TWI617364B - 用於有機材料的蒸發源、具有用於有機材料的蒸發源之用於在真空室中沉積有機材料的沉積設備、以及用於蒸發有機材料的方法 - Google Patents

用於有機材料的蒸發源、具有用於有機材料的蒸發源之用於在真空室中沉積有機材料的沉積設備、以及用於蒸發有機材料的方法 Download PDF

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Abstract

敘述一種用於沉積一或多層的系統，特別是包含有機材料於其中的層。系統包含：一裝載室，用於裝載待處理的基板；一移送室，用於傳送基板；一真空擺動模組，提供在裝載室和移送室之間；至少一沉積設備，用於在至少一沉積室的一真空室中沉積材料，其中該至少一沉積設備連接至移送室；另一裝載室，用於卸載已處理的基板；另一移送室，用於傳送基板；另一真空擺動模組，提供在該另一裝載室和該另一移送室之間；以及一載具返回軌道，從該另一真空擺動模組通往真空擺動模組，其中載具返回軌道用以在真空條件和/或受控制的惰性氣氛下傳送載具。

Description

用於有機材料的蒸發源、具有用於有機材料的蒸發源之 用於在真空室中沉積有機材料的沉積設備、以及用於蒸發有機材料的方法
本發明的實施例是關於有機材料的沉積、用於沉積材料(例如有機材料)的系統、用於有機材料的源(source)、以及用於有機材料的沉積設備。本發明的實施例特別是關於用於製造裝置(特別是包含有機材料於其中的裝置)的製造系統、用於在由載具所支撐的基板上沉積一或多層(特別是包含有機材料於其中的層)的系統、在用於製造裝置(特別是包含有機材料的裝置)的製造系統中製造裝置的方法、以及在用於在由載具所支撐的基板上沉積一或多層(特別是包含有機材料於其中的層)的系統中沉積一或多層的方法。
有機蒸發器是用於有機發光二極體(organic light-emitting diode,OLED)的生產的工具。OLED是發光二極體的一種特殊類型，其中發射層包括某些有機化合物的薄膜。有機 發光二極體(OLED)用在電視螢幕、電腦顯示器、行動電話、其他手持裝置等等的製造，以顯示資訊。OLED也能夠用於一般的空間照明。由於OLED畫素直接發出光且不需要背光源，OLED顯示器可達成的顏色、亮度及視角範圍大於傳統LCD顯示器的這些數值範圍。因此，OLED顯示器的耗能大幅低於傳統LCD顯示器的耗能。此外，OLED能夠被製造至可撓性基板上的事實帶來了另外的應用。典型的OLED顯示器，舉例來說，可包含有機材料的層，其以形成具有可獨立供能的畫素的矩陣顯示器面板的方式，位於都沉積在基板上的二個電極之間。OLED一般位在二個玻璃平板之間，並且密封玻璃平板的邊緣以將OLED封裝於其中。
在這類顯示器裝置的製造中遇到了很多挑戰。在一個例子裡，有許多勞力密集步驟是必須的，以將OLED封裝在二個玻璃平板之間來避免可能的裝置汙染。在另一個例子裡，顯示器螢幕的不同尺寸，連帶玻璃平板的不同尺寸，可能需要對於用在形成顯示器裝置的製程及製程硬體的實質重構。一般來說，存在著在大面積基板上製造OLED裝置的期望。
大尺度OLED顯示器的製造帶來各種挑戰，之中一個步驟是以遮罩遮蓋基板，這例如是用於沉積圖案化的層。另外，已知的系統典型地具有小的總材料利用率，例如小於50%。
因此，對於新的和改良的用於形成裝置(例如OLED顯示器裝置)的系統、設備及方法，持續存在著需求。
考量到上述內容，提供一種改良的用於沉積一有機 材料的蒸發源、一種改良的用於蒸發一有機材料的沉積設備、以及一種改良的用於蒸發一有機材料的方法。本發明實施例的其他方面、優點及特徵，係由附屬項、說明書及所附圖式呈現。
根據一實施例，提供一種用於有機材料的蒸發源。該蒸發源包括：一蒸發坩鍋，其中該蒸發坩鍋係配置成用以蒸發有機材料；一分佈管，具有一或多個出口，其中分佈管係與蒸發坩鍋處於流體連通狀態，且其中分佈管係在蒸發期間能夠繞著一軸旋轉；以及至少一側面遮罩物，用於遮擋有機材料的蒸發。
根據另一實施例，提供一種用於在一真空室中沉積有機材料的沉積設備。該設備包括：該真空室；根據在此所述之實施例的之蒸發源，其中該蒸發源在真空室中蒸發有機材料；以及一基板支撐件系統，設置在真空室中，並具有至少二個軌道，其中基板支撐件系統的至少二個軌道係配置成用於基板、或載運基板之載具在真空室中的實質上垂直的支撐。
根據另一實施例，提供一種用於蒸發一有機材料的方法。該方法包括：在實質上垂直的一第一處理位置中移動一第一基板；在一蒸發源蒸發有機材料時，以至少一平移運動沿著第一基板移動蒸發源；在實質上垂直的一第二處理位置移動一第二基板，該第二處理位置不同於第一處理位置；在蒸發期間繞著一軸旋轉蒸發源的一分佈管；以至少一側面遮罩物遮擋該有機材料的蒸發；以及在蒸發源蒸發有機材料時，以至少另一平移運動沿著第二基板移動蒸發源。
10‧‧‧元件符號
100‧‧‧源
101B‧‧‧箭頭
101C‧‧‧箭頭
101D‧‧‧箭頭
102‧‧‧支座
104‧‧‧蒸發坩鍋
106‧‧‧分佈管
108‧‧‧致動器
109‧‧‧饋通件
110‧‧‧真空室
112‧‧‧對準單元
121‧‧‧基板
124‧‧‧傳送軌道
126‧‧‧基板支撐件
131‧‧‧遮罩框
132‧‧‧遮罩
200‧‧‧沉積設備
202‧‧‧遮罩物
205‧‧‧閥門/閘閥
207‧‧‧閥門/閘閥
210‧‧‧真空維護室
220‧‧‧線形導件
320‧‧‧線形導件
402‧‧‧控制外殼
403‧‧‧輥
421‧‧‧載具
424‧‧‧輥
425‧‧‧軸
431‧‧‧桿狀體
433‧‧‧線形導件
452‧‧‧線圈配置
453‧‧‧線圈配置
500‧‧‧沉積設備
503‧‧‧磁性引導元件
524‧‧‧磁性引導元件
530‧‧‧環形軌道
533‧‧‧彎曲部分
534‧‧‧直線部分
600‧‧‧沉積系統
605‧‧‧閘閥
609‧‧‧移送室
610‧‧‧移送室
611‧‧‧移送室
612‧‧‧移送室
613‧‧‧移送室
614‧‧‧移送室
615‧‧‧移送室
621‧‧‧傳送軌道
621R‧‧‧傳送軌道
703‧‧‧凸緣單元
710‧‧‧中空空間
712‧‧‧開口
715‧‧‧加熱單元
717‧‧‧遮罩物/遮熱物
722‧‧‧插塞
725‧‧‧加熱單元
726‧‧‧中央加熱元件
727‧‧‧遮罩物
729‧‧‧導體
732‧‧‧蒸氣管道
802‧‧‧步驟
804‧‧‧步驟
806‧‧‧步驟
808‧‧‧步驟
809‧‧‧狀態
810‧‧‧移送室
820‧‧‧軌道
910‧‧‧真空旋轉隔室
911‧‧‧元件符號
1000‧‧‧系統
1100‧‧‧搬運腔室
1101‧‧‧搬運腔室
1111‧‧‧第一軌道
1112‧‧‧第二軌道
1120‧‧‧裝載室
1121‧‧‧裝載室
1125‧‧‧載具返回軌道
1130‧‧‧預處理室
1131‧‧‧預處理室
1132‧‧‧遮罩架
1133‧‧‧遮罩清洗室
1140‧‧‧薄膜封裝室
1141‧‧‧薄膜封裝室
1150‧‧‧層檢查室
1160‧‧‧真空擺動模組
1161‧‧‧真空擺動模組
1202‧‧‧基座
1204‧‧‧致動器
1205‧‧‧閘閥
1206‧‧‧支座
1207‧‧‧軸
1210‧‧‧升舉銷
1241‧‧‧上引導部分
1261‧‧‧真空室
1310‧‧‧支座
1321‧‧‧桿狀體
1323‧‧‧磁鐵支撐元件
1324‧‧‧第一磁鐵
1325‧‧‧第二磁鐵
1342‧‧‧輥
1361‧‧‧移送室
1405‧‧‧閘閥
1410‧‧‧載具返回腔室
1420‧‧‧維護出入口
1421‧‧‧載具緩衝區
1461‧‧‧真空旋轉模組
1510‧‧‧載具返回路徑腔室
1512‧‧‧包圍空間
1802‧‧‧步驟
1804‧‧‧步驟
1806‧‧‧步驟
1808‧‧‧步驟
1810‧‧‧步驟
1812‧‧‧步驟
為了能夠理解本發明上述特徵的細節，可參照實施例，得到對於簡單總括於上之本發明更詳細的敘述。所附之圖式是關於本發明的實施例，並敘述如下：第1A至1D圖示出繪示根據此處所述之實施例的用於有機材料的一蒸發源在根據又另外之此處所述的實施例的一沉積設備的一真空室中的不同沉積位置的示意圖。
第2圖示出根據此處所述之實施例的用於在一真空室中沉積有機材料的一沉積設備的俯視示意圖。
第3圖示出根據此處所述之實施例的用於在一真空室中沉積有機材料的另一沉積設備的俯視示意圖。
第4A和4B圖示出根據此處所述之實施例的用於在一真空室中沉積有機材料的一沉積設備、以及根據此處所述之實施例的用於有機材料的蒸發的一蒸發源在一真空室中的不同沉積位置的側視示意圖。
第5A和5B圖示出根據此處所述之實施例的用於在一真空室中沉積有機材料的一沉積設備、以及根據此處所述之實施例的用於有機材料的蒸發的複數蒸發源在一真空室中的不同沉積位置的示意圖。
第6圖示出根據此處所述之實施例的具有至少二個沉積設備及用於有機材料的蒸發的複數蒸發源的一系統的示意圖。
第7A和7B圖示出根據此處所述之實施例的一蒸發源的複數部分的示意圖。
第7C圖示出根據此處所述之實施例的另一蒸發源的示意圖。
第8A和8B圖示出根據此處所述之實施例的用於在一真空室中沉積有機材料的一沉積設備、以及根據此處所述之實施例的用於有機材料的蒸發的複數蒸發源在一真空室中的不同沉積位置的示意圖。
第9圖示出根據此處所述之實施例的用於在一真空室中沉積有機材料的另一沉積設備的示意圖。
第10圖示出繪示根據此處所述之實施例的用於蒸發一有機材料的一方法的流程圖。
第11圖示出根據此處所述之實施例的具有一群集系統部分(cluster system portion)、一真空擺動模組、一移送室、另一移送室、另一真空擺動模組、及另一群集系統部分的一製造系統。
第12A圖示出一真空擺動模組，其能夠用於根據此處所述之實施例的製造系統。
第12B圖示出具有一基板支撐於其中的的載具在參照第12A圖所述之真空擺動模組中的旋轉。
第13A至13C圖繪示一雙軌傳送配置，其能夠提供在根據一些此處所述之實施例的移送室中，其中更提供一載具返回軌道。
第14圖示出具有一群集系統部分、一真空擺動模組、一移送室、另一移送室、另一真空擺動模組、及另一群集系統部分的另一製造系統，其中提供根據一些此處所述之實施例的一直線型(in-line)沉積系統部分及一載具返回軌道。
第15A和15B圖示出根據此處所述之實施例的又一製造系統，具有類似於第14圖的一直線型沉積系統部分及一載具返回 軌道。
第16圖示出又一製造系統，其中結合具有一環形軌道和/或一源列構造(source-train configuration)的沉積設備以及具有線性移動並可旋轉的一蒸發源的沉積設備。
第17圖示出又一製造系統，其中結合具有一環形軌道和/或一源列構造的沉積設備以及具有線性移動並可旋轉的一蒸發源的沉積設備。
第18圖示出繪示根據此處所述之實施例的運作一製造系統的方法的流程圖。
現在將對於本發明的各種實施例進行詳細說明，本發明的一或多個例子係繪示於圖中。在以下對於圖式的敘述中，係使用相同的元件符號來指示相同的元件。一般來說，只會對於各個實施例的不同處進行敘述。各個例子的提供只是用以解釋本發明，而非欲用以限制本發明。另外，作為一個實施例的一部分而被繪示或敘述的特徵，可用於或結合其他實施例，以產生又一實施例。所述內容意欲包含這樣的調整及變化。
第1A至1D圖示出一蒸發源100，位在一真空室110中的數種不同位置。不同位置之間的運動係由箭頭101B、101C及101D所指示。根據此處所述的實施例，蒸發源係配置成用於平移式的運動和繞著一軸的旋轉。第1A至1D圖示出具有一蒸發坩鍋104和分佈管106的蒸發源100。分佈管106由支座102所支撐。另外，根據一些實施例，蒸發坩鍋104也能夠由支座102 所支撐。二個基板121係提供在真空室110中。典型地，用於基板上之層沉積的遮蓋的一遮罩132能夠提供在基板和蒸發源100之間。如第1A至1D圖所繪示，有機材料從分佈管106蒸發。這由元件符號10所指示。
在第1A圖中，蒸發源100被示出在第一位置。如第1B圖所示，真空室110中左邊的基板，藉由如箭頭101B所指示的蒸發源的平移運動，被沉積一個有機材料的層。當左邊的基板121被沉積有機材料的層時，一第二基板，例如第1A至1D圖中右手側上的基板，能夠被交換。第1B圖示出用於基板的一傳送軌道124。在左邊的基板121已被沉積有機材料的層之後，蒸發源的分佈管106如第1C圖中的箭頭101C所指示般旋轉。在有機材料於第一基板(第1B圖中左手側上的基板)上沉積的期間，第二基板已相對於遮罩132定位和對準。據此，在示於第1C圖的旋轉之後，右手側上的基板，亦即第二基板121，能夠如箭頭101D所指示般被塗佈一個有機材料的層。當第二基板121被塗佈有機材料時，第一基板能夠被移出真空室110。第1D圖示出一傳送軌道124，在第一基板的位置(第1D圖中的左手側上)。
根據此處所述的實施例，基板是在一實質上垂直位置被塗佈有機材料。亦即，示於第1A至1D圖的示意圖是包含蒸發源100的一設備的俯視示意圖。典型地，分佈管是一蒸氣分佈噴頭，特別是一線形的蒸氣分佈噴頭。藉此，分佈管提供實質上垂直延伸的一線源(line source)。根據此處所述之能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，實質上垂直，係理解成特別是當提及基板方向時，允許從垂直方向上10°或更小的偏差。由於基板支 撐件從垂直方向上存在一些偏差可帶來更穩定的基板位置，能夠提供此一偏差值。然而，在有機材料的沉積期間的基板方向係視為實質上垂直的，其被視為不同於水平的基板方向。基板的表面從而藉由在對應一基板維度的一個方向中延伸的一線源、以及沿著對應另一基板維度的另一方向中的平移運動而被塗佈。
如第1C圖所示，分佈管106的旋轉，亦即從第一基板121至第二基板121的旋轉，可為180°。在第二基板已如第1D圖所示般被沉積之後，分佈管106能夠以180°轉回、或者能夠以示於第1C圖的相同方向旋轉。從而，分佈管總共旋轉360°。根據此處所述之能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，分佈管106最少旋轉160°，這例如是在由元件符號10所指示的蒸發盤管(evaporation coil)並未以垂直於基板121表面的方式提供的情況。然而，分佈管典型地旋轉180°或至少360°。
根據此處所述的實施例，線源(例如線形的蒸氣分佈噴頭)的平移運動和線源(例如線形的蒸氣分佈噴頭)的旋轉的結合，允許OLED顯示器的製造達成高的蒸發源效率和高的材料利用率，其中以遮罩遮蓋基板的高精確度是受到期望的。由於基板和遮罩能夠保持靜止，源的平移運動允許以遮罩遮蓋基板的高精確性。旋轉運動允許一個基板在另一基板被塗佈有機材料時進行基板交換。隨著閒置時間(亦即蒸發源蒸發有機材料而並未塗佈基板的時間)大幅減少，這大幅增進了材料的利用率。
此處所述的實施例特別是關於有機材料的沉積，例如是用於OLED顯示器製造上的沉積和大面積基板上的沉積。根據一些實施例，大面積基板或支撐一或多個基板的載具(亦即大面 積載具)可具有至少0.174平方公尺的尺寸。載具的尺寸典型地能夠為約1.4平方公尺至約8平方公尺，更典型地約2平方公尺至約9平方公尺，或甚至高達12平方公尺。典型地，基板被支撐於其中、根據此處所述之實施例的固持配置(holding arrangement)、設備及方法為其提供的所謂長方形區域，係具有用於此處所述之大面積基板的尺寸的載具。舉例來說，一個大面積載具，將對應至單一個大面積基板的面積，能夠為對應至約1.4平方公尺之基板(1.1公尺×1.3公尺)的第5代、對應至約4.29平方公尺之基板(1.95公尺×2.2公尺)的第7.5代、對應至約5.7平方公尺之基板(2.2公尺×2.5公尺)的第8.5代、或甚至對應至約8.7平方公尺之基板(2.85公尺×3.05公尺)的第10代。更高的世代如第11代和第12代及對應的基板面積，能夠以類似的方式實施。根據能夠與此處所述其他實施例結合的典型實施例，基板厚度能夠從0.1至1.8公釐，且固持配置(特別是固持裝置)能夠適用於這樣的基板厚度。然而，基板厚度特別是能夠為約0.9公釐或更低，例如0.5公釐或0.3公釐，且固持配置(特別是固持裝置)能夠適用於這樣的基板厚度。基板典型地可由任何適合作材料沉積的材料製造而成。舉例來說，基板可由選自下列組成之群組的材料製造而成：玻璃(例如鈉鈣玻璃(soda-lime glass)、硼矽玻璃(borosilicate glass)等等)、金屬、聚合物、陶瓷、化合物材料、碳纖維材料、或任何其他能夠藉由沉積製程被塗佈的材料或材料組合。
為了達成良好的可靠度及良率(yield rate)，此處所述的實施例在有機材料的沉積期間保持遮罩和基板的靜止。提供一可移動的線源，其用於均勻塗佈大面積基板。相較於其中在每 次沉積之後，基板需要交換，包含新的遮罩和基板相對於彼此的對準步驟的運作，減少了閒置時間。在閒置時間，源是在浪費材料。據此，具有一第二基板在一沉積位置並立即相對於遮罩對準，係減少閒置時間並增加材料利用率。
第2圖繪示沉積設備200的一實施例，沉積設備200用於在一真空室110中沉積有機材料。蒸發源100提供在真空室110中一軌道或線形導件220上。線形導件220係配置成用於蒸發源100的平移運動。從而，根據不同之能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，可提供用於平移運動的一傳動器(drive)在真空室110或其組合之內，於蒸發源100中，在軌道或線形導件220上。第2圖示出一閥門205，例如一閘閥(gate valve)。閥門205允許對於一相鄰的真空室(未示於第2圖)的真空密封。閥門能夠開啟，以傳送一基板121或一遮罩132進入至真空室110中或離開真空室110。
根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，另一真空室，例如真空維護室210，係提供在相鄰於真空室110處。從而，真空室110和真空維護室210與一閥門207相連接。閥門207係配置成用於開啟和關閉真空室110和真空維護室210之間的真空密封。當閥門207在開啟狀態，蒸發源100能夠被移送至真空維護室210。之後，閥門能夠關閉，以提供真空室110和真空維護室210之間的真空密封。如果閥門207是關閉的，真空維護室210能夠通風(vent)和開啟，以在不打破真空室110中的真空的情況下維護蒸發源100。
二個基板121在真空室110中支撐在各自的傳送軌 道上。另外，提供二個用於提供遮罩132於其上的軌道。從而，基板121的塗佈能夠藉由各自的遮罩132被遮蓋。根據典型的實施例，遮罩132，亦即對應一第一基板121的一第一遮罩132及對應一第二基板121的一第二遮罩132，係提供在遮罩框131中，以將遮罩132固持在預定位置。
根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，一基板121能夠由一基板支撐件126所支撐，基板支撐件126係連接至一對準單元112。對準單元112能夠相對於遮罩132調整基板121的位置。第2圖繪示一實施例，其中基板支撐件126係連接至一對準單元112。據此，基板相對於遮罩132而移動，以提供基板和遮罩之間在有機材料沉積期間的正確對準。根據又一能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，替代性地或者額外地，遮罩132和/或固持遮罩132的遮罩框131能夠連接至對準單元112。藉此，或者遮罩能夠相對於基板121而定位，或者遮罩132和基板121二者皆能夠相對於彼此而定位。配置成用於調整一基板121和一遮罩132相對於彼此之間的相對位置的對準單元112，允許遮罩在沉積製程期間的正確對準，這有利於高品質或者LED顯示器的製造。
一遮罩和一基板相對於彼此的對準的例子包含對準單元，對準單元允許在定義一平面的至少二個方向中的相對對準，該平面係實質上平行於基板的平面和遮罩的平面。舉例來說，對準至少能夠在一x方向和一y方向(亦即定義上述平行平面的二個笛卡爾方向(Cartesian direction))上進行。典型地，遮罩和基板能夠實質上平行於彼此。對準特別是還能夠在實質上垂直於 基板的平面和遮罩的平面的一方向中進行。如此，對準單元係配置成至少用於遮罩和基板相對於彼此的X-Y對準，特別用於X-Y-Z對準。能夠與此處所述其他實施例結合的一個特定例子是關於：相對於可靜止地被固持在真空室110中的一遮罩，在x方向、y方向和z方向中對準基板。
如第2圖所示，線形導件220提供蒸發源100平移運動的一方向。在蒸發源100的二側，皆提供一遮罩132。遮罩132從而能夠以實質上平行於平移運動之方向的方式延伸。另外，在蒸發源100相對側的基板121也能夠以實質上平行於平移運動之方向的方式延伸。根據典型的實施例，一基板121能夠通過閥門205移動至真空室110中和離開真空室110。從而，沉積設備200能夠包含用於各個基板121之傳送的各自的傳送軌道。舉例來說，傳送軌道能夠以平行於示於第2圖之基板位置的方式延伸，並進入至真空室110中和離開真空室110。
典型地，提供另外的軌道，用於支撐遮罩框131和連帶著的遮罩132。據此，一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例能夠在真空室110之內包含四個軌道。為了將遮罩132的其中一者移出腔室，例如是為了遮罩的清洗，遮罩框131和連帶著的遮罩可被移動至基板121的傳送軌道上。遮罩框可分別接著在用於基板的傳送軌道上離開或進入真空室110。即使有可能為了遮罩框131提供個別的一傳送軌道進入至真空室110中和離開真空室110，但如果只有二個軌道(亦即用於基板的傳送軌道)延伸至真空室110中和離開真空室110，又再者，遮罩框131能夠藉由一適當的致動器或機器人移動至用於基板的傳送軌道各 者上，一沉積設備200的擁有成本可以降低。
第2圖繪示蒸發源100另一示例性的實施例。蒸發源100包含一支座102。支座102係配置成用於沿著線形導件220的平移運動。支座102支撐一蒸發坩鍋104和提供於蒸發坩鍋104之上的一分佈管106。從而，在蒸發坩鍋中產生的蒸氣能夠向上移動並從分佈管的一或多個出口離開。根據此處所述的實施例，分佈管106也能夠被視為一蒸氣分佈噴頭，例如一線形的蒸氣分佈噴頭。
該一或多個出口能夠為一或多個開口或一或多個噴嘴，其例如可提供在一噴頭或另一蒸氣分佈系統中。蒸發源能夠包含一蒸氣分佈噴頭，例如具有多個噴嘴或開口的一線形的蒸氣分佈噴頭。在此，噴頭能夠被理解成包含具有開口的一外罩，如此使得噴頭內的壓力大於噴頭外的壓力，例如大於至少一個數量級。
第2圖還繪示具有至少一遮罩物202的一遮罩組件。典型地，如第2圖所示，實施例能夠包含二個遮罩物202，例如側面遮罩物。藉此，有機材料的蒸發能夠被限制在朝向基板的方向。相對於分佈管的側向蒸發，亦即在例如垂直於標準蒸發方向之方向的蒸發，能夠被避免或者只在閒置模式中使用。考量到相較於關上有機材料的蒸氣束而言，阻擋有機材料的蒸氣束能夠較簡單的事實，分佈管106也可朝著側面遮罩物202的其中一者旋轉，以避免在蒸氣的發射不被期望的運作模式期間離開蒸發源100的蒸氣。
根據此處所述之能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，分佈管的旋轉能夠藉由一蒸發器控制外殼(control housing)的旋轉而提供，至少該分佈管係安裝在蒸發器控制外殼上。典型地，蒸發坩鍋也安裝在蒸發器控制外殼上。據此，蒸發源至少包含要被可旋轉地安裝的分佈管，特別是包含皆要(亦即一起)被可旋轉地安裝的分佈管和蒸發坩鍋，更特別是包含要一起被可旋轉地安裝的控制外殼、分佈管和蒸發坩鍋。典型地，一或多個側面遮罩物能夠被固定地安裝，如此一來它們便不會和分佈管一起旋轉。根據一典型的例子，如第2和3圖所示，能夠提供側面遮罩物，使得蒸氣出口的開口係提供在蒸發源的二側，其中該二側分別面對基板的其中一者。固定的側面遮罩物因此相對於分佈管繞著軸的旋轉係靜止的。然而，側面遮罩物跟隨著所謂的平移運動，並可與該平移運動相關地移動。
第3圖繪示又另外的能夠與此處所述其他實施例結合之調整型態。從而，已經參照第2圖進行敘述的細節、方面和特徵將會為了參考上的簡便而被省略。相較於第2圖，示於第3圖的蒸發源100包含三個蒸發坩鍋104和三個分佈管106。為了以有機材料的層塗佈基板，能夠蒸發一種有機材料、或者能夠蒸發二或更多種有機材料，以沉積一個有機材料的層。從而，二或更多種有機材料在蒸氣狀態中和/或基板表面上混和，並形成一個有機材料的層。有鑑於此，根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，二或更多個蒸發坩鍋104和二或更多個分佈管106可由支座102所支撐。如上所述，分佈管能夠提供線源，例如以線形的分佈噴頭的方式提供，又再者，支座102沿著線形導件220 移動，以在基板121上沉積有機材料。
根據又另外的能夠與此處所述其他實施例結合之實施例，能夠藉由線形導件220的一延長部分提供蒸發源100在真空維護室210中的移送。從而，另一線形導件320係提供在真空維護室210中。又另外的，第二蒸發源100能夠提供在真空維護室210中的一等待位置中。第3圖示出另一蒸發源100，在真空維護室左側的一等待位置中。根據一些運作沉積設備200的實施例，示於真空室110中的蒸發源100能夠被移動至真空維護室210中，這例如是在希望進行維護的時候。為了這個運動，閥門207能夠開啟。示於第3圖的等待位置中並處於準備好要運作的狀態的另一蒸發源100，能夠移動至真空室110中。之後，閥門207可以關閉，且真空維護室210可以通風和開啟，以維護剛被移動至真空維護室中的等待位置中的第一蒸發源100。藉此，蒸發源的快速交換是可能達成的。沉積設備200從而減少停機時間，如過去所知，停機時間產生了一沉積設備之擁有成本的重要部分。
另外，此處所述的實施例允許穩定的蒸發速率，例如在一星期或更長的一個時間尺度中約±5%或更少的蒸發速率。這特別能夠藉由改良的維護條件來提供。不過，又根據運作有機材料的方法，一蒸發坩鍋中的有機材料的再補充能夠在不打破真空的情況下進行，甚至在不停止沉積設備的蒸發的情況下進行。一個蒸發源的維護和再補充能夠獨立於另一個源的運作來進行。由於源的維護和其再補充是在許多其他OLED製造系統中的瓶頸，這改善了擁有成本(cost of ownership,CoO)。換言之，藉由在例行維護期間或在遮罩交換期間不需要通風基板搬運腔室或 沉積室而達成的高的系統可用時間，能夠大幅改善擁有成本。如上所述，此一改進的一個原因是提供真空維護室和/或與此處所述之真空維護室相關的其他元件，其中一蒸發源或複數蒸發源的維護和預調節是在能夠被抽真空的一個個別腔室(亦即真空維護室或另一源儲存室)中。
第4A和4B圖示出一沉積設備200的剖面側視示意圖，沉積設備200用於沉積有機材料。從而，第4A圖示出一運作狀態，其中真空室110中左邊的基板121被塗佈有機材料。第4B圖示出一運作狀態，其中真空室110中右邊的基板121在分佈管106(可在第4A和4B圖中看到二個分佈管)旋轉之後被塗佈有機材料。
第4A和4B圖示出用於一第一基板121的一第一傳送軌道、和用於一第二基板121的一第二傳送軌道。一第一輥組件被示出在真空室110的一側，且第二輥組件被示出在真空室的另一側。在第4A和4B圖中，示出第一輥組件和第二輥組件各自的輥424。輥能夠繞著軸425旋轉並由一傳動器系統驅動。典型地，所述多個輥是由一個馬達旋轉。基板121支撐在一載具421中。根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，載具421具有在其底側的一桿狀體，其能夠與輥銜接(engage)。據此，根據能夠與此處所述其他實施例結合的典型實施例，提供用於一第一基板的第一傳送軌道和用於一第二基板的第二傳送軌道。另外的二個軌道例如係藉由各自的輥組件提供。第4A和4B圖示出真空室110二側的一個輥403。另外的軌道係配置成用於支撐一遮罩132，遮罩132能夠被支撐在一遮罩框131中。根據示例性的 實施例，遮罩框131可在其底側具有一桿狀體431，以與輥組件各自的輥403銜接。
根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，適用於用在一處理系統中的載具包含一電極組件和一支撐基座。電極組件係配置成用以產生一靜電夾持力，該靜電夾持力用於將一基板緊固至基板載具。根據又另外的額外或替代性的調整型態，支撐基座具有一加熱/冷卻庫形成於其中。電極組件和支撐基座形成一單一的主體，配置成用於在一處理系統之內傳送。載具能夠是可連接至處理系統中的支持媒介的。一快速斷開器(quick disconnect)能夠耦接至所述主體，並配置成用以在主體從熱調節媒介的源去耦時，捕捉加熱/冷卻庫中的熱調節媒介。能夠耦接一快速斷開器以施加夾持電荷。
根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，一致動器或一機器人係提供在真空室110中，以將遮罩框131從一輥403移動至一輥424。藉此，遮罩框，連帶著和遮罩，係提供在提供一傳送軌道的一輥組件上。據此，遮罩框131能夠沿著由用於基板的輥組件所提供的傳送軌道，移動至真空室110中和離開真空室。
在第4A圖中，左手側上的基板121被塗佈有機材料。這由繪示有機材料的蒸氣從分佈管106中的多個出口開口或噴嘴被引導的元件符號10所指示。真空室110右手側上的基板和載具在第4A圖中以虛線表示。虛線表明基板正在傳送進入至真空室110中或離開真空室110、或者基板和遮罩132目前在相對於彼此進行對準。典型地，待塗佈有機材料的基板的傳送和遮罩 對準，係在左手側上的基板上的有機材料沉積結束之前完成。從而，蒸發源100能夠立刻地從用於左手側上的基板的一沉積位置旋轉至用於右手側上的基板的一沉積位置，其示於第4B圖。
蒸發源100包含一致動器108，例如一轉矩馬達、一電動轉子、或一氣動轉子。致動器108能夠經由一真空旋轉饋通件(feed-through)109(例如一鐵磁性流體饋通件)提供一扭矩。致動器108係配置成用以繞著實質上垂直的一軸至少旋轉分佈管106。蒸發源包含支座102，支座102例如容納致動器108及饋通件109。根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，蒸發源100還包含一蒸發器控制外殼402。蒸發器控制外殼402可為一大氣盒(atmospheric box)，亦即一種盒子，其配置成用以維持其中的大氣壓，即使在真空室110抽真空至技術上的真空(technical vacuum)時亦是如此。舉例來說，選自下列組成之群組的至少一元件可提供在蒸發器控制外殼402中：開關、閥門、控制器、冷卻單元、以及冷卻控制單元。支座102還支撐蒸發坩鍋104和分佈管106。
根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，支座102係以與線形導件433銜接的方式提供。蒸發源的平移運動能夠藉由在線形導件433中移動支座102或將支座102移動至線形導件433上來提供。從而，致動器、傳動器、馬達、傳動帶、和/或傳動鏈可提供在線形導件中或支座102中。根據又一替代方案，致動器、傳動器、馬達、傳動帶、和/或傳動鏈各自的一部分可同時提供在線形導件和支座二者之中。
在分佈管已從真空室110中左手側上的基板121被 塗佈的塗佈位置(見第4A圖)旋轉至真空室110中右手側上的基板121被塗佈有機材料的位置(見第4B圖)之後，蒸發源100藉由沿著線形導件433的平移運動而移動，以沉積真空室110中右手側上的基板121。如第4B圖中左手側上的虛線所指示，先前被塗佈有機材料的第一基板，現在移出真空室110。新的基板係提供在真空室110中左手側上的處理區域中，且遮罩132和基板121相對於彼此進行對準。據此，在右手側上的基板121已被塗佈有機材料的層之後，分佈管106能夠藉由致動器108旋轉，以再次地沉積有機材料在左手側上的新基板121上。
如上所述，此處所述的實施例包含提供沿著基板121一維度之線源的至少一分佈管的平移運動、以及該至少一分佈管從一第一處理區域至一第二處理區域的旋轉，其中第一處理區域和第二處理區域各者係配置成用以具有一基板支撐於其中。舉例來說，處理區域中的基板係支撐在一載具中，該載具接著提供在一傳送軌道和/或用於基板位置對準的一致動器上。典型地，形成線源的至少一分佈管106在一實質上垂直的方向中延伸，亦即定義線源的該條線在實質上垂直的方向中延伸，且所述至少一分佈管106旋轉的軸也在該實質上垂直的方向中延伸。至少一分佈管106係配置成用以在運作期間旋轉。例如可見於第4A和4B圖，形成線源的方向和旋轉軸的方向可以平行。
根據一些實施例，蒸發源可包含通往例如具有一滑動接點(sliding contact)的源的一機械信號和/或電力傳輸。舉例來說，能夠提供線性傳動器、真空旋轉單元和/或滑動接點的組合，用於通往蒸發源的信號和/或電力傳輸。根據又另外的能夠與此處 所述其他實施例結合之實施例，蒸發源能夠包含一感應電力傳輸和/或一感應信號傳輸。第4A和4B圖示出在蒸發源100(例如在支座102)的一第一線圈配置452、及在真空室110中的一第二線圈配置453。從而，電力和/或控制信號能夠感應地從真空室110之內傳輸至蒸發源100。舉例來說，線圈配置453可在真空室中延伸，使得電力和/或信號傳輸能夠無關於平移運動之位置地提供。根據不同的實施方案，用於蒸發坩鍋的電力(亦即蒸發有機材料的電力)、用於致動器108(亦即分佈管的旋轉)的電力、用於蒸發之控制的控制信號、用於分佈管之旋轉的控制的控制信號、以及用於平移運動的控制信號中的至少一者可藉由線圈配置的組合提供。
根據能夠與此處所述其他實施例結合的典型實施例，一蒸發源包含至少一蒸發坩鍋、及至少一分佈管(例如至少一線形的蒸氣分佈噴頭)。然而，一蒸發源可包含二個或三個、最後甚至是四個或五個蒸發坩鍋、及對應的分佈管。藉此，不同的有機材料能夠在數個坩鍋中的至少二者中蒸發，如此使得該些不同的有機材料在基板上形成一個有機層。除此之外、或者替代性地，類似的有機材料能夠在數個坩鍋中的至少二者中蒸發，使得沉積速率可以增加。在由於有機材料常常只能夠在相對小的溫度範圍(例如20℃或更小)中蒸發，且蒸發速率因此無法藉由增加坩鍋中的溫度而大幅增加的情況下，特別是如此。
根據此處所述的實施例，蒸發源、沉積設備、運作蒸發源和/或沉積設備的方法、以及製造蒸發源和/或沉積設備的方法，係配置成用於垂直的沉積，亦即基板在層沉積期間係支撐 在一實質上垂直的方向(例如和垂直方向+- 10°)。另外，線源、平移運動、及蒸發方向的旋轉(特別是繞著實質上垂直(例如平行於基板方向和/或線源的線延伸方向)的軸的旋轉)的組合，允許約80%或更高的高材料利用率。這相較於其他系統有至少30%的改進。
位於處理室(亦即用於在其中的層沉積的真空室)之內的可移動且可轉向的蒸發源，允許連續性或幾乎是連續性的塗佈，伴隨著高的材料利用率。一般來說，此處所述的實施例，藉由使用掃描源的方式和180°轉向機構以交替塗佈二個基板，允許高的蒸發源效率(>85%)和高的材料利用率(至少50%或更高)。從而，源的效率，係將由於蒸氣束延伸超過大面積基板的尺寸，以允許待塗佈基板之整體面積的均勻塗佈的事實，因此而造成的材料損失列入考量。材料利用率，額外地考量到由於蒸發源的閒置時間(亦即其中蒸發源不能將被蒸發的材料沉積在一基板上的時間)而造成的損失。
又另外的，此處所述並關於垂直基板方向的實施例，允許沉積設備，特別是包含用於在一基板上塗佈數個有機材料的層的數個沉積設備的沉積系統，具有小的所佔面積。從而，能夠將此處所述的設備視為配置成用於大面積基板的處理、或對於位在大面積載具中的多個基板的處理。垂直方向另外允許對於現今和未來的基板尺寸世代(亦即目前和未來的玻璃尺寸)的尺寸可調整性。
第5A和5B圖示出又一實施例之沉積設備500。第5A圖示出沉積設備500的俯視示意圖。第5B圖示出沉積設備500 的剖面側視示意圖。沉積設備500包含一真空室110。閥門205，例如一閘閥，允許對於一相鄰之真空室的真空密封。閥門能夠為了將一基板121或一遮罩132傳送至真空室110中或離開真空室110而開啟。二或更多個蒸發源100係提供在真空室110中。示於第5A圖的例子示出七個蒸發源。根據能夠與此處所述其他實施例結合、關於蒸發源的典型實施例，能夠有利地提供二個蒸發源、三個蒸發源、或四個蒸發源。相較於也可以根據一些實施例而提供的更高數目的蒸發源，有限數目的蒸發源(例如二至四個)的維護的後勤補給可能較為容易。據此，對於這樣的系統來說，擁有成本可能較佳。
根據一些能夠與此處所述其他實施例結合、並例如示於第5A圖的實施例，能夠提供環形軌道530。環形軌道530可包含直線部分534及彎曲部分533。環形軌道530是為了蒸發源的平移運動和蒸發源的旋轉而提供。如上所述，蒸發源可典型地為線源，例如線形的蒸氣分佈噴頭。
根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，環形軌道包含一軌道或一軌道配置、一輥配置、或一磁性導件，以沿著環形軌道移動一或多個蒸發源。
基於環形軌道530，一列的源能夠以沿著一基板121的平移運動而移動，該基板121典型地由一遮罩132所遮蓋。環形軌道530的彎曲部分533提供蒸發源100的旋轉。另外，彎曲部分533能夠為了將蒸發源在一第二基板121前定位而提供。環形軌道530的另一直線部分534提供沿著另一基板121的另一平移運動。藉此，如上所述，根據一些能夠與此處所述其他實施例 結合的實施例，基板121和遮罩132在沉積期間實質上保持靜止。提供線源(例如伴隨著實質上垂直方向的線的線源)的蒸發源，係沿著靜止的基板而移動。
根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，示出在真空室110中的一基板121能夠被具有輥403和424的一基板支撐件所支撐，又再者，在一靜止的沉積位置，被連接至對準單元112的一基板支撐件126所支撐。一對準單元112可相對於遮罩132調整基板121的位置。據此，基板能夠相對於遮罩132而移動，以提供基板和遮罩之間在有機材料的沉積期間的正確對準。根據又一能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，替代性或者額外的遮罩132和/或固持遮罩132的遮罩框131，能夠被連接至對準單元112。從而，或者遮罩能夠相對於基板121而定位，或者遮罩132和基板121二者皆能夠相對於彼此而定位。
示於第5A和5B圖的實施例示出提供在真空室110中的二個基板121。然而，特別是對於在一真空室中包含一列蒸發源100的實施例而言，能夠提供至少三個基板或至少四個基板。從而，能夠提供足夠的基板交換(亦即傳送新的基板至真空室中和傳送已處理的基板離開真空室)時間，即使是對於具有較多數目的蒸發源、並因此達成較高產量的一沉積設備500而言亦是如此。
第5A和5B圖示出用於一第一基板121的第一傳送軌道、和用於一第二基板121的一第二傳送軌道。一第一輥組件示出在真空室110的一側。第一輥組件包含輥424。另外，傳送系統包含一磁性引導元件524。類似地，具有輥和一磁性引導元 件的一第二傳送系統係提供在真空室的相反側。傳送系統能夠，例如如參照第4A和4B圖所述地運作。載具421的上部係由磁性引導元件524所引導。類似地，根據一些實施例，遮罩框131能夠由輥403和磁性引導元件503所支撐。
第5B圖示例性地示出二個支座102，分別提供在環形軌道530的一直線部分534。蒸發坩鍋104和分佈管106係由各自的支座102支撐。從而，第5B圖繪示由一支座102所支撐的二個分佈管106。支座102係示出為被引導在環形軌道的直線部分534上。根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，能夠提供致動器、傳動器、馬達、傳動帶和/或傳動鏈，以沿著環形軌道移動支座102，亦即沿著環形軌道的直線部分534和沿著環形軌道的彎曲部分533(見第5A圖)。
第6圖示出沉積系統600的一實施例，沉積系統600具有一第一沉積設備200及一第二沉積設備200。根據此處所述之能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，提供一或多個移送室。第6圖示例性地示出一第一移送室610和一第二移送室611。另外示出部分的移送室609和612。如第6圖所示，閘閥605係提供在移送室610和移送室609之間。閘閥605能夠關閉或開啟，以提供移送室610和移送室609之間的真空密封。根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，一或多個閘閥能夠提供於二個相鄰的移送室之間。閘閥605的存在與否是依沉積系統600的應用而定，亦即依沉積在基板上的有機材料的層的種類、數目、和/或順序而定。據此，一或多個閘閥605可提供在移送室之間。替代性地，沒有閘閥提供在任何移送室之間。
根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，移送室的一或多者能夠提供為真空旋轉室。在其中，基板121可繞著一中央軸(例如垂直的中央軸)旋轉。從而，傳送軌道621的方向能夠改變。如繪示於移送室611中，二個基板121進行旋轉。基板121位於其上的二個傳送軌道621R，係相對於從沉積設備200的傳送軌道621所延伸的二個傳送軌道621而旋轉。由此，傳送軌道621R上的二個基板121係分別提供在待移送至相鄰的一移送室610或612的位置。
第一沉積設備200係藉由閥門205連接至第一移送室610。如第6圖所示，並根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，傳送軌道621從真空室110延伸至移送室610中。藉此，基板121的一或多者能夠從真空室110被移送至移送室610。從而，閥門205典型地為了該一或多個基板的傳送而開啟。另一沉積設備200係藉由另一閥門205.連接至第二移送室611。據此，基板能夠從一沉積設備被移送至一移送室、從該移送室被移送至另一移送室、以及從該另一移送室被移送至另一沉積設備。藉此，數個有機材料的層能夠被沉積在基板上，而並未將基板暴露於大氣、和非真空條件、和/或不想要的環境。根據能夠與此處所述其他實施例結合的典型實施例，移送室係真空移送室，其例如是配置成用於在一真空條件和/或期望的環境下移送一或多個基板。
示於第6圖的沉積設備200係類似於、或可與參照第3圖所敘述的沉積設備相比。對於此處之位置設備所敘述的方面、細節和特徵，也能夠提供給沉積系統600，如示例性地示於 第6圖者。根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，一蒸發源100’可提供在一沉積設備200中。蒸發源100’包含四個分佈管，其係配置成用以在基板121上引導有機材料。藉此，不同的有機材料可以在四個坩鍋裡的至少二個中被蒸發，使得不同的有機材料在基板上形成一個有機層。除此之外、或者替代性地，類似的有機材料可以在四個坩鍋裡的至少二個中被蒸發，使得沉積速率能夠增加。在四個蒸發坩鍋各自蒸發的材料，係藉由示於第6圖中的四個分佈管分別的各者被引導向一基板121。
如上所述，根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，基板121能夠沿著一第一方向被移出真空室110。藉此基板121係沿著一實質上直線的路徑移動至一相鄰的真空室(例如一移送室)中。在移送室中，基板能夠旋轉，使得基板可沿著一第二直線路徑移動，第二直線路徑是在不同於第一方向的一第二方向中。根據典型的實施例，第二方向係實質上垂直於第一方向。這允許沉積系統的簡單設計。為了基板在一真空室110中的裝載，基板可沿著第二方向在移送室中移動，並能夠在移送室中旋轉。之後，基板可沿著不同於第二方向的第一方向移動至真空室110中。
第7A至7C圖示出部分的蒸發源，其可以根據此處所述之實施例而使用。一蒸發源可包含一分佈管106及一蒸發坩鍋104，如第7A圖所示。從而，舉例來說，該分佈管可為伴隨著加熱單元715的一延長的立方體。蒸發坩鍋可為用於待由一加熱單元725所蒸發的有機材料的一儲存庫。根據能夠與此處所述其他實施例結合的典型實施例，分佈管106提供一線源。舉例來說， 多個開口和/或噴嘴係沿著至少一條線配置。根據一替代的實施例，能夠提供沿著該至少一條線延伸的一個延長的開口。舉例來說，延長的開口可為一狹縫。根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，所述線實質上垂直地延伸。舉例來說，分佈管106的長度至少對應至待於沉積設備中沉積的基板的高度。在許多案例中，分佈管106的長度將比待沉積的基板的高度更長，至少是長10%或甚至20%。藉此，能夠提供在基板上端和/或基板下端的均勻沉積。
根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，分佈管的長度可為1.3公尺或更長，例如2.5公尺或更長。根據一種構造，如第7A圖所示，蒸發坩鍋104係提供在分佈管106的下端。有機材料在蒸發坩鍋104中蒸發。有機材料的蒸氣在分佈管的底部進入分佈管106，並被實質上側向地引導通過分佈管中的多個開口，例如往一實質上垂直的基板。為了描述上的目的，蒸發坩鍋104和分佈管106在第7A圖中是示出為無遮熱物的。藉此，加熱單元715和加熱單元725能夠在示於第7A圖的透視示意圖中被看見。
第7B圖示出蒸發源的一部份的放大示意圖，其中分佈管106係連接至蒸發坩鍋104。提供一凸緣單元(flange unit)703，其係配置成用以提供蒸發坩鍋104和分佈管106之間的連接。舉例來說，蒸發坩鍋和分佈管係提供為分開的單元，其能夠在凸緣單元處被分離、和連接或組裝，這例如是為了蒸發源的運作。
分佈管106具有一內部的中空空間710。提供一加 熱單元715，以加熱分佈管。據此，分佈管106能夠被加熱至由蒸發坩鍋104所提供之有機材料的蒸氣不會在分佈管106管壁的內部部分冷凝的一溫度。一遮罩物717係繞著分佈管106的管子而提供。遮罩物係配置成用以將加熱單元715所提供的熱能朝著中空空間710反射回去。藉此，由於遮罩物717減少熱損失，可以減少需要用來加熱分佈管的能量(亦即提供至加熱單元715的能量)。根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，遮罩物717可包含一個遮熱層。或者，二或更多個遮熱層能夠提供在遮熱物717之內。
典型地，如第7B圖所示，遮熱物717包含位在分佈管106中的開口712的位置的開口。示於第7B圖的蒸發源的放大圖示出四個開口712。開口712係沿著實質上平行於分佈管106的軸的一條線提供。如此處所述，分佈管106可提供為一線形的分佈噴頭，其例如具有多個開口設置在其中。從而，此處所理解的噴頭具有一包圍空間、中空空間、或管子，材料例如來自蒸發坩鍋，能夠在其中被提供或引導。噴頭可具有多個開口(或一延長的狹縫)，使得噴頭之內的壓力高於噴頭之外的壓力。舉例來說，噴頭之內的壓力可高於噴頭之外的壓力至少一個數量級。
在運作期間，分佈管106係在凸緣單元703連接至蒸發坩鍋104。蒸發坩鍋104係配置成用以接受待蒸發的有機材料和蒸發有機材料。第7B圖示出通過蒸發坩鍋104外殼的一剖面。提供一再補充開口，例如提供在蒸發坩鍋的一上部，再補充開口能夠使用一插塞722、一蓋子、一遮蓋物、或類似物來關閉，以關上蒸發坩鍋104的包圍空間。
一外部加熱單元725係提供在蒸發坩鍋104的包圍空間之內。外部加熱元件能夠至少沿著蒸發坩鍋104的壁部的一部份延伸。根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，可額外地或替代性地提供一或多個中央加熱元件726。第7B圖示出二個中央加熱元件726。中央加熱元件726能夠包含用於提供電力至中央加熱元件的導體729。根據一些實施方案，蒸發坩鍋104還可包含一遮罩物727。遮罩物727能夠配置成用以將熱能反射回至蒸發坩鍋104的包圍空間中，此一熱能係由外部加熱單元725和中央加熱元件726(如果中央加熱元件726存在)提供。從而，能夠在蒸發坩鍋104之內提供有機材料足夠的加熱。
根據一些已經敘述於此的實施例，遮熱物，例如遮罩物717和遮罩物727，可提供給蒸發源。遮熱物能夠減少蒸發源的能量損失。從而，可減少能量消耗。然而，就另一方面來說，特別是對於有機材的沉積而言，可以減少源自蒸發源的熱輻射，特別是在沉積期間朝向遮罩和基板的熱輻射。特別是對於有機材料在被遮罩遮蓋的基板上的沉積而言，更甚至是對於顯示器製造而言，基板和遮罩的溫度需要被精準地控制。因此，可減少或避免源自蒸發源的熱輻射。據此，一些此處所述的實施例包含遮熱物，例如遮罩物717和遮罩物727。
這些遮罩物可包含數個遮罩層，以減少到蒸發源外部的熱輻射。作為另一種選擇，遮熱物可包含由一流體主動冷卻的遮罩層，該流體例如是空氣、氮氣、水、或其他適合的冷卻流體。根據又另外的能夠與此處所述其他實施例結合之實施例，提供給蒸發源的一或多個遮熱物能夠包含薄片金屬，環繞蒸發源各 自的部分，例如分佈管106和/或蒸發坩鍋104。舉例來說，薄片金屬可具有0.1公釐至3公釐的厚度，可從選自由鐵金屬(SS)和非鐵金屬(Cu、Ti、Al)組成之群組的至少一材料加以選擇，且/或能夠相對於彼此分離，例如是以0.1公釐或更大的一縫隙分離。
根據一些實施例，如參照第7A至7B圖所示例性示出的，蒸發坩鍋104係提供在分佈管106的下側)。根據又另外的能夠與此處所述其他實施例結合之實施例，可在分佈管的中央部分、或分佈管的下端和分佈管的上端之間的另一位置，提供一蒸氣管道732至分佈管106。第7C圖繪示蒸發源的一個例子，該蒸發源具有一分佈管106及提供在分佈管中央部分的一蒸氣管道732。有機材料的蒸氣係在蒸發坩鍋104中產生，並被引導通過蒸氣管道732、到達分佈管106的中央部分。蒸氣通過多個開口712離開分佈管106。分佈管106係由一支座102所支撐，如參照此處所述的其他實施例所述者。根據又另外的能夠與此處所述其他實施例結合之實施例，二或更多個蒸氣管道732能夠被提供在沿著分佈管106長度的不同位置。從而，該些蒸氣管道732或者可連接至一個蒸發坩鍋104，或者可連接至數個蒸發坩鍋104。舉例來說，各個蒸氣管道732能夠具有一對應的蒸發坩鍋104。或者，蒸發坩鍋104能夠與連接至分佈管106的二或更多個蒸氣管道732處於流體連通狀態。
如此處所述，分佈管可為一中空的柱體。從而，柱體一詞能夠如一般所接受地被理解成具有一圓形的底面形狀和一圓形的頂面形狀、以及連接上方圓形和小的下方圓形的一彎曲的表面區域或殼。根據又另外的能夠與此處所述其他實施例結合 之實施例，柱體一詞還能夠以數學意義被理解成具有任一底面形狀和一相同的頂面形狀、以及連接頂面形狀和底面形狀的一彎曲的表面區域或殼。據此，柱體並不需要具有圓形的截面。取而代之，底表面和上表面可具有不同於圓形的形狀。
如參照第5A和5B圖所述，具有一列蒸發源的實施例、和/或具有用於蒸發源的平移和旋轉運動的一環形軌道的實施例，能夠由具有多於二個的基板提供在真空室中而獲益。在真空室110之內提供多於二個基板的不同實施例係繪示於第8A、8B圖和第9圖中。例如如第8A圖所示，真空室110可包含四個位置或處理區域，基板121能夠在該處中被處理，例如有機材料能夠在該處中被沉積在一基板121上。從而，根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，能夠加快基板的交換，以增加產量特別是對於其中提供多個蒸發源的一沉積設備500而言更是如此。示於第8A圖的沉積設備500包含二個移送室810。各個移送室係相鄰於真空室110而提供。舉例來說，移送室810能夠經由閥門205連接至真空室110。如參照其他此處示出的實施例所述，能夠提供一個移送室，取代示於第8A圖的二個移送室810。
一傳送軌道621係提供在移送室810中。傳送軌道621延伸至真空室110中。根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，傳送軌道由輥的配置、磁性引導元件的配置、和/或配置成用於基板和/或具有基板的載具的實質上呈線形的運動的其他傳送元件所定義，其中基板係典型地處於實質上垂直的方向。如第8A圖所示，能夠提供支撐基板的基板支撐件126，其例如是藉由支撐具有一基板設置於其中的一載具421來支撐基板。 根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，基板121可提供在處理位置中，處理位置天然地與傳送軌道621並列。舉例來說，基板121能夠在實質上垂直於傳送軌道621之方向的一方向中移動，以將一基板置入至處理位置中或離開處理位置。
四個基板121係提供於真空室110中，其中二個基板可沿著一條線放置，該條線實質上平行於傳送軌道621的方向。據此，二個基板係沿著一第一條線放置，二個基板則沿著一第二條線。用於移動多個蒸發源100的環形軌道530係提供在第一條線和第二條線之間。根據一些實施例，環形軌道可包含二個直線部分和二個彎曲部分。二個直線部分能夠實質上平行於第一條線，且/或實質上平行於基板121。蒸發源100能夠沿著環形軌道530的直線部分移動，以提供用於有機材料在基板上之位置的平移運動，例如伴隨著一線形的分佈噴頭。蒸發源100係藉由蒸發源沿著環形軌道彎曲部分的運動而旋轉。從而，有機材料的蒸氣藉由蒸發源的分佈管而被引導的方向係旋轉例如180°。據此，一蒸發源的分佈管可旋轉至少160°。
根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，一遮罩132，其例如可由一遮罩框131所支撐，係分別提供在由基板位置所定義的第一條線和環形軌道530之間、或由另外的基板位置所定義的第二條線和環形軌道530之間。環形軌道530允許多個蒸發源100沿著基板的平移運動，而基板被遮罩132所遮蓋。根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，二或更多個蒸發源100係提供在環形軌道530上。舉例來說，第8A圖示出八個蒸發源100，提供在環形軌道530上。二或更多個蒸 發源能夠以一平移運動，一個接著一個地傳送通過基板。從而，舉例來說，各個蒸發源100可沉積一個有機材料的層。據此，數個不同的有機材料的層能夠被沉積在提供於處理位置中的基板上。根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，蒸發源100中的二或更多個、或甚至每個蒸發源，能夠在基板上沉積不同有機材料的不同層。
根據又另外的能夠與此處所述其他實施例結合之實施例，可提供真空維護室210。舉例來說，真空維護室210能夠藉由閥門207與真空室110分離。閥門207係配置成用於開啟和關閉真空室110和真空維護室210之間的真空密封。一蒸發源100能夠被移送至真空維護室210。之後，可以關閉閥門，以提供真空室110和真空維護室210之間的真空密封。據此，真空維護室能夠在不打破真空室110的真空的情況下通風和開啟。
另一軌道820，例如另一環形軌道，係提供在真空維護室210中。如示例性地示於第8A圖者，該另一軌道820的彎曲部分能夠與環形軌道530的彎曲部分重疊。這允許一蒸發源100從環形軌道530到另一軌道820的移送。據此，蒸發源能夠從環形軌道530移動至另一軌道820，反之亦然。這允許了在真空維護室210中移動蒸發源，以維護蒸發源，並允許將維護好的蒸發源從真空維護室210移動至真空室110中。維護好的蒸發源能夠在真空室110中於基板上蒸發有機材料。
即使未示於第8A圖，用於基板和遮罩相對於彼此之對準的一或多個對準單元可提供在如第8A圖所示的一沉積設備500中。第8A圖示出一實施例，其中環形軌道530係提供在 由二個基板的處理位置所定義的第一條線和由另外二個基板的處理位置所定義的第二條線之間。
環形軌道530的一種替代性配置係示於第8B圖。從而，環形軌道530環繞至少一基板，典型地環繞沿著由基板的處理位置定義出的一條線所配置的二或更多個基板。考量到上述內容，根據一種選項(見第8A圖)，至少二個基板能夠被定向，使得它們各自之有機材料沉積於其上的表面係彼此相對。根據另一種選項(見第8B圖)，真空室110中的基板和它們各自之有機材料沉積於其上的表面係朝著相同方向而定向。雖然示於第8A和8B圖的沉積設備500繪示配置成用以容納四個基板121的真空室110，也能夠提供各自的調整型態給真空室，其係配置成用以容納二個基板121。另外的細節、方面和特徵，例如是關於真空維護室210、另一軌道820、傳送軌道621、移送室810、或類似元件，能夠以類似於參照示於第8A圖的實施例所敘述的方式，在示於第8B圖的實施例中實施。
根據此處所述的實施例，沉積設備包含伴隨著二或更多個基板(亦即基板處理區域)的一腔室。當一個基板在被處理時，另一基板係移動至腔室中或離開腔室。據此，一個基板能夠在一個基板處理區域中被處理。另外，位於第二基板處理區域中的基板能夠被移動，且一個新的基板能夠移動至第二基板處理區域中。
如此處所述，一或多個蒸發源能夠提供為一或多個線源，其藉由一平移運動掃描一靜止的基板。特別是對於具有一源列(source train)和/或一環形軌道的實施例而言，能夠提供至少 一線源給各個有機層。舉例來說，在製造顯示器的情況中，能夠提供一線源給一發射層、一電洞傳送層、一電洞注入層、或類似層。
第9圖繪示沉積設備500的又一實施例。沉積設備500包含如先前對於其他此處所述的實施例所敘述的移送室810、閥門205、真空維護室210、另一軌道820。雖然第9圖示出的實施例包含四個移送室810，以協助更佳地交換基板121至用於在基板上沉積有機材料的真空室中，類似的傳送軌道係提供在該些移送室810中。傳送軌道延伸至真空旋轉隔室910中，以將基板移送至真空旋轉隔室中和離開真空旋轉隔室。第9圖示出四個真空旋轉隔室910連接至真空室110的一個例子。環形軌道530係提供在真空室110中。多個蒸發源100由環形軌道530所支撐，並因能夠進行沿著環形軌道的直線部分的平移運動和沿著環形軌道的彎曲部分的旋轉運動。
真空旋轉隔室910係連接至真空室110，使得包含真空室110及真空旋轉隔室910的系統能夠被抽真空。或者，可提供包含複數旋轉模組的一個腔室。基板在真空旋轉隔室910內的旋轉係由元件符號911所指出的圓所指示。根據能夠與此處所述其他實施例結合的典型實施例，各個真空旋轉隔室包含一真空旋轉模組，其中基板能夠在真空旋轉模組的一第一位置中裝載或卸載。從一移送室810裝載的基板例如是180°的旋轉，將基板121在處理位置中移動，其中蒸發源沿著基板的表面進行掃描。根據又另外的替代方案，例如如果是在真空室和隔室以不同方式配置的情況下，用於將基板提供至處理位置中的基板旋轉，也能夠以 不同於180°的一角度提供。然而，將基板從移送位置移動至處理位置的180°旋轉，提供了具有可比較性的小的所佔面積。
如第9圖所示，舉例來說，一旋轉模組可包含二個對準單元112，使得對於提供在旋轉模組中的二個基板位置各者而言，基板121和遮罩132能夠相對於彼此對準。根據一實施例，一沉積設備可包含例如四個真空旋轉模組及八個基板支撐位置。然而，根據其他能夠與此處所述之又另外的實施例結合的實施例，可提供不同數目的基板支撐位置和/或不同數目的真空旋轉模組。舉例來說，根據此處所述之實施例，提供至少二個基板處理位置。基板處理位置從而被配置成允許藉由至少一蒸發源的分佈管的旋轉來處理一基板。作為另一個例子，也可提供至少二個旋轉模組、至少二個基板處理位置、及至少四個基板支撐位置(其中二個亦是基板處理位置)。
第10圖示出繪示根據此處所述之實施例的蒸發一有機材料的一方法的流程圖。一般來說，提供二個基板位置，以改善材料利用率。這與蒸發源的一平移運動和一旋轉運動相結合，特別是與一線源(例如一線形的分佈噴頭)的一平移運動和一旋轉運動相結合。在步驟802中，提供在一實質上垂直的方向中的一第一基板，係在第一處理位置中移動。一蒸發源至少以所述平移運動沿著位在第一處理位置中的第一基板移動，例如是掃描第一基板，其中有機材料係在步驟804中沉積於第一基板上。在處理第一基板時，一第二處理位置能夠被準備用來在其中處理一第二基板。舉例來說，在步驟806中，一第二基板能夠在不同於第一處理位置的第二處理位置中移動。又另外的，第二基板的準 備可包含將一先前處理好的基板從第二處理位置移出、和/或相對於彼此對準一遮罩和第二基板的。在步驟808中，至少旋轉蒸發源的一分佈管，以將其接著導往指向第二處理位置。如此處所述，所述旋轉能夠繞著一實質上垂直的軸進行，典型地繞著線源沿著其延伸的軸進行。一蒸發源至少以一平移運動沿著位在第二處理位置中的第二基板移動，例如是掃描第二基板，其中有機材料係在狀態809中沉積於第二基板上。
考量上述內容，在此提供用於蒸發有機材料的蒸發系統、沉積設備、及方法的各種實施例，其能夠與此處其他實施例結合，其特別是能夠用於此處所述的任何製造系統。這些實施例為：
<實施例1>一種用於有機材料的蒸發源，包含：一蒸發坩鍋，其中該蒸發坩鍋係配置成用以蒸發有機材料；一分佈管，具有一或多個出口，其中該分佈管係與蒸發坩鍋處於流體連通狀態，且其中該分佈管在蒸發期間可繞著一軸旋轉；以及一支座，用於分佈管，其中該支座係可連接至一第一傳動器或包含該第一傳動器，其中該第一傳動器係配置成用於支座和分佈管的平移運動。
<實施例2>根據實施例1之蒸發源，其中分佈管係包含該一或多個出口的一蒸氣分佈噴頭，其中特別地，該蒸氣分佈噴頭是一線形的蒸氣分佈噴頭。
<實施例3>根據實施例1至2中任一者之蒸發源，其中分佈管提供實質上垂直延伸的一線源，且/或其中旋轉分佈管 的該軸實質上垂直地延伸。
<實施例4>根據實施例1至3中任一者之蒸發源，其中分佈管係可旋轉至少160°，特別是180°或至少360°。
<實施例5>根據實施例1至4中任一者之蒸發源，其中分佈管係藉由一第二傳動器而可繞著該軸旋轉，該第二傳動器相對於支座旋轉分佈管，且特別是也相對於支座旋轉蒸發坩鍋。
<實施例6>根據實施例5之蒸發源，其中該支座包含一支座外殼，配置成用以維持其中的大氣壓，且其中該支座經由一可旋轉的真空饋通件支撐分佈管，該真空饋通件特別是一鐵磁性流體饋通件。
<實施例7>根據實施例1至4中任一者之蒸發源，其中分佈管係藉由沿著一環形軌道的移動而可繞著該軸旋轉。
<實施例8>根據實施例1至7中任一者之蒸發源，更包含：一蒸發器控制外殼，配置成用以維持其中的大氣壓，其中該外殼係由支座所支撐，且係配置成用以容納選自下列組成之群組的至少一元件：一開關、一閥門、一控制器、一冷卻單元、以及一冷卻控制單元。
<實施例9>根據實施例1至8中任一者之蒸發源，更包含：至少一側面遮罩物，特別是二個側面遮罩物，用以遮擋有機材料的蒸發。
<實施例10>根據實施例1至9中任一者之蒸發源，更包含：一線圈，用於一感應電力傳輸和/或一感應信號傳輸 的至少一者。
<實施例11>根據實施例1至10中任一者之蒸發源，更包含：至少一第二蒸發坩鍋，由支座所支撐；以及至少一第二分佈管，由支座所支撐，其中該至少一第二分佈管係與該至少一第二蒸發坩鍋處於流體連通狀態。
<實施例12>一種用於在一真空室中沉積有機材料的沉積設備，包含：一真空處理室；根據實施例1至11中任一者之一蒸發源，其中該蒸發源在真空處理室中蒸發有機材料；以及一基板支撐件系統，設置在真空室中，並具有至少二個軌道，其中該基板支撐件系統的該至少二個軌道係配置成用於基板、或載運基板之一載具在真空室中的實質上垂直的支撐。
<實施例13>根據實施例12之沉積設備，更包含：一真空維護室，與真空處理室相連接；以及一真空閥，用於開啟和關閉真空處理室和真空維護室之間的真空密封，其中蒸發源能夠從真空處理室被移送至真空維護室、和從真空維護室被移送至真空處理室。
<實施例14>一種用於蒸發一有機材料的方法，包含：在一實質上垂直的第一處理位置中移動一第一基板；在一蒸發源蒸發有機材料時，以至少一平移運動沿著第一基板移動該蒸發源；在一實質上垂直的第二處理位置移動一第二基板，第二處理位置不同於第一處理位置；在蒸發期間繞著一軸旋轉蒸發源的一分佈管；以及在該蒸發源蒸發有機材料時，以至少另一平移運動沿著第二基板移動該蒸發源。
<實施例15>根據實施例14之方法，其中第二基板係在沿著第一基板移動蒸發源時，於實質上垂直的第二處理位置中移動。
第11圖示出一系統1000，用於製造裝置，特別是包含有機材料於其中的裝置。舉例來說，所述裝置能夠為電子裝置或半導體裝置，例如光電裝置，並特別是顯示器。可提供改良的大量生產系統之載具搬運和/或遮罩搬運。根據能夠與此處所述其他實施例結合的典型實施例，這些改進能夠有益地用於OLED裝置的製造，並因此可包含如對於第1A至10圖所敘述的沉積設備、其元件、和運作沉積設備的方法。然而，由如此處所述之各種腔室的配置概念所提供的載具搬運和/或遮罩搬運的改進，也可用於其他基板處理系統，例如是包含蒸發源、濺鍍源(特別是旋轉濺鍍靶材)、化學氣相沉積的沉積源(例如電漿輔助化學氣相沉積的沉積源)、或其組合的基板處理系統。本揭露書是關於製造系統，特別是對於大面積基板，例如大面積玻璃基板，係參照OLED製造系統而進行敘述，這是由於這些OLED製造系統特別可受益於以下所述的概念。
此處所述的實施例特別是關於材料的沉積，例如是用於顯示器製造上的沉積和大面積基板上的沉積。根據一些實施例，大面積基板或支撐一或多個基板的載具(亦即大面積載具)可具有至少0.174平方公尺的尺寸。載具的尺寸典型地能夠為約1.4平方公尺至約8平方公尺，更典型地約2平方公尺至約9平方公尺，或甚至高達12平方公尺。典型地，基板被支撐於其中、且根據此處所述之實施例的固持配置、設備及方法為其提供的所謂 長方形區域，係具有用於此處所述之大面積基板的尺寸的載具。舉例來說，一個大面積載具，將對應至單一個大面積基板的面積，能夠為對應至約1.4平方公尺之基板(1.1公尺×1.3公尺)的第5代、對應至約4.29平方公尺之基板(1.95公尺×2.2公尺)的第7.5代、對應至約5.7平方公尺之基板(2.2公尺×2.5公尺)的第8.5代、或甚至對應至約8.7平方公尺之基板(2.85公尺×3.05公尺)的第10代。更高的世代如第11代和第12代及對應的基板面積，能夠以類似的方式實施。根據能夠與此處所述其他實施例結合的典型實施例，基板厚度能夠從0.1至1.8公釐，且固持配置(特別是固持裝置)能夠適用於這樣的基板厚度。然而，基板厚度特別是能夠為約0.9公釐或更低，例如0.5公釐或0.3公釐，且固持配置(特別是固持裝置)能夠適用於這樣的基板厚度。基板典型地可由任何適合作材料沉積的材料製造而成。舉例來說，基板可由選自下列組成之群組的材料製造而成：玻璃(例如鈉鈣玻璃、硼矽玻璃等等)、金屬、聚合物、陶瓷、化合物材料、碳纖維材料、或任何其他能夠藉由沉積製程被塗佈的材料或材料組合。
塗佈機或沉積系統的概念，例如根據一些實施例是用於OLED大量生產，係提供一垂直的群集方式，使得例如「任意」出入所有腔室一事可被提供。據此，藉由提供增加期望數目的所需模組的彈性，這樣的概念對於紅綠藍(RGB)和白光-彩色濾光片型(White on CF(color filter))沉積二者來說已經足夠。這種彈性也可用於創造冗餘。一般來說，對於OLED顯示器的製造而言，能夠提供二種概念。在一方面，製造具有紅光、綠光及藍光之發射的RGB(紅綠藍)顯示器。在另一方面，製造白光-彩色濾光片型 顯示器，其中係發射白光，且顏色是藉由彩色濾光片所產生。即使白光-彩色濾光片型顯示器對於製造這樣的一個裝置來說需要較少數目的腔室，二種概念皆實際使用，並具有它們的優缺點。
根據此處所述之能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，OLED裝置的製造典型地包含為了沉積而以遮罩遮蓋基板。另外，大面積基板在其處理期間係典型地由一載具所支撐。對於溫度穩定性、遮罩和載具的乾淨、和類似要素來說，遮罩搬運和載具搬運二者皆能夠是關鍵性的，特別是對於OLED裝置來說更是如此。據此，此處所述的實施例提供一載具返回路徑，該載具返回路徑係在真空條件下、或在一被定義的氣體氣氛(例如一保護性氣體)下，此處所述的實施例亦提供改良的載具和遮罩的清洗選項。此外，可提供改善的系統可用時間、改善的沉積源效率、和/或改善的材料利用率，其參照關於第1A至10圖所述之沉積設備配置而進行敘述。這些配置避免了在例行維護期間或遮罩交換期間需要通風基板搬運腔室或沉積室。
根據又另外的能夠與此處所述其他實施例結合之實施例，遮罩的清洗或者可原位(in-situ)提供，例如是藉由可選擇的電漿清洗，或者可藉由給予一遮罩交換介面來提供，該遮罩交換介面允許外部的遮罩清洗，而無須通風製造系統的處理室或移送室。
示於第11圖的製造系統1000包含一裝載室1120，裝載室1120係連接至一水平基板搬運腔室1100。基板能夠從玻璃搬運腔室(1100)被移送至一真空擺動模組1160，其中基板係於一水平的位置上裝載在一載具上。在將基板於該水平位置上裝載 在載具上之後，真空擺動模組1160將具有基板提供於其中的載具旋轉至一垂直的、或實質上垂直的方向。具有基板提供於其中的載具接著被移送通過具有所述垂直方向的一第一移送室610及至少一另外的移送室(611-615)。一或多個沉積設備200可連接至移送室。另外，其他基板處理室或其他真空室能夠被連接至移送室中的一或多者。在基板的處理之後，具有基板於其中的載具係在垂直方向中從移送室615移送至另一真空擺動模組1161中。該另一真空擺動模組1161將具有基板於其中的載具從垂直方向旋轉至水平方向。之後，基板能夠在另一水平玻璃搬運腔室1101中卸載。處理好的基板可通過裝載室1121從處理系統1000卸載，這例如是在所製造的裝置於薄膜封裝室1140或1141的其中一者中被封裝之後。
在第11圖中，提供一第一移送室610、一第二移送室611、一第三移送室612、一第四移送室613、一第五移送室614、及一第六移送室615。根據此處所述的實施例，至少二個移送室係包含在製造系統中，典型地，二至八個移送室可被包含在製造系統中。提供數個沉積設備，例如第11圖中的九個沉積設備200，該些沉積設備各具有一真空室110，且各自示例性地連接至移送室的其中一者。根據一些實施例，沉積設備的真空室中的一或多者係經由閘閥205連接至移送室。
對準單元112能夠提供在真空室110中，並係根據參照第1A至10圖所述之實施例中的任一者。根據又另外的能夠與此處所述其他實施例結合之實施例，真空維護室210能夠連接至真空室110，例如是經由閘閥207。真空維護室210允許製造系 統1000中的沉積源的維護。真空維護室210另外的細節已參照第1A至10圖而進行敘述，並能夠類似地提供給關於製造系統的實施例。
根據一些實施例，並如第11圖所示，一或多個移送室610~615係沿著用於提供一直線型傳送系統部分的一條線而提供。根據一些此處所述之能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，提供一雙軌傳送配置，其中移送室包含一第一軌道1111及一第二軌道1112，以沿著第一軌道和第二軌道中的至少一者移送載具(亦即支撐基板的載具)。移送室中的第一軌道1111及第二軌道1112在製造系統1000中提供一雙軌傳送配置。
根據又另外的能夠與此處所述其他實施例結合之實施例，移送室610~615中的一或多者係提供為真空旋轉模組。第一軌道1111和第二軌道1112可旋轉至少90°，例如90°、180°、或360°。軌道上的載具係在待移送於沉積設備200的真空室的其中一者、或其他以下所述的真空室的其中一者裡的位置中旋轉。移送室係配置成用以旋轉垂直方向的載具和/或基板，其中，舉例來說，移送室中的軌道係繞著一垂直的旋轉軸旋轉。這由第11圖中的箭頭所指示。
根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，移送室係真空旋轉模組，用於在低於10毫巴的一壓力下旋轉基板。根據又另外的能夠與此處所述其他實施例結合之實施例，另一軌道係提供在二或更多個移送室(610~615)之內，其中提供一載具返回軌道。根據典型的實施例，載具返回軌道1125可被提供在第一軌道1111和第二軌道1112之間。載具返回軌道1125 允許在真空條件下將空的載具從另一真空擺動模組1161返回至真空擺動模組1160。在真空條件下、和選擇性地在受控制的惰性氣氛(例如氬氣、氮氣、或其組合)下返回載具，減少了載具在周遭空氣中的暴露。能夠減少或避免對溼氣的接觸。因此，能夠減少載具於在製造系統1000中製造裝置的期間的釋氣(outgassing)。這可改善所製造的裝置的品質，且/或載具能夠在運作狀態而無太長的清洗時間。
第11圖還示出一第一預處理室1130及一第二預處理室1131。一機器人(未示出)或另一搬運系統可提供在基板搬運腔室1100中。該機器人或另一搬運系統能夠在基板搬運腔室1100中從裝載室1120裝載基板，並將基板移送至預處理室(1130、1131)中的一或多者中。舉例來說，預處理室可包含一預處理工具，選自下列組成之群組：基板的電漿預處理、基板的清洗、基板的紫外線和/或臭氧處理、基板的離子源(ion source)處理、基板的射頻(RF)或微波電漿處理、及其組合。在基板的預處理之後，機器人或另一搬運系統將基板移送出預處理室，經由基板搬運腔室，至真空擺動模組1160中。為了允許配合基板搬運腔室1100中在大氣條件下的基板裝載和/或基板搬運而通風裝載室1120，在基板搬運腔室1100和真空擺動模組1160之間提供一閘閥205。據此，基板搬運腔室1100、以及(如果希望的話)裝載室1120、第一預處理室1130、及第二預處理室1131中的一或多者，能夠在閘閥205開啟和基板被移送至真空擺動模組1160中之前抽真空。據此，基板的裝載、處理及製程，可在基板被裝載至真空擺動模組1160中之前，於大氣條件下進行。
根據此處所述之能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，可在基板被裝載至真空擺動模組1160中之前進行的基板的裝載、處理及製程，係在基板處於水平方向或實質上水平的方向中時進行。如第11圖所示、且根據又另外之此處所述的實施例的的製造系統1000，結合在水平方向中搬運基板、將基板旋轉至垂直方向、在垂直方向中將材料沉積至基板上、在材料沉積之後將基板旋轉至水平方向、以及在水平方向中卸載基板。
示於第11圖的製造系統1000、以及其他此處所述的製造系統，包含至少一薄膜封裝室。第11圖示出一第一薄膜封裝室1140和一第二薄膜封裝室1141。該一或多個薄膜封裝室包含一封裝設備，其中沉積好和/或處理好的層(特別是一OLED材料)，係封裝於(亦即夾設在)處理好的基板和另一基板之間，以保護沉積好和/或處理好的材料免於暴露在周遭空氣和/或大氣條件之中。薄膜封裝典型地能夠藉由將材料夾設在二個基板(例如玻璃基板)之間來提供。然而，其他封裝方法，像是與玻璃、聚合物或金屬薄片的層疊(lamination)、或一玻璃遮蓋物的雷射熔融，可替代性地藉由提供在薄膜封裝室的其中一者中的一封裝設備而被應用。特別是，OLED材料層可能會遭受暴露於周遭空氣、和/或氧氣和溼氣中。據此，製造系統1000，例如如第11圖所示者，能夠在經由裝載室1121卸載處理好的基板之前封裝薄膜。
示於第11圖的製造系統1000、以及其他此處所述的製造系統，還可包含一層檢查室1150。一層檢查工具，例如一電子和/或離子層檢查工具，可提供在層檢查室1150中。層的檢查可在提供於製造系統1000中的一或多個沉積步驟或處理步驟 之後進行。因此，具有一基板於其中的一載具，能夠從一沉積或處理室移動至移送室611，層檢查室1150係經由閘閥205連接至移送室611。待檢查的基板能夠在層檢查室中被移送，並在製造系統之內被檢查，亦即未將基板從製造系統移出。線上層檢查(online layer inspection)可在沉積步驟或處理步驟中的一或多者之後提供，所述沉積步驟或處理步驟可在製造系統1000中進行。
根據又另外的能夠與此處所述其他實施例結合之實施例，製造系統可包含一載具緩衝區1421。舉例來說，載具緩衝區可連接至連接到真空擺動模組1160的第一移送室610、和/或最後的移送室(亦即第六移送室615)。舉例來說，載具緩衝區可連接至連接到真空擺動模組之其中一者的移送室之其中一者。由於基板在真空擺動模組中裝載和卸載，如果載具緩衝區1421係提供在接近於真空擺動模組處會是有利的。載具緩衝區係配置成用以提供一或多個載具的儲存，例如5至30個載具的儲存。在緩衝區中的載具，能夠在製造系統運作期間於另一載具需要被替換(比如說是維護，例如清洗)的情況中使用。
根據又另外的能夠與此處所述其他實施例結合之實施例，製造系統還可包含一遮罩架(mask shelf)1132，亦即一遮罩緩衝區。遮罩架1132係配置成用以提供替換用遮罩、和/或需要為了特定沉積步驟而被儲存的遮罩的儲存。根據運作一製造系統1000的方法，一遮罩可從遮罩架1132經由具有第一軌道1111及第二軌道1112的雙軌傳送配置被移送至一沉積設備200。因此，一沉積設備中的遮罩，或者能夠為了維護(例如清洗)而進行交換，或者能夠為了改變沉積圖案而進行交換，且未使沉積設備通 風、未使移送室通風、和/或未將遮罩暴露至大氣壓中。
第11圖還示出一遮罩清洗室1133。遮罩清洗室1133係經由閘閥1205連接至遮罩架1132。據此，緊密的真空密封能夠提供在遮罩架1132和用於清洗遮罩的遮罩清洗室1133之間。根據不同的實施例，遮罩能夠在製造系統1000之內被清洗，比如是藉由一清洗工具，例如一電漿清洗工具。一電漿清洗工具可提供在遮罩清洗室1133中。除此之外、或者替代性地，另一閘閥1205可提供在遮罩清洗室1133，如第11圖所示。據此，一遮罩夠從製造系統1000卸載，而只需要通風遮罩清洗室1133。藉由從製造系統卸載遮罩，能夠提供外部的遮罩清洗，而同時製造系統繼續完整的運作。第11圖繪示相鄰於遮罩架1132的遮罩清洗室1133。一對應的或類似的清洗室(未示出)也可提供在相鄰於載具緩衝區1421處。藉由提供相鄰於載具緩衝區1421的一清洗室，載具可在製造系統1000之內被清洗，或者能夠從製造系統通過連接至清洗室的閘閥卸載。
一裝置，例如一OLED顯示器，能夠如下所述地在如第11圖所示的製造系統1000中製造。這只是一示例性的製造方法，且許多其他的裝置可由其他的製造方法製造。基板能夠經由裝載室1120裝載至基板搬運腔室1100中。在基板裝載於真空擺動模組1160中之前，可在預處理室1130和/或1131之內提供一基板預處理。基板在真空擺動模組1160中裝載於一載具上，並從一水平方向旋轉至一垂直方向。之後，基板被移送通過移送室610至615。旋轉提供在移送室615中的真空旋轉模組，使得帶有基板的載具能夠移動至提供在第11圖中移送室615下側的沉積 設備。在移送室之其中一者的真空旋轉模組之其中一者中的另外的旋轉步驟、及通過移送室中之一或多者的移送步驟，為了在參照根據本段之對於顯示器製造的敘述上的容易度，係於下文中省略。在沉積設備中，進行一電極沉積，以將裝置的陽極沉積在基板上。載具係從電極沉積室移動，並移動至連接到移送室610之沉積設備200的其中一者，該二個沉積設備200皆是配置成用以沉積一第一電洞注入層。連接至移送室610的二個沉積設備，能夠例如被交替地用於在不同的基板上沉積一電洞注入層。載具接著被移送至(在第11圖中)連接到移送室612的下方腔室，使得第一電洞傳送層能夠藉由在第11圖中提供於移送室612下方的沉積設備200來沉積。之後，載具係傳送至在第11圖中提供於移送室613下側的沉積設備200，使得一藍光發射層能夠沉積在第一電洞傳送層上。載具接著被傳送至連接於移送室614下端沉積設備，以沉積第一電子傳送層。在一接下來的步驟中，於可在移送室612上側的沉積設備中提供紅光發射層、以及可在提供於第11圖中移送室614上側的沉積設備中沉積綠光發射層之前，可沉積另外的電洞注入層，這例如是在在第11圖中提供於移送室611下側的沉積設備中進行。另外，電子傳送層可提供在發射層之間，和/或發射層之上。在製造的尾段，可在第11圖中提供於移送室615下方的沉積設備中沉積一陰極。根據又另外的實施例，額外的一或多個激子阻擋層(或電洞阻擋層)、或一或多個電子注入層，可被沉積在陽極和陰極之間。在陰極的沉積之後，載具被移送至另一真空擺動模組1161，其中帶有基板的載具係從所述垂直方向旋轉至一水平方向。之後，基板係在另一基板搬運腔室 1101中從載具卸載，並被移送至薄膜封裝室1140/1141其中一者，以封裝沉積好的層堆疊。之後，製造商裝置能夠通過裝載室1121卸載。
第12A圖示出一真空擺動模組1160。其他真空擺動模組，像是示於第11圖的另一真空擺動模組1161，可包含類似的特徵、細節及方面。真空擺動模組1160包含一真空室1261。真空室典型地具有一或多個凸緣，用於將一抽氣單元(例如一幫浦)連接至真空室。據此，真空室1261能夠被抽真空至一技術上的真空，該技術上的真空典型地提供在此處所述之一製造系統的一或多個腔室中，例如是10毫巴或更低。真空擺動模組係提供在真空室1261之內。擺動模組包含一基座1202。基座1202係配置成用以在裝載於一載具421上的基板121被支撐於垂直方向或水平方向中時，提供穩定性。後者(水平方向)係示於第12A圖。一致動器1204，例如一轉矩馬達，能夠繞著軸1207旋轉支座1206。據此，支座和/或連接其的一桌台，能夠從水平方向旋轉至一垂直方向，且反之亦然。考量到上述內容，基板121能夠在支座係提供為具有一水平方向時，被裝載於一載具421上。之後，支撐基板121的載具421可從水平方向旋轉至垂直方向，並處於垂直方向中地沿著傳送路徑移出真空室1261。在一相反的處理中，載具可處於垂直方向中地沿著傳送路徑移動至真空室1261中。支撐基板121的載具421可藉由真空室1261之內的擺動模組從垂直方向旋轉至一水平方向。之後，基板121可從載具421卸載。
第12B圖繪示將提供在一載具421中的基板121從一水平方向旋轉至一垂直方向、或相反的旋轉的一系列動作。從 左至右，基板121係提供在載具421中。升舉銷1210能夠提供在載具421之下，使得基板121依賴著升舉銷1210的垂直運動相對於載具421升高或下降。載具典型地包含一基板接收部分、一上引導部分1241、及一下引導部分。上引導部分可包含一或多個永久磁鐵，以允許在傳送配置中的載具的磁性引導。下引導部分可包含一桿狀體，其係配置成用以被引導在一或多個輥424上。多個輥424可形成傳送配置的一下部。
在基板121被裝載於載具421之前，升舉銷1210係垂直移動至一上升位置。一機器人或另一致動器能夠在真空擺動模組中裝載基板，並將基板放置到升舉銷1210上。據此，升舉銷1210支撐著基板121。之後，能夠降低升舉銷1210，藉此將基板121裝載至載具421上。之後，載具421可如第12B圖所示的一系列運動般旋轉，此時載具421的桿狀體係位在傳送系統的一或多個輥424中。在載具(連帶著和基板)已被抬起至一垂直位置之後，載具能夠沿著製造系統的傳送路徑移動。
第13A圖示出部分的二個相鄰的移送室1361。二個支座1310係提供在腔室各者中。支座1310可彼此平行，並且被配置成可一起繞著一共同的垂直旋轉軸旋轉。多個輥424係提供在支座1310面對移送室1361腔壁的各側。以此方式，沿著各個支座1310提供一傳送軌道，並提供一雙軌傳送系統。額外的一組輥1342係提供在支座1310的其中一者面對各自的其他支座的該側上。額外的該組輥1342在移送室1361之內提供一載具返回軌道。第13A圖示出雙軌傳送配置的下部，雙軌傳送配置的更多細節係示於第13C圖中。第13B圖示出傳送配置的一個軌道的一 上部。一磁性引導元件524係提供在傳送軌道的上部。一第一磁鐵1324及一第二磁鐵1325係提供在磁鐵支撐元件1323各自的側部。磁鐵支撐元件1323可為一U形的支撐元件，使得第一磁鐵1324和第二磁鐵1325可分別提供在載具421或載具的一上引導部分1241的相反側上。載具421的上引導部分1241包含一永久磁鐵，使得載具以在第一磁鐵1324和第二磁鐵1325之間無接觸的方式被引導。
第13C圖示出傳送配置的一個軌道的一下部。多個輥424係可旋轉地安裝在各自的軸425上。輥424具有一彎曲的外表面，特別是一凹入的外表面，使得載具421的一桿狀體1321能夠沿著多個輥被引導。根據不同的實施例，輥424的一或多者可由一馬達或類似元件驅動。舉例來說，一馬達可連接至一輸送帶系統或傳動鏈，其接著連接至輥中的二或更多者，如此以共同的旋轉速度旋轉輥。
根據又另外的能夠與此處所述其他實施例結合之實施例，一載具也可被以磁性方式漂浮。根據這類的實施例，載具的磁性漂浮可提供在雙軌傳送系統各個軌道的下部。此外，載具的磁性引導可提供在雙軌傳送系統各個軌道的上部。
根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，適用於用在一處理系統中的載具包含一電極組件和一支撐基座。電極組件係配置成用以產生一靜電夾持力，該靜電夾持力用於將一基板緊固至基板載具。根據又另外的額外或替代性的調整型態，支撐基座具有一加熱/冷卻庫形成於其中。電極組件和支撐基座形成一單一的主體，配置成用於在一處理系統之內傳送。載 具能夠是可連接至處理系統中的支持媒介的。一快速斷開器能夠耦接至所述主體，並配置成用以在主體從熱調節媒介的源去耦時，捕捉加熱/冷卻庫中的熱調節媒介。一快速斷開器可被耦接至所述主體，並配置成用以在主體從熱調節媒介的源去耦時，捕捉加熱/冷卻庫中的熱調節媒介。能夠耦接一快速斷開器以施加夾持電荷。
根據又另外的實施例，感應電力耦合元件可被提供在移送室1361的一或多者中，用於在雙軌傳送配置的一或多個軌道的下部、和/或雙軌傳送配置的一或多個軌道的上部提供電力給靜電載具。舉例來說，一或多個線圈，亦即一導電迴路(loop)或複數導電迴路，可提供在載具的下端和/或上端。舉例來說，這些迴路，相較於提供給雙軌傳送配置的軌道的另一線圈配置而言，可為較小的迴路。雙軌傳送配置的軌道可具有另外的線圈配置，例如一大的迴路。考量到在載具的一或多個線圈以及在軌道的另外的線圈配置，可提供感應電力傳輸。根據一個特定例子，在軌道的大的迴路沿著示於第13A圖的支座1310的長度延伸。該大的迴路或許可能是沿著支座1310整個長度的50%延伸，特別是沿著整個長度的至少90%延伸。根據不同的或替代性的實施方案，電性接觸，亦即滑動接點，可在載具沿著移送室1361的軌道傳送時提供。
第14圖示出根據此處所述之實施例的又一製造系統1000。類似於參照第11圖所述之實施例的製造系統的腔室、元件、特徵、方面、及元件，並不會在參照第14圖時再次提及。亦即，只有不同實施例間的差異之處會敘述於此。第14圖示出 一製造系統1000，伴隨著一第一移送室610及一第二移送室611。一或多個沉積設備200係提供在第一移送室610和第二移送室611之間。第14圖示出三個沉積設備作為例子，其中第二和第三沉積設備之間的點點，係指示具有甚至更多沉積設備(亦即沉積室)提供在第一移送室610和第二移送室611之間的選項。根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，舉例來說，三個、四個、五個、六個、或七沉積室(亦即沉積設備)可提供在移送室之間。製造系統1000的一部分係提供為一直線型沉積系統部分。考量到示於第14圖的製造系統1000的這個概念，亦即具有一直線型沉積系統部分，沉積室或沉積設備200的數目相較於第11圖而言可以減少。數目減少之沉積室可例如用於白光-彩色濾光片型顯示器。
一載具緩衝區1421係經由閘閥205連接至第一移送室610，且一遮罩架1132係經由閘閥205連接至第二移送室611。沉積設備200可根據此處所述的各種實施例(特別是關於第1A至10圖的實施例)而提供，其中用於蒸發源100的維護的的一或多個真空維護室，係提供在沉積設備的真空室的側方，如此而可提供從一個沉積設備至一相鄰沉積設備的載具的直線型傳送。
如在第11和14圖中可示例性地看見的，實施例能夠是關於一系統，該系統包含一群集沉積系統部分(第11圖)、以及/或直線型沉積系統部分和一或多個群集部分，例如是用於基板的裝載及預處理、和用於基板的卸載及後處理。系統可為介於一直線型處理系統和一群集處理系統之間的一混合系統。
如第14圖所示，沉積設備200能夠各自沉積材料至 基板上。二個基板能夠沿著一雙軌傳送系統從移送室610傳送至另一移送室611。
參照第14圖所述的實施例，藉由數個載具返回腔室1410提供一載具返回路徑。載具返回腔室1410可分別經由閘閥1405連接至移送室610和611各者。連接至一移送室的載具返回腔室之一或多者，也可提供作為裝載室，亦即要被通風和抽真空的一腔室。提供一載具返回腔室作為一裝載室，允許了補償一移送室(例如製造系統1000的移送室610或611)和一相鄰的腔室(例如一真空旋轉模組、或可接著在較高的壓力(例如以一鈍氣氣氛)運作的另一載具返回腔室)之間的壓力差。如第14圖所示，提供二個真空旋轉模組1461。舉例來說，它們也可經由閘閥1405連接至載具返回腔室1410。多個載具返回腔室1410沿著製造系統1000的直線型沉積部分的延伸部分而延伸。根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，具有載具返回腔室的一載具返回路徑，能夠被配置成用以在真空條件下、或在一受控制的惰性氣氛或具有一被限定的混合氣體(例如氬氣、氮氣、其組合)的受控制的氣體條件下返回載具。考量到此一載具返回軌道，能夠避免載具暴露至周遭空氣。這可減少載具在製造系統1000中的脫氣(degassing)。舉例來說，一惰性氣氛含有惰氣。一惰性氣氛含有濃度在10ppm或更低的反應性氣體，例如濃度在1ppm或更低，該反應性氣體例如是氧氣或溼氣。
根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，載具返回腔室1410的一或多者可包含一或多個維護出入口1420。舉例來說，具有一維護出入口的一載具返回腔室1410可 經由閘閥1405連接至相鄰的載具返回腔室。據此，閘閥可被關閉，且具有維護出入口的載具返回腔室能夠通風和開啟，以提供載具出入。這能夠用於載具的裝載和卸載，例如是為了維護，比如清洗。
製造系統1000的又一實施方案可參照第15A和15B圖進行敘述。類似於第14圖，提供一直線型沉積系統部分。然而，一載具返回路徑腔室1510係提供在那些沉積設備200的真空室110下方。載具返回路徑腔室1510具有水平延伸的包圍空間1512，其中載具能夠處於水平方向地從另一真空擺動模組1161移送回至真空擺動模組1160。
根據又另外的實施例，一製造系統1000可額外地或替代性地被調整成如參照第16圖所解釋者。第16圖示出一製造系統1000，伴隨著類似於第11圖的一群集沉積系統部分。二或更多個移送室，例如一第一移送室610、一第二移送室611、一第三移送室612、及一第四移送室613，如第16圖所示，可提供具有一雙軌傳送配置的一條線上，所述雙軌傳送配置伴隨著一第一軌道1111及一第二軌道1112。根據一些實施例，一載具返回軌道1125係提供在第一軌道1111和第二軌道1112之間。
參照第16圖所述的製造系統1000具有連接至移送室610~613其中一者的數個沉積室或沉積設備。第11圖繪示多個沉積設備200，並且是根據參照第1A至4B圖和第6圖所述的實施例中的任一者。另外的實施例，如示例性地繪示於第16圖者，可包含一或多個沉積設備500，其實施例係參照第5A、5B圖和第8A至9圖而進行敘述。根據又另外的實施例，一製造系 統可包含一或多個沉積設備，其係根據參照第5A、5B圖和第8A至9圖所述之實施例而提供。
在這樣的一沉積設備500中，基於環形軌道，一列的源能夠以一平移運動沿著一基板移動，該基板典型地由一遮罩所遮蓋。環形軌道的一彎曲部分提供一蒸發源100的旋轉。另外，彎曲部分能夠為了將蒸發源在一第二基板前定位而提供。環形軌道的另一直線部分提供沿著另一基板的另一平移運動。如前文所提及的，根據一些能夠與此處所述其他實施例結合的實施例，基板和遮罩在沉積期間實質上保持靜止。提供線源(例如伴隨著實質上垂直方向的線的線源)的蒸發源，係沿著靜止的基板而移動。具有一列蒸發源的實施例、和/或具有用於蒸發源的平移和旋轉運動的一環形軌道的實施例，能夠受益於具有多於二個的基板提供在真空室中。
舉例來說，連接至另一移送室613的沉積設備500係配置成用於在四個基板上的OLED材料沉積，同時多個蒸發源100沿著環形軌道530移動。另外，一環形軌道820可提供在用於蒸發源的維護的真空維護室中。連接至移送室610的沉積設備500係配置成用於在二個基板上的OLED材料沉積。類似地，多個蒸發源可沿著用於提供平移和旋轉運動的環形軌道移動。其他列狀沉積源設備的另外的實施方案或調整型態，可根據其他此處所述的實施例而提供。
示例性地參照示於第17圖的製造系統1000而敘述的製造系統之又另外的實施例，可包含如先前參照第14圖所述的一直線型沉積系統部分，其中沉積設備500包含具有一環形軌 道的一源的列構造，作為提供在直線型沉積系統部分中的一或多個沉積室。
沉積設備500或那各自的沉積室，係連接至移送室610、或連接至另一沉積設備。沉積設備500包含環形軌道，亦即一源列構造，其中三個源100示例性地沿著一靜止的基板(例如由靜止的遮罩所遮蓋的一靜止的基板)移動。蒸發源100係提供在真空室110中於一軌道或線形導件220上。線形導件220係配置成用於蒸發源100的平移運動。之後，提供一或多個另外的沉積設備200(第17圖中示出二個，以將載具從一直線型沉積系統部分中的一個沉積設備傳送至一相鄰的沉積設備。從而，另外的沉積設備200具有一蒸發源100，該蒸發源100提供在真空室110中於一軌道或線形導件220上。線形導件220係配置成用於蒸發源100的平移運動。另外，蒸發源的一旋轉運動可藉由一馬達或另一用於旋轉蒸發源的手段來提供。示於第17圖的沉積設備500和200，能夠各自沉積材料至基板上。二個基板可沿著一雙軌傳送系統從移送室610傳送至另一移送室611。根據又另外的實施例，一製造系統可包含一或多個沉積設備，所述沉積設備皆是根據參照第5A、5B圖和第8A至9圖所述之實施例而提供。
據此，第17圖示出製造系統1000，具有：先前所述之群集部分，伴隨著基板搬運腔室1100，其中基板在一水平方向中被搬運；一真空擺動模組1160；第一移送室及一第二移送室；多個沉積設備，位於第一移送室和第二移送室之間；另一真空擺動模組1161及伴隨著基板搬運腔室1101的一群集部分，在基板搬運腔室1101中，基板在一水平方向中被搬運。另外，一載 具返回軌道係藉由多個載具返回腔室1410及一或多個真空旋轉模組1461而提供，如前所述。可被提供為示於第17圖的製造系統1000之一調整型態的各種實施例的另外的細節、方面、特徵，能夠由其他已敘述於前之實施例的實施方案所產生。
第18圖繪示運作根據此處所述之實施例的製造裝置的一實施例的流程圖。一基板係在一水平方向裝載至製造系統中(見步驟1802)。基板能夠被裝載於在水平方向的一載具上，並且在步驟1804中，基板藉由將載具從水平方向旋轉至偏離的方向而被旋轉。在步驟1806中，藉由在一垂直方向中移送帶有基板的載具，基板被移送通過製造系統，亦即一或多個沉積或處理室。之後，在步驟1808中，具有基板於其上的載具係從垂直方向旋轉至水平方向。在步驟1810中，基板於水平方向中卸載。在步驟1812中，載具係在真空條件下、和/或在限定的氣體氣氛中返回，所述限定的氣體氣氛例如是具有氬氣、氮氣、或其組合提供在腔室中的一或多個腔室中的一限定的或控制的惰性氣氛。舉例來說，一惰性氣氛含有惰氣。一惰性氣氛含有濃度在10ppm或更低的反應性氣體，例如濃度在1ppm或更低，該反應性氣體例如是氧氣或溼氣。
考量到上述內容，此處所述的實施例能夠提供多項改進，特別是至少一或多項下面所述的改進。對於使用一垂直的群集方式的此類系統，亦即具有一群集沉積系統部分的系統，能夠提供對所有腔室的「任意」出入。藉由提供在增加模組(亦即沉積設備)的數目一事中的彈性，所述系統概念能夠實施於RGB和白光-彩色濾光片型沉積二者。此一彈性也可用於創造冗餘。藉由 在例行維護期間或在遮罩交換期間減少或不需要通風基板搬運腔室或沉積室，能夠提供高的系統可用時間。遮罩的清洗或者可原位地藉由可選擇的電漿清洗來提供，或者可藉由給予一遮罩交換介面於外部來提供。在一真空室中，使用掃描源的方式和180°轉向機構以交替或同時塗佈二或更多個個基板(源列構造)，能夠提供高的沉積源效率(>85%)和高的材料利用率(>50%)。由於一整合的載具返回軌道，載具停留在真空中、或在一受控制的氣體環境下。沉積源的維護和預調節能夠提供在分開的真空維護室或源儲存室中。藉由實施一真空擺動模組，使用一個製造系統的所有者已經存在的玻璃搬運設備，能夠更易於令水平的玻璃搬運(例如在大氣中之水平的玻璃搬運)變得適用。可提供對於一真空封裝系統的介面。存在著對於增加用於基板檢查(線上層分析)、遮罩或載具的儲存的模組的高彈性。系統具有小的所佔面積。另外，對於目前和未來之玻璃尺寸能夠提供良好的尺寸可調整性。
考量上述內容，在此提供用於蒸發有機材料的蒸發系統、沉積設備、及方法的各種實施例，其能夠與此處其他實施例結合。這些實施例為：
<實施例16>一種用於在由一載具所支撐的基板上沉積一或多層的系統，該系統包括：一裝載室，用於裝載待處理的基板；一移送室，用於傳送基板；一真空擺動模組，提供在該裝載室和該移送室之間；至少一沉積設備，用於在該至少一沉積設備的一真空室中沉積材料，其中該至少一沉積設備係連接至該移送室；另一裝載室，用於卸載已處理的基板；另一移送室，用於傳送基板；另一真空擺動模組，提供在該另一裝載室和該另一 移送室之間；以及一載具返回軌道，從該另一真空擺動模組通往該真空擺動模組，其中載具返回軌道係配置成用以在真空條件和受控制的惰性氣氛中至少一者下傳送載具。
<實施例17>根據實施例16之系統，其中該移送室和該另一移送室係配置成用於垂直的基板傳送。
<實施例18>根據實施例16之系統，其中該裝載室係配置成用於水平的基板搬運，且該真空擺動模組係配置成用於基板旋轉。
<實施例19>根據實施例16之系統，其中該另一裝載室係配置成用於水平的基板搬運，且該另一真空擺動模組係配置成用於基板旋轉。
<實施例20>根據實施例16之系統，更包括選自下列組成之群組的腔室的一或多者：一預處理室、一層檢查室、一遮罩架腔室、以及一載具緩衝區腔室。
<實施例21>根據實施例16之系統，其中該至少一沉積設備係提供在該移送室和該另一移送室之間。
<實施例22>根據實施例21之系統，更包括：一載具返回軌道，提供在連接至該移送室和該另一移送室的一腔室組件中，並適用於在真空條件和受控制的惰性氣氛中至少一者下將載具從該另一真空擺動模組返回至該真空擺動模組。
<實施例23>根據實施例16之系統，其中該至少一沉積設備包括：一真空處理室；一蒸發源，用於有機材料，其中該蒸發源包括：一蒸發坩鍋，其中該蒸發坩鍋係配置成用以蒸發 有機材料；及一分佈管，具有一或多個出口，其中分佈管和蒸發坩鍋係處於流體連通狀態，且其中分佈管在蒸發期間可繞著一軸旋轉；以及一基板支撐件系統，設置在真空室中，並具有至少二個軌道，其中基板支撐件系統的至少二個軌道係配置成用於在真空室中實質上垂直地支撐基板或載運基板的載具。
<實施例24>根據實施例23之系統，更包括：一真空維護室，與真空處理室相連接；以及一真空閥，用於開啟和關閉真空處理室和真空維護室之間的真空密封，其中蒸發源能夠從真空處理室被移送至真空維護室、和從真空維護室被移送至真空處理室。
<實施例25>根據實施例23之系統，其中沉積設備更包括：一支座，用於分佈管，其中該支座係可連接至一第一傳動器或包含該第一傳動器，其中第一傳動器係配置成用於支座和分佈管的平移式運動，其中蒸發源在真空處理室中蒸發有機材料。
<實施例26>根據實施例23之系統，其中分佈管係藉由相對於支座旋轉分佈管的一第二傳動器可繞著該軸旋轉。
<實施例27>根據實施例23之系統，其中分佈管係藉由相對於支座旋轉分佈管和蒸發坩鍋的一第二傳動器可繞著該軸旋轉。
<實施例28>根據實施例23之系統，其中分佈管係藉由沿著一環形軌道的移動可繞著該軸旋轉。
<實施例29>根據實施例16至28中任一者之系 統，其中該移送室和該另一移送室係配置成在該真空擺動模組和該另一真空擺動模組之間提供至少二個線形的基板傳送路徑。
<實施例30>根據實施例29之系統，更包括一載具返回軌道，提供在該至少二個線形的基板傳送路徑之間。
<實施例31>根據實施例29之系統，其中該至少一沉積設備係至少二個沉積設備，分別連接至該移送室和該另一移送室的其中一者，使得基板在旋轉基板之後能夠被裝載在該至少二個沉積設備中。
<實施例32>根據實施例16之系統，其中該系統係用於沉積包含有機材料於其中的一或多層的系統。
<實施例33>一種在一系統中沉積一或多層的方法，其中該系統係用於在由一載具所支撐的一基板上沉積一或多層，該方法包括：在系統中於一水平方向中裝載基板；在一真空擺動模組中將基板裝載至載具上；在該真空擺動模組中旋轉帶有被裝載的基板的載具至一垂直方向；在真空條件下，移送帶有被裝載的基板的載具通過系統並進出至少一沉積設備；在另一真空擺動模組中旋轉載具至一水平方向；在該另一真空擺動模組中於該水平方向中卸載基板；以及在真空條件和受控制的惰性氣氛中至少一者下，將空的載具從該另一真空擺動模組返回至該真空擺動模組。
<實施例34>實施例33之方法，其中由該方法所沉積的一或多層係包含有機材料於其中的層。
<實施例35>實施例33之方法，其中該系統係根據 實施例16至28、和30至32中任一者之系統。
<實施例36>實施例33之方法，其中該系統係根據實施例29之系統。
<實施例37>實施例34之方法，其中該系統係根據實施例16至28、和30至32中任一者之系統。
<實施例38>實施例34之方法，其中該系統係根據實施例29之系統。
雖然上述內容是關於本發明的實施例，但可在不背離本發明的基本範圍的情況下，設計出本發明其他和更進一步的實施例，本發明的範圍係由下列的申請專利範圍而定。

Claims (25)

  1. 一種用於有機材料的蒸發源，包括：一蒸發坩鍋，其中該蒸發坩鍋係配置成用以蒸發該有機材料；一分佈管，具有一或多個出口，並提供實質上垂直延伸的一線源，其中該分佈管係與該蒸發坩鍋處於流體連通狀態，且其中該分佈管係在蒸發期間能夠繞著實質上垂直的一軸旋轉；以及至少一側面遮罩物，用於遮擋該有機材料的蒸發，其中該側面遮罩物在該分佈管旋轉期間遮擋該有機材料。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之蒸發源，更包括：一支座，用於該分佈管，其中該支座係能夠連接至一第一傳動器、或包含該第一傳動器，其中該第一傳動器係配置成用於該支座和該分佈管的平移運動。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之蒸發源，其中該至少一側面遮罩物係配置成用以跟隨該支座和該分佈管的平移運動。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之蒸發源，其中該至少一側面遮罩物包括另一側面遮罩物。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之蒸發源，其中該至少一側面遮罩物在進行該分佈管繞著該軸的旋轉時係靜止的。
  6. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之蒸發源，其中該至少一側面遮罩物係配置成用以將該有機材料的蒸發限制在朝向基板的方向。
  7. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之蒸發源，其中該至少一側面遮罩物係配置成用於在一閒置模式的側向蒸發。
  8. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之蒸發源，其中該分佈管係能夠朝著該側面遮罩物旋轉，以避免離開該蒸發源的蒸氣。
  9. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之蒸發源，更包括：一蒸發器控制外殼，其中該分佈管係藉由該蒸發器控制外殼的旋轉為能夠旋轉的。
  10. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之蒸發源，其中該蒸發坩鍋係安裝在一蒸發器控制外殼上，其中該分佈管和該蒸發坩鍋被安裝成係能夠一起旋轉的。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之蒸發源，其中該分佈管、該蒸發坩鍋和該蒸發器控制外殼係能夠一起旋轉的。
  12. 如申請專利範圍第2項所述之蒸發源，其中該至少一側面遮罩物係固定地安裝在該支座上。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之蒸發源，其中該至少一側面遮罩物係固定地安裝以不會和該分佈管一起旋轉。
  14. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之蒸發源，其中該分佈管為一線形的蒸氣分佈噴頭。
  15. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之蒸發源，其中該分佈管旋轉至少160°。
  16. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之蒸發源，其中該分佈管係藉由一第二傳動器為能夠繞著該軸旋轉的，該第二傳動器相對於一支座旋轉該分佈管。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之蒸發源，其中該支座包含一支座外殼，配置成用以維持其中的大氣壓，且其中該支座經由一能夠旋轉的真空饋通件支撐該分佈管。
  18. 如申請專利範圍第2至4項中任一項所述之蒸發源，更包括： 至少一第二蒸發坩鍋，由該支座所支撐；以及至少一第二分佈管，由該支座所支撐，其中該至少一第二分佈管係與該至少一第二蒸發坩鍋處於流體連通狀態。
  19. 一種用於在一真空室中沉積有機材料的沉積設備，包括：該真空室；如申請專利範圍第1至18項中任一項所述之蒸發源，其中該蒸發源在該真空室中蒸發該有機材料；以及一基板支撐件系統，設置在該真空室中，並具有至少二個軌道，其中該基板支撐件系統的該至少二個軌道係配置成用於一基板、或載運該基板之一載具在該真空室中的實質上垂直的支撐。
  20. 如申請專利範圍第19項所述之沉積設備，其中該至少一側面遮罩物係配置成用以將該有機材料的蒸發限制在朝向該基板的方向。
  21. 一種用於蒸發一有機材料的方法，包括：在實質上垂直的一第一處理位置中移動一第一基板；在一蒸發源蒸發該有機材料時，以至少一平移運動沿著該第一基板移動該蒸發源；在實質上垂直的一第二處理位置移動一第二基板，該第二處理位置不同於該第一處理位置；在蒸發期間繞著實質上垂直的一軸旋轉該蒸發源的一分佈 管，該分佈管提供實質上垂直延伸的一線源；以至少一側面遮罩物在該分佈管旋轉期間遮擋該有機材料的蒸發；以及在該蒸發源蒸發該有機材料時，以至少另一平移運動沿著該第二基板移動該蒸發源。
  22. 如申請專利範圍第21項所述之方法，更包括：為了在一閒置模式的側向蒸發旋轉該分佈管。
  23. 如申請專利範圍第21或22項所述之方法，更包括：朝著該側面遮罩物旋轉該分佈管，以避免離開該蒸發源的蒸氣。
  24. 如申請專利範圍第21或22項所述之方法，其中在蒸發期間繞著該軸旋轉該蒸發源的該分佈管係在一第一旋轉方向進行，且該方法更包括：在沿著該第二基板移動該蒸發源之後，進一步地在蒸發期間繞著該軸旋轉該蒸發源的該分佈管，其中進一步地旋轉係在該第一旋轉方向進行。
  25. 如申請專利範圍第21或22項所述之方法，更包括：以該側面遮罩物阻擋蒸氣束。
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