JP2018015679A - 逆浸透膜処理方法および逆浸透膜処理システム - Google Patents
逆浸透膜処理方法および逆浸透膜処理システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018015679A JP2018015679A JP2016145247A JP2016145247A JP2018015679A JP 2018015679 A JP2018015679 A JP 2018015679A JP 2016145247 A JP2016145247 A JP 2016145247A JP 2016145247 A JP2016145247 A JP 2016145247A JP 2018015679 A JP2018015679 A JP 2018015679A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reverse osmosis
- osmosis membrane
- water
- treated
- membrane treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 157
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 title claims abstract description 152
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 44
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 189
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 78
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 78
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 78
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 64
- -1 sulfamic acid compound Chemical class 0.000 claims abstract description 64
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 61
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 59
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 41
- JGJLWPGRMCADHB-UHFFFAOYSA-N hypobromite Chemical compound Br[O-] JGJLWPGRMCADHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 92
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 8
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract description 3
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract description 3
- CUILPNURFADTPE-UHFFFAOYSA-N hypobromous acid Chemical compound BrO CUILPNURFADTPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 27
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 24
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 17
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 11
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 9
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N bromic acid Chemical compound OBr(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QNGVNLMMEQUVQK-UHFFFAOYSA-N 4-n,4-n-diethylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(N)C=C1 QNGVNLMMEQUVQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 7
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M bromate Inorganic materials [O-]Br(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- CODNYICXDISAEA-UHFFFAOYSA-N bromine monochloride Chemical compound BrCl CODNYICXDISAEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 4
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 4
- 238000010525 oxidative degradation reaction Methods 0.000 description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 4
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N chloric acid Chemical compound OCl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940005991 chloric acid Drugs 0.000 description 2
- QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N chlorous acid Chemical compound OCl=O QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSVXSBDYLRYLIG-UHFFFAOYSA-N dioxidochlorine(.) Chemical compound O=Cl=O OSVXSBDYLRYLIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- VYECFMCAAHMRNW-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical compound NS(O)(=O)=O.NS(O)(=O)=O VYECFMCAAHMRNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 2
- BZSXEZOLBIJVQK-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfonylbenzoic acid Chemical compound CS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O BZSXEZOLBIJVQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N Calcium hypochlorite Chemical compound [Ca+2].Cl[O-].Cl[O-] ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004155 Chlorine dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- WOHVONCNVLIHKY-UHFFFAOYSA-L [Ba+2].[O-]Cl=O.[O-]Cl=O Chemical compound [Ba+2].[O-]Cl=O.[O-]Cl=O WOHVONCNVLIHKY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N ammonium bromide Chemical compound [NH4+].[Br-] SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPLPBHMTCTCHA-UHFFFAOYSA-N ammonium chlorate Chemical compound N.OCl(=O)=O KHPLPBHMTCTCHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004082 amperometric method Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- ISFLYIRWQDJPDR-UHFFFAOYSA-L barium chlorate Chemical compound [Ba+2].[O-]Cl(=O)=O.[O-]Cl(=O)=O ISFLYIRWQDJPDR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HPEWZLCIOKVLBZ-UHFFFAOYSA-N barium hypochlorite Chemical compound [Ba+2].Cl[O-].Cl[O-] HPEWZLCIOKVLBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000009 barium salts Chemical class 0.000 description 1
- BEHLMOQXOSLGHN-UHFFFAOYSA-N benzenamine sulfate Chemical compound OS(=O)(=O)NC1=CC=CC=C1 BEHLMOQXOSLGHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- FECFIIXKXJBOSU-UHFFFAOYSA-N butylsulfamic acid Chemical group CCCCNS(O)(=O)=O FECFIIXKXJBOSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- YALMXYPQBUJUME-UHFFFAOYSA-L calcium chlorate Chemical compound [Ca+2].[O-]Cl(=O)=O.[O-]Cl(=O)=O YALMXYPQBUJUME-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 description 1
- 235000019398 chlorine dioxide Nutrition 0.000 description 1
- OGQPUOLFKIMRMF-UHFFFAOYSA-N chlorosulfamic acid Chemical compound OS(=O)(=O)NCl OGQPUOLFKIMRMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940077239 chlorous acid Drugs 0.000 description 1
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 1
- 238000004737 colorimetric analysis Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 150000007973 cyanuric acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000010612 desalination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- BAQKWXACUNEBOT-UHFFFAOYSA-N dibutylsulfamic acid Chemical compound CCCCN(S(O)(=O)=O)CCCC BAQKWXACUNEBOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGNOYUCUPMACDT-UHFFFAOYSA-N dimethylsulfamic acid Chemical compound CN(C)S(O)(=O)=O YGNOYUCUPMACDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XRVWREPFYXZOPK-UHFFFAOYSA-N dipropylsulfamic acid Chemical compound CCCN(S(O)(=O)=O)CCC XRVWREPFYXZOPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- IOISAJSHULNACL-UHFFFAOYSA-N ethyl(methyl)sulfamic acid Chemical compound CCN(C)S(O)(=O)=O IOISAJSHULNACL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIVVHUQWDOGLJN-UHFFFAOYSA-N ethylsulfamic acid Chemical group CCNS(O)(=O)=O SIVVHUQWDOGLJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002696 manganese Chemical class 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- YZVQGLCYZLGIAM-UHFFFAOYSA-N methyl(propyl)sulfamic acid Chemical compound CCCN(C)S(O)(=O)=O YZVQGLCYZLGIAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMDOKBFMTVEGE-UHFFFAOYSA-N methylsulfamic acid Chemical group CNS(O)(=O)=O MYMDOKBFMTVEGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- AMULHDKUJWPBKU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);dichlorite Chemical compound [Ni+2].[O-]Cl=O.[O-]Cl=O AMULHDKUJWPBKU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920001444 polymaleic acid Polymers 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VKJKEPKFPUWCAS-UHFFFAOYSA-M potassium chlorate Chemical compound [K+].[O-]Cl(=O)=O VKJKEPKFPUWCAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SATVIFGJTRRDQU-UHFFFAOYSA-N potassium hypochlorite Chemical compound [K+].Cl[O-] SATVIFGJTRRDQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VISKNDGJUCDNMS-UHFFFAOYSA-M potassium;chlorite Chemical compound [K+].[O-]Cl=O VISKNDGJUCDNMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- JWQSOOZHYMZRBT-UHFFFAOYSA-N propan-2-ylsulfamic acid Chemical group CC(C)NS(O)(=O)=O JWQSOOZHYMZRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLIBNTOXKQCYMV-UHFFFAOYSA-N propylsulfamic acid Chemical group CCCNS(O)(=O)=O HLIBNTOXKQCYMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013535 sea water Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- UKLNMMHNWFDKNT-UHFFFAOYSA-M sodium chlorite Chemical compound [Na+].[O-]Cl=O UKLNMMHNWFDKNT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960002218 sodium chlorite Drugs 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 1
- 159000000008 strontium salts Chemical class 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical class NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDDDEECHVMSUSB-UHFFFAOYSA-N sulfanilamide Chemical compound NC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 FDDDEECHVMSUSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
Description
R2NSO3H (1)
(式中、Rは独立して水素原子または炭素数1〜8のアルキル基である。)
本実施形態に係る逆浸透膜用スライム抑制剤は、「臭素系酸化剤」と「スルファミン酸化合物」との混合物を含む安定化次亜臭素酸組成物を含有するものであり、さらにアルカリを含有してもよい。
本実施形態に係る逆浸透膜用スライム抑制剤は、臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを混合することにより得られ、さらにアルカリを混合してもよい。
窒素雰囲気下で、液体臭素:16.9重量%(wt%)、スルファミン酸:10.7重量%、水酸化ナトリウム:12.9重量%、水酸化カリウム:3.94重量%、水:残分を混合して、安定化次亜臭素酸組成物を調製した。安定化次亜臭素酸組成物のpHは14、全塩素濃度は7.5重量%であった。安定化次亜臭素酸組成物の詳細な調製方法は以下の通りである。
電極タイプ:ガラス電極式
pH測定計:東亜ディーケーケー社製、IOL−30型
電極の校正:関東化学社製中性リン酸塩pH(6.86)標準液(第2種)、同社製ホウ酸塩pH(9.18)標準液(第2種)の2点校正で行った
測定温度:25℃
測定値:測定液に電極を浸漬し、安定後の値を測定値とし、3回測定の平均値
[殺菌力の比較試験]
逆浸透膜用スライム抑制剤として「臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物」である安定化次亜臭素酸組成物を使用して、下記の通りに濃縮水中の全塩素濃度で管理した結果を比較した。
・試験装置:エレメント試験装置
・逆浸透膜:LF10(日東電工製)
・運転圧力:0.75MPa
・被処理水:相模原井水(pH7.2、導電率240μS/cm)
・薬剤:安定化次亜臭素酸組成物
・試験温度:25℃
(0時間後導電率阻止率[%])÷(100時間後導電率阻止率[%])×100
比較例1は、濃縮水中の全塩素濃度を0.03mg/L以下に維持して通水した例である。24時間通水後、濃縮水中の菌数はほとんど減少しないことがわかった。また、酸化還元電位(ORP)が200mV以下のため、100時間通水後、導電率阻止率がほとんど低下しないことがわかった。
比較例2は、濃縮水中の全塩素濃度を10mg/Lで通水した例である。24時間通水後、濃縮水中の菌数は減少したが、酸化還元電位(ORP)が700mVを超えたため、膜劣化により100時間通水後、導電率阻止率が低下したことがわかった。
実施例1〜3は、濃縮水中の全塩素濃度をそれぞれ0.1、1.0、5mg/Lで通水した例である。24時間通水後、濃縮水中菌数は減少し、ORPが200mVを超え、700mV以下になったため、100時間通水後、導電率阻止率がほとんど低下しないことがわかった。
[汚染した膜への効果検証試験]
次に、逆浸透膜用スライム抑制剤として「臭素とスルファミン酸化合物との反応生成物」である安定化次亜臭素酸組成物を使用して、汚染した膜への効果検証を試験した。
・試験装置:現場実運用装置
・逆浸透膜:RE4040−FEN(東レ製)
・水:工水+回収水
・薬剤:安定化次亜臭素酸組成物
比較例3は、汚染した逆浸透膜に安定化次亜臭素酸組成物を供給し、通水した例である。被処理水中の全塩素濃度が0.07mg/Lの場合、汚染した逆浸透膜に通水することにより、濃縮水中の全塩素濃度が0.04mg/Lとなった。濃縮水中の菌数は380CFU/mLとなった。被処理水中の全塩素濃度が0.05mg/L以上であっても、濃縮水中の全塩素濃度が0.05mg/L未満となり、スライムが抑制できず、被処理水の全塩素濃度管理だけでは不十分であることがわかる。
実施例4,5は、汚染した逆浸透膜に安定化次亜臭素酸組成物を供給し、通水した例である。被処理水中の全塩素濃度がそれぞれ0.21、0.28mg/Lの場合、汚染した逆浸透膜に通水することにより、濃縮水中の全塩素濃度がそれぞれ0.05、0.12mg/Lとなった。濃縮水中の菌数はそれぞれ151、68CFU/mLとなり、比較例3と比べて濃縮水中の菌数が減少したことがわかった。
実施例6は、汚染していない逆浸透膜に安定化次亜臭素酸組成物を供給し、通水した例である。被処理水中の全塩素濃度が0.22mg/Lの場合、濃縮水中の全塩素濃度が0.2mg/Lとなった。濃縮水中の菌数は56CFU/mLとなり、比較例3および実施例4〜5と比べて濃縮水中の菌数が減少したことがわかった。
Claims (4)
- 逆浸透膜に被処理水を通水して処理水および濃縮水を得る逆浸透膜処理方法であって、
前記濃縮水中の全塩素濃度が0.05mg/L以上10mg/L未満の範囲となるように、前記被処理水に臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を存在させることを特徴とする逆浸透膜処理方法。 - 逆浸透膜に被処理水を通水して処理水および濃縮水を得る逆浸透膜処理方法であって、
前記濃縮水中の全塩素濃度が0.05mg/L以上10mg/L未満の範囲となるように、前記被処理水に臭素とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を存在させることを特徴とする逆浸透膜処理方法。 - 逆浸透膜に被処理水を通水して処理水および濃縮水を得る逆浸透膜処理システムであって、
逆浸透膜を有する逆浸透膜処理装置と;
前記濃縮水中の全塩素濃度が0.05mg/L以上10mg/L未満の範囲となるように、前記被処理水に臭素系酸化剤とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を添加する添加手段と;
前記安定化次亜臭素酸組成物が添加された被処理水または前記濃縮水の全塩素濃度を測定する全塩素濃度測定手段と;
を備えることを特徴とする逆浸透膜処理システム。 - 逆浸透膜に被処理水を通水して処理水および濃縮水を得る逆浸透膜処理システムであって、
逆浸透膜を有する逆浸透膜処理装置と;
前記濃縮水中の全塩素濃度が0.05mg/L以上10mg/L未満の範囲となるように、前記被処理水に臭素とスルファミン酸化合物とを含む安定化次亜臭素酸組成物を添加する添加手段と;
前記安定化次亜臭素酸組成物が添加された被処理水または前記濃縮水の全塩素濃度を測定する全塩素濃度測定手段と;
を備えることを特徴とする逆浸透膜処理システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016145247A JP6837301B2 (ja) | 2016-07-25 | 2016-07-25 | 逆浸透膜処理方法および逆浸透膜処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016145247A JP6837301B2 (ja) | 2016-07-25 | 2016-07-25 | 逆浸透膜処理方法および逆浸透膜処理システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018015679A true JP2018015679A (ja) | 2018-02-01 |
JP6837301B2 JP6837301B2 (ja) | 2021-03-03 |
Family
ID=61075526
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016145247A Active JP6837301B2 (ja) | 2016-07-25 | 2016-07-25 | 逆浸透膜処理方法および逆浸透膜処理システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6837301B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020054969A (ja) * | 2018-10-03 | 2020-04-09 | 三浦工業株式会社 | 水処理システム |
JP2020142211A (ja) * | 2019-03-07 | 2020-09-10 | オルガノ株式会社 | 逆浸透膜を用いる水処理方法および水処理装置 |
WO2023149310A1 (ja) * | 2022-02-01 | 2023-08-10 | オルガノ株式会社 | 水処理方法および水処理装置 |
JP7471143B2 (ja) | 2020-05-20 | 2024-04-19 | オルガノ株式会社 | 水処理方法および水処理装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015062889A (ja) * | 2013-08-28 | 2015-04-09 | オルガノ株式会社 | 分離膜のスライム抑制方法、分離膜用スライム抑制剤組成物、および分離膜用スライム抑制剤組成物の製造方法 |
WO2015170495A1 (ja) * | 2014-05-08 | 2015-11-12 | オルガノ株式会社 | ろ過処理システムおよびろ過処理方法 |
-
2016
- 2016-07-25 JP JP2016145247A patent/JP6837301B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015062889A (ja) * | 2013-08-28 | 2015-04-09 | オルガノ株式会社 | 分離膜のスライム抑制方法、分離膜用スライム抑制剤組成物、および分離膜用スライム抑制剤組成物の製造方法 |
WO2015170495A1 (ja) * | 2014-05-08 | 2015-11-12 | オルガノ株式会社 | ろ過処理システムおよびろ過処理方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020054969A (ja) * | 2018-10-03 | 2020-04-09 | 三浦工業株式会社 | 水処理システム |
JP7127464B2 (ja) | 2018-10-03 | 2022-08-30 | 三浦工業株式会社 | 水処理システム |
JP2020142211A (ja) * | 2019-03-07 | 2020-09-10 | オルガノ株式会社 | 逆浸透膜を用いる水処理方法および水処理装置 |
WO2020179789A1 (ja) * | 2019-03-07 | 2020-09-10 | オルガノ株式会社 | 逆浸透膜を用いる水処理方法および水処理装置 |
CN113507981A (zh) * | 2019-03-07 | 2021-10-15 | 奥加诺株式会社 | 使用反渗透膜的水处理方法和水处理装置 |
JP7471143B2 (ja) | 2020-05-20 | 2024-04-19 | オルガノ株式会社 | 水処理方法および水処理装置 |
WO2023149310A1 (ja) * | 2022-02-01 | 2023-08-10 | オルガノ株式会社 | 水処理方法および水処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6837301B2 (ja) | 2021-03-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11666055B2 (en) | Method for producing stabilized hypobromous acid composition, stabilized hypobromous acid composition, and slime inhibition method for separation membrane | |
KR101966569B1 (ko) | 분리막의 슬라임 억제방법 | |
JP6533056B2 (ja) | ろ過処理システムおよびろ過処理方法 | |
JP2016120457A (ja) | ろ過処理システムおよびろ過処理方法 | |
JP6837301B2 (ja) | 逆浸透膜処理方法および逆浸透膜処理システム | |
JPWO2016175006A1 (ja) | アンモニア性窒素含有排水の処理方法およびアンモニア性窒素分解剤 | |
JP6688381B2 (ja) | 逆浸透膜を用いた水処理システムおよび水処理方法 | |
JP6513424B2 (ja) | 分離膜の殺菌方法 | |
JP2016155067A (ja) | 逆浸透膜の改質方法、逆浸透膜、およびホウ素含有水の処理方法 | |
JP7013141B2 (ja) | 逆浸透膜を用いる水処理方法 | |
WO2018037582A1 (ja) | 逆浸透膜を用いる水処理方法 | |
JP2016120486A (ja) | 分離膜のスライム抑制方法 | |
JP6682401B2 (ja) | 逆浸透膜を用いる水処理方法 | |
JP2018008182A (ja) | 逆浸透膜を用いる水処理方法、および逆浸透膜におけるシリカの阻止率向上剤 | |
JP2018153749A (ja) | 逆浸透膜を用いる水処理方法および水処理システム | |
JP7144922B2 (ja) | 逆浸透膜の運転方法および逆浸透膜装置 | |
JP7008470B2 (ja) | 逆浸透膜処理方法および逆浸透膜処理システム | |
JP6974936B2 (ja) | 逆浸透膜を用いる水処理方法 | |
JP6706702B1 (ja) | 逆浸透膜を用いる水処理方法および水処理装置 | |
JP7471143B2 (ja) | 水処理方法および水処理装置 | |
JP2018069124A (ja) | 逆浸透膜を用いる水処理装置および水処理方法 | |
JP6933902B2 (ja) | 逆浸透膜の改質方法、および、非荷電物質含有水の処理方法 | |
JP2018030073A (ja) | 低分子有機物含有水の処理方法および処理システム | |
JP2020131134A (ja) | 分離膜用スライム抑制剤、分離膜用スライム抑制剤の製造方法、および分離膜のスライム抑制方法 | |
JP2023183541A (ja) | イオン交換体の殺菌方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190328 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200312 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200825 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210202 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210209 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6837301 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |