TW201638168A - 聚乙烯醇系薄膜之製造方法、聚乙烯醇系薄膜、及偏光膜 - Google Patents

Abstract

本發明關於一種聚乙烯醇系薄膜之製造方法，係將聚乙烯醇系樹脂之水溶液流延至澆鑄模而製膜，並連續乾燥；藉由於澆鑄模之表面照射紫外線而將附著的有機物分解，並進行表面洗淨。因此，即使不特別修補澆鑄模，亦可獲得表面平滑且顯示缺點少之聚乙烯醇系薄膜。

Description

聚乙烯醇系薄膜之製造方法、聚乙烯醇系薄膜、及偏光膜

本發明關於一種聚乙烯醇系薄膜之製造方法，更詳細而言，係關於藉由流延法(澆鑄法)之聚乙烯醇系薄膜之製造方法中的利用紫外線之澆鑄模的洗淨方法、及使用該澆鑄模所製得之表面平滑性優異的聚乙烯醇系薄膜、進一步以該聚乙烯醇系薄膜作為原捲所製得之偏光度、光線透射率優異的偏光膜。

以往，聚乙烯醇系薄膜係藉由將聚乙烯醇系樹脂溶解於水等溶劑而製備製膜用之原液後，將該原液流延至澆鑄滾筒或澆鑄帶等澆鑄模而製膜(澆鑄法)，並使用金屬加熱輥等進行乾燥而製造。如此獲得之聚乙烯醇系薄膜，作為透明性、染色性優異之薄膜被利用在多種用途，其有用的用途之一可列舉偏光膜。該偏光膜作為液晶顯示器之基本構成要素使用，近年要求高等級且高可靠性之機器及其使用正擴大中。

該等中，伴隨液晶畫面的高精細化、高亮度化，需要比以往產品更上一層之透明性、表面平滑性優異之聚乙烯醇系薄膜。聚乙烯醇系薄膜之表面平滑性低時，偏光膜之光線透射率降低，同時偏光性能降低，故成為顯示器之高亮度化、高精細化的障礙。又，聚乙烯醇系薄膜缺點多時，當然偏光膜的顯示缺點亦增加，難以製造高等級的顯示器。

為了製造表面平滑且缺點少之聚乙烯醇系薄膜，澆鑄模的表面必須是平滑的。為了確保表面平滑性，一般於澆鑄模的表面施以鍍鉻等金屬鍍敷處理。但，即使剛處理後為具有平滑表面之澆鑄模，重複製造薄膜的話會有有機物附著，表面粗糙度增大，表面的缺點亦增加。就該有機物而言，有聚乙烯醇系樹脂的分解物、添加劑的分解物、來自環境的附著物等各種物質，化學結構也不一樣。

就提高聚乙烯醇系薄膜之表面平滑性的方法而言，例如，有人提出了於澆鑄模之表面形成氟系樹脂膜的方法(例如，參照專利文獻1。)。又，有人提出了使用特定組成之原液(聚乙烯醇系樹脂水溶液)，於特定製膜條件製造聚乙烯醇系薄膜的方法(例如，參照專利文獻2。)。又，為了使聚乙烯醇系薄膜之厚度均勻化，有人提出了於表面粗糙度為3S以下之金屬表面(澆鑄模表面)製膜的方法(例如，參照專利文獻3。)。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1] 日本特開2006-305924號公報 [專利文獻2] 日本特開2011-245872號公報 [專利文獻3] 日本特開2001-315138號公報

[發明所欲解決之課題] 但，專利文獻1所揭示之技術，雖然在開始使用澆鑄模時可減少有機物的附著，但若經年累月地將澆鑄模重複加熱/冷卻的話，會產生氟系樹脂膜的剝落、氟系樹脂膜的分解物，因而會有澆鑄模表面的缺點增加的傾向。又，專利文獻2所揭示之技術，如上所述會有各種添加劑的分解物附著在澆鑄模表面的傾向。又，專利文獻3所揭示之技術，無法避免有機物附著在澆鑄模表面。

因此，本發明係於該等背景下，旨在提供即使不特別修補澆鑄模，亦可獲得表面平滑且缺點少之聚乙烯醇系薄膜的聚乙烯醇系薄膜之製造方法、聚乙烯醇系薄膜、及偏光膜。 [解決課題之手段]

本案發明人們鑒於該等情況進行努力研究的結果，發現藉由於澆鑄模之表面照射紫外線，將附著在澆鑄模表面的有機物分解，並進行表面洗淨，藉此可獲得表面平滑且缺點少之聚乙烯醇系薄膜，而完成了本發明。

亦即，本發明之要旨為一種聚乙烯醇系薄膜之製造方法，係將聚乙烯醇系樹脂之水溶液流延至澆鑄模而製膜，並連續乾燥；其特徵為：藉由於澆鑄模之表面照射紫外線而將附著的有機物分解，並進行表面洗淨。

再者，本發明之要旨為藉由上述聚乙烯醇系薄膜之製造方法而製成之聚乙烯醇系薄膜。又，本發明之要旨為由上述聚乙烯醇系薄膜構成之偏光膜。 [發明之效果]

本發明之聚乙烯醇系薄膜之製造方法，可於澆鑄模表面之平滑性優異的狀態下製造聚乙烯醇系薄膜，故可獲得表面平滑且缺點少之聚乙烯醇系薄膜，進一步亦可獲得缺點少且高品質之偏光膜。

本發明係聚乙烯醇系薄膜之製造方法，該聚乙烯醇系薄膜係藉由將聚乙烯醇系樹脂之水溶液流延至澆鑄模而製膜，並連續乾燥而獲得。

本發明所使用之澆鑄模，係使用在以鐵為主成分之不銹鋼(SUS)等之表面施有用於防止劃傷之金屬鍍敷者。就金屬鍍敷而言，例如，可列舉鍍鉻、鍍鎳、鍍鋅等，該等可單層使用，亦可將2層以上疊層使用。該等中，考量澆鑄模表面容易平滑化、耐久性的方面，最表面宜為鍍鉻較佳。

本發明之特徵為：在將聚乙烯醇系樹脂之水溶液流延至澆鑄模之前，預先於該澆鑄模之表面照射紫外線，藉此將附著的有機物分解，並進行表面洗淨。澆鑄模為澆鑄滾筒時，使該澆鑄滾筒邊旋轉邊連續地洗淨的話，在作業效率的方面為較佳。澆鑄模為澆鑄帶時，只要可邊在水平方向移送邊連續地洗淨即可。該連續洗淨中，宜於澆鑄模之整個寬度照射紫外線較佳，必要時可使紫外線燈排列於澆鑄模之寬度方向。

該紫外線宜為波長270nm以下之短波長紫外線較佳。260nm以下特佳，255nm以下更佳。

該紫外線之光源，可列舉高壓汞燈、超高壓汞燈、低壓汞燈、深紫外線燈、準分子燈、紫外線雷射等。 該等中，考量洗淨效率的方面，低壓汞燈、深紫外線燈、準分子燈等短波長紫外線燈較佳；考量作業效率的方面，低壓汞燈、準分子燈等線光源特佳；考量設備簡便的方面，長度1m以上之線光源更佳；考量能源效率的方面，準分子燈尤佳。該等燈可多種組合使用。

該準分子燈，可列舉Ar₂ 準分子燈(126nm)、Kr₂ 準分子燈(146nm)、Xe₂ 準分子燈(172nm)、NeAr準分子燈(185nm)、ArF準分子燈(193nm)、KrCl準分子燈(222 nm)、KrF準分子燈(248nm)、XeI準分子燈(254nm)、XeF準分子燈(305nm)、XeCl準分子燈(308nm)等。此外，( )內的數値表示峰值波長。 該等中，考量將有機物之化學鍵結有效地切斷，且不會對澆鑄模之表面造成損傷的方面，NeAr準分子燈、Xe₂ 準分子燈、ArF準分子燈、KrCl準分子燈較佳。

一般而言，短波長且單一波長之紫外線在空氣中的衰減較大，故光源與澆鑄模表面之間的間隔宜為10mm以下較佳，5mm以下特佳，3mm以下更佳，於該間隙吹入氮氣、氬氣等鈍性氣體尤佳。

該照射強度宜為10~10,000mW/cm² 較佳，50~5,000mW/cm² 特佳，100~3,000 mW/cm² 更佳。 照射強度過低的話會有洗淨效果降低的傾向，過高的話會有澆鑄模之表面劣化的傾向。

該照射時間宜為1~600秒/次較佳，2~300秒/次特佳，3~100秒/次更佳。照射時間過短的話會有洗淨效果降低的傾向，過長的話會有澆鑄模之表面劣化的傾向。

此外，作為本發明之一形態，有機物局部附著在澆鑄模表面時，也可將該局部以點(spot)進行紫外線洗淨。該種情況下，宜使用紫外線雷射作為光源較佳，具體而言，可列舉KrF雷射、XeF雷射、GaN雷射、Nd：YAG雷射(第3諧波)等。以安全上的觀點觀之，雷射輸出宜為3級(5mW)以下較佳。就照射法而言，將藉由雷射光源產生的雷射光束利用球面透鏡或柱面透鏡等擴大成平面狀或線狀的話，在照射面積的方面為較佳。此外，該方法一般被稱為雷射剝蝕。本發明中，亦可將該局部洗淨與上述澆鑄模全體之洗淨組合進行。

如此進行澆鑄模的洗淨、紫外線的照射，為了提高洗淨速度，亦可將澆鑄模全體加熱，或將澆鑄模表面利用熱風加熱。該種情況下，澆鑄模之表面溫度宜為50~200℃較佳。

本發明中之澆鑄模表面與水的接觸角，考量聚乙烯醇系樹脂水溶液的流延性的方面，宜為90°以下較佳，85°以下特佳，80°以下更佳。特別是澆鑄模洗淨後之澆鑄模表面與水的接觸角滿足上述規定的話為更佳。

本發明中之澆鑄模之表面粗糙度Rz宜為0.3μm以下較佳，0.2μm以下特佳，0.1μm以下更佳。特別是澆鑄模洗淨後之澆鑄模之表面粗糙度滿足上述規定的話為更佳。表面粗糙度Rz過大的話，會有澆鑄薄膜之表面粗糙度增大的傾向。

使用上述聚乙烯醇系薄膜之製造方法，可獲得表面平滑且缺點少之聚乙烯醇系薄膜。以下，對聚乙烯醇系薄膜之製造例進行說明。

本發明之聚乙烯醇系薄膜，係藉由將聚乙烯醇系樹脂之水溶液流延至澆鑄模而製膜，並連續乾燥而獲得。

就該聚乙烯醇系樹脂而言，通常使用未改性的聚乙烯醇系樹脂，亦即，將使乙酸乙烯酯聚合而獲得之聚乙酸乙烯酯皂化而製得的樹脂。必要時，亦可使用將乙酸乙烯酯和少量(例如10莫耳%以下，5莫耳%以下較佳)可與乙酸乙烯酯共聚之成分的共聚物皂化而獲得的樹脂。可與乙酸乙烯酯共聚之成分，例如，可列舉不飽和羧酸(例如，包括鹽、酯、醯胺、腈等)、碳數2~30之烯烴類(例如，乙烯、丙烯、 正丁烯、異丁烯等)、乙烯醚類、不飽和磺酸鹽等。又，亦可使用將皂化後之羥基進行化學修飾而獲得的改性聚乙烯醇系樹脂。

又，作為聚乙烯醇系樹脂，亦可使用於側鏈具有1,2-二醇結構之聚乙烯醇系樹脂。該於側鏈具有1,2-二醇結構之聚乙烯醇系樹脂，例如，可藉由(i)將乙酸乙烯酯與3,4-二乙醯氧基-1-丁烯之共聚物皂化的方法、(ii)將乙酸乙烯酯與碳酸乙烯基亞乙酯之共聚物皂化及脫羧的方法、(iii)將乙酸乙烯酯與2,2-二烷基-4-乙烯基-1,3-二氧環戊烷之共聚物皂化及脫縮酮化的方法、(iv)將乙酸乙烯酯與甘油單烯丙醚之共聚物皂化的方法等而獲得。

聚乙烯醇系樹脂之重量平均分子量宜為10萬~30萬較佳，11萬~28萬特佳，12萬~26萬更佳。該重量平均分子量過小的話，會有將聚乙烯醇系樹脂形成光學薄膜時難以獲得充分的光學性能的傾向；過大的話，會有將聚乙烯醇系薄膜製成偏光膜時的延伸變得困難的傾向。此外，上述聚乙烯醇系樹脂之重量平均分子量係利用GPC-MALS法而測得的重量平均分子量。

本發明所使用之聚乙烯醇系樹脂之平均皂化度，通常宜為98莫耳%以上較佳，99莫耳%以上特佳，99.5莫耳%以上更佳，99.8莫耳%以上尤佳。該平均皂化度過小的話，會有將聚乙烯醇系薄膜形成偏光膜時不能獲得充分的光學性能的傾向。 此處，本發明中之平均皂化度係依照JIS K 6726而測定。

本發明所使用之聚乙烯醇系樹脂，亦可倂用改性物質、重量平均分子量、平均皂化度等不同之2種以上。

聚乙烯醇系薄膜，可藉由將該聚乙烯醇系樹脂之水溶液流延至澆鑄滾筒(滾筒型輥)或澆鑄帶等澆鑄模，利用澆鑄法製膜，並乾燥而連續地製造，例如，可藉由以下的步驟製造。 (A) 利用澆鑄法將薄膜製膜。 (B) 將薄膜加熱並乾燥。

此處，作為上述澆鑄模，例如可列舉澆鑄滾筒(滾筒型輥)、無端皮帶等，考量寬幅化或長條化、膜厚之均勻性優異的方面，宜利用澆鑄滾筒進行較佳。 以下，以澆鑄模為澆鑄滾筒時的情況作為示例進行說明。

步驟(A)中，首先，宜將上述聚乙烯醇系樹脂利用水等溶劑予以洗淨，並使用離心分離機等進行脫水，而形成含水率50重量%以下之聚乙烯醇系樹脂濕餅塊較佳。含水率過大的話，會有難以形成所期望之水溶液濃度的傾向。 將該聚乙烯醇系樹脂濕餅塊溶解於溫水或熱水而製備聚乙烯醇系樹脂水溶液。

聚乙烯醇系樹脂水溶液之製備方法並無特別限定，例如，可使用已加熱之多軸擠壓機製備，又，亦可於具備上下循環流產生型攪拌翼之溶解槽加入上述聚乙烯醇系樹脂濕餅塊，並於槽中吹入水蒸氣，溶解並製備所期望濃度之水溶液。

聚乙烯醇系樹脂水溶液中，除聚乙烯醇系樹脂以外，視需要含有甘油、二甘油、 三甘油、乙二醇、 三乙二醇、聚乙二醇、 三羥甲基丙烷等一般所使用之塑化劑；非離子性、陰離子性、或陽離子性界面活性劑的話，在製膜性的方面為更佳。

如此獲得之聚乙烯醇系樹脂水溶液的樹脂濃度宜為15~60重量%較佳，17~55重量%特佳，20~50重量%更佳。該樹脂濃度過低的話，由於乾燥負荷變大而會有生產能力降低的傾向，過高的話，黏度變得過高而會有難以均勻地溶解的傾向。

然後，將所獲得之聚乙烯醇系樹脂水溶液進行消泡處理。就消泡方法而言，可列舉靜置消泡、利用多軸擠壓機所為之消泡等方法。多軸擠壓機只要是具有通氣孔之多軸擠壓機即可，並無特別限定，通常使用具有通氣孔之雙軸擠壓機。

消泡處理後，將聚乙烯醇系樹脂水溶液逐次定量地導入T型狹縫模，並吐出及流延至旋轉的澆鑄滾筒上，利用澆鑄法製膜。

T型狹縫模出口之聚乙烯醇系樹脂水溶液的溫度宜為80~100℃較佳，85~98℃特佳。 該聚乙烯醇系樹脂水溶液的溫度過低的話會有流動不良的傾向，過高的話會有起泡的傾向。

該聚乙烯醇系樹脂水溶液的黏度，在吐出時宜為50~200Pa･s較佳，70~150Pa･s特佳。 該水溶液的黏度過低的話會有流動不良的傾向，過高的話會有流延變得困難的傾向。

從T型狹縫模吐出至澆鑄滾筒之聚乙烯醇系樹脂水溶液的吐出速度宜為0.5~ 5m/分較佳，0.6~4m/分特佳，0.7~3m/分更佳。 該吐出速度過慢的話會有生產性降低的傾向，過快的話會有流延變得困難的傾向。

該澆鑄滾筒的直徑宜為2~5m較佳，2.4~4.5m特佳，2.8~4m更佳。 該直徑過小的話，乾燥長不足而會有生產速度降低的傾向，過大的話會有輸送性降低的傾向。

該澆鑄滾筒的寬度宜為2m以上較佳，3m以上特佳，4m以上更佳，4.5~6m尤佳。 澆鑄滾筒的寬度過小的話會有生產性降低的傾向。

該澆鑄滾筒的旋轉速度宜為3~50m/分較佳，4~40m/分特佳，5~35m/分更佳。 該旋轉速度過慢的話會有生產性降低的傾向，過快的話會有乾燥不充分的傾向。

該澆鑄滾筒的表面溫度宜為40~99℃較佳，60~95℃特佳。 該表面溫度過低的話會有乾燥不良的傾向，過高的話會有起泡的傾向。

然後，對上述步驟(B)進行說明。步驟(B)係將已製膜之聚乙烯醇系薄膜加熱並乾燥的步驟。

澆鑄滾筒中已製膜之薄膜的乾燥，係藉由使膜的表面與背面交替接觸多個熱輥而進行。熱輥的表面溫度通常為40~150℃，50~140℃較佳。該表面溫度過低的話會有乾燥不良的傾向，過高的話會有乾燥過度而導致起伏等外觀不良的傾向。 又，關於熱輥，例如，宜為已對表面進行硬鍍鉻處理或鏡面處理之直徑0.2~2 m的輥，且通常使用2~30根，較佳10~25根而進行乾燥較佳。

本發明中，利用熱輥之乾燥後，宜對薄膜進行熱處理較佳。熱處理溫度宜為60~150℃較佳，70~140℃特佳。熱處理溫度過低的話，會有聚乙烯醇系薄膜的耐水性降低，成為相位差擺盪的原因的傾向，過高的話會有偏光膜製造時的延伸性降低的傾向。該熱處理方法，例如，可列舉接觸高溫熱輥的方法、利用浮動式乾燥機而進行的方法等。

進行乾燥、視需要之熱處理後之薄膜，將兩端切開並捲取於輥而成為產品(聚乙烯醇系薄膜)。

該聚乙烯醇系薄膜之霧度宜為0.3%以下較佳，0.2%以下更佳，0.1%以下尤佳。霧度過高的話，會有偏光膜的光線透射率降低的傾向。

該聚乙烯醇系薄膜之表面粗糙度Rz宜為0.3μm以下較佳，0.2μm以下更佳。表面粗糙度Rz過大的話，會有偏光膜的偏光度降低的傾向。

就本發明之聚乙烯醇系薄膜而言，高度1μm以上之缺點(包括點狀與線狀)為1mm² 中3個以下較佳，2個以下更佳，1個以下尤佳。該缺點的個數過多的話，會有偏光膜的偏光度降低的傾向。

該聚乙烯醇系薄膜之厚度，考量薄型化的方面，宜為50μm以下較佳。考量減少相位差的方面，為30μm以下更佳，考量避免斷裂的方面，為5~30μm特佳。

該聚乙烯醇系薄膜之寬度，考量偏光膜之寬幅化的方面，宜為2m以上較佳，3m以上特佳，4~6m更佳。

本發明之聚乙烯醇系薄膜，長度為2km以上係必要，考量大面積化的方面，為3km以上特佳，考量輸送重量的方面，為4~50km更佳。

該聚乙烯醇系薄膜，缺點少且表面平滑性優異，可適當用作光學用之聚乙烯醇系薄膜，進一步用作偏光膜用之原捲特佳。

以下，對使用本發明之聚乙烯醇系薄膜而獲得之偏光膜的製造方法進行說明。

本發明之偏光膜，係將上述聚乙烯醇系薄膜從輥捲出並於水平方向移送，經由膨潤、染色、硼酸交聯、延伸、洗淨、乾燥等步驟而製造。

膨潤步驟係於染色步驟之前實施。藉由膨潤步驟，除可將聚乙烯醇系薄膜表面的污漬洗淨外，藉由使聚乙烯醇系薄膜膨潤，還具有防止染色不均等的效果。膨潤步驟中，就處理液而言，通常使用水。該處理液只要主成分是水即可，亦可加入少量碘化合物、界面活性劑等添加物、醇等。膨潤浴的溫度通常為10~45℃左右，於膨潤浴的浸漬時間通常為0.1~10分鐘左右。

染色步驟係藉由使薄膜接觸含有碘或二色性染料之液體而進行。通常使用碘-碘化鉀之水溶液，且碘的濃度為0.1~2g/L，碘化鉀的濃度為1~100g/L較適宜。染色時間為30~500秒左右較實用。處理浴的溫度宜為5~50℃較佳。水溶液中除水溶劑以外，亦可含有少量與水相溶之有機溶劑。

硼酸交聯步驟係使用硼酸或硼砂等硼化合物而進行。硼化合物，以水溶液或水-有機溶劑混合液的形態及10~100g/L左右的濃度使用，使碘化鉀共存於液體中的話，在偏光性能的穩定化的方面為較佳。處理時的溫度宜為30~70℃左右，處理時間宜為0.1~20分鐘左右較佳，又，必要時亦可於處理中進行延伸操作。

延伸步驟宜在單軸方向延伸3~10倍，3.5~6倍較佳。此時，即使在延伸方向之直角方向進行些許的延伸(防止寬度方向之收縮的程度、或該程度以上的延伸)亦無妨。延伸時的溫度宜為40~170℃較佳。進一步，只要將延伸倍率最終設定為上述範圍即可，延伸操作不僅在單一階段實施，在製造步驟之任意範圍的階段中實施即可。

洗淨步驟，例如，藉由將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水或碘化鉀等碘化物水溶液而進行，可除去薄膜表面所產生的析出物。使用碘化鉀水溶液時的碘化鉀濃度可為1~80g/L左右。洗淨處理時的溫度通常為5~50℃，10~45℃較佳。處理時間通常為1~300秒，10~240秒較佳。此外，水洗淨與利用碘化鉀水溶液之洗淨，宜可適當組合進行。

乾燥步驟，只要是在大氣中於40~80℃進行1~10分鐘即可。

又，偏光膜之偏光度宜為99.5%以上較佳，99.8%以上更佳。偏光度過低的話，會有不能確保液晶顯示器之對比度的傾向。 此外，偏光度一般係由在將2片偏光膜重合以使其配向方向成為同一方向的狀態下於波長λ所測得之光線透射率(H₁₁ )、及在將2片偏光膜重合以使配向方向成為相互垂直之方向的狀態下於波長λ所測得之光線透射率(H₁ )，根據下式算出。 [(H₁₁ -H₁ )/(H₁₁ +H₁ )]^1/2

進一步，本發明之偏光膜之單體透射率宜為42%以上較佳。該單體透射率過低的話，會有不能達成液晶顯示器之高亮度化的傾向。 單體透射率，係使用分光光度計測定偏光膜單體之光線透射率而獲得的值。

如此，可獲得本發明之偏光膜，而本發明之偏光膜適合於高等級之偏光板的製造。 以下，對本發明之偏光板的製造方法進行說明。

本發明之偏光膜，在其單面或雙面介由黏接劑貼合光學上等向性之樹脂薄膜作為保護薄膜而形成偏光板。作為保護薄膜，例如，可列舉三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、環烯烴聚合物、環烯烴共聚物、聚苯乙烯、聚醚碸、聚伸芳基酯、聚-4-甲基戊烯、聚伸苯醚等的薄膜或片材。

貼合方法可利用公知的手法進行，例如，將液狀的黏接劑組成物均勻地塗布於偏光膜、保護薄膜、或該兩者後，使兩者貼合並壓接，藉由加熱或照射活性能量射線而進行。

又，為了薄膜化，亦可在偏光膜之單面或雙面塗布胺甲酸乙酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、尿素樹脂等硬化性樹脂以替代上述保護薄膜，並進行硬化而形成偏光板。

本發明之偏光膜，顯示缺點少，偏光性能亦優異，可理想地使用於攜帶式資訊終端機、個人電腦、電視、投影機、標示牌、電子桌上計算機、電子時鐘、文字處理機、電子紙、遊戲機、攝影機、照相機、相簿、溫度計、音響、汽車或機械類之測量儀器類等的液晶顯示裝置、太陽眼鏡、防眩眼鏡、立體眼鏡、穿戴式顯示器、顯示元件(CRT、LCD、有機EL、電子紙等)用反射減少層、光通信設備、醫療設備、建築材料、玩具等。 [實施例]

以下，列舉實施例對本發明進行更具體地說明，只要不超出其要旨本發明並不限定於以下的實施例。 此外，示例中「份」、「%」意指重量基準。 針對各物性，如下述般進行測定。

＜測定條件＞ (1) 接觸角(°) 使用協和界面科學公司製「可攜式接觸角量測儀PCA-1」，使利用注射針所形成之1μl水滴落下與澆鑄滾筒表面接觸而進行測定，並以θ/2法算出。測定環境為23℃、50%RH。

(2) 表面粗糙度Rz(μm) 使用KEYENCE公司製雷射對焦顯微鏡VK-9700(測定長：1mm、物鏡：10倍)，測定澆鑄滾筒、或薄膜捲之10處，並將平均值作為表面粗糙度。

(3) 霧度(%) 從薄膜捲採取10片50mm×50mm之試驗片，使用日本電色工業公司製霧度計「NDH-2000」進行測定，並將 10片的平均值作為霧度。

(4) 缺點(個/mm² ) 使用KEYENCE公司製雷射對焦顯微鏡VK-9700(物鏡：10倍)，觀察於薄膜捲之10處(各面積1mm² )存在之高度或深度為1μm以上的缺點數(包括點狀與線狀)，並將平均值作為缺點數。

(5) 偏光度(%)、單體透射率(%) 從所獲得之偏光膜，以100m級距切斷成延伸方向50mm×寬度方向4m而製成條形樣品，使用大塚電子公司製RETS-1100A，於寬度方向以10mm節距測定整個寬度上的偏光度與單體透射率，將各自的平均值作為所獲得之偏光膜的偏光度與單體透射率。

(6) 顯示缺點(個/m² ) 在15000lx的環境下目視檢查長度1m×寬度1m之偏光膜，測定100μm以上之缺點數。

＜實施例1＞ (澆鑄滾筒的洗淨A) 目視觀察正使用於聚乙烯醇系薄膜之製造的澆鑄滾筒(直徑3m、寬度4.5m、表面鍍鉻)，在表面之一部分觀察到輕微的混濁。測定該部分的接觸角，如表1所示接觸角為100°，可預想到有有機系分解物附著。又，測定該部分的表面粗糙度，如表1所示表面粗糙度Rz為0.4μm，可預想到由於微量分解物附著而產生表面粗糙。 在澆鑄滾筒之未接觸薄膜的位置，於澆鑄滾筒之寬度方向設置2支峰值波長172nm之Xe₂ 準分子燈(長度2m)。燈與澆鑄滾筒之間的間隔為1mm。又，使用寬幅噴嘴於該間隙吹入氮氣。然後，使澆鑄滾筒以0.1m/分旋轉，同時在澆鑄滾筒整個寬度上照射紫外線，而進行表面的洗淨。 旋轉100轉後，目視觀察所獲得之澆鑄滾筒A的表面，結果未觀察到混濁，測定接觸角，如表1所示接觸角為80°，已復原至鍍鉻層本來的接觸角。又，測定表面粗糙度，結果如表1所示表面粗糙度Rz為0.1μm，已復原至購買時的表面平滑性。

(聚乙烯醇系薄膜A的製造) 加入重量平均分子量142000、皂化度99.8莫耳%之聚乙烯醇系樹脂1000kg、水2000kg、作為塑化劑之甘油100kg，邊攪拌邊升溫至150℃，進行濃度調整至樹脂濃度25%，獲得溶解均勻之聚乙烯醇系樹脂水溶液。然後，將該聚乙烯醇系樹脂水溶液供給雙軸擠壓機並消泡後，使水溶液溫度成為95℃，以吐出速度1.25 m/分從T型狹縫模吐出口流延至澆鑄滾筒A而製膜。 然後，將獲得之薄膜乾燥並進行熱處理後，將兩端部切開以使寬度成為4m，獲得聚乙烯醇系薄膜A(膜厚30μm)。 獲得之聚乙烯醇系薄膜A的特性如表1所示為良好。

(偏光膜A的製造) 將獲得之聚乙烯醇系薄膜A邊浸漬於水溫25℃之水槽中邊延伸至1.7倍。然後邊浸漬於由碘0.5g/L、碘化鉀30g /L組成之28℃水溶液中邊延伸至1.6倍，之後浸漬於硼酸40g/L、碘化鉀30g/L之組成之水溶液中(55℃)，同時邊進行單軸延伸至2.1倍邊進行硼酸處理。然後，以碘化鉀水溶液進行洗淨，並乾燥得到總延伸倍率5.8倍之偏光膜A。獲得之偏光膜A的偏光特性顯示於表2中。

＜實施例2＞ 使用峰值波長185nm之NeAr準分子燈，除此以外，與實施例1同樣得到澆鑄滾筒B、聚乙烯醇系薄膜B、偏光膜B。各特性如表1及表2所示。

＜實施例3＞ 使用峰值波長254nm之XeI準分子燈，除此以外，與實施例1同樣得到澆鑄滾筒C、聚乙烯醇系薄膜C、偏光膜C。各特性如表1及表2所示。

＜比較例1＞ 除未洗淨澆鑄滾筒以外，與實施例1同樣得到聚乙烯醇系薄膜、偏光膜。各特性如表1及表2所示。

【表1】

【表2】

實施例1~3之聚乙烯醇系薄膜，霧度與表面粗糙度小，且缺點少；反觀比較例1之聚乙烯醇系薄膜，霧度與表面粗糙度大，且缺點也多。可知藉由利用紫外線進行澆鑄滾筒之表面洗淨，可製造霧度與表面粗糙度小、且缺點少之聚乙烯醇系薄膜。 且，就由各個聚乙烯醇系薄膜獲得之偏光膜而言，可知實施例1~3的偏光膜相較於比較例1更優異。

上述實施例中顯示了本發明之具體形態，但上述實施例僅限於例示，並非作限定性解釋。對於該技術領域中具有通常知識者而言各種明顯的變形仍意欲包括於本發明之範圍內。

本發明之偏光膜，顯示缺點少，偏光性能亦優異，可理想地使用於攜帶式資訊終端機、個人電腦、電視、投影機、標示牌、電子桌上計算機、電子時鐘、文字處理機、電子紙、遊戲機、攝影機、照相機、相簿、溫度計、音響、汽車或機械類之測量儀器類等的液晶顯示裝置、太陽眼鏡、防眩眼鏡、立體眼鏡、穿戴式顯示器、顯示元件(CRT、LCD、有機EL、電子紙等)用反射減少層、光通信設備、醫療設備、建築材料、玩具等。

無

Claims (13)

1. 一種聚乙烯醇系薄膜之製造方法，係將聚乙烯醇系樹脂之水溶液流延至澆鑄模而製膜，並連續乾燥； 其特徵為： 藉由於澆鑄模之表面照射紫外線而將附著的有機物分解，並進行表面洗淨。
2. 如申請專利範圍第1項之聚乙烯醇系薄膜之製造方法，其中，該澆鑄模施有金屬鍍敷。
3. 如申請專利範圍第2項之聚乙烯醇系薄膜之製造方法，其中，該金屬為鉻金屬。
4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之聚乙烯醇系薄膜之製造方法，其中，該澆鑄模為澆鑄滾筒。
5. 如申請專利範圍第4項之聚乙烯醇系薄膜之製造方法，其中，該澆鑄滾筒於旋轉的同時連續地洗淨。
6. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之聚乙烯醇系薄膜之製造方法，其中，該紫外線為波長270nm以下之短波長紫外線。
7. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之聚乙烯醇系薄膜之製造方法，其中，該紫外線之光源為長度1m以上之燈管。
8. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之聚乙烯醇系薄膜之製造方法，其中，該澆鑄模表面與光源之間的間隙為3mm以下，並邊於該間隙吹入鈍性氣體邊進行紫外線照射。
9. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之聚乙烯醇系薄膜之製造方法，其中，該澆鑄模表面與水的接觸角為90°以下。
10. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之聚乙烯醇系薄膜之製造方法，其中，該澆鑄模之表面粗糙度Rz為0.3μm以下。
11. 一種聚乙烯醇系薄膜，係藉由如申請專利範圍第1至10項中任一項之聚乙烯醇系薄膜之製造方法而製成。
12. 如申請專利範圍第11項之聚乙烯醇系薄膜，其中，薄膜之厚度為5~30μm。
13. 一種偏光膜，由如申請專利範圍第11或12項之聚乙烯醇系薄膜構成。