CN107706305B - 柔性显示装置及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

一种柔性显示装置的制备方法，其包括如下步骤：提供硬质基底，在所述硬质基底上依次形成牺牲层、金属层、缓冲层、和柔性层；在所述柔性层上形成一显示元件层；热压处理，以使所述显示元件层与所述柔性层结合；激光照射处理，以使所述牺牲层与所述金属层相互剥离，进而所述显示元件层、所述柔性层、所述缓冲层、所述金属层配合形成所述柔性显示装置。该柔性显示装置的制备方法，所述金属层与所述牺牲层剥离彻底，不会出现剥离不均的现象。本发明还提供由上述方法制得的柔性显示装置。

Description

柔性显示装置及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种显示装置及其制备方法，尤其涉及一种柔性显示装置及其制备方法。
背景技术
柔性显示装置指的是一种通过将显示单元形成在诸如聚酰亚胺的柔性基底上而具有柔性的装置。由于柔性显示装置的形状可以改变为使其尺寸减小以便于携带，因此柔性显示装置是非常方便的。现有的柔性显示装置的制备通常是将柔性基底(如聚酰亚胺)形成在一个硬质载体上(如常规玻璃基板)上，柔性基底上形成显示单元，然后将柔性基底与硬质载体剥离。然而，采用激光剥离法(Laser-Lift-Off,LLO)剥离柔性基底与硬质基底时，因温度、施压范围不均造成柔性基底与硬质基底表面附着能量差异，导致剥离界面不均匀性，进而影响柔性显示装置的整体制程良率。
发明内容
鉴于以上内容，有必要提供一种良率较高的柔性显示装置的制备及使用该方法制得的柔性显示装置。
一种柔性显示装置的制备方法，其包括如下步骤：
提供一硬质基底，在所述硬质基底上依次形成一牺牲层、一金属层、一缓冲层和一柔性层；
在所述柔性层远离所述缓冲层的表面形成一显示元件层；
对所述显示元件层、所述柔性层、所述缓冲层、所述金属层、所述牺牲层和所述硬质基底形成的层叠体进行热压处理，以使所述显示元件层与所述柔性层结合；
在该硬质基底一侧对所述层叠体进行激光照射处理，以使所述牺牲层与所述金属层相互剥离，进而所述显示元件层、所述柔性层、所述缓冲层及所述金属层配合形成所述柔性显示装置。
一种柔性显示装置，其包括层叠设置的柔性基底和显示元件层，所述柔性基底包括依次层叠设置的金属层、缓冲层、及柔性层；所述显示元件层位于所述柔性层远离所述缓冲层的表面。
上述柔性显示装置的制备方法，所述金属层与所述牺牲层剥离彻底，不会出现剥离不均的现象。
附图说明
图1是本发明较佳实施方式的柔性显示装置的制备步骤一的示意剖面图。
图2是本发明较佳实施方式的柔性显示装置的制备步骤二的示意剖面图。
图3是本发明较佳实施方式的柔性显示装置的制备步骤三的示意剖面图。
图4是本发明较佳实施方式的柔性显示装置的制备步骤四的示意剖面图。
图5是较佳实施方式的显示元件层的剖面示意图。
图6是较佳实施方式的柔性显示装置的示意图。
图7是图6沿剖面线V-V剖开的剖面示意图。
主要元件符号说明
Figure BDA0001332637610000021
Figure BDA0001332637610000031
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请一并参阅图1至图4，本发明较佳实施方式的柔性显示装置100(如图6-7所示)的制备方法的示意图。本实施例中，所述柔性显示装置100为一有机电致发光(OLED)显示装置。可以理解的，在其他的实施例中，所述柔性显示装置100也可为液晶显示装置。
本发明较佳实施方式的柔性显示装置100(如图6-7所示)的制备方法包括如下步骤。
步骤S 1：如图1所示，提供一硬质基底10，并在所述硬质基底10上依次形成一牺牲层20、一金属层30、一缓冲层40和一柔性层50。
该硬质基底10为本领域常规使用的各种透明的硬质材料，如玻璃、蓝宝石等。本实施例中，该硬质基底10优选为透明的玻璃基底。该硬质基底10可让激光通过。
该牺牲层20的材质可为聚酰亚胺、多晶硅、单晶硅或非晶硅。该牺牲层20的厚度为10-20微米。
该金属层30作为介面剥离层，利于后续与所述牺牲层20和所述硬质基底10进行剥离。该金属层30的材质本领域常规使用的各种金属或金属合金，如钛、钛合金、不锈钢等。该金属层30的厚度较薄，因此具有一定的柔韧性，可弯曲变形。
该缓冲层40用以吸收穿透牺牲层20之过多的激光能量，防止激光影响破坏所述柔性层50。该缓冲层40的材质可为无机材料，如，可为氮化硅、氧化硅、碳氧化硅、氮氧化硅和碳氮化硅中的一种或多种的组合。此外，该缓冲层40还可以防止水汽等进入到后续的显示元件层60(如图2所示)中。
所述柔性层50的材质为聚合物。本实施例中，所述牺牲层20和所述柔性层50优选采用相同的材料，如聚酰亚胺。
步骤S2：如图2所示，在所述柔性层50上形成一显示元件层60。所述显示元件层60位于所述柔性层50远离所述缓冲层40的表面。
本实施例中，所述显示元件层60为本领域常规的OLED显示元件层。如图5所示，所述显示元件层60可包括层叠设置的一TFT阵列层61、一阴极层62、一有机发光层63和一阳极层64。其中所述TFT阵列层61直接形成在柔性层50上。形成所述显示元件层60的步骤可包括在所述柔性层50上依次形成TFT阵列层61、阴极层62、有机发光层63和阳极层64。所述TFT阵列层61用以驱动所述有机发光层63发光。所述TFT阵列层61包括相互平行的多条数据线(图未示)和相互平行的多条扫描线(图未示)，其中数据线与扫描线相互绝缘且相互交叉。所述多条数据线和所述多条扫描线相互交叉定义多个像素区域(图未示)。每一个像素区域对应设置有薄膜晶体管(图未示)。
可以理解的，所述方法还可包括在完成步骤S2后在所述显示元件层60上形成一保护层70的步骤。
步骤S3：如图3所示，对所述显示元件层60、所述柔性层50、所述缓冲层40、所述金属层30、所述牺牲层20和所述硬质基底10形成的层叠体进行热压处理，以使所述显示元件层60与所述柔性层50牢固结合。
如图3所示，热压处理时在所述显示元件层60远离所述硬质基底10的一侧放置有一保护垫110，使用一按压装置120放置在所述保护垫110上对所述显示元件层60进行按压。按压方向为由所述显示元件层60指向所述柔性层50的方向。本实施例中，所述按压装置120可为一滚轮。所述保护垫110用以避免按压过程中按压装置120对所述显示元件层60的破坏，所述保护垫110的材质可为硅胶。所述热压处理的温度控制为65-75摄氏度左右，优选70摄氏度。
步骤S4：如图4所示，在该硬质基底10一侧对所述显示元件层60、所述柔性层50、所述缓冲层40、所述金属层30、所述牺牲层20和所述硬质基底10形成的层叠体进行激光照射处理，以使所述牺牲层20与所述金属层30相互剥离。
激光照射处理时采用一激光源130放置在所述硬质基底10远离所述显示元件层60的一侧，所述激光源130发射激光束穿透所述硬质基底10和所述牺牲层20达到所述牺牲层20与所述金属层30的临界处。所述牺牲层20在激光能量作用下产生熔融、分解、气化等现象，进而所述金属层30与所述牺牲层20剥离开。采用该种剥离方法，所述金属层30与所述牺牲层20剥离彻底，不会出现剥离不均的现象。
最终，所述显示元件层60、所述柔性层50、所述缓冲层40、所述金属层30形成所述柔性显示装置100。
可以理解的，所述牺牲层20也可以在激光作用下完全去除。
可以理解的，所述金属层30与所述牺牲层20剥离后，所述硬质基底10上可能会残留部分的牺牲层20，去除所述硬质基底10上残留的部分的牺牲层20，则所述硬质基底10还可进行重复利用。
请参阅图6及图7，本发明较佳实施方式的柔性显示装置100包括层叠设置的柔性基底和显示元件层60。所述柔性基底包括依次层叠设置的金属层30、缓冲层40、及柔性层50。其中所述显示元件层60位于所述柔性层50远离所述缓冲层40的表面。
该金属层30的材质本领域常规使用的各种金属或金属合金，如钛、钛合金、不锈钢等。该金属层30的厚度较薄，因此具有一定的柔韧性，可弯曲变形，不影响所述柔性显示装置100的整体柔性。
该缓冲层40可防止水汽等进入到显示元件层60中。该缓冲层40的材质可为无机材料，如氮化硅、氧化硅、碳氧化硅、氮氧化硅、和碳氮化硅。
所述柔性层50的材质为聚合物。本实施例中，所述牺牲层20和所述柔性层50优选采用相同的材料，如聚酰亚胺。
本实施例中，所述柔性显示装置100为一有机电致发光显示装置。所述显示元件层60为本领域常规的OLED显示元件层。所述显示元件层60包括层叠设置的一TFT阵列层61、阴极层62、有机发光层63、阳极层64。所述TFT阵列层61用以驱动所述有机发光层63发光。所述TFT阵列层61包括相互平行的多条数据线和相互平行的多条扫描线，其中数据线与扫描线相互绝缘且相互交叉。所述多条数据线和所述多条扫描线相互交叉定义多个像素区域。每一个像素区域对应设置有薄膜晶体管。
可以理解的，在其他的实施例中，所述柔性显示装置100也可为液晶显示装置。
可以理解的，所述柔性显示装置100还包括形成在所述显示元件层60上的保护层70。本实施例中，所述保护层70形成在所述柔性层50上且包裹所述显示元件层60。
以上实施方式仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施方式对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.一种柔性显示装置的制备方法，其包括如下步骤：
提供一硬质基底，在所述硬质基底上依次形成一牺牲层、一金属层、一缓冲层和一柔性层；
在所述柔性层远离所述缓冲层的表面形成一显示元件层；
对所述显示元件层、所述柔性层、所述缓冲层、所述金属层、所述牺牲层和所述硬质基底形成的层叠体进行热压处理，以使所述显示元件层与所述柔性层结合；
在该硬质基底一侧对所述层叠体进行激光照射处理，以使所述牺牲层与所述金属层相互剥离，进而所述显示元件层、所述柔性层、所述缓冲层及所述金属层配合形成所述柔性显示装置。
2.如权利要求1所述的柔性显示装置的制备方法，其特征在于：该牺牲层和柔性层的材料均为聚酰亚胺。
3.如权利要求1所述的柔性显示装置的制备方法，其特征在于：该缓冲层的材料为氮化硅、氧化硅、碳氧化硅、氮氧化硅、或碳氮化硅。
4.如权利要求1所述的柔性显示装置的制备方法，其特征在于：所述显示元件层为有机电致发光显示元件层，所述显示元件层包括层叠设置的TFT阵列层、阴极层、有机发光层和阳极层。
5.如权利要求1所述的柔性显示装置的制备方法，其特征在于：热压处理时使用一按压装置对所述显示元件层进行按压，热压处理的温度控制为65-75摄氏度。
6.如权利要求5所述的柔性显示装置的制备方法，其特征在于：热压处理时在所述显示元件层远离所述硬质基底的一侧放置有一保护垫，所述按压装置放置在所述保护垫上对所述显示元件层进行按压。
7.一种柔性显示装置，其包括层叠设置的柔性基底和显示元件层，其特征在于：所述柔性基底包括依次层叠设置的金属层、缓冲层、及柔性层；所述显示元件层位于所述柔性层远离所述缓冲层的表面，所述金属层用以作为介面剥离层，利于该柔性显示装置在制备过程中与牺牲层进行剥离。
8.如权利要求7所述的柔性显示装置，其特征在于：该牺牲层和柔性层的材料均为聚酰亚胺。
9.如权利要求7所述的柔性显示装置，其特征在于：该缓冲层的材料为氮化硅、氧化硅、碳氧化硅、氮氧化硅或碳氮化硅。
10.如权利要求7所述的柔性显示装置，其特征在于：所述显示元件层为有机电致发光显示元件层，所述显示元件层包括层叠设置的TFT阵列层、阴极层、有机发光层和阳极层。
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