JP2021181074A - 水処理方法および水処理装置 - Google Patents
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
Description
R=Cc/Cct
ここで、Cct=(Cf×Ff−Cp×Fp)/Fc
R=Cc/Cct
ここで、Cct=(Cf×Ff−Cp×Fp)/Fc
R=Cc/Cct
ここで、Cct=(Cf×Ff−Cp×Fp)/Fc
Ff:被処理水の流量
Fc:濃縮水の流量
Fp:透過水の流量
Cf:被処理水中の薬剤の濃度
Cc:濃縮水中の薬剤の濃度
Cp:透過水中の薬剤の濃度
分離膜としては、特に制限はないが、逆浸透膜(RO膜)、ナノろ過膜(NF膜)、精密ろ過膜(MF膜)、限外ろ過膜(UF膜)等が挙げられる。これらのうち、特に分離膜として逆浸透膜(RO膜)を用いる場合に、本発明の実施形態に係る水処理方法を好適に適用することができる。また、逆浸透膜として昨今主流であるポリアミド系高分子膜を用いる場合に、本発明の実施形態に係る水処理方法を好適に適用することができる。
被処理水としては、特に制限はないが、有機物を含む有機物含有水、特に、有機物濃度が高い有機物含有水ではバイオファウリングが起こり易く、その結果、分離膜通過中の薬剤の消費量も多くなるため、本発明の実施形態に係る水処理方法を好適に適用することができる。具体的には有機物含有水のTOC濃度として、0.1mg/L以上が好ましく、1mg/L以上がさらに好ましい。
添加を制御する薬剤としては、特に制限はないが、殺菌剤(スライム抑制剤)、分散剤等が挙げられる。
R2NSO3H (1)
(式中、Rは独立して水素原子または炭素数1〜8のアルキル基である。)
被処理水薬剤濃度測定装置16、透過水薬剤濃度測定装置18、濃縮水薬剤濃度測定装置20としては、薬剤の濃度を測定することができるものであればよく特に制限はない。
分離膜処理の前段において添加される薬剤は、連続的に添加されてもよいし、間欠的に添加されてもよい。
分離膜処理の後段において、逆浸透膜処理装置、UV処理装置、または、イオン交換処理装置のうち少なくとも1つを備えてもよく、分離膜処理の透過水について逆浸透膜処理、UV処理、または、イオン交換処理のうち少なくとも1つの処理を行ってもよい。
窒素雰囲気下で、液体臭素:16.9重量%(wt%)、スルファミン酸:10.7重量%、水酸化ナトリウム:12.9重量%、水酸化カリウム:3.94重量%、水:残分を混合して、安定化次亜臭素酸組成物を調製した。安定化次亜臭素酸組成物のpHは14、全塩素濃度は7.5重量%であった。全塩素濃度は、HACH社の多項目水質分析計DR/4000を用いて、全塩素測定法(DPD(ジエチル−p−フェニレンジアミン)法)により測定した値(mg−Cl2/L)である。安定化次亜臭素酸組成物の詳細な調製方法は以下の通りである。
電極タイプ:ガラス電極式
pH測定計:東亜ディーケーケー社製、IOL−30型
電極の校正:関東化学社製中性リン酸塩pH(6.86)標準液(第2種)、同社製ホウ酸塩pH(9.18)標準液(第2種)の2点校正で行った
測定温度:25℃
測定値:測定液に電極を浸漬し、安定後の値を測定値とし、3回測定の平均値
以下の実験条件で分離膜処理を行った。実施例1〜5では、被処理水、透過水、濃縮水中の薬剤濃度を測定し、「濃縮水中における薬剤濃度/被処理水中の薬剤濃度」が所定値以上になるように、薬剤を被処理水に添加した。結果を表1に示す。
・試験水:模擬水(地下水+有機物(TOCとして10mg/L))
・分離膜:逆浸透膜(DOW BW30−XFR)
・流量:被処理水=840L/h、濃縮水=700L/h、透過水=140L/h
・分離膜処理における透過水回収率:17%
・薬剤:上記で調製した安定化次亜臭素酸組成物
・薬剤有効成分検出方法:DPD法(Hach社製 吸光光度計「DR−3900」)
「直前7日間のRO膜の透過水Flux低下率」=100−(測定時のFlux/測定時の7日前のFlux)×100
実施例1〜5と同様の実験条件でより長期間、分離膜処理を行った。実施例6,7では、被処理水、透過水、濃縮水中の薬剤濃度を測定し、「濃縮水中における薬剤濃度/被処理水中の薬剤濃度」が所定値以上になるように、薬剤を被処理水に添加した。結果を表2に示す。
Claims (8)
- 薬剤が添加された被処理水について分離膜処理を行い透過水と濃縮水とを得る分離膜処理工程において、
「濃縮水中における薬剤濃度/被処理水中の薬剤濃度」が所定値以上になるように、前記分離膜処理の前段において前記薬剤を前記被処理水に添加することを特徴とする水処理方法。 - 薬剤が添加された被処理水について分離膜処理を行い透過水と濃縮水とを得る分離膜処理工程において、
前記被処理水の流量をFf、前記濃縮水の流量をFc、前記透過水の流量をFp、前記被処理水中の前記薬剤の濃度をCf、前記濃縮水中の前記薬剤の濃度をCc、前記透過水中の前記薬剤の濃度をCpとしたときに、下記式で表される有効成分残留率Rが所定値以上であることを特徴とする水処理方法。
R=Cc/Cct
ここで、Cct=(Cf×Ff−Cp×Fp)/Fc - 請求項2に記載の水処理方法であって、
前記所定値が、0.4であることを特徴とする水処理方法。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の水処理方法であって、
前記薬剤が、臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を含有することを特徴とする水処理方法。 - 薬剤が添加された被処理水について分離膜処理を行い透過水と濃縮水とを得る分離膜処理手段と、
「濃縮水中における薬剤濃度/被処理水中の薬剤濃度」が所定値以上になるように、前記分離膜処理の前段において前記薬剤を前記被処理水に添加するよう制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする水処理装置。 - 薬剤が添加された被処理水について分離膜処理を行い透過水と濃縮水とを得る分離膜処理手段と、
前記被処理水の流量をFf、前記濃縮水の流量をFc、前記透過水の流量をFp、前記被処理水中の前記薬剤の濃度をCf、前記濃縮水中の前記薬剤の濃度をCc、前記透過水中の前記薬剤の濃度をCpとしたときに、下記式で表される有効成分残留率Rが所定値以上となるように、前記分離膜処理の前段において前記薬剤を前記被処理水に添加するよう制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする水処理装置。
R=Cc/Cct
ここで、Cct=(Cf×Ff−Cp×Fp)/Fc - 請求項6に記載の水処理装置であって、
前記所定値が、0.4であることを特徴とする水処理装置。 - 請求項5〜7のいずれか1項に記載の水処理装置であって、
前記薬剤が、臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を含有することを特徴とする水処理装置。
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JP2018153749A (ja) * | 2017-03-17 | 2018-10-04 | オルガノ株式会社 | 逆浸透膜を用いる水処理方法および水処理システム |
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JP2018015679A (ja) * | 2016-07-25 | 2018-02-01 | オルガノ株式会社 | 逆浸透膜処理方法および逆浸透膜処理システム |
JP2018153749A (ja) * | 2017-03-17 | 2018-10-04 | オルガノ株式会社 | 逆浸透膜を用いる水処理方法および水処理システム |
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