TWI750158B - 偏光板製造廢液之處理方法 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題在於提供一種偏光板製造廢液之處理方法，其可自偏光板製造廢液中輕易且有效率地回收碘化鉀溶液。 解決手段上，前述自偏光板製造廢液中回收碘化鉀溶液的偏光板製造廢液之處理方法，係具備下述步驟：濃縮步驟，將偏光板製造廢液之pH維持在3.5~8.0同時進行蒸發濃縮而生成含硼酸及聚乙烯醇之析出物；及固液分離步驟，將已自偏光板製造廢液中固液分離出前述析出物後之濾液予以回收。

Description

偏光板製造廢液之處理方法
發明領域 本發明係關於一種偏光板製造廢液之處理方法，更詳而言之，係關於一種自偏光板製造步驟所產生之廢液中回收碘化鉀溶液的偏光板製造廢液之處理方法。
發明背景 偏光板製造步驟所產生之廢液中，含有碘或硼、鉀等無機物成分及聚乙烯醇(PVA)等有機物成分，對這類偏光板製造廢液之處理方法一直以來都探討不絕。
習知之偏光板製造廢液之處理方法，一般是添加氫氧化鈉等的鹼來濃縮，但容易讓碘的回收變得繁瑣，因此專利文獻1中便揭示了藉由對廢液進行電透析將含有機物成分之脫鹽液與含無機物成分之濃縮液分離，然後再處理濃縮液以將碘成分等回收。 先前技術文獻 專利文獻
[專利文獻1]日本專利特開2001-314864號公報
發明概要 發明欲解決之課題 然而，如上述藉由電透析處理廢液之方法，容易發生維護上之問題，而且還有裝置成本提高之問題。
因此，本發明之目的即在於提供一種可自偏光板製造廢液中輕易且有效率地回收碘化鉀溶液的偏光板製造廢液之處理方法。 用以解決課題之手段
本發明之前述目的可藉由下述自偏光板製造廢液中回收碘化鉀溶液的偏光板製造廢液之處理方法達成，該處理方法具備下述步驟：濃縮步驟，將偏光板製造廢液之pH維持在3.5~8.0同時進行蒸發濃縮而生成含硼酸及聚乙烯醇之析出物；及固液分離步驟，將自偏光板製造廢液中固液分離出前述析出物後之濾液予以回收。
該偏光板製造廢液之處理方法宜於前述濃縮步驟與前述固液分離步驟之間具備一冷卻晶析步驟，係將蒸發濃縮後之偏光板製造廢液進行冷卻晶析。
又，宜更具備一凝結步驟，係使前述濃縮步驟所生成之蒸氣於碘氣體回收後凝結。 發明效果
依據本發明，即可提供一種可自偏光板製造廢液中輕易且有效率地回收碘化鉀溶液的偏光板製造廢液之處理方法。
用以實施發明之形態 以下，就本發明之一實施形態參照附圖進行說明。圖1係本發明一實施形態之偏光板製造廢液之處理方法的概略步驟圖。如圖1所示，偏光板製造廢液之處理方法首先於濃縮步驟1將偏光板製造廢液進行蒸發濃縮。
偏光板製造廢液係製造用於液晶顯示器等之偏光板的步驟中所產生之廢液。偏光板之製造步驟一般係使由聚乙烯醇(PVA)構成之薄膜浸漬於碘化鉀(KI)溶液後再於硼酸(H3 BO3 )水溶液中延伸並經過水洗及乾燥來製造偏光板。因此，偏光板製造廢液中含有PVA，更含有主要呈離子狀態之KI或H3 BO3 等。偏光板製造廢液之pH在3.5~8.0之範圍，因含硼酸溶液所以通常為酸性，但亦可為中性附近之偏光板製造廢液。
濃縮步驟1的進行未如習知添加氫氧化鈉等的鹼，而是一面維持在酸性到中性一面蒸發濃縮。濃縮步驟1之蒸發濃縮方法並未特別限定，例如可列舉下述諸方法等：將已供給於蒸發器之偏光板製造廢液散佈在配置於蒸發器內之傳熱管群表面使其蒸發的方法；及，將偏光板製造廢液加熱後導入閃蒸器使其急驟蒸發的方法。
若偏光板製造廢液是以酸性狀態被濃縮，則蒸發器或閃蒸器之液體接觸部或氣體接觸部宜使用耐蝕性高之樹脂材料等。
濃縮步驟1所生成之蒸氣會於凝結步驟2時凝結而生成凝結水。凝結步驟2之進行係例如將蒸氣從濃縮步驟1所使用之蒸發器或閃蒸器經由蒸氣配管導入凝結器，並藉由冷卻水予以冷卻。蒸氣中所含碘氣體(I2 氣體)雖亦可藉由添加還原劑來抑制其產生，但宜不添加還原劑而是回收I2 氣體。即，可於蒸發器或閃蒸器與凝結器之間設置洗滌器，使伴隨蒸氣之碘於洗滌器內被KOH等鹼溶液吸收來將其回收。KOH洗滌器之內部宜控制成pH為11~13。已吸收去除I2 氣體後之蒸氣可於凝結器中凝結，但亦可藉由蒸氣壓縮機將其一部分或全部升溫而作為濃縮步驟1之加熱源利用。經於KOH洗滌器中與I2 氣體反應而生成之KI亦可於濃縮步驟1時與偏光板製造廢液一起更為濃縮。
另一方面，廢液一旦於濃縮步驟1濃縮，則廢液中所含硼酸就會析出。圖2係以相對於溶液之重量%來表示碘化鉀(KI)及硼酸(H3 BO3 )之相互溶解度的圖。進行濃縮步驟1前之偏光板製造廢液中所含KI及H3 BO3 之濃度以A點表示的情形下，若於濃縮步驟1中在70℃下將偏光板製造廢液蒸發濃縮，KI及H3 BO3 之濃度將往B點移動。KI及H3 BO3 於A點移動至B點期間，可維持溶解於偏光板製造廢液中之狀態。
其後，若維持70℃將偏光板製造廢液進一步蒸發濃縮，便開始析出H3 BO3 ，並且在產生H3 BO3 之結晶的同時，偏光板製造廢液中之KI及H3 BO3 之濃度會沿溶解度線從B點移動至C點。在C點之濃縮後的偏光板製造廢液中，KI為高濃度(例如20%以上)，H3 BO3 則為低濃度。
又，由於偏光板製造廢液中含有PVA，故如上述在高溫下蒸發濃縮偏光板製造廢液，則PVA將聚合形成膠狀。舉一例來說，進行濃縮步驟1前之偏光板製造廢液中含有0.3重量%之PVA的情形下，藉由在50℃以上進行濃縮步驟1，即可將60%以上PVA分離。
如此一來，經濃縮步驟1濃縮後之偏光板製造廢液，該偏光板製造廢液中所含硼酸及PVA大多會成為污泥。該含有污泥之偏光板製造廢液於固液分離步驟3時會固液分離成KI溶液與析出物。固液分離之方法並無特別限定，可使用例如加壓過濾(壓濾機)、真空過濾、離心過濾等各種過濾及傾析器型等離心分離等的公知方法。
經固液分離步驟3所得KI溶液之濾液如上所述為高濃度，因此可於偏光板之製造步驟中再利用。為了提高KI之純度，可將該濾液更進一步濃縮而取得KI結晶。另一方面，硼酸及PVA等析出物則是妥適回收或作廢棄物處理。
本實施型態之偏光板製造廢液之處理方法並非對偏光板製造廢液添加鹼，而是進行蒸發濃縮後將硼酸及PVA等不純物之大部分予以固液分離而去除，藉此得以容易在現場回收可於偏光板製造步驟再利用等級的KI溶液，故可刪減偏光板之製造步驟中之KI添補量。
以上係就本發明之一實施形態詳加敘述，但本發明之具體態樣並非以上述實施形態為限。舉例言之，於圖1所示偏光板製造廢液之處理方法中之濃縮步驟1與固液分離步驟3間，可如圖3所示追加一冷卻晶析步驟4。冷卻晶析步驟4例如可採用下述裝置進行：該裝置係沿晶析槽之內部或外壁配置熱交換器，並將已供給於晶析槽之偏光板製造廢液一面藉由攪拌葉片攪拌一面進行冷卻者。供給於熱交換器之冷媒宜使用業經冷卻塔冷卻之冷卻水，但亦可使用工業用水或海水等作為冷媒。於冷卻晶析步驟4中，宜將偏光板製造廢液冷卻至45℃以下，較佳為40~45℃，更佳為冷卻至常溫(以具體例而言為30℃以下)。
依據該偏光板製造廢液之處理方法，可與圖1所示偏光板製造廢液之處理方法同樣藉由濃縮步驟1將硼酸及PVA作成可自KI溶液分離的污泥，然後藉由冷卻晶析步驟4將硼酸進一步進行晶析，而得到純度更高之KI溶液。即，於顯示圖4所示KI及H3 BO3 之相互溶解度的圖中，藉由濃縮步驟1從A點經B點移動至C點之KI及H3 BO3 的濃度，會藉由冷卻晶析步驟4而移動至D點，因此濃縮後之偏光板製造廢液中所含H3 BO3 之濃度可更為降低。
1‧‧‧濃縮步驟2‧‧‧凝結步驟3‧‧‧固液分離步驟4‧‧‧冷卻晶析步驟
圖1係本發明一實施形態之偏光板製造廢液之處理方法的概略步驟圖。 圖2係利用顯示碘化鉀及硼酸之相互溶解度之圖表說明圖1所示偏光板製造廢液之處理方法的圖。 圖3係本發明另一實施形態之偏光板製造廢液之處理方法的概略步驟圖。 圖4係利用顯示碘化鉀及硼酸之相互溶解度之圖表說明圖2所示偏光板製造廢液之處理方法的圖。
1‧‧‧濃縮步驟
2‧‧‧凝結步驟
3‧‧‧固液分離步驟

Claims (2)

  1. 一種偏光板製造廢液之處理方法，係自偏光板製造廢液中回收碘化鉀溶液；該處理方法具備下述步驟：濃縮步驟，不添加鹼並將偏光板製造廢液之pH維持在3.5~8.0同時進行蒸發濃縮而生成含硼酸及聚乙烯醇之析出物；及固液分離步驟，將已自偏光板製造廢液中固液分離出前述析出物後之濾液予以回收；前述濃縮步驟與前述固液分離步驟之間具備一冷卻晶析步驟，係將蒸發濃縮後之偏光板製造廢液進行冷卻晶析；且前述濃縮步驟中以酸性狀態濃縮偏光板製造廢液。
  2. 如請求項1之偏光板製造廢液之處理方法，其更具備一凝結步驟，係使前述濃縮步驟所生成之蒸氣於碘氣體回收後凝結。
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