JPH052271A - 平版印刷版の製造方法 - Google Patents

平版印刷版の製造方法

Info

Publication number
JPH052271A
JPH052271A JP3307491A JP30749191A JPH052271A JP H052271 A JPH052271 A JP H052271A JP 3307491 A JP3307491 A JP 3307491A JP 30749191 A JP30749191 A JP 30749191A JP H052271 A JPH052271 A JP H052271A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
photosensitive
lithographic printing
printing plate
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3307491A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadao Toyama
忠夫 登山
Kenji Kunichika
健二 国近
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Publication of JPH052271A publication Critical patent/JPH052271A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means

Abstract

(57)【要約】 【構成】 画像露光した感光性平版印刷版を、補充液を
補充しながら現像して平版印刷版を製造する方法におい
て、該感光性平版印刷版が感光層を有する面の反対側の
面に、光および/または熱により硬化した有機高分子化
合物を含む被覆層を有し、かつ補充液の[SiO2 ]/
[M2 O]モル比が0.3〜1.0であり、SiO2 が0.5
〜4.0重量%のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液であるこ
とを特徴とする平版印刷版の製造方法。 【効果】 現像液の補充量が少なく、不溶物の生成がな
く、現像処理を安定に行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はアルミニウムを支持体と
する感光性平版印刷版の現像処理に関するものであり、
特に自動現像機により処理するのに適した現像方法に関
するものである。
【0002】
【従来技術およびその問題点】従来より、広く使用され
ているポジ型感光性平版印刷版は支持体としてのアルミ
ニウム板上にo−キノンジアジド化合物からなる感光層
を設けたものである。o−キノンジアジド化合物は紫外
線露光によりカルボン酸に変化することが知られてお
り、従って、これをアルカリ水溶液で現像すると当該感
光層の露光部のみが除去されて支持体表面が露出する。
アルミニウム支持体の表面は親水性なので現像で支持体
の表面が露出された部分(非画像部)は水を保持して油
性インキを反発する。一方、現像によって感光層の除去
されなかった領域(画像部)は、親油性なので水を反発
し、インキを受け付ける。かかるポジ型感光性平版印刷
版の現像液として使用されるアルカリ水溶液は、種々の
ものが知られているが、最も好ましいのはケイ酸ナトリ
ウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その
理由はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2 とアル
カリ金属酸化物M2 Oの比率(一般に[SiO2 ]/
[M2 O]のモル比で表わす)と濃度によってある程度
現像性の調節が可能とされるためである。
【0003】これらのケイ酸塩は上述のポジ型感光性平
版印刷版だけでなく、特公昭56−14970号公報記
載のo−キノンジアジド感光層を用いた反転型ネガ型感
光性平版印刷版や、アルカリ可溶性ジアゾニウム塩を感
光層に用いたネガ型感光性平版印刷版の現像液およびジ
メチルマレイミド基を側鎖に含む樹脂を光架橋剤とする
感光層を用いたネガ型感光性平版印刷版の現像液として
も好ましく用いられている。
【0004】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、感光性平版印刷版の自動現像機
が広く用いられている。この自動現像機は、一般に感光
性平版印刷版を搬送する装置と、現像液槽およびスプレ
ー装置からなり、露光済みの感光性平版印刷版を水平に
搬送しながら、ポンプで汲み上げた現像液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は現像液が満たされた現像処理槽中に液中ガイドロー
ルなどによって感光性平版印刷版を浸漬搬送させて現像
処理する方法も知られている。
【0005】特開昭54−62004号公報には、かか
る自動現像機を用いて、ポジ型感光性平版印刷版を現像
する場合に、現像液としてSiO2 /Na2 Oのモル比
が1.0〜1.5(即ち[SiO2 ]/[Na2 O]が1.0
〜1.5)であって、SiO2 の含有量が1〜4重量%の
ケイ酸ナトリウムの水溶液を使用し、しかもポジ型感光
性平版印刷版の処理量に応じて連続的または断続的にS
iO2 /Na2 Oのモル比が0.5〜1.5(即ち[SiO
2 ]/[Na2 O]が0.5〜1.5) のケイ酸ナトリウム
水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時
間タンク中の現像液を交換することなく、多量のポジ型
感光性平版印刷版を処理することができる旨、開示され
ている。
【0006】しかしながら、このような現像方法におい
ても、より多量の感光性平版印刷版を処理すると、現像
液中に不溶物が発生し、これが平版印刷版に付着した
り、ノズルを詰まらせ、しかもフィルターの目詰まりを
発生させるという欠点があった。このような不溶物の発
生は陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を支持体とし
て使用したポジ型感光性平版印刷版を現像したときに顕
著に現れることが知られている。この欠点を改良するた
めの技術として、特公昭57−7427号公報には、
[SiO2 ]/[M]が0.5〜0.75(即ち[Si
2 ]/[M2 O]が1.0〜1.5)であって、SiO2
の濃度が1〜4重量%であるアルカリ金属ケイ酸塩の現
像液を用い、補充液として用いるアルカリ金属ケイ酸塩
の[SiO2 ]/[M]が0.25〜0.75(即ち[Si
2 ]/[M2 O]が0.5〜1.5)であり、かつ該現像
液および該補充液のいずれもがその中に存在する全アル
カリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも20%の
カリウムを含有していることからなる現像方法が開示さ
れている。これにより不溶物の発生は抑えられたが、現
像補充液の活性度がやや劣り、補充量が多くなるという
欠点があった。この欠点の改良には特開平2−3065
号公報に開示されている技術があるが、ランニングコス
トや廃液量の削減になお強い要求がある。特に地球規模
で環境保全が論議される今日、産業廃棄物の低減がより
求められる状況にある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、感光性平版印刷版の現像液補充量を低減し、産業廃
棄物を減らせることのできる改良された平版印刷版の製
造方法を提供することである。本発明の別の目的は、長
期間、多量の感光性平版印刷版を処理しても不溶物が生
成せず、安定して処理することのできる改良された平版
印刷版の製造方法を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成すべく鋭意検討を重ねた結果、驚くべき事に、感光
性平版印刷版のアルミニウム支持体の感光層を有する面
の反対側の面(以後この面を支持体の裏面と称す)から
アルミニウムの陽極酸化皮膜が多量に溶出しており、こ
れが不溶物生成の原因となっていることを見いだし本発
明を成すに至ったものである。
【0009】即ち本発明は、陽極酸化皮膜を有するアル
ミニウム支持体の片面に感光層を有する感光性平版印刷
版を画像露光し、次いでアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液
を含む現像液で現像する方法であって、該現像による該
現像液の変化をアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液を含む補
充液を該現像液に加えることによって補償する平版印刷
版の製造方法において、該感光性平版印刷版が感光層を
有する面の反対側の面に有機高分子化合物を含む被覆層
を有し、かつ該現像補充液が[SiO2 ]/[M2 O]
比(但し、[SiO2 ]はSiO2 のモル濃度mol/
1、[M2 O]はアルカリ金属Mの酸化物M2 Oのモル
濃度mol/1を示す)が0.3〜1.0であって、SiO
2 が0.5〜4.0重量%のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液
であることを特徴とする平版印刷版の製造方法である。
【0010】本発明の平版印刷版の製造方法が対象とす
る感光性平版印刷版は、基本的には支持体として陽極酸
化皮膜を有するアルミニウム板が用いられる。好適なア
ルミニウム板には、純アルミニウム板およびアルミニウ
ム合金板が含まれ、更にアルミニウムがラミネートもし
くは蒸着されたプラスチックフィルムも含まれる。この
ようなアルミニウム板の表面には陽極酸化処理して酸化
アルミニウム皮膜が設けられるが、その前に砂目立て処
理を施してもよく、また、特公昭47−5125号公報
に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理
したのちに、アルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理し
たものも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、例え
ば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しく
は、蓚酸、スルファミン酸等の有機酸またはこれらの塩
の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせ
た電解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すこ
とにより実施される。
【0011】また、米国特許第 3,658,662号明細書に記
載されているようなシリケート電着も有効である。更に
は米国特許第 4,087,341号明細書、特公昭46−274
81号公報、特開昭52−30503号公報に開示され
ているような電解グレインを施した支持体を上記のよう
に陽極酸化処理したものも有用である。更に、米国特許
第3,834,998 号明細書に記されているような砂目立てし
たのちに化学的にエッチングし、しかるのちに陽極酸化
処理したアルミニウム板も好ましい。これらの親水化処
理は、支持体の表面を親水性とするために施される以外
に、その上に設けられる感光性組成物との有害な反応を
防ぐため、更には感光層との密着性を向上させる為など
の種々の目的をもって施されるものである。
【0012】更に本発明で用いる感光性平版印刷版の支
持体の裏面には、アルミニウムの陽極酸化皮膜の溶出を
抑えるための有機高分子化合物を含む被覆層(以後この
被覆層をバックコート層と称す)が設けられる。バック
コート層の素材としては、アルカリ性のケイ酸塩現像液
に不溶の有機高分子化合物が用いられ、例えばポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリブタジエン、
ナイロン、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、ポ
リシロキサン、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、アル
キルフェノールのアルデヒド縮合樹脂、アセタール樹
脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレ
ン、アクリル系樹脂およびこれらの共重合樹脂等が適し
ている。
【0013】上記有機高分子化合物を含むバックコート
層は、有機高分子化合物の他に、可撓性を付与するため
の可塑剤を含んでいてもよい。このような可塑剤の好ま
しい例としては、ジメチルフタレート、ジエチルフタレ
ート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、
ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、
ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレー
ト、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレー
ト、ジアリールフタレートなどのフタル酸エステル類、
ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリールエチ
ルグリコレート、メチルフタリールエチルグリコレー
ト、ブチルフタリールブチルグリコレート、トリエチレ
ングリコールジカプリル酸エステルなどのグリコールエ
ステル類、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホ
スフェートなどの燐酸エステル類、ジイソブチルアジペ
ート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジ
ブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマ
レートなどの脂肪族二塩基酸エステル類、クエン酸トリ
エチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸
ブチルなどがある。可塑剤は、バックコート層に使用さ
れる樹脂の全重量に対して一般に約30重量%以下の量
で使用される。
【0014】更に、光および/または熱により硬化可能
な組成物を支持体の裏面に設けた後、硬化させることに
より得られる樹脂被覆層が、耐アルカリ現像液適性に富
んでおり特に好ましい。かかる光および/または熱硬化
性組成物としては、光重合性組成物、ジアゾ樹脂からな
る組成物、感光性アジド化合物からなる組成物、光架橋
性組成物、熱重合性組成物および熱架橋性組成物が挙げ
られる。
【0015】a) 光重合性組成物 本発明に使用される光重合性組成物は、高分子バインダ
ー、少なくとも1個の付加重合性不飽和結合を有する不
飽和モノマー及び光重合開始剤を含む。光重合性組成物
のバインダーは特公昭38−9663号公報に開示され
ているようなポリビニルブチラール、ポリビニルアセテ
ート、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、クマロンイン
デン樹脂、シリコン樹脂、ゴム等、特開昭47−772
8号公報に開示されているようなビニリデンクロライド
共重合体、セルロースエーテル、合成ゴム、ポリビニル
アセテート共重合体、ポリアクリレート、ポリ塩化ビニ
ル等や特開昭49−123021号公報に開示されてい
るような塩素化ポリオレフィンである。
【0016】不飽和モノマーは、少なくとも1つの付加
重合性不飽和結合基を有するモノマーで、該モノマーと
しては、例えば、(メタ)アクリル酸エステル類、(メ
タ)アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル
類、ビニルエステル類、N−ビニル化合物、スチレン
類、クロトン酸エステル類などがある。
【0017】付加重合性不飽和結合を1つ有する化合物
の具体例としては、(メタ)アクリル酸エステル類とし
て、例えば、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アク
リル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)
アクリル酸アミル、(メタ)アクリル酸エチルヘキシ
ル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸
−t−オクチル、(メタ)アクリル酸クロルエチル、ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、2,2−ジメチルヒドロキ
シプロピル(メタ)アクリレート、5−ヒドロキシペン
チル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノ(メ
タ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、
ベンジル(メタ)アクリレート、メトキシベンジル(メ
タ)アクリレート、フルフリル(メタ)アクリレート、
テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アリー
ル(メタ)アクリレートなど、(メタ)アクリルアミド
類としては、例えば、(メタ)アクリルアミド、N−ア
ルキル(メタ)アクリルアミド(アルキルがメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、t−ブチル、ヘプチル、オク
チル、シクロヘキシル、ベンジル、ヒドロキシメチル、
ヒドロキシエチル等)、N−アリール(メタ)アクリル
アミド(アリールがフェニル、トリル、ニトロフェニ
ル、ナフチル、ヒドロキシフェニル等)、N,N−ジア
ルキル(メタ)アクリルアミド(アルキルがメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、イソブチル、エチルヘキシ
ル、シクロヘキシル等)、N,N−ジアリール(メタ)
アクリルアミド(アリールがフェニル等)、N−メチル
−N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキ
シエチル−N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−2
−アセトアミドエチル−N−アセチルアクリルアミド
等、
【0018】アリル化合物としては、例えば、酢酸アリ
ル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸
アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安
息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル等のアリ
ルエステル、アリルオキシエタノール等、ビニルエーテ
ル類としては例えば、ヘキシルビニルエーテル、オクチ
ルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキ
シルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、
エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエ
ーテル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニル
エーテル、2−エチルブチルエーテル、ヒドロキシエチ
ルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテ
ル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルア
ミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニル
エーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフル
フリルビニルエーテルなどのアルキルビニルエーテルお
よびビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、
ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−2,4−ジク
ロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニ
ルアントラニルエーテルなどのビニルアリールエーテ
ル、ビニルエステル類としては、例えば、ビニルブチレ
ート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテ
ート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレレート、
ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニル
ジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニ
ルブトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、ビ
ニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β
−フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキ
シレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル
安息香酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフト
エ酸ビニルなど、
【0019】N−ビニル化合物としては、例えば、N−
ビニルオキサゾリドン、N−ビニルイミダゾール、N−
ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、N−ビニ
ルエチルアセトアミドなど、スチレン類としては、例え
ば、スチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピル
スチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロ
ヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレ
ン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレ
ン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレ
ンなど、アルコキシスチレン(例えば、メトキシスチレ
ン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシス
チレンなど)、ハロゲノスチレン(例えば、クロルスチ
レン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラ
クロルスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレ
ン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチ
レン、トリフルオルスチレン、2−ブロム−4−トリフ
ルオルメチルスチレン、4−フルオル−3−トリフルオ
ルメチルスチレンなど)、カルボキシスチレン類(例え
ば、ビニル安息香酸、ビニル安息香酸メチルエステルな
ど)等、クロトン酸エステル類としては、例えば、クロ
トン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノク
ロトネートなどのクロトン酸アルキルが、それぞれ例示
できる。
【0020】次に、付加重合性不飽和結合を2個以上有
する化合物の具体例を例示するが、これらは上記付加重
合性不飽和結合を1個有する化合物よりも、好適に使用
される。先ずアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エ
ステル類としては、多価アルコールのポリアクリレート
類及びポリメタクリレート類(ここで「ポリ」とはジア
クリレート以上を指す。)がある。上記多価アルコール
としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレンオ
キサイド、ポリブチレンオキサイド、ポリシクロヘキセ
ンオキサイド、ポリエチレンオキサイドプロピレンオキ
サイド、ポリスチレンオキサイド、ポリオキセタン、ポ
リテトラヒドロフラン、シクロヘキサンジオール、キシ
リレンジオール、ジ−(β−ヒドロキシエトキシ)ベン
ゼン、グリセリン、ジグリセリン、ネオペンチルグリコ
ール、トリメチロールプロパン、トリエチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、
ソルビタン、ソルビトール、ブタンジオール、ブタント
リオール、2−ブテン−1,4−ジオール、2−n−ブ
チル−2−エチル−プロパンジオール、2−ブチン−
1,4−ジオール、3−クロル−1,2−プロパンジオ
ール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、3−シク
ロヘキセン−1,1−ジメタノール、デカリンジオー
ル、2,3−ジブロム−2−ブテン−1,4−ジオー
ル、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、
1,5−ジヒドロキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ
ナフタレン、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオ
ール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、
2,2−ジフェニル−1,3−プロパンジオール、ドデ
カンジオール、メソエリスリトール、2−エチル−1,
3−ヘキサンジオール、2−エチル−2−(ヒドロキシ
メチル)−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2
−メチル−1,3−プロパンジオール、ヘプタンジオー
ル、ヘキサンジオール、3−ヘキセン−2,5−ジオー
ル、ヒドロキシベンジルアルコール、ヒドロキシエチル
レゾルシノール、2−メチル−1,4−ブタンジオー
ル、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、ノナンジ
オール、オクタンジオール、ペンタンジオール、1−フ
ェニル−1,2−エタンジオール、プロパンジオール、
2,2,4,4−テトラメチル−1,3−シクロブタン
ジオール、2,3,5,6−テトラメチル−p−キシレ
ン−α,α′−ジオール、1,1,4,4−テトラフェ
ニル−1,4−ブタンジオール、1,1,4,4−テト
ラフェニル−2−ブチン−1,4−ジオール、1,2,
6−トリヒドロキシヘキサン、
【0021】1,1′−ビ−2−ナフトール、ジヒドロ
キシナフタレン、1,1′−メチレン−ジ−2−ナフト
ール、1,2,4−ベンゼントリオール、ビフェノー
ル、2,2′−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン、ビス(ヒドロキシフェニル)メタン、カテコー
ル、4−クロルレゾルシノール、3,4−ジヒドロキシ
ハイドロシンナミックアシッド、ハイドロキノン、ヒド
ロキシベンジルアルコール、メチルハイドロキノン、メ
チル−2,4,6−トリヒドロキシベンゾエート、フロ
ログルシノール、ピロガロール、レゾルシノール、グル
コース、α−(1−アミノエチル)−p−ヒドロキシベ
ンジルアルコール、2−アミノ−2−エチル−1,3−
プロパンジオール、2−アミノ−2−メチル−1,3−
プロパンジオール、3−アミノ−1,2−プロパンジオ
ール、N−(3−アミノプロピル)−ジエタノールアミ
ン、N,N′−ビス−(2−ヒドロキシエチル)ピペラ
ジン、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)2,2′,
2″−ニトリロトリエタノール、2,2−ビス(ヒドロ
キシメチル)プロピオニックアシッド、1,3−ビス
(ヒドロキシメチル)ウレア、1,2−ビス(4−ピリ
ジル)−1,2−エタンジオール、N−n−ブチルジエ
タノールアミン、ジエタノールアミン、N−エチルジエ
タノールアミン、3−メルカプト−1,2−プロパンジ
オール、3−ピペリジノ−1,2−プロパンジオール、
2−(2−ピリジル)−1,3−プロパンジオール、ト
リエタノールアミン、α−(1−アミノエチル)−p−
ヒドロキシベンジルアルコール、3−アミノ−4−ヒド
ロキシフェニルスルホンなどがある。
【0022】これらのアクリル酸エステル類、及びメタ
クリル酸エステル類のうち、最も好ましいものは、その
入手の容易さから、エチレングリコールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチ
レングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、グ
リセリントリアクリルレート、ジグリセリンジメタクリ
レート、1,3−プロパンジオールジアクリレート、
1,2,4−ブタントリオールトリメタクリレート、
1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、1,
5−ペンタンジオールジアクリレート、ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、エチレンオキサイド付加した
トリメチロールプロパンのトリアクリル酸エステル等で
ある。
【0023】一方、アクリルアミド類、及びメタクリル
アミド類としては、メチレンビスアクリルアミド、メチ
レンビスメタクリルアミドのほか、エチレンジアミン、
ジアミノプロパン、ジアミンブタン、ペンタメチレンジ
アミン、ヘキサメチレン−ビス(2−アミノプロピル)
アミン、ジエチレントリアミン、ヘプタメチレンジアミ
ン、オクタメチレンジアミン並びに異種原子により中断
されたポリアミン、環を有するポリアミン(例えばフェ
ニレンジアミン、キシリレンジアミン、β−(4−アミ
ノフェニル)エチルアミン、ジアミノベンゾイックアシ
ッド、ジアミノトルエン、ジアミノアントラキノン、ジ
アミノフルオレンなど)のポリアクリルアミド及びポリ
メタクリルアミドがある。
【0024】アリル化合物としては、例えばフタル酸、
テレフタル酸、セバシン酸、アジピン酸、グルタール
酸、マロン酸、蓚酸等のジカルボン酸のジアリルエステ
ル、例えば、アントラキノンジスルホン酸、ベンゼンジ
スルホン酸、2,5−ジヒドロキシ−p−ベンゼンジス
ルホン酸、ジヒドロキシナフタレンジスルホン酸、ナフ
タレンジスルホン酸などのジスルホン酸のジアリルエス
テル、ジアリルアミドなどがある。
【0025】ビニルエーテル化合物としては、前記多価
アルコールのポリビニルエーテルがあり、例えばエチレ
ングリコールジビニルエーテル、1,3,5−トリ−β
−ビニロキシエトキシベンゼン、1,3−ジ−β−ビニ
ロキシエトキシベンゼン、グリセロールトリビニルエー
テルなどがある。
【0026】ビニルエステル類としては、ジビニルサク
シネート、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート、
ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼン−1,3−
ジスルホネート、ジビニルブタン−1,4−ジスルホネ
ートなどがある。スチレン化合物としては、ジビニルベ
ンゼン、p−アリルスチレン、p−イソプロペンスチレ
ンなどがある。
【0027】更に、N−β−ヒドロキシエチル−β−
(メタクリルアミド)エチルアクリレート、N,N−ビ
ス(β−メタクリロキシエチル)アクリルアミド、アリ
ルメタクリレートなどの如き、異なった付加重合性不飽
和結合を2個以上有する化合物も、本発明に好適に用い
られる。かかる付加重合性不飽和結合を有する単量体は
2種以上を併用して用いることもできる。これらの単量
体はバインダー用高分子物質100重量部に対して10
重量部から500重量部、好ましくは30〜200重量
部の範囲で用いられる。
【0028】一方、本発明に用いられる光重合開始剤と
しては、従来公知のものを好適に用いることができ、例
えば、J.コーサー著「ライト−センシティブシステム
ズ」第5章に記載されているようなカルボニル化合物、
有機硫黄化合物、過酸化物、レドックス系化合物、アゾ
並びにジアゾ化合物、ハロゲン化合物、光還元性色素な
どがある。代表的な具体例を挙げれば、カルボニル化合
物としては例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾフェノン、アンスラキノン、9,10−アン
スラキノン、2−メチルアンスラキノン、2−第3ブチ
ル−アンスラキノン、9,10−フェナントレンキノ
ン、ジアセチル、ベンジル、更には下記一般式で示され
る化合物等が有用である。
【0029】
【化1】
【0030】式中R1 は通常シアニン色素で知られてい
るアルキル基を示し、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基などの未置換の低級アルキル基、例えば、2−ヒ
ドロキシエチル基などのヒドロキシアルキル基、例えば
2−メトキシエチル基などのアルコキシアルキル基、例
えばカルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基など
のカルボキシアルキル基、例えば2−スルホエチル基、
3−スルホプロピル基などのスルホアルキル基、例えば
ベンジル基、フェネチル基、p−スルホフェネチル基、
p−カルボキシフェネチル基などのアラルキル基、ビニ
ルメチル基等が好ましい。
【0031】R2 はアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基などの低級アルキル基が好まし
い。)、アリール基(例えばフェニル基、p−ヒドロキ
シフェニル基、p−メトキシフェニル基、p−クロロフ
ェニル基、ナフチル基などが好ましい。)又はチエニル
基を示す。
【0032】Zは通常シアニン色素で用いられる窒素を
含む複素環核を形成するのに必要な非金属原子群、例え
ばベンゾチアゾール類(例えばベンゾチアゾール、5−
クロロベンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾー
ル、4−メチルベンゾチアゾール、6−メチルベンゾチ
アゾール、5−フェニルベンゾチアゾール、6−メトキ
シベンゾチアゾール、4−エトキシベンゾチアゾール、
5−メトキシベンゾチアゾール、5−ヒドロキシベンゾ
チアゾール、5,6−ジメチルベンゾチアゾール、5,
6−ジメトキシベンゾチアゾールなど)、ナフトチアゾ
ール類、(例えばα−ナフトチアゾール、β−ナフトチ
アゾールなど)、ベンゾセレナゾール類(例えばベンゾ
セレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾール、6−メ
チルベンゾセレナゾール、6−メトキシベンゾセレナゾ
ール、など)、ナフトセレナゾール類(例えばα−ナフ
トセレナゾール、β−ナフトセレナゾールなど)、ベン
ゾオキサゾール類(例えばベンゾオキサゾール、5−メ
チルベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾ
ール、6−メトキシベンゾオキサゾールなど)、ナフト
オキサゾール類(例えばα−ナフトオキサゾール、β−
ナフトオキサゾールなど)を表わす。
【0033】上記一般式で表わされる化合物の具体例と
しては、例えば2−ベンゾイルメチレン−3−メチル−
β−ナフトチアゾリン、2−ベンゾイルメチレン−3−
エチル−β−ナフトチアゾリン、3−エチル−2−(2
−チエニルカルボニル)メチレン−β−ナフトチアゾリ
ン、3−エチル−2−プロピオニルメチレン−β−ナフ
トチアゾリン、5−クロル−3−エチル−2−p−メト
キシベンゾイルメチレンベンゾチアゾリンなどがある。
有機硫黄化合物としては、ジ−n−ブチルジサルファイ
ド、ジ−n−オクチルジサルファイド、ジベンジルサル
ファイド、ジフェニルジサルファイド、ジベンゾイルジ
サルファイド、ジアセチルジサルファイド、2−メルカ
プトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾ
ール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、チオフェノ
ール、チオクレゾール、p−メトキシベンゼンチオー
ル、カルボキシメチル−N,N−ジメチルジチオカルバ
メートなどがある。
【0034】過酸化物としては、過酸化水素、ジ−t−
ブチルパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、メチルエチ
ルケトンパーオキサイドなどがある。レドックス系化合
物は、過酸化物と還元剤の組合わせからなるものであ
り、第1鉄イオンと過酸化水素、第1鉄イオンと過硫酸
イオン、第二鉄イオンと過酸化物などがある。
【0035】アゾ及びジアゾ化合物としては、α,α′
−アゾビスイソブチロニトリル、2−アゾビス−2−メ
チルブチロニトリル、1−アゾ−ビス−シクロヘキサン
カルボニトリル、p−アミノジフェニルアミンのジアゾ
ニウム塩などがある。ハロゲン化合物としてはクロルメ
チルナフチルクロライド、フェナシルクロライド、クロ
ルアセトン、1−ナフタレンスルホニルクロライド、キ
シレンスルホニルクロライド、トリクロロメチル基、ト
リブロモメチル基を含む化合物などがある。
【0036】光還元性色素としては、ローズベンガル、
エリスロシン、エオシン、アクリフラビン、リボフラビ
ン、チオニンなどがある。これ等の光重合開始剤は単量
体100重量部に対して0.1重量部から20重量部の範
囲で用いるが、好ましくは1重量部から10重量部の範
囲である。
【0037】本発明の光重合性組成物は、上記成分から
なるものであるが、更に熱重合防止剤を加えることが好
ましい。熱重合防止剤の具体例としては、例えばパラメ
トキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル若しくは
アリール置換ハイドロキノン、t−ブチルカテコール、
ピロガロール、塩化第1銅、フェノチアジン、クロラニ
ール、ナフチルアミン、α−ナフトール、2,6−ジ−
t−ブチル−p−クレゾール、ピリジン、ニトロベンゼ
ン、ジニトロベンゼン、p−トルイジン、メチレンブル
ー有機酸銅(例えば酢酸銅など)などがある。これらの
熱重合防止剤は単量体100重量部に対して0.001〜
5重量部の範囲で含有されるのが好ましい。
【0038】本発明の光重合性組成物には、更に着色
剤、可塑剤、樹脂などの各種添加剤を含有させることが
できる。着色剤としては、例えば酸化チタン、カーボン
ブラック、酸化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料
などの顔料や、メチレンブルー、クリスタルバイオレッ
ト、ローダミンB、フクシン、オーラミン、アゾ系染
料、アントラキノン系染料などの染料があるが、使用さ
れる着色剤が光重合開始剤の吸収波長の光を吸収しない
ものが好ましい。かかる着色剤は、バインダーと単量体
の合計量100重量部に対して顔料の場合は0.1〜30
重量部、染料の場合は0.01〜10重量部、好ましくは
0.1〜3重量部の範囲で含有させるのが好ましい。可塑
剤としては、ジメチルフタレート、ジエチルフタレー
ト、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジ
オクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジ
シクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、
ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、
ジアリールフタレートなどのフタル酸エステル類、ジメ
チルグリコールフタレート、エチルフタリールエチルグ
リコレート、メチルフタリールエチルグリコレート、ブ
チルフタリールブチルグリコレート、トリエチレングリ
コールジカプリル酸エステルなどのグリコールエステル
類、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェ
ートなどの燐酸エステル類、ジイソブチルアジペート、
ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチル
セバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート
などの脂肪族二塩基酸エステル類、クエン酸トリエチ
ル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチ
ルなどがある。
【0039】b) ジアゾ樹脂からなる組成物 p−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドと
の縮合物に代表されるジアゾ樹脂は、水溶性のもので
も、水不溶性のものでも良いが、好ましくは、水不溶性
かつ通常の有機溶媒に可溶性のものが使用される。特に
好ましいジアゾ化合物としては、p−ジアゾジフェニル
アミンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドとの縮
合物の塩、例えばフェノール塩、フルオロカプリン酸
塩、及びトリイソプロピルナフタレンスルホン酸、4,
4−ビフェニルジスルホン酸、5−ニトロオルト−トル
エンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメ
チルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン
酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼ
ンスルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベンゼンスルホ
ン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、1
−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒ
ドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸及びパ
ラトルエンスルホン酸などのスルホン酸の塩などのよう
に一分子中に2個以上のジアゾ基を有する化合物であ
る。この他望ましいジアゾ樹脂としては上記の塩を含む
2,5−ジメトキシ−4−p−トリルメルカプトベンゼ
ンジアゾニウムとホルムアルデヒドの縮合物、2,5−
ジメトキシ−4−モルホリノベンゼンジアゾニウムとホ
ルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合物が含
まれる。
【0040】また、英国特許第1,312,925 号明細書に記
載されているジアゾ樹脂も好ましい。
【0041】ジアゾ樹脂は、単独で被覆層の作成に使用
される感光物となり得るが、好ましくはバインダーと共
に使用される。かかるバインダーとしては、種々の高分
子化合物が使用され得るが、ヒドロキシ、アミノ、カル
ボン酸、アミド、スルホンアミド、活性メチレン、チオ
アルコール、エポキシ等の基を含むものが好ましい。こ
のような好ましいバインダーには、英国特許第1,350,52
1 号明細書に記されているシエラック、英国特許第1,46
0,978 号および米国特許第4,123,276 号の各明細書に記
されているようなヒドロキシエチルアクリレート単位ま
たはヒドロキシエチルメタクリレート単位を主なる繰り
返し単位として含むポリマー、米国特許第3,751,257 号
明細書に記されているポリアミド樹脂、英国特許第1,07
4,392 号明細書に記されているフェノール樹脂および例
えばポリビニルフォルマール樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂のようなポリビニルアセタール樹脂、米国特許第
3,660,097 号明細書に記されている線状ポリウレタン樹
脂、ポリビニルアルコールのフタレート化樹脂、ビスフ
ェノールAとエビクロルヒドリンから縮合されたエポキ
シ樹脂、ポリアミノスチレンやポリアルキルアミノ(メ
タ)アクリレートのようなアミノ基を含むポリマー、酢
酸セルロース、セルロースアルキルエーテル、セルロー
スアセテートフタレート等のセルロース類等が包含され
る。
【0042】バインダーの含有量は、感光性組成物中に
40〜95重量%含まれているのが適当である。バイン
ダーの量が多くなれば(即ち、ジアゾ樹脂の量が少なく
なれば)感光性は当然大になる。最適のバインダーの量
は約70〜90重量%である。ジアゾ樹脂からなる組成
物には、更に、米国特許第3,236,646 号明細書に記載さ
れている燐酸、染料や顔料などの添加剤を加えることが
できる。
【0043】c) 感光性アジド化合物からなる組成物 適当な感光性アジド化合物は、アジド基が直接又はカル
ボニル基又はスルホニル基を介して芳香環に結合してい
る芳香族アジド化合物である。これらは光によりアジド
基が分解して、ナイトレンを生じ、ナイトレンが種々の
反応を起こして不溶化するものである。好ましい芳香族
アジド化合物としては、アジドフェニル、アジドスチリ
ル、アジドベンザル、アジドベンゾイル及びアジドシン
ナモイルの如き基を1個又はそれ以上含む化合物で、た
とえば4,4′−ジアジドカルコン、4−アジド−4′
−(4−アジドベンゾイルエトキシ)カルコン、N,N
−ビス−p−アジドベンザル−p−フェニレンジアミ
ン、1,2,6−トリ(4′−アジドベンゾキシ)ヘキ
サン、2−アジド−3−クロロ−ベンゾキノン、2,4
−ジアジド−4′−エトキシアゾベンゼン、2,6−ジ
(4′−アジドベンザル)−4−メチルシクロヘキサノ
ン、4,4′−ジアジドベンゾフェノン、2,5−ジア
ジド−3,6−ジクロロベンゾキノン、2,5−ビス
(4−アジドスチリル)−1,3,4−オキサジアゾー
ル、2−(4−アジドシンナモイル)チオフェン、2,
5−ジ(4′−アジドベンザル)シクロヘキサノン、
4,4′−ジアジドフェニルメタン、1−(4−アジド
フェニル)−5−フリル−2−ペンタ−2,4−ジエン
−1−オン、1−(4−アジドフェニル)−5−(4−
メトキシフェニル)−ペンタ−1,4−ジエン−3−オ
ン、1−(4−アジドフェニル)−3−(1−ナフチ
ル)プロペン−1−オン、1−(4−アジドフェニル)
−3−(4−ジメチルアミノフェニル)−プロパン−1
−オン、1−(4−アジドフェニル)−5−フェニル−
1,4−ペンタジエン−3−オン、1−(4−アジドフ
ェニル)−3−(4−ニトロフェニル)−2−プロペン
−1−オン、1−(4−アジドフェニル)−3−(2−
フリル)−2−プロペン−1−オン、1,2,6−トリ
(4′−アジドベンゾキシ)ヘキサン、2,6−ビス−
(4−アジドベンジリジン−p−t−ブチル)シクロヘ
キサノン、4,4′−ジアジドベンザルアセトン、4,
4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸、
4′−アジドベンザルアセトフェノン−2−スルホン
酸、4,4′−ジアジドスチルベン−α−カルボン酸、
ジ−(4−アジド−2′−ヒドロキシベンザル)アセト
ン−2−スルホン酸、4−アジドベンザルアセトフェノ
ン−2−スルホン酸、2−アジド−1,4−ジベンゼン
スルホニルアミノナフタレン、4,4′−ジアジド−ス
チルベン−2,2′−ジスルホン酸アニリド等をあげる
ことが出来る。 またこれらの低分子量芳香族アジド化
合物以外にも特公昭44−9047号、同44−318
37号、同45−9613号、同45−24915号、
同45−25713号、特開昭50−5102号、同5
0−84302号、同50−84303号、同53−1
2984号の各公報に記載のアジド基含有ポリマーも適
当である。
【0044】これらの感光性アジド化合物は、好ましく
はバインダーとしての高分子化合物と共に使用される。
好ましいバインダーとしてはアルカリ可溶性樹脂があ
り、例えばシェラック、ロジンなどの天然樹脂、例えば
フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂などのノボラック型フェノール樹脂、
例えばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、メタクリル
酸−スチレン共重合体、メタクリル酸−アクリル酸メチ
ル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体などの
不飽和カルボン酸の単独重合体またはこれと他の共重合
し得るモノマーとの共重合体、ポリ酢酸ビニルの部分ま
たは完全けん化物を例えばアセトアルデヒド、ベンズア
ルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、カルボキシベ
ンズアルデヒドなどのアルデヒドで部分アセタール化し
た樹脂、ポリヒドロキシスチレンなどが含まれる。更
に、例えばセルロースメチルエーテル、セルロースエチ
ルエーテルなどのセルロースアルキルエーテル類をはじ
めとする有機溶媒可溶性樹脂もバインダーとして使用で
きる。
【0045】バインダーは、感光性アジド化合物からな
る組成物の全重量に対して約10重量%から約90重量
%の範囲で含有させることが好ましい。感光性アジド化
合物からなる組成物には、更に染料や顔料、例えばフタ
ル酸エステル、燐酸エステル、脂肪族カルボン酸エステ
ル、グリコール類スルフォンアミド類などの可塑剤、例
えばミヒラ−ケトン、9−フルオレノン、1−ニトロピ
レン、1,8−ジニトロピレン、2−クロロ−1,2−
ベンズアントラキノン、2−ブロモ−1,2−ベンズア
ントラキノン、ピレン−1,6−キノン、2−クロロ−
1,8−フタロイルナフタレン、シアノアクリジンなど
の増感剤などの添加物を加えることができる。
【0046】d)重合体の主鎖又は側鎖に−CH=CH
−CO−基を含む高分子化合物からなる組成物 重合体の主鎖又は側鎖に感光性基として−CH=CH−
CO−を含むポリエステル類、ポリアミド類、ポリカー
ボネート類のような感光性重合体を主成分とするもの
(例えば米国特許第3,030,208 号、同第3,707,373 号及
び同第3,453,237号の各明細書に記載されているような
化合物);シンナミリデンマロン酸等の(2−プロペニ
リデン)マロン酸化合物及び二官能性グリコール類から
誘導される感光性ポリエステル類を主成分としたもの
(例えば米国特許第2,956,878 号及び同第3,173,787 号
の各明細書に記載されているような感光性重合体);ポ
リビニールアルコール、澱粉、セルロース及びその類似
物のような水酸基含有重合体の桂皮酸エステル類(例え
ば米国特許第2,690,966 号、同第2,752,372 号、同第2,
732,301 号等の各明細書に記載されているような感光性
重合体)等が包含される。これらの組成物中には他に増
感剤、安定化剤、可塑剤、顔料や染料等を含ませること
ができる。
【0047】e)熱重合性および熱架橋性組成物 熱重合性組成物としては、例えば先に述べた光重合性組
成物に、過酸化物等の熱重合開始剤を加えた組成物や、
熱により分解、架橋が可能なアジド化合物からなる組成
物が用いられる。これらの組成物を硬化するのに場合に
より光および熱の両者を用いることができる。
【0048】他にイソシアネート化合物やエポキシ基を
含む熱硬化性組成物も好ましく用いることができる。本
発明のバックコート層には更に界面活性剤が、すべり
性、塗布面状、支持体との密着等を向上させる目的で加
えられる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、
カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げら
れる。
【0049】界面活性剤の好ましい例としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレ
ングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、
N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン
脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非
イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、
ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン
酸塩類、ジアルキルスルホこはく酸エステル塩類、直鎖
アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベン
ゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩
類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルス
ルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェ
ニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリン
ナトリウム塩、N−アルキルスルホこはく酸モノアミド
二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ひまし
油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エス
テル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチ
レンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグ
リセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキ
ルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチ
レンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アル
キルりん酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル類りん酸エステル塩類、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテルりん酸エステル塩類、スチレン
−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィ
ン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタ
レンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類などのアニオン性
界面活性剤、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム
塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエ
チレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、
カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベ
タイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類など
の両性界面活性剤があげられる。以上挙げた界面活性剤
の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメ
チレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンな
どのポリオキシアルキレンに読み替えることもでき、そ
れらの界面活性剤もまた包含される。更に好ましい界面
活性物質は分子内にパーフルオロアルキル基を含有する
フッ素系の界面活性剤である。
【0050】かかるフッ素系界面活性剤としては、パー
フルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキル
スルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルな
どのアニオン型、パーフルオロアルキルベタインなどの
両性型、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム
塩などのカチオン型およびパーフルオロアルキルアミン
オキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付
加物、パーフルオロアルキル基および親水性基含有オリ
ゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性含有オリ
ゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油
性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親
油性基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。
【0051】上記の界面活性剤は、単独もしくは2種以
上を組み合わせて使用することができ、バックコート層
中に0.001重量%から約10重量%、より好ましくは
0.01重量%から1重量%の範囲で使用される。
【0052】本発明で用いられるバックコート層の厚さ
は基本的には現像時アルミニウムの陽極酸化皮膜の溶出
を抑えられる厚さがあればよく、0.01〜50μmの範
囲が好ましく、より好ましくは0.05〜10μmが好ま
しい。バックコート層をアルミニウム支持体の裏面に被
覆する方法としては種々の方法が適用できる。例えば実
質的に有機高分子化合物からなるバックコート層は、前
記成分を適当な溶媒に溶液にして、または乳化分散液に
して塗布、乾燥する方法、例えば予め成分をフィルム状
に成形したものを接着剤や熱で支持体に貼り合わせる方
法および溶融押し出し機で溶融皮膜を形成し、支持体に
貼り合わせる方法等が挙げられるが、上記の塗布量を確
保する上で最も好ましいのは成分を溶媒に溶解し、溶液
を支持体表面に塗布、乾燥する方法である。
【0053】また、実質的に光および/または熱硬化性
組成物の硬化物からなるバックコート層は、上記光およ
び/または熱硬化性組成物を用意し、無溶媒または適当
な溶媒に溶液にして、または乳化分散液にしてこれを支
持体に塗布、乾燥する方法、例えば予めフィルム状に成
形したものを接着剤や熱で支持体に貼り合わせる方法お
よび溶融押し出し機で溶融皮膜を形成し、支持体に貼り
合わせる方法等が挙げられるが、上記の塗布量を確保す
る上で最も好ましいのは無溶媒または溶液にして塗布、
乾燥する方法である。この様にして設けられたバックコ
ート層は活性光線および/または熱により硬化される。
【0054】バックコート層用の塗布液の溶剤として
は、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン
などの如きケトン類、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、
酢酸−n−アミル、蟻酸メチル、プロピオン酸エチル、
フタル酸ジメチル、安息香酸エチルなどの如きエステル
類、例えばトルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベン
ゼンなどの如き芳香族炭化水素、例えば四塩化炭素、ト
リクロルエチレン、クロロホルム、1,1,1−トリク
ロルエタン、メチレンジクロライド、エチレンジクロラ
イド、モノクロルベンゼン、クロルナフタリンなどの如
きハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、n−
プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、タ
−シャリ−ブタノール等の脂肪族アルコール類、例えば
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルア
セテートなどのグリコールエーテル及びそのエステル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイドな
どを単独又は混合使用できる。
【0055】本発明において、バックコート層は、感光
層を設ける前に設けることが好ましい。
【0056】本発明に用いられる感光性平版印刷版は、
o−キノンジアジド化合物やアルカリ可溶性ジアゾニウ
ム塩等を感光物として含む感光層を支持体の親水性表面
の上に設けたものであるが、o−キノンジアジド化合物
の場合を例に挙げて以下に説明する。
【0057】o−キノンジアジド化合物の好ましい例
は、o−ナフトキノンジアジド化合物であり、例えば、
米国特許第 3,046,110号、同第 3,046,111号、同第3,04
6,112号、同第3,046,115 号、 同第3,046,118 号、同第
3,046,119 号、同第3,046,120号、同第3,046,121 号、
同第 3,046,122号、同第3,046,123 号、同第3,061,430
号、同第 3,102,809号、同第3,106,465 号、同第 3,63
5,709号、同第3,647,443号の各明細書をはじめ、多数の
刊行物に記されており、これらは好適に使用することが
できる。これらの内でも、特に芳香族ヒドロキシ化合物
のo−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルまたは
o−ナフトキノンジアジドカルボン酸エステル、および
芳香族アミノ化合物のo−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸アミドまたはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸
アミドが好ましく、特に米国特許第3,635,709号明細書
に記されているピロガロールとアセトンとの縮合物にo
−ナフトキノンジアジドスルホン酸をエステル反応させ
たもの、米国特許第 4,028,111号明細書に記されている
末端にヒドロキシ基を有するポリエステルにo−ナフト
キノンジアジドスルホン酸、またはo−ナフトキノンジ
アジドカルボン酸をエステル反応させたもの、米国特許
第 1,494,043号明細書に記されているようなp−ヒドロ
キシスチレンのホモポリマーまたはこれと他の共重合し
得るモノマーとの共重合体にo−ナフトキノンジアジド
スルホン酸またはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸
をエステル反応させたもの、米国特許第 3,759,711号明
細書に記されているようなp−アミノスチレンと他の共
重合しうるモノマーとの共重合体にo−ナフトキノンジ
アジドスルホン酸またはo−ナフトキノンジアジドカル
ボン酸をアミド反応させたものは非常にすぐれている。
【0058】これらのo−キノンジアジド化合物は、単
独で使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と混
合し、この混合物を感光層として設けた方が好ましい。
好適なアルカリ可溶性樹脂には、ノボラック型フェノー
ル樹脂が含まれ、具体的には、フェノールホルムアルデ
ヒド樹脂、o−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−
クレゾールホルムアルデヒド樹脂などが含まれる。更に
特開昭50−125806号公報に記されている様に上
記のようなフェノール樹脂と共に、t−ブチルフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3〜8のアルキ
ル基で置換されたフェノールまたはクレゾールとホルム
アルデヒドとの縮合物とを併用すると、より一層好まし
い。アルカリ可溶性樹脂は、感光層中に約50〜約85
重量%、より好ましくは60〜80重量%、含有させら
れる。
【0059】o−キノンジアジド化合物からなる感光層
には、必要に応じて更に染料、可塑剤、プリントアウト
性能を与える成分、塗膜の均一性を向上させるための界
面活性剤などの添加剤を加えることができる。染料は、
PS版を露光および現像後に画像部が非画像部(支持体
表面)とコントラストを与えるようにする為に用いられ
るものであり、例えばC.I.26,105(オイルレッ
ドRR)、C.I.21,260(オイルスカーレット#
308)、C.I.74,350(オイルブルー)、C.
I.52,015(メチレンブルー)、C.I.42,55
5(クリスタルバイオレット)などや、特開昭62−2
93247号に記載されているようなアルコール可溶性
染料が好ましい。かかる染料は、感光性印刷版の露光お
よび現像により露出された支持体の親水性表面の色と、
感光層の残存する部分とが明確なコントラストを与える
に十分な量だけ添加すれば良く、一般的には感光性組成
物全量に対して約7重量%以下の範囲で含有させるのが
適当である。
【0060】可塑剤は支持体に設けられた感光層が所望
の可撓性を有するようにするために有効であり、例え
ば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチ
ルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフ
タレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキ
シルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベン
ジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリール
フタレートなどのフタル酸エステル類、ジメチルグリコ
ールフタレート、エチルフタリールエチルグリコレー
ト、メチルフタリールエチルグリコレート、ブチルフタ
リールブチルグリコレート、トリエチレングリコールジ
カプリル酸エステルなどのグリコールエステル類、トリ
クレジルホスフェート、トリフェニルホスフェートなど
の燐酸エステル類、ジイソブチルアジペート、ジオクチ
ルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエートなどの
脂肪族二塩基酸エステル類、ポリグリシジルメタクリレ
ート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエ
ステル、ラウリン酸ブチル等が有効である。
【0061】可塑剤は、感光性組成物全量に対して約5
重量%以下含有させられる。プリントアウト材料は、P
S版の感光層を画像露光することにより、直ちに可視画
像が観察できるようにする為のものである。例えば英国
特許第1,041,463 号明細書に記されているようなpH指示
薬、米国特許第 3,969,118号明細書に記されている様な
o−ナフトキノンジアジド−4−スルホニルクロライド
と染料との組合せ、特公昭57−6096号、特開昭6
0−138539号に記載されているような2−トリハ
ロメチル−1,3,4−オキサジアゾール化合物と染料
の組合せ、特開昭63−58440号に記載されている
ようなトリハロメチル−トリアジン化合物と染料の組合
せ、特公昭44−6413号公報に記されているフォト
クロミック化合物などがある。また、界面活性剤として
は米国特許第 3,787,351号、特開昭62−170950
号などに記載されている弗素系界面活性剤が好ましい。
更に、特開昭52−80022号公報に記されているよ
うに感光層中に環状酸無水物を加えることにより感度を
上昇させることができる。
【0062】かかるo−ナフトキノンジアジドからなる
感光性組成物は適当な溶剤の溶液から支持体上に塗布さ
れる。適当なる溶剤としてはエチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、酢酸2−メトキシエチルなどのグリコールエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
などのケトン類、エチレンジクロライド等の塩素化炭化
水素類等が含まれる。
【0063】支持体上に設けられるo−キノンジアジド
化合物からなる感光層の塗布量は約0.5〜約7g/m2
であり、より好ましくは1.5〜3g/m2 である。かく
して得られるポジ型PS版は透明原画を通してカーボン
アーク灯、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンラ
ンプ、タングステンランプなどの活性光線の豊富な光源
により露光されると、その部分はアルカリ可溶性に変
る。従って、アルカリ水溶液により、感光層の露光部分
は溶出され、支持体の親水性表面が露出される。
【0064】本発明を特徴付ける現像液および補充液は
何れもアルカリ金属ケイ酸塩を含むものである。アルカ
リ金属ケイ酸塩のアルカリ金属としては、リチウム、ナ
トリウム、カリウムが含まれるが、このうちカリウムが
最も好ましい。本発明において、最も好ましい現像液は
Si O2 /M2 Oのモル比が0.7〜1.5であって、Si
2 の濃度が1.0〜4.0重量%のアルカリ金属ケイ酸塩
の水溶液である。
【0065】また、特に好ましい補充液はSiO2 /M
2 Oのモル比が0.3〜1.0であって、SiO2 の濃度が
0.5〜4.0重量%のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液であ
る。より好ましくはモル比は0.3〜0.6であり、SiO
2 濃度は0.5〜2.0重量%である。補充液のSiO2
2 Oモル比が0.3よりも小さくなるとアルミニウム支
持体の感光層を有する側における非画像部(現像により
感光層が除去される部分)の陽極酸化皮膜の溶解が過大
になり、不溶物の生成を抑えることができない。また、
モル比が1.0以上では補充液の活性度が劣るため多くの
補充量を必要とし、本発明の目的に適さない。また、S
iO2 濃度が0.5重量%以下では不溶物が生成しやす
く、4.0重量%以上では使用済みの廃液の中和処理時多
量のシリカゲルを生じるので好ましくない。
【0066】本発明に使用される現像液および補充液に
は、更に有機溶剤を含有させてもよい。かかる有機溶剤
としては、例えばベンジルアルコール、2−ブトキシエ
タノール、トリエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、モノエタノールアミン、グリセリン、エチレングリ
コール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コールなどがある。このような有機溶剤は、本発明の現
像方法に使用される現像液中に総重量に対して5重量%
以下の範囲に維持されるような範囲で、現像液または補
充液中に含有させておくことができる。
【0067】本発明に使用される現像液または補充液に
は、更に界面活性剤を含有させることができる。これに
より現像液の処理能力(単位容積の現像液が溶解除去で
きる感光層の量)を向上させることができ、更に最適な
結果を与える現像条件(温度および処理時間など)の巾
を広げることができる。このような界面活性剤として
は、例えばドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムのよ
うなアルキルベンゼンスルホン酸塩類(該アルキル基の
炭素原子数は8〜18、より好ましくは12〜16)、
例えば、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム
のようなアルキルナフタレンスルホン酸塩類(該アルキ
ル基の炭素数は3〜10)、ナフタレンスルホン酸塩の
ホルマリン縮合物、ジアルキルスルホこはく酸塩類(該
アルキル基の炭素数は2〜18)、ジアルキルアミドス
ルホン酸塩類(該アルキル基の炭素数は11〜17)な
どのアニオン界面活性剤、イミダゾリン誘導体、例えば
N−アルキル−N,N,N−トリス(カルボキシメチ
ル)アンモニウム(該アルキル基の炭素数12〜1
8)、N−アルキル−N−カルボキシメチル−N,N−
ジヒドロキシエチルアンモニウム(該アルキル基の数は
12〜18)などのベタイン型化合物のような両性界面
活性剤、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレン
ラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエ
チレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイ
ルエーテル、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル、ポ
リオキシエチレンポリオキシプロピレンセチルエーテ
ル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンべヘニル
エーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポ
リオキシエチレンステアリルアミン、ポリオキシエチレ
ンオレイルアミン、ポリオキシエチレンステアリン酸ア
ミド、ポリオキシエチレンオレイン酸アミド、ポリオキ
シエチレンヒマシ油、ポリオキシエチレンアビエチルエ
ーテル、ポリオキシエチレンラノリンエーテル、ポリオ
キシエチレンモノラウレート、ポリオキシエチレンモノ
ステアレート、ポリオキシエチレングリセリンモノオレ
ート、ポリオキシエチレングリセルモノステアレート、
ポリオキシエチレンプロピレングリコールモノステアレ
ート、オキシエチレンオキシプロピレンブロックポリマ
ー、
【0068】ジスチレン化フェノールポリエチレンオキ
シド付加物、トリベンジルフェノールポリエチレンオキ
シド付加物、オクチルフェノールポリオキシエチレンオ
キシプロピレン付加物、グリセロールモノステアレー
ト、ソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソ
ルビタンモノラウレート等のノニオン界面活性剤、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、N−アルキルプロピレ
ンアミン、N−アルキルポリエチレンポリアミン、N−
アルキルポリエチレンポリアミンジメチル硫酸塩、アル
キルビグアニド、長鎖アミンオキシド、アルキルイミダ
ゾリン、1−ヒドロキシエチル−2−アルキルイミダゾ
リン、1−アセチルアミノエチル−2−アルキルイミダ
ゾリン、2−アルキル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チルオキサゾリン、長鎖第1アミン塩、アルキルトリメ
チルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルエチルアンモ
ニウム塩、アルキルジメチルアンモニウム塩、アルキル
ジメチルベンジルアンモニウム塩、アルキルピリジニウ
ム塩、アルキルキノリニウム塩、アルキルイソキノリニ
ウム塩、アルキルピリジニウム硫酸塩、ステアラミドメ
チルピリジニウム塩、アシルアミノエチルジエチルアミ
ン塩、アシルアミノエチルメチルジエチルアンモニウム
塩、アルキルアミドプロピルジメチルベンジルアンモニ
ウム塩、脂肪酸ポリエチレンポリアミド、アシルアミノ
エチルピリジニウム塩、アシルコラミノホルミルメチル
ピリジニウム塩、ステアロオキシメチルピリジニウム
塩、脂肪酸トリエタノールアミン、脂肪酸トリエタノー
ルアミンギ酸塩、トリオキシエチレン脂肪酸トリエタノ
ールアミン、脂肪酸ジブチルアミノエタノール、アセチ
ルオキシメチルピリジニウム塩、p−イソオクチルフェ
ノキシエトキシエチルジメチルベンジルアンモニウム塩
等のカチオン界面活性剤が挙げられる。
【0069】かかる界面活性剤の使用量は特に制限はな
いが、一般的には使用時の現像液の総重量に対して約0.
003〜約3重量%、より好ましくは0.006〜1重量
%の範囲内に維持されるように現像液および補充液中に
含有させられる。本発明に使用される現像液および補充
液には、更に、消泡剤を含有させることができる。好適
な消泡剤には、米国特許第 3,250,727号、同第3,545,97
0 号、英国特許第 1,382,901号、同第1,387,713 号など
の各明細書に記されている化合物がある。これらの内で
も有機シラン化合物は好ましい。
【0070】本発明の現像方法においては、ポジ型PS
版が処理されることによって消費された現像液中の成
分、処理されたポジ型PS版に付着して持ち出された現
像液および/または空気中の炭酸ガスにより中和された
現像液中のアルカリ成分を補償するような量の補充液が
添加される。例えば、PS版をローラーで搬送しながら
処理する自動現像機で現像する場合には、英国特許第2
046931号に記載されているように、処理されるP
S版の搬送方向の長さに比例する量の補充液を添加する
方法、処理されるPS版の面積に比例する量の補充液を
添加する方法、あるいはこれらの添加と共に、自動現像
機の現像液循環ポンプが作動している時間に比例する量
の補充液を間歇的に添加する方法が有利である。また、
米国特許第4,882,246号や欧州特許第1074
54号に記載されているように、現像液の電気伝導度又
はインピーダンスを測定し、その値に応じて補充液を添
加する方法も好ましい方法である。
【0071】どのような手段により補充液を加えるかは
ともかく、ポジ型PS版を現像することによる、および
/または経時による、現像液の成分の変化を補償するよ
うにおよび/または現像されたPS版と共に持ち出され
る量の現像液を補うように補充液が加えられる。
【0072】
【実施例】以下実施例をもって本発明を詳細に説明す
る。 実施例1、比較例1および2 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと40
0メッシュのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂
目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリ
ウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流
水で水洗後20%HNO3 で中和洗浄、水洗した。これ
をVA =12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用
いて1%硝酸水溶液中で160クーロン/dm2 の陽極時
電気量で電解粗面化処理を行った。この表面粗さを測定
したところ0.6μ(Ra表示)であった。ひきつづいて
30%のH2 SO4 水溶液中に浸漬し55℃で2分間デ
スマットした後、20%H2 SO4 水溶液中、電流密度
2A/dm2 において厚さが2.7g/m2 になるように陽
極酸化し、基板を調製した。次いで特開昭59−538
36号の実施例1に記載のポリ(アリルメタクリレート
/メタクリル酸)共重合モル比85/15のコポリマー
30重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート
20重量部および2−トリクロロメチル−5−(p−n
−ブトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール
2.4重量部をエチレングリコールモノメチルエーテル1
00重量部、メチルエチルケトン100重量部に溶解し
たバックコート液を準備した。先の基板の裏面にこのバ
ックコート液を、乾燥重量にして0.2g/m2 となるよ
うに塗布乾燥した後、5KWメタルハライドランプにて
10秒間全面曝光した。
【0073】次に、米国特許第 3,635,709号明細書の実
施例1に記載されているアセトンとピロガロールの縮重
合により得られるポリヒドロキシ化合物のナフトキノン
−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル1重量部
とノボラック型フェノールホルムアルデヒド樹脂2重量
部およびオイルブルー#603(オリエント化学工業
(株)製)0.02重量%とを20重量部の酢酸−2−メ
トキシエチルと20重量部のメチルエチルケトンに溶解
して感光液を調製した。
【0074】この感光液を先のバックコート層を設ける
前の基板およびバックコート層を設けた基板それぞれの
砂目立てした面に乾燥後の重量にして、2.5g/m2
なるように塗布乾燥し、それぞれ感光性平版印刷版A,
Bを得た。このようにして得られた感光性平版印刷版A
およびBを1310mm×1050mmの大きさに裁断した
ものを多数枚用意し、これらに原稿フィルムを通して1
mの距離から3KWのメタルハライドランプを用いて、
60秒間露光した。
【0075】次に浸漬型現像槽を有する市販の自動現像
機PS−900D(富士写真フィルム(株)製)の現像
槽に表1の組成のケイ酸カリウム水溶液と、N−アルキ
ル−N,N−ジヒドロキシエチルベタイン両性界面活性
剤を0.04重量%からなる現像液を仕込み、前述の露光
済みの感光性平版印刷版AおよびBを1日当り30版づ
つ、1ヶ月間ランニング処理した。尚、この間感光性平
版印刷版の処理および空気中の炭酸ガスによる現像液活
性度の低下をPS−900Dに内蔵されている電導度セ
ンサーで検出し、コンピューターによるフィードバック
方式で、それぞれ表1に示した補充液を補充して現像液
の活性度を一定に保った。活性度チェックはステップタ
ブレット(1段の光学濃度差が0.15で15段のもの)
を用いて段階的に光量を変化させて前記の感光性平版印
刷版に焼き付けたものを現像し、その版上の光量に対応
して残った画像の段数を読み取り、処理開始時のステッ
プタブレットの段数と比較することによって行った。
【0076】 表 1 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例1 比較例2 実施例1 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 感光性平版印刷版 A A B ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 現像液組成 [SiO2]/ [K2O ]比 1.2 1.2 1.2 SiO2(重量%) 1.5 1.5 1.5 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 補充液組成 [SiO2]/ [K2O ]比 1.2 0.45 0.45 SiO2(重量%) 3.1 0.98 0.98 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ランニングを通 しての平均補充量 83cc/m2 42cc/m2 42cc/m2 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 同 上 ±0.5 段 +2.5 段 ±0.5 段 活性度の変動 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 多 い 不溶物の発生 少しあり スフ゜レーノ目 無 し 詰マリ有リ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【0077】表1に、用いた補充液の組成と、ランニン
グ処理した結果を示したが、本発明の補充液とバックコ
ート層を組み合わせた場合は補充量が約1/2になり、し
かも不溶解物が発生せず、安定した処理ができた。また
バックコート層も処理中に溶解したり、傷がつくような
ことはなかった。それに対して従来法(比較例1)では
不溶解物によるトラブルは軽微であったが、補充量が多
くランニングコストがかさんだだけでなく、多量の廃液
処理を必要とした。また比較例2のように補充液の活性
度を上げるだけでは補充量は減らせるが、不溶物による
印刷版の汚れ、スプレーやフィルターの目詰まり、ロー
ラーへの白色沈着物の付着等のトラブルが発生し、また
現像液の活性度も安定しなかった。
【0078】実施例2、比較例3および4 米国特許第 3,635,709号明細書の実施例1に記載されて
いるアセトンとピロガロールの縮重合により得られるポ
リヒドロキシ化合物のナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルホン酸エステル1重量部とノボラック型フェ
ノールホルムアルデヒド樹脂2重量部を20重量部の酢
酸−2−メトキシエチルと20重量部のメチルエチルケ
トンに溶解して感光液を調製した。厚さ0.3mmの片面が
砂目立てされたアルミニウム板を硫酸中で陽極酸化し、
約3g/m2 の酸化皮膜をつくりよく洗浄した後乾燥
し、砂目立てされた側に上記感光液を塗布乾燥し、約2.
5g/m2 の感光層を有するポジ型感光性平版印刷版C
を得た。次いでポリウレタン樹脂(商品名エスタン#5
715、モンサント社製)0.2重量部を16重量部のエ
チレングリコールモノメチルエーテルと24重量部のメ
チルエチルケトンに溶解したバックコート液を準備し
た。先の感光性平版印刷版Cと全く同様に作成した感光
性平版印刷版の支持体の裏面にこのバックコート液を、
乾燥重量にして0.2g/m2 となるように塗布、乾燥
し、感光性平版印刷版Dとした。このようにして得られ
た感光性平版印刷版CおよびDを1310mm×1050
mmの大きさに裁断したものを多数枚用意し、これらに原
稿フィルムを通して1mの距離から3KWのメタルハラ
イドランプを用いて、60秒間露光した。
【0079】次に浸漬型現像槽を有する市販の自動現像
機PS−900D(富士写真フィルム(株)製)の現像
槽に、表2の組成の、ケイ酸カリウム水溶液と、N−ア
ルキル−N,N−ジヒドロキシエチルベタイン両性界面
活性剤を0.04重量%含む現像液を仕込み、前述の露光
済みの感光性平版印刷版CおよびDを1日当り30版づ
つ、1ヶ月間ランニング処理した。尚、この間感光性平
版印刷版の処理および空気中の炭酸ガスによる現像液活
性度の低下をPS−900Dに内蔵されている電導度セ
ンサーで検出し、コンピューターによるフィードバック
方式で、それぞれ表2に示した補充液を補充して現像液
の活性度を一定に保った。活性度チェックはステップタ
ブレット(1段の光学濃度差が0.15で15段のもの)
を用いて段階的に光量を変化させて前記の感光性平版印
刷版に焼き付けたものを現像し、その版上の光量に対応
して残った画像の段数を読み取り、処理開始時のステッ
プタブレットの段数と比較することによって行った。
【0080】 表 2 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例3 比較例4 実施例2 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 感光性平版印刷版 C C D ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 現像液組成 [SiO2]/ [K2O ]比 1.2 1.2 1.2 SiO2(重量%) 1.5 1.5 1.5 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 補充液組成 [SiO2]/ [K2O ]比 1.2 0.45 0.45 SiO2(重量%) 3.1 0.98 0.98 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ランニングを通 しての平均補充量 83cc/m2 42cc/m2 42cc/m2 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 同 上 ±0.5 段 +2.5 段 ±0.5 段 活性度の変動 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 多 い 不溶物の発生 少しあり スフ゜レーノ目 無 し 詰マリ有リ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【0081】表2に、用いた補充液の組成と、ランニン
グ処理した結果を示したが、本発明の補充液とバックコ
ート層を組み合わせた場合は補充量が約1/2になり、し
かも不溶解物が発生せず、安定した処理ができた。また
バックコート層も処理中に溶解したり、傷がつくような
ことはなかった。それに対して従来法(比較例3)では
不溶解物によるトラブルは軽微であったが、補充量が多
くランニングコストがかさんだだけでなく、多量の廃液
処理を必要とした。また比較例4のように補充液の活性
度を上げるだけでは補充量は減らせるが、不溶物による
印刷版の汚れ、スプレーやフィルターの目詰まり、ロー
ラーへの白色沈着物の付着等のトラブルが発生し、また
現像液の活性度も安定しなかった。
【0082】
【発明の効果】本発明方法によれば、現像液の補充量を
低減することができ、長期間、多量の感光性平版印刷版
を処理しても不溶物が生成せず、またバックコート層が
処理中に溶解したり傷がつくようなこともなく、安定し
た現像処理を行うことができる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持
    体の片面に感光層を有する感光性平版印刷版を画像露光
    し、次いでアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液を含む現像液
    で現像する方法であって、該現像による該現像液の変化
    をアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液を含む補充液を該現像
    液に加えることによって補償する平版印刷版の製造方法
    において、該感光性平版印刷版が感光層を有する面の反
    対側の面に有機高分子化合物を含む被覆層を有し、かつ
    該現像補充液が[SiO2 ]/[M2 O]比(但し、
    [SiO2 ]はSiO2のモル濃度mol/1、[M2
    O]はアルカリ金属Mの酸化物M2 Oのモル濃度mol
    /1を示す)が0.3〜1.0であって、SiO2 が0.5〜
    4.0重量%のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液であること
    を特徴とする平版印刷版の製造方法。
  2. 【請求項2】 有機高分子化合物が光および/または熱
    により硬化したものである請求項1記載の製造方法。
JP3307491A 1990-11-28 1991-11-22 平版印刷版の製造方法 Pending JPH052271A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2-327111 1990-11-28
JP32711190 1990-11-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH052271A true JPH052271A (ja) 1993-01-08

Family

ID=18195419

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3307491A Pending JPH052271A (ja) 1990-11-28 1991-11-22 平版印刷版の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5480762A (ja)
EP (1) EP0490515B1 (ja)
JP (1) JPH052271A (ja)
CA (1) CA2056302C (ja)
DE (1) DE69127958T2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0726498A1 (en) 1995-02-10 1996-08-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
JP2018537407A (ja) * 2015-10-06 2018-12-20 ダウ アグロサイエンシィズ エルエルシー クラウンエーテル触媒を利用した、置換クロロアシラールを用いたピコリンアミドのアルキル化

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5635328A (en) * 1993-08-21 1997-06-03 Konica Corporation Light-sensitive lithographic printing plate utilizing o-quinone diazide light-sensitive layer containing cyclic clathrate compound
EP0732628A1 (en) * 1995-03-07 1996-09-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aqueous alkaline solution for developing offset printing plate
US5820987A (en) * 1996-08-21 1998-10-13 Ppg Industries, Inc. Cationic electrocoating compositions, method of making, and use
US5766826A (en) * 1996-10-11 1998-06-16 Eastman Kodak Company Alkaline developing composition and method of use to process lithographic printing plates
US5897985A (en) * 1996-10-11 1999-04-27 Kodak Polychrome Graphics, Llc Potassium silicate developing composition and method of use to process lithographic printing plates
GB9707930D0 (en) * 1997-04-18 1997-06-04 Du Pont Uk Presensitised printing plates
US5811221A (en) * 1997-05-30 1998-09-22 Kodak Polychrome Graphics, Llc Alkaline developing composition and method of use to process lithographic printing plates
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
US5998102A (en) * 1997-10-06 1999-12-07 Agfa Corporation Etch inhibitors in developer for lithographic printing plates
US6399279B1 (en) * 1998-01-16 2002-06-04 Mitsubishi Chemical Corporation Method for forming a positive image
DE19845605A1 (de) 1998-10-05 2000-04-06 Agfa Gevaert Ag Konzentrat und daraus hergestellter wäßriger Entwickler für bildmäßig bestrahlte Aufzeichnungsmaterialien
DE19908529A1 (de) 1999-02-26 2000-08-31 Agfa Gevaert Ag Pigmentiertes und rückseitenbeschichtetes Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Offsetdruckplatten
DE60000470T2 (de) * 1999-07-13 2004-05-06 Basf Drucksysteme Gmbh Flexodruckelement mit einer durch IR Bestrahlung ablativen, hochempfindlichen Schicht
US6361923B1 (en) * 1999-08-17 2002-03-26 International Business Machines Corporation Laser ablatable material and its use
US6420081B1 (en) 2000-05-05 2002-07-16 Agfa-Gevaert Process for the production of back-coating recording material for the production of offset printing plates
EP1156370A1 (en) * 2000-05-05 2001-11-21 Agfa-Gevaert Process for the production of back-coated recording material for the production of offset printing plates
DE10029157A1 (de) * 2000-06-19 2001-12-20 Agfa Gevaert Nv Vorsensibilisierte Druckplatte mit Rückseitenbeschichtung
EP1204003B1 (en) * 2000-11-03 2008-07-23 Kodak Graphic Communications GmbH Process for developing exposed radiation-sensitive printing plate precursors
US6391530B1 (en) 2000-11-03 2002-05-21 Kodak Polychrome Graphics, Llc Process for developing exposed radiation-sensitive printing plate precursors
DE10063591A1 (de) 2000-12-20 2002-07-11 Agfa Gevaert Nv Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit strukturierter Rückseite
DE10110728A1 (de) 2001-03-06 2002-10-02 Agfa Gevaert Nv Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit elektrisch leitfähiger Rückseitenbeschichtung
JP4268345B2 (ja) * 2001-04-20 2009-05-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体
JP4230130B2 (ja) * 2001-07-04 2009-02-25 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法
US20050076801A1 (en) * 2003-10-08 2005-04-14 Miller Gary Roger Developer system
US7078162B2 (en) * 2003-10-08 2006-07-18 Eastman Kodak Company Developer regenerators
US20050082172A1 (en) * 2003-10-21 2005-04-21 Applied Materials, Inc. Copper replenishment for copper plating with insoluble anode
JP2005234118A (ja) 2004-02-18 2005-09-02 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4593419B2 (ja) * 2005-09-26 2010-12-08 富士フイルム株式会社 赤外線感光性平版印刷版原版
US7704675B2 (en) * 2006-11-09 2010-04-27 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor and stack thereof
US20080299491A1 (en) * 2007-05-31 2008-12-04 Miller Gary R Highly alkaline developer composition and methods of use
US7883833B2 (en) 2007-06-20 2011-02-08 Eastman Kodak Company Use of highly alkaline developer regenerator composition
US20090095183A1 (en) * 2007-10-16 2009-04-16 Fromson Howard A Printing plates with permanent resin laminated interleaf
US8846981B2 (en) 2012-01-30 2014-09-30 Southern Lithoplate, Inc. 1,1-di[(alkylphenoxy)ethoxy]cyclohexanes
US8632943B2 (en) 2012-01-30 2014-01-21 Southern Lithoplate, Inc. Near-infrared sensitive, positive-working, image forming composition and photographic element containing a 1,1-di[(alkylphenoxy)ethoxy]cyclohexane
WO2013134380A1 (en) * 2012-03-06 2013-09-12 Anocoil Corporation Method of developing a lithographic printing plate including post treatment
CN102929102B (zh) * 2012-10-31 2014-05-21 京东方科技集团股份有限公司 一种深紫外化学增幅型正性光致抗蚀剂

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE793979A (fr) * 1972-01-15 1973-07-12 Kalle Ag Procede pour produire des cliches pour l'impression a plat et matiere pour de tels cliches
US4259434A (en) * 1977-10-24 1981-03-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for developing positive acting light-sensitive planographic printing plate
US4550073A (en) * 1982-04-22 1985-10-29 E. I. Du Pont De Nemours And Company Overcoated photohardenable element having surface protuberances
DE3406101A1 (de) * 1984-02-21 1985-08-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern
AU7842887A (en) * 1986-09-18 1988-03-24 Napp Systems (U.S.A.) Inc. Photopolymer printing plate with matte surface
JP2639693B2 (ja) * 1988-06-17 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版の現像処理方法
JPH0240657A (ja) * 1988-07-30 1990-02-09 Konica Corp 感光性平版印刷版
DE69220433T2 (de) * 1991-08-19 1997-10-16 Fuji Photo Film Co Ltd Vorsensibilisierte Platte zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0726498A1 (en) 1995-02-10 1996-08-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
JP2018537407A (ja) * 2015-10-06 2018-12-20 ダウ アグロサイエンシィズ エルエルシー クラウンエーテル触媒を利用した、置換クロロアシラールを用いたピコリンアミドのアルキル化

Also Published As

Publication number Publication date
CA2056302C (en) 2002-01-08
DE69127958T2 (de) 1998-02-12
CA2056302A1 (en) 1992-05-29
DE69127958D1 (de) 1997-11-20
EP0490515A1 (en) 1992-06-17
US5480762A (en) 1996-01-02
EP0490515B1 (en) 1997-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH052271A (ja) 平版印刷版の製造方法
US6881532B2 (en) Method of processing light sensitive planographic printing plate precursor and pre-washing solution used in the method
JP2007310057A (ja) 感光性組成物、感光性平版印刷版材料、及びそれらの製造方法
US6794120B2 (en) Method of processing light sensitive planographic printing plate precursor
WO2010004778A1 (ja) 平版印刷版材料用の現像液および平版印刷版材料
JP4152559B2 (ja) ネガ型感光性平版印刷版
JP2004191472A (ja) 感光性組成物および感光性平版印刷版
JP2009229499A (ja) 感光性平版印刷版材料および平版印刷版材料の製版方法
JP2008129132A (ja) 感光性平版印刷版材料
JP2004205622A (ja) 感光性組成物、感光性平版印刷版材料及び画像形成方法
JPH06202312A (ja) 感光性平版印刷版
JP4419682B2 (ja) 感光性平版印刷版の製版方法
WO2010001631A1 (ja) 平版印刷版材料
JP2005331802A (ja) 感光性平版印刷版の製版方法
JP2007322618A (ja) 感光性平版印刷版材料の現像液及び製版方法
JP2004198781A (ja) 感光性組成物及び平版印刷版材料、並びに平版印刷版材料の処理方法、画像形成方法
JP2004004275A (ja) 感光性平版印刷版材料の処理方法および現像液
JP2008175873A (ja) 感光性平版印刷版材料
JP2004077790A (ja) 感光性平版印刷版材料及びその処理方法
JP2003228175A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法と感光性平版印刷版の現像液
JP2006072183A (ja) 平版印刷版材料
JP2006195335A (ja) 感光性平版印刷版材料の製版方法及び感光性平版印刷版材料用現像液
JP2009015115A (ja) 感光性組成物、それを用いた感光性平版印刷版材料及びその処理方法、並びに感光性平版印刷版
JP2008203404A (ja) アルカリ性現像処理廃液の処理方法
JP2007047376A (ja) 感光性平版印刷版材料