%以下,更佳為0.5質量%以下。
(紅外線剝蝕層)
本實施形態之柔版印刷原版於感光性樹脂組合物層上具有紅外線剝蝕層。
紅外線剝蝕層可利用紅外線進行描繪加工,並於使感光性樹脂組合物層曝光硬化時發揮遮罩圖像之作用。於上述曝光結束後將感光性樹脂組合物層之未曝光部清洗時,亦同時去除該紅外線剝蝕層。
該紅外線剝蝕層至少阻隔紫外線區域至可見光範圍之輻射,含有具有吸收紅外線區域之光並轉換為熱之功能之紅外線吸收劑、輔助該紅外線吸收劑向系統中之分散之分散劑、及黏合劑聚合物。
又,作為該等以外之任意成分,可於不損及本發明之效果之範圍內含有填料、聚矽氧油、界面活性劑或塗佈助劑等。
關於本實施形態之柔版印刷原版之紅外線剝蝕層之膜厚,就確保對柔版印刷原版進行曝光處理之步驟時之對於紫外線的遮光性之觀點而言,較厚者較良好,就提高剝蝕性之觀點而言,較薄者較良好。
就如上所述之觀點而言,紅外線剝蝕層之膜厚較佳為0.1μm以上且20μm以下,更佳為0.5μm以上且15μm以下,進而較佳為1.0μm以上且10μm以下。
作為紅外線剝蝕層之非紅外線遮蔽效果,較佳為紅外線剝蝕層之光學密度成為2以上,更佳為光學密度成為3以上。光學密度可使用D200-II透過濃度計(GretagMacbeth公司製造)而加以測定。又,光學密度係所謂視感(ISO visual),測定對象之光為400~750nm左右之波長範圍。
以下,對紅外線剝蝕層中所含之各成分進行詳細說明。
<紅外線吸收劑>
本實施形態之紅外線剝蝕層含有紅外線吸收劑。
作為紅外線吸收劑,通常可使用對750nm~20000nm之範圍之波長具有較強之吸收特性的單體或化合物。紅外線吸收劑較佳為兼作非紅外線之遮蔽物質者,亦可單獨地添加紅外線吸收劑與非紅外線之遮蔽物質。
作為紅外線吸收劑,較佳為紅外區域之吸收性較高,且可均一地分散於紅外線剝蝕層內者。作為此種物質,例如可列舉:碳黑、石墨、氧化鐵、氧化鉻、亞鉻酸銅等無機顏料、或酞菁及取代酞菁衍生物、花青染料、部花青染料及聚次甲基染料、金屬硫醇鹽染料等色素類,但並不限定 於該等。
作為非紅外線之遮蔽物質,可使用反射或吸收紫外光線之物質。並不限定於以下,例如較適宜為碳黑、紫外線吸收劑、石墨等。
再者,紅外線吸收劑、非紅外線之遮蔽物質均可單獨僅使用一種,亦可混合兩種以上而使用。
作為紅外線吸收劑,尤佳為兼具非紅外線之遮蔽效果,獲取容易且廉價之碳黑。
碳黑之粒徑可於任意範圍內選擇,通常粒徑越小則對於紅外線之感度越增高,分散性變差。就以上之觀點而言,碳黑之粒徑較佳為20nm以上且80nm以下,更佳為25nm以上且70nm以下,進而較佳為30nm以上且60nm以下。
碳黑並不限定於以下,根據其製造方法例如分類為爐黑、煙囪黑、熱碳黑、乙炔黑、燈黑等,就獲取性或多樣性之觀點而言,較佳為爐黑。
關於紅外線剝蝕層中之紅外線吸收劑之含量,較佳為於確保對紅外線剝蝕層進行描繪加工時之可利用使用雷射光線去除的感度之範圍內進行選擇並添加。
關於雷射光線之感度,均勻地分散於紅外線剝蝕層中之紅外線吸收劑量越增加則越增高,但若紅外線吸收劑變得過多而引起凝聚等,則反而有降低之傾向。就此種觀點而言,紅外線吸收劑相對於整個紅外線剝蝕層之含量較佳為10質量%以上且90質量%以下,更佳為20質量%以上且80質量%以下,進而較佳為30質量%以上且70質量%以下。
列舉例說明於紅外線吸收劑使用碳黑之情形時之紅外線剝蝕層之形成方法。
較有效的是如下方法等:使用適當之溶劑製備黏合劑聚合物溶液,向其中添加碳黑與分散劑,使碳黑分散於黏合劑聚合物溶液中後塗佈於聚酯膜等覆蓋膜上,其後將該覆蓋膜層壓或加壓壓接於感光性樹脂組合物層,並使可利用紅外線雷射切除之非紅外線之遮蔽層轉印。
作為使碳黑分散於黏合劑聚合物溶液中之方法,併用利用攪拌葉片進行之強制攪拌、及利用超音波或各種研磨機之攪拌之方法較有效。或者,使用擠出機或捏合機將黏合劑聚合物、碳黑及分散劑預混練後使之溶解於溶劑中的方法亦對用以獲得碳黑之良好之分散性較有效。又,亦可使碳黑強制分散於處於乳膠溶液狀態之聚合物中。
紅外線吸收劑較佳為具有可與下述分散劑之吸附部相互作用之表面官能基。作為此種表面官能基,例如可列舉:羰基、羧基、醛基、羥基、苯基、碸基、硝基、順丁烯二酸酐、醌、內酯、酯等,但並不限定於該等。
作為紅外線吸收劑之表面官能基含量之簡易評價法,可使用藉由ASTM(American Society for Testing Materials,美國材料試驗協會)D 1512中所規定之測定法求出之pH值。
為了獲得與分散劑之充分之相互作用,pH值較佳為9以下,更佳為8.5以下,進而較佳為8以下。
另一方面,就抑制紅外線剝蝕層與覆蓋膜之相互作用,容易進行剝離之觀點而言,pH值較佳為2.5以上,更佳為3.0以上,進而較佳為3.5以 上。
<分散劑>
紅外線剝蝕層中所含之所謂分散劑係如下化合物,其具有可與紅外線吸收劑之表面官能基相互作用之吸附部、及可與黏合劑聚合物相溶之樹脂相溶部。
作為分散劑之吸附部,例如可列舉:胺基、醯胺基、胺基甲酸酯基、羧基、羰基、碸基、硝基,但並不限定於該等,較佳為胺基、醯胺基、胺基甲酸酯基。
作為樹脂相溶部,例如可列舉:飽和烷基、不飽和烷基、聚醚、聚酯、聚(甲基)丙烯酸、多元醇,但並不限定於該等。
分散劑之鹼值為5~100mgKOH/g。
上述鹼值可依據JIS K 2501(2003)中所規定之電位差滴定法(鹼值、過氯酸法)進行測定。
具體而言,可測定中和試樣1g中所含之鹼性成分所需之過氯酸,以與該過氯酸當量之氫氧化鉀(KOH)之毫克數表示。
再者,作為分散劑,可使用市售品。於分散劑為市售品之情形時,鹼值優先採用市售品之目錄資料。
於紅外線剝蝕層中,為了可防止紅外線剝蝕層與覆蓋膜之密接,於實用上並無問題地進行覆蓋膜之剝離,分散劑之鹼值必須為5mgKOH/g以上。
紅外線剝蝕層與覆蓋膜之密接係利用紅外線剝蝕層與覆蓋膜之含有成分彼此之分子間力產生。尤其是紅外線剝蝕層中之碳黑於表面具有極性官能基,故而較大地有助於密接。
因此,藉由使分散劑吸附於碳黑之表面並覆蓋,可防止與覆蓋膜之相互作用,抑制密接。
於分散劑之鹼值為5mgKOH/g以上之情形時,與碳黑之相互作用變得足夠強,可充分地防止與覆蓋膜之相互作用。
另一方面,分散劑之鹼值亦必須為100mgKOH/g以下。
若分散劑之鹼值為100mgKOH/g以下,則可防止分散劑之鹼部與覆蓋膜之相互作用變得過大,可有效地抑制密接性。
就上述觀點而言,分散劑之鹼值必須為5mgKOH/g以上,較佳為10mgKOH/g以上,更佳為20mgKOH/g以上。又,亦必須為100mgKOH/g以下,較佳為50mgKOH/g以下,更佳為35mgKOH/g以下。
分散劑之鹼值可利用分散劑中之鹼性基之含量,控制為上述數值範圍內。
作為鹼性基,例如可列舉:胺基、醯胺基、吡啶基、具有胺基甲酸酯鍵等之含氮官能基,但並不限定於該等。
又,於紅外線剝蝕層中,上述分散劑與下述黏合劑聚合物之溶解度參數(SP值)之差的絕對值較佳為0.3(cal/cm3)1/2以上。若為0.3(cal/cm3)1/2以上,則分散劑與黏合劑聚合物之相溶性降低,於碳黑表面局部化,作為結果可獲得作為分散劑之目標效果。
另一方面,分散劑與黏合劑聚合物之溶解度參數(SP值)之差的絕對 值亦較佳為4.0(cal/cm3)1/2以下。若為4.0(cal/cm3)1/2以下,則可確保分散劑與黏合劑聚合物之相溶性,可使碳黑分散,可防止紅外線剝蝕層中之PH(針孔)之產生。
就上述觀點而言,分散劑與黏合劑聚合物之溶解度參數(SP值)之差的絕對值較佳為0.3(cal/cm3)1/2以上且4.0(cal/cm3)1/2以下,就上述觀點而言,下限更佳為1.0(cal/cm3)1/2以上,進而較佳為1.5以上。就上述觀點而言,上限更佳為3.0(cal/cm3)1/2以下,進而較佳為2.5(cal/cm3)1/2以下。
又,如下所述,黏合劑聚合物可組合兩種以上而使用,於該情形時,只要應用添加質量最多之作為主要成分之黏合劑聚合物與分散劑的SP值之差之絕對值即可。
本案發明中之溶解度參數SP值δ係如下述式(1)般進行定義。
δ=(△E/V)1/2[(cal/cm3)1/2]…(1)
此處,V為溶劑之莫耳分子體積,△E為凝聚能(蒸發能)。
溶劑之莫耳分子體積與凝聚能例如亦可如文獻「POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE,Vol.14,147-154,1974」般,根據公知之值求出。
另一方面,於上述參數並不眾所周知之情形時,亦可使用稱為濁點滴定法之方法進行實測。
具體而言,首先,對使未知SP值之樣品溶解於已知SP值之良溶劑中而成之溶液,逐步滴加SP值低於上述良溶劑之不良溶劑,並測定溶質開始析出之不良溶劑之體積。繼而,對使新製備之SP值未知之樣品溶解於SP值已知之良溶劑中而成之溶液,逐步滴加SP值高於上述良溶劑之不良 溶劑,並測定溶質開始析出之不良溶劑之體積。此處,可藉由將所求出之各不良溶劑之體積應用於下述式(2)而求出。
δ=(Vm1 1/2‧δm1+Vmh 1/2‧δmh)/(Vm1 1/2+Vmh 1/2)…(2)
此處,Vm1為SP值較低之不良溶劑之體積,Vmh為SP值較高之不良溶劑之體積,δm1為SP值較低之不良溶劑之SP值,δmh為SP值較高之不良溶劑之SP值。
下述實施例中所記載之SP值均使用藉由上述濁點滴定法實測之值。
本實施形態之紅外線剝蝕層之分散劑之含量較佳為於可使紅外線吸收劑均勻地分散於紅外線剝蝕層中,並且確保紅外線剝蝕層之強度之範圍內進行選擇並添加。
若分散劑之含量較少,則無法使紅外線吸收劑充分地分散於紅外線剝蝕層中,但若分散劑過多,則有膜之強度降低而使PH(針孔)多發之虞。
就此種觀點而言,分散劑相對於本實施形態之剝蝕層整體之含量較佳為0.1質量%以上且50質量%以下,更佳為1質量%以上且30質量%以下,進而較佳為3質量%以上且20質量%以下。
於與紅外線吸收劑之關係中,就紅外線吸收劑之分散性之觀點而言,相對於紅外線吸收劑100質量份,分散劑較佳為0.5質量份以上,更佳為1質量份以上,進而較佳為3質量份以上。又,就紅外線剝蝕層之膜強度之觀點而言,較佳為50質量份以下,更佳為30質量份以下,進而較佳為20質量份以下。
於本實施形態之柔版印刷原版中,紅外線剝蝕層之分散劑較佳為具 有分支結構。於具有分支結構之情形時,由於分散劑之結晶性較低,故而可獲得較高之分散性。
本實施形態之紅外線剝蝕層之分散劑之重量平均分子量較佳為於使紅外線吸收劑均勻地分散於紅外線剝蝕層中,並且分散劑不會滲出之範圍內選擇。
於分散劑滲出之情形時,無法與紅外線吸收劑例如碳黑相互作用,故而產生分散不良,剝離變重,紅外線吸收劑例如碳黑凝聚而產生針孔(PH)。
就此種觀點而言,分散劑之利用凝膠滲透管柱層析法(GPC)進行之以標準聚苯乙烯換算測定的重量平均分子量較佳為1000以上且10000以下,更佳為2000以上且7000以下,進而較佳為2500以上且5000以下。
<黏合劑聚合物>
紅外線剝蝕層含有黏合劑聚合物。
作為黏合劑聚合物,例如可列舉:丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、氯乙烯系樹脂、偏二氯乙烯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚縮醛系樹脂、聚丁二烯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚酮系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、氟系樹脂、聚矽氧系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、脲系樹脂、三聚氰胺系樹脂、胍胺系樹脂、環氧系樹脂、酚系樹脂、及該等樹脂之共聚物等,但並不限定於該等。於黏合劑聚合物中,上述所列舉之化合物之比率較佳為80質量%以上,較佳為90質量%以上,亦可為100質量%。
上述黏合劑聚合物於不損及與紅外線吸收劑例如碳黑、及分散劑之相溶性之範圍內,可包含胺基、硝基、磺酸基、磷酸基、羧酸基、鹵素等各種官能基。
上述黏合劑聚合物可單獨僅使用一種,亦可組合兩種以上而使用。
於組合兩種以上而使用之情形時,只要根據所需之性能選擇即可。
例如,就耐損傷性之觀點而言,較佳為包含單乙烯基取代芳香族烴單體與共軛二烯單體之共聚物之熱塑性彈性體、上述共聚物之氫化物、聚醯胺系樹脂、聚乙烯醇系樹脂,更佳為包含單乙烯基取代芳香族烴單體與共軛二烯單體之共聚物之熱塑性彈性體、上述共聚物之氫化物。
又,由於紅外線剝蝕層與覆蓋膜之密接係利用該紅外線剝蝕層之含有成分與覆蓋膜之含有成分彼此的分子間力產生,故而就剝離性之觀點而言,較佳為使用極性基較少之黏合劑聚合物。例如較佳為使用包含單乙烯基取代芳香族烴單體與共軛二烯單體之共聚物之熱塑性彈性體、上述共聚物之氫化物、聚(甲基)丙烯酸酯。
於需要水顯影性之情形時,較佳為使用聚醯胺、聚丁醛、聚乙烯醇、聚(甲基)丙烯酸酯及該等之改性物或部分皂化體。
黏合劑聚合物之數量平均分子量可任意地設定,只要考慮目標之紅外線剝蝕層之耐PH(針孔)性、剝蝕效率選擇即可。
通常數量平均分子量越減小則越柔軟,耐損傷性越降低,反之越增大則剝蝕效率越變差。
就紅外線剝蝕層之耐PH性之觀點而言,黏合劑聚合物之數量平均分子量較佳為1000以上,進而較佳為3000以上。
又,若考慮剝蝕效率,則數量平均分子量較佳為200000以下,進而較佳為150000以下。
該等數值之上下限可任意地組合。
黏合劑聚合物之數量平均分子量可藉由適當調整該聚合物之聚合條件例如單體量、聚合時間、聚合溫度等聚合條件而控制為上述數值範圍內。
又,亦有效的是藉由混合複數種聚合物而設為所需之數量平均分子量。
黏合劑聚合物相對於整個紅外線剝蝕層之含有比率可於不損及本發明之目的之範圍內任意地設定。
就耐PH性之觀點而言,黏合劑聚合物相對於整個紅外線剝蝕層之含有比率較佳為20質量%以上,更佳為30質量%以上,進而更佳為40質量%以上。
另一方面,就為了提對紅外線之感度高而提高碳黑等紅外線吸收劑之濃度之觀點而言,較佳為90質量%以下,更佳為70質量%以下,進而較佳為60質量%以下。該等數值之上下限可任意地組合。
<添加劑>
紅外線剝蝕層係如下所述般於覆蓋膜上製膜,於製膜時,通常於溶液或分散液之狀態下塗佈於覆蓋膜上並經過乾燥而進行製膜。
為了提高溶液或分散液對於覆蓋膜之潤濕性或膜之均一性,可添加聚矽氧樹脂、界面活性劑、其他所需之添加劑。
作為界面活性劑,可應用通常之非離子性、陽離子性、陰離子性、兩性者,只要適當選擇即可。
作為聚矽氧樹脂,例如可列舉:二甲基聚矽氧油、甲基苯基聚矽氧油等無改性聚矽氧油;聚醚改性聚矽氧、芳烷基改性聚矽氧、氟烷基改性聚矽氧、長鏈烷基改性聚矽氧等改性聚矽氧油,但並不限定於該等。
又,作為氟系界面活性劑,例如可列舉:含全氟烷基之酸鹽、含全氟烷基之酯、含有含氟基之低聚物等,但並不限定於該等。
該等之中,若考慮剝蝕時之產生氣體,則就環境面而言更佳為聚矽氧樹脂,尤其是就剝離性與用以製作剝蝕層之塗液之塗佈穩定性的平衡性之觀點而言,較佳為聚醚改性聚矽氧。
紅外線剝蝕層中之界面活性劑或添加劑之含有比率可於不損及本發明之效果之範圍內任意地設定。
作為該等界面活性劑或添加劑適宜地發揮出效果之範圍,較佳為0.1質量%以上且30質量%以下,更佳為0.5質量%以上且25質量%以下,進而較佳為1.0質量%以上且20質量%以下。
若該等界面活性劑或添加劑未明顯提高紅外線剝蝕層之吸濕性,則可為水溶性、非水溶性中之任一種,就吸濕性之觀點而言,更佳為非水溶性。
<塗敷溶劑>
用以將紅外線剝蝕層製膜之溶液或分散液等溶劑可考慮所使用之聚 合物或紅外線吸收劑之溶解性而適當加以選擇。
溶劑可僅使用一種,亦可混合兩種以上之溶劑而使用。
又,例如,亦有效的是藉由混合相對低沸點之溶劑與高沸點之溶劑,控制溶劑之揮發速度而提高紅外線剝蝕層之膜質。
作為用以將紅外線剝蝕層製膜之溶劑,例如可列舉:甲苯、二甲苯、環己烷、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯、甲基乙基酮、丙酮、環己酮、乙二醇、丙二醇、乙醇、水、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、二甲基乙醯胺、二甲基甲醯胺、正丙醇、異丙醇、1,4-二
Figure 109106155-A0305-02-0041-7
烷、四氫呋喃、二乙醚、正己烷、正庚烷、正戊烷、乙腈或其相關物等,但並不限定於該等。
(覆蓋膜)
用以將本實施形態之紅外線剝蝕層製膜之覆蓋膜較佳為尺寸穩定性優異之膜,例如較佳為聚對苯二甲酸乙二酯膜等。
覆蓋膜可於未處理之狀態下使用,視需要亦可使用賦予了脫模處理、防靜電處理等功能者。
(中間層)
本實施形態之柔版印刷原版可於上述感光性樹脂組合物層與紅外線剝蝕層之間進而具有1層以上之中間層。
為了製作高精細且具有強光區域之印刷物,必須形成點前端部之平坦部之直徑為10~20μm、凸紋深度為100μm以上之微小之點。為了達成此種微小之點,中間層較佳為具有氧抑制能力之氧抑制層。
又,中間層亦可為具有接著功能之接著層。
於藉由紫外線之照射使感光性樹脂組合物層硬化時,硬化係利用自由基聚合進行。若於聚合時氧共存,則自由基生成化合物與氧反應而抑制聚合反應。若抑制聚合反應,於感光性樹脂組合物層殘留未反應部分,則最終形成之圖案呈現於前端具有曲線部之形狀。相對於此,若於紫外線硬化時減少氧之共存量,則不易抑制聚合反應,最終形成之圖案呈現於前端具有平面部之形狀。因此,於欲製作於前端具有平坦部之圖案之情形時,藉由中間層具有氧抑制能力,減少與感光性樹脂組合物層接觸之氧較有效。
又,中間層亦具有保護紅外線剝蝕層之功能。
於先前之柔版印刷版之製造步驟中,於在紅外線剝蝕層上饋送膜時,因與卷接觸或於膜卷輸送中發生捲緊,與保護膜摩擦摩擦而物理性地缺損,有產生針孔之虞。
又,於藉由一面將感光性樹脂組合物層擠出成型一面塗設於紅外線剝蝕層上之方法,使感光性樹脂組合物層與紅外線剝蝕層積層之情形時,因加熱熔融之感光性樹脂組合物於紅外線剝蝕層上流動時產生之摩擦,有產生針孔之虞。
為了防止此種紅外線剝蝕層之針孔之產生,構成本實施形態之柔版印刷原版之中間層設為具有物理強度、耐熱性者。
如上所述,為了製作高精細且具有強光區域之印刷物,必須形成點前端部之平坦部之直徑為10~20μm的微小之點,故而若於紅外線剝蝕層中存在20μm以上之針孔,且於其周邊重疊用以形成微小點之遮罩圖像之 情形時,有產生點形成不良,無法製作高精細且具有強光區域之柔版印刷版之虞。
進而,就柔版印刷版之製造步驟之簡便性之觀點而言,中間層較佳為可利用與紅外線剝蝕層及/或感光性樹脂組合物層相同之洗淨液洗淨。
若中間層之洗淨性較高,則可縮短洗淨步驟所耗費之時間,可提高作業性,容易地進行位於中間層之下層之感光性樹脂組合物層之顯影。
作為可適宜地用於中間層之材料,例如可列舉:乙烯-乙烯醇共聚物、聚乙烯醇、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯吡咯啶酮、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚丙烯腈、聚甲基丙烯酸甲酯、聚縮醛、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、纖維素衍生物、聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚胺基甲酸酯、矽橡膠、丁基橡膠、及異戊二烯橡膠等聚合物,但並不限定於該等。
該等聚合物可單獨僅使用一種,亦可組合兩種以上而使用。
又,亦可向中間層中添加其他成分例如界面活性劑、抗黏連劑、脫模劑、UV(Ultra Violet,紫外線)吸收劑、染料、顏料等。
中間層之厚度較佳為0.5μm以上且20μm以下。藉由為0.5μm以上,可獲得充分之膜強度,藉由為20μm以下,可獲得充分之洗淨性。中間層之厚度更佳為0.5μm以上且10μm以下,進而較佳為0.5μm以上且5μm以下。
作為於中間層中所使用之材料,亦可列舉水分散性乳膠作為適宜之 材料。
作為水分散性乳膠,例如可列舉:聚丁二烯乳膠、天然橡膠乳膠、苯乙烯-丁二烯共聚物乳膠、丙烯腈-丁二烯共聚物乳膠、聚偏二氯乙烯乳膠、聚氯丁二烯乳膠、聚異戊二烯乳膠、聚胺基甲酸酯乳膠、甲基丙烯酸甲酯-丁二烯共聚物乳膠、乙烯基吡啶聚合物乳膠、丁基聚合物乳膠、聚硫橡膠聚合物乳膠、丙烯酸酯聚合物乳膠等水分散乳膠聚合物、或使該等聚合物與丙烯酸或甲基丙烯酸等其他成分進行共聚所獲得之聚合物,但並不限定於該等。
該等之中,就硬度或橡膠彈性之觀點而言,較佳為於分子鏈中含有丁二烯骨架或異戊二烯骨架之水分散乳膠聚合物。具體而言,較佳為聚丁二烯乳膠、苯乙烯-丁二烯共聚物乳膠、丙烯腈-丁二烯共聚物乳膠、甲基丙烯酸甲酯-丁二烯共聚物乳膠、聚異戊二烯乳膠。
構成本實施形態之柔版印刷原版之中間層中所含之水分散性乳膠係設為具有極性基者,作為該極性基,可列舉羧基、胺基、羥基、磷酸機、磺酸基、該等之鹽等作為較佳者。
於使用本實施形態之柔版印刷原版之柔版印刷版中,就獲得較高之洗淨性及層間之優異之密接性之觀點而言,作為上述水分散性乳膠,較佳為具有羧基或羥基者。
包含該等極性基之水分散性乳膠可單獨僅使用一種,亦可組合兩種以上。
作為具有羧基之水分散性乳膠,可列舉包含具有羧基之不飽和單體 作為聚合單體者,作為該具有羧基之不飽和單體,例如可列舉一元酸單體、及二元酸單體等。
作為一元酸單體,例如可列舉:丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、乙烯苯甲酸、桂皮酸、及該等一元酸單體之鈉鹽、鉀鹽、銨鹽等。
作為二元酸單體,例如可列舉:伊康酸、反丁烯二酸、順丁烯二酸、檸康酸、黏康酸、及該等二元酸單體之鈉鹽、鉀鹽、銨鹽等。
於本實施形態中,具有羧基之不飽和單體可單獨僅使用一種,亦可同時使用複數種具有羧基之不飽和單體。
作為具有羥基之水分散性乳膠,可列舉乙烯系單羧酸烷基酯單體。作為乙烯系單羧酸烷基酯單體,例如可列舉:丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、甲基丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸1-羥基丙酯、甲基丙烯酸1-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基環己酯等,但並不限定於該等。
關於中間層中之水分散性乳膠之含有比率,就樹脂密接性之觀點而言,相對於中間層總量,較佳為3質量%以上,更佳為10質量%以上,進而較佳為20質量%以上。
又,就抑制發黏之觀點而言,較佳為90質量%以下,更佳為80質量%以下,進而較佳為70質量%以下。
藉由中間層中之水分散性乳膠之含有比率為3質量%以上,可獲得充分之密接性,又,藉由含有比率為90質量%以下,可獲得具有充分之膜強度,且發黏較少之柔版印刷原版。
水分散性乳膠之甲苯凝膠分率較佳為70質量%以上且90質量%以下。更佳為70質量%以上且85質量%以下,進而較佳為70質量%以上且80質量%以下。
若水分散性乳膠之甲苯凝膠分率為70質量%以上且90質量%以下之範圍,則可獲得維持充分之橡膠彈性、膜強度,並且發黏較少之柔版印刷原版。
此處,水分散性乳膠之甲苯凝膠分率可藉由以下之方法而進行測定。
取將水分散性乳膠之乳化聚合後之分散液於130℃下乾燥30分鐘所得之皮膜0.5g,浸漬於25℃之甲苯30mL中,使用振盪器振盪3小時後,利用320SUS篩網進行過濾,將不通過成分於130℃下乾燥1小時後,測定質量X(g)。
凝膠分率係根據以下之式算出。
凝膠分率(質量%)=X(g)/0.5(g)×100
上述水分散性乳膠之甲苯凝膠分率可藉由調整聚合溫度、單體組成、鏈轉移劑量、粒徑,控制為上述數值範圍內。
中間層中所含之水溶性聚胺基甲酸酯只要為具有胺基甲酸酯鍵之聚合物,則並無特別限定,例如可列舉使多元醇化合物與聚異氰酸酯反應而獲得之聚胺基甲酸酯等。
為了使上述水溶性聚胺基甲酸酯穩定地溶解或分散於有機溶劑及/或 水中,亦較佳為除多元醇化合物及聚異氰酸酯以外,且添加作為聚合成分之含親水基之化合物。
作為上述多元醇化合物,例如可列舉:聚醚多元醇、聚酯多元醇、聚碳酸酯二醇、聚丙烯酸多元醇等,但並不限定於該等。
該等可單獨僅使用一種,亦可組合兩種以上而使用。
該等之中,就密接性之觀點而言,較佳為聚醚多元醇。
作為聚醚多元醇,例如可列舉使離子聚合性環狀化合物與多元醇開環共聚而獲得之聚醚多元醇、即,多元醇與離子聚合性環狀化合物之反應物。
作為上述多元醇,例如可列舉:乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、聚丙二醇、聚四亞甲基二醇、聚六亞甲基二醇、聚八亞甲基二醇、聚十亞甲基二醇、甘油、三羥甲基丙烷、季戊四醇、雙酚A、雙酚F、氫化雙酚A、氫化雙酚F、對苯二酚、萘并對苯二酚、蒽并對苯二酚、1,4-環己二醇、三環癸二醇、三環癸烷二甲醇、五環十五烷二醇、及五環十五烷二甲醇等,但並不限定於該等。
該等可單獨僅使用一種,亦可組合兩種以上而使用。
作為上述離子聚合性環狀化合物,例如可列舉:環氧乙烷、環氧丙烷、1,2-環氧丁烷、氧化丁烯-1、環氧異丁烷、3,3-二氯甲基氧雜環丁烷、四氫呋喃、2-甲基四氫呋喃、3-甲基四氫呋喃、二
Figure 109106155-A0305-02-0047-16
烷、三
Figure 109106155-A0305-02-0047-17
烷、四
Figure 109106155-A0305-02-0047-18
烷、環氧環己烷、環氧苯乙烷、表氯醇、甲基丙烯酸縮水甘油酯、烯丙 基縮水甘油醚、碳酸烯丙基縮水甘油酯、環氧丁烯、一氧化異戊二烯、乙烯基氧雜環丁烷、乙烯基四氫呋喃、乙烯基環氧環己烷、苯基縮水甘油醚、丁基縮水甘油醚、苯甲酸縮水甘油酯等環狀醚類,但並不限定於該等。
該等可單獨僅使用一種,亦可組合兩種以上而使用。
又,作為上述多元醇化合物,亦可使用使上述離子聚合性環狀化合物、與伸乙亞胺等環狀亞胺類、β-丙內酯、乙醇酸丙交酯等環狀內酯酸或二甲基環聚矽氧烷類進行開環共聚而成之聚醚多元醇。
該等離子聚合性環狀化合物之開環共聚物可無規地鍵結,亦能夠以嵌段狀鍵結。
作為上述聚異氰酸酯,可並無特別限定地使用於聚胺基甲酸酯之製造中所通常使用之聚異氰酸酯。
作為聚異氰酸酯,例如可列舉:2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、1,3-苯二甲基二異氰酸酯、1,4-苯二甲基二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、間苯二異氰酸酯、對苯二異氰酸酯、3,3'-二甲基-4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、3,3'-二甲基苯二異氰酸酯、4,4'-聯苯二異氰酸酯、1,6-己烷二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、亞甲基雙(4-環己基異氰酸酯)、2,2,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、反丁烯二酸雙(2-異氰酸基乙基)酯、6-異丙基-1,3-苯基二異氰酸酯、4-二苯基丙烷二異氰酸酯、離胺酸二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、四甲基苯二甲基二異氰酸酯、2,5(或6)-雙(異氰酸 基甲基)-雙環[2.2.1]庚烷等,但並不限定於該等。
該等聚異氰酸酯可單獨僅使用一種,亦可組合兩種以上而使用。
中間層中所含之上述水溶性聚胺基甲酸酯於在本實施形態之柔版印刷原版之製造步驟中進行熱擠出成形時,為了提高構成柔版印刷原版之紅外線剝蝕層之耐PH(針孔)性,維持柔版印刷原版之柔軟性,藉由上述水溶性聚胺基甲酸酯製作之膜之伸長率較佳為300%以上,更佳為600%以上。
又,上述水溶性聚胺基甲酸酯之熱軟化溫度較佳為80℃~210℃。就耐PH(針孔)性之觀點而言,較佳為80℃以上,就接著性之觀點而言,較佳為210℃以下。
又,更佳為110℃~180℃,進而較佳為120℃~170℃。
水溶性聚胺基甲酸酯之熱軟化溫度可利用高化式流變儀而進行測定。
又,水溶性聚胺基甲酸酯之熱軟化溫度可藉由調整構成水溶性聚胺基甲酸酯之二醇成分與二異氰酸酯成分之種類、組合而控制為上述數值範圍內。
對紅外線剝蝕層之耐PH性帶來影響之特性為中間層中所含之水溶性聚胺基甲酸酯單獨膜之熱熔融溫度、伸長率、斷裂強度之3個參數。
於本實施形態之柔版印刷原版之製造時,混練後之樹脂(感光性樹脂組合物層之材料)溫度成為120~140℃左右。此時,中間層中所含之水溶性聚胺基甲酸酯單獨膜之熱軟化溫度越接近混練後之樹脂溫度或低於其,又,水溶性聚胺基甲酸酯單獨膜之伸長率越大,由於追隨混練後之樹脂之 剪切應力,故而紅外線剝蝕層及中間層越容易片材化。
又,關於水溶性聚胺基甲酸酯單獨膜之斷裂強度,於作為構成感光性樹脂組合物層之材料之混錬樹脂(亦含有混錬不良之凝膠狀物質)與紅外線剝蝕層及中間層之熱層壓時,因由凝膠狀物引起之刮擦,直接與混錬樹脂接觸之中間層斷裂,於紅外線剝蝕層中產生針孔,故而水溶性聚胺基甲酸酯單獨膜之斷裂強度越大則越佳。
又,就中間層之柔軟性之觀點而言,上述水溶性聚胺基甲酸酯之數量平均分子量較佳為1,000~200,000,更佳為30,000~100,000。
又,就與紅外線剝蝕層或感光性樹脂組合物層之密接性之觀點而言,中間層中所含之水溶性聚胺基甲酸酯較佳為使聚醚多元醇與異氰酸酯進行反應而成之聚醚聚胺基甲酸酯。作為此種聚醚聚胺基甲酸酯,例如Superflex 300(第一工業製藥公司製造)或Hydran WLS202(DIC公司製造)等於市面上有售。
水溶性聚胺基甲酸酯較佳為於分子內具有聚醚、聚酯、聚碳酸酯、聚酯醚中之任一種結構,進而較佳為聚醚、聚酯、聚碳酸酯,進而就接著性之觀點而言,較佳為具有聚醚結構。
樹脂密接力、即中間層與感光性樹脂組合物層之密接力係由中間層中所含之水分散性乳膠與水溶性聚胺基甲酸酯表現出。
關於初始之密接性,水溶性聚胺基甲酸酯主要有助於上述樹脂密接 力,水溶性聚胺基甲酸酯之Tg較低時於感光性樹脂組合物層中容易潤濕,故而有樹脂密接力變得優異之傾向。
又,於將柔版印刷原版長期放置後之密接力有助於水分散性乳膠之投錨效應。
於在感光性樹脂組合物層中使用苯乙烯丁二烯系之樹脂之情形時,該苯乙烯丁二烯系之樹脂容易與中間層中之水分散性乳膠相溶,故而於長期保存時轉移,藉此表現出投錨效應,於長期保存後亦維持樹脂密接力。
中間層中之水溶性聚胺基甲酸酯之含有比率相對於中間層總量,較佳為10質量%以上,更佳為20質量%以上,進而較佳為40質量%以上。
又,較佳為90質量%以下,更佳為80質量%以下,進而較佳為70質量%以下。
藉由水溶性聚胺基甲酸酯相對於中間層總量之含有比率為10質量%以上,可獲得充分之耐PH(針孔)性,又,藉由含有比率為90質量%以下,可獲得充分之密接性。
就洗淨性及高溫時之中間層之強度之觀點而言,水溶性聚胺基甲酸酯較佳為具有極性基。
作為極性基,例如可列舉:羥基、烷氧基、環氧乙烷基、環氧丙烷基等聚醚基;羰基、羧基、胺基、脲基、氰基、磺酸基、磷酸基等,但並不限定於該等。
該等之中,較佳為具有羧基、或羥基之水溶性聚胺基甲酸酯。
中間層亦可進而包含水溶性聚醯胺。
作為水溶性聚醯胺,只要為具有聚醯胺鍵之聚合物,則並無特別限定,可列舉:碳數4~40之內醯胺、胺基羧酸、二胺與二羧酸之等莫耳鹽等。
作為上述具有聚醯胺鍵之聚合物,可使用先前公知之可溶性合成高分子化合物。例如可列舉:聚醚醯胺(例如參照日本專利特開昭55-79437號公報等)、聚醚酯醯胺(例如參照日本專利特開昭58-113537號公報等)、含三級氮之聚醯胺(例如參照日本專利特開昭50-76055號公報等)、含銨鹽型三級氮原子之聚醯胺(例如參照日本專利特開昭53-36555號公報等)、具有1個以上醯胺鍵之醯胺化合物與有機二異氰酸酯化合物之加成聚合物(例如參照日本專利特開昭58-140737號公報等)、不具有醯胺鍵之二胺與有機二異氰酸酯化合物之加成聚合物(例如參照日本專利特開平4-97154號公報等)等。
該等水溶性聚醯胺可單獨僅使用一種,亦可組合兩種以上而使用。
可尤佳地使用可對中間層賦予適度之硬度之含三級氮原子的聚醯胺及銨鹽型含三級氮原子之聚醯胺。
中間層中之水溶性聚醯胺之含有比率相對於水分散性乳膠100質量份為10~700質量份,較佳為15~600質量份,進而較佳為20~500質量份。
若水溶性聚醯胺之含有比率相對於水分散性乳膠100質量份為10質量份以上,則可維持中間層之膜強度,故而可獲得充分之耐PH性。
又,藉由水溶性聚醯胺之含有比率為700質量份以下,可維持樹脂密接性。
[紅外線剝蝕層形成用之積層體之製造方法]
用以形成構成本實施形態之柔版印刷原版之紅外線剝蝕層之紅外線剝蝕層形成用之積層體能夠以如下方式進行製造。
首先,製備塗敷液,其含有構成紅外線剝蝕層之各成分及溶劑。
其次,於覆蓋膜上塗敷上述塗敷液,形成塗敷層(塗敷步驟)。
其次,自塗敷層去除溶劑(乾燥步驟)。
於形成上述中間層之情形時,於該紅外線剝蝕層側使用含有構成中間層之各成分及溶劑之塗敷液,經過與上述紅外線剝蝕層之形成同樣之塗敷步驟與乾燥步驟,藉而形成中間層。
[柔版印刷版之製造方法]
本實施形態之柔版印刷版之製造方法具有如下步驟:對包含支持體、配設於上述支持體上之感光性樹脂組合物層、及配設於上述感光性樹脂組合物層上之紅外線剝蝕層之柔版印刷原版,自上述支持體側照射紫外線之步驟;對上述紅外線剝蝕層照射紅外線而描繪加工圖案之步驟;對上述感光性樹脂組合物層照射紫外線,進行圖案曝光之步驟;及去除上述紅外線剝蝕層及未曝光之感光性樹脂組合物層之步驟。
其後,視需要進行後曝光處理之步驟,獲得利用感光性樹脂組合物層之硬化物之柔版印刷版(凸版印刷版)。
再者,就賦予剝離性之觀點而言,可使印刷版之表面與含有聚矽氧化合物及/或氟化合物之液體接觸。
於自支持體側照射紫外線之步驟中,可使用慣用之照射單元而進行。
作為紫外線,可使用波長150~500nm之紫外線,尤其可較佳地使用300~400nm之紫外線。
作為光源,例如可使用低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、氙燈、鋯燈、碳弧燈、紫外線用螢光燈等。
再者,該紫外線照射之步驟可於在紅外線剝蝕層上描繪加工圖案之步驟之前進行,亦可於描繪加工圖案之步驟之後進行。
於柔版印刷原版具有覆蓋膜之情形時,首先剝離覆蓋膜。
其後,對紅外線剝蝕層圖案照射紅外線,於感光性樹脂組合物層上形成遮罩。
作為適宜之紅外線雷射,例如可列舉ND/YAG雷射(例如1064nm)或二極體雷射(例如830nm)。
適於CTP製版技術之雷射系統於市面上有售,例如可使用二極體雷射系統CDI Spark(ESKO GRAPHICS公司)。
該雷射系統包含保持柔版印刷原版之旋轉圓筒鼓、IR(Infrared Radiation,紅外線輻射)雷射之照射裝置、及佈局電腦,圖像資訊係自佈局電腦直接傳送至雷射裝置。
如上所述,於進行圖案描繪後,介隔遮罩對感光性樹脂組合物層之整個面照射紫外線。
其可於將版安裝於雷射筒之狀態下進行,但通常自雷射裝置拆下版,並使用慣用之照射單元進行照射。
照射單元可使用與自支持體側之紫外線照射中所使用者同樣之單 元。
本實施形態之柔版印刷原版具有氧抑制層或接著層等中間層,且作為氧抑制層之中間層中之紫外線之吸收量較多,於圖案曝光步驟中無法忽視之情形時,較佳為預先考慮經作為氧抑制層之中間層吸收之紫外線量而適當調整紫外線照射量。
其次,進行顯影步驟。
於顯影步驟中,可應用先前公知之方法。
具體而言,如上所述般對柔版印刷原版進行曝光,其後,利用溶劑顯影用之溶劑或水顯影用之洗淨液對未曝光部分進行沖洗,或使加熱至40℃~200℃之未曝光部分與可進行吸收之特定之吸收層接觸,並去除吸收層,藉此去除未曝光部分。
其後,視需要進行後曝光處理,藉此製造柔版印刷版。
再者,於在紅外線剝蝕層與感光性樹脂組合物層之間具有包含接著層或氧抑制層之中間層之情形時,於顯影步驟中同時去除。
作為用以對未曝光部進行溶劑顯影之顯影溶劑,例如可列舉:乙酸庚酯、乙酸3-甲氧基丁酯等酯類;石油餾分、甲苯、十氫萘等烴類;或向四氯乙烯等氯系有機溶劑中混合丙醇、丁醇、戊醇等醇類而成者,但並不限定於該等。未曝光部之清洗係藉由自噴嘴之噴射、或利用刷子之刷洗進行。
作為水顯影用之洗淨液,可使用鹼性水溶液或中性洗劑。
於上述水顯影用之洗淨液中,可適宜地使用界面活性劑。
所謂界面活性劑,可列舉:陰離子系界面活性劑、兩性界面活性劑、非離子系界面活性劑等。該等可單獨僅使用一種,亦可混合兩種以上而使用。
作為陰離子系界面活性劑,例如可列舉:硫酸酯鹽、高級醇硫酸酯、高級烷醚硫酸酯鹽、硫酸化烯烴、烷基苯磺酸鹽、α-烯烴磺酸鹽、磷酸酯鹽、二硫代磷酸酯鹽等,但並不限定於該等。
作為兩性界面活性劑,例如可列舉胺基酸型兩性界面活性劑、甜菜鹼型兩性界面活性劑等,但並不限定於該等。
作為非離子系界面活性劑,例如可列舉:高級醇環氧乙烷加成物、烷基苯酚環氧乙烷加成物、脂肪酸環氧乙烷加成物、多元醇脂肪酸酯環氧乙烷加成物、高級烷基胺環氧乙烷加成物、脂肪醯胺環氧乙烷加成物、聚丙二醇環氧乙烷加成物等聚乙二醇型界面活性劑或甘油脂肪酸酯、季戊四醇脂肪酸酯、山梨糖醇、及山梨糖醇酐之脂肪酸酯、多元醇之烷基酯、烷醇胺類之脂肪醯胺等多元醇型界面活性劑等,但並不限定於該等。
又,於鹼性水溶液中含有pH值調整劑。
作為pH值調整劑,可為有機材料、無機材料中之任一種,較佳為可將pH值調整為9以上者。作為pH值調整劑,例如可列舉:氫氧化鈉、碳酸鈉、碳酸鉀、矽酸鈉、偏矽酸鈉、琥珀酸鈉等,但並不限定於該等。
作為熱顯影之吸收層,可列舉:不織布材料、紙素材、纖維織物、連續氣泡發泡體、及多孔質材料。
作為較佳之吸收層,為包含尼龍、聚酯、聚丙烯、聚乙烯之不織布 材料、及該等不織布材料之組合。作為尤佳之吸收層,為尼龍或聚酯之不織布連續網。
[實施例]
以下,列舉具體之實施例及比較例詳細地說明本發明,但本發明並非於以下之實施例中進行而受任何限定。
[製造例1] (親水性共聚物之合成)
向安裝有攪拌裝置與溫度調節用套之耐壓反應容器中,初期添加水125質量份、作為反應性乳化劑之(α-磺基(1-壬基苯氧基)甲基-2-(2-伸丙氧基)乙氧基-聚(氧代-1,2-乙烷二基)之銨鹽「ADEKA REASOAP」(旭電化工業製造)2質量份,將內溫升溫至80℃,對包含苯乙烯10質量份、丁二烯60質量份、丙烯酸丁酯23質量份、甲基丙烯酸5質量份、及丙烯酸2質量份之單體混合物與第三-十二烷基硫醇2質量份之油性混合液、及包含水28質量份、過氧二硫酸鈉1.2質量份、氫氧化鈉0.2質量份、及(α-磺基(1-壬基苯氧基)甲基-2-(2-伸丙氧基)乙氧基-聚(氧代-1,2-乙烷二基)之銨鹽2質量份之水溶液,歷時5小時以一定之流速添加上述油性混合液,並歷時6小時以一定之流速添加上述水溶液。
繼而,於該狀態下保持80℃之溫度1小時,結束聚合反應,於獲得共聚物乳膠後進行冷卻。
進而,利用氫氧化鈉對所生成之共聚物乳膠將pH值調整為7後,藉由蒸汽汽提法去除未反應之單體,利用200目之金屬篩網過濾,以最終濾液 之固形物成分濃度成為40質量%之方式進行調整而獲得親水性共聚物之水分散液。
利用50℃之真空乾燥機使所獲得之親水性共聚物之水分散液乾透,藉此去除水而獲得親水性共聚物。
[製造例2] (基礎膜(支持體)之製作)
作為塗佈於支持體(基礎膜)之接著劑層用之溶液,以作為苯乙烯與1,3-丁二烯之嵌段共聚物之Tufprene912(旭化成股份有限公司製造、商品名)55質量份、烷烴油(平均碳數33、平均分子量470、15℃下之密度0.868)38質量份、1,9-壬二醇二丙烯酸酯2.5質量份、2,2-二甲氧基-苯基苯乙酮1.5質量份、Epoxy Ester 3000M(共榮社化學股份有限公司製造、商品名)3質量份、及VALIFAST YELLOW 3150(Orient Chemical Industries製造、商品名)1.5質量份之比率,使該等溶解於甲苯中而獲得固形物成分25%之溶液。
其後,使用刮刀塗佈機,於厚度100μm聚酯膜之單側以紫外線透過率(UV透過率)成為10%之方式進行塗佈,並於80℃下乾燥1分鐘而獲得具有接著劑層之支持體(基礎膜)。
支持體之UV透過率係使用紫外線曝光機AFP-1500(旭化成股份有限公司製造、商品名),利用UV照度計MO-2型機(ORC MANUFACTURING製造、商品名、UV-35 Filter)測定透過強度並進行計算。
[製造例3] (紅外線剝蝕層形成用之積層體之製作)
混合作為紅外線吸收劑之碳黑(CB)100質量份、作為分散劑之Solsperse 39000(日本Lubrizol股份有限公司製造、商品名、鹼值30mgKOH/g)20質量份、作為黏合劑聚合物之苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物彈性體之氫化物即Tuftec H1051(旭化成股份有限公司製造、商品名)80質量份、甲苯600質量份,而獲得紅外線剝蝕層塗敷液。
將該紅外線剝蝕層塗敷液以乾燥後之膜厚成為3μm之方式塗佈於成為覆蓋膜的100μm之厚度之PET膜上,於90℃下實施2分鐘之乾燥處理,而獲得作為紅外線剝蝕層與覆蓋膜之積層體之紅外線剝蝕層形成用之積層體。
[實施例1] (柔版印刷原版之製作)
使用加壓捏合機於140℃下混合上述[製造例1]中所獲得之親水性共聚物32質量份、及苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物[D-KX405:CLAYTONE製造]28質量份後,歷時15分鐘少量逐步添加液狀聚丁二烯[LBR-352:可樂麗製造]32質量份、1,9-壬二醇二丙烯酸酯8質量份、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯5質量份、2,2-二甲氧基苯基苯乙酮2質量份、2,6-二-第三丁基-對甲酚1質量份、甲醇改性聚矽氧油[KF-6000:信越化學製造]1質量份之液狀混合物,添加結束後進而混練20分鐘,而獲得感光性樹脂組合物1。
其次,投入至擠出成型機中,於自T鑄模擠出成型之感光性樹脂組合物1之單面貼合上述[製造例2]中所獲得之基礎膜(支持體),並於感光性樹 脂組合物層之與支持體積層側相反之面貼合脫模膜(三菱化學公司製造之DIAFOIL MRV100),而獲得支持體與感光性樹脂組合物層1之積層體。
其次,剝離上述脫模膜,以紅外線剝蝕層與感光性樹脂組合物層接觸之方式對上述[製造例3]中所獲得之紅外線剝蝕層形成用之積層體進行層壓,而獲得柔版印刷原版。
[實施例2]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,使用Ajisper PB881(Ajinomoto Fine-Techno股份有限公司製造、商品名、鹼值17mgKOH/g)代替作為分散劑之Solsperse 39000,使用苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物彈性體之Asaflex 810(旭化成股份有限公司製造、商品名)代替作為黏合劑聚合物之Tuftec H1051。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例3]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,使用Disparlon DA-703-50(楠本化成股份有限公司製造、商品名、鹼值20mgKOH/g)代替作為分散劑之Solsperse 39000。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例4]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,使用Solsperse 37500(日本Lubrizol股份有限公司製 造、商品名、鹼值9mgKOH/g)代替作為分散劑之Solsperse 39000,使用苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物彈性體之Tufprene 315(旭化成股份有限公司製造、商品名)代替作為黏合劑聚合物之Tuftec H1051。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例5]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,使用Solsperse 28000(日本Lubrizol股份有限公司製造、商品名、鹼值45mgKOH/g)代替作為分散劑之Solsperse 39000。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例6]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,使用Solsperse 71000(日本Lubrizol股份有限公司製造、商品名、鹼值77mgKOH/g)代替作為分散劑之Solsperse 39000,使用苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物彈性體之Asaflex 810(旭化成股份有限公司製造、商品名)代替作為黏合劑聚合物之Tuftec H1051。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例7]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,使用Solsperse 11200(日本Lubrizol股份有限公司製造、商品名、鹼值39mgKOH/g)代替作為分散劑之Solsperse 39000。以 其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例8]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,使用Ajisper PB881(Ajinomoto Fine-Techno股份有限公司製造、商品名、鹼值17mgKOH/g)代替作為分散劑之Solsperse 39000,使用對排聚丁二烯彈性體之RB810(JSR股份有限公司製造、商品名)代替作為黏合劑聚合物之Tuftec H1051。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例9]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,使用Alflow H-50SJ(日油股份有限公司製造、商品名、鹼值12mgKOH/g)代替作為分散劑之Solsperse 39000,使用苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物彈性體之Tufprene 315(旭化成股份有限公司製造、商品名)代替作為黏合劑聚合物之Tuftec H1051。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例10]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,混合碳黑100質量份、作為分散劑之Solsperse 39000(日本Lubrizol股份有限公司製造、商品名、鹼值30mgKOH/g)20質量份、作為黏合劑聚合物之苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物彈性體之氫化物即Tuftec H1051(旭化成股份有限公司製造、商品名)50質量份、酸改性丙烯酸系樹脂之ARUFON UC-3510(東亞合成股份有限公司製造、商品名)30質量份、甲苯600質量份,而獲得紅外線剝蝕層塗敷液。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例11]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,混合碳黑100質量份、作為分散劑之Solsperse 11200(日本Lubrizol股份有限公司製造、商品名、鹼值39mgKOH/g)20質量份、作為黏合劑聚合物之酸改性丙烯酸系樹脂之ARUFON UC-3000(東亞合成股份有限公司製造、商品名)50質量份、作為苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物彈性體之氫化物之Tuftec H1051(旭化成股份有限公司製造、商品名)30質量份、甲苯600質量份,而獲得紅外線剝蝕層塗敷液。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例12]
將ε-己內醯胺50質量份、N,N-二(γ-胺基丙基)哌
Figure 109106155-A0305-02-0063-8
己二酸酯40質量份、1,3-二胺基甲基環己烷己二酸酯10質量份、水100質量份於高壓釜中於氮氣氣氛下進行加熱。於內壓10kg/cm2下進行加壓反應2小時後,於常壓下進行反應而獲得含三級氮之聚醯胺。
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,混合碳黑100質量份、作為分散劑之Solsperse 37500(日本Lubrizol股份有限公司製造、商品名、鹼值9mgKOH/g)20質量份、作 為黏合劑聚合物之丁醛樹脂之S-LEC BM-5(積水化學股份有限公司製造、商品名)50質量份、上述含三級氮之聚醯胺30質量份、甲苯600質量份,而獲得紅外線剝蝕層塗敷液。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例13]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,使用Ajisper PB881(Ajinomoto Fine-Techno股份有限公司製造、商品名、鹼值17mgKOH/g)代替作為分散劑之Solsperse 39000,使用作為聚醯胺之Macromelt 6900(Henkel Japan股份有限公司製造、商品名)代替作為黏合劑聚合物之Tuftec H1051。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例14]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,使用Disparlon DA-703-50(楠本化成股份有限公司製造、商品名、鹼值20mgKOH/g)代替作為分散劑之Solsperse 39000,使用作為聚乙烯醇之Gosenol GH-22(日本合成化學股份有限公司製造、商品名、皂化度87mol%)代替作為黏合劑聚合物之Tuftec H1051。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例15]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線 剝蝕層塗敷液時,混合作為紅外線吸收劑之碳黑100質量份、作為分散劑之Solsperse 39000(日本Lubrizol股份有限公司製造、商品名、鹼值30mgKOH/g)0.3質量份、作為黏合劑聚合物之苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物彈性體之氫化物即Tuftec H1051(旭化成股份有限公司製造、商品名)80質量份、甲苯600質量份,而獲得紅外線剝蝕層塗敷液。
以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例16]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,混合作為紅外線吸收劑之碳黑100質量份、作為分散劑之Solsperse 39000(日本Lubrizol股份有限公司製造、商品名、鹼值30mgKOH/g)38質量份、作為黏合劑聚合物之苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物彈性體之氫化物即Tuftec H1051(旭化成股份有限公司製造、商品名)80質量份、甲苯600質量份,而獲得紅外線剝蝕層塗敷液。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例17]
於柔版印刷版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,混合作為紅外線吸收劑之碳黑100質量份、作為分散劑之Solsperse 39000(日本Lubrizol股份有限公司製造、商品名、鹼值30mgKOH/g)60質量份、作為黏合劑聚合物之苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物彈性體之氫化物之Asaflex 810(旭化成股份有限公司製造、商品名)80質量份、甲苯600質量份,而獲得紅外線剝蝕層塗敷液。以其他條件與[實施例 1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例18]
於柔版印刷原版之製造中,於上述[製造例3]中所獲得之紅外線剝蝕層形成用之積層體上,以膜厚成為1μm之方式塗敷包含Gosenol GH-22(日本合成化學股份有限公司製造、商品名、皂化度87mol%)1質量份、水20質量份、乙醇10質量份之聚乙烯醇溶液,進行乾燥而形成氧抑制層。
進而,對上述[實施例1]中所記載之支持體與感光性樹脂組合物層1之積層體,將上述中所獲得之氧抑制層與紅外線剝蝕層與覆蓋膜之積層體以氧抑制層與感光性樹脂組合物層接觸之方式於120℃下進行層壓,而獲得柔版印刷原版。
[實施例19]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,混合作為紅外線吸收劑之鎳-二硫醇烯錯合物B4360(東京化成股份有限公司製造、商品名)100質量份、作為分散劑之Solsperse 37500(日本Lubrizol股份有限公司製造、商品名、鹼值9mgKOH/g)20質量份、作為黏合劑聚合物之苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物彈性體即Tufprene 315(旭化成股份有限公司製造、商品名)80質量份、甲苯600質量份,而獲得剝蝕層塗敷液。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例20]
於感光性樹脂組合物之製造中,將苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物[D-KX405:CLAYTONE製造]60質量份使用加壓捏合機於180℃下混合後,歷時15分鐘少量逐步添加液狀聚丁二烯[LBR-352:可樂麗製造]32質量份、1,9-壬二醇二丙烯酸酯8質量份、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯5質量份、2,2-二甲氧基苯基苯乙酮2質量份、2,6-二-第三丁基-對甲酚1質量份、胺基改性聚矽氧油[KF-8000:信越化學製造]1質量份之液狀混合物,添加結束後進而混練20分鐘,而獲得感光性樹脂組合物2。
以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[實施例21]
於柔版印刷原版之製造中,於上述[製造例3]中所獲得之紅外線剝蝕層形成用之積層體上,以膜厚成為5μm之方式塗敷包含Technomelt PA6801(Henkel Japan股份有限公司製造、商品名)10質量份、甲苯45質量份、2-丙醇45質量份之聚醯胺溶液,並進行乾燥而形成氧抑制層。
進而,對於上述[實施例1]中所使用之上述[製造例2]中所獲得的支持體與上述[實施例20]中所記載之感光性樹脂組合物層2之積層體,對上述中所獲得之氧抑制層、紅外線剝蝕層及覆蓋膜之積層體以氧抑制層與感光性樹脂組合物層接觸之方式於120℃下進行層壓,而獲得柔版印刷原版。
[比較例1]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,使用Disparlon DA-375(楠本化成股份有限公司製造、 商品名、鹼值0mgKOH/g)代替作為分散劑之Solsperse 39000。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[比較例2]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,使用Solsperse 18000(日本Lubrizol股份有限公司製造、商品名、鹼值2mgKOH/g)代替作為分散劑之Solsperse 39000。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[比較例3]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,使用Solsperse 13300(日本Lubrizol股份有限公司製造、商品名、鹼值123mgKOH/g)代替作為分散劑之Solsperse 39000。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[比較例4]
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,使用SLIPACKS O(日本化成股份有限公司製造、商品名)代替作為分散劑之Solsperse 39000。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[比較例5]
將ε-己內醯胺50質量份、N,N-二(γ-胺基丙基)哌
Figure 109106155-A0305-02-0068-11
己二酸酯40質量 份、1,3-二胺基甲基環己烷己二酸酯10質量份、水100質量份於高壓釜中於氮氣氣氛下進行加熱。於內壓10kg/cm2下進行加壓反應2小時後,於常壓下進行反應1小時,而獲得含三級氮之聚醯胺。
於柔版印刷原版之製造中,於製備上述[製造例3]中所記載之紅外線剝蝕層塗敷液時,混合碳黑100質量份、作為黏合劑聚合物之丁醛樹脂之S-LEC BM-5(積水化學股份有限公司製造、商品名)50質量份、上述含三級氮之聚醯胺30質量份、甲苯300質量份,而獲得剝蝕層塗敷液。以其他條件與[實施例1]同樣之方式獲得柔版印刷原版。
[物性之測定] <分散劑之鹼值測定方法>
分散劑之鹼值係依據JIS K 2501(2003)中所規定之電位差滴定法(鹼值、過氯酸法)進行測定。
具體而言,測定中和試樣1g中所含之鹼性成分所需之過氯酸,以與該過氯酸當量之氫氧化鉀(KOH)之毫克數表示。
再者,於分散劑為市售品之情形時,鹼值優先採用市售品之目錄資料。
再者,為了便於說明於下述表1中未記載單位,但分散劑之鹼值單位均為mgKOH/g。
<利用凝膠滲透管柱層析法(GPC)進行之重量平均分子量之測定方法>
利用下述裝置、條件測定分散劑之重量平均分子量(Mw)。
再者,關於隱沒於溶劑之波峰而無法判別之重量平均分子量未達 1000的低分子量之試樣,於下述表1中記載為未達1000。
裝置:Tosoh製HLC--8220 GPC
管柱:將以下之管柱4根串聯地連接並進行分離。
Tosoh製TSKgel GMH XL+Tosoh製TSKgel GMH XL+Tosoh製TSKgel
GMH XLL+Tosoh製TSKgel GMH XLL
管柱溫度:40℃
溶劑:四氫呋喃
偵測器:RI
校準曲線:標準聚苯乙烯
<分散劑、黏合劑聚合物之SP值之測定方法、△SP值>
分散劑、黏合劑聚合物之SP值係藉由濁點滴定法進行測定。
首先,對使分散劑或黏合劑聚合物溶解於SP值已知之良溶劑中而成之任意濃度之溶液,逐步滴加SP值低於上述良溶劑之不良溶劑,並測定溶質開始析出之不良溶劑之體積。繼而,對使新製備之SP值未知之樣品溶解於SP值已知之良溶劑中而成之溶液,逐步滴加SP值高於上述良溶劑之不良溶劑,並測定溶質開始析出之不良溶劑之體積。此處,藉由將所測定之各不良溶劑之體積應用於下述式(2),並求出SP值。
δ=(Vm1 1/2‧δm1+Vmh 1/2‧δmh)/(Vm1 1/2+Vmh 1/2)…(2)
此處,δ為分散劑或黏合劑聚合物SP值,Vm1為SP值較低之不良溶劑之體積,Vmh為SP值較高之不良溶劑之體積,δm1為SP值較低之不良溶劑之SP值,δmh為SP值較高之不良溶劑之SP值。
使用下述良溶劑與不良溶劑、及各SP值而進行測定。
良溶劑:甲苯(SP值:8.9[(cal/cm3)1/2])
對二甲苯(SP值:8.7[(cal/cm3)1/2])
乙酸丁酯(SP值:8.5[(cal/cm3)1/2])
乙酸乙酯(SP值:9.1[(cal/cm3)1/2])
丙酮(SP值:9.8[(cal/cm3)1/2])
不良溶劑:正己烷(SP值:7.2[(cal/cm3)1/2])
乙醇(SP值:12.9[(cal/cm3)1/2])
水(SP值:23.4[(cal/cm3)1/2])
再者,為了便於說明於下述表1中未記載單位,但SP值之單元均為[(cal/cm3)1/2]。
[特性評價] <剝離性之評價>
將上述[實施例]及[比較例]中所獲得之柔版印刷原版切割為10cm×15cm之大小,並設為樣品。
該等樣品之中,初始評價用樣品係自樣品製作起72小時以內藉由下述方法測定剝離力,經時評價用樣品係於設定為溫度40℃、相對濕度10%RH之恆溫恆濕槽PH-3K(ESPEC公司製造)中保存1個月後,藉由下述方法測定剝離力。
剝離力之測定係使用拉伸試驗器Autograph AGS-X100N(島津製作所製造),沿180°方向以十字頭速度50mm/min剝離覆蓋膜,並測定剝離力。
基於其結果,依據下述基準以1~5進行評價。
於下述評價中,數字越大則越佳,若為3以上,則可於實用上並無問題地使用。
5:剝離力之最大值小於20gf/10cm。
4:剝離力之最大值為20gf/10cm以上且小於30gf/10cm。
3:剝離力之最大值為30gf/10cm以上且小於50gf/10cm。
2:剝離力之最大值為50gf/10cm以上。
1:紅外線剝蝕層轉印於覆蓋膜側。
<針孔(PH)評價>
將上述[實施例]及[比較例]中所獲得之柔版印刷原版以10cm×10cm之尺寸切割為5片,並設為樣品。
於該等樣品中,於去除紅外線剝蝕層之覆蓋膜後,置於透光桌上,進行顯微鏡檢査。
於紅外線剝蝕層中,數出長徑20μm以上之尺寸之針孔之個數,取平均值,算出(個/m2)之值,並藉由下述1~5進行評價。於下述評價中,數字越大則越佳,若為3以上,則可於實用上並無問題地使用。
5:針孔之數量平均少於2(個/m2)。
4:針孔之數量平均為2(個/m2)以上且少於5個(個/m2)。
3:針孔之數量平均為5(個/m2)以上且少於10(個/m2)。
2:針孔之數量平均為10(個/m2)以上且少於20(個/m2)。
1:針孔之數量平均為20(個/m2)以上。
Figure 109106155-A0305-02-0073-1
本申請案係基於2019年2月27日向日本專利廳提出申請之日本專利申請(日本專利特願2019-034366)、2019年5月7日向日本專利廳提出申請之日本專利申請(日本專利特願2019-087410)者,其內容係以參照之形式併入至本文中。
[產業上之可利用性]
本發明之柔版印刷原版之紅外線剝蝕層之耐針孔性優異,容易剝離紅外線剝蝕層上之覆蓋膜,於膜、標記、紙盒等一般商業印刷領域中具有產業上之可利用性。

Claims (8)

  1. 一種柔版印刷原版,其係至少依序積層有支持體、感光性樹脂組合物層、紅外線剝蝕層及覆蓋膜者,且上述紅外線剝蝕層含有紅外線吸收劑、黏合劑聚合物及分散劑,上述分散劑之鹼值為5~100mgKOH/g,上述黏合劑聚合物與上述分散劑之溶解度參數(SP值)之差的絕對值為0.3~4(cal/cm3)1/2
  2. 如請求項1之柔版印刷原版,其中上述紅外線吸收劑為碳黑。
  3. 如請求項1或2之柔版印刷原版,其中上述分散劑之利用凝膠滲透管柱層析法(GPC)測定之以標準聚苯乙烯換算測定的重量平均分子量為1000以上且10000以下。
  4. 如請求項1或2之柔版印刷原版,其中於上述紅外線剝蝕層中,相對於上述紅外線吸收劑100質量份包含上述分散劑0.5~50質量份。
  5. 如請求項1或2之柔版印刷原版,其中上述黏合劑聚合物包含選自由如下
    Figure 109106155-A0305-02-0075-12
    Figure 109106155-A0305-02-0075-34
    所組成之群中之至少1種:
    Figure 109106155-A0305-02-0075-36
    包含單乙烯基取代芳香族烴單體與共軛二烯單體之共聚物之熱塑性彈性體;
    Figure 109106155-A0305-02-0076-23
    上述共聚物之氫化物;
    Figure 109106155-A0305-02-0076-20
    聚醯胺、聚丁醛、聚乙烯醇、聚(甲基)丙烯酸酯及該等之改性物或部分皂化體。
  6. 如請求項1或2之柔版印刷原版,其中於上述感光性樹脂組合物層與上述紅外線剝蝕層之間,進而具有包含接著層或氧抑制層之中間層。
  7. 一種柔版印刷版之製造方法,其具有如下步驟:對如請求項1至5中任一項之柔版印刷原版,自上述支持體側照射紫外線之步驟;對上述紅外線剝蝕層照射紅外線而描繪加工圖案之步驟;對上述感光性樹脂組合物層照射紫外線,進行圖案曝光之步驟;及去除上述紅外線剝蝕層與上述感光性樹脂組合物層之未曝光部之步驟。
  8. 一種柔版印刷版之製造方法,其具有如下步驟:對如請求項6之柔版印刷原版,自上述支持體側照射紫外線之步驟;對上述紅外線剝蝕層照射紅外線而描繪加工圖案之步驟;對上述感光性樹脂組合物層照射紫外線,進行圖案曝光之步驟;及去除上述紅外線剝蝕層、上述中間層及上述感光性樹脂組合物層之未曝光部之步驟。
TW109106155A 2019-02-27 2020-02-26 柔版印刷原版及柔版印刷版之製造方法 TWI780410B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019-034366 2019-02-27
JP2019034366 2019-02-27
JP2019087410 2019-05-07
JP2019-087410 2019-05-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202102379A TW202102379A (zh) 2021-01-16
TWI780410B true TWI780410B (zh) 2022-10-11

Family

ID=72238895

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109106155A TWI780410B (zh) 2019-02-27 2020-02-26 柔版印刷原版及柔版印刷版之製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20220082940A1 (zh)
EP (1) EP3932687A4 (zh)
JP (1) JP7229332B2 (zh)
CN (1) CN113260518B (zh)
TW (1) TWI780410B (zh)
WO (1) WO2020175422A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022065166A1 (ja) * 2020-09-28 2022-03-31 旭化成株式会社 フレキソ印刷版用感光性構成体、及びフレキソ印刷版の製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001080225A (ja) * 1999-07-13 2001-03-27 Basf Drucksyst Gmbh 感度が向上したir−融蝕性層付きフレキソ印刷素子
JP2001352491A (ja) * 2000-04-05 2001-12-21 Fuji Photo Film Co Ltd 撮像制御装置および撮像制御方法
JP2002014460A (ja) * 2000-06-13 2002-01-18 Agfa Gevaert Nv ダイレクト−ツウ−プレートフレキソグラフ印刷版前駆体
CN101616804A (zh) * 2007-02-22 2009-12-30 伊斯曼柯达公司 具有碱性显影增强剂的辐射敏感性组合物和元件
JP5918731B2 (ja) * 2013-08-30 2016-05-18 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法
TW201842074A (zh) * 2017-04-04 2018-12-01 日商旭化成股份有限公司 柔版印刷版用感光性樹脂組合物、柔版印刷原版、柔版印刷版及共聚物

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5076055A (zh) 1973-11-09 1975-06-21
JPS5336555A (en) 1977-07-25 1978-04-04 Toyobo Co Ltd Photosensitive resin composition
JPS5579437A (en) 1978-12-11 1980-06-14 Toray Ind Inc Photosensitive polyamide resin composition
JPS58113537A (ja) 1981-12-28 1983-07-06 Isuzu Motors Ltd エンジンのタイミング調整用ポインタ装置の組立方法
JPS58140737A (ja) 1982-02-15 1983-08-20 Toyobo Co Ltd 感光性樹脂組成物
JPS6137992A (ja) 1984-07-31 1986-02-22 Nippon Steel Corp 高耐食性Zn−Fe−Co合金複層めつき鋼板
JP2682211B2 (ja) 1990-08-09 1997-11-26 東洋紡績株式会社 感光性樹脂組成物
JP4080068B2 (ja) 1997-09-16 2008-04-23 旭化成ケミカルズ株式会社 フレキソ印刷版用感光性構成体
EP1146392B1 (en) * 2000-04-11 2013-08-07 Agfa Graphics N.V. Method for on-site preparation of a relief image
JP4200510B1 (ja) 2008-06-11 2008-12-24 東洋紡績株式会社 感光性フレキソ印刷原版
JP2012011740A (ja) * 2010-07-05 2012-01-19 Riso Kagaku Corp 非水系インクジェットコンポジット印刷法及びインクセット
US10583679B2 (en) * 2015-09-03 2020-03-10 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin printing plate precursor and method of manufacturing printing plate
JP6568594B2 (ja) * 2015-09-30 2019-08-28 旭化成株式会社 フレキソ印刷用感光性樹脂組成物及びフレキソ印刷原版
JP7028560B2 (ja) * 2017-01-26 2022-03-02 旭化成株式会社 フレキソ印刷版
JP2019034366A (ja) 2017-08-14 2019-03-07 株式会社アンウェイジャパン チューブ装着用治具
JP6967776B2 (ja) 2017-11-07 2021-11-17 国立研究開発法人産業技術総合研究所 マイクロ波加熱装置及び化学反応方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001080225A (ja) * 1999-07-13 2001-03-27 Basf Drucksyst Gmbh 感度が向上したir−融蝕性層付きフレキソ印刷素子
JP2001352491A (ja) * 2000-04-05 2001-12-21 Fuji Photo Film Co Ltd 撮像制御装置および撮像制御方法
JP2002014460A (ja) * 2000-06-13 2002-01-18 Agfa Gevaert Nv ダイレクト−ツウ−プレートフレキソグラフ印刷版前駆体
CN101616804A (zh) * 2007-02-22 2009-12-30 伊斯曼柯达公司 具有碱性显影增强剂的辐射敏感性组合物和元件
JP5918731B2 (ja) * 2013-08-30 2016-05-18 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法
TW201842074A (zh) * 2017-04-04 2018-12-01 日商旭化成股份有限公司 柔版印刷版用感光性樹脂組合物、柔版印刷原版、柔版印刷版及共聚物

Also Published As

Publication number Publication date
CN113260518A (zh) 2021-08-13
US20220082940A1 (en) 2022-03-17
WO2020175422A1 (ja) 2020-09-03
EP3932687A4 (en) 2022-07-13
TW202102379A (zh) 2021-01-16
JP7229332B2 (ja) 2023-02-27
JPWO2020175422A1 (ja) 2021-12-02
EP3932687A1 (en) 2022-01-05
CN113260518B (zh) 2023-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7028560B2 (ja) フレキソ印刷版
JP3836433B2 (ja) 改良された水系現像可能なフレキソ印刷用感光性樹脂
CN110945428B (zh) 印刷版用感光性树脂结构体及其制造方法
TW202037998A (zh) 柔版印刷原版及柔版印刷版之製造方法
JP2023029466A (ja) フレキソ印刷版用原版
TWI610133B (zh) 柔版印刷用感光性樹脂組合物及柔版印刷原版
TWI780410B (zh) 柔版印刷原版及柔版印刷版之製造方法
JP2012173368A (ja) 感光性樹脂印刷原版およびそれを用いた印刷版
JP4014381B2 (ja) フレキソ印刷用感光性樹脂組成物
JP2022066245A (ja) フレキソ印刷原版及びフレキソ印刷版
WO2022210577A1 (ja) フレキソ印刷原版及びフレキソ印刷版の製造方法
JP5058431B2 (ja) 硬化性樹脂組成物および該硬化性樹脂組成物を用いたフレキソ印刷版材
JP2019066602A (ja) フレキソ印刷版
JP2004246247A (ja) フレキソ印刷用感光性樹脂組成物
JP2022119359A (ja) フレキソ印刷原版及びフレキソ印刷原版の製造方法
JP7438458B1 (ja) フレキソ印刷版の製造方法、及び印刷方法
JPH0572740A (ja) 感光性樹脂印刷版用粘着防止層組成物
EP4282656A1 (en) Photosensitive resin structure for flexographic printing plate, and method for producing flexographic printing plate
WO2023223919A1 (ja) 感光性樹脂組成物、フレキソ印刷原版、及びフレキソ印刷版の製造方法
JPH10123710A (ja) 感光性樹脂マトリックスおよびその製造方法
JPH04130325A (ja) フレキソ印刷版用粘着防止層組成物
JP4415245B2 (ja) 感光性樹脂組成物およびそれを用いた感光性樹脂印刷原版
JP4487176B2 (ja) 感光性樹脂組成物およびそれを用いた感光性樹脂印刷用原版
JP6299073B2 (ja) フレキソ印刷原版用感光性樹脂組成物
JP2004170596A (ja) 感光性印刷用原版

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent