KR20040032733A - Ｉｒ 애블레이션용 적층체 - Google Patents

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KR20040032733A
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모토이게이이치
쇼키고지
다나카마치코
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토요 보세키 가부시기가이샤
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Abstract

본 발명은 종래 보다도 고품위의 인쇄 화상을 얻을 수 있고, 현상시 현상액의 오염을 적게 할 수 있으며, 또 각종 감광성 수지층에 응용할 수 있는 적층체를 제공하는 것을 과제로 하여, 적어도 기재 및 IR 애블레이션층을 가지는 애블레이션용 적층체로서, 상기 애블레이션층이 IR 흡수성 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 IR 애블레이션용 적층체를 구성으로 하는 것이다. 더욱이, 상기 적층체에 블로킹 방지층이나 이형층을 설치함으로써 제판성이나 취급성이 우수한 것으로 된다.

Description

ＩＲ 애블레이션용 적층체{Laminate for IR ablation}
본 발명은 컴퓨터 제판기술에 의하여 볼록판 인쇄판이나 릴리프(relief)판을 제조할 때 사용되는 IR 애블레이션용 적층체에 관한 것이다.
근래 볼록판이나 플렉소(flexo) 인쇄 분야에 있어서 디지털 화상 형성기술로서도 알려져 있는 컴퓨터 제판기술(Computer To Plate(CTP) 기술)은 극히 일반적인 것으로 되어 있다. CTP 기술에서는 감광성 인쇄판의 중합해서는 안 되는 영역을 덮기 위해 종래부터 사용되고 있는 사진 마스크(포토 마스크나 네가필름(negative film)이라고도 한다)는 인쇄판 내에서 형성 통합되는 마스크로 대체되어 있다. 이러한 통합 마스크를 얻기 위한 방법으로서 시장에는 2개의 기술이 존재한다. 하나는 감광성 인쇄원판 위에 잉크젯 프린터로 마스크를 인쇄하는 방법이고, 다른 하나는 감광층 위에 자외선에 대해서 실질적으로 불투명하고(즉 자외선을 실질적으로 통과시키지 않는다) 또한 IR 레이저의 조사에 의하여 융제(融除) 가능한 층(이 층은 일반적으로 「IR 애블레이션층」이나 「적외 융제층」 등으로 불리우고 있고, 본원 명세서에서는 「IR 애블레이션층」으로 부르기로 한다.)을 설치하여 해당층에 IR 레이저로 화상을 형성함으로써 마스크를 형성하는 방법이다. 이들 기술을 사용함으로써 화상(마스크)이 판 위에 직접 형성되고, 다음 공정에서 해당 화상(마스크)을 사이에 두고 자외선이 조사되어 제판에까지 이른다.
또한, CTP 기술은 네가필름이 필요하지 않다고 하는 편리성을 가질 뿐만 아니라, 네가필름을 사용하는 종래기술에 비하여 매우 높은 해상도를 부여할 수 있다. 이러한 CTP 기술의 종래기술에 대한 우위성의 상세한 논의는 예를 들면 "Deutsher Drucker, Nr. 21/3.6.99, w12-w16쪽"에 기재되어 있다.
그런데, 상기 IR 애블레이션층을 가지는 감광성 인쇄원판에 있어서 IR 애블레이션층에는 일반적으로 고분자 바인더에 카본 블랙을 다량으로 함유시킨 조성물이 사용되고 있다. 또한 보통 IR 애블레이션층 위에는 원판의 보존시나 취급시에 IR 애블레이션층의 보호를 위하여 커버 필름이 설치되어 있으며, 이 커버 필름은 IR 레이저의 조사 전 또는 IR 레이저의 조사 후(보통, 주노광(主露光) 후 현상 전의 시점)에 제거된다. 그러나, IR 애블레이션을 실시한 후 자외선으로 주노광하고 현상액으로 현상할 때 카본 블랙이 현상액으로 이행되어 현상액이 오염되기 쉬워,현상액을 1회의 제판작업 마다 교환하지 않으면 안 되기 때문에, 이것이 인쇄 비용 상승의 원인이 되고 있다.
또한, IR 애블레이션층을 설치하는 가공시에 커버 필름(본 발명에 있어서는 기재라고도 한다)의 IR 애블레이션층과는 반대쪽에 블로킹이 발생하여 생산성이 나쁘고, 가공 후의 품질에도 악영향이 발생하고 있었다.
더욱이, IR 레이저의 조사 전 또는 IR 레이저의 조사 후(보통, 주노광 후 현상 전의 시점)에 커버 필름(기재)을 제거할 때, IR 애블레이션층의 일부가 함께 제거되어 버려 고품위의 인쇄 화상을 얻을 수 없다는 결점이 발생하고 있었다.
따라서, 상기 종래의 문제가 해소되어 고품위의 인쇄 화상을 얻을 수 있고, 또한 현상액의 오염을 저감할 수 있으며 각종 감광성 수지층에 대해서도 응용할 수 있는 IR 애블레이션용 적층체가 요망되고 있었다.
본 발명은 상기 사정으로 비추어 보아, 종래 보다도 고품위의 인쇄 화상을 얻을 수 있고, 현상시 현상액의 오염을 적게 할 수 있으며, 또한 각종 감광성 수지층에 응용할 수 있는 적층체를 제공하는 것을 과제로 하는 것이다.
도 1은 본 발명 IR 애블레이션용 적층체의 제1 구체예를 나타내는 모식 단면도이다.
도 2는 본 발명 IR 애블레이션용 적층체의 제2 구체예를 나타내는 모식 단면도이다.
도 3은 본 발명 IR 애블레이션용 적층체의 제3 구체예를 나타내는 모식 단면도이다.
도 4는 본 발명 IR 애블레이션용 적층체의 제4 구체예를 나타내는 모식 단면도이다.
도 5는 도 1로 나타내는 본 발명 IR 애블레이션용 적층체를 감광성 수지판에 응용한 모식 단면도이다.
도 6은 도 2로 나타내는 본 발명 IR 애블레이션용 적층체를 감광성 수지판에 응용한 모식 단면도이다.
도 7은 도 3으로 나타내는 본 발명 IR 애블레이션용 적층체를 감광성 수지판에 응용한 모식 단면도이다.
도 8은 도 4로 나타내는 본 발명 IR 애블레이션용 적층체를 감광성 수지판에응용한 모식 단면도이다.
부호의 설명
1 기재
2 비IR 감수성 고분자 수지층
3 IR 흡수성 금속층(IR 애블레이션층)
4 블로킹 방지층
5 이형층
6 감광성 수지층
7 지지체
본 발명자 등은 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 연구한 결과, 마침내 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉 본 발명은 (1) 적어도 기재 및 IR 애블레이션층을가지는 애블레이션용 적층체로서, 상기 애블레이션층이 IR 흡수성 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 IR 애블레이션용 적층체, (2) 상기 (1)에 있어서, IR 흡수성 금속층이 금속 증착층인 IR 애블레이션용 적층체, (3) 상기 (1)에 있어서, 기재의 IR 애블레이션층과는 반대쪽에 블로킹 방지층을 가지고 있는 IR 애블레이션용 적층체, (4) 상기 (1)에 있어서, 기재와 IR 애블레이션층 사이에 이형층을 가지고 있는 IR 애블레이션용 적층체, (5) 상기 (1)에 있어서, 블로킹 방지층 또는 이형층이 열경화성 수지를 함유하고 있는 IR 애블레이션용 적층체, (6) 상기 (1)에 있어서, 블로킹 방지층 또는 이형층이 알키드 수지를 함유하고 있는 IR 애블레이션용 적층체, (7) 상기 (1)에 있어서, 기재와 IR 흡수성 금속층 사이에 비IR 감수성 고분자 수지층을 가지고 있는 IR 애블레이션용 적층체, (8) 상기 (4)에 있어서, 이형층과 IR 흡수성 금속층 사이에 비IR 감수성 고분자 수지층을 가지고 있는 IR 애블레이션용 적층체이다.
도 1은 본 발명 IR 애블레이션용 적층체의 한 실시 태양예의 모식 단면도로서, 기재(1), 비IR 감수성 고분자 수지층(2) 및 IR 애블레이션층인 IR 흡수성 금속층(3)으로 되고, 도 2는 추가로 블로킹 방지층(4)를 가지고 있는 본 발명 IR 애블레이션용 적층체의 한 실시 태양예의 모식 단면도, 도 3은 이형층(5)를 가지고 있는 본 발명 IR 애블레이션용 적층체의 한 실시 태양예의 모식 단면도이며, 도 4는 블로킹 방지층(4) 및 이형층(5)를 함께 가지고 있는 본 발명 IR 애블레이션용 적층체의 한 실시 태양예의 모식 단면도이다.
또한 본 발명 IR 애블레이션용 적층체를 감광성 수지판에 응용한 예로서, 도5는 감광성 수지층(6) 위에 도 1로 나타내는 IR 애블레이션용 적층체가 그대로 적층되어 있는 태양을 나타내는 모식 단면도, 도 6은 도 2로 나타내는 IR 애블레이션용 적층체가 그대로 적층되어 있는 태양을 나타내는 모식 단면도, 도 7은 도 3으로 나타내는 IR 애블레이션용 적층체가 그대로 적층되어 있는 태양을 나타내는 모식 단면도, 도 8은 도 4로 나타내는 IR 애블레이션용 적층체가 그대로 적층되어 있는 태양을 나타내는 모식 단면도이다.
본 발명의 IR 애블레이션층은 IR 흡수성 금속을 포함하는 것으로, 「IR 흡수성 금속」이란 IR을 흡수하여 융제될 수 있는 금속, 합금 또는 함금속 화합물을 의미하고, 여기에서 합금이란 2종류 이상의 금속원소의 융합물 뿐만 아니라 2종류 이상의 금속원소와 함께 금속원소 이외의 원소를 포함하는 융합물도 포함한다. 또한, 「IR 흡수성 금속」은 1종류의 재료이더라도, 2종류 이상의 재료를 병용하더라도 좋다.
상기 금속의 바람직한 예로서는 Al, Zn, Cu를 들 수 있다. 또한, 상기 합금의 바람직한 예로서는 Ca, Sc, Tl, V, Sb, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, Ag, In, Sn, Ta, W, Au, Bi 및 Pb로부터 선택되는 2종류 이상 금속의 합금이나, 이러한 2종류 이상의 금속과 함께 추가로 비금속 원소(탄소, 규소 등) 및/또는 희토류원소(Nd, Sm, Gd, Tb 등)를 포함하는 합금을 들 수 있다. 또한, 함금속 화합물로서는 IR을 흡수하여 융제될 수 있는 것이라면 금속산화물, 금속질화물 등의 각종 화합물을 사용할 수 있는데, 그 중에서도 아크롬산구리, 산화크롬, 알루민산코발트-크롬 등의 어두운 색 무기안료가 바람직하다.
또한, IR 애블레이션층의 파손이나 흠집 발생의 방지(막 강도) 면에서 IR 흡수성 금속에는 금속, 합금을 사용하는 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 Al, Zn, Cu, Bi-In-Cu 합금이며, 특히 바람직하게는 Al이다.
본 발명에 있어서 바람직한 태양으로서 사용되는 블로킹 방지층은 기재(본 발명에 있어서는 커버 필름이라고도 한다)의 IR 애블레이션층과는 반대쪽에 설치된다. 블로킹 방지층은 롤형상의 기재에 가공함으로써 설치하고, 다음 공정에서 비IR 감수성층이나 IR 애블레이션층이 설치된다. 그 때, 상기 블로킹 방지층이 존재함으로써 롤 상태에서의 비IR 감수성층과 커버 필름의 밀착을 방지하여 그 후의 IR 애블레이션층의 가공성을 향상할 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서 바람직한 태양으로서 사용되는 이형층은 기재(커버 필름)와 IR 애블레이션층 사이에 설치하는 것을 특징으로 하는 것으로, 이형층은 기재에 직접 접하여 설치하는 것이 바람직하다. 이형층은 롤형상의 기재에 가공함으로써 설치하고, 다음 공정에서 비IR 감수성층이나 IR 애블레이션층이 설치된다.
또한, 본 발명에 있어서는 상기 블로킹 방지층과 이형층을 함께 설치하는 것이 바람직하다.
본 발명의 블로킹 방지층 또는 이형층은 열경화성 수지가 바람직하게 사용된다. 열경화성 수지로서는 알키드 수지, 멜라민 수지, 요소 수지, 벤조구아나민 수지, 글리콜 라우릴 수지, 에폭시 수지 등의 단체(單體) 또는 복합체이더라도 좋다. 바람직하게는 포화 지방산으로 변성된 알키드 수지가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 포화 지방산으로 변성된 알키드 수지와 멜라민 수지와의 혼합체가 좋다. 알키드수지를 변성하는 포화 지방산으로서는 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 베헨산 등을 사용할 수 있다. 지방산으로 변성된 알키드 수지와 멜라민 수지와의 혼합 비율은 100/0~5/95중량부로 가지는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 100/0~15/85중량부이다. 멜라민 수지만의 경우 롤형상으로 감아 옮길 때 접촉하는 IR 흡수성 금속층과의 접착성이 커져 IR 흡수성 금속층이 들떠버려 양호한 감광성 수지 적층체를 얻을 수 없기 때문에 바람직하지 않다.
더욱이, 본 발명의 이형층으로서 경화형 실리콘 수지를 함유하고 있는 타입이더라도 좋고, 경화형 실리콘 수지를 주성분으로 하는 타입이더라도 좋으며, 우레탄 수지, 에폭시 수지, 알키드 수지 등의 유기 수지와의 그래프트 중합 등에 의한 변성 실리콘 타입 등을 사용하더라도 좋다. 경화형 실리콘 수지의 종류로서는 부가형, 축합형, 자외선 경화형, 전자선 경화형, 무용제형 등 어떤 경화반응 타입이더라도 사용할 수 있다. 구체예를 들면 신에쯔 가가쿠 고교샤제 KS-774, KS-775, KS-778, KS-779H, KS-856, X-62-2422, X-62-2461, 다우 코닝 아시아사제 DKQ3-202, DKQ3-203, DKQ3-204, DKQ3-205, DKQ3-210, 도시바 실리콘사제 YSR-3022, TPR-6700, TPR-6720, TPR-6721, 도오레 다우 코닝샤제 SD7223, SD7226, SD7229, LTC750A 등을 들 수 있다. 더욱이 이형층의 박리성 등을 조정하기 위하여 박리 콘트롤제를 병용하더라도 좋다.
또한, 필요에 따라 블로킹 방지층 또는 이형층 중에 이활제, 대전방지제 등을 함유하고 있더라도 좋다.
본 발명의 블로킹 방지층 또는 이형층을 기재(커버 필름) 위에 설치하는 방법으로서는 도포법 등을 들 수 있지만 어떤 방법도 채용할 수 있다. 예를 들면, 리버스 롤 코터, 그라비아 코터, 로드 코터, 에어 닥터 코터(하라사키 유우지저, 마키쇼텐, 1979년 발행, 「코팅 방식」참조) 또는 이들 이외의 도포 장치를 사용하여 커버 필름 제조공정 외에서 도포액을 도포하는 방법, 커버 필름 제조공정 내에서 도포하는 방법 등을 들 수 있다. 커버 필름 제조공정 내에서 도포하는 방법으로서는 일반적인 열가소성 수지 미연신 필름에 도포액을 도포하여 축차 또는 동시에 이축연신하는 방법, 일축연신된 열가소성 수지 필름에 도포하여 추가로 앞의 일축연신 방향과 직각인 방향으로 연신하는 방법, 또는 이축연신 열가소성 수지 필름에 도포하여 추가로 가로 및/또는 세로 방향으로 연신하는 방법 등이 있다.
상기 블로킹 방지층 또는 이형층의 두께는 0.01~10 ㎛ 범위가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.05~5 ㎛ 범위이다. 이 층의 두께가 0.01 ㎛ 미만인 경우에는 균일한 층을 얻기 어렵기 때문에 블로킹 방지효과 또는 이형효과가 발현되지 않는다. 한편, 10 ㎛ 보다 두꺼운 경우에는 때때로 열경화성 수지의 경화가 불충분해져 블로킹 방지효과 또는 이형효과가 발현되지 않기 때문에 바람직하지 않다.
다음으로, 본 발명의 비IR 감수성 고분자 수지층의 구성재료로서는 폴리아미드, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌옥시드, 양성 인터폴리머, 알킬 셀룰로오스, 셀룰로오스계 폴리머(특히 히드록시프로필 셀룰로오스, 히드록시에틸 셀룰로오스, 니트로셀룰로오스), 에틸렌과 비닐아세테이트의 코폴리머, 셀룰로오스 아세테이트 부틸레이트, 폴리부티랄, 고리형상 고무 등을 들 수 있다. 이들은 어느 1종류를 단독으로 사용하더라도 좋고, 2종류 이상을 병용하더라도 좋다. 또한, 양성 인터폴리머는 미국특허 제4,293,635호에 기재되어 있는 것이다.
상기 예시한 재료 중에서도 물 또는 수성 매체로 현상할 수 있는 것이나 주름의 발생 등을 고려하여, 본 발명에서는 폴리비닐알코올, 변성 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌옥시드를 들 수 있으며, 그 중에서도 중합도 500~4000, 바람직하게는 1000~3000이고, 또 비누화도 70% 이상, 바람직하게는 80~99%, 더욱 바람직하게는 80~90%의 폴리비닐알코올 또는 변성 폴리비닐알코올이 바람직하다. 여기서, 변성 폴리비닐알코올이란 폴리비닐알코올의 수산기와 반응성을 가지는 화합물(예를 들면, 카르복실기, 이중결합, 방향족 고리 등을 가지는 화합물)을 2차적으로 반응시키거나 초산비닐과 다른 비닐모노머와의 공중합체를 비누화하여 말단이나 주쇄 중에 카르복실기, 카르보닐기, 폴리옥시알킬렌기, 아세토아세틸기, 설폰기, 실라놀기를 도입한 것이다.
본 발명에 있어서 IR 애블레이션층은 실질적으로 자외선(활성광선)을 투과시키지 않는다. 즉, 활성광선에 대한 광학농도가 2.5를 초과하는 값이고, 바람직하게는 3.5를 초과하는 값이다.
상기 광학농도를 가지기 위해서는 IR 흡수성 금속층(3)의 두께는 70~20000Å이 바람직하고, 특히 바람직하게는 100~8000Å, 특히 바람직하게는 100~5000Å이다. 두께가 70Å 미만이면 IR 애블레이션 후의 마스크로서의 기능이 떨어지기 때문에 바람직하지 않고, 또한 2000Å을 초과하면 화상 형성용 IR로는 애블레이션(융제)하는 것이 곤란해지기 때문에 바람직하지 않다.
한편, IR 애블레이션층을 IR 흡수성 금속층(3)과 다른 IR 흡수성 물질로 구성하는 경우, IR 흡수성 금속층(3)의 두께는 50~15000Å이 바람직하고, 특히 바람직하게는 70~8000Å, 특히 바람직하게는 100~5000Å이다. 두께가 50Å 미만이면 IR 애블레이션 후의 마스크로서의 기능이 떨어지기 때문에 바람직하지 않고, 또한 15000Å을 초과하면 화상 형성용 IR로는 애블레이션(융제)하는 것이 곤란해지기 때문에 바람직하지 않다.
이어서 본 발명 IR 애블레이션용 적층체를 감광성 수지판에 응용하는 경우, 감광성 수지층(6) 위에 도 1~4로 나타내는 IR 애블레이션용 적층체를 그대로 적층하여 감광성 수지층(6) 위에 적층하더라도 좋다.
상기 감광성 수지층(6)은 엘라스토머 바인더 등도 포함하는 공지의 가용성 합성 고분자 화합물, 광중합성 불포화 화합물(이하, 가교제라고도 한다) 및 광중합 개시제를 적어도 포함하는 조성물층이다. 추가로 첨가제, 예를 들면 가소제, 열중합 방지제, 염료, 안료, 자외선 흡수제, 향료 또는 산화방지제를 포함하더라도 좋다.
상기 가용성 합성 고분자 화합물로서는 공지의 가용성 합성 고분자 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들면 폴리에테르아미드(예를 들면 일본국 특개소 55-79437호 공보 등), 폴리에테르 에스테르아미드(예를 들면 일본국 특개소 58-113537호 공보 등), 3급 질소 함유 폴리아미드(예를 들면 일본국 특개소 50-76055호 공보 등), 암모늄염형 3급 질소원자 함유 폴리아미드(예를 들면 일본국 특개소 53-36555호 공보 등), 아미드결합을 하나 이상 가지는 아미드 화합물과 유기 디이소시아네이트 화합물의 부가중합체(예를 들면 일본국 특개소 58-140737호 공보 등), 아미드결합을 가지지 않는 디아민과 유기 디이소시아네이트 화합물의 부가 중합체(예를 들면 일본국 특개평 4-97154호 공보 등) 등을 들 수 있고, 그 중에서도 3급 질소원자 함유 폴리아미드 및 암모늄염형 3급 질소원자 함유 폴리아미드가 바람직하다.
또한, 엘라스토머 바인더의 경우는 단일 폴리머이더라도, 폴리머 혼합물이더라도 좋다. 또한, 소수성 폴리머이더라도, 친수성 폴리머이더라도, 소수성 폴리머와 친수성 폴리머의 혼합물이더라도 좋다. 소수성 폴리머로서는 부타디엔 고무, 이소프렌 고무, 1,2-폴리부타디엔, 스티렌-부타디엔 고무, 클로로프렌 고무, 니트릴-부타디엔 고무, 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 코폴리머, 스티렌-이소프렌-스티렌 블록 코폴리머, 부틸 고무, 에틸렌-프로필렌 고무, 클로로설폰화 폴리에틸렌, 부타디엔-(메타)아크릴산에스테르 코폴리머, 아크릴로니트릴-(메타)아크릴산에스테르 코폴리머, 에피클로로히드린 고무, 염소화 폴리에틸렌, 실리콘 고무, 우레탄 고무가 적합하다. 이들은 각각을 단독으로 사용하더라도, 2종류 이상을 병용하더라도 좋다. 친수성 폴리머로서는 -COOH, -COOM(M은 1가, 2가 또는 3가의 금속이온 또는 치환 또는 무치환의 암모늄이온), -OH-, -NH2, -SO3H, 인산에스테르기 등의 친수기를 가지는 것이 바람직하고, 구체적으로는 (메타)아크릴산 또는 그 염류의 중합체, (메타)아크릴산 또는 그 염류와 알킬(메타)아크릴레이트와의 공중합체, (메타)아크릴산 또는 그 염류와 스티렌과의 공중합체, (메타)아크릴산 또는 그 염류와 초산비닐과의 공중합체, (메타)아크릴산 또는 그 염류와 아크릴로니트릴과의 공중합체,폴리비닐알코올, 카르복시메틸셀룰로오스, 폴리아크릴아미드, 히드록시에틸셀룰로오스, 폴리에틸렌옥시드, 폴리에틸렌이민, -COOM기를 가지는 폴리우레탄, -COOM기를 가지는 폴리우레아우레탄, -COOM기를 가지는 폴리아미드산 및 이들의 염류 또는 유도체를 들 수 있다. 이들은 각각을 단독으로 사용하더라도, 2종류 이상을 병용하더라도 좋다.
또한, 상기에 있어서 적합하게 사용되는 광중합성 불포화 화합물로서는 다가 알코올의 폴리글리시딜 에테르와 메타아크릴산 및 아크릴산의 개환 부가 반응 생성물이고, 상기 다가 알코올로서 디펜타에리스리톨, 펜타에리스리톨, 트리메틸롤프로판, 글리세린, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프탈산의 에틸렌옥시드 부가물 등을 들 수 있고, 그 중에서도 트리메틸롤프로판이 바람직하다.
가용성 합성 고분자 화합물이 엘라스토머 바인더인 경우 적합하게 사용되는 광중합성 불포화 화합물로서는, 중합성 인쇄판의 제조에 사용할 수 있고 또한 엘라스토머 바인더와 상용성인 관용의 중합 가능한 에틸렌성 모노 또는 폴리 불포화 유기 화합물이다. 해당 화합물의 예로서는 스티렌, 비닐톨루엔, t-부틸스티렌, α-메틸스티렌, 아크릴로니트릴, (메타)아크릴산, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, iso-프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, iso-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, n-데실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, n-트리데실(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 모노메틸에테르 모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 모노메틸에테르 모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 모노에틸에테르 모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 모노에틸에테르 모노(메타)아크릴레이트, n-부톡시에틸 (메타)아크릴레이트, 페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-페녹시프로필 (메타)아크릴레이트, 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴 (메타)아크릴레이트, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 알릴 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐 (메타)아크릴레이트, 2,3-디클로로프로필 (메타)아크릴레이트, 3-클로로-2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트, N-t-부틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트, 아크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N,N-디에틸아크릴아미드, 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 (메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올 디(메타)아크릴레이트, 1,10-데칸디올 디(메타)아크릴레이트, 1,12-도데칸디올 디(메타)아크릴레이트, 1,14-테트라데칸디올 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 글리세롤 디(메타)아크릴레이트, 글리세롤알릴옥시 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸롤에탄 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸롤에탄 트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸롤프로판 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 디시클로펜틸디메틸렌 디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타데칸 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디일디메틸 디(메타)아크릴레이트, 트리알릴 시아누레이트, 트리알릴 이소시아누레이트, 트리알릴 트리메리테이트, 디알릴 프탈레이트, 디비닐 벤젠, 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트, 폴리에스테르 (메타)아크릴레이트, 올리고부타디엔 (메타)아크릴레이트, 올리고이소프렌 (메타)아크릴레이트, 올리고프로필렌 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 어느 1종류를 단독으로 사용하더라도, 2종류 이상을 병용하더라도 좋다.
광개시제의 예로서는 벤조페논류, 벤조인류, 아세토페논류, 벤질류, 벤조인알킬에테르류, 벤질알킬케탈류, 안트라퀴논류, 티옥산톤류 등을 들 수 있다. 구체적으로는 벤조페논, 클로로벤조페논, 벤조인, 아세토페논, 벤질, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤질디메틸케탈, 벤질디에틸케탈, 벤질디이소프로필케탈, 안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-메틸안트라퀴논, 2-알릴안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논, 티옥산톤, 2-클로로티옥산톤 등을 들 수 있다. 이들은 어느 1종류를 단독으로 사용하더라도, 2종류 이상을 병용하더라도 좋다.
또한, 본 발명에 있어서의 감광성 수지층은 가용성 합성 고분자 화합물, 중합성 화합물 및 광개시제 이외에 첨가제, 예를 들면 가소제, 열중합 방지제, 염료, 산화방지제 등을 포함하더라도 좋다.
상기 감광성 수지층은 각 성분의 재료를 적절히 변경함으로써 수용성 현상액, 반수용성 현상액 또는 유기용제성 현상액에 가용 또는 분산되는 것으로 제조할 수 있는데, 물 또는 수성 매체로 현상할 수 있는 것으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 이러한 물 또는 수성 매체로 현상할 수 있는 감광성 수지층으로 하는 경우, 구체적으로는 EP-A767407호 공보, 일본국 특개소60-211451호 공보, 일본국 특개평2-175702호 공보, 일본국 특개평4-3162호 공보, 일본국 특개평2-305805호 공보, 일본국 특개평3-228060호 공보, 일본국 특개평10-339951호 공보 등에 기재되어 있는 감광성 수지층에 상당하는 것으로 하는 것이 바람직하다.
본 발명의 기재(1)은 감광성 수지판에 응용하면 커버 필름이 되는 것으로, 상기 커버 필름은 원판을 저장하거나 취급하는 동안에 IR 애블레이션층의 보호를 위하여 설치되는 것이며, IR 조사 전 또는 IR 조사 후에 제거(박리)된다.
본 발명에 있어서 기재(1)(커버 필름)의 구성재료로서는 폴리아미드; 폴리비닐알코올; 에틸렌과 비닐아세테이트와의 코폴리머; 양성 인터폴리머; 히드록시알킬셀룰로오스, 셀룰로오스 아세테이트와 같은 셀룰로오스계 폴리머; 폴리부티랄; 고리형상 고무 등이 적합하다. 여기서 양성 인터폴리머는 미국특허 제4,293,635호에 기재되어 있는 것이다. 해당 재료는 어느 1종류를 단독으로 사용하더라도, 2종류 이상을 병용하더라도 좋다. 또한, 니트로셀룰로오스와 니트로글리세린과 같은 자기 산화성 화합물; 알킬셀룰로오스(예, 에틸셀룰로오스), 폴리아크릴산 및 그 알칼리금속염과 같은 비자기산화성 폴리머; 폴리아세탈; 폴리이미드; 폴리카보네이트; 폴리에스테르; 폴리에틸렌, 폴리부틸렌과 같은 폴리알킬렌; 폴리페닐렌에테르; 폴리에틸렌옥시드; 폴리락톤 및 이들의 조합 등도 사용할 수 있다.
또한, 상기 이외에 기재(커버 필름)의 재료로서는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트, 나일론 6, 나일론 4, 나일론 66, 나일론 12, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 전방향족(全芳香族) 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리설폰, 폴리페닐렌설피드, 폴리페닐렌옥시드 등이 적합하다. 이들은 어느 하나를 단독으로 사용하더라도, 2종류 이상을 병용하더라도 좋다. 또한, 이들에 다른 유기 중합체를 소량 공중합하거나 혼합하더라도 좋다. 기재의 두께는 10~300 ㎛가 바람직하고, 특히 바람직하게는 10~200 ㎛이다.
본 발명에 있어서 상기 지지체는 가요성(可撓性)을 가지고 또 치수안정성이 우수한 재료가 바람직하게 사용되며, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름 또는 폴리카보네이트를 들 수 있다. 지지체의 두께는 50~350 ㎛, 바람직하게는 100~250 ㎛가 원판의 기계적 특성, 형상 안정성 또는 인쇄판 제판시의 취급성 등에서 바람직하다. 또한 필요에 따라 지지체와 감광성 수지층의 접착을 향상시키기 위해, 이러한 종류의 목적으로 종래부터 사용되고 있는 공지의 접착제를 표면에 설치하더라도 좋다.
본 발명 IR 애블레이션용 적층체를 작성하는 방법으로서는 특별히 한정되지는 않지만, 기재(커버 필름)에 도포, 스프레이 코팅 등으로 비IR 감수성 고분자 수지층을 형성한 후 계속해서 진공 증착, 스퍼터링 등으로 IR 흡수성 금속층을 형성하고 다른 쪽 적층체를 형성함으로써 얻을 수 있다.
또한, 상기 감광성 인쇄원판을 제작하는 방법으로서는 일반적으로는 지지체 위에 도포, 스프레이 코팅 등으로 감광성 수지층을 형성하거나, 또는 시판의 감광성 인쇄판으로부터 보호 필름을 박리함으로써 한쪽 적층체를 작성하고, 추가로 이것과는 별도로 상기 본 발명 IR 애블레이션용 적층체를 형성하여 이들 2개의 적층체를 열프레스기 등을 사용하여 라미네이트함으로써 제작할 수 있다. 라미네이트 조건은 온도를 실온~150℃, 바람직하게는 50~120℃로 하고, 압력을 20~200 kg중/㎠, 바람직하게는 50~150 kg중/㎠로 하는 것이 좋다.
상기 감광성 수지 원판으로부터의 인쇄판 제작은 이하와 같이 하여 행한다.
커버 필름을 박리한 후 또는 남긴 채로 IR 애블레이션층에 IR 레이저에 의한 화상 조사를 행함으로써 IR 애블레이션을 실시하여 감광성 수지층 위에 마스크를 형성한다. 적당한 IR 레이저의 예로서는 ND/YAG 레이저(1064 nm) 또는 다이오드 레이저(예, 830 nm)를 들 수 있다. 컴퓨터 제판기술에 적당한 레이저 시스템은 시판되고 있어, 예를 들면 다이오드 레이저 시스템 OmniSetter(등록상표)(Fa. Misomex; 레이저 파장: 830 nm; 작업폭: 1800 mm) 또는 ND/YAG 레이저 시스템 Digilas(등록상표)(Fa. Schepers)를 들 수 있다. 이들은 각각 감광성 인쇄원판을 보유하는 회전 원통 드럼, IR 레이저의 조사 장치 및 레이아웃 컴퓨터를 포함한다. 화상 정보는 레이아웃 컴퓨터로부터 레이저 장치로 직접 옮겨진다.
이어서, 상기와 같이 하여 마스크를 IR 애블레이션층에 써 넣은 후 감광성인쇄판에 마스크를 사이에 두고 화학선을 전면 조사한다. 이것은 레이저 실린더 위에서 직접 행하는 것이 유리하다. 또는, 판을 레이저 장치로부터 떼어내 관용의 평판의 조사 유닛으로 조사하더라도 좋다. 조사공정 동안, 감광성 수지층은 상기 마스크의 형성공정(융제공정)에서 노출된 영역에서 중합되고, 한편 조사광을 통과시키지 않는 IR 애블레이션층에 의하여 여전히 피복되어 있는 IR 애블레이션층 영역에서는 중합은 일어나지 않는다. 활성광선의 조사는 관용의 진공 프레임으로 산소를 제거하여 행하는 것도 가능하지만 대기 산소의 존재하에 행하는 것이 유리하다.
상기와 같이 하여 활성광선이 조사된 판은 현상공정에 제공된다. 현상공정은 관용의 현상 유닛으로 실시할 수 있고, 판의 성질에 따라 물, 유기용제 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 현상하는 동안에 감광성 수지층의 비중합 영역 및 IR 애블레이션층의 잔류부는 제거된다. IR 애블레이션층을 1종류의 용제 또는 용제 혼합물로 먼저 제거하고, 다른 현상제로 감광성 수지층을 현상하는 것도 가능하다. 현상공정 후 얻어진 인쇄판은 건조시킨다. 판의 건조조건은 예를 들면 45~80℃에서 5분~4시간이다. 건조한 후에 몇가지 후처리 조작을 추가로 행하더라도 좋다. 예를 들면, 인쇄판을 비점착성으로 하기 위해 살균등의 조사 또는 Br2에 의한 처리를 행할 수 있다.
실시예
이하, 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만,본 발명은 이들 실시예에 의하여 한정되지는 않는다.
실시예 1
애블레이션층의 제작
케미컬 매트 처리를 행한 PET 필름(원반(原反)은 토요 보세키제의 E5002로 두께 125 ㎛)에 폴리비닐알코올(닛폰 고세이 가가쿠 고교제 고세놀 AH-26)/프로필렌글리콜(아사히덴카제)/계면활성제(다이이찌 고교 세이야쿠제 에판 740)/순수=8.75 g/8.75 g/0.01 g/332.5 g의 비율로 용해한 수용액을 바 코터 #26으로 도포하고, 100℃, 3분간 건조하여 건조 후의 두께가 1 ㎛인 도막을 형성하고, 이어서 이 도막면에 진공 증착법에 의하여 알루미늄을 약 800Å의 두께로 증착하였다. 이 때의 광학농도(OD)는 3.5였다. 이 광학농도(OD)는 흑백 투과 농도계 DM-520(다이닛폰 스크린(주) 제조)으로 측정하였다.
실시예 2
블로킹 방지층의 제작
[포화 지방산으로 변성된 알키드 수지의 제조]
무수 프탈산과 글리세롤을 180℃까지 가열하여 제1단계의 시럽으로 하고, 용융된 스테아르산을 첨가하여 유리(遊離) 수산기를 에스테르화한다. 가열을 180℃부터 220℃까지 계속하여 산가 10(KOHmg/g)이 될 때까지 반응시켜 스테아르산 변성 알키드 수지를 얻을 수 있다.
[블로킹 방지층의 제조]
얻어진 스테아르산 변성 알키드 수지 400부, 메틸화 멜라민 수지(스미토모 가가쿠 고교: 스미말 M-100) 100부를 톨루엔 25000부, 메틸에틸케톤 24500부에 용해시켜 조제한 고형분 1중량%의 도포액을 두께 100 ㎛, 폭 1000 mm, 길이 1200 m의 이축연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(토요 보세키제 E5002)의 한쪽 면에 그라비아 코팅을 행함으로써 롤형상의 블로킹 방지층을 코팅한 필름을 얻었다. 코팅, 건조 후의 도막 두께는 0.1 ㎛였다.
IR 애블레이션층의 제조
상기 블로킹 방지층을 코팅한 필름의 코팅과는 반대면에 폴리비닐알코올(닛폰 고세이 가가쿠 고교(주)제 고세놀 KH-20) 2000부, 폴리에틸렌글리콜과 프로필렌글리콜의 공중합체(산요 가세이(주)제 선플렉스 SE-270) 1500부를 순수 66500부에 용해시켜 조제한 고형분 5중량%의 도포액을 그라비아 코팅하여 롤형상의 IR 애블레이션층의 전구체를 형성한 롤형상의 필름을 얻었다. 이 때 건조 후의 도막 두께는 2.0 ㎛였다. 또한 롤로부터 감아냈을 때의 블로킹 흔적은 보이지 않았다. 이어서, 이 IR 애블레이션층의 전구체면에 진공 증착법에 의하여 알루미늄을 두께 약 600Å으로 증착하였다. 이 때의 광학농도(OD)는 3.0이었다. 이 광학농도(OD)는 흑백 투과 농도계 DM-520(다이닛폰 스크린(주) 제조)으로 측정하였다. 증착한 롤을 감아내어 IR 애블레이션층을 평가한 결과, 증착면은 얼룩이나 모양은 없고 금속 광택이 있으며 커버 필름에 강고하게 접착되어 있어, 문제가 없는 롤형상의 커버 필름 부착 IR 애블레이션층(알루미늄 증착 필름)을 얻을 수 있다.
실시예 3
이형층의 제작
[이형층의 제조]
실시예 2에서 얻어진 스테아르산 변성 알키드 수지 400부, 메틸화 멜라민 수지(스미토모 가가쿠 고교: 스미말 M-100) 100부를 톨루엔 25000부, 메틸에틸케톤 24500부에 용해시켜 조제한 고형분 1중량%의 도포액을 두께 100 ㎛, 폭 1000 mm, 길이 1200 m의 이축연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(토요 보세키제 E5002)의 한쪽 면에 그라비아 코팅을 행함으로써 롤형상의 이형층을 코팅한 필름을 얻었다. 코팅, 건조 후의 도막 두께는 0.1 ㎛였다.
IR 애블레이션층의 제조
상기 이형층을 코팅한 필름의 코팅측에 폴리비닐알코올(닛폰 고세이 가가쿠 고교(주)제 고세놀 KH-20) 2000부, 폴리에틸렌글리콜과 프로필렌글리콜의 공중합체(산요 가세이(주)제 선플렉스 SE-270) 1500부를 순수 66500부에 용해시켜 조제한 고형분 5중량%의 도포액을 그라비아 코팅하여 롤형상의 IR 애블레이션층의 전구체를 형성한 롤형상의 필름을 얻었다. 이 때 건조 후의 도막 두께는 2.0 ㎛였다. 이어서, 이 IR 애블레이션층의 전구체면에 진공 증착법에 의하여 알루미늄을 두께 약 600Å으로 증착하였다. 이 때의 광학농도(OD)는 3.0이었다. 이광학농도(OD)는 흑백 투과 농도계 DM-520(다이닛폰 스크린(주) 제조)으로 측정하였다. 증착한 롤을 감아내어 IR 애블레이션층을 평가한 결과, 증착면은 얼룩이나 모양은 없고 금속 광택이 있으며 커버 필름면으로부터의 이상 박리는 보이지 않아, 문제가 없는 롤형상의 커버 필름 부착 IR 애블레이션층(알루미늄 증착 필름)을 얻을 수 있었다.
실시예 4
실시예 2에서 얻어진 스테아르산 변성 알키드 수지 함유의 도포액을 이축연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(토요 보세키제 E5002)의 양면에 그라비아 코팅을 행하는 것 이외에는 모두 실시예 2와 동일하게 하여 이형층과 블로킹 방지층을 가지는 커버 필름을 얻었다. 얻어진 커버 필름에 실시예 3과 동일하게 하여 IR 애블레이션층을 설치함으로써 커버 필름 부착 IR 애블레이션층(알루미늄 증착 필름)을 얻을 수 있었다.
비교예 1
하기 표 1에 나타내는 성분을 사용하여 카본 블랙, 폴리비닐알코올(닛폰 고세이 가가쿠샤제 고세놀 GH-23, 열분해 개시온도 220℃, 극한 산소지수 22.5) 및 가소제를 포함하는 분산액을 조제하였다. 상기 분산액을 #26의 바 코터로 PET 필름(두께 125 ㎛)에 도포하여, 100℃, 3분간 건조하고 물을 증발시켜, 평활하고 무점착인 도포막(4.1 g/㎡의 도포량 및 4.8의 화학선 영역의 광학농도)을 얻어, 즉IR 애블레이션층과 PET 필름으로 된 애블레이션용 적층체를 얻었다.
성분 배합량 g 물을 뺀 중량% 비고
GH-23의 3% 수용액 53.9 36.3
폴리에틸렌글리콜 #400 1.13 25.4 가소제
에판 740 0.004 0.09 분산제(계면활성제)
카본 블랙 CW1 8.5 38.2 20% 수분산액
증류수 36.0 -
카본 블랙 CW1: 오리엔트 가가쿠제
폴리에틸렌글리콜 #400: 나카라이테스크제
에판 740: 다이이찌 고교 세이야쿠제
참고예 1
원판의 제작
두께 250 ㎛의 PET 필름 지지체(토요 보세키 E5002), 감광성 수지층, 폴리비닐알코올층 및 PET 보호 필름으로 구성되는 감광성 인쇄판(Printight EF95GC(토요 보세키제))의 PET 보호 필름을 박리하고, 더욱이 하층의 폴리비닐알코올층을 감광성 수지층으로부터 관용의 접착 테이프를 사용하여 제거하였다. 노출시킨 감광성 수지층에 상기 실시예 1에서 제작한 커버 필름 부착 IR 애블레이션층(알루미늄 증착 필름)의 증착면을 겹치고 열프레스기를 사용해 100℃, 100 kg중/㎠로 라미네이트하여, PET 지지체, 감광성 수지층, 알루미늄 증착층, 폴리비닐알코올층 및 케미컬 매트화 PET 보호 필름(커버 필름)으로 된 판을 얻었다. 이 판의 총 두께는 1.05mm였다.
IR 애블레이션
먼저 상기 원판으로부터 케미컬 매트화 PET 보호 필름(커버 필름)을 박리하였다. 이 때 보호 필름(커버 필름) 만 박리되고 폴리비닐알코올층과 알루미늄 증착층은 감광성 수지층 위에 남아 있었다. 이 감광성 수지층 위를 10배 루페로 확대하여 관찰한 바, 폴리비닐알코올층과 알루미늄 증착층에 파손이나 흠집은 인지되지 않았다. 이 판을 Cyrel Digital Imager Spark(BARCO사제)의 회전 드럼에 폴리비닐알코올층이 바깥쪽이, 지지체의 PET 필름이 안쪽이 되도록 돌려 붙여 진공흡인한 후 다이오드 레이저로 화상 형성을 행하였다. 사용한 본 장치의 레이저 출력은 4.8 mW, 레이저 해상도는 2540 dpi, 레이저 스팟 지름은 직경 15 ㎛였다. 회전 드럼은 1500 rpm으로 회전시켰다. IR 애블레이션 후 판을 빼내어 10배 루페로 확대하여 관찰한 바, 문제 없이 알루미늄 증착층이 애블레이션되어 있는 것을 확인하였다.
제판의 실시
상기 IR 애블레이션한 디지털 화상 마스크로 덮인 감광성 인쇄판 전면에 활성광선을 3분간 조사하고, 그 후 관용의 현상 유닛(TOMIFLEX; 토미히로 산교샤제 현상기)으로 25℃, 2분간 현상하였다. 현상액에는 수돗물을 사용하였다. 현상공정 중, IR 애블레이션층의 잔부(알루미늄 증착층, 폴리비닐알코올층) 및 감광성 수지층의 비조사 영역은 제거되고 활성광선의 조사 영역이 남았다. 현상 후 70℃에서10분간 건조한 후 활성광선으로 5분간 조사하였다.
완성된 볼록판 인쇄판을 10배의 확대 루페로 검사하였다. 2포인트의 볼록부 및 오목문자, 30 ㎛ 폭의 가는 선, 100 ㎛ 직경의 독립점 및 156 lpi, 1% 망점(網点) 모두의 시험 패턴이 정확하게 형성되어 있었다.
참고예 2
원판의 제작
참고예 1과 동일하게 두께 100 ㎛의 PET 필름 지지체(토요 보세키제 E5002), 감광성 수지층, 폴리비닐알코올층 및 케미컬 매트화 PET 보호 필름으로 구성되는 감광성 플렉소 인쇄판(Cosmolight NEO(토요 보세키제))의 케미컬 매트화 PET 보호 필름을 박리하고, 더욱이 하층의 폴리비닐알코올층을 감광성 수지층으로부터 관용의 접착 테이프를 사용하여 제거하였다. 노출시킨 감광성 수지층에 상기 실시예 2에서 제작한 커버 필름 부착 IR 애블레이션층(알루미늄 증착 필름)의 증착면을 겹치고 열프레스기를 사용해 100℃, 100 kg중/㎠로 라미네이트하여, PET 지지체, 감광성 수지층, 알루미늄 증착층, 폴리비닐알코올층 및 케미컬 매트화 PET 보호 필름(커버 필름)으로 된 판을 얻었다. 이 판의 총 두께는 1.90 mm였다.
IR 애블레이션
먼저, 릴리프 심도를 보통 사용되는 약 0.8 mm로 하기 위하여 상기 플렉소판의 PET 지지체쪽으로부터 화학선(광원 Philips·10R, 365 nm에서의 조도 7.5 mW/㎠)을 20초간 조사함으로써 이노광(裏露光)을 실시하고, 이어서 케미컬 매트화 PET 보호 필름(커버 필름)을 박리하였다. 이 때 보호 필름(커버 필름) 만 박리되고, 폴리비닐알코올층과 알루미늄 증착층은 감광성 수지층 위에 남아 있었다. 이 감광성 수지층 위를 10배 루페로 확대하여 관찰한 바, 폴리비닐알코올층과 알루미늄 증착층에 파손이나 흠집은 인지되지 않았다. 이 판을 Cyrel Digital Imager Spark(BARCO사제)의 회전 드럼에 폴리비닐알코올층이 바깥쪽이, 지지체의 PET 필름이 안쪽이 되도록 돌려 붙여 진공흡인한 후 다이오드 레이저로 화상 형성을 행하였다. 사용한 본 장치의 레이저 출력은 4.8 mW, 레이저 해상도는 2540 dpi, 레이저 스팟 지름은 직경 15 ㎛였다. 회전 드럼은 1500 rpm으로 회전시켰다. IR 애블레이션 후 판을 빼내어 10배 루페로 확대하여 관찰한 바, 문제 없이 알루미늄 증착층이 애블레이션되어 있는 것을 확인하였다.
제판의 실시
상기 IR 애블레이션한 디지털 화상 마스크로 덮인 감광성 플렉소 인쇄판 전면에 화학선을 15분간 조사하고, 그 후 A&V(주)제 현상기(StuckSystem)로 40℃, 6분간 현상하였다. 현상액에는 식기세제 Cascade(미국 P&G제)를 1% 첨가한 수돗물을 사용하였다. 현상공정 중 IR 애블레이션층의 잔부(알루미늄 증착층, 폴리비닐알코올층) 및 감광성 수지층의 비조사 영역은 제거되고, 화학선의 조사 영역이 남았다. 현상한 후 60℃에서 20분간 건조하여 화학선으로 5분간 조사하고, 마지막에 표면 점착을 제거하기 위하여 살균등을 5분간 조사하였다. 이후, 참고예 1과 동일하게하여 판의 전면에 화학선을 조사하고 추가로 현상을 행하여 완성된 플렉소 인쇄판을 10배의 확대 루페로 검사한 바, 2포인트의 볼록부 및 오목문자, 30 ㎛ 폭의 가는 선, 100 ㎛ 직경의 독립점 및 156 lpi, 1% 망점 모두의 시험 패턴이 정확하게 형성되어 있었다.
참고예 3
원판의 제작
참고예 1과 동일하게 하여 감광성 인쇄판(Printight EF95GC(토요 보세키제))의 감광성 수지층을 노출시키고, 이 면에 실시예 3에서 얻어진 커버 필름 부착 IR 애블레이션층(알루미늄 증착 필름)의 증착면을 겹치고 열프레스기를 사용해 80℃, 100 kg중/㎠로 라미네이트하여 PET 지지체, 감광성 수지층, 알루미늄 증착층 및 CPP 필름으로 된 판을 얻었다. 이 판의 총 두께는 0.98 mm였다.
이어서, 참고예 1과 동일하게 하여 다이오드 레이저로 화상 형성(IR 애블레이션)을 행하고 판을 빼내어 10배 루페로 확대하여 관찰한 바, 문제없이 알루미늄 증착층이 애블레이션되어 있는 것을 확인하였다.
이후, 참고예 1과 동일하게 하여 판의 전면에 활성광선을 조사하고 추가로 현상을 행하여 완성된 볼록판 인쇄판을 10배의 확대 루페로 검사한 바, 2포인트의 볼록부 및 오목문자, 30 ㎛ 폭의 가는 선, 100 ㎛ 직경의 독립점 및 156 lpi, 1% 망점 모두의 시험 패턴이 정확하게 형성되어 있었다.
참고예 4
참고예 1에 있어서, 실시예 4에서 얻어진 커버 필름 부착 IR 애블레이션층(알루미늄 증착 필름)을 사용한 것 이외에는 모두 참고예 1과 동일하게 하여 제판한 후 인쇄판을 얻었다. 그 결과, 참고예 1과 동일하게 시험 패턴이 정확하게 형성되어 있었다.
참고예 5
참고예 2에 있어서, 실시예 4에서 얻어진 커버 필름 부착 IR 애블레이션층(알루미늄 증착 필름)을 사용한 것 이외에는 모두 참고예 2와 동일하게 하여 제판한 후 인쇄판을 얻었다. 그 결과, 참고예 1과 동일하게 시험 패턴이 정확하게 형성되어 있었다.
비교 참고예 1
원판의 제작
상기 비교예 1에서 제작한 IR 애블레이션층이 설치된 PET 필름(커버 필름) 및 참고예 1과 동일한 감광성 인쇄판을 사용하고, 열프레스기를 사용해 약 100℃, 100 kg중/㎠로 라미네이트하여 PET 지지체, 감광성 수지층, IR 애블레이션층 및 PET 필름(커버 필름)으로 된 원판을 얻었다.
이어서, 얻어진 원판의 커버 필름인 PET 필름(커버 필름)을 박리하고 참고예 1과 동일하게 하여 활성광선을 조사하기 전에 IR 애블레이션층을 10배 루페로 확대하여 관찰한 바, 일부가 파손되어 있거나 다수의 흠집이 발생해 있었다.
더욱이, 참고예 1과 동일하게 하여 활성광선을 조사한 후 현상한 바, 현상액이 다량의 카본 블랙으로 오염되어 그 현상액을 다음의 판 제조에는 사용할 수 없었다. 또한, 완성된 볼록판 인쇄판을 10배의 확대 루페로 검사한 바, 상기의 IR 애블레이션층에 발생한 흠집 등의 영향에 의하여 목적으로 하는 화상 이외의 미소한 볼록부나 릴리프의 결손부가 인지되어 화상 재현성이 나쁜 것이었다.
이상의 설명에 의하여 명백한 바와 같이, 본 발명 애블레이션용 적층체를 사용함으로써 종래의 설비나 방법을 그대로 이용할 수 있고, 용이하게 또한 고정도(高精度)의 마스크 형성이 가능하여 고품위의 인쇄 화상이 얻어지는 인쇄판이나 릴리프판을 얻을 수 있다. 또한, 현상시 현상액의 오염이 적기 때문에 여러 장을 연속하여 현상할 수 있는 등 산업계에 기여하는 바가 크다.

Claims (8)

  1. 적어도 기재 및 IR 애블레이션층을 가지는 애블레이션용 적층체로서, 상기 애블레이션층이 IR 흡수성 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 IR 애블레이션용 적층체.
  2. 제1항에 있어서, IR 흡수성 금속층이 금속 증착층인 IR 애블레이션용 적층체.
  3. 제1항에 있어서, 기재의 IR 애블레이션층과는 반대쪽에 블로킹 방지층을 가지고 있는 IR 애블레이션용 적층체.
  4. 제1항에 있어서, 기재와 IR 애블레이션층 사이에 이형층을 가지고 있는 IR 애블레이션용 적층체.
  5. 제1항에 있어서, 블로킹 방지층 또는 이형층이 열경화성 수지를 함유하고 있는 IR 애블레이션용 적층체.
  6. 제1항에 있어서, 블로킹 방지층 또는 이형층이 알키드 수지를 함유하고 있는 IR 애블레이션용 적층체.
  7. 제1항에 있어서, 기재와 IR 흡수성 금속층 사이에 비IR 감수성 고분자 수지층을 가지고 있는 IR 애블레이션용 적층체.
  8. 제4항에 있어서, 이형층과 IR 흡수성 금속층 사이에 비IR 감수성 고분자 수지층을 가지고 있는 IR 애블레이션용 적층체.
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