TWI603830B - Optical film manufacturing method - Google Patents

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TWI603830B
TWI603830B TW103130150A TW103130150A TWI603830B TW I603830 B TWI603830 B TW I603830B TW 103130150 A TW103130150 A TW 103130150A TW 103130150 A TW103130150 A TW 103130150A TW I603830 B TWI603830 B TW I603830B
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Mitsuru Suzuki
Takuya Mori
Daisuke Hayashi
Atsushi Muraoka
Nao Murakami
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Nitto Denko Corp
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Description

光學薄膜之製造方法
本發明係關於一種光學薄膜之製造方法。詳細而言，本發明係關於一種藉由溶液製膜法將缺陷較少之高品質之光學薄膜製膜的方法。
高分子薄膜具有優異之透光性或柔軟性並且能輕質薄膜化，作為圖像顯示裝置形成用之光學薄膜(例如，相位差板、偏光元件、偏光元件保護薄膜等)而廣泛使用。
作為高分子薄膜之製造方法之一，有溶液製膜法(溶劑流延法)。於溶液製膜法中，將使聚合物於溶劑中溶解後之樹脂溶液(塗料)塗佈於支持體上之後，藉由加熱等將溶劑除去。藉由溶液製膜法製膜而成之薄膜之膜厚或光學特性之均勻性優異，因此於光學薄膜之製膜中廣泛使用溶液製膜法。
於溶液製膜中，存在使用包含不鏽鋼等金屬之環形帶或傳動輥等無端支持體之方法；使用長條之塑膠薄膜等有端支持體之方法。於無端支持體上製膜之情形時，自支持體剝離塗佈後之薄膜(網)之後，進行乾燥或延伸等加工。於薄膜之厚度較小之情形時(例如40μm以下之情形時)，存在自支持體剝離後之薄膜之自支承性較低、操作變困難之傾向。因此，無端支持體不適合膜厚較小之薄膜之製膜。
另一方面，於塑膠薄膜等有端支持體上製膜之情形時，能於使網密接於支持體上之狀態下進行乾燥或拉伸等步驟。因此，即便為膜 厚較小而缺乏自支承性之薄膜，若使用有端支持體，則不會產生操作性之問題，亦能夠容易地進行延伸等後加工(例如，專利文獻1及專利文獻2)。
於使用無端支持體、有端支持體之任一者之情形時，均發現下述問題：於支持體上附著之異物等於製膜時混入薄膜內，成為光學缺陷。為了防止附著於支持體之異物混入，提出於溶液製膜前，或於溶液製膜中除去支持體上之異物之方法。作為異物除去方法，已知使用超聲波空氣之方法(例如專利文獻3)、噴吹清洗氣體之方法(例如專利文獻4)，水洗支持體之方法(例如專利文獻5)、與黏著輥接觸之方法(例如專利文獻6)等。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2009-93074號公報
[專利文獻2]日本專利特開2007-331368號公報
[專利文獻3]日本特開平10-309553號公報
[專利文獻4]日本專利特開2009-066982號公報
[專利文獻5]日本專利特開2007-105662號公報
[專利文獻6]日本專利特開平9-304621號公報
近年來，於顯示器不斷普及之同時，對光學薄膜之要求性能亦變高。同時，對顯示器之輕質化或薄型化之要求亦變高，逐漸使用膜厚小於先前之光學薄膜。根據本發明者等人之研究，若於樹脂薄膜等有端支持體上藉由溶液製膜法將薄膜製膜，則有時產生點狀之干涉不均之類之缺陷(以下，有時稱為「點狀不均」)，薄膜之膜厚越小，則越存在點狀不均之發生變顯著之傾向。於發生點狀不均之部分之薄膜 之膜厚局部變小，推定其是附著於塗佈輥之異物帶來之影響。
因此，本發明者等人為了除去附著於塗佈輥之異物，藉由一面使異物除去用刀片(刮刀)與塗佈輥接觸來進行輥表面之清掃，一面進行利用溶液塗佈之製膜，嘗試點狀不均之減少。但是，於清掃輥表面之方法中，無法明確地確認點狀不均之減少效果。
鑒於此種課題，本發明之目的在於，於向支持體上之利用溶液製膜之光學薄膜的製膜中，減少局部膜厚變小之「點狀不均」缺陷之發生，獲得高品質之光學薄膜。
鑒於上述而研究，結果發現：於將支持體抽出後直至塗佈塗料之間，對與支持體之製膜面相反側之面(背面)進行在線清洗，藉此點狀不均減少。進一步研究之結果發現，藉由一面經由清洗液使支持體之背面與輥接觸一面進行濕式清洗，點狀不均大幅減少，從而完成本發明。
本發明係關於一種光學薄膜之製造方法。於本發明之光學薄膜之製造方法中，自可撓性支持體之捲繞體將長條狀之支持體退繞，向下游側連續地運送(抽出步驟)。支持體具有作為製膜面之第一主面及作為製膜面之背面之第二主面。於本發明之製造方法中，將支持體之第二主面清洗(清洗步驟)，其後，於支持體之第一主面上塗佈樹脂溶液並使其乾燥(製膜步驟)，獲得光學薄膜。
於清洗步驟中，於支持體之背面與清洗輥之間供給清洗液，利用清洗輥將清洗液塗佈展開於支持體上，藉此進行清洗。清洗輥較佳為於表面具有凹凸圖案者，其中，較佳使用凹凸圖案之凸部與輥之圓周方向非平行地延伸之清洗輥。一般認為如此於本發明中，藉由一面經由清洗液使清洗輥與支持體之背面接觸一面進行濕式清洗，附著於支持體之背面之異物被除去，點狀不均減少。
作為於本發明中使用之清洗輥之例，可列舉凹版輥或線棒輥等。另外，作為清洗液，較佳使用沸點低於水之高揮發性液體。
根據本發明之製造方法，能獲得薄膜之膜厚局部變小之「點狀不均」缺陷之發生被抑制之高品質的光學薄膜。一般而言，於支持體上製膜之薄膜之厚度越小，則越易發生點狀不均，特別是於膜厚為40μm以下之情形時存在該影響變嚴重之傾向。與此相對，根據本發明之製造方法，即便於支持體上製膜後之薄膜之乾燥後的膜厚為40μm以下之情形時，亦可減少點狀不均之發生。
1‧‧‧支持體
2‧‧‧捲繞體
10‧‧‧抽出部
11‧‧‧製膜面(第一主面)
12‧‧‧背面(第二主面)
20‧‧‧乾燥爐
40‧‧‧清洗部
41‧‧‧清洗輥
42‧‧‧支撐輥
44‧‧‧刮刀
47‧‧‧清洗盤
48‧‧‧清洗液
51~54‧‧‧導輥
60‧‧‧製膜部
61‧‧‧塗佈輥
62‧‧‧支撐輥
67‧‧‧液體堰
68‧‧‧塗料
100‧‧‧製膜裝置
140‧‧‧凹版輥
141‧‧‧凹部
142‧‧‧凸部
240‧‧‧線棒輥
241‧‧‧圓筒
242‧‧‧細線(凸部)
B1-B2‧‧‧線
圖1係表示光學薄膜製膜裝置之一實施形態的模式圖。
圖2係用以說明凹版輥之表面形狀之示意俯視圖。
圖3A係用以說明線棒輥之表面形狀之示意俯視圖。
圖3B係圖3A之線棒輥之B1-B2線的剖面圖。
圖1係表示本發明之光學薄膜之製造中使用之製膜裝置的一實施形態的模式圖。於圖1所示之製膜裝置100中，長條狀之支持體之捲繞體2設置於抽出部10。自捲繞體2退繞之支持體1自抽出部10向製膜裝置之下游側連續地運送，經過導輥51、52、53，向設置於導輥53之下游側之清洗部40運送(抽出步驟)。於清洗部40，清洗支持體1之背面(清洗步驟)。將清洗後之支持體1進一步向下游側運送，經過導輥54，向製膜部60運送，進行製膜(製膜步驟)。
[支持體]
支持體1只要具有可撓性即可，較佳使用機械強度、熱穩定性、阻水性、各向同性等優異之支持體。支持體具有第一主面、第二主面，於第一主面上將光學薄膜製膜。以下，於本說明書中，將第一主 面稱為「製膜面」，將作為其相反側之面之第二主面稱為「背面」。
作為支持體，使用例如樹脂薄膜、金屬箔、紙、布及該等之積層體等。其中，由於表面平滑性優異且來自支持體本身之異物之產生較少，因此較佳使用樹脂薄膜。
作為構成支持體薄膜之樹脂材料，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯類；二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物；聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烴；聚降冰片烯等環狀聚烯烴；尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物；聚碳酸酯；氯乙烯；醯亞胺系聚合物；碸系聚合物；聚醚碸；聚醚醚酮；聚苯硫醚；乙烯醇系聚合物；氯乙烯；環氧系聚合物等。其中，較佳使用於溶液製膜時不溶於溶劑之樹脂材料。
支持體可為無色透明，亦可為有色或不透明者。於支持體上形成薄膜之後，將支持體與於其上形成之薄膜之積層體作為積層光學薄膜供於實用之情形時，支持體較佳使用透明且光學特性均勻之支持體。可對支持體之表面實施易接著處理、脫模處理、抗靜電處理、抗黏連處理等。另外，基於抗黏連等目的，可對支持體之寬度方向之端部實施壓花加工(knurling，滾花)等。
支持體只要兼具自支承性及可撓性，則其厚度無特別限定。支持體之厚度一般為20μm~200μm左右，較佳為30μm~150μm，更佳為35μm~100μm。於長條薄膜之類之有端支持體上藉由溶液製膜法進行製膜之情形時，由於支持體之長度有限，因此能夠連續製膜之長度受限。一般而言，對於抽出部10、或製膜後之捲取部(未圖示)，設置於架台之捲繞體之重量、或直徑之上限已確定。因此，若支持體之厚度較小，則可使連續製膜長度變大，實現生產性之提高。因此，於不會損害製膜性、或操作性之範圍內，較佳為支持體之厚度儘可能 小。
另一方面，根據本發明者等人之研究，支持體之厚度較小之情形時，能觀察到點狀不均之發生數增大之傾向。與此相對，如後面詳細所述，於本發明中，藉由於製膜前用特定之方法清洗支持體之背面，即便支持體之厚度較小之情形時亦可抑制點狀不均之發生。
[清洗部]
於支持體1之運送路線中，於抽出部10與製膜部60之間，設置有清洗部40。於清洗部40，一面使支持體1之背面12與清洗輥41經由清洗液接觸一面進行濕式清洗。推測於本發明中，將於清洗輥與支持體背面之間供給之清洗液利用清洗輥於支持體上塗佈展開時，藉由於清洗液與支持體之界面賦予剪切力，可有效地清洗除去附著於支持體之異物等，可抑制點狀不均。
於圖1所示之形態中，清洗部40具備以與支持體1之製膜面11接觸之方式設置的支撐輥42、及以與支持體1之背面12接觸之方式設置的清洗輥41。於清洗盤48內貯存有清洗液47，用刮刀44將附著於清洗輥41之表面之清洗液之剩餘部分刮掉，上述清洗液被引向支持體1之背面12。
<清洗輥>
作為清洗輥41，使用刀輥(刮刀式輥)、接觸輥、凹版輥、線棒輥等於溶液塗佈中使用之各種輥。清洗輥可為旋轉輥，亦可為不旋轉輥。清洗輥為旋轉輥之情形時，旋轉方向可為正向旋轉、逆向旋轉之任一者。
自提高支持體之清洗效率之觀點考慮，較佳為於清洗輥之表面形成有凹凸。清洗輥表面之凹凸圖案較佳為凸部與輥之圓周方向非平行地延伸。藉由與清洗輥41之圓周方向非平行地延伸之凸部與支持體之背面接觸，有能夠更有效地清洗除去附著於支持體之異物等，抑制 點狀不均之傾向。
作為具有於與圓周方向非平行之方向延伸之凸部之輥，可列舉例如凹版輥、線棒輥、印花輥等。由於不使支持體損傷而將清洗液塗佈展開於支持體背面，因此作為清洗輥，特別較佳使用凹版輥及線棒輥。
圖2係表示凹版輥之表面之凹凸圖案形狀之一例的俯視圖。於凹版輥140之表面以圖案狀形成有凹部(凹版槽)141及凸部142。一般認為：使用凹版輥作為清洗輥之情形時，於該凹部貯存之液體與支持體表面接觸，並且附著於支持體表面之異物藉由與凸部之接觸而被刮掉，異物被除去。再者，於圖2中，作為凹版圖案形狀，圖示四角形(正方型)之圖案形狀，但若凸部向傾斜方向延伸，則凹版圖案之形狀並無特別限定，例如可為三角形、蜂巢型等多邊形狀或斜線形狀或曲線形狀等線狀。
圖3A係表示線棒輥240之表面之凹凸圖案形狀之一例的俯視圖，圖3B係B1-B2線之剖面圖。線棒輥係將線等細線242於輥主體(圓筒)241之表面以螺旋狀捲繞而成的輥，利用細線242，形成有於與圓周方向非平行之方向延伸的凸部。一般認為：使用線棒輥作為清洗輥之情形時，於鄰接之細線242之間隙貯存的液體與支持體表面接觸，並且附著於支持體表面之異物藉由與以螺旋狀捲繞之細線242接觸而被刮掉，異物被除去。再者，於圖3A及B中，圖示一條細線242捲繞於圓筒之形態，但線棒亦可由多條細線捲繞而成。細線242可無間隙地捲繞，亦能以一定間隔捲繞。鄰接之細線間之間隔較佳為與細線之寬度相同程度或其以下。
清洗輥表面之凸部之高度並無特別限定，但與一般之凹版輥或線棒輥等之凸部之高度同樣地較佳為0.1μm~10μm左右之範圍。若凸部之高度過小，則有時清洗效果變得不充分。另一方面，若凸部高 度過大，則清洗液之展開厚度變大，因此有時清洗效率降低、或清洗液之乾燥需要長時間，從而使生產效率降低。
<清洗液>
於清洗步驟中，於清洗輥41與支持體1之背面12之間供給清洗液。藉由清洗輥41與支持體1之背面12接觸，於支持體之背面塗佈展開清洗液，進行清洗。清洗液為液體，只要不溶解支持體1則無特別限定，可使用水、有機溶劑、水與有機溶劑之混合物等。
就有效地進行自抽出部10至製膜部60之運送路線上之在線清洗的觀點考慮，較佳使用低沸點且揮發性較高之液體作為清洗液。作為高揮發性之液體，可列舉：甲醇、乙醇、異丙醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮等酮類；氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷等鹵代烷類；二乙醚、乙基丙基醚、乙基異丙基醚等醚類等。另外，亦可使用該等有機溶劑之混合物、或該等有機溶劑與水之混合物等。另外，以清洗力之提高等為目的，可於清洗液中添加界面活性劑、或親水性有機化合物等。作為親水性有機化合物，可列舉具有羥基、胺基、醯胺基、亞胺基、醯亞胺基、硝基、氰基、異氰酸酯基、羧基、酯基、醚基、羰基、磺酸基、SO基等之有機化合物。
<清洗方法>
清洗方法只要為將於清洗輥41與支持體1之背面12之間供給之清洗液塗佈展開於支持體上的方法則無特別限定。將清洗液向清洗輥與支持體之間供給之方法亦無特別限定。於圖1中，圖示使清洗輥41與清洗盤48內之清洗液47直接接觸之形態(直接凹版法)，但亦可採用例如使其他輥(膠版輥)與清洗盤內之清洗液接觸，使附著於膠版輥表面之清洗液向以與膠版輥接觸之方式配置的清洗輥移動的方法(間接凹版(offset gravure))等。除了使清洗液附著於清洗輥41之表面之方法以外，亦可於支持體1與清洗輥41接觸前，藉由利用狹縫式模具或噴霧 等於支持體1之背面12塗佈清洗液的方法、於清洗盤內使支持體移動的方法、利用噴霧等使清洗液附著於清洗輥41表面之方法等而於清洗輥41與支持體1之背面12之間供給清洗液。
支持體1一面與清洗輥41接觸，一面向下游側(圖1之左側)運送，因此於清洗輥41與支持體之間供給之清洗液必然於支持體表面塗佈展開。清洗輥41可與支持體1之背面12直接接觸，亦可具有間隙。清洗輥與支持體之背面之間隙較佳為例如0.1μm~10μm左右。於間隙過大之情形時，輥與支持體經由清洗液接觸時之界面之剪切力變小，存在清洗效率降低的傾向。清洗輥於表面具有凹凸圖案之情形時，如前所述，根據輥表面之凸部之高度，可將清洗輥與支持體之間隙調整至所期望之範圍。清洗輥於表面不具有凹凸圖案之情形時，可根據清洗輥與支持體之相對的位置關係來調整間隙。
於圖1中，圖示於清洗部40中，支持體1之背面12與清洗輥41接觸，製膜面11與支撐輥42接觸之形態，但若以支持體1之背面12與清洗輥41經由清洗液接觸之方式構成支持體的運送路線，則不一定需要清洗部40中之支撐輥。另外，可使用於表面具有凹凸之輥等來代替支撐輥42，與支持體1之背面12同時對製膜面11進行清洗。
於清洗部40背面12經清洗之支持體1經過導輥54向製膜部60運送。再者，於將支持體自清洗部40向製膜部60運送期間，可進行附著於支持體表面之清洗液之乾燥。乾燥方法並無特別限定，可列舉噴吹潔淨氣體之方法、或於加熱烘箱內使支持體通過之方法等。
[製膜部]
於製膜部60中，於支持體1之製膜面11上塗佈展開塗料68，依照常法進行製膜。於圖1中，圖示刀輥塗佈機。於該輥塗佈機中，一面使支持體1之背面12與支撐輥62接觸，一面使之與液體堰67內之塗料68接觸，藉由用刀輥61進行塗料之除液來調整塗膜之厚度。
製膜部60中之製膜方法不限定於刀輥塗佈，可使用接觸輥塗佈、凹版塗佈、反轉塗佈、噴霧塗佈、線棒塗佈、氣刀塗佈、淋塗、模唇塗佈、模具塗佈等各種方法。
塗料68係用以形成光學薄膜之樹脂材料之溶液(樹脂溶液)，根據需要，可含有色素、流平劑、塑化劑、紫外線吸收劑、劣化防止劑等添加劑。作為用以形成光學薄膜之樹脂材料，較佳為透明聚合物，例如，作為構成支持體薄膜之樹脂材料較佳為使用上述物質等。另外，根據目標光學薄膜之光學特性等，亦可混合複數種樹脂材料來使用。塗料之固形物成分或黏度等根據樹脂之種類或分子量、光學薄膜之厚度、製膜方法等適當設定。
光學薄膜之特性較多依賴於膜厚。例如，光學補償薄膜之延遲值用雙折射與厚度之積表示。另外，偏光板等之吸光度用吸光係數與厚度之積表示。因此，為了使光學薄膜之特性均勻，較佳為製膜時之膜厚均勻。為了使膜厚均勻，如圖1所示，較佳為一面使用支撐輥62將支持體1之背面12支承一面進行製膜。
另一方面，若於支撐輥62與支持體1之背面12之間存在異物，則藉由該擠壓而使支持體1之製膜面11變形為凸狀。一般認為：若於其上塗佈塗料，則支持體變形之部分之塗佈厚度局部變小，產生點狀不均。與此相對，於本發明中，藉由對支持體1之背面12以在線進行清洗，藉此附著異物被除去，因此推定於一面用支撐輥將支持體支承一面進行溶液製膜之情形時，點狀不均之發生亦被抑制。
根據目標光學薄膜之特性等例如以乾燥後之膜厚為1μm~200μm左右之方式設定製膜厚度。一般而言，光學薄膜之乾燥後之膜厚為40μm以下之情形時，有點狀不均之發生變顯著的傾向。另一方面，於本發明中藉由經過上述清洗步驟，即便於光學薄膜之乾燥後之膜厚為40μm以下之情形時，亦能抑制點狀不均之發生。因此，特別 是於膜厚較小之光學薄膜之製造中較佳使用本發明之製造方法。本發明之製造方法於光學薄膜之乾燥後之膜厚為40μm以下之情形時的點狀不均之抑制中特別有效，例如於光學薄膜之膜厚為30μm以下之情形時或20μm以下之情形時、15μm以下之情形時、10μm以下之情形時，均能夠抑制點狀不均。
[塗佈後之步驟]
將於支持體1之製膜面11上塗佈之塗料的塗膜與支持體1一併向乾燥爐20內運送，除去溶劑，形成薄膜。乾燥後之薄膜可直接於與支持體1密接的狀態下進行捲取。亦可於將支持體及薄膜剝離之後，將兩者分別捲取。另外，亦可將自支持體剝離後之薄膜進一步供給於乾燥或延伸等其他步驟。
可將於與支持體密接之狀態下捲取之薄膜與支持體一體地作為光學薄膜供於實用。另外，於使薄膜密接於支持體上之狀態下，亦可供於延伸等其他步驟。其後，可將支持體與薄膜一體地作為光學薄膜使用，亦可自支持體剝離而作為光學薄膜使用。另外，可轉印於其他薄膜基材等而使用，亦可於薄膜上進一步塗佈其他塗佈層等。
由於如此方式獲得之本發明之光學薄膜的點狀不均減少，光學缺陷較少，因此可作為圖像顯示裝置用之光學薄膜使用。作為圖像顯示裝置用之光學薄膜，具體而言，可列舉相位差板等光學補償薄膜、偏光元件、偏光元件保護薄膜等。
[實施例]
以下列舉實施例對本發明更詳細地進行說明，但本發明不限定於下述實施例。
[實施例1] <塗料之製備>
將2,2'-雙(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐(6FDA)與2,2'-雙(三氟甲 基)-4,4'-二胺基聯苯(TFMB)之縮聚物脫水而獲得之聚醯亞胺(重量平均分子量：120,000)溶解於甲基異丁基酮(MIBK)，製備固形物成分濃度15重量%之聚醯亞胺溶液(塗料)。
<聚醯亞胺薄膜之製膜>
作為支持體薄膜，使用厚度75μm之雙軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(三菱樹脂公司製造，商品名：diafoil T302)。將支持體薄膜之捲繞體設置於圖1中示意性地示出之製膜裝置的抽出部10，將支持體薄膜抽出，一面使其移動一面將異丙醇作為清洗液並使凹版輥與支持體薄膜之背面側接觸，藉此進行支持體背面之清洗。於清洗後之基材之製膜面上以乾燥後之膜厚成為6μm之方式塗佈上述塗料，於150℃下使其乾燥。將獲得之聚醯亞胺薄膜與支持體一起捲取。
[實施例2]
於上述實施例1中，除了支持體薄膜之背面側，對於製膜面側，亦將異丙醇作為清洗液，一面使凹版輥接觸一面進行清洗。即，於實施例2中，一面使凹版輥與支持體薄膜之背面及製膜面之兩面接觸一面進行清洗。其後，與實施例1同樣地進行塗料之塗佈及乾燥，獲得聚醯亞胺薄膜。
[實施例3、4]
使用線棒輥來代替凹版輥。除此以外，以與實施例1、2同樣地進行清洗之後，進行塗料之塗佈及乾燥，獲得聚醯亞胺薄膜。即，於實施例3中，一面使線棒輥與支持體薄膜之背面接觸一面進行清洗，於實施例4中一面使線棒輥與支持體薄膜之兩面接觸一面進行清洗。
[比較例1]
對支持體薄膜之背面、製膜面均不進行清洗，與實施例1同樣地進行塗料之塗佈及乾燥，獲得聚醯亞胺薄膜。
[比較例2]
於上述實施例2中，不進行支持體薄膜之背面側之清洗，一面使凹版輥僅與支持體薄膜之製膜面接觸一面進行清洗。其後，與實施例1同樣地進行塗料之塗佈及乾燥，獲得聚醯亞胺薄膜。
[比較例3]
於上述實施例4中，不進行支持體薄膜之背面側之清洗，一面使線棒輥僅與支持體薄膜之製膜面接觸一面進行清洗。其後，與實施例1同樣地進行塗料之塗佈及乾燥，獲得聚醯亞胺薄膜。
[比較例4]
與比較例1同樣地，對支持體薄膜之背面、製膜面均不進行清洗，與實施例1同樣地進行塗料之塗佈及乾燥，獲得聚醯亞胺薄膜。於比較例4中，於塗料塗佈時，使刮刀與接觸於支持體之背面之支撐輥接觸，一面始終對支撐輥進行清掃一面進行製膜。
[比較例5]
將於製膜裝置之製膜部之正前面與支持體之背面接觸的導輥變更為黏著輥，進行利用與黏著輥之接觸之支持體之背面的清洗。另一方面，於比較例5中，未進行使用清洗輥之清洗。除此以外與實施例1同樣地進行塗料之塗佈及乾燥，獲得聚醯亞胺薄膜。
[比較例6]
將於製膜裝置之製膜部之正前面與支持體之製膜面接觸的導輥變更為黏著輥，進行利用與黏著輥之接觸之支持體的製膜面的清洗。另一方面，於比較例6中，未進行使用清洗輥之清洗。除此以外與實施例1同樣地進行塗料之塗佈及乾燥，獲得聚醯亞胺薄膜。
[比較例7]
將於製膜裝置之製膜部之正前面與支持體的背面接觸之導輥及與製膜面接觸之導輥分別變更為黏著輥，進行利用與黏著輥之接觸之支持體的背面及製膜面的清洗。另一方面，於比較例7中，未進行使 用清洗輥之清洗。除此以外與實施例1同樣地進行塗料之塗佈及乾燥，獲得聚醯亞胺薄膜。
[比較例8]
與實施例1同樣地，將異丙醇作為清洗液，一面使凹版輥接觸一面對支持體薄膜之背面側進行清洗。其後，不塗佈塗料，暫時捲取支持體薄膜(離線清洗)。將捲取後之支持體薄膜再次設置於製膜裝置，對支持體薄膜之背面、製膜面均不進行清洗，進行塗料之塗佈及乾燥，獲得聚醯亞胺薄膜。
[比較例9]
於上述比較例8中，使用線棒輥來代替凹版輥，對支持體薄膜之背面側進行離線清洗之後，暫時捲取支持體薄膜。將捲取後之支持體薄膜再次設置於製膜裝置，對支持體薄膜之背面、製膜面均不進行清洗，進行塗料之塗佈及乾燥，獲得聚醯亞胺薄膜。
[評價]
於暗室內，在將包含於上述各實施例及比較例中獲得之聚醯亞胺的光學薄膜與支持體薄膜積層之狀態下，自聚醯亞胺薄膜側照射白色光，以目視確認由於膜厚變化而於反射光中產生環狀之干涉條紋之部位之有無。數出於1m2之區域中產生環狀之干涉條紋之部位的數目，將其作為點狀不均數。於表1中表示各實施例及比較例中之清洗條件及點狀不均數之一覽。
於比較例2、3中，雖然進行了基材之製膜面之清洗，但與未進行清洗之比較例1相比，未觀察到點狀不均數之明確之變化。另外，即便為將支撐輥清掃之比較例4及用黏著輥將製膜面清洗之比較例6，亦未觀察到點狀不均數之明確之變化。
與此相對，以在線進行了背面之清洗之實施例1~4及比較例5、7中，點狀不均數大幅減少。另一方面，以離線進行了背面之清洗之比較例8、9中，未觀察到點狀不均數之明確之變化。根據該等結果，可知藉由對支持體之背面進行在線清洗，點狀不均大幅減少。
藉由使與黏著輥接觸進行了支持體之背面之清洗的比較例5、7中之點狀不均數每1m2分別為6個及7個。每1m2存在6處由點狀不均引起之不良之情形時，若在5英吋之畫面尺寸之圖像顯示裝置(每1m2約為140片)中使用光學薄膜，則相當於不良率約4%。但是，畫面尺寸為11英吋之情形時不良率約為20%，若畫面尺寸為20英吋以上則不良率上升至大約100%。因此，可知將光學薄膜用於大型圖像顯示裝置之形成之情形時，利用黏著輥之清洗時由點狀不均引起之不良率較高，極難獲得優質之光學薄膜之片。
與此相對，如實施例1~4所述，可知藉由經由清洗液使輥與支持體接觸，進行支持體背面之濕式清洗，可獲得幾乎無點狀不均，於大型圖像顯示裝置之形成中亦可適宜地使用之高品質的光學薄膜。
1‧‧‧支持體
2‧‧‧捲繞體
10‧‧‧抽出部
11‧‧‧製膜面(第一主面)
12‧‧‧背面(第二主面)
20‧‧‧乾燥爐
40‧‧‧清洗部
41‧‧‧清洗輥
42‧‧‧支撐輥
44‧‧‧刮刀
47‧‧‧清洗盤
48‧‧‧清洗液
51、52、53、54‧‧‧導輥
60‧‧‧製膜部
61‧‧‧塗佈輥
62‧‧‧支撐輥
67‧‧‧液體堰
68‧‧‧塗料
100‧‧‧製膜裝置

Claims (6)

  1. 一種光學薄膜之製造方法，其包括：抽出步驟，自可撓性支持體之捲繞體將具備第一主面及第二主面之長條狀之支持體退繞，並向下游側連續地運送；清洗步驟，將上述支持體之第二主面清洗；及製膜步驟，於上述支持體之第一主面上塗佈樹脂溶液並使其乾燥，於上述清洗步驟中，於上述支持體之第二主面與清洗輥之間供給清洗液，利用上述清洗輥將上述清洗液塗佈展開於支持體上，藉此進行上述支持體之清洗。
  2. 如請求項1之光學薄膜之製造方法，其中上述清洗輥於表面具有凹凸圖案，上述凹凸圖案之凸部與輥之圓周方向非平行地延伸。
  3. 如請求項2之光學薄膜之製造方法，其中上述清洗輥為凹版輥或線棒輥。
  4. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜之製造方法，其中上述清洗液為沸點低於水之液體。
  5. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜之製造方法，其中於上述製膜步驟中，以乾燥後之膜厚為40μm以下之方式進行上述樹脂溶液之塗佈。
  6. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜之製造方法，其中於上述清洗步驟中，附著於上述清洗輥之清洗液被供給至上述支持體之第二主面與清洗輥之間。
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