TWI636564B - 柔性顯示裝置及其製備方法 - Google Patents
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Abstract
一種柔性顯示裝置的製備方法，其包括如下步驟：提供硬質基底，在所述硬質基底上依次形成犧牲層、金屬層、緩衝層、和柔性層；在所述柔性層上形成一顯示元件層；熱壓處理，以使所述顯示元件層與所述柔性層結合；雷射照射處理，以使所述犧牲層與所述金屬層相互剝離，進而所述顯示元件層、所述柔性層、所述緩衝層、所述金屬層配合形成所述柔性顯示裝置。該柔性顯示裝置的製備方法，所述金屬層與所述犧牲層剝離徹底，不會出現剝離不均的現象。本發明還提供由上述方法制得的柔性顯示裝置。
Description
本發明涉及一種顯示裝置及其製備方法，尤其涉及一種柔性顯示裝置及其製備方法。
柔性顯示裝置指的是一種藉由將顯示單元形成在諸如聚醯亞胺的柔性基底上而具有柔性的裝置。由於柔性顯示裝置的形狀可以改變為使其尺寸減小以便於攜帶，因此柔性顯示裝置是非常方便的。習知的柔性顯示裝置的製備通常是將柔性基底(如聚醯亞胺)形成在一個硬質載體上(如常規玻璃基板)上，柔性基底上形成顯示單元，然後將柔性基底與硬質載體剝離。然而，採用雷射剝離法(Laser-Lift-Off,LLO)剝離柔性基底與硬質基底時，因溫度、施壓範圍不均造成柔性基底與硬質基底表面附著能量差異，導致剝離介面不均勻性，進而影響柔性顯示裝置的整體製程良率。
鑒於以上內容，有必要提供一種良率較高的柔性顯示裝置的製備及使用該方法制得的柔性顯示裝置。
一種柔性顯示裝置的製備方法，其包括如下步驟：
提供一硬質基底，在所述硬質基底上依次形成一犧牲層、一金屬層、一緩衝層和一柔性層；對所述金屬板進行局部蝕刻，蝕刻後的金屬板形成為框體，該框體覆蓋所述塑膠層的周邊；在所述塑膠層具有所述框體的表面形成間隔設置的複數個磁性元件，沿遠離塑膠層的方向每一個磁性元件逐漸變細；在所述塑膠層未被所述框體和所述複數個磁性元件覆蓋的區域上開設貫穿所述塑膠層的複數個開口。
一種柔性顯示裝置，其包括層疊設置的柔性基底和顯示元件層，所述柔性基底包括依次層疊設置的金屬層、緩衝層、及柔性層；所述顯示元件層位於所述柔性層遠離所述緩衝層的表面。
上述柔性顯示裝置的製備方法，所述金屬層與所述犧牲層剝離徹底，不會出現剝離不均的現象。
100‧‧‧柔性顯示裝置
10‧‧‧硬質基底
20‧‧‧犧牲層
30‧‧‧金屬層
40‧‧‧緩衝層
50‧‧‧柔性層
60‧‧‧顯示元件層
70‧‧‧保護層
110‧‧‧保護墊
120‧‧‧按壓裝置
130‧‧‧雷射源
61‧‧‧TFT陣列層
62‧‧‧陰極層
63‧‧‧有機發光層
64‧‧‧陽極層
圖1是本發明較佳實施方式的柔性顯示裝置的製備步驟一的示意剖面圖。
圖2是本發明較佳實施方式的柔性顯示裝置的製備步驟二的示意剖面圖。
圖3是本發明較佳實施方式的柔性顯示裝置的製備步驟三的示意剖面圖。
圖4是本發明較佳實施方式的柔性顯示裝置的製備步驟四的示意剖面圖。
圖5是較佳實施方式的顯示元件層的剖面示意圖。
圖6是較佳實施方式的柔性顯示裝置的示意圖。
圖7是圖6沿剖面線V-V剖開的剖面示意圖。
請一併參閱圖1至圖4，本發明較佳實施方式的柔性顯示裝置100(如圖6-7所示)的製備方法的示意圖。本實施例中，所述柔性顯示裝置100為一有機電致發光(OLED)顯示裝置。可以理解的，在其他的實施例中，所述柔性顯示裝置100也可為液晶顯示裝置。
本發明較佳實施方式的柔性顯示裝置100(如圖6-7所示)的製備方法包括如下步驟。
步驟S1：如圖1所示，提供一硬質基底10，並在所述硬質基底10上依次形成一犧牲層20、一金屬層30、一緩衝層40和一柔性層50。
該硬質基底10為本領域常規使用的各種透明的硬質材料，如玻璃、藍寶石等。本實施例中，該硬質基底10優選為透明的玻璃基底。該硬質基底10可讓雷射通過。
該犧牲層20的材質可為聚醯亞胺、多晶矽、單晶矽或非晶矽。該犧牲層20的厚度為10-20微米。
該金屬層30作為介面剝離層，利於後續與所述犧牲層20和所述硬質基底10進行剝離。該金屬層30的材質本領域常規使用的各種金屬或金屬合金，如鈦、鈦合金、不銹鋼等。該金屬層30的厚度較薄，因此具有一定的柔韌性，可彎曲變形。
該緩衝層40用以吸收穿透犧牲層20之過多的雷射能量，防止雷射影響破壞所述柔性層50。該緩衝層40的材質可為無機材料，如，可為氮化矽、氧化矽、碳氧化矽、氮氧化矽和碳氮化矽中的一種或多種的組合。此
外，該緩衝層40還可以防止水汽等進入到後續的顯示元件層60(如圖2所示)中。
所述柔性層50的材質為聚合物。本實施例中，所述犧牲層20和所述柔性層50優選採用相同的材料，如聚醯亞胺。
步驟S2：如圖2所示，在所述柔性層50上形成一顯示元件層60。所述顯示元件層60位於所述柔性層50遠離所述緩衝層40的表面。
本實施例中，所述顯示元件層60為本領域常規的OLED顯示元件層。如圖5所示，所述顯示元件層60可包括層疊設置的一TFT陣列層61、一陰極層62、一有機發光層63和一陽極層64。其中所述TFT陣列層61直接形成在柔性層50上。形成所述顯示元件層60的步驟可包括在所述柔性層50上依次形成TFT陣列層61、陰極層62、有機發光層63和陽極層64。所述TFT陣列層61用以驅動所述有機發光層63發光。所述TFT陣列層61包括相互平行的多條資料線(圖未示)和相互平行的多條掃描線(圖未示)，其中資料線與掃描線相互絕緣且相互交叉。所述多條資料線和所述多條掃描線相互交叉定義複數個畫素區域(圖未示)。每一個畫素區域對應設置有薄膜電晶體(圖未示)。
可以理解的，所述方法還可包括在完成步驟S2後在所述顯示元件層60上形成一保護層70的步驟。
步驟S3：如圖3所示，對所述顯示元件層60、所述柔性層50、所述緩衝層40、所述金屬層30、所述犧牲層20和所述硬質基底10形成的層疊體進行熱壓處理，以使所述顯示元件層60與所述柔性層50牢固結合。
如圖3所示，熱壓處理時在所述顯示元件層60遠離所述硬質基底10的一側放置有一保護墊110，使用一按壓裝置120放置在所述保護墊110上對所述顯示元件層60進行按壓。按壓方向為由所述顯示元件層60指向所述柔
性層50的方向。本實施例中，所述按壓裝置120可為一滾輪。所述保護墊110用以避免按壓過程中按壓裝置120對所述顯示元件層60的破壞，所述保護墊110的材質可為矽膠。所述熱壓處理的溫度控制為65-75攝氏度左右，優選70攝氏度。
步驟S4：如圖4所示，在該硬質基底10一側對所述顯示元件層60、所述柔性層50、所述緩衝層40、所述金屬層30、所述犧牲層20和所述硬質基底10形成的層疊體進行雷射照射處理，以使所述犧牲層20與所述金屬層30相互剝離。
雷射照射處理時採用雷射源130放置在所述硬質基底10遠離所述顯示元件層60的一側，所述雷射源130發射雷射光束穿透所述硬質基底10和所述犧牲層20達到所述犧牲層20與所述金屬層30的臨界處。所述犧牲層20在雷射能量作用下產生熔融、分解、氣化等現象，進而所述金屬層30與所述犧牲層20剝離開。採用該種剝離方法，所述金屬層30與所述犧牲層20剝離徹底，不會出現剝離不均的現象。
最終，所述顯示元件層60、所述柔性層50、所述緩衝層40、所述金屬層30形成所述柔性顯示裝置100。
可以理解的，所述犧牲層20也可以在雷射作用下完全去除。
可以理解的，所述金屬層30與所述犧牲層20剝離後，所述硬質基底10上可能會殘留部分的犧牲層20，去除所述硬質基底10上殘留的部分的犧牲層20，則所述硬質基底10還可進行重複利用。
請參閱圖6及圖7，本發明較佳實施方式的柔性顯示裝置100包括層疊設置的柔性基底和顯示元件層60。所述柔性基底包括依次層疊設置的金屬層30、緩衝層40、及柔性層50。其中所述顯示元件層60位於所述柔性層50遠離所述緩衝層40的表面。
該金屬層30的材質本領域常規使用的各種金屬或金屬合金，如鈦、鈦合金、不銹鋼等。該金屬層30的厚度較薄，因此具有一定的柔韌性，可彎曲變形，不影響所述柔性顯示裝置100的整體柔性。
該緩衝層40可防止水汽等進入到顯示元件層60中。該緩衝層40的材質可為無機材料，如氮化矽、氧化矽、碳氧化矽、氮氧化矽、和碳氮化矽。
所述柔性層50的材質為聚合物。本實施例中，所述犧牲層20和所述柔性層50優選採用相同的材料，如聚醯亞胺。
本實施例中，所述柔性顯示裝置100為一有機電致發光顯示裝置。所述顯示元件層60為本領域常規的OLED顯示元件層。所述顯示元件層60包括層疊設置的一TFT陣列層61、陰極層62、有機發光層63、陽極層64。所述TFT陣列層61用以驅動所述有機發光層63發光。所述TFT陣列層61包括相互平行的多條資料線和相互平行的多條掃描線，其中資料線與掃描線相互絕緣且相互交叉。所述多條資料線和所述多條掃描線相互交叉定義複數個畫素區域。每一個畫素區域對應設置有薄膜電晶體。
可以理解的，在其他的實施例中，所述柔性顯示裝置100也可為液晶顯示裝置。
可以理解的，所述柔性顯示裝置100還包括形成在所述顯示元件層60上的保護層70。本實施例中，所述保護層70形成在所述柔性層50上且包裹所述顯示元件層60。
Claims (10)
- 一種柔性顯示裝置的製備方法，其包括如下步驟：提供一硬質基底，在所述硬質基底上依次形成一犧牲層、一金屬層、一緩衝層和一柔性層；在所述柔性層遠離所述緩衝層的表面形成一顯示元件層；對所述顯示元件層、所述柔性層、所述緩衝層、所述金屬層、所述犧牲層和所述硬質基底形成的層疊體進行熱壓處理，以使所述顯示元件層與所述柔性層結合；在該硬質基底一側對所述層疊體進行雷射照射處理，以使所述犧牲層與所述金屬層相互剝離，進而所述顯示元件層、所述柔性層、所述緩衝層及所述金屬層配合形成所述柔性顯示裝置。
- 如請求項1所述的柔性顯示裝置的製備方法，其中：該犧牲層和柔性層的材料均為聚醯亞胺。
- 如請求項1所述的柔性顯示裝置的製備方法，其中：該緩衝層的材料為氮化矽、氧化矽、碳氧化矽、氮氧化矽、或碳氮化矽。
- 如請求項1所述的柔性顯示裝置的製備方法，其中：所述顯示元件層為有機電致發光顯示元件層，所述顯示元件層包括層疊設置的TFT陣列層、陰極層、有機發光層和陽極層。
- 如請求項1所述的柔性顯示裝置的製備方法，其中：熱壓處理時使用一按壓裝置對所述顯示元件層進行按壓，熱壓處理的溫度控制為65-75攝氏度。
- 如請求項5所述的柔性顯示裝置的製備方法，其中：熱壓處理時在所述顯示元件層遠離所述硬質基底的一側放置有一保護墊，所述按壓裝置放置在所述保護墊上對所述顯示元件層進行按壓。
- 一種柔性顯示裝置，其包括層疊設置的柔性基底和顯示元件層，其改良在於：所述柔性基底包括依次層疊設置的金屬層、緩衝層、及柔性層；所述顯示元件層位於所述柔性層遠離所述緩衝層的表面。
- 如請求項7所述的柔性顯示裝置，其中：該柔性層的材料為聚醯亞胺。
- 如請求項7所述的柔性顯示裝置，其中：該緩衝層的材料為氮化矽、氧化矽、碳氧化矽、氮氧化矽或碳氮化矽。
- 如請求項7所述的柔性顯示裝置，其中：所述顯示元件層為有機電致發光顯示元件層，所述顯示元件層包括層疊設置的TFT陣列層、陰極層、有機發光層和陽極層。
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