CN1472597A - Ir烧蚀用层压体 - Google Patents

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二
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Abstract

一种IR烧蚀用层压体，至少具有基材及IR烧蚀层，其特征在于：上述烧蚀层包括IR吸收性金属层。并且通过在该层压体上设置防粘连层及脱模层，而使制版性及使用性良好。该IR烧蚀用层压体，可得到比现行高档次的印刷图像、减少显影液的污染、并且可应用到各种感光性树脂层。

Description

IR烧蚀用层压体
技术领域
本发明涉及一种在通过计算机制版技术制造凸版印刷版或浮雕版时所使用的IR烧蚀用层压体。
背景技术
近年来，在凸版或苯胺印刷领域，作为数字图像形成技术而公开的计算机制版技术(Computer To Plate(CTP))，已是极其普通的。在CTP技术中，为了遮覆感光性印刷版的不应进行聚合的区域而现行使用的相片掩膜(也称作光掩膜或底片)被取代为在印刷版内整合形成的掩膜。作为用于得到这样的整合掩膜的方法，在市场上存在2种技术。一种是在感光性印刷底版上利用喷墨打印机印刷掩膜的方法，另一种是在感光层上设置对于紫外线完全不透明(即，确实不通过紫外线)、且通过IR激光的照射可消融的层(该层一般被称为“IR烧蚀层”或“红外烧蚀层”等，在本说明书中称为“IR烧蚀层”。)，并在该层上由IR激光形成图像来形成掩膜的方法。通过使用这些技术，图像(掩膜)被直接形成在版上，并在接下来的工序中经过这些图像(掩膜)照射紫外线，以实现制版。
此外，CTP技术不但具有无需底片的便利性，与使用底片的现行技术相比能得到非常高的分辨率。相对于这种CTP技术的现行技术的优势性的详细讨论，如“Deutsher Drucker，Nr.21/3.6.99，w12·w16页”中所述。
但是，在具有上述IR烧蚀层的感光性印刷底版中，在IR烧蚀层中，一般地，使用在高分子胶粘剂中含有大量碳黑的组合物。另外，通常在IR烧蚀层上进行底版的保存或处理时，为了保护IR烧蚀层而设置有保护膜，该保护膜在IR激光照射前或IR激光照射后(通常，主曝光后、显影前的时候)进行除去。但是，实施IR烧蚀后，利用紫外线进行主曝光，在由显影液进行显影时碳黑易移入显影液中污染显影液，而必须对每次制版作业更换显影液，这是印刷成本上升的一个原因。
另外，在进行设置IR烧蚀层加工时，在保护膜(在本发明中也称为基材)的与IR烧蚀层的相反一侧产生粘连，生产率差，也对加工后的质量产生不好的影响。
并且，在IR激光照射前或IR激光照射后(通常，主曝光后、显影前的时刻)除去保护膜(基材)时，一部分IR烧蚀层也随之除掉，而产生不能得到高档次的印刷图像的缺点。
因此，希望实现一种解决上述现行的问题，获得高档次的印刷图像、且可减少显影液的污染的、及可应用到各种感光性树脂层上的IR烧蚀层用层压体。
发明内容
本发明鉴于上述问题点，其目的在于提供一种得到比现行档次高的印刷图像、可减少显影液的污染、并且可应用到各种感光性树脂层的IR烧蚀层用层压体。
本发明者等为了解决上述目的而专心研究的结果，终于实现了本发明。即，本发明，(1)是一种IR烧蚀用层压体，是至少具有基材及IR烧蚀层的烧蚀用层压体，其特征在于：上述烧蚀层包括IR吸收性金属层层压体。(2)是上述(1)所述的IR烧蚀用层压体，其特征在于：IR吸收性金属层为金属镀膜层。(3)是上述(1)所述的IR烧蚀用层压体，其特征在于：在基材的与IR烧蚀层相反的一侧具有防粘连层。(4)是上述(1)所述的IR烧蚀用层压体，其特征在于：在基材与IR烧蚀层之间具有脱模层。(5)是上述(1)所述的IR烧蚀用层压体，其特征在于：防粘连层或脱模层含有热固化性树脂。(6)是上述(1)所述的IR烧蚀用层压体，其特征在于：防粘连层或脱模层含有醇酸树脂。(7)是上述(1)所述的IR烧蚀用层压体，其特征在于：在基材与IR吸收性金属层之间具有非IR敏感性高分子树脂层。(8)是上述(4)所述的IR烧蚀用层压体，其特征在于：在脱模层与IR吸收性金属层之间具有非IR敏感性高分子树脂层。
附图说明
图1是表示本发明IR烧蚀用层压体的实施例1的模式剖视图。
图2是表示本发明IR烧蚀用层压体的实施例2的模式剖视图。
图3是表示本发明IR烧蚀用层压体的实施例3的模式剖视图。
图4是表示本发明IR烧蚀用层压体的实施例4的模式剖视图。
图5是表示将图1中所示的IR烧蚀用层压体应用到感光性树脂版上的模式剖视图。
图6是表示将图2中所示的IR烧蚀用层压体应用到感光性树脂版上的模式剖视图。
图7是表示将图3中所示的IR烧蚀用层压体应用到感光性树脂版上的模式剖视图。
图8是表示将图4中所示的IR烧蚀用层压体应用到感光性树脂版上的模式剖视图。
图中：1-基材，2-非IR敏感性高分子树脂层，3-IR吸收性金属层(IR烧蚀层)，4-防粘连层，5-脱模层，6-感光性树脂层，7-支撑体。
具体实施方式
图1是表示本发明IR烧蚀用层压体的一实施例的模式剖视图，由基材1、非IR敏感性高分子树脂层2及为IR烧蚀层的IR吸收性金属层3构成，图2是表示进一步具有防粘连层4的本发明IR烧蚀用层压体的一实施例的模式剖视图，图3是表示具有脱模层5的本发明IR烧蚀用层压体的一实施例的模式剖视图，图4是表示同时具有防粘连层4及脱模层5的本发明IR烧蚀用层压体的一实施例的模式剖视图。
另外，作为将本发明IR烧蚀用层压体应用到感光性树脂版上的实例，图5是表示将图1中所示的IR烧蚀用层压体原样层压到感光性树脂层6上的样式的模式剖视图，图6是表示将图2中所示的IR烧蚀用层压体原样进行层压的样式的模式剖视图，图7是表示将图3中所示的IR烧蚀用层压体原样进行层压的样式的模式剖视图，图8是表示将图4中所示的IR烧蚀用层压体原样进行层压的样式的模式剖视图。
本发明的IR烧蚀层是包含IR吸收性金属的烧蚀层，所谓“IR吸收性金属”是指吸收IR能够被消融的金属、合金或含金属的化合物，这里的合金不但包括2种以上的金属元素的熔合物，也包括在含有2种以上的金属元素基础上又含有除金属元素以外的元素的熔合物。另外，“IR吸收性金属”也可使用1种材料或2种以上的材料。
作为上述金属的优选优选例，可以列举出Al、Zn、Cu。另外，作为上述合金的优选例，可以列举出从Ca、Sc、Tl、V、Sb、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、Mo、Ag、In、Sn、Ta、W、Au、Bi、及Pb中选择的2种以上的金属的合金、或在所需的2种以上金属元素基础上又含有非金属元素(碳元素、硅元素等)及/或稀土类元素(Nd、Sm、Gd、Tb等)的合金。另外，作为含金属的化合物，只要是能吸收IR进行消融的，可使用金属氧化物、金属氮化物等各种化合物，但其中，优选亚铬酸铜、氧化铬、铝酸钴一铬等暗色无机颜料。
此外，从防止IR烧蚀层的损坏或损伤(膜强度)的方面看，IR吸收性金属优选使用金属或合金，特别优选Al、Zn、Cu、Bi-In-Cu合金，尤其优选Al。
在本发明中，作为优选例使用的防粘连层被设在基材(在本发明中也称为保护膜)的与IR粘连层相反的一侧。防粘连层通过在辊状的基材上加工而设置，在其次的工序中设置有非IR敏感性层或IR烧蚀层。此时，由于存在上述防粘连层，而防止呈辊状态的非IR敏感性层与保护膜的紧密粘着，能够提高之后的IR烧蚀层的加工性。
另外，在本发明中，其特征是作为优选例使用的脱模层设在基材(保护膜)与IR烧蚀层之间，优选脱模层直接邻接设在基材上。脱模层通过在辊状的基材上加工而设置，在其次的工序中设置非IR敏感性层或IR烧蚀层。
此外，在本发明中，优选同时设置上述防止粘连层和脱模层。
本发明的防粘连层或脱模层优选使用热固化性树脂。作为热固化性树脂，可以为醇酸树脂、三聚氰胺树脂、脲树脂、苯并二氨基三嗪树脂、乙二醇月桂基树脂、及环氧树脂等单体或混合物。优选由饱和脂肪酸进行改性的醇酸树脂，更优选由饱和脂肪酸进行改性的醇酸树脂与三聚氰胺甲醛树脂的混合物。作为改性醇酸树脂的饱和脂肪酸，可使用十四烷酸、十六烷酸、硬脂酸、及正二十二烷酸等。由脂肪酸进行改性的醇酸树脂与三聚氰胺甲醛树脂的混合比率，优选重量比为100/0～5/95。更优好重量比为100/0～15/85。在仅使用三聚氰胺甲醛树脂的情况下，与在卷成辊状时接触的IR吸收性金属层的粘着性变大，IR吸收性金属层产生浮起，因不能得到良好的感光性树脂层压体而不理想。
并且，作为本发明的脱模层，可为含有固化型硅酮树脂的类型，也可为以固化型硅酮树脂为主成分的类型，也可以使用基于与聚氨酯树脂、环氧树脂、醇酸树脂等有机树脂的接枝聚合等而改性的硅酮类型等。作为固化型硅酮树脂的种类，加成型、缩合型、紫外线固化型、电子射线固化型、无溶剂型等任一固化反应类型均可使用。具体举例，可列举信越化学工业社制KS-774、KS-775、KS-778、KS-779H、KS-856、X-62-2422、X-62-2461、Dow Cornig Asia社制DKQ3-202、DKQ3-203、DKQ3-204、DKQ3-205、DKQ3-210、东芝硅酮社制YSR-3022、TPR-6700、TPR-6720、TPR-6721、Toray Dow Corning社制SD7223、SD7226、SD7229、LTC750A等。并且为了调整脱模层的剥离性等也可一并使用剥离调节剂。
另外，根据需要，在防粘连层或脱模层中也可含有润滑剂及防静电剂等。
作为将本发明的防粘连层或脱模层设在基材(保护膜)上的方法，可以列举出涂布法等但也可采用其他方法。例如，可以列举出使用逆辊涂布机、照相凹版涂布机、棒材涂布机、气动刮涂机(参照原崎勇次著、槙书店、1979年发行的“涂覆方式”)或除此之外的涂布装置，在保护膜制造工序外进行涂上涂布液的方法、或在保护膜制造工序内进行涂布的方法等。作为在保护膜制造工序内进行涂布的方法，包括在一般的热塑性树脂未拉伸的薄膜上涂上涂布液，并依次或同时进行双向拉伸的方法；在单向拉伸的热塑性树脂薄膜上进行涂布，并沿与前面单向拉伸方向呈直角的方向进行拉伸的方法；或在双向拉伸的热塑性树脂薄膜上进行涂布，并沿横方向及/或纵方向进行拉伸的方法等。
上述防粘连层或脱模层的厚度优选0.01～10μm的范围，进一步优选0.05～5μm范围。在该层的厚度不足0.01μm时，因难以得到均匀的层而未实现防粘连效果或脱模效果。另一方面，在超过10μm时，往往热固化树脂的固化不充分而不能实现防粘连效果或脱模效果，因此不理想。
其次，作为本发明的非IR敏感性高分子树脂层的构成材料，可列出聚酰胺、聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯醇、聚丙烯酸、聚氧化乙烯、两性异分子聚合物、烷基纤维素、纤维素类聚合物(尤其，羟丙基纤维素、羟乙基纤维素、硝酸纤维素)、乙烯与醋酸乙烯酯的共聚物、乙酰丁酸纤维素、聚丁醛、环状橡胶等。其中无论单独使用任1种还是将2种以上并用均可。此外，两性异分子聚合物如美国专利第4293635号所记载。
在上述例示的材料中，基于可在水或水性介质中显影或发生皱折等的考虑，在本发明中，列举出聚乙烯醇、改性聚乙烯醇、聚丙烯酸、及聚氧化乙烯，其中最好是聚合度为500～4000、优选1000～3000且皂化度为70％以上、优选80～99％、进一步优选80～90％的聚乙烯醇或改性聚乙烯醇。在此，所谓改性聚乙烯醇，是指使能与聚乙烯醇的羟基反应的化合物(例如，具有羧基、双键、芳香环等的化合物)发生二次反应、或将醋酸乙烯与其他的乙烯单体的共聚体进行碱化并且从而在末端或主链中引入羧基、羰基、聚环氧烷基、乙酰乙酰基、磺基、硅硫醇基。
在本发明中，IR烧蚀层完全不能透过紫外线(活性光线)。即，对于活性光线的光学浓度的值超过2.5，最好超过3.5。
为了得到具有上述光学浓度，而IR吸收性金属层3的厚度优选70～20000，进一步优选100～8000，特别优选100～5000。若厚度不足70，则因IR烧蚀后的掩膜的功能差而不理想，另外，若超过20000，则因在图像形成用的IR中难以进行烧蚀(消融)而不理想。
另一方面，在由IR吸收性金属层3与其他的IR吸收性物质构成IR烧蚀层时，IR吸收性金属层3的厚度优选50～15000，进一步优选70～8000，特别优选100～5000。若厚度不足50，则因IR烧蚀后的掩膜的功能差而不理想，另外，若超过15000，则因在图像形成用的IR中难以进行烧蚀(消融)而不理想。
其次在将本发明的IR烧蚀用层压体应用到感光性树脂版上时，将图1～图4所示的IR烧蚀用层压体原样层压在感光性树脂层6上，只要在感光性树脂层6上进行层压即可。
上述感光性树脂层6，是至少包括含有弹性胶粘剂的公知可溶性合成高分子化合物、光聚合不饱和化合物(以下，也称为交联剂)及光聚合引发剂混合物的层。并且，也可含有诸如增塑剂、热聚合防止剂、染料、颜料、紫外线吸收剂、香料或抗氧化剂等添加剂。
作为上述可溶性合成高分子化合物，可使用公知的可溶性合成高分子化合物。例如可以列举出聚醚酰胺(例如，特开昭55-79437号公报等)、聚醚酯酰胺(例如，特开昭58-113537号公报等)、含有叔氮的聚酰胺(例如，特开昭50-76055号公报等)、含有铵盐型叔氮原子的聚酰胺(例如，特开昭53-36555号公报等)、具有1个以上的酰胺键的酰胺化合物与有机二异氰酸盐化合物的加聚物(例如，特开昭58-140737号公报等)、和不具有酰胺键的联氨与有机二异氰酸盐化合物的加聚物(例如，特开平4-97154号公报等)等，其中优选含有叔氮的聚酰胺及含有铵盐型叔氮原子的聚酰胺。
另外，弹性胶粘剂，无论为单一的聚合物、还是为聚合物的混合物均可。另外，为疏水性聚合物、亲水性聚合物、疏水性聚合物与亲水性聚合物的混合物均可。作为疏水性聚合物，适合为丁二烯橡胶、异戊橡胶、1，2-聚丁二烯，苯乙烯-丁二烯橡胶、氯丁二烯橡胶、丁腈橡胶、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯的嵌段共聚物、苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯的嵌段共聚物、丁基橡胶、苯乙烯-丙烯橡胶、氯磺化聚乙烯、丁二烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、丙烯腈-(甲基)丙烯酸酯共聚物、环氧氯丙烷橡胶、氯代聚乙烯、硅酮橡胶、及聚氨酯橡胶。其中它们分别单独使用或2种以上并用均可。作为亲水性聚合物，最好为具有-COOH、-COOM(M为1价、2价或3价的金属离子、或取代的或无取代的铵离子)、-OH、-NH2、-SO3H、磷酸酯基等亲水基的聚合物，具体的讲，可以列举出(甲基)丙烯酸或其盐类的聚合物、(甲基)丙烯酸或其盐类与(甲基)丙烯酸烷基酯的共聚物、(甲基)丙烯酸或其盐类与苯乙烯的共聚物、(甲基)丙烯酸或其盐类与醋酸乙烯酯的共聚物、(甲基)丙烯酸或其盐类与丙烯腈的共聚合物、聚乙烯醇、羧甲基纤维素、聚丙烯酰胺、羟乙基纤维素、聚环氧乙烷、聚乙烯亚胺、具有-COOH基的聚氨酯、具有-COOM基的聚脲氨酯、具有-COOM基的聚酰胺酸及其盐类或衍生物。它们分别单独使用或2种以上并用均可。
另外，在上述中，作为适用的光聚合性的不饱和化合物，为多元醇的聚缩水甘油醚、甲基丙烯酸及丙烯酸的开环加成反应生成物，作为上述多元醇，可以列举出二季戊四醇、季戊四醇、三羟甲基丙烷、甘油、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、邻苯二甲酸的乙烯氧化加成物等，其中最好为三羟甲基丙烷。
在可溶性合成高分子化合物为弹性胶粘剂时，作为适用的光聚合不饱和化合物，为可用于聚合性印刷版的制造且与弹性胶粘剂相溶的惯用的能聚合的乙烯性单体或聚合的不饱合有机化合物。作为这类化合物的实例，可列举出苯乙烯、乙烯基甲苯、叔丁基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、丙烯腈、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸十二烷酯、(甲基)丙烯酸正十三烷酯、(甲基)丙烯酸十八烷酯、乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单甲基醚单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单甲基醚单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单乙基醚单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单乙基醚单(甲基)丙烯酸酯、正丁氧乙基(甲基)丙烯酸酯、苯氧乙基(甲基)丙烯酸酯、2-苯氧丙基(甲基)丙烯酸酯、环已基(甲基)丙烯酸酯、四氢糠基(甲基)丙烯酸酯、环氧丙基(甲基)丙烯酸酯、烯丙基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯、三溴苯基(甲基)丙烯酸酯、2，3-二氯丙基(甲基)丙烯酸酯、3-氯-2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、N，N-二乙基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、N，N-二甲基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、N-叔丁基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、丙烯基酰胺、N，N-二甲基氨基酰胺、N，N-二乙基氨基酰胺、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，3-丁二醇(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，12-十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，14-十四烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、甘油芳氧基二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二环戊基二亚甲基二(甲基)丙烯酸酯、二环十五烷二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二基二甲基二(甲基)丙烯酸酯、三烯丙基氰酯、三烯丙基异氰酯、三烯丙基三苯六甲酸酯、邻苯二甲酸二烯丙酯、二乙烯基苯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、低聚丁二烯(甲基)丙烯酸酯、低聚异戊间二烯(甲基)丙烯酸酯、低聚丙丙烯(甲基)丙烯酸酯等。它们单独使用任1种、或2种以上并用均可。
作为光引发剂的例子，可列举出苯酮类、苯甲酰苯基甲醇类、苯乙酮类、二苯甲酰类、苯甲酰苯基甲醇烷基醚类、苄基烷基缩酮类、蒽醌类、硫杂蒽酮类等。具体地讲，可列举出如苯酮、氯苯酮、苯甲酰苯基甲醇、苯乙酮、二苯甲酰、苯甲酰苯基甲醇甲基醚、苯甲酰苯基甲醇乙基醚、苯甲酰苯基甲醇异丙基醚、苯甲酰苯基甲醇异丁基醚、苄基二甲基缩酮、苄基二乙基缩酮、苄基二异丙基缩酮、蒽醌、2-乙基蒽醌、2-甲基蒽醌、2-烯丙基蒽醌、2-氯蒽醌、硫杂蒽酮、2-氯硫杂蒽酮等。它们单独使用任1种、或2种以上并用均可。
此外，本发明的感光性树脂层，除可溶性合成高分子化合物、聚合性化合物及光引发剂外，也可包含添加剂例如增塑剂、热聚合防止剂、染料、防氧化剂等。
上述感光性树脂层，通过适当地改变各成分的材料，而可配制成可溶或分散于水溶性显影液、半水溶性显影液或有机溶剂性显影液的层，但最好能够在水或水性介质中进行显影。另外，在为可于所需的水或水性介质中进行显影的感光性树脂层时，具体地讲，最好与EP-A767407号公报、特开昭60-211451号公报、特开平2-175702号公报、特开平4-3162号公报、特开平2-305805号公报、特开平3-228060号公报、特开平10-339951号公报等所述的感光性树脂层相当。
本发明的基材1，一旦应用到感光性树脂版上，则成为保护膜，该保护膜是在底版的贮藏及使用之间为了保护IR烧蚀层而设置的，并在IR照射前或IR照射后被除去(剥离)。
在本发明中，作为基材1(保护膜)的构成材料，适合为聚酰胺；聚乙烯醇；乙烯与醋酸乙烯酯的共聚物；两性异分子聚合物；如羟基烷基纤维素、醋酸纤维素等纤维素类聚合物；聚丁醛；及环状橡胶等。在此，两性异分子聚合物，如美国专利第4293635号所记载。这些材料单独使用任1种、或2种以上并用均可。另外，也可使用硝酸纤维素与硝酸甘油等自氧化性化合物；烷基纤维素(例，乙基纤维素)、聚丙烯酸及其碱金属盐等非自氧化性聚合物；聚缩醛；聚酰亚胺；聚碳酸酯；聚酯；如聚乙烯、聚丁烯等聚烷烯；聚苯醚；聚环氧乙烷；聚内酯及它们的组合等。
另外，除上述以外，作为基材(保护膜)的材料，也适合为聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯、尼龙6、尼龙4、尼龙66、尼龙12、聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚乙烯醇、全芳香族聚酰胺、聚酰胺-亚胺、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚砜、聚苯硫醚、聚苯醚等。它们单独使用任1种、或2种以上并用均可。另外，它们中也可少量共聚或掺杂其他的有机聚体物。基材的厚度优选10～300μm，特别优选10～200μm。
在本发明中，上述支撑体，最好使用具有柔性、且尺寸稳定性好的材料，例如，能够列举出聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯薄膜、或聚碳酸酯。支撑体的厚度从底版的机械特性、形状稳定性或印刷版制版时的使用性等方面考虑最好为50～350μm，优选100～250μm。另外，根据需要，为了提高支撑体与感光性树脂层的粘着，而本着这种目的也可将从以前使用的公知粘着剂设在表面。
作为制作本发明IR烧蚀用层压体的方法，未做特别地限定，但能够通过在基材(保护膜)上以涂布、喷涂等方式形成非IR敏感性高分子树脂层后，接着以真空镀膜、喷镀等方式形成IR吸收性金属层再形成其它层压体而获得。
另外，作为制作上述感光性印刷底版的方法，一般地，通过在支撑体上以涂布、喷涂等方式形成感光性树脂层、或从市售的感光性印刷版上剥掉保护膜来制成一层压体，进一步与其相独立地形成上述本发明IR烧蚀用层压体，并将这2个层压体使用热压机等进行层压而进行制作。层压的条件最好：温度取室温～150℃、优选50～120℃，压力取20～200kg力/cm2、优选50～150kg力/cm2。
由上述感光性树脂底版制作印刷版，通过如下述方式进行。
将保护膜、剥掉后或残留着在IR烧蚀层上进行基于IR激光的图像照射，实行IR烧蚀，在感光性树脂层上形成掩膜。作为适当的IR激光的例子，可举出ND/YAG激光(1064nm)或二极管激光(例，830nm)。适合计算机制版技术的激光装置市场上有销售，例如，可列举出二极管激光装置OmniSetter(注册商标)(Fa.Misomex；激光波长：830nm；作业宽度：1800mm)或ND/YAG激光装置Digilas(注册商标)(Fa.Schepers)。它们分别包括保持感光性印刷底版的旋转圆筒滚筒、IR激光照射装置及布局计算机(layout computer)。图像信息，从布局计算机直接移至激光装置。
其次，如上所述，将掩膜印在IR烧蚀层上后，在感光性印刷版上经掩膜整个面照射化学射线。这有利于在激光圆筒上直接进行。或者，也可将版从激光装置上取下，利用惯用的平板的照射单元进行照射。在照射工序过程，感光性树脂层在经上述掩膜形成工序(消融工序)露出的区域进行聚合，而在另一方由不通过照射光的IR烧蚀层在被遮覆的IR烧蚀层区域不发生聚合。活性光线的照射，也可利用惯用的真空火焰除去氧进行，不过其有利于在存在大气中氧的情况下进行。
如上所述，照射活性光线的版，被供给至显影工序。显影工序，可利用惯用的显影单元进行，根据版的性质可使用水、有机溶剂或它们的混合物。在显影过程中，除去感光性树脂层的非聚合区域及IR烧蚀层的残留部分。也可以首先将IR烧蚀层用1种溶剂或溶剂的混合物除去，再用其他的显影剂使感光树脂层显影。在显影工序后，将得到的印刷版进行干燥。版干燥的条件是，例如，45～80℃、5分钟～4小时。在干燥后，也可进一步进行几种后处理操作。例如，为了使印刷版呈非粘着性，而可进行基于灭菌灯的照射或Br2的处理。
(实施例)
以下，列出实施例及比较例更加具体地对本发明进行说明，但本发明并不是由这些实施例进行限定的。
实施例1烧蚀层的制作
在施以化学褪光处理的PET薄膜(原材料是东洋纺织制的E5002、厚度为125μm)上，用棒材涂布机#26将以聚乙烯醇(日本合成化学工业制果杰诺尔AH-26)/丙二醇(旭电化制)/表面活性剂(第一工业制药制Epan740)/纯水＝8.75g/8.75g/0.01g/332.5g的比率进行溶解的水溶液进行涂布，并以100℃干燥3分钟，形成干燥后的厚度为1μm的涂膜，接着，在该涂膜面上通过真空镀膜法镀上800厚度的铝膜。此时的光学浓度(OD)为3.5。该光学浓度(OD)由黑白透过浓度计DM-520(大日本Screen(株)制造)进行测定。
实施例2防粘连层的制作
(由饱和脂肪酸进行改性的醇酸树脂的制造)
将苯二甲酸酐与甘油加热到180℃成为第1阶段的浆态，并添加溶融的硬脂酸使游离羟基酯化。继续从180℃加热到220℃，反应到酸价为10(KOHmg/g)为止，得到硬脂酸改性醇酸树脂。
(防粘连层的制造)
对使得到的硬脂酸改性醇酸树脂400份、甲基化三聚氰胺树脂(住友化学工业：sumimaruM-100)100份溶解到甲苯25000份、甲基乙基甲酮24500份中配制成的固态组分为1重量％的涂布液、在厚度100μm、宽度1000mm、长度1200m的双向拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(东洋纺织制E5002)的一面上进行照相凹版涂层，由此得到涂上辊状的防粘连层的薄膜。涂层、干燥后的涂膜厚度为0.1μm。IR烧蚀层的制造
在涂上上述防粘连层的薄膜的与涂层相反的面上，对使聚乙烯醇(日本合成化学工业制果杰诺尔KH-20)2000份、聚乙二醇与丙二醇的共聚物(三洋化成(株)制samprecksSE-270)1500份溶解在纯水66500份中配制成的固态组分为5重量％的涂布液、进行照相凹版涂层，而得到形成有辊状的IR烧蚀层的前体的辊状的薄膜。此时的干燥后的涂膜厚度为2.0μm。另外，不会看到从辊卷起时的粘连遗迹。其次，在该IR烧蚀层的前体的面上通过真空镀膜法将铝镀膜成厚度约600。此时的光学浓度(OD)为3.0。该光学浓度(OD)由黑白透过浓度计DM-520(大日本Screen(株)制造)进行测定。卷起镀膜的辊，评价IR烧蚀层的结果，镀膜面没有斑点或花纹，有金属光泽，并牢牢地粘在保护膜上，从而得到没有问题的辊状的带保护膜的IR烧蚀层(镀铝膜的薄膜)。
实施例3脱模层的制作
(脱模层的制造)
对使由实施例2得到的硬脂酸改性醇酸树脂400份、甲基化三聚氰胺树脂(住友化学工业：sumimaruM-100)100份溶解到甲苯25000份、甲基乙基甲酮24500份中配制成的固态组分为1重量％的涂布液、在厚度100μm、、宽度1000mm、长度1200m的双向拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(东洋纺织制E5002)的一面上进行照相凹版涂层，由此得到涂上辊状的脱模层的薄膜。涂层、干燥后的涂膜厚度为0.1μm。IR烧蚀层的制造
在涂上上述脱模层的薄膜的涂层一侧，对使聚乙烯醇(日本合成化学工业制果杰诺尔KH-20)2000份、聚乙二醇与丙二醇的共聚物(三洋化成(株)制samprecksSE-270)1500份溶解在纯水66500份中配制成的固态组分为5重量％的涂布液、进行照相凹版涂层，得到形成有辊状的IR烧蚀层的前体的辊状的薄膜。此时的干燥后的涂膜厚度为2.0μm。其次，在该IR烧蚀层的前体的面上通过真空镀膜法将铝镀膜成厚度约600。此时的光学浓度(OD)为3.0。该光学浓度(OD)由黑白透过浓度计DM-520(大日本Screen(株)制造)进行测定。卷起镀膜的辊，评价IR烧蚀层的结果，镀膜面没有斑点或花纹，有金属光泽，并不会看到自保护膜面上的异常剥离，从而得到没有问题的辊状的带保护膜的IR烧蚀层(镀铝膜的薄膜)。
实施例4
除了对含有在实施例2中得到的硬脂酸改性醇酸树脂的涂布液在双向拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(东洋纺织制E5002)的两面上进行照相凹版涂层之外，其余的全部与实施例2相同，得到具有脱模层与防粘连层的保护膜。与实施例3相同通过在得到的保护膜上设置IR烧蚀层，而得到带保护膜的IR烧蚀层(镀铝膜的薄膜)。
比较例1
使用下表1所示的成分，配制含有碳黑、聚乙烯醇(日本合成化学社制果杰诺尔GH-23、热分解引发温度220℃、极限氧指数22.5)及增塑剂的分散液。用型号(number)26的棒材涂喷机将该分散液涂布在PET薄膜(厚度为125μm)上，以100℃干燥3分钟，使水蒸发，得到平滑无粘着的涂布膜(4.1g/m2的涂布量及4.8的化学射线区域的光学浓度)、即得到由IR烧蚀层与PET薄膜构成的烧蚀用层压体。
[表1]
成分  配合量g 除水外的重量％ 备注
GH-23的3％的水溶液  53.9  36.3
聚乙二醇#400  1.13  25.4 增塑剂
Epan740  0.004  0.09 分散剂(表面活性剂)
碳黑CW1  8.5  38.2 20％水分散液
蒸馏水  36.0   -
碳黑CW1：Orient化学制
聚乙二醇#400：Nacalai Tesque制
Epan740：第一工业制药厂制参考例1底版的制作
剥离由厚度为250μm的PET薄膜支撑体(东洋纺织制E5002)、感光性树脂层、聚乙烯醇层及PET保护薄膜构成的感光性印刷版(PrintertEF95GC(东洋纺织制))的PET保护薄膜，再将下层的聚乙烯醇层利用惯用的粘着带自感光性树脂层除去。在露出的感光性树脂层上重叠由上述实施例1制作的带保护膜的IR烧蚀层(镀铝膜的薄膜)的镀膜面，使用热压机以100℃、100kg力/cm2进行层压，得到由PET支撑体、感光性树脂层、镀铝层、聚乙烯醇层及化学褪光的PET保护薄膜(保护膜)构成的版。该版的总厚度为1.05mm。IR烧蚀
首先，自上述底版剥离化学褪光的PET保护薄膜(保护膜)。此时仅剥掉保护薄膜(保护膜)，而聚乙烯醇层与镀铝层残留在感光性树脂层上。在该感光性树脂层上以10倍放大镜进行放大观察后，确认聚乙烯醇层与镀铝层上没有损坏或损伤。将该版以聚乙烯醇层成为表侧、支撑体的PET薄膜成为内侧的方式卷在Cyrel Digital Imager Spark(BARCO社制)的旋转滚筒上，真空拉引后，利用二极管激光形成图像。使用的本装置的激光输出为4.8mW、激光的分辨率为2540dpi、激光亮点直径为15μm。旋转滚筒以1500rpm进行旋转。IR烧蚀后，取出版并用10倍放大镜放大观察后，确认无问题地烧蚀镀铝层。
制版的实施
在上述IR烧蚀后的、以数字图像掩膜覆盖的感光性印刷版整个面上，照射3分钟活性光线，其后利用惯用的显影单元(TOMIFLEX；富博产业社制显影机)以25℃显影2分钟。在显影液中使用自来水。在显影工序中，除去IR烧蚀层的残留部(镀铝层、聚乙烯醇层)及感光性树脂层的非照射区域，而残留活性光线的照射区域。显影后，以70℃干燥10分钟后，用活性光线照射5分钟。
将做成的凸版印刷版以10倍放大镜进行放大检查。正确地形成有2点的凸部及凹文字、30μm宽度的细线、100μm直径的独立点及156lpi、1％网点所有的实验图形。参考例2底版的制作
与参考例1相同，剥离由厚度为100μm的PET薄膜支撑体(东洋纺织制E5002)、感光性树脂层、聚乙烯醇层及化学褪光的PET保护薄膜构成的感光性柔性印刷版(Cosmolight NEO(东洋纺织制))的化学褪光的PET保护薄膜，再将下层的聚乙烯醇层用惯用的粘着带自感光性树脂层除去。在露出的感光性树脂层上重叠由上述实施例2制作的带保护膜的IR烧蚀层(镀铝薄膜)的镀膜面，使用热压机以100℃、100kg力/cm2进行层压，得到由PET支撑体、感光性树脂层、镀铝层、聚乙烯醇层及化学褪光的PET保护薄膜(保护膜)构成的版。该版的总厚度为1.90mm。IR烧蚀
首先，为了将浮雕(relief)深度成为常使用的约0.8mm，而通过从上述柔性版的PET支撑体侧照射20秒化学射线(光源Philips·10R、365nm的亮度7.5mW/cm2)，实行内曝光，其次剥离化学褪光的PET保护薄膜(保护膜)。此时仅剥掉保护薄膜(保护膜)，而聚乙烯醇层与镀铝层残留在感光性树脂层上。在该感光性树脂层上以10倍放大镜进行放大观察后，确认在聚乙烯醇层与镀铝层上没有损坏或损伤。将该版以聚乙烯醇层为表侧、支撑体的PET薄膜为内侧的方式卷在Cyrel Digital Imager Spark(BARCO社制)的旋转滚筒上，真空拉引后，利用二极管激光形成图像。使用的本装置的激光输出为4.8mW、激光的分辨率为2540dpi、激光亮点直径为15μm。旋转滚筒以1500rpm进行旋转。IR烧蚀后，取出版并用10倍放大镜放大观察后，确认无问题地烧蚀镀铝层。
制版的实施
在上述IR烧蚀后的、以数字图像掩膜覆盖的感光性印刷版整个面上，照射15分钟化学射线，其后利用A&V(株)制显影机(StuckSystem)以40℃显影6分钟。在显影液中使用添加1％餐具洗涤剂Cascade(美国P&G制)自来水。在显影工序中，除去IR烧蚀层的残留部(镀铝层、聚乙烯醇层)及感光性树脂层的非照射区域，而残留化学射线的照射区域。显影后，以60℃干燥20分钟后，用化学射线照射5分钟，最后为了消除表面粘着而用灭菌灯照射5分钟。然后，与参考例1相同，对版的整个面照射化学射线，再进行显影，将制成的柔性印刷版用10倍放大镜进行放大检查后，正确地形成有2点的凸部及凹文字、30μm宽度的细线、100μm直径的独立点及156lpi、1％网点所有的实验图形。参考例3底版的制作
与参考例1相同使感光性印刷版(PrintertEF95GC(东洋纺织制))的感光性树脂层露出，在该面上重叠以实施例3得到的带保护膜的IR烧蚀层(镀铝薄膜)的镀膜面，使用热压机以80℃、100kg力/cm2进行层压，得到由PET支撑体、感光性树脂层、镀铝层、CPP薄膜构成的版。该版的总厚度为0.98mm。
其次，与参考例1相同，利用二极管激光进行图像形成(IR烧蚀)，取出版以10倍放大镜进行放大观察后，确认无问题地烧蚀镀铝层。
然后，与参考例1相同，对版的整个面，照射活性射线，再进行显影，将制成的凸版印刷版用10倍放大镜进行放大检查后，正确地形成有2点的凸部及凹文字、30μm宽度的细线、100μm直径的独立点及156lpi、1％网点所有的实验图形。参考例4
在参考例1中，除使用由实施例4得到的带保护膜IR烧蚀层(镀铝薄膜)之外，其余的全部与参考例1相同地进行制版后，得到印刷版。其结果，与参考例1相同，正确地形成有实验图形。参考例5
在参考例2中，除使用由实施例4得到的带保护膜IR烧蚀层(镀铝薄膜)之外，其余的全部与参考例2相同地进行制版后，得到印刷版。其结果，与参考例1相同，正确地形成有实验图形。比较参考例1底版的制作
使用设置有由上述比较例1制作的IR烧蚀层的PET薄膜(保护膜)及与参考例1相同的感光性印刷版，并利用热压机以约100℃、100kg力/cm2进行层压，得到由PET支撑体、感光性树脂层、IR烧蚀层及PET薄膜(保护膜)构成的底版。
其次，剥掉作为所得的底版的保护膜的PET薄膜(保护膜)，与参考例1相同，在照射活性光线前，若将IR烧蚀层用10倍放大镜进行放大观察，则一部分损坏或发生多处损伤。
进一步，与参考例1相同，在照射活性光线后，进行显影，结果由于显影液被大量的碳黑所污染，故不能将该显影液用于接下来的版制造。另外，将制成的凸版印刷版用10倍放大镜进行检查后，由于在上述IR烧蚀层上所产生的损伤等影响，而能确认出除所希望的图像外的微小的凸部、浮雕的缺损部，图像的再现性差。
(发明的效果)
基于以上的说明可知，通过使用本发明烧蚀用层压体，可原样利用现行的设备及方法，能够容易且高精度地形成掩膜，从而得到高档次的印刷图像的印刷版或浮雕版。另外，因为显影时对显影液的污染少，所以能够连续多张显影等、对产业领域的贡献大。

Claims (8)

1.一种IR烧蚀用层压体，至少具有基材及IR烧蚀层，其特征在于：
上述烧蚀层包括IR吸收性金属层。
2.如权利要求1或2所述的IR烧蚀用层压体，其特征在于：IR吸收性金属层为金属镀膜层。
3.如权利要求1所述的IR烧蚀用层压体，其特征在于：在基材的与IR烧蚀层相反的一侧具有防粘连层。
4.如权利要求1所述的IR烧蚀用层压体，其特征在于：在基材与IR烧蚀层之间具有脱模层。
5.如权利要求1所述的IR烧蚀用层压体，其特征在于：防粘连层或脱模层含有热固化性树脂。
6.如权利要求1所述的IR烧蚀用层压体，其特征在于：防粘连层或脱模层含有醇酸树脂。
7.如权利要求1所述的IR烧蚀用层压体，其特征在于：在基材与IR吸收性金属层之间具有非IR敏感性高分子树脂层。
8.如权利要求4所述的IR烧蚀用层压体，其特征在于：在脱模层与IR吸收性金属层之间具有非IR敏感性高分子树脂层。
CNA031476546A 2002-07-16 2003-07-15 Ir烧蚀用层压体 Pending CN1472597A (zh)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102460655A (zh) * 2009-06-15 2012-05-16 Lg化学株式会社 晶片处理薄片
CN103854973A (zh) * 2012-11-28 2014-06-11 国际商业机器公司 操作器件晶片和叠层结构的方法和处理叠层结构的装置
CN105659356A (zh) * 2013-08-01 2016-06-08 国际商业机器公司 使用中波长红外辐射烧蚀的晶片去接合

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI297809B (zh) * 2001-10-24 2008-06-11 Toyo Boseki
ATE527109T1 (de) 2004-01-27 2011-10-15 Asahi Kasei Chemicals Corp Verfahren zur herstellung eines lasergravierbaren druckträgers
US9138776B2 (en) * 2005-07-19 2015-09-22 Sidasa Engineering, S.L. Process for applying coatings with metallic chromium
EP2128699A1 (en) * 2008-05-28 2009-12-02 Stork Prints B.V. Base material for preparing a stencil for screen printing
JP4200510B1 (ja) 2008-06-11 2008-12-24 東洋紡績株式会社 感光性フレキソ印刷原版
JP4247725B1 (ja) 2008-07-16 2009-04-02 東洋紡績株式会社 感光性凸版印刷原版
CN106471073B (zh) 2014-07-03 2021-11-23 康宁股份有限公司 喷墨组合物、方法以及经过涂覆的制品

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5339737B1 (en) * 1992-07-20 1997-06-10 Presstek Inc Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus
US5858604A (en) * 1994-07-11 1999-01-12 Konica Corporation Presensitized lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate
US5506086A (en) * 1995-05-01 1996-04-09 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for making a flexographic printing plate
US5654125A (en) * 1995-05-01 1997-08-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Laser apparatus and process of use
US6120907A (en) * 1997-10-24 2000-09-19 Agfa-Gevaert, N.V. Data card comprising a laser recording medium and a thin glass layer
EP1146392B1 (en) * 2000-04-11 2013-08-07 Agfa Graphics N.V. Method for on-site preparation of a relief image
US6759175B2 (en) * 2000-04-11 2004-07-06 Agfa-Gevaert Method for on-site preparation of a relief image
US6245486B1 (en) * 2000-06-30 2001-06-12 Gary Ganghui Teng Method for imaging a printing plate having a laser ablatable mask layer
DE10061114A1 (de) * 2000-12-07 2002-06-13 Basf Drucksysteme Gmbh Fotoempfindliches flexographisches Druckelement mit Polyether-Polyurethane umfassender IR-ablativer Schicht
TWI297809B (zh) * 2001-10-24 2008-06-11 Toyo Boseki

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102460655A (zh) * 2009-06-15 2012-05-16 Lg化学株式会社 晶片处理薄片
US9165815B2 (en) 2009-06-15 2015-10-20 Lg Chem, Ltd. Wafer processing sheet
CN103854973A (zh) * 2012-11-28 2014-06-11 国际商业机器公司 操作器件晶片和叠层结构的方法和处理叠层结构的装置
CN103854973B (zh) * 2012-11-28 2017-03-01 国际商业机器公司 操作器件晶片和叠层结构的方法和处理叠层结构的装置
CN105659356A (zh) * 2013-08-01 2016-06-08 国际商业机器公司 使用中波长红外辐射烧蚀的晶片去接合

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