JP2019209272A - 偏光板製造廃液の処理方法および処理装置 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 85
- 239000002699 waste material Substances 0.000 title claims abstract description 85
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title abstract 6
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 236
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 106
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 82
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims abstract description 59
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims abstract description 59
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 47
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 60
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 33
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 27
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 20
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 19
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 9
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 9
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 claims description 8
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 5
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VLCLHFYFMCKBRP-UHFFFAOYSA-N tricalcium;diborate Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] VLCLHFYFMCKBRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 64
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 19
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 15
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 2
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- MBBZMMPHUWSWHV-BDVNFPICSA-N N-methylglucamine Chemical group CNC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO MBBZMMPHUWSWHV-BDVNFPICSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- -1 boron ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- UNJPQTDTZAKTFK-UHFFFAOYSA-K cerium(iii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Ce+3] UNJPQTDTZAKTFK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000011085 pressure filtration Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003828 vacuum filtration Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/58—Treatment of water, waste water, or sewage by removing specified dissolved compounds
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D35/00—Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
- B01D35/02—Filters adapted for location in special places, e.g. pipe-lines, pumps, stop-cocks
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D36/00—Filter circuits or combinations of filters with other separating devices
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01D—COMPOUNDS OF ALKALI METALS, i.e. LITHIUM, SODIUM, POTASSIUM, RUBIDIUM, CAESIUM, OR FRANCIUM
- C01D3/00—Halides of sodium, potassium or alkali metals in general
- C01D3/12—Iodides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01D—COMPOUNDS OF ALKALI METALS, i.e. LITHIUM, SODIUM, POTASSIUM, RUBIDIUM, CAESIUM, OR FRANCIUM
- C01D3/00—Halides of sodium, potassium or alkali metals in general
- C01D3/14—Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/28—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption
- C02F1/285—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption using synthetic organic sorbents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
- C02F1/5236—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities using inorganic agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/001—Processes for the treatment of water whereby the filtration technique is of importance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/02—Treatment of water, waste water, or sewage by heating
- C02F1/04—Treatment of water, waste water, or sewage by heating by distillation or evaporation
- C02F1/048—Purification of waste water by evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/28—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Hydrology & Water Resources (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)
- Water Treatment By Sorption (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
Abstract
【課題】 偏光板製造廃液から高品質のヨウ化カリウム溶液を効率良く回収することができる偏光板製造廃液の処理装置を提供する。【解決手段】 偏光板製造廃液からヨウ化カリウムを回収する偏光板製造廃液の処理装置１であって、偏光板製造廃液を濃縮した後に晶析を行うことで生成された析出物を固液分離して、ホウ素およびポリビニルアルコールを含む不純物が低減されたヨウ化カリウム溶液を生成する第１処理装置１０と、得られたヨウ化カリウム溶液に残存するポリビニルアルコールをポリビニルアルコール吸着体に吸着させる第１不純物吸着装置３０と、第１不純物吸着装置３０を経たヨウ化カリウム溶液に残存するホウ素をホウ素選択吸着樹脂に吸着させる第２不純物吸着装置４０とを備える。【選択図】 図１
Description
本発明は、偏光板製造廃液の処理方法および処理装置に関し、より詳しくは、偏光板の製造工程で生じる廃液からヨウ化カリウムを回収する偏光板製造廃液の処理方法および処理装置に関する。
液晶ディスプレイ等に使用される偏光板の製造工程で生じる廃液には、ヨウ素やホウ素、カリウム等の無機物成分や、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等の有機物成分が含まれており、このような廃液の処理方法が従来から検討されている。
例えば、特許文献１には、偏光板製造廃液を蒸発濃縮してホウ酸およびポリビニルアルコールを含む析出物を生成する濃縮工程と、蒸発濃縮後の偏光板製造廃液を冷却晶析する冷却晶析工程と、析出物を固液分離したろ液を回収する固液分離工程とを備える偏光板製造廃液の処理方法が開示されている。
上記の偏光板製造廃液の処理方法によれば、偏光板製造廃液に含まれるホウ素やＰＶＡ等の不純物の大部分を除去することが可能であるが、回収されるヨウ化カリウム溶液には不純物が僅かに残留しているため、ヨウ化カリウム溶液の品質を向上させる上で更に改良の余地があった。
そこで、本発明は、偏光板製造廃液から高品質のヨウ化カリウム溶液を効率良く回収することができる偏光板製造廃液の処理方法および処理装置の提供を目的とする。
本発明の前記目的は、偏光板製造廃液からヨウ化カリウムを回収する偏光板製造廃液の処理方法であって、偏光板製造廃液を濃縮した後に晶析を行うことで生成された析出物を固液分離して、ホウ素およびポリビニルアルコールを含む不純物が低減されたヨウ化カリウム溶液を生成する第１処理工程と、得られたヨウ化カリウム溶液に残存するポリビニルアルコールをポリビニルアルコール吸着体に吸着させる第１不純物吸着工程と、前記第１不純物吸着工程を経たヨウ化カリウム溶液に残存するホウ素をホウ素選択吸着樹脂に吸着させる第２不純物吸着工程とを備える偏光板製造廃液の処理方法により達成される。
この偏光板製造廃液の処理方法は、前記第１処理工程と前記第１不純物吸着工程との間に、前記第１処理工程で得られたヨウ化カリウム溶液の前記不純物を更に低減する第２処理工程を備えることが好ましい。
前記第２処理工程は、前記第１処理工程で得られたヨウ化カリウム溶液を更に濃縮してヨウ化カリウム結晶を析出させる工程と、析出されたヨウ化カリウム結晶を固液分離する工程と、固液分離されたヨウ化カリウム結晶を洗浄して不純物が除去されたヨウ化カリウム結晶を回収する工程と、回収したヨウ化カリウム結晶を溶媒に溶解させてヨウ化カリウム溶液を生成する工程とを備えることができる。この場合、ヨウ化カリウム結晶の溶解による吸熱反応により溶媒への飽和溶解度が低下して析出される不純物をろ過する工程を更に備えることが好ましい。
あるいは、前記第２処理工程は、ヨウ化カリウム溶液に含まれるホウ素をカルシウムイオンと反応させることにより生成されたホウ酸カルシウムの沈殿物を除去する工程を備えることができる。この場合、前記第２処理工程は、ヨウ化カリウム溶液に残留するカルシウムイオンを炭酸イオンと反応させることにより生成された炭酸カルシウムの沈殿物を除去する工程を更に備えることが好ましい。
前記第１不純物吸着工程が行われるヨウ化カリウム溶液は、ホウ素の濃度が、１００〜１０００ｍｇ／Ｌであることが好ましく、ポリビニルアルコールの濃度が、ＴＯＣ換算で１００〜５００ｍｇ／Ｌであることが好ましい。
また、本発明の前記目的は、偏光板製造廃液からヨウ化カリウムを回収する偏光板製造廃液の処理装置であって、偏光板製造廃液を濃縮した後に晶析を行うことで生成された析出物を固液分離して、ホウ素およびポリビニルアルコールを含む不純物が低減されたヨウ化カリウム溶液を生成する第１処理装置と、得られたヨウ化カリウム溶液に残存するポリビニルアルコールをポリビニルアルコール吸着体に吸着させる第１不純物吸着装置と、前記第１不純物吸着装置を経たヨウ化カリウム溶液に残存するホウ素をホウ素選択吸着樹脂に吸着させる第２不純物吸着装置とを備える偏光板製造廃液の処理装置により達成される。この偏光板製造廃液の処理装置は、前記第１処理装置で得られたヨウ化カリウム溶液の前記不純物を更に低減する第２処理装置を備えることが好ましい。
本発明によれば、偏光板製造廃液から高品質のヨウ化カリウム溶液を効率良く回収することができる偏光板製造廃液の処理方法および処理装置を提供することができる。
以下、本発明の一実施形態について添付図面を参照して説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る偏光板製造廃液の処理装置のブロック図である。図１に示すように、偏光板製造廃液の処理装置１は、第１処理装置１０、第１不純物吸着装置３０および第２不純物吸着装置４０を備えており、更に、第１フィルタ装置５０、第２フィルタ装置５２および第３フィルタ装置５４を備えている。この偏光板製造廃液の処理装置１は、液晶ディスプレイ等に使用される偏光板の製造工程で生じる偏光板製造廃液を処理する。偏光板の製造工程においては、一般に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）からなるフィルムをヨウ化カリウム（ＫＩ）溶液に浸漬させた後、ホウ酸（Ｈ３ＢＯ３）水溶液中で延伸させ、水洗および乾燥を経て偏光板が製造される。このため、偏光板製造廃液には、ＰＶＡが含まれており、更に、ＫＩやホウ酸等が主にイオンの状態で含まれている。
第１処理装置１０は、蒸発濃縮装置１１、冷却晶析装置１２および第１固液分離装置１３を備えており、偏光板製造廃液に含まれるホウ素やＰＶＡ等の大部分を除去することにより、ホウ素およびＰＶＡを含む不純物が低減されたＫＩ溶液を生成する。
蒸発濃縮装置１１は、偏光板製造廃液を蒸発濃縮する。これにより、偏光板製造廃液に含まれていたホウ酸およびＰＶＡの多くは過飽和条件とすることによりスラッジとなり、これらを含む析出物が偏光板製造廃液中に生成される。析出物には、ホウ酸およびＰＶＡ以外の不純物が含まれていてもよい。蒸発濃縮装置１１の構成は、偏光板製造廃液を濃縮可能であれば特に限定されないが、例えば、ヒートポンプ型、エゼクター駆動型、スチーム型、フラッシュ型などの公知の蒸発濃縮装置を挙げることができ、これらを一種または二種以上用いて構成することができる。例えば、ヒートポンプ型の濃縮装置を前段に配置し、この装置で生成された偏光板製造廃液の濃縮液を更に蒸発濃縮するフラッシュ型の濃縮装置を後段に配置して、蒸発濃縮装置１１を構成することができる。
冷却晶析装置１２は、偏光板製造廃液に含まれるホウ酸を晶析することにより、偏光板製造廃液から析出物を更に生成する。冷却晶析装置１２の構成は、例えば、ジャケット式や真空式など公知の構成を挙げることができ、偏光板製造廃液を、４５℃以下（例えば４０〜４５℃）まで冷却することが好ましく、常温（具体例としては３０℃以下）まで冷却することがより好ましい。偏光板製造廃液の晶析方法は、ホウ酸等の不純物の良好な低減効果を得るため、本実施形態のように冷却晶析装置１２による冷却晶析が好ましいが、結晶を析出させる他の操作であってもよい。
第１固液分離装置１３は、偏光板製造廃液中の析出物を固液分離する。第１固液分離装置１３の構成は、例えば、加圧ろ過（フィルタープレス）、真空ろ過、遠心ろ過などの各種ろ過装置や、デカンター型のような遠心分離装置など公知の構成を挙げることができる。
第１不純物吸着装置３０は、ポリビニルアルコール吸着体（ＰＶＡ吸着体）を備えており、第１処理装置１０から供給されたＫＩ溶液をＰＶＡ吸着体に通水することにより、ＫＩ溶液に僅かに残存するＰＶＡを吸着除去する。ＰＶＡ吸着体は、表面にＰＶＡを吸着可能な固体状のものであれば特に限定されず、粒状や繊維状等の活性炭フィルタを好ましく例示することができるが、酸化チタン等を使用することもできる。
第２不純物吸着装置４０は、ホウ素選択吸着樹脂が充填された吸着塔を備えており、第１不純物吸着装置３０を通過したＫＩ溶液を吸着塔に通水することにより、ＫＩ溶液にホウ酸として僅かに残存するホウ素を吸着除去する。ホウ素選択吸着樹脂は、ホウ素を選択的に吸着することができるものであれば特に限定されず、公知の陰イオン交換樹脂（例えば、水酸化セリウム／エチレンビニルアルコール共重合体、マイクロポーラス型スチレン系・メチルグルカミン官能基等）を使用することができる。
第１フィルタ装置５０、第２フィルタ装置５２および第３フィルタ装置５４は、いずれもセラミック膜フィルタやカートリッジフィルタ等のフィルタを備えており、第１処理装置１０と第１不純物吸着装置３０との間、第１不純物吸着装置３０と第２不純物吸着装置４０との間、および第２不純物吸着装置４０の後段に、それぞれ配置されている。第１フィルタ装置５０は、第１処理装置１０から供給されるＫＩ溶液をろ過することにより不純物を除去する。第２フィルタ装置５２は、第１不純物吸着装置３０を通過したＫＩ溶液をろ過することにより、ＫＩ溶液に混入するおそれがあるＳＳ成分（例えば、活性炭の屑等）を除去する。第３フィルタ装置５４は、第２不純物吸着装置４０を通過したＫＩ溶液をろ過することにより、ＫＩ溶液に混入するおそれがあるＳＳ成分（例えば、ホウ素選択吸着樹脂の屑等）を除去する。
次に、上記の偏光板製造廃液の処理装置１を用いた偏光板製造廃液の処理方法を説明する。
まず、偏光板製造廃液を第１処理装置１０に供給する。偏光板製造廃液のｐＨは、３．５〜８．０の範囲にあり、ホウ酸溶液を含むため通常は酸性であるが、中性付近の偏光板製造廃液であってもよい。あるいは、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のｐＨ調整剤を偏光板製造廃液に添加することにより、偏光板製造廃液のｐＨをアルカリ性（例えば、８．５〜１１であり、好ましくは８．５〜９．５）に調整してもよい。
第１処理装置１０においては、蒸発濃縮装置１１により偏光板製造廃液が濃縮された後、冷却晶析装置１２により冷却されて、冷却晶析が行われる。蒸発濃縮装置１１で濃縮される偏光板製造廃液のｐＨがアルカリ性に調整される場合、濃縮廃液のｐＨをアルカリ性に維持して冷却晶析を行うことが好ましい。この後、第１固液分離装置１３により析出物が除去される。こうして、第１処理装置１０により第１処理工程が行われ、ホウ素およびＰＶＡを含む不純物が低減されたＫＩ溶液が生成される。
第１処理工程により分離された析出物は、ホウ酸を主体とする結晶であり、ＰＶＡが含まれている。ホウ酸主体結晶は、例えば、蒸発濃縮装置１１で生成された凝縮水などを利用して洗浄し、回収することにより、例えば、半導体やＬＥＤ等の製造工程において再利用することができる。析出物には、ホウ酸およびＰＶＡ以外に、若干のＫＩ結晶も含まれていることから、洗浄後の洗浄廃液を、後述する他の実施形態における蒸発晶析装置２１（図２参照）に導入してもよい。第１処理工程における晶析は、ＫＩ結晶が析出するまで繰り返し行ってもよく、不純物からなる析出物を固液分離により除去することができる。
第１不純物吸着装置３０においては、第１処理工程で得られたＫＩ溶液に僅かに残存するＰＶＡがＰＶＡ吸着体により吸着除去される第１不純物吸着工程が行われる。この後、第２不純物吸着装置４０においては、第１不純物吸着工程を経たＫＩ溶液に僅かに残存するホウ素がホウ素選択吸着樹脂により吸着除去される第２不純物吸着工程が行われる。こうして、ＫＩ溶液に僅かに含まれていたＰＶＡおよびホウ素が、それぞれ第１不純物吸着工程および第２不純物吸着工程により除去されるため、偏光板製造廃液から高品質のヨウ化カリウム溶液を回収することができる。
本発明者らによるＫＩ溶液の高濃度試験によると、ＫＩ溶液の濃度が飽和濃度または飽和濃度に近い濃度（例えば約５５％）である場合、ＫＩ溶液に含まれるＰＶＡがホウ素選択吸着樹脂によるホウ素の吸着を阻害するため、ホウ素を十分に吸着できないことが明らかになった。そこで、本実施形態においては、第１不純物吸着工程によりＫＩ溶液中のＰＶＡを除去した後に、第２不純物吸着工程によりＫＩ溶液中のホウ素を除去することにより、上記のような高濃度のＫＩ溶液であっても、ホウ素を確実に除去することができる。
第１不純物吸着装置３０および第２不純物吸着装置４０を通過するＫＩ溶液は、第１処理装置１０によってホウ素およびＰＶＡが十分低減されているため、ホウ素選択吸着樹脂やＰＶＡ吸着体の再生負荷を大幅に低減して、高品質のヨウ化カリウム溶液の回収を効率良く行うことができる。
以上、本発明の一実施形態について詳述したが、もとの偏光板製造廃液に含まれる不純物の量が多い等の理由で、第１処理装置１０によりホウ素およびＰＶＡを含む不純物を十分に低減できない場合には、第１処理装置１０の後段に第２処理装置を設けて、第１処理工程と第１不純物吸着工程との間に、ヨウ化カリウム溶液の不純物を更に低減する第２処理工程を行ってもよい。第２処理装置の構成は特に限定されないが、図２および図３に示す構成を好ましく例示することができる。図２および図３において、図１と同様の構成部分には同一の符号を付している。
図２は、本発明の他の実施形態に係る偏光板製造廃液の処理装置のブロック図である。図２に示す偏光板製造廃液の処理装置１’は、図１に示す偏光板製造廃液の処理装置１において、第１処置装置１０と第１フィルタ５０との間に第２処理装置２０を配置したものであり、第２処理装置２０以外の構成については、図１に示す偏光板製造廃液の処理装置１と同様である。
第２処理装置２０は、蒸発晶析装置２１、第２固液分離装置２２および溶解タンク２３を備えている。蒸発晶析装置２１および第２固液分離装置２２の構成は特に限定されないが、例えば、第１処理装置１０の蒸発濃縮装置１１および第１固液分離装置１３とそれぞれ同様の構成にすることができる。本実施形態では、蒸発晶析装置２１として、フラッシュ型の蒸発装置を使用する。
蒸発晶析装置２１は、第１処理装置１０により濃縮されたＫＩ溶液を蒸発させてＫＩを過飽和にすることで、ＫＩ結晶を含む析出物を生成する。蒸発晶析の進行に伴い、ＫＩ溶液にＫＯＨを添加する等してｐＨ調整を行ってもよい。第２固液分離装置２２は、蒸発晶析装置２１で生成された析出物を固液分離して回収する。
第１処理工程によって、ＫＩ溶液に含まれるホウ酸およびＰＶＡの濃度は低減されていることから、蒸発晶析装置２１により生成される析出物は、ＫＩを主体とする結晶である。但し、ＫＩの収率を上げるために濃縮倍率を上げると、回収時に問題になり易いＰＶＡの混入量も増加する。そこで、ＫＩ結晶を第２固液分離装置２２内で洗浄することにより、ＫＩ結晶に付着する不純物が除去される。
ＫＩ結晶の洗浄に用いる洗浄液は、例えば、蒸発濃縮装置１１で生成された凝縮水を利用することもできるが、ＫＩの溶解度が高いために、溶解による減損が大きくなる。したがって、溶解による減損を低減することを目的に、既に回収されたＫＩの一部を利用する等してＫＩの飽和溶液を生成し、このＫＩ飽和溶液を用いてＫＩ結晶を洗浄することが好ましい。ＫＩ飽和溶液の濃度は、必ずしも飽和濃度である必要はなく、飽和濃度に近い高濃度であればよい。高濃度のＫＩ溶液を用いた洗浄により、ＰＶＡを効率良く除去することができ、ＰＶＡの混入が少ないＫＩ結晶を、フィルタ等により固液分離して回収することができる。洗浄液は、タンク等に貯留して循環利用することができる。
回収されたＫＩ結晶は、溶解タンク２３において水などの溶媒に溶解することで、不純物が低減されたＫＩ溶液が生成される。溶媒に水を用いた場合、ＫＩ結晶の水への溶解は吸熱反応であり、例えば、２０℃の水に対してＫＩ結晶を５５％溶液となるように溶解させると、ＫＩ溶液の温度は約−５℃になる。回収されたＫＩ結晶には、ホウ素やＰＶＡ等の不純物が取り込まれているため、ＫＩ結晶を高濃度で溶解させた溶媒の温度が低下することにより、不純物（主としてＰＶＡ）の飽和溶解度が低下して、不純物の一部または大部分が析出する。この析出物は、第１フィルタ装置５０によりろ過される。
このように、回収したＫＩ結晶を洗浄することにより、主としてＫＩ結晶の表面に付着している不純物を低減することができると共に、ＫＩ結晶の溶解による吸熱反応を利用して、ＫＩ結晶に取り込まれているＰＶＡを析出させて除去することができるので、ＰＶＡが十分に低減されたＫＩ溶液を生成することができる。したがって、第１不純物吸着装置３０が備えるＰＶＡ吸着体の負荷を低減することができる。
図３は、本発明の更に他の実施形態に係る偏光板製造廃液の処理装置のブロック図である。図３に示す偏光板製造廃液の処理装置１’’は、図１に示す偏光板製造廃液の処理装置１において、第１処置装置１０と第１フィルタ５０との間に第２処理装置１２０を配置したものであり、第２処理装置１２０以外の構成については、図１に示す偏光板製造廃液の処理装置１と同様である。
図３に示す第２処理装置１２０は、第１処理装置１０で不純物が低減されたＫＩ溶液にカルシウムイオンを供給して生成された沈殿物を除去する第１反応装置１２１と、第１反応装置１２１を経たＫＩ溶液に炭酸イオンを供給して生成された沈殿物を除去する第２反応装置１２２とを備えている。
第１反応装置１２１は、ＫＩ溶液に僅かに残存するホウ素を水酸化カルシウムの添加によってカルシウムイオンと反応させて、ホウ酸カルシウムの沈殿物を生成し、この沈殿物をフィルタ等で除去することにより、ＫＩ溶液に含まれるホウ素を更に低減する。第１反応装置１２１に供給されるＫＩ溶液は、第１処理工程によって濃縮されているため、水酸化カルシウムを供給する前に蒸留水等を添加することにより、ＫＩ溶液の濃度を適度な濃度（例えば１５〜３０％）に希釈してもよい。
第２反応装置１２２は、第１反応装置１２１を経たＫＩ溶液に炭酸イオンを供給する。これにより、ＫＩ溶液に残留するカルシウムイオンが炭酸イオンと反応して炭酸カルシウムの沈殿物が生成され、この沈殿物をフィルタ等で除去することにより、ＫＩ溶液からカルシウムイオンを除去することができる。炭酸イオンの供給は、ＫＩ溶液に不純物が増加するのを抑制するため、炭酸カリウムまたは二酸化炭素の添加によって行うことが好ましい。こうして、第２処理装置１２０による第２処理工程を行い、ＫＩ溶液の不純物を更に低減することができる。
図１から図３の構成において、第１不純物吸着装置３０に導入されるＫＩ溶液のホウ素およびＰＶＡの濃度は、特に限定されるものではないが、高すぎるとホウ素選択吸着樹脂やＰＶＡ吸着体の交換または再生の頻度が高くなり、実用的に使用し難くなる。具体的には、ホウ素濃度が、１００〜１０００ｍｇ／Ｌであることが好ましく、ポリビニルアルコールの濃度が、ＴＯＣ換算で１００〜５００ｍｇ／Ｌであることが好ましい。ＫＩ溶液のホウ素濃度およびＰＶＡ濃度は、その後の第１不純物吸着工程および第２不純物吸着工程によって、最終的には数ｍｇ／Ｌまで低減することができる。
１ 偏光板製造廃液の処理装置
１０ 第１処理装置
１１ 蒸発濃縮装置
１２ 冷却晶析装置
１３ 第１固液分離装置
２０ 第２処理装置
２１ 蒸発晶析装置
２２ 第２固液分離装置
２３ 溶解タンク
３０ 第１不純物吸着装置
４０ 第２不純物吸着装置
５０ 第１フィルタ装置
５２ 第２フィルタ装置
５４ 第３フィルタ装置
１２０ 第２処理装置
１２１ 第１反応装置
１２２ 第２反応装置
１０ 第１処理装置
１１ 蒸発濃縮装置
１２ 冷却晶析装置
１３ 第１固液分離装置
２０ 第２処理装置
２１ 蒸発晶析装置
２２ 第２固液分離装置
２３ 溶解タンク
３０ 第１不純物吸着装置
４０ 第２不純物吸着装置
５０ 第１フィルタ装置
５２ 第２フィルタ装置
５４ 第３フィルタ装置
１２０ 第２処理装置
１２１ 第１反応装置
１２２ 第２反応装置
Claims (9)
- 偏光板製造廃液からヨウ化カリウムを回収する偏光板製造廃液の処理方法であって、
偏光板製造廃液を濃縮した後に晶析を行うことで生成された析出物を固液分離して、ホウ素およびポリビニルアルコールを含む不純物が低減されたヨウ化カリウム溶液を生成する第１処理工程と、
得られたヨウ化カリウム溶液に残存するポリビニルアルコールをポリビニルアルコール吸着体に吸着させる第１不純物吸着工程と、
前記第１不純物吸着工程を経たヨウ化カリウム溶液に残存するホウ素をホウ素選択吸着樹脂に吸着させる第２不純物吸着工程とを備える偏光板製造廃液の処理方法。 - 前記第１処理工程と前記第１不純物吸着工程との間に、前記第１処理工程で得られたヨウ化カリウム溶液の前記不純物を更に低減する第２処理工程を備える請求項１に記載の偏光板製造廃液の処理方法。
- 前記第２処理工程は、前記第１処理工程で得られたヨウ化カリウム溶液を更に濃縮してヨウ化カリウム結晶を析出させる工程と、
析出されたヨウ化カリウム結晶を固液分離する工程と、
固液分離されたヨウ化カリウム結晶を洗浄して不純物が除去されたヨウ化カリウム結晶を回収する工程と、
回収したヨウ化カリウム結晶を溶媒に溶解させてヨウ化カリウム溶液を生成する工程とを備える請求項２に記載の偏光板製造廃液の処理方法。 - ヨウ化カリウム結晶の溶解による吸熱反応により飽和溶解度が低下して析出される不純物をろ過する工程を更に備える請求項３に記載の偏光板製造廃液の処理方法。
- 前記第２処理工程は、ヨウ化カリウム溶液に含まれるホウ素をカルシウムイオンと反応させることにより生成されたホウ酸カルシウムの沈殿物を除去する工程を備える請求項２に記載の偏光板製造廃液の処理方法。
- 前記第２処理工程は、ヨウ化カリウム溶液に残留するカルシウムイオンを炭酸イオンと反応させることにより生成された炭酸カルシウムの沈殿物を除去する工程を更に備える請求項５に記載の偏光板製造廃液の処理方法。
- 前記第１不純物吸着工程が行われるヨウ化カリウム溶液は、ホウ素の濃度が、１００〜１０００ｍｇ／Ｌであり、ポリビニルアルコールの濃度が、ＴＯＣ換算で１００〜５００ｍｇ／Ｌである請求項１から６のいずれかに記載の偏光板製造廃液の処理方法。
- 偏光板製造廃液からヨウ化カリウムを回収する偏光板製造廃液の処理装置であって、
偏光板製造廃液を濃縮した後に晶析を行うことで生成された析出物を固液分離して、ホウ素およびポリビニルアルコールを含む不純物が低減されたヨウ化カリウム溶液を生成する第１処理装置と、
得られたヨウ化カリウム溶液に残存するポリビニルアルコールをポリビニルアルコール吸着体に吸着させる第１不純物吸着装置と、
前記第１不純物吸着装置を経たヨウ化カリウム溶液に残存するホウ素をホウ素選択吸着樹脂に吸着させる第２不純物吸着装置とを備える偏光板製造廃液の処理装置。 - 前記第１処理装置で得られたヨウ化カリウム溶液の前記不純物を更に低減する第２処理装置を備える請求項８に記載の偏光板製造廃液の処理装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018108415A JP7165344B2 (ja) | 2018-06-06 | 2018-06-06 | 偏光板製造廃液の処理方法および処理装置 |
| TW108112348A TWI798413B (zh) | 2018-06-06 | 2019-04-09 | 偏光板製造廢液之處理方法及處理裝置 |
| KR1020190041668A KR102221524B1 (ko) | 2018-06-06 | 2019-04-10 | 편광판 제조폐액의 처리방법 및 처리장치 |
| CN201910480202.3A CN110563003B (zh) | 2018-06-06 | 2019-06-04 | 偏光板制造废液的处理方法和处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018108415A JP7165344B2 (ja) | 2018-06-06 | 2018-06-06 | 偏光板製造廃液の処理方法および処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019209272A true JP2019209272A (ja) | 2019-12-12 |
| JP7165344B2 JP7165344B2 (ja) | 2022-11-04 |
Family
ID=68773715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018108415A Active JP7165344B2 (ja) | 2018-06-06 | 2018-06-06 | 偏光板製造廃液の処理方法および処理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7165344B2 (ja) |
| KR (1) | KR102221524B1 (ja) |
| CN (1) | CN110563003B (ja) |
| TW (1) | TWI798413B (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7048950B2 (ja) * | 2020-03-27 | 2022-04-06 | 日東電工株式会社 | 偏光板製造廃液の処理方法 |
| TWI720863B (zh) * | 2020-04-01 | 2021-03-01 | 亞洲永盛科技有限公司 | 利用藥劑去除廢水中大部分硼離子之藥劑之製備方法 |
| CN111498861B (zh) * | 2020-04-23 | 2022-07-26 | 无锡中天固废处置有限公司 | 一种偏光板废液处理方法 |
| CN112079364B (zh) * | 2020-09-08 | 2021-05-28 | 山东博苑医药化学股份有限公司 | 一种含氟、碘废料资源循环利用的方法 |
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| US20150175448A1 (en) * | 2013-12-19 | 2015-06-25 | Benq Materials Corporation | System for treating wastewater containing boron and iodine |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| KR101269674B1 (ko) * | 2010-07-12 | 2013-05-30 | 주식회사 엘지화학 | 편광판 제조시 발생된 폐액의 재활용 방법 |
| JP6841481B2 (ja) * | 2016-05-24 | 2021-03-10 | 株式会社ササクラ | 偏光板製造廃液の処理方法 |
| CN106882821A (zh) * | 2017-03-06 | 2017-06-23 | 青海锂业有限公司 | 一种利用盐湖锂资源制取高纯碳酸锂的工艺方法 |
-
2018
- 2018-06-06 JP JP2018108415A patent/JP7165344B2/ja active Active
-
2019
- 2019-04-09 TW TW108112348A patent/TWI798413B/zh active
- 2019-04-10 KR KR1020190041668A patent/KR102221524B1/ko active IP Right Grant
- 2019-06-04 CN CN201910480202.3A patent/CN110563003B/zh active Active
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| KR20130131044A (ko) * | 2012-05-23 | 2013-12-03 | 타운마이닝캄파니(주) | 편광필름 제조 공정 폐액으로부터 고순도의 요오드화 칼륨과 붕소화합물을 회수하는 방법 |
| KR101176596B1 (ko) * | 2012-07-27 | 2012-08-23 | 세종화학 (주) | 편광필름 공정 폐액으로부터 요오드화칼륨을 정제하는 방법 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN110563003A (zh) | 2019-12-13 |
| KR102221524B1 (ko) | 2021-02-26 |
| CN110563003B (zh) | 2022-05-03 |
| TW202001304A (zh) | 2020-01-01 |
| JP7165344B2 (ja) | 2022-11-04 |
| TWI798413B (zh) | 2023-04-11 |
| KR20190138737A (ko) | 2019-12-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220228 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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