JP2001080225A - 感度が向上したｉｒ−融蝕性層付きフレキソ印刷素子 - Google Patents
感度が向上したｉｒ−融蝕性層付きフレキソ印刷素子Info
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 ＩＲ−融蝕性層が高感度で同時に可撓性であ
る、光重合性フレキソ版および製造方法を提供する。 【解決手段】 コンピュータ製版技術によりフレキソ印
刷版を製造するために使用される感光性印刷素子であっ
て、支持体、重合性層、及び化学線を実質的に通さない
ＩＲ−融蝕性層からなり、ＩＲ−融蝕性層が、少なくと
も１種の熱−可燃性の高分子バインダ、少なくとも１種
のＩＲ−吸収材料及び少なくとも１種の脂肪族ジエステ
ルを含む感光性印刷素子、及びこの素子を用いてフレキ
ソ印刷版を製造する方法。
る、光重合性フレキソ版および製造方法を提供する。 【解決手段】 コンピュータ製版技術によりフレキソ印
刷版を製造するために使用される感光性印刷素子であっ
て、支持体、重合性層、及び化学線を実質的に通さない
ＩＲ−融蝕性層からなり、ＩＲ−融蝕性層が、少なくと
も１種の熱−可燃性の高分子バインダ、少なくとも１種
のＩＲ−吸収材料及び少なくとも１種の脂肪族ジエステ
ルを含む感光性印刷素子、及びこの素子を用いてフレキ
ソ印刷版を製造する方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ製版
技術によりフレキソ印刷版を製造するために使用される
感光性印刷素子であって、支持体、光重合性層及び化学
線を実質的に通さないＩＲ−融蝕性層からなり、且つこ
のＩＲ−融蝕性層は少なくとも１種の熱−可燃性の高分
子バインダ、少なくとも１種のＩＲ吸収材料及び少なく
とも１種の脂肪族ジエステルを含む感光性印刷素子に関
する。さらに、本発明は、この素子を用いてフレキソ印
刷版を製造する方法に関する。
技術によりフレキソ印刷版を製造するために使用される
感光性印刷素子であって、支持体、光重合性層及び化学
線を実質的に通さないＩＲ−融蝕性層からなり、且つこ
のＩＲ−融蝕性層は少なくとも１種の熱−可燃性の高分
子バインダ、少なくとも１種のＩＲ吸収材料及び少なく
とも１種の脂肪族ジエステルを含む感光性印刷素子に関
する。さらに、本発明は、この素子を用いてフレキソ印
刷版を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フレキソ印刷の分野において、デジタル
画像形成技術としても知られているコンピュータ製版技
術（ＣｔＰ技術）は、極めて一般的なものとなってきて
いる。ＣｔＰ技術では、光重合性印刷版の重合するべき
でない領域を覆うために従来から使用されている写真マ
スクは、印刷版内で形成統合されるマスクで取って代わ
られている。このような統合マスクを得るためには幾つ
かの可能な方法はあるが、市場には２つの技術だけが存
在する。即ち、光重合性版上にインクジェットプリンタ
ーでマスクを印刷するか、又は光重合性版を、化学線に
対して実質的に不透明（即ち化学線を実質的に通さな
い）で被覆し、ＩＲレーザでこのようなマスクに画像形
成することである。このようなＩＲ−融蝕性層は、通常
カーボンブラックを含有する。このＩＲ−融蝕性層を有
する光重合性印刷版は、例えばＥＰ−Ａ６５４１５０又
はＥＰ−Ａ７６７４０７に開示されている。ＩＲレーザ
で照射することより、黒色層は、その部分で蒸発し、下
記の光重合性層が露出する。レーザ装置は、レイアウト
コンピュータシステムに直接繋がれている。この技術を
用いて、画像は一般に版上に直接形成され、次の工程で
化学線が照射される。
画像形成技術としても知られているコンピュータ製版技
術（ＣｔＰ技術）は、極めて一般的なものとなってきて
いる。ＣｔＰ技術では、光重合性印刷版の重合するべき
でない領域を覆うために従来から使用されている写真マ
スクは、印刷版内で形成統合されるマスクで取って代わ
られている。このような統合マスクを得るためには幾つ
かの可能な方法はあるが、市場には２つの技術だけが存
在する。即ち、光重合性版上にインクジェットプリンタ
ーでマスクを印刷するか、又は光重合性版を、化学線に
対して実質的に不透明（即ち化学線を実質的に通さな
い）で被覆し、ＩＲレーザでこのようなマスクに画像形
成することである。このようなＩＲ−融蝕性層は、通常
カーボンブラックを含有する。このＩＲ−融蝕性層を有
する光重合性印刷版は、例えばＥＰ−Ａ６５４１５０又
はＥＰ−Ａ７６７４０７に開示されている。ＩＲレーザ
で照射することより、黒色層は、その部分で蒸発し、下
記の光重合性層が露出する。レーザ装置は、レイアウト
コンピュータシステムに直接繋がれている。この技術を
用いて、画像は一般に版上に直接形成され、次の工程で
化学線が照射される。
【０００３】ＣｔＰ技術は、別にフォトマスクを作製す
ることを回避させるだけでなく、遙かに高い解像度を与
えるものである。ＣｔＰ技術の従来技術に対する優位性
の詳細な議論は、例えば"Deutsher Drucker, Nr. 21/3.
6.99,w12-w16頁"に記載されている。
ることを回避させるだけでなく、遙かに高い解像度を与
えるものである。ＣｔＰ技術の従来技術に対する優位性
の詳細な議論は、例えば"Deutsher Drucker, Nr. 21/3.
6.99,w12-w16頁"に記載されている。
【０００４】ＩＲ−融蝕性層を有する光重合性印刷素子
を用いてフレキソ印刷版を製造する方法における重要な
工程は、素子をＩＲレーザで照射する工程である。ＩＲ
−融蝕性層は、良好な結果を得るために幾つかの要件を
満たさなければならない。経済的理由から、ＩＲ−融蝕
性層を照射する時間を可能な限り短くすべきである。こ
のため、ＩＲ照射に対する感度は、できる限り高い必要
がある。さらに、画像形成のためには、現今の通常技術
では、回転ドラム付きレーザ装置が使用される。光重合
性フレキソ素子を円筒ドラムに取り付け、ドラムを２０
００ｒｐｍに回転させながらレーザを照射する。このた
め、フレキソ印刷素子のＩＲ−融蝕性層についても、フ
レキソ印刷素子を曲げる際にＩＲ−融蝕性層が皺になっ
たり、破れたりしないようにするために、弾性的でなけ
ればならない。
を用いてフレキソ印刷版を製造する方法における重要な
工程は、素子をＩＲレーザで照射する工程である。ＩＲ
−融蝕性層は、良好な結果を得るために幾つかの要件を
満たさなければならない。経済的理由から、ＩＲ−融蝕
性層を照射する時間を可能な限り短くすべきである。こ
のため、ＩＲ照射に対する感度は、できる限り高い必要
がある。さらに、画像形成のためには、現今の通常技術
では、回転ドラム付きレーザ装置が使用される。光重合
性フレキソ素子を円筒ドラムに取り付け、ドラムを２０
００ｒｐｍに回転させながらレーザを照射する。このた
め、フレキソ印刷素子のＩＲ−融蝕性層についても、フ
レキソ印刷素子を曲げる際にＩＲ−融蝕性層が皺になっ
たり、破れたりしないようにするために、弾性的でなけ
ればならない。
【０００５】ＥＰ−Ａ６５４１５０には、ＩＲ−融蝕性
層を有する光重合性フレキソ印刷版が開示されている。
このＩＲ−融蝕性層はＩＲ吸収材料を含む。さらに、そ
れは所望により高分子バインダ及び様々な他の成分
（例、顔料分散剤、界面活性剤、可塑剤、或いは塗布助
剤）を含んでいる。しかしながら、上述の公報には、Ｉ
Ｒ−融蝕性層の感度については示唆がない。特に、ＩＲ
−融蝕性層の感度の改善と同時に、上記問題なく円筒ド
ラムに取り付けるために可撓性を改善する方法について
の示唆はない。
層を有する光重合性フレキソ印刷版が開示されている。
このＩＲ−融蝕性層はＩＲ吸収材料を含む。さらに、そ
れは所望により高分子バインダ及び様々な他の成分
（例、顔料分散剤、界面活性剤、可塑剤、或いは塗布助
剤）を含んでいる。しかしながら、上述の公報には、Ｉ
Ｒ−融蝕性層の感度については示唆がない。特に、ＩＲ
−融蝕性層の感度の改善と同時に、上記問題なく円筒ド
ラムに取り付けるために可撓性を改善する方法について
の示唆はない。
【０００６】ＥＰ−Ａ７６７４０７には、可撓性フィル
ム形成バインダ及びカーボンブラックを含むＩＲ−融蝕
性層を有する光重合性印刷版が開示されている。バイン
ダとして、ポリアミド（例、MacromeltR)又はポリビニ
ルアルコール／ポリエチレン／グリコールグラフトポリ
マー（例、MowiolR)が記載されている。このようなバイ
ンダは、フレキソ印刷素子を円筒ドラムに問題なく取り
付けることは可能であるが、画像形成速度が充分とは言
えない。
ム形成バインダ及びカーボンブラックを含むＩＲ−融蝕
性層を有する光重合性印刷版が開示されている。バイン
ダとして、ポリアミド（例、MacromeltR)又はポリビニ
ルアルコール／ポリエチレン／グリコールグラフトポリ
マー（例、MowiolR)が記載されている。このようなバイ
ンダは、フレキソ印刷素子を円筒ドラムに問題なく取り
付けることは可能であるが、画像形成速度が充分とは言
えない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ＩＲ−融蝕性層が高感
度で同時に可撓性である改良された光重合性フレキソ印
刷版を得るとの問題は、未だに解決されていない。本発
明の目的は、このような本発明の目的は、光重合性フレ
キソ印刷版を提供することにある。
度で同時に可撓性である改良された光重合性フレキソ印
刷版を得るとの問題は、未だに解決されていない。本発
明の目的は、このような本発明の目的は、光重合性フレ
キソ印刷版を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】まず最初の態様において
は、本発明は、コンピュータ製版技術によりフレキソ印
刷版を製造するために使用される感光性印刷素子であっ
て、支持体、少なくとも１種のエラストマー、少なくと
も１種の重合性化合物、及び少なくとも１種の光開始剤
又は光開始剤組成物を含む光重合性層、化学線を実質的
に通さないＩＲ−融蝕性層、及び必要により、剥離可能
可撓性カバーシートを含み、且つＩＲ−融蝕性層が、少
なくとも１種の熱−可燃性の高分子バインダ、少なくと
も１種のＩＲ−吸収材料及び一般式 Ｒ1（ＣＯ）［Ｏ−ＣＨＲ3−ＣＨ2］ｎＯ（ＣＯ）Ｒ2 ｛但し、ｎ＝１〜３０、Ｒ1及びＲ2が炭素原子数１〜２
０個の直鎖又は分岐のアルキル鎖を表し、そしてＲ3が
Ｈ又はメチルを表す。｝で表される少なくとも１種の脂
肪族ジエステルを含むことを特徴とする感光性印刷素子
に関するものである。
は、本発明は、コンピュータ製版技術によりフレキソ印
刷版を製造するために使用される感光性印刷素子であっ
て、支持体、少なくとも１種のエラストマー、少なくと
も１種の重合性化合物、及び少なくとも１種の光開始剤
又は光開始剤組成物を含む光重合性層、化学線を実質的
に通さないＩＲ−融蝕性層、及び必要により、剥離可能
可撓性カバーシートを含み、且つＩＲ−融蝕性層が、少
なくとも１種の熱−可燃性の高分子バインダ、少なくと
も１種のＩＲ−吸収材料及び一般式 Ｒ1（ＣＯ）［Ｏ−ＣＨＲ3−ＣＨ2］ｎＯ（ＣＯ）Ｒ2 ｛但し、ｎ＝１〜３０、Ｒ1及びＲ2が炭素原子数１〜２
０個の直鎖又は分岐のアルキル鎖を表し、そしてＲ3が
Ｈ又はメチルを表す。｝で表される少なくとも１種の脂
肪族ジエステルを含むことを特徴とする感光性印刷素子
に関するものである。
【０００９】第２の態様において、本発明は、この素子
を用いてフレキソ印刷版を製造する方法に関する。
を用いてフレキソ印刷版を製造する方法に関する。
【００１０】
【発明の実施の形態】驚くべきことに、熱−可燃性の高
分子バインダと、このような特定の可塑剤とを組み合わ
せることにより、ＩＲ−融蝕性層がＩＲ照射に対して優
れた感度を示し、高い画像形成速度をもたらし、同時に
高い可撓性を示す重合性フレキソ印刷版が得られ、そし
てこれにより素子（版）を、ＩＲ−融蝕性層の皺や破れ
の発生無くレーザ装置の円筒ドラムに取り付けることが
できることが分かった。
分子バインダと、このような特定の可塑剤とを組み合わ
せることにより、ＩＲ−融蝕性層がＩＲ照射に対して優
れた感度を示し、高い画像形成速度をもたらし、同時に
高い可撓性を示す重合性フレキソ印刷版が得られ、そし
てこれにより素子（版）を、ＩＲ−融蝕性層の皺や破れ
の発生無くレーザ装置の円筒ドラムに取り付けることが
できることが分かった。
【００１１】本発明の感光性素子に好適な支持体は、可
撓性で、しかし寸法安定性に優れた材料であり、例えば
ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナ
フタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィ
ルム、或いはポリカーボネートを挙げることができ、こ
れらは寸法安定性に優れた支持体材料として使用可能な
充分に高い粘弾性を有している。
撓性で、しかし寸法安定性に優れた材料であり、例えば
ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナ
フタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィ
ルム、或いはポリカーボネートを挙げることができ、こ
れらは寸法安定性に優れた支持体材料として使用可能な
充分に高い粘弾性を有している。
【００１２】光重合性層は、少なくとも１種のエラスト
マーバインダ、少なくとも１種の重合性化合物及び少な
くとも１種の光開始剤又は光開始剤組成物を含んでい
る。このような光重合性層は、フレキソ印刷分野で良く
知られており、例えばＥＰ−Ａ７６７４０７に開示され
ている。光重合性層は、ここでは単一層であるが、二相
以上の異なる光重合性層を使用することができることが
理解されるであろう。
マーバインダ、少なくとも１種の重合性化合物及び少な
くとも１種の光開始剤又は光開始剤組成物を含んでい
る。このような光重合性層は、フレキソ印刷分野で良く
知られており、例えばＥＰ−Ａ７６７４０７に開示され
ている。光重合性層は、ここでは単一層であるが、二相
以上の異なる光重合性層を使用することができることが
理解されるであろう。
【００１３】エラストマーバインダは、単一のポリマー
でも、或いはポリマー混合物でも良い。好適なバインダ
の例としては、ビニル芳香族／ジエン共重合体又はブロ
ック共重合体（例えば従来のＳ−Ｂ−Ｓ−又はＳ−Ｉ−
Ｓブロック共重合体）、ジエン／アクリロニトリル共重
合体、エチレン／プロピレン／ジエン共重合体、エチレ
ン／アクリル酸共重合体又はジエン／アクリレート／ア
クリル酸共重合体を挙げることができる。適当な重合性
化合物としては、重合性印刷版の製造に使用でき且つエ
ラストマーバインダと相溶性である慣用の重合可能なエ
チレン性モノ又はポリ不飽和有機化合物である。このよ
うなモノマーの例としては、モノ又はポリ官能性アルコ
ールのモノ又はポリアクリレート若しくはメタクリレー
ト、アクリル−又はメタクリルアミド、ビニルエーテル
又はビニルエステルを挙げることができる。好ましいモ
ノマーの例としては、ブチル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メ
タ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレ
ート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチ
レングリコール（メタ）アクリレート又はポリエチレン
オキシド−ジ（メタクリレート）を挙げることができ
る。特定の光開始剤の例として、芳香族ケト化合物、例
えばベンゾイン又はベンゾイン誘導体が挙げられる。光
重合性層は、さらに添加剤、例えば可塑剤、熱重合防止
剤、染料又は酸化防止剤を含んでも良い。
でも、或いはポリマー混合物でも良い。好適なバインダ
の例としては、ビニル芳香族／ジエン共重合体又はブロ
ック共重合体（例えば従来のＳ−Ｂ−Ｓ−又はＳ−Ｉ−
Ｓブロック共重合体）、ジエン／アクリロニトリル共重
合体、エチレン／プロピレン／ジエン共重合体、エチレ
ン／アクリル酸共重合体又はジエン／アクリレート／ア
クリル酸共重合体を挙げることができる。適当な重合性
化合物としては、重合性印刷版の製造に使用でき且つエ
ラストマーバインダと相溶性である慣用の重合可能なエ
チレン性モノ又はポリ不飽和有機化合物である。このよ
うなモノマーの例としては、モノ又はポリ官能性アルコ
ールのモノ又はポリアクリレート若しくはメタクリレー
ト、アクリル−又はメタクリルアミド、ビニルエーテル
又はビニルエステルを挙げることができる。好ましいモ
ノマーの例としては、ブチル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メ
タ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレ
ート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチ
レングリコール（メタ）アクリレート又はポリエチレン
オキシド−ジ（メタクリレート）を挙げることができ
る。特定の光開始剤の例として、芳香族ケト化合物、例
えばベンゾイン又はベンゾイン誘導体が挙げられる。光
重合性層は、さらに添加剤、例えば可塑剤、熱重合防止
剤、染料又は酸化防止剤を含んでも良い。
【００１４】光重合性層の成分を適当に選択することに
より、当該技術者は、所望の溶解度特性に従い、水溶性
現像液、半水溶性現像液又は有機溶剤性現像液に可溶或
いは分散する光重合性層を製造することができる。
より、当該技術者は、所望の溶解度特性に従い、水溶性
現像液、半水溶性現像液又は有機溶剤性現像液に可溶或
いは分散する光重合性層を製造することができる。
【００１５】本発明の光重合性フレキソ印刷素子の主要
な構成成分は、光重合性層の頂上のその新規なＩＲ−融
蝕性層であり、少なくとも１種の熱−可燃性の高分子バ
インダ、少なくとも１種のＩＲ−吸収材料及び少なくと
も１種の脂肪族ジエステルを含んでいる。ＩＲ−融蝕性
層は実質的に化学線を通さない（即ち化学線に対して不
透明である）。一般に、化学線に対する光学濃度は、
２．５を超える値であり、好ましくは３．５を超える値
である。光学濃度は、画像を形成したＩＲ−融蝕性層を
介して、光重合性素子の全露光に使用された化学線の波
長又は波長範囲で得られる。ＩＲ−融蝕性層は、ここで
は単一層であるが、二層以上の異なるＩＲ−融蝕性層を
使用することができることが理解されるであろう。
な構成成分は、光重合性層の頂上のその新規なＩＲ−融
蝕性層であり、少なくとも１種の熱−可燃性の高分子バ
インダ、少なくとも１種のＩＲ−吸収材料及び少なくと
も１種の脂肪族ジエステルを含んでいる。ＩＲ−融蝕性
層は実質的に化学線を通さない（即ち化学線に対して不
透明である）。一般に、化学線に対する光学濃度は、
２．５を超える値であり、好ましくは３．５を超える値
である。光学濃度は、画像を形成したＩＲ−融蝕性層を
介して、光重合性素子の全露光に使用された化学線の波
長又は波長範囲で得られる。ＩＲ−融蝕性層は、ここで
は単一層であるが、二層以上の異なるＩＲ−融蝕性層を
使用することができることが理解されるであろう。
【００１６】高分子バインダは、ＩＲ−融蝕性層がＩＲ
レーザ照射に曝された際に、ＩＲ吸収材料より発生した
熱により効果的に除去することができる。用語「熱−可
燃性」とは、前段の溶融段階無しに、バインダが分解、
解重合、又は蒸発することを意味する。このため、画像
の各画素は、極めて急なエッジを有し、高解像度をもた
らす。
レーザ照射に曝された際に、ＩＲ吸収材料より発生した
熱により効果的に除去することができる。用語「熱−可
燃性」とは、前段の溶融段階無しに、バインダが分解、
解重合、又は蒸発することを意味する。このため、画像
の各画素は、極めて急なエッジを有し、高解像度をもた
らす。
【００１７】バインダは上述の要求を満たすバインダで
あれば、どのような種類でも本発明の範囲内において使
用することができるが、熱−可燃性バインダはニトロ基
又は硝酸エステル基を有することが好ましい。本発明の
範囲内における好適なバインダとしては、通常、特に推
進剤の成分として公知である高分子材料である。
あれば、どのような種類でも本発明の範囲内において使
用することができるが、熱−可燃性バインダはニトロ基
又は硝酸エステル基を有することが好ましい。本発明の
範囲内における好適なバインダとしては、通常、特に推
進剤の成分として公知である高分子材料である。
【００１８】このようなバインダの例としては、ポリ
（グリシジルアジド）、ポリ（硝酸グリシジル）又はポ
リ（硝酸ビニル）を挙げることができる。他の例として
は、ポリスチレンのニトロ誘導体、例えばニトロ−、ジ
ニトロ−又はトリニトロスチレン基を含むポリマーを挙
げることができる。ポリスチレンは、さらに主鎖がニト
ロ置換されていても、或いは主鎖のみニトロ置換されて
いても良い。他の例としては、ポリアクリレート又はポ
リメタクリレート、例えばモノマーとして２，４−ジニ
トロフェニルアクリレート又はｐ−ニトロフェニルアク
リレートを含むポリマーを挙げることができる。
（グリシジルアジド）、ポリ（硝酸グリシジル）又はポ
リ（硝酸ビニル）を挙げることができる。他の例として
は、ポリスチレンのニトロ誘導体、例えばニトロ−、ジ
ニトロ−又はトリニトロスチレン基を含むポリマーを挙
げることができる。ポリスチレンは、さらに主鎖がニト
ロ置換されていても、或いは主鎖のみニトロ置換されて
いても良い。他の例としては、ポリアクリレート又はポ
リメタクリレート、例えばモノマーとして２，４−ジニ
トロフェニルアクリレート又はｐ−ニトロフェニルアク
リレートを含むポリマーを挙げることができる。
【００１９】熱−可燃性バインダとして、セルロース又
はセルロース誘導体、例えばセルロースエーテル、の硝
酸エステルが重要である。このようなバインダは、本発
明の範囲内であり好ましい。ニトロセルロースとしても
知られているセルロース硝酸エステルは、市販されてお
り（例、Hercules又はWolff-Wals-rode）、モノマー当
たり３個の硝酸エステルの最大置換度までの異なったエ
ステル化度のものを入手できる。エステル化の程度は、
セルロース硝酸エステル燃焼性に影響を与えるだけでな
く、その溶解性にも影響を与える。用いようとする現像
材の性質に応じて、当該技術者は、エステル及び炭化水
素に容易い溶解するタイプ又はアルコールに容易に溶解
する対応を選択することができる。
はセルロース誘導体、例えばセルロースエーテル、の硝
酸エステルが重要である。このようなバインダは、本発
明の範囲内であり好ましい。ニトロセルロースとしても
知られているセルロース硝酸エステルは、市販されてお
り（例、Hercules又はWolff-Wals-rode）、モノマー当
たり３個の硝酸エステルの最大置換度までの異なったエ
ステル化度のものを入手できる。エステル化の程度は、
セルロース硝酸エステル燃焼性に影響を与えるだけでな
く、その溶解性にも影響を与える。用いようとする現像
材の性質に応じて、当該技術者は、エステル及び炭化水
素に容易い溶解するタイプ又はアルコールに容易に溶解
する対応を選択することができる。
【００２０】セルロースエーテル；例えば、メチルセル
ロース、エチルセルロース、そして特に２−ヒドロキシ
エチルセルロース、２−ヒドロキシプロピルセルロース
又はカルボキシメチルセルロースから誘導される硝酸エ
ステルを使用することも可能である。ニトロ化カルボキ
シメチルセルロースも、バインダの水溶解性を向上させ
るナトリウム塩として使用できるかも知れない。２種以
上の熱−可燃性バインダの混合物を使用することも可能
である。一般に、ＩＲ−融蝕性層中の熱−燃焼バインダ
の量は、ＩＲ−融蝕性層中の全成分の全量に対して２０
〜８０質量％、好ましくは３０〜７０質量％である。
ロース、エチルセルロース、そして特に２−ヒドロキシ
エチルセルロース、２−ヒドロキシプロピルセルロース
又はカルボキシメチルセルロースから誘導される硝酸エ
ステルを使用することも可能である。ニトロ化カルボキ
シメチルセルロースも、バインダの水溶解性を向上させ
るナトリウム塩として使用できるかも知れない。２種以
上の熱−可燃性バインダの混合物を使用することも可能
である。一般に、ＩＲ−融蝕性層中の熱−燃焼バインダ
の量は、ＩＲ−融蝕性層中の全成分の全量に対して２０
〜８０質量％、好ましくは３０〜７０質量％である。
【００２１】別の成分として、本発明のＩＲ−融蝕性層
は、 一般式 Ｒ1（ＣＯ）［Ｏ−ＣＨＲ3−ＣＨ2］nＯ（Ｃ
Ｏ）Ｒ2 で表される少なくとも１種の脂肪族ジエステルを含んで
いる。
は、 一般式 Ｒ1（ＣＯ）［Ｏ−ＣＨＲ3−ＣＨ2］nＯ（Ｃ
Ｏ）Ｒ2 で表される少なくとも１種の脂肪族ジエステルを含んで
いる。
【００２２】このエステルは、可塑剤として機能する。
このような可塑剤無しに、皺又は破れの発生無く曲げる
ことができる弾性的性質を有するＩＲ−融蝕性層を得る
ことは不可能である。このエステルは、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、これらのオリゴマー及び
ポリマーから誘導される（Ｒ3がＨ又はメチルであり得
る）。重合度ｎは、１〜３０、好ましくは１〜１０、特
に２〜６をとり得る。Ｒ1及びＲ2は炭素原子数１〜２０
個（好ましくは５〜１１個）の直鎖又は分岐のアルキル
鎖であり得る。２個の基は、同一でも（対称性ジエステ
ルを与える）又は異なっても（非対称エステルを与え
る）良い。特に、Ｒ1及びＲ2の例としては、メチル、エ
チル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソ
ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘプチル、ｎ
−ヘキシル、２−エチルヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−
オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル又はｎ−ウンデシル
基を挙げることができる。好ましいジエステルの例とし
ては、ｎ−ペンチル又はｎ−ヘプチル基を含むもので、
トリエチレングリコール−ヘキサン酸ジエステル、トリ
エチレングリコール−２−エチルヘキサン酸ジエステ
ル、及びトリエチレングリコール−オクタン酸ジエステ
ルが特に好ましい。また、２種以上のジエステルの混合
物も使用することができる。一般に、ＩＲ−融蝕性層中
のジエステルの量は、ＩＲ−融蝕性層の全成分の合計量
に対して１〜３０質量％、特に５〜２０質量％が好まし
い。
このような可塑剤無しに、皺又は破れの発生無く曲げる
ことができる弾性的性質を有するＩＲ−融蝕性層を得る
ことは不可能である。このエステルは、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、これらのオリゴマー及び
ポリマーから誘導される（Ｒ3がＨ又はメチルであり得
る）。重合度ｎは、１〜３０、好ましくは１〜１０、特
に２〜６をとり得る。Ｒ1及びＲ2は炭素原子数１〜２０
個（好ましくは５〜１１個）の直鎖又は分岐のアルキル
鎖であり得る。２個の基は、同一でも（対称性ジエステ
ルを与える）又は異なっても（非対称エステルを与え
る）良い。特に、Ｒ1及びＲ2の例としては、メチル、エ
チル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソ
ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘプチル、ｎ
−ヘキシル、２−エチルヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−
オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル又はｎ−ウンデシル
基を挙げることができる。好ましいジエステルの例とし
ては、ｎ−ペンチル又はｎ−ヘプチル基を含むもので、
トリエチレングリコール−ヘキサン酸ジエステル、トリ
エチレングリコール−２−エチルヘキサン酸ジエステ
ル、及びトリエチレングリコール−オクタン酸ジエステ
ルが特に好ましい。また、２種以上のジエステルの混合
物も使用することができる。一般に、ＩＲ−融蝕性層中
のジエステルの量は、ＩＲ−融蝕性層の全成分の合計量
に対して１〜３０質量％、特に５〜２０質量％が好まし
い。
【００２３】さらに、ＩＲ−融蝕性層は、少なくとも１
種のＩＲ吸収材料を含み、これは７５０〜２００００ｎ
ｍの範囲で強い吸収を有するはずの層内に均一に分散さ
れている。好適なＩＲ−吸収材料としては、ＩＲ吸収染
料（例、フタロシアニン及び置換フタロシアニン誘導
体、シアニン染料、メロシアニン染料及びポリメチン染
料）或いは濃色の無機顔料（例、カーボンブラック、グ
ラファイト、酸化鉄又は酸化クロム）を挙げることがで
きる。カーボンブラックの使用が好ましい。カーボンブ
ラックは、ＩＲ−融蝕性層が化学線に対して不透明にな
り、これにより他のＵＶ−吸収染料の添加を絶対的に不
要にすることを保証する。最大カラー強度のためには小
粒径を使用することが望ましい。特に、３０ｎｍ未満の
平均粒径の微細カーボンブラックの銘柄を使用すること
が望ましい。好適な銘柄の例としては、PrintexR U（プ
リンテックス（商標登録）U）、PrintexR L6、Spezials
chwarz 4（スペチアールシュバルツ（商標登録）4）又
はSpezialschwarz 250（Degussa社製）を挙げることが
できる。一般に、ＩＲ−融蝕性層中のＩＲ吸収材料の量
は、ＩＲ−融蝕性層の全成分の合計量に対して１〜６０
質量％であり、さらに１０〜５０質量％が好ましく、特
に２５〜５０質量％が好ましい。
種のＩＲ吸収材料を含み、これは７５０〜２００００ｎ
ｍの範囲で強い吸収を有するはずの層内に均一に分散さ
れている。好適なＩＲ−吸収材料としては、ＩＲ吸収染
料（例、フタロシアニン及び置換フタロシアニン誘導
体、シアニン染料、メロシアニン染料及びポリメチン染
料）或いは濃色の無機顔料（例、カーボンブラック、グ
ラファイト、酸化鉄又は酸化クロム）を挙げることがで
きる。カーボンブラックの使用が好ましい。カーボンブ
ラックは、ＩＲ−融蝕性層が化学線に対して不透明にな
り、これにより他のＵＶ−吸収染料の添加を絶対的に不
要にすることを保証する。最大カラー強度のためには小
粒径を使用することが望ましい。特に、３０ｎｍ未満の
平均粒径の微細カーボンブラックの銘柄を使用すること
が望ましい。好適な銘柄の例としては、PrintexR U（プ
リンテックス（商標登録）U）、PrintexR L6、Spezials
chwarz 4（スペチアールシュバルツ（商標登録）4）又
はSpezialschwarz 250（Degussa社製）を挙げることが
できる。一般に、ＩＲ−融蝕性層中のＩＲ吸収材料の量
は、ＩＲ−融蝕性層の全成分の合計量に対して１〜６０
質量％であり、さらに１０〜５０質量％が好ましく、特
に２５〜５０質量％が好ましい。
【００２４】ＩＲ−融蝕性層は、必要により追加の成分
及び添加剤を含むこともできる。このような成分の例と
しては、熱−可燃性である必要のない高分子バインダ、
顔料分散剤、フィラー、界面活性剤又は塗布助剤を挙げ
ることができる。このような添加剤は、層に対する所望
の性質に従い当業者が選択することができるが、それら
がＩＲ−融蝕性層の画像形成性に悪影響を与えないこと
が条件となる。カーボンブラックの分散剤として、特に
ポリオキシアルキレン誘導体、例えばSolperse R-grades
（ゾルパース（商標登録）−グレード）(Zeneca)、或い
はブロック共重合体、例えばDisperbykR-grades（ディ
スペアビク（商標登録）−グレード）(Byk)が適当であ
る。添加剤として、ＵＶ−吸収材料、又はＵＶに吸収の
ある染料を使用することもできる。ＵＶ−吸収材料を使
用するのは、屡々、ＩＲ吸収剤としてカーボンブラック
と一緒でも有利であり、他のＩＲ吸収剤と共には避けた
方がよい。その数は限定されないが、このような添加剤
の量はＩＲ−融蝕性層の全成分の合計量に対して２０質
量％以下、特に１０質量％以下が好ましい。
及び添加剤を含むこともできる。このような成分の例と
しては、熱−可燃性である必要のない高分子バインダ、
顔料分散剤、フィラー、界面活性剤又は塗布助剤を挙げ
ることができる。このような添加剤は、層に対する所望
の性質に従い当業者が選択することができるが、それら
がＩＲ−融蝕性層の画像形成性に悪影響を与えないこと
が条件となる。カーボンブラックの分散剤として、特に
ポリオキシアルキレン誘導体、例えばSolperse R-grades
（ゾルパース（商標登録）−グレード）(Zeneca)、或い
はブロック共重合体、例えばDisperbykR-grades（ディ
スペアビク（商標登録）−グレード）(Byk)が適当であ
る。添加剤として、ＵＶ−吸収材料、又はＵＶに吸収の
ある染料を使用することもできる。ＵＶ−吸収材料を使
用するのは、屡々、ＩＲ吸収剤としてカーボンブラック
と一緒でも有利であり、他のＩＲ吸収剤と共には避けた
方がよい。その数は限定されないが、このような添加剤
の量はＩＲ−融蝕性層の全成分の合計量に対して２０質
量％以下、特に１０質量％以下が好ましい。
【００２５】ＩＲ−融蝕性層の成分は、ＩＲ−融蝕性層
が光重合層の現像溶液に溶解又は少なくとも膨潤する様
に選択されることが好ましい。但し、本発明のはこの態
様に限定されるものではない。
が光重合層の現像溶液に溶解又は少なくとも膨潤する様
に選択されることが好ましい。但し、本発明のはこの態
様に限定されるものではない。
【００２６】ＩＲ−融蝕性層上において剥離可能可撓性
カバーシートで感光性印刷素子を覆うことが屡々有利で
ある。しかしながら、このような保護カバーシートは絶
対に必要というものではない。
カバーシートで感光性印刷素子を覆うことが屡々有利で
ある。しかしながら、このような保護カバーシートは絶
対に必要というものではない。
【００２７】さらに、ＩＲ−融蝕性層を損傷せずにカバ
ーシートの除去を容易にする剥離改良ポリマーとして、
前記追加のバインダの少なくとも１種を使用すること
も、必須ではないが、有利である。このために好適なバ
インダの例としては、特定のポリメチルメタクリレート
（例えばPlexigumR）、酢酸ビニル−クロトン酸共重合
体、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルピロリ
ドン（例、LuviskolR)、ポリスチレン（例、Suprano
lR）、塩素化ＰＶＣ、メチルフェニルシリコーン又はポ
リエチレンワックスを挙げることができる。
ーシートの除去を容易にする剥離改良ポリマーとして、
前記追加のバインダの少なくとも１種を使用すること
も、必須ではないが、有利である。このために好適なバ
インダの例としては、特定のポリメチルメタクリレート
（例えばPlexigumR）、酢酸ビニル−クロトン酸共重合
体、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルピロリ
ドン（例、LuviskolR)、ポリスチレン（例、Suprano
lR）、塩素化ＰＶＣ、メチルフェニルシリコーン又はポ
リエチレンワックスを挙げることができる。
【００２８】光重合性フレキソ印刷素子は、また、必要
に応じて前記の層の間に１層以上の層を有していても良
い。このような層の例としては、当該技術分野では公知
であり、接着層、特に支持体と光重合性層との間のも
の、モノマー又は他の小分子の、ある層から他の層への
拡散を防止するための光重合性層とＩＲ−融蝕性層の間
の中間層、或いは非粘着層を挙げることができる。
に応じて前記の層の間に１層以上の層を有していても良
い。このような層の例としては、当該技術分野では公知
であり、接着層、特に支持体と光重合性層との間のも
の、モノマー又は他の小分子の、ある層から他の層への
拡散を防止するための光重合性層とＩＲ−融蝕性層の間
の中間層、或いは非粘着層を挙げることができる。
【００２９】本発明の感光性フレキソ印刷素子は、一般
に、まず支持体上に、光重合性層及び所望により追加の
層を形成し、次いでＩＲ−融蝕性層を塗布又はラミネー
ション技術により施すことにより製造される。市販の感
光性フレキソ印刷素子を使用することもできる。その場
合、保護フィルムを剥がし、前記と同様にＩＲ−融蝕性
層を施す。
に、まず支持体上に、光重合性層及び所望により追加の
層を形成し、次いでＩＲ−融蝕性層を塗布又はラミネー
ション技術により施すことにより製造される。市販の感
光性フレキソ印刷素子を使用することもできる。その場
合、保護フィルムを剥がし、前記と同様にＩＲ−融蝕性
層を施す。
【００３０】ＩＲ−融蝕性層付き感光性フレキソ印刷素
子を製造する第１段階において、ＩＲ−融蝕性層の全成
分を、適当な溶剤に溶解させるか、或いはカーボンブラ
ック等の顔料を用いるときは、適当な溶媒中の顔料及び
その他の成分との分散液を作製する。後者の場合、分散
剤の使用が屡々推奨される。このような溶液又は分散液
は、光重合層の上に直接塗布され、その後溶剤を蒸発さ
せる。或いは、このような溶液又は分散液を支持体
（例、ＰＥＴシート）上に塗布し、その後溶剤を蒸発さ
せる。その後、塗布支持体を、圧力及び／又は加熱下
に、印刷素子の光重合性層と共に、光重合性層がＩＲ−
融蝕性層に隣接するように、ラミネートする。ＩＲ−融
蝕性層用支持体は、目下、光重合性印刷素子全面用の保
護フィルムとして機能している。
子を製造する第１段階において、ＩＲ−融蝕性層の全成
分を、適当な溶剤に溶解させるか、或いはカーボンブラ
ック等の顔料を用いるときは、適当な溶媒中の顔料及び
その他の成分との分散液を作製する。後者の場合、分散
剤の使用が屡々推奨される。このような溶液又は分散液
は、光重合層の上に直接塗布され、その後溶剤を蒸発さ
せる。或いは、このような溶液又は分散液を支持体
（例、ＰＥＴシート）上に塗布し、その後溶剤を蒸発さ
せる。その後、塗布支持体を、圧力及び／又は加熱下
に、印刷素子の光重合性層と共に、光重合性層がＩＲ−
融蝕性層に隣接するように、ラミネートする。ＩＲ−融
蝕性層用支持体は、目下、光重合性印刷素子全面用の保
護フィルムとして機能している。
【００３１】本発明の光重合性印刷素子を用いるフレキ
ソ印刷素子の製造方法は、存在する場合には、保護フィ
ルムを感光性印刷素子から除去する工程も包含する。そ
の後、ＩＲ−融蝕性層をＩＲレーザにより画像用に照射
して、光重合性層上にマスクを形成する。適当なＩＲレ
ーザの例としては、ＮＤ／ＹＡＧレーザ（１０６４ｎ
ｍ）又はダイオードレーザ（例、８３０ｎｍ）を挙げる
ことができる。コンピュータ製版技術に適当なレーザシ
ステムとは、市販されており、例えばダイオードレーザ
システムOmniSetterR(Fa. Misomex；レーザ波長：８３
０ｎｍ；作業幅：１８００ｍｍ）或いはＮＤ／ＹＡＧレ
ーザシステムdigilasR(Fa. Schepers)を挙げることがで
き、これらはそれぞれ回転円筒ドラム、及びその上の取
り付けられたＩＲ−融蝕性層を有する感光性フレキソ印
刷素子からなる。画像情報は、レイアウトコンピュータ
からレーザ装置に直接移される。
ソ印刷素子の製造方法は、存在する場合には、保護フィ
ルムを感光性印刷素子から除去する工程も包含する。そ
の後、ＩＲ−融蝕性層をＩＲレーザにより画像用に照射
して、光重合性層上にマスクを形成する。適当なＩＲレ
ーザの例としては、ＮＤ／ＹＡＧレーザ（１０６４ｎ
ｍ）又はダイオードレーザ（例、８３０ｎｍ）を挙げる
ことができる。コンピュータ製版技術に適当なレーザシ
ステムとは、市販されており、例えばダイオードレーザ
システムOmniSetterR(Fa. Misomex；レーザ波長：８３
０ｎｍ；作業幅：１８００ｍｍ）或いはＮＤ／ＹＡＧレ
ーザシステムdigilasR(Fa. Schepers)を挙げることがで
き、これらはそれぞれ回転円筒ドラム、及びその上の取
り付けられたＩＲ−融蝕性層を有する感光性フレキソ印
刷素子からなる。画像情報は、レイアウトコンピュータ
からレーザ装置に直接移される。
【００３２】マスクをＩＲ−融蝕性層に書き込んだ後、
感光性フレキソ印刷素子にマスクを介して化学線を全面
照射する。これはレーザシリンダ上において直接行うこ
とが有利である。或いは、版は、レーザ装置から除去
し、慣用の平板な照射ユニットで照射する。照射工程の
間、感光性層は前の融除工程で露出した領域において重
合し、一方照射光を通さないＩＲ−融蝕性層によりなお
被覆されているＩＲ−融蝕性層領域では重合は起こらな
い。ＥＰ−Ａ７６７４０７に記載されているように、化
学線の照射は、慣用の真空フレームで酸素を除去して行
うことも可能であるけれども、大気酸素の存在下に行う
ことが有利である。
感光性フレキソ印刷素子にマスクを介して化学線を全面
照射する。これはレーザシリンダ上において直接行うこ
とが有利である。或いは、版は、レーザ装置から除去
し、慣用の平板な照射ユニットで照射する。照射工程の
間、感光性層は前の融除工程で露出した領域において重
合し、一方照射光を通さないＩＲ−融蝕性層によりなお
被覆されているＩＲ−融蝕性層領域では重合は起こらな
い。ＥＰ−Ａ７６７４０７に記載されているように、化
学線の照射は、慣用の真空フレームで酸素を除去して行
うことも可能であるけれども、大気酸素の存在下に行う
ことが有利である。
【００３３】その後、照射された素子は現像され、フレ
キソ印刷版を得る。現像工程は、慣用の現像ユニットで
実施することができる。版の性質に応じて、水又は有機
溶剤、これらの溶剤混合物を使用することができる。現
像の間に、感光性層の非重合領域及びＩＲ−融蝕性層の
残留部は除去される。ＩＲ−融蝕性層を１種の溶剤又は
溶剤混合物でまず除去し、別の現像剤で感光性層を現像
することも可能である。現像工程後、得られた印刷版は
乾燥させる。ＰＥＴベースフィルム付き素子の典型的な
条件は、４５〜６５℃で１〜４時間である。ＰＥＴベー
スフィルム付き素子は６５℃を超える温度でさえ、寸法
安定性の損失無く乾燥させることができ、乾燥時間を短
縮できる。幾つかの後処理操作をさらに行うことができ
る。例えば、印刷版を非粘着性にするために、例えばＵ
Ｖ−Ｃ光の照射又はＢｒ2による処理を行うことができ
る。
キソ印刷版を得る。現像工程は、慣用の現像ユニットで
実施することができる。版の性質に応じて、水又は有機
溶剤、これらの溶剤混合物を使用することができる。現
像の間に、感光性層の非重合領域及びＩＲ−融蝕性層の
残留部は除去される。ＩＲ−融蝕性層を１種の溶剤又は
溶剤混合物でまず除去し、別の現像剤で感光性層を現像
することも可能である。現像工程後、得られた印刷版は
乾燥させる。ＰＥＴベースフィルム付き素子の典型的な
条件は、４５〜６５℃で１〜４時間である。ＰＥＴベー
スフィルム付き素子は６５℃を超える温度でさえ、寸法
安定性の損失無く乾燥させることができ、乾燥時間を短
縮できる。幾つかの後処理操作をさらに行うことができ
る。例えば、印刷版を非粘着性にするために、例えばＵ
Ｖ−Ｃ光の照射又はＢｒ2による処理を行うことができ
る。
【００３４】本発明の感光性フレキソ印刷素子は優れた
可撓性を示す。これはＩＲ−融蝕性層において皺、破れ
の発生無く、曲げることができる。このことは問題を起
こさずにレーザドラムに素子を取り付けることができる
ことを意味する。さらに、この素子は、従来の印刷版に
比較してＩＲレーザ照射に遙かに高感度である。
可撓性を示す。これはＩＲ−融蝕性層において皺、破れ
の発生無く、曲げることができる。このことは問題を起
こさずにレーザドラムに素子を取り付けることができる
ことを意味する。さらに、この素子は、従来の印刷版に
比較してＩＲレーザ照射に遙かに高感度である。
【００３５】下記の実施例により本発明を説明するが、
これはその範囲を限定するものではない。
これはその範囲を限定するものではない。
【００３６】
［実施例１］ ＩＲ−融蝕性層の作製 カーボンブラック、ニトロセルロース及び可塑剤の分散
物を、下記の成分を用いて作製した：
物を、下記の成分を用いて作製した：
【００３７】
【表１】
【００３８】分散液を、５０μｍコーティングナイフで
ＰＥＴフィルム（厚さ１２５μｍ）に塗布し、溶剤を蒸
発させ、平滑で無粘着の塗布膜（３ｇ／ｍ2の特定塗布
量及び３．７の化学線領域の光学濃度）を得た。
ＰＥＴフィルム（厚さ１２５μｍ）に塗布し、溶剤を蒸
発させ、平滑で無粘着の塗布膜（３ｇ／ｍ2の特定塗布
量及び３．７の化学線領域の光学濃度）を得た。
【００３９】［実施例２］ ＩＲ−融蝕性層付き感光性フレキソ印刷版の作製 ＰＥＴ支持体、光重合性層及びポリアミド層から構成さ
れる感光性フレキソ印刷版（NyloflexR FAR 284 (BAS
F))のＰＥＴ保護フィルムを剥離した。ポリアミド層
は、光重合性層から慣用の接着テープを用いて除去し
た。
れる感光性フレキソ印刷版（NyloflexR FAR 284 (BAS
F))のＰＥＴ保護フィルムを剥離した。ポリアミド層
は、光重合性層から慣用の接着テープを用いて除去し
た。
【００４０】実施例１で作製されたＩＲ−融蝕性層及び
上記フレキソ印刷版を、Codor LPP650ラミネータを用い
て約４０℃の温度でラミネートし、ＰＥＴ支持体、光重
合性層及びＩＲ−融蝕性層からなる版を得た。実施例１
の分散液が塗布されたＰＥＴフィルムは、今新しい保護
フィルムの機能している。
上記フレキソ印刷版を、Codor LPP650ラミネータを用い
て約４０℃の温度でラミネートし、ＰＥＴ支持体、光重
合性層及びＩＲ−融蝕性層からなる版を得た。実施例１
の分散液が塗布されたＰＥＴフィルムは、今新しい保護
フィルムの機能している。
【００４１】［実施例３〜６］ 光重合性版のＩＲ−融蝕性層 実施例２の光重合性版からＰＥＴ保護フィルムを剥離し
た。黒色のＩＲ−融蝕性層が光重合性版上に完全に残っ
た。この版は９０°の角度で繰り返し曲げることがで
き、その際ＩＲ−融蝕性層は皺も破れも発生しなかっ
た。
た。黒色のＩＲ−融蝕性層が光重合性版上に完全に残っ
た。この版は９０°の角度で繰り返し曲げることがで
き、その際ＩＲ−融蝕性層は皺も破れも発生しなかっ
た。
【００４２】この版に、１０６３ｎｍで放射するＮｄＹ
ＬＦレーザで画像形成を行った。画像平面パワー(image
plane power)を、２００ｍＷと４５０ｍＷの最大値の
間に各５０ｍＷの間隔で設定した。２２μｍのスポット
径を、１１μｍのピッチ及び４ｍ／秒のスキャン速度で
用いた。ディジタル画像を版上に形成した。表１に、照
射されたサンプルの結果を示した。
ＬＦレーザで画像形成を行った。画像平面パワー(image
plane power)を、２００ｍＷと４５０ｍＷの最大値の
間に各５０ｍＷの間隔で設定した。２２μｍのスポット
径を、１１μｍのピッチ及び４ｍ／秒のスキャン速度で
用いた。ディジタル画像を版上に形成した。表１に、照
射されたサンプルの結果を示した。
【００４３】
【表２】 表１：版照射後の光学濃度の減少
【００４４】［実施例７］ フレキソ印刷版の作製 実施例６で得られたディジタル画像マスクで覆われた光
重合性フレキソ印刷版全面に、化学線を１５分間照射
し、その後市販の現像溶液nylosolv IIRを用いてドラム
ブラシ洗浄機内で慣用法で現像した。現像工程中、ＩＲ
−融蝕性層の残部及び光重合性層の非照射領域は除去さ
れ、照射領域が残った。現像後、フレキソ印刷版を、６
０℃で２時間乾燥し、ＵＶ−Ｃ光で照射し、非粘着と
し、最後に化学線で１０分間後照射した。
重合性フレキソ印刷版全面に、化学線を１５分間照射
し、その後市販の現像溶液nylosolv IIRを用いてドラム
ブラシ洗浄機内で慣用法で現像した。現像工程中、ＩＲ
−融蝕性層の残部及び光重合性層の非照射領域は除去さ
れ、照射領域が残った。現像後、フレキソ印刷版を、６
０℃で２時間乾燥し、ＵＶ−Ｃ光で照射し、非粘着と
し、最後に化学線で１０分間後照射した。
【００４５】印刷版上に、全ての試験素子が正確に形成
された。
された。
【００４６】［実施例８］ 回転ドラム上での照射 市販の光重合性フレキソ印刷版（NyloflexR FAR 284 (B
ASF))の保護フィルム及びポリアミド基板層を除去し
た。版表面に、実施例１のＩＲ−融蝕性層をラミネート
した。
ASF))の保護フィルム及びポリアミド基板層を除去し
た。版表面に、実施例１のＩＲ−融蝕性層をラミネート
した。
【００４７】ＰＥＴフィルム除去後、ＩＲ−融蝕性層で
覆われた光重合性版を、ＮＤ−ＹＡＧレーザ装置(Schep
ers digilasR、６０ｗ）の回転ドラムに取り付けた。
皺、破れの発生が無かった。ドラムを１６００回転で回
転させながら版にディジタル画像を形成した。レーザパ
ワーは、２０％から８０％まで、５％ずつ増加させた。
３０％のパワーで、印刷版上に全ての試験画素を正確に
形成させるのに充分であることが分かった。即ち、黒色
ＩＲ−融蝕性層はレーザビームで照射された領域で完全
に除去された。
覆われた光重合性版を、ＮＤ−ＹＡＧレーザ装置(Schep
ers digilasR、６０ｗ）の回転ドラムに取り付けた。
皺、破れの発生が無かった。ドラムを１６００回転で回
転させながら版にディジタル画像を形成した。レーザパ
ワーは、２０％から８０％まで、５％ずつ増加させた。
３０％のパワーで、印刷版上に全ての試験画素を正確に
形成させるのに充分であることが分かった。即ち、黒色
ＩＲ−融蝕性層はレーザビームで照射された領域で完全
に除去された。
【００４８】［比較例１］実施例１を繰り返したが、そ
の際慣用の３．５の光学濃度を有するＩＲ−融蝕性層を
用いた。この層は、３５質量％のカーボンブラック及び
６５質量％のエラストマーポリアミドバインダ（Makrom
eltR 6900）から作製される。皺、破れは観察されなか
ったが、全ての試験画素を正確に形成するに必要なレー
ザパワーは６０％であった。
の際慣用の３．５の光学濃度を有するＩＲ−融蝕性層を
用いた。この層は、３５質量％のカーボンブラック及び
６５質量％のエラストマーポリアミドバインダ（Makrom
eltR 6900）から作製される。皺、破れは観察されなか
ったが、全ての試験画素を正確に形成するに必要なレー
ザパワーは６０％であった。
【００４９】実施例８及び比較例１は、本発明のＩＲ−
融蝕性層は、比較可能な光学濃度において、慣用のシス
テムで約２倍の高い感度をもたらすことを示している。
融蝕性層は、比較可能な光学濃度において、慣用のシス
テムで約２倍の高い感度をもたらすことを示している。
【００５０】［実施例９〜１１］これらの実施例は、本
発明のフレキソ印刷素子の性質に対する好適な第２のバ
インダによる追加的利益を示している。
発明のフレキソ印刷素子の性質に対する好適な第２のバ
インダによる追加的利益を示している。
【００５１】ＩＲ−融蝕性層を、実施例１に記載の手順
を用いて製造したが、その際表２の組成を用いた。実施
例１０及び１１において、それぞれおよそ３５％のニト
ロセルロースを剥離性改良ポリマーで置換した。
を用いて製造したが、その際表２の組成を用いた。実施
例１０及び１１において、それぞれおよそ３５％のニト
ロセルロースを剥離性改良ポリマーで置換した。
【００５２】
【表３】 表２：実施例９〜１１のＩＲ−融蝕性層を作製するため
の成分量
の成分量
【００５３】ＩＲ−融蝕性層を、実施例２に記載の手順
に従いフレキソ印刷素子を製造するために使用し、及び
実施例３に従いＩＲ−融蝕させた。
に従いフレキソ印刷素子を製造するために使用し、及び
実施例３に従いＩＲ−融蝕させた。
【００５４】その結果を表３に示す：
【００５５】
【表４】 表３：版のＩＲ−融蝕後の、ＵＶにおける光学濃度の減
少
少
【００５６】実施例９〜１１は、３５％のニトロセルロ
ースの剥離性改良ポリマーで置換しても、ＩＲ−融蝕性
層の感度が融蝕に顕著に影響することはないことを示し
ている。フレキソ印刷素子の頂上の保護ＰＥＴフィルム
の剥離は、顕著に改良されている。
ースの剥離性改良ポリマーで置換しても、ＩＲ−融蝕性
層の感度が融蝕に顕著に影響することはないことを示し
ている。フレキソ印刷素子の頂上の保護ＰＥＴフィルム
の剥離は、顕著に改良されている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/032 Ｇ０３Ｆ 7/032 7/20 ５０５ 7/20 ５０５ ５１１ ５１１ (71)出願人 500241158 アグファ‐ゲヴェルト、ナムローゼ、フェ ンノートシャップ ベルギー国、Ｂ‐2640、モルトセル、セプ テストラート、27 (72)発明者 アルフレート、ライネンバッハ ドイツ、67071、ルートヴィッヒスハーフ ェン、オランゲリーシュトラーセ、30 (72)発明者 ザビネ、フィリップ ドイツ、64546、メルフェルデン−ヴァル ドルフ、ズデーテンシュトラーセ、23 (72)発明者 エディー、ディームズ ベルギー、2640、モルトセル、ゼプテスト ラート、27 (72)発明者 ハイアロニムス、アンドリーセン ベルギー、2640、モルトセル、ゼプテスト ラート、27 (72)発明者 ラック、リーンダーズ ベルギー、2640、モルトセル、ゼプテスト ラート、27
Claims (9)
- 【請求項１】 コンピュータ製版技術によりフレキソ印
刷版を製造するために使用される感光性印刷素子であっ
て、 支持体、 少なくとも１種のエラストマーバインダ、少なくとも１
種の重合性化合物、及び少なくとも１種の光開始剤又は
光開始剤組成物を含む光重合性層、 化学線を実質的に通さないＩＲ−融蝕性層、及び必要に
より、剥離可能可撓性カバーシートを含み、且つＩＲ−
融蝕性層が、少なくとも１種の熱−可燃性の高分子バイ
ンダ、少なくとも１種のＩＲ−吸収材料及び一般式 Ｒ1（ＣＯ）［Ｏ−ＣＨＲ3−ＣＨ2］nＯ（ＣＯ）Ｒ2 ｛但し、ｎが１〜３０の範囲にあり、Ｒ1及びＲ2が炭素
原子数１〜２０個の直鎖又は分岐のアルキル鎖を表し、
そしてＲ3がＨ又はメチルを表す。｝で表される少なく
とも１種の脂肪族ジエステルを含むことを特徴とする感
光性印刷素子。 - 【請求項２】 熱−可燃性の高分子バインダが、ニトロ
基又は硝酸エステル基を有する請求項１に記載の感光性
印刷素子。 - 【請求項３】 熱−可燃性の高分子バインダが、セルロ
ース又はセルロースエーテルの硝酸エステルである請求
項１に記載の感光性印刷素子。 - 【請求項４】 ＩＲ−吸収材料がカーボンブラックであ
る請求項１〜３のいずれかに記載の感光性印刷素子。 - 【請求項５】 脂肪族ジエステルが、トリエチレングリ
コール−ヘキサン酸ジエステル、トリエチレングリコー
ル−２−エチルヘキサン酸ジエステル及びトリエチレン
グリコール−オクタン酸ジエステルから選択される少な
くとも１種である請求項１〜４のいずれかに記載の感光
性印刷素子。 - 【請求項６】 ＩＲ−融蝕性層が少なくとも１種の別の
高分子バインダを含む請求項１〜５のいずれかに記載の
感光性印刷素子。 - 【請求項７】 別の高分子バインダが、ＩＲ−融蝕性層
の全成分の合計に対して２０質量％未満の量で存在する
請求項６に記載の感光性印刷素子。 - 【請求項８】 請求項１〜７のいずれかに記載の素子を
用いてフレキソ印刷版を製造する方法であって、 （ａ）必要により、剥離可能可撓性オーバーシートを除
去する工程、 （ｂ）ＩＲ−融蝕性層にＩＲ−レーザを画像様に照射し
てマスクを形成する工程、 （ｃ）感光性素子に、マスクを介して化学線を全照射す
る工程、 （ｄ）工程（ｃ）の生成物を少なくとも１種の現像溶液
で処理して、工程（ｂ）で除去されなかったＩＲ−融蝕
性層残留部を除去し、且つ光重合性層を現像する工程を
含む製造方法。 - 【請求項９】 工程（ｂ）において、回転ドラムを有す
るレーザ装置を用い、そしてＩＲ−レーザによる照射の
ためにフレキソ印刷素子をドラムの円筒表面に取り付け
る請求項８に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE99113770.4 | 1999-07-13 | ||
| EP99113770 | 1999-07-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001080225A true JP2001080225A (ja) | 2001-03-27 |
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ID=8238600
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000209274A Pending JP2001080225A (ja) | 1999-07-13 | 2000-07-11 | 感度が向上したｉｒ−融蝕性層付きフレキソ印刷素子 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JP2001080225A (ja) |
| DE (1) | DE60000470T2 (ja) |
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| JP2016532884A (ja) * | 2013-06-14 | 2016-10-20 | フリント、グループ、ジャーマニー、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング | デジタル画像が形成可能であり、極性の極薄障壁層を有するフレキソ印刷素子 |
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2000
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- 2000-07-11 US US09/613,720 patent/US6521390B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-07-11 JP JP2000209274A patent/JP2001080225A/ja active Pending
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