TWI691360B

TWI691360B - 逆滲透膜裝置的前處理方法及水處理裝置

Info

Publication number: TWI691360B
Application number: TW105111225A
Authority: TW
Inventors: 遠藤由彥
Original assignee: 日商栗田工業股份有限公司
Priority date: 2015-06-01
Filing date: 2016-04-11
Publication date: 2020-04-21
Also published as: JP6107985B2; CN107531516B; KR20180013931A; JP2016221500A; TW201709968A; CN107531516A

Abstract

於含氧化劑的水中添加氧化性藥品進行RO膜處理時，添加還原劑防止因殘留氧化劑造成的RO膜之膜劣化，同時防止因所添加的還原劑造成氧化性藥品之分解，有效地得到氧化性藥品之水處理效果。使用亞硝酸及/或其鹽作為還原劑。亞硝酸及/或其鹽係以還原處理氯等的殘留氧化劑，同時即使剩餘部分殘留也實用的使用濃度，不發生與氯胺磺酸等的氧化性藥品之氧化還原反應，不將此等氧化性藥品還原去除而減低有效成分濃度。

Description

逆滲透膜裝置的前處理方法及水處理裝置

本發明關於逆滲透膜(RO膜)裝置的前處理方法。詳細而言，本發明關於RO膜裝置的前處理方法，其係於含氧化劑的水中添加氧化性藥品進行RO膜處理時，添加還原劑防止因殘留氧化劑造成的RO膜之膜劣化，同時防止因所添加的還原劑造成氧化性藥品之分解，有效地得到氧化性藥品之處理效果。

又，本發明關於採用此前處理方法之水處理裝置。

作為水處理工業用水、城市給水、井水、河川水、湖沼水、工廠廢水等而製造成純水等之手段，廣泛利用RO膜裝置。此時，為了抑制被處理水中所含有的微生物造成的生物積垢，於被處理水中添加氯、次氯酸鈉、亞氯酸鈉等之氯系氧化劑、或過氧化氫、臭氧等之氧化劑。又，亦進行使用電極生成氯者。

又，氧化劑亦有作為RO膜處理之前處理，為了將被處理水中的鐵或錳氧化且以過濾裝置去除而添加之情況。

若對添加有氧化劑的水進行RO膜處理，則因殘留氧化劑而RO膜受到氧化降解。

以往，於RO膜裝置之前段設置活性碳塔，去除氯等的殘留氧化劑(專利文獻1)，或於RO膜裝置之前段添加亞硫酸氫鈉或亞硫酸鈉等之還原劑，進行分解去除氯(專利文獻2)等之處理。

設置有活性碳塔時，會在塔內發生生物積垢而污染後段裝置，有花費初期成本等之缺點，一般進行藉由還原劑之添加所致的殘留氧化劑之分解去除。

添加還原劑時，由於隨著被處理水的水質之變動而殘留氧化劑之濃度亦不同，為了完全去除殘留氧化劑而確實防止RO膜劣化，通常還原劑係比殘留氧化劑的反應當量更多地添加。

於RO膜處理中，為了防止被處理水中所含有的濁質或有機物造成的RO膜之污染(積垢)，有於被處理水中添加2,2-二溴-3-氮基丙醯胺(DBNPA)、5-氯-2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮(Cl-MIT)與2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮(MIT)之混合物(DOW化學公司製商品名「Caisson WT」)、氨氯胺、氯胺磺酸、安定化次溴酸系黏泥控制劑(Organo(股)製商品名「Orpersion E266系列」、Nalco公司製商品名「Stablex」)等之氧化性藥品的情況。

所謂的氧化劑，就是次氯酸鈉等之使用於將對象物質氧化之藥品，相對而言，氧化性藥品係如上述Caisson WT等具有氧化力，但使用目的不限於氧化之藥品，兩者係被區別。更具體而言，於pH7.0、20℃，將對於亞硝酸離子添加當量時進行氧化還原反應之物質(強氧化劑)定義為「氧化劑」，將於同條件不進行氧化還原反應之物質(弱氧化劑)定義為「氧化性藥品」。

併用氧化劑與氧化性藥品時，例如於被處理水中添加氧化劑後，進行凝集、過濾之前處理，然後添加過剩量的還原劑而分解去除殘留氧化劑，接著添加氧化性藥品而進行RO膜處理。然而，如此地為了殘留氧化劑之去除，添加過剩量的還原劑，然後添加氧化性藥品時，則剩餘的還原劑與氧化性藥品反應而分解去除氧化性藥品，氧化性藥品的有效成分濃度降低。因此，得不到與氧化性藥品的添加量相稱的效果，為了得到目的之效果，有必須將還原劑所致的分解去除部分計算在內，增多氧化性藥品添加量之問題。

專利文獻1：日本特開平10-337563號公報

專利文獻2：日本特開平7-308671號公報

本發明之課題在於提供：於含氧化劑的水中添加氧化性藥品進行RO膜處理時，添加還原劑防止因殘留氧化劑造成的RO膜之膜劣化，同時防止因所添加的還原劑造成氧化性藥品之分解，有效地得到氧化性藥品之水處理效果的RO膜裝置的前處理方法與水處理裝置。

本發明者為了提供對RO膜處理不影響之新穎還原劑，進行專心致力的檢討，結果發現亞硝酸及/或其鹽係最合適。

亞硝酸及/或其鹽係以將氯等的殘留氧化劑予以還原去除，同時即使剩餘部分殘留也實用的使用濃度，不發生與DBNPA、Cl-MIT和MIT之混合物(商品名「Caisson」)、氨氯胺、氯胺磺酸、安定化次溴酸系黏泥控制劑(Organo(股)製商品名「Orpersion E266系列」、Nalco公司製商品名「Stablex」)等的氧化性藥品之氧化還原反應，不將此等氧化性藥品還原去除而減低有效成分濃度。

本發明係以如此的知識見解為基礎而達成者，將以下當作要旨。

[1]一種逆滲透膜裝置的前處理方法，其係以逆滲透膜裝置逆滲透膜處理含氧化劑的水時之前處理方法，其特徵為：於該含氧化劑的水中，添加亞硝酸及/或其鹽而還原去除該氧化劑。

[2]如[1]之逆滲透膜裝置的前處理方法，其中於前述亞硝酸及/或其鹽添加後的水中，添加氧化性藥品。

[3]如[2]之逆滲透膜裝置的前處理方法，其中於前述亞硝酸及/或其鹽添加後的水中，添加該水中殘留的氧化劑之當量以上的與亞硝酸及/或其鹽不同的還原劑後，添加前述氧化性藥品。

[4]如[2]或[3]之逆滲透膜裝置的前處理方法，其中前述氧化性藥品係選自由氯胺磺酸、氯胺磺酸的鹽及安定化次溴酸系黏泥控制劑所成之群組的1種或2種以上。

[5]如[3]或[4]之逆滲透膜裝置的前處理方法，其中前述與亞硝酸及/或其鹽不同的還原劑係選自亞硫酸氫鹽、亞硫酸鹽及硫代硫酸鹽的1種或2種以上。

[6]一種水處理裝置，其係逆滲透膜處理含氧化劑的水之水處理裝置，其特徵為具備：於該含氧化劑的水中添加亞硝酸及/或其鹽之還原劑添加手段，於亞硝酸及/或其鹽添加後的水中添加氧化性藥品之氧化性藥品添加手段，及逆滲透膜處理添加有氧化性藥品的水之逆滲透膜裝置。

依照本發明，於含氧化劑的水中添加氧化性藥品進行RO膜處理時，添加還原劑防止因殘留氧化劑造成的RO膜之膜劣化，同時防止因所添加的還原劑造成氧化性藥品之分解，有效地得到氧化性藥品之水處理效果。

1‧‧‧原水槽

2‧‧‧過濾裝置

3‧‧‧過濾處理水槽

4‧‧‧安全過濾器

5‧‧‧RO膜裝置

圖1係顯示本發明之水處理裝置的實施形態之系統圖。

實施發明的形態

以下詳細說明本發明之實施形態。

以下，有將以RO膜處理的被處理水記載為「供水」之情況。

本發明中，於RO膜處理含氯等之氧化劑的水時，作為用於將氧化劑還原去除之還原劑，代替亞硫酸氫鈉或亞硫酸鈉等以往的還原劑，添加亞硝酸及/或其鹽(以下亦稱為「亞硝酸(鹽)」)。

本發明中，RO膜係包含NF膜(Nanofiltration Membran)之廣義的RO膜，其材料係沒有限定，一般使用醋酸纖維素系聚合物、聚醯胺、聚酯、聚醯亞胺、乙烯基聚合物等之高分子材料。RO膜模組之形式等亦沒有特別的限制。

作為本發明所用的亞硝酸鹽，亞硝酸鈉為代表，但亦可使用亞硝酸鉀、亞硝酸鈣、亞硝酸鎂、亞硝酸鋁等。亞硝酸(鹽)係可僅使用1種，也可併用2種以上。

作為亞硝酸(鹽)之使用形態，一般為水溶液，但亦可配合其他溶劑或分散介質、水處理用高分子化合物、防污垢劑、黏泥控制劑等其他成分，製劑化而使用。從操作性之方面來看，亞硝酸(鹽)的使用形態較佳成為水溶液等之液狀。

將亞硝酸(鹽)製劑化而使用時，含亞硝酸(鹽)的製劑之亞硝酸(鹽)的含有比例係沒有特別的限定，但亞硝酸離子較佳為5~43質量%，更佳為10~38質量%。若以如此範圍配合亞硝酸(鹽)，則在減小亞硝酸(鹽)製劑的容積，而且安定性良好之點較宜。

亞硝酸(鹽)只要是含有氯等的氧化劑之供水，則其添加步驟或添加場所係沒有特別的限定。藉由在該供水中添加亞硝酸(鹽)，而展現將氯等的氧化劑予以還原，且在後段所添加的氧化性藥品幾乎不被剩餘的亞硝酸(鹽)所還原之效果。

供水中所含有的氧化劑之種類或使用形態係沒有特別的限制。作為氧化劑，氯為代表，但亦可採用過氧化氫、二氧化氯、亞氯酸及/或其鹽、次氯酸及/或其鹽、臭氧、使用電極所生成的氯等。關於此等氧化劑，可僅使用1種，也可併用2種以上。

亞硝酸(鹽)之添加量係供水中的殘留氧化劑量之反應當量以上，但較佳為反應當量的2~3倍，為了確實防止氧化劑之殘留，特佳為3~5倍。

添加亞硝酸(鹽)而與供水中的氧化劑反應時，取決於條件，有即使當量以上之添加也氧化劑微量地殘留者。此時，於RO膜裝置之前步驟，將亞硫酸氫鈉等之反應性良好的以往之還原劑當作第二還原劑，相對於氧化劑殘留量，添加反應當量以上，較佳為反應當量之2~3倍，尤其為了確實防止氧化劑之殘留，可為3~5倍。

作為第二還原劑添加的亞硫酸氫鈉等以往之還原劑，係將氧化性藥品予以還原而減低其有效成分濃度，但由於作為第一還原劑添加亞硝酸(鹽)後的氧化劑之殘留量為微量，其後追加添加的亞硫酸氫鈉等之第二還原劑添加率亦成為少量。因此，即使第二還原劑殘留時，也所還原的氧化性藥品之量為微量，可抑制亞硫酸氫鈉的有效成分濃度之降低。

作為第二還原劑，可使用亞硫酸氫鈉等的亞硫酸氫鹽、亞硫酸鈉等的亞硫酸鹽、硫代硫酸鈉等的硫代硫酸鹽等之1種或2種以上。

亞硝酸(鹽)之添加量或第一還原劑的亞硝酸(鹽)與第二還原劑之添加量，具體地如以下。

供水中的氧化劑濃度係藉由JIS K 0400-33-10：1999之使用N,N-二乙基-1,4-苯二胺的DPD法，作為氯質量濃度記載。

使用亞硝酸鈉作為亞硝酸(鹽)時，與游離氯1g當量反應的亞硝酸鈉係1.0g(亞硝酸離子為0.67g)，但實際使用時從安全來看，較佳為添加此之2倍左右。氧化劑為氯以外時，亦相對於上述DPD法的全氯1g，亞硝酸鈉為1.0g(亞硝酸離子為0.67g)之反應當量。

由於取決於供水的pH條件，此時游離氯會微量殘留，故添加反應性良好的第二還原劑。此時，第二還原劑的反應當量係相對於游離氯1g，亞硫酸氫鈉為1.5g，亞硫酸鈉為1.8g，硫代硫酸鈉為2.2g。

本發明所用之亞硝酸(鹽)係與氧化劑的反應性低，由於幾乎不使氧化劑消失，本發明特別適合於還原劑添加後，添加氧化性藥品之RO膜處理。

作為氧化性藥品，可舉出作為防止RO膜的積垢用的氧化性藥品所一般使用的2,2-二溴-3-氮基丙醯胺(DBNPA)、5-氯-2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮(Cl-MIT)、5-氯-2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮(Cl-MIT)與2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮(MIT)之混合物(DOW化學公司製商品名「Caisson WT」)、氨氯胺、氯胺磺酸及/或其鹽、安定化次溴酸系黏泥控制劑(Organo(股)製商品名「Orpersion E266系列」、Nalco公司製商品名「Stablex」)等。此等係可僅使用1種，也可併用2種以上。

於供水中添加氧化性藥品時，其添加量亦隨著所用的氧化性藥品之種類、供水之水質或RO膜處理條件而不同，但通常全氯換算之添加量為0.01~50mg/L左右。具體而言，若為氯胺磺酸鈉，則全氯換算之添加量通常為0.1~10mg/L，較佳為0.5~3mg/L左右。安定化次溴酸系黏泥控制劑(Organo(股)製商品名「Orpersion E266系列」、Nalco公司製商品名「Stablex」)之添加量係全氯換算為0.01~3mg/L，較佳為0.02~0.2mg/L。作為全氯不檢測出的Cl-MIT之添加量通常為0.01~0.5mg/L，較佳為0.03~0.15mg/L左右。DBNPA之添加量係全氯換算通常為0.1~10mg/L，較佳為0.2~6mg/L左右。

依照本發明，為了殘留氧化劑之還原去除而添加的亞硝酸(鹽)，係與此等的氧化性藥品幾乎沒有反應性，故可將所添加的氧化性藥品之效果發揮到最大限度。因此，可抑制氧化性藥品的添加量而減低藥品成本。

圖1中具體地顯示於供水中添加氧化劑後，添加亞硝酸(鹽)或作為第一還原劑的亞硝酸(鹽)與第二還原劑，更添加氧化性藥品進行RO膜處理的本發明之水處理裝置的實施形態之一例。

於圖1a、圖1b中，原水槽1內之原水係被過濾裝置2過濾，過濾處理水係經過過濾處理水槽3、安全過濾器4，被RO膜裝置5所RO膜處理，取出處理水。

於圖1a之實施形態中，於自原水槽1將原水送給過濾裝置2的配管中添加氧化劑，在安全過濾器5的後段之RO膜裝置6的入口，添加亞硝酸(鹽)後，添加氧化性藥品。

於圖1b之實施形態中，在安全過濾器5的後段之RO膜裝置6的入口，添加亞硝酸(鹽)作為第一還原劑，接著添加亞硫酸氫鈉等的第二還原劑後，添加氧化性藥品。

各藥品的添加順序係如上述，其添加地方係沒有特別的限制，例如可在過濾裝置2之入口側或出口側添加。各藥品亦可在不同的地方添加。

圖1a、圖1b係本發明之水處理裝置的實施形態之一例，本發明完全不受圖式的裝置所限定。

氧化劑只要是含於添加亞硝酸(鹽)的供水中即可，若已經在前步驟中含有氧化劑，則本發明之RO膜裝置的前處理方法及水處理裝置係不需要氧化劑添加步驟或氧化劑添加手段。

亦可藉由用於管理成為處理對象的供水之水質的裝置(例如，個人電腦等)中之包含CPU等的控制部，實施本發明之RO膜裝置的前處理方法。又，亦可將本發明之RO膜裝置的前處理方法存放於具備記錄媒體(非揮發性記憶體(USB記憶體等)、HDD、CD等)等的硬體資源中，藉由前述控制部實施。藉由該控制部，亦可構築於供水中添加控制作為還原劑的亞硝酸(鹽)或作為第一還原劑的亞硝酸(鹽)及第二還原劑之水處理系統。

實施例

以下舉出實施例更具體地說明本發明，惟本發明不受以下的實施例所限定。

於以下的實施例及比較例中，作為RO膜之供水，使用日本栃木縣下都賀郡野木町的自來水經活性碳所脫氯處理者(以下記載為「脫氯城鎮水」)。實驗皆在pH7.0、溫度20℃進行。

使用以下者作為添加試藥。於殘留氯的測定中，使用HACH公司製袖珍殘留氯計「HACH2470」。

次氯酸鈉水溶液(有效氯12%，旭硝子(股)製)

亞硝酸鈉(KISHIDA化學(股)製)

亞硫酸氫鈉(KISHIDA化學(股)製)

亞硫酸鈉(KISHIDA化學(股)製)

硫代硫酸鈉(KISHIDA化學(股)製)

氯胺磺酸鈉(栗田工業(股)製)

Cl-MIT(栗田工業(股)製)

DBNPA(DOW化學日本(股)製)

溴化鈉(KISHIDA化學(股)製)

胺磺酸(別名胺基磺酸)(KISHIDA化學(股)製)

氫氧化鈉(KISHIDA化學(股)製)

次溴酸鈉溶液(有效溴5%)(KISHIDA化學(股)製)

於顯示實施例及比較例之結果的表中，添加藥品係用以下的簡號記載。

[實施例1~6] <氧化劑之添加>

將以饋入游離氯添加率成為表2的數值之方式濃度調整而稀釋的次氯酸鈉稀釋液1g添加至脫氯城鎮水99g中。

<第一還原劑之添加>

然後，將以饋入亞硝酸鈉添加率成為表2的數值之方式濃度調整而稀釋的亞硝酸鈉水溶液1g添加至此中。自此溶液採集試料，立即測定游離氯濃度。表2中顯示結果。

<第二還原劑之添加>

於實施例1、2、6中，在上述第一還原劑之添加後，更添加以饋入亞硫酸氫鈉添加率成為表2的數值之方式濃度調整而稀釋的亞硫酸氫鈉水溶液1g。

自此溶液採集試料，立即測定游離氯濃度。表2中顯示結果。

於實施例3、4、5中，不進行此步驟，進行以下的氧化性藥品之添加。

<氧化性藥品之添加>

然後，更添加以饋入全氯添加率(全氯換算之添加率)成為表2的數值之方式濃度調整而稀釋的氯胺磺酸鈉水溶液1g。自此溶液採集試料，立即測定全氯濃度。表2中顯示結果。

由表2可知以下者。

若相對於游離氯添加1.2倍以上的亞硝酸鈉，則游離氯係大部分消失，即使有殘留的游離氯，也可藉由0.1~0.15mg/L之微小量添加第二還原劑(實施例1、2、6中為亞硫酸氫鈉)而使減低到游離氯濃度未檢出的水準為止。

於此等之反應後即使添加作為氧化性藥品的氯胺磺酸鈉，也檢測出與饋入濃度相同的濃度，可確認所殘留的亞硝酸鈉係不與氯胺磺酸鈉發生氧化還原反應。

[實施例7、8]

將以饋入添加率成為表3的數值之方式濃度調整而稀釋的Cl-MIT稀釋液1g添加至脫氯城鎮水99g中。然後，將以饋入亞硝酸鈉添加率成為表3的數值之方式濃度調整而稀釋的亞硝酸鈉水溶液1g添加至此中。對於此溶液，用液體層析法測定Cl-MIT濃度。表3中顯示結果。

[比較例1-4]

將以饋入添加率成為表3的數值之方式濃度調整而稀釋的Cl-MIT稀釋液1g添加至脫氯城鎮水99g中。然後，將以饋入添加率成為表3的數值之方式濃度調整而稀釋的亞硫酸氫鈉或亞硫酸鈉水溶液1g添加至此中。對於此溶液，用液體層析法測定Cl-MIT濃度。表3中顯示結果。

由表3可知以下者。

即使相對於Cl-MIT，添加600~700倍的亞硝酸鈉，Cl-MIT也被檢測出與饋入濃度相同的濃度。即，亞硝酸鈉係不將Cl-MIT還原分解。相對於其，亞硫酸氫鈉或亞硫酸鈉係以約170倍之添加而Cl-MIT消失。

[實施例9~11]

將以饋入全氯添加率(全氯換算之添加率)成為表4的數值之方式濃度調整而稀釋的氯胺磺酸鈉水溶液1g添加至脫氯城鎮水99g中。然後，將以饋入亞硝酸鈉添加率成為表4的數值之方式濃度調整而稀釋的亞硝酸鈉水溶液1g添加至此中。對於此溶液，立即測定全氯濃度。表4中顯示結果。

[比較例5~10]

將以饋入全氯添加率(全氯換算之添加率)成為表4的數值之方式濃度調整而稀釋的氯胺磺酸鈉水溶液1g添加至脫氯城鎮水99g中。然後，將以饋入添加率成為表4的數值之方式濃度調整而稀釋的亞硫酸氫鈉或亞硫酸鈉水溶液1g添加至此中。對於此溶液，立即測定全氯濃度。表4中顯示結果。

由表4可知以下者。

對於氯胺磺酸鈉，添加亞硝酸鈉時，檢測出與饋入濃度相同的濃度，但亞硫酸氫鈉或亞硫酸鈉係以當量程度之添加而氯胺磺酸鈉之有效成分全部消失。

[實施例12~14]

將以饋入全氯添加率(全氯換算之添加率)成為表5的數值之方式濃度調整而稀釋的DBNPA水溶液1g添加至脫氯城鎮水99g中。然後，將以饋入添加率成為表5的數值之方式濃度調整而稀釋的亞硝酸鈉水溶液1g添加至此中。對於此溶液，立即測定全氯濃度。DBNPA之有效成分濃度係可作為藉由DPD法的全氯濃度測定。表5中顯示結果。

[比較例11~16]

將以饋入全氯添加率(全氯換算之添加率)成為表5的數值之方式濃度調整而稀釋的DBNPA水溶液1g添加至脫氯城鎮水99g中。然後，將以饋入添加率成為表5的數值之方式濃度調整而稀釋的亞硫酸氫鈉或亞硫酸鈉水溶液1g添加至此中。對於此溶液，立即測定全氯濃度。表5中顯示結果。

由表5可知以下者。

對於DBNPA，添加亞硝酸鈉時，檢測出與饋入濃度相同的濃度，但亞硫酸氫鈉或亞硫酸鈉係以反應當量的1.2倍左右之添加而DBNPA之有效成分全部消失。

[比較例17~22]

將以饋入全氯添加率(全氯換算之添加率)成為表6的數值之方式濃度調整而稀釋的氯胺磺酸鈉水溶液1g添加至脫氯城鎮水99g中。然後，將以饋入添加率成為表6的數值之方式濃度調整而稀釋的硫代硫酸鈉水溶液1g添加至此中。對於此溶液，立即測定全氯濃度。表6中顯示結果。

於表6中，一併記載因硫代硫酸鈉之添加而消失的氯胺磺酸鈉之全氯換算的濃度。

由表6可知對於氯胺磺酸鈉，添加硫代硫酸鈉時，以當量的1.3倍以上之添加，氯胺磺酸鈉之饋入量的50%以上消失。

[實施例15~17、比較例23-28] <安定化次溴酸系黏泥控制劑I之調製>

用以下之程序調製安定化次溴酸系黏泥控制劑I。

(1)以純水溶解溴化鈉而調製45重量%濃度的溶液。

(2)以純水溶解氫氧化鈉而調製48重量%濃度的溶液

(3)混合42.4g的次氯酸鈉水溶液與20.5g的45重量%溴化鈉水溶液。

(4)混合13.5g的純水與13.8g的48重量%氫氧化鈉水溶液，加溫至70℃，添加9.6g的胺磺酸，使完全地溶解。

(5)將(4)之溫度維持在50℃以上，於其中添加(3)，充分地混合。

<實施例15~17>

將以饋入全氯添加率(全氯換算之添加率)成為表7的數值之方式濃度調整而稀釋的安定化次溴酸系黏泥控制劑I的1g添加至脫氯城鎮水99g中。然後，將以饋入添加率成為表7的數值之方式濃度調整而稀釋的亞硝酸鈉水溶液1g添加至此中。對於此溶液，立即測定全氯濃度。安定化次溴酸系黏泥控制劑I之有效成分濃度係可作為藉由DPD法的全氯濃度測定。表7中顯示結果。

<比較例23~28>

將以饋入全氯添加率(全氯換算之添加率)成為表7的數值之方式濃度調整而稀釋的安定化次溴酸系黏泥控制劑 I的1g添加至脫氯城鎮水99g中。然後，將以饋入添加率成為表7的數值之方式濃度調整而稀釋的亞硫酸氫鈉或亞硫酸鈉水溶液1g添加至此中。對於此溶液，立即測定全氯濃度。表7中顯示結果。

[實施例18~20、比較例29~34] <安定化次溴酸系黏泥控制劑II之調製>

用以下之程序調製安定化次溴酸系黏泥控制劑II。

(1)以純水溶解氫氧化鈉而調製48重量%濃度的溶液

(2)混合13.5g的純水與13.8g的48重量%氫氧化鈉水溶液，加溫至70℃，添加9.6g的胺磺酸，使完全地溶解。

(3)將(2)之溫度持在50℃以上，於其中添加62.9g的次溴酸鈉溶液，充分地混合。

<實施例18~20>

將以饋入全氯添加率(全氯換算之添加率)成為表8的數值之方式濃度調整而稀釋的安定化次溴酸系黏泥控制劑II的1g添加至脫氯城鎮水99g中。然後，將以饋入添加率成為表8的數值之方式濃度調整而稀釋的亞硝酸鈉水溶液1g添加至此中。對於此溶液，立即測定全氯濃度。安定化次溴酸系黏泥控制劑II之有效成分濃度係可作為藉由DPD法的全氯濃度測定。表8中顯示結果。

<比較例29~34>

將以饋入全氯添加率(全氯換算之添加率)成為表8的數值之方式濃度調整而稀釋的安定化次溴酸系黏泥控制劑II的1g添加至脫氯城鎮水99g中。然後，將以饋入添加率成為表8的數值之方式濃度調整而稀釋的亞硫酸氫鈉或亞硫酸鈉水溶液1g添加至此中。對於此溶液，立即測定全氯濃度。表8中顯示結果。

由表7、8可知，即使使用安定化次溴酸系黏泥控制劑作為氧化性藥品時，也只要是亞硝酸(鹽)，則可防止因殘留還原劑造成的氧化性藥品之分解。

由以上的實施例及比較例之結果可知，作為為了殘留氧化劑的還原去除而添加之還原劑，使用亞硝酸(鹽)時，即使此殘留，也與其後添加的氧化性藥品不進行氧化還原反應，因此不損害氧化性藥品之添加效果。

已使用特定的態樣詳細說明本發明，惟本業者明白在不脫離本發明之意圖與範圍內，各式各樣的變更為可能。

本申請案係以2015年6月1日申請的日本發明專利申請案2015-111487、2015年6月12日申請的日本發明專利申請案2015-119401及2016年1月26日申請的日本發明專利申請案2016-012615為基礎，藉由引用而援用其全體。

1‧‧‧原水槽

2‧‧‧過濾裝置

3‧‧‧過濾處理水槽

4‧‧‧安全過濾器

5‧‧‧RO膜裝置

Claims

一種逆滲透膜裝置的前處理方法，其係以逆滲透膜裝置逆滲透膜處理含下述(1)所定義之氧化劑的水時之前處理方法，其特徵為：於該含氧化劑的水中，添加亞硝酸及/或其鹽而還原去除該氧化劑，於該亞硝酸及/或其鹽添加後的水中，添加下述(2)所定義之氧化性藥品，(1)氧化劑：於pH7.0、20℃，對於亞硝酸離子添加當量時進行氧化還原反應之物質(強氧化劑)，(2)氧化性藥品：於pH7.0、20℃，對於亞硝酸離子添加當量時不進行氧化還原反應之物質(弱氧化劑)。
如請求項1之逆滲透膜裝置的前處理方法，其中於前述亞硝酸及/或其鹽添加後的水中，添加該水中殘留的氧化劑之當量以上的與亞硝酸及/或其鹽不同的還原劑後，添加前述氧化性藥品。
如請求項1或2之逆滲透膜裝置的前處理方法，其中前述氧化性藥品係選自由氯胺磺酸、氯胺磺酸的鹽及安定化次溴酸系黏泥控制劑所成之群組的1種或2種以上。
如請求項2之逆滲透膜裝置的前處理方法，其中前述與亞硝酸及/或其鹽不同的還原劑係選自亞硫酸氫鹽、亞硫酸鹽及硫代硫酸鹽的1種或2種以上。
一種水處理裝置，其係逆滲透膜處理含下述(1)所定義之氧化劑的水之水處理裝置，其特徵為具備：於該含氧化劑的水中添加亞硝酸及/或其鹽之還原劑添加手段，於亞硝酸及/或其鹽添加後的水中添加下述(2)所定義之氧化性藥品之氧化性藥品添加手段，及逆滲透膜處理添加有氧化性藥品的水之逆滲透膜裝置，(1)氧化劑：於pH7.0、20℃，對於亞硝酸離子添加當量時進行氧化還原反應之物質(強氧化劑)，(2)氧化性藥品：於pH7.0、20℃，對於亞硝酸離子添加當量時不進行氧化還原反應之物質(弱氧化劑)。