JP7253135B2 - 表示装置形成用基板、表示装置および表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
まず、図1により、本実施の形態による表示装置形成用基板の概略について説明する。図1は、本実施の形態による表示装置形成用基板を示す断面図である。
次に、図2により、本実施の形態による表示装置の概略について説明する。図2は、本実施の形態による表示装置を示す断面図である。この表示装置は、折り曲げ可能に構成されており、上述した表示装置形成用基板10上に樹脂基材22を形成後、樹脂基材22上に後述する有機EL素子24等を配置するとともに、後述する封止樹脂25によって封止したものである。この際、表示装置20は、後述するように、有機EL素子24等を樹脂基材22上に複数配置し、ガラス基材11および剥離層12を除去した後、個々の有機EL素子24毎に切断して個片化することにより形成されたものである。
次に、図3(a)-(c)により、本実施の形態による表示装置形成用基板の製造方法について説明する。図3(a)-(c)は、本実施の形態による表示装置形成用基板の製造方法を示す断面図である。
次に、図4(a)-(e)、図5(a)-(c)及び図6(a)-(d)により、本実施の形態による表示装置の製造方法について説明する。図4(a)-(e)、図5(a)-(c)及び図6(a)-(d)は、本実施の形態による表示装置の製造方法を示す断面図である。
次に、本実施の形態の変形例(変形例1)について説明する。図7及び図8に示す変形例は、金属層13の構成が異なるものであり、他の構成は、図1乃至図6に示す形態と略同一である。図7及び図8において、図1乃至図6と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
次に、本実施の形態の変形例(変形例2)について説明する。図9及び図10に示す変形例は、金属層13の構成が異なるものであり、他の構成は、図1乃至図6に示す形態と略同一である。図9及び図10において、図1乃至図6と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
次に、本実施の形態の変形例(変形例3)について説明する。図11に示す変形例は、金属層13の構成が異なるものであり、他の構成は、図1乃至図6に示す形態と略同一である。図11において、図1乃至図6と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
次に、図12(a)-(d)、図13(a)-(c)及び図14(a)-(d)により、本実施の形態による表示装置の製造方法について説明する。図12(a)-(d)、図13(a)-(c)及び図14(a)-(d)は、本実施の形態による表示装置の製造方法を示す断面図である。
次に、本実施の形態の変形例(変形例4)について説明する。図15に示す変形例は、金属層13、13aの構成が異なるものであり、他の構成は、図11に示す形態と略同一である。図15において、図11と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
次に、図16(a)-(d)、図17(a)-(d)、図18(a)-(c)及び図19(a)-(c)により、本変形例による表示装置の製造方法について説明する。図16(a)-(d)、図17(a)-(d)、図18(a)-(c)及び図19(a)-(c)は、本変形例による表示装置の製造方法を示す断面図である。
図1に示す構成からなる表示装置形成用基板10を使用して、図2に示す構成からなる、表示装置20(実施例)を作製した(図20(a)参照)。この場合、ガラス基材11は無アクリルガラスを使用した。剥離層12は、剥離材料(Brewer Science, Inc.社製BREWER BOND701(製品名))を使用した。剥離層12は、ガラス基材11の回転速度を2500rpmに設定し、スピン法により剥離材料をガラス基材11上に塗布した後に、減圧乾燥装置(VCD)を用いて25Paの減圧条件で乾燥させ、300℃、5分間の条件で焼成させることにより形成した。金属層13は、日立金属(株)製Mo合金ターゲット(MDT)(製品名)を使用し、スパッタリング法により剥離層12上に成膜した。金属層13の厚みT3は100nmとした。また、樹脂基材22は、宇部興産(株)製UPIA-ST(製品名)を使用した。
11 ガラス基材
12 剥離層
13 金属層
15 めっき層
20 表示装置
21 支持基材
22 樹脂基材
23 薄膜トランジスタ
24 有機EL素子
25 封止樹脂
29 仮支持基材
Claims (11)
- 折り曲げ可能な表示装置を形成するための表示装置形成用基板であって、
ガラス基材と、
前記ガラス基材上に積層された剥離層と、
前記剥離層上に積層された金属層とを備え、
前記金属層は、復元性維持機能を有し、
前記金属層は、複数の貫通孔が形成された所定のパターンにパターニングされている、表示装置形成用基板。 - 前記金属層の厚みは、0.03μm以上30μm以下である、請求項1に記載の表示装置形成用基板。
- 前記金属層上に積層されためっき層を更に備える、請求項1または2に記載の表示装置形成用基板。
- 前記剥離層は、レーザー光を吸収することにより分解され、前記金属層は、前記剥離層を透過した前記レーザー光を反射可能である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の表示装置形成用基板。
- 前記金属層は、ガスバリア機能、応力緩和機能、電磁波遮蔽機能、放熱機能及び帯電防止機能のうち少なくとも1つの機能を有する、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の表示装置形成用基板。
- 折り曲げ可能な表示装置であって、
支持基材と、
前記支持基材上に積層された金属層と、
前記金属層上に配置された樹脂基材と、
前記樹脂基材上に配置された薄膜トランジスタと、
前記樹脂基材上に配置され、前記薄膜トランジスタに電気的に接続された有機EL素子と、
前記有機EL素子上に配置され、前記有機EL素子を封止する封止樹脂とを備え、
前記金属層は、復元性維持機能を有し、
前記金属層は、複数の貫通孔が形成された所定のパターンにパターニングされている、表示装置。 - 前記金属層の厚みは、0.03μm以上30μm以下である、請求項6に記載の表示装置。
- 前記金属層上に積層されためっき層を更に備える、請求項6または7に記載の表示装置。
- 前記金属層は、ガスバリア機能、応力緩和機能、電磁波遮蔽機能、放熱機能及び帯電防止機能のうち少なくとも1つの機能を有する、請求項6乃至8のいずれか一項に記載の表示装置。
- 折り曲げ可能な表示装置であって、
支持基材と、
前記支持基材上に積層された第1金属層と、
前記第1金属層上に配置された樹脂基材と、
前記樹脂基材上に積層された第2金属層と、
前記第2金属層上に配置された薄膜トランジスタと、
前記樹脂基材上に配置され、前記薄膜トランジスタに電気的に接続された有機EL素子と、
前記有機EL素子上に配置され、前記有機EL素子を封止する封止樹脂とを備え、
前記第1金属層および前記第2金属層は、復元性維持機能を有し、
前記第1金属層は、複数の貫通孔が形成された所定のパターンにパターニングされている、表示装置。 - 折り曲げ可能な表示装置の製造方法であって、
請求項1乃至5のいずれか一項に記載の表示装置形成用基板を準備する工程と、
前記表示装置形成用基板の前記金属層上に樹脂基材を配置する工程と、
前記樹脂基材上に薄膜トランジスタを配置する工程と、
前記樹脂基材上に、前記薄膜トランジスタに電気的に接続される有機EL素子を配置する工程と、
前記有機EL素子を封止樹脂によって封止する工程と、
前記封止樹脂上に、前記表示装置を仮支持する仮支持基材を配置する工程と、
前記ガラス基材側から前記剥離層に向けてレーザー光を照射することにより前記ガラス基材を前記金属層から剥離する工程と、
前記ガラス基材が剥離された前記金属層上に、前記表示装置を支持する支持基材を配置する工程と、
前記仮支持基材を前記封止樹脂から剥離する工程とを備え、
前記金属層は、復元性維持機能を有する、表示装置の製造方法。
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