JP2003230862A

JP2003230862A - 塗布方法

Info

Publication number: JP2003230862A
Application number: JP2002031319A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiko Tokimasa; 泰彦時政; Akio Ki; 昭男逵; Yoshinobu Katagiri; 良伸片桐
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2002-02-07
Filing date: 2002-02-07
Publication date: 2003-08-19

Abstract

(57)【要約】【課題】薄層塗布における塗布スジを解消する。【解決手段】上流側リップランドのランド長さを１ｍ
ｍ、下流側リップランドのランド長さを５０μｍとした
スロットダイ３２で、ウエブ１０上に薄膜塗布を実施し
た。ウエブ１０には、下引き層を塗設するかわりに、け
ん化処理を施したセルローストリアセテート基材に親水
性材料溶液を塗布液３３として配向膜を設けたものを用
いた。そのＲａ値は０．３μｍであった。さらに塗布工
程を設け、液晶性化合物のメチルエチルケトン溶液を湿
潤膜厚５μｍとなるように塗布した。液晶層の塗膜に塗
布スジは認められなかった。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、塗布方法に関する
ものであり、特に写真感光乳化剤、磁性液、反射防止や
防眩性などを付与する液、視野角拡大効果を付与する
液、カラーフィルター用顔料液、表面保護液等の塗布液
で、湿潤膜厚が２０μｍ以下の薄層をなす塗布液を、プ
ラスチックフィルムや紙、金属箔等の可撓性支持体（以
下、ウェブと称する）に塗布して、高機能性薄層フィル
ムを製造するための方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】前記したような高機能性薄層フィルム
は、一般には塗布ダイを用いるコーターにより塗布液を
ウェブ上に塗布させ、積層させて製造されており、近年
は高機能性フィルムの製造において所望の機能を発現さ
せるために、従来よりも薄い湿潤膜厚である２０μｍ以
下の領域の塗布方法に対する要求が高まっている。この
ような高機能性薄層フィルムは、求められる塗布膜厚精
度及び塗膜性状が厳しく、高精度な薄層塗布技術が求め
られる。塗膜を付与する対象であるウェブには、通常
は、凹凸が存在し、その上に形成した塗膜には塗布ムラ
が生じる。薄層塗布の場合は特に、形成される塗膜の膜
厚に対する塗布ムラの凹凸差の割合が大きくなるので、
塗布前のウェブ表面の凹凸について厳しい管理基準が必
要となる。

【０００３】また、塗布液を塗布する前に、ウェブの塗
布面に対し、下引き層を塗設することがある。これは、
塗布性を向上させたり、塗膜のウェブに対する密着性を
向上させることを主な目的としている。下引き層として
用いる塗布液は、主にゼラチン溶液やポリビニルアルコ
ール溶液である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、下引き
層の塗設は、密着性の向上の観点からは優れた方法であ
るものの、下引き層の塗布及び乾燥処理によって、ウェ
ブが、それ自体の厚みは変化しないが、トタンのように
波状変形してしまうことが多い。図７に、下引き層塗設
によるウェブの波状変形を示す。通常、塗布ムラやウェ
ブ変形は、ウェブ２の進行方向に平行あるいは斜めに、
通常その凹凸の長さは１０ｃｍ以上になることが多い。
しかもウェブ２の幅方向に複数みられる。なお、塗布の
対象であるウェブ表面に存在する凹凸は主に２種類あ
り、ひとつはウェブ自体の表面凹凸、もうひとつはウェ
ブへの下引き層の塗設に起因する凹凸である。ウェブ自
体の表面凹凸はもちろん無視できないものであるが、工
業的生産においては下引き層の塗設により発生する凹凸
のほうが一般に大きくなる。さらに、下引き層塗設によ
るものについては、塗設した下引き層自体の膜厚ムラ
と、上記の下引き層塗設によって引き起こされるウェブ
の変形がある。なお、いかなる理由であれ、ウェブに凹
凸が存在していることが塗布スジを引き起こす。塗布ス
ジを引き起こすか否かは、凹凸の絶対値に起因し、原因
にはよらない。

【０００５】また、スロットダイを用いる塗布、スライ
ドビード塗布などの塗布方法はいずれも、その塗布工程
において、ウェブに対して進行方向には張力がかかり、
一方で幅方向には張力がかからないために、前記のトタ
ン状変形を低減することはできない。また、バックアッ
プロールで支持したウェブ表面に塗布する場合、ウェブ
がラップされ大きな変形を矯正する効果はみられるが、
ラップ時にウェブにかかる張力はウェブ進行方向のみで
あるために、塗布する膜厚に近いオーダーの微妙なトタ
ン状変形を完全に解消するには至らない。したがって、
上記のような凹凸をその表面にもつウェブに薄膜塗布を
実施すると、その塗膜には塗布スジが発生してしまう。

【０００６】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、ウェブ上への連続的な薄膜塗布、特に湿潤膜厚
２０μｍ以下の、塗布スジのない薄膜を形成するための
塗布方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の塗布方法は、ウェブの表面に塗膜の湿潤膜
厚が２０μｍ以下となるように塗布液を塗布する方法に
おいて、表面粗さの中心線平均粗さ（以下、Ｒａと称す
る）が１μｍ以下のウェブ、あるいはＲａが１μｍより
大きい凹凸部分が進行方向において連続して１０ｃｍ未
満のウェブを用いることを特徴として構成されている。
ウェブ表面の粗さに関しては、Ｒａが０μｍ以上０．８
μｍ以下で、凹凸部分のウェブ進行方向において連続し
て５ｃｍ未満であることがさらに好ましい。また、ウェ
ブ上に塗布液を塗布するとき、ビードを形成させる塗布
方法に有効である。

【０００８】特にウェブの凹凸が前記下引き層の塗設が
原因で発生する場合には、以下のような対策が有効であ
る。下引き層を塗設することなく、ウェブと塗布液の密
着性を向上させるために、ウェブの塗布面に対し、けん
化処理、またはコロナ放電処理、グロー放電処理、プラ
ズマ処理のいずれかひとつの処理を行うことが有効であ
る。けん化処理は、アルカリ溶液を塗布する方法がさら
に好ましい。一方、ウェブの凹凸を削減するためには、
塗布液を塗布する前に、ウェブを加熱することが好まし
く、また、ウェブを挟み込んで支持しながら搬送する少
なくとも２つのヒートロールを塗布工程の前に設置し、
ウェブ両面からヒートロールで加熱しながら圧力をかけ
ることが好ましい。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の塗布方法では、公知の各
種溶媒を用いた塗布液を使用することができる。例えば
水、各種ハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル、
エステル、ケトンなどを単独あるいは複数混合して使用
することができる。

【００１０】また、可撓性支持体としては公知の各種ウ
ェブを用いることができる。一般的にはポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、
セルロースダイアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイ
ミド、ポリアミド等の公知の各種プラスチックフィル
ム、紙、紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン
ブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフ
ィン類を塗布またはラミネートした各種積層紙、アルミ
ニウム、銅、スズ等の金属箔等、帯状基材の表面に予備
的な加工層を形成させたもの、あるいはこれらを積層し
た各種複合材料が含まれる。さらにウェブには、光学補
償シート塗布液、反射防止フィルム塗布液、磁性塗布
液、写真感光性塗布液、表面保護、帯電防止あるいは滑
性用塗布液等がその表面に塗布され、乾燥された後、所
望する長さ及び幅に裁断される場合も含まれ、この代表
例としては、光学補償シート、反射防止フィルム等が挙
げられるが、これらに限定されない。

【００１１】また、本発明は湿潤膜厚が２５μｍ以下の
薄膜塗布を行う場合であれば有効であるが、特に２０μ
ｍ以下の精密塗布を行う系が好ましく、単層の１回塗布
のみならず、重層逐次塗布に対しても、特に各層の湿潤
膜厚が２５μｍ以下の薄膜塗布の場合に有効である。塗
布時の温度において塗布液は、粘度が０．５〜１００ｍ
Ｐａ・ｓ、また表面張力としては２０〜７０ｍＮ／ｍの
範囲が好ましい。塗布速度は、概ね１００ｍ／分以下の
領域で適用可能である。また、一般には塗布するのが困
難といわれる領域や湿潤膜厚がより薄い系、塗布粘度の
高い系ほど効果が大きい。

【００１２】本発明の塗布方法は、ウェブ上にビードを
介して塗布液が塗布される塗布方法に有効であり、その
塗布方法の例として、スロットダイを用いる塗布、スラ
イドビード塗布、カーテン塗布、ワイヤーバー塗布、グ
ラビア塗布に効果がある。

【００１３】塗膜の湿潤膜厚が２０μｍ以下の薄層塗布
が目的の場合、ウェブの表面の凹凸の測定方法に関して
は、留意が必要である。図１は、ウェブ表面の凹凸の接
触式による測定法を示しており、（Ａ）は本発明におけ
る、ウェブの表面粗さ測定法におけるサンプルの固定方
法を表す。（Ｂ）は従来より一般的に行われているサン
プルの固定方法を表している。（Ｂ）に示すように、一
般的な方法では、ウェブ２を、平板であるサンプル台３
の上に両面テープ４で密着させて固定し、図示しない計
測器のプローブ５の先端５ａでウェブ２の表面粗さを感
知する方法であるが、前記のとおり、下引き層塗設によ
るウェブ変形の場合はウェブ自体の厚みが変化してはい
ないので、凹凸が表面粗さとして認識されないという問
題がある。つまり、このサンプル固定方法ではウェブ２
の波状変形が矯正されてしまうことを意味する。

【００１４】一方（Ａ）については、その測定方法は前
記と同様であるが、サンプルの固定方法を以下のように
している。サンプルであるウェブ１０を、平板のサンプ
ル台１１に両面テープ４で固定せずに単に上にのせ、ウ
ェブ１０の進行方向に張力がかかるように接着テープ１
２をウェブ１０の上端部からサンプル台に渡して接着さ
せ固定する。これにより、実際の塗布工程と同様に、ウ
ェブの進行方向に張力をかけた状態となり、簡易的で比
較的正確に、塗布面であるウェブの表面の凹凸状態をプ
ローブ１３の先端１３ａで検知することができる。張力
の大きさは、実際の工程におけるウェブにかけている張
力と同程度とすることが測定の正確さを図る上で有効で
ある。なお、Ｒａ値はＪＩＳＢ０６０１−１９９４に
て求める。

【００１５】図２には、その他の実施形態であるウェブ
表面の凹凸の測定法を示す。これは、ウェブ１０の塗布
面の近傍にレーザー変位計２０を設置して、ウェブ１０
の表面をレーザー光がなぞるようにこれを移動させて、
表面におけるレーザーの反射光の変位を測定し、実質的
な形状を算出する方法である。また、ウェブ１０に蛍光
灯のような光を反射させて表面をみると、虹色の模様が
観察でき、これにより表面の凹凸の存在を確認できる。
したがって、レーザー変位計２０による測定の前にあら
かじめ、蛍光灯などを用いて変形の場所及びピッチを確
認して記し、その結果と粗さ測定データを併せること
で、Ｒａ値を求めることが好ましい。

【００１６】図３は本発明を実施した塗布ダイとしての
スロットダイを用いたコーターの断面図である。コータ
ー３０はバックアップロール３１に支持されて連続走行
するウェブ１０に対して、スロットダイ３２から塗布液
３３をビード３３ａにして塗布することにより、ウェブ
１０上に塗膜３３ｂを形成する。このとき形成するビー
ド３３ａを、ウェブ１０の幅方向に均一になるように留
意して、また、ウェブ１０とスロットダイ３２との隙間
やウェブ１０と図示しない減圧室の各プレートとの隙間
に変動がないように留意する。これは、隙間の変動があ
ると、スロットダイのポケット３４の内部で塗布液３３
が受ける圧力損失が幅方向で一定となるように流動する
が、前記のトタン状変形は凹凸の間隔がある程度狭いた
めに、ポケット３４の中だけでなくビード３３ａの内部
にも流動が発生し、これが塗布ムラを悪化させる一要因
になってしまうからである。

【００１７】スロットダイ３２の内部にはポケット３
４、スロット３５が形成されている。ポケット３４は、
その断面が曲線及び直線で構成されており、例えば図に
示すような略円形でもよいし、あるいは半円形でもよ
い。ポケット３４は、スロットダイ３２の幅方向にその
断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、そ
の有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするの
が一般的である。ポケット３４への塗布液の供給は、ス
ロットダイ３２の側面から、あるいはスロット開口部３
５ａとは反対側の面中央から行う。また、ポケット３４
には塗布液が漏れ出ることを防止する図示しない栓が設
けられている。

【００１８】スロット３５は、ポケット３４からウェブ
１０への塗布液の流路であり、ポケット３４と同様にス
ロットダイ３２の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ
側に位置する開口部３５ａは、一般に図示しない幅規制
板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ幅になるよ
うに調整する。このスロット３５のスロット先端におけ
る、バックアップロール３１のウェブ走行方向の接線と
のなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。

【００１９】スロット３５の開口部３５ａが位置するス
ロットダイ３２の先端リップ３６は先細り状に形成され
ており、その先端はランドと呼ばれる平坦部３７とされ
ている。このランドであって、スロットに対してウェブ
の進行方向の上流側を上流側リップランド、下流側を下
流側リップランドと称する。本発明においては、上流側
リップランド３７ａのウェブ走行方向における長さ（以
下、単にランド長さと称する）よりも、下流側リップラ
ンド３７ｂの長さが短いスロットダイ３２を用いること
により、より精巧なビード形状をつくることができた
が、本発明はこれに限定されるものではない。

【００２０】下引き層を塗設せずに塗布性及び塗膜の密
着性の向上を図るけん化処理に関しては、例えば光学補
償シートの製造等に利用できる、セルロースエステルフ
ィルムと親水性材料との密着性を改良するための一般的
な方法を用いることができる。例えば特開平８−９４８
３８号公報に記載されているような、ウェブをアルカリ
水溶液に浸漬する方法でもよい。ただし、この方法によ
ると、セルロースエステルフィルムの両面が同時にけん
化され、けん化の後、片面に親水性材料を設けてロール
状に巻き取ると、親水性材料面と他片面のけん化処理面
とが密着して張り付いてしまうと言う問題がある。これ
を防止するために、特願２０００−３６９００４号に記
載のセルロースエステルフィルムの片面のみのけん化処
理方法を用いてもよい。なお、本発明ではウェブ表面の
凹凸の有無が問題であるので、本発明の効果は、けん化
処理の方法にはよらない。

【００２１】けん化工程は、次層の塗布工程の前に連続
工程として組み入れることができる。けん化に用いるア
ルカリ溶液の塗布方法としては、ディップコーティング
法、スライドビードコーティング法、カーテンコーティ
ング法、エクストルージョンコーティング法、バーコー
ティング法、グラビアコーティング法を用いることがで
きる。次層としては、親水性材料が一般的である。

【００２２】図４には、本発明を実施した、ウェブにけ
ん化処理を施す場合の塗布工程を示す。ロール４０によ
って支持されながら搬送されるウェブ１０に対し、後に
塗布液を塗布する面のみにコーター４１によってアルカ
リ溶液４２を塗布する。アルカリ溶液４２を塗布したウ
ェブ１０の表面を洗浄ゾーン４３にて水で洗浄したあ
と、乾燥ゾーン４４を通して乾燥する。このウェブを、
親水性材料を塗布液３３として塗布工程に導入し、バッ
クアップロール３１で支持しながら搬送して塗布を行
う。ただし、けん化処理工程と親水性材料の塗布工程は
連続式に限られるものではなく、けん化処理を終えてか
ら、別製造ラインをもって親水性材料の塗布を行っても
よい。さらにその上に別の塗布液の層を設ける場合に
は、親水性材料の塗布工程を経た後のウェブを用いて、
この親水性材料層３３ｂの上にさらに別の塗布液を塗布
液３３として塗布する同様の塗布工程を設けるが、この
場合も、全塗布工程は連続式に限定されるものではな
く、それぞれ別製造ラインをもって実施してもよい。

【００２３】ウェブと塗布液の密着性を向上させるほか
の実施形態であるコロナ放電処理は、ウェブ表面に、コ
ロナ放電により単極性の電荷を付与するものである。コ
ロナ放電処理工程は、塗布工程に導入する前に行う。図
５は、本発明を実施したコロナ放電処理工程の断面図で
ある。コロナ放電を行う帯電器５０として、本発明では
一般に使用されているものを用いたが、これは、電極支
持フレーム５１と高圧電源５２とコロナ放電電極５３と
ウェブ１０を搬送するロール５４とから構成されてい
る。ロール５４にはアース棒５５が設置されており、コ
ロナ放電の際に接地極として作用する。ウェブ１０を、
パスロール５６で帯電器５０に搬送し、帯電器５０によ
ってその表面に電荷を付与した後、塗布工程へと導入し
て、バックアップロール３１で支持しながら搬送して塗
布を行う。コロナ処理を施した後、液晶化合物等の塗布
工程の前に、同様の塗布工程を設け、親水性材料を塗布
してもよい。なお、コロナ放電処理と同等の効果を発揮
する表面処理方法として、グロー放電処理、プラズマ処
理を施してもよい。

【００２４】また、塗布液を塗布する前にウェブ１０を
加熱することも表面の凹凸の削減には有効である。つま
り、その表面層を構成する物質の軟化点や熱変形温度あ
るいはガラス転移点付近まで加熱する。図示はしない
が、加熱は、所定の温度に設定した加熱ゾーンの中を１
分以上１０分以下の間、ロール搬送するのが好ましい。
表面層がセルローストリアセテートの場合、そのガラス
転移温度近傍である１１０℃〜１６０℃に加熱するのが
好ましい。

【００２５】加熱においては、図６に示すようにウェブ
１０を挟み込んで支持しながらこれを搬送する２つのヒ
ートロール６０を用い、これを塗布工程の前に設置して
加熱することも効果がある。この方法では、ウェブ１０
の両面への加圧により、加熱における変形矯正力が向上
する。ウェブを挟み込んで搬送するヒートロールは、ウ
ェブを劣化させることなく凹凸をとることができるなら
ば、この数に限定されず、また、加熱温度と時間につい
ては、ウェブを構成する各層に十分な熱が伝導されるよ
うに設定する。

【００２６】

【実施例】〔実施例１〕既存の光学補償シート製造工程
に、本発明の塗布装置及び塗布方法を組み入れ実施し
た。光学補償シート製造工程では、ウェブは送出機によ
り送られ、ガイドロールによって支持されながらラビン
グ処理ロールを経るが、この後、本発明の塗布工程を組
み入れる。その後、乾燥ゾーン、加熱ゾーン、紫外線ラ
ンプを通過し、巻き取り機によって巻き取るのが基本工
程である。

【００２７】スロットダイ３２は、上流側ランド長さが
１ｍｍ、下流側ランド長さが５０μｍで，スロット３５
の開口部３５ａのウェブ走行方向における長さが１５０
μｍ、スロット３５の長さが５０ｍｍのものを使用し
た。ランド３７とウェブ１０との隙間を５０μｍに設定
した。

【００２８】ウェブ１０には、厚み１００μｍのセルロ
ーストリアセテート基材（商品名；フジタック、富士写
真フイルム（株）製）を用いた。このウェブ１０に対
し、塗布液を塗布する前に次の２工程を順に経た。ま
ず、第１工程として、アルカリ処理ゼラチン５．４２重
量部、ホルムアルデヒド１．３６重量部、サリチル酸
１．６０重量部、アセトン３９１重量部、メタノール１
５８重量部、メチレンクロライド４０６重量部、水１２
重量部を混合して調整した下塗り液をウェブ１０の上に
２８ｍｌ／ｍ²で塗布し、乾燥した。第２工程として、
長鎖アルキル変性ポリビニルアルコール（商品名；ポバ
ールＭＰ−２０３、クラレ（株）製）の２重量％溶液を
２５ｍｌ／ｍ²で塗布し、６０℃で１分間乾燥して配向
膜用樹脂層を形成した。配向膜用樹脂層をあらかじめ形
成したウェブ１０を送り、配向膜用樹脂層の表面にラビ
ング処理を施して配向膜を形成し、そのまま塗布工程へ
搬送して塗布を実施した。なお、ラビング処理における
ラビングローラの回転周速を５．０ｍ／秒とし、ウェブ
１０に対する押しつけ圧力を９．８×１０^-3Ｐａに設定
した。

【００２９】得られたウェブ１０を、表面粗さ計測器
（商品名；サーフコムＳＪ−４００、ミツトヨ製）によ
りＲａ値を測定した。ただし、サンプル台１１へのウェ
ブ１０の固定方法は、塗布時における進行方向に張力が
かかるように、サンプル１０の上端部からサンプル台１
１に接着テープ１２をわたして固定した。この測定によ
り、ウェブ１０の進行方向に、Ｒａ値が１．０μｍ以上
の凹凸が認められないものを、次の塗布工程のウェブ１
０として用いることとした。

【００３０】塗布液３３には、ディスコティック化合物
ＴＥ−（１）とＴＥ−（２）の重量比率４：１の混合物
に、光重合開始剤（商品名；イルガキュア９０７、日本
チバガイギー（株）製）を１重量％添加した４０重量％
メチルエチルケトン溶液である、液晶性化合物を含む溶
液を用い、湿潤膜厚５μｍとなるように、５０ｍ／分で
搬送させたウェブ１０に対して塗布した。塗布液３３を
塗布したウェブ１０を、１００℃に設定した乾燥ゾー
ン、及び１３０℃に設定した加熱ゾーンを通過させ、そ
の表面の液晶層に紫外線ランプ（１６０Ｗ空冷メタルハ
ライドランプ、アイグラフィックス（株）製）を用いて
紫外線を照射した。塗膜３３ｂの塗布スジについては目
視にて検査した。この結果、本実施例１では、塗布スジ
がほとんど認められず、塗膜は良好であった。

【００３１】

【化１】

【００３２】〔比較例１〕実施例１の表面粗さ測定にお
いて、進行方向に１０ｃｍ以上続くＲａ値が１．２μｍ
の凹凸を多数もつものを、ウェブ１０として用いたほか
は実施例１と同様に実施した。得られた塗膜には塗布ス
ジが多数認められた。

【００３３】〔実施例２〕ウェブ１０として、膜厚８０
μｍのセルローストリアセテート（商品名；フジタッ
ク、富士写真フイルム（株）製）を使用し、塗布液３３
を塗布する前に、ウェブ１０の表面に、紫外線硬化性ハ
ードコート組成物（商品名；デソライトＺ−７５２６、
７２重量％、ＪＳＲ（株）製）２５０ｇをメチルエチル
ケトン６２ｇ及びシクロヘキサン８８ｇの混合溶媒に溶
解した液を８．６ｍｌ／ｍ²で塗布した。これを１２０
℃で５分間乾燥させ、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハラ
イドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫
外線を照射することにより前記紫外線硬化性組成物を硬
化させ、ウェブ１０の表面に厚さ２５μｍのハードコー
ト層を形成した。得られたウェブのＲａ値を、実施例１
と同様の方法により測定した。この測定により、ウェブ
の進行方向に、Ｒａ値が１．０μｍ以上の凹凸が認めら
れないものを、次の塗布工程のウェブ１０として用いる
こととした。

【００３４】塗布液３３として、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
９１ｇと酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布
液（デソライトＺ−７４０１、ＪＳＲ（株）製）２１８
ｇを、メチルエチルケトンとシクロヘキサンの重量比率
が４：６である混合溶液５２ｇに溶解し、この溶液に光
重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー
（株）製）１０ｇを加えたものを使用して、搬送速度３
０ｍ／分で走行させるハードコート層を形成したウェブ
１０の上に４．２ｍｌ／ｍ²で塗布した。そのほかの条
件については実施例１と同様に実施した。本実施例の結
果、塗布スジはほとんど認められず、塗膜は良好であっ
た。

【００３５】〔比較例２〕実施例１の表面粗さ測定にお
いて、進行方向に１０ｃｍ以上続くＲａ値が１．２μｍ
の凹凸を多数もつものをウェブ１０として用いたほかは
実施例２と同様に実施した。得られた塗膜３３ｂには塗
布スジが多数認められた。

【００３６】〔実施例３〕ウェブ１０として下引き層の
ない厚み１００μｍのセルローストリアセテート基材
（商品名；フジタック、富士写真フイルム（株）製）を
用いた。このウェブ１０に対し、以下の条件でけん化処
理を施した。１．５規定のＫＯＨ−イソプロピルアルコ
ール溶液を、ウェブ１０の上に２５ｍｌ／ｍ²で塗布し
た後、２５℃で５秒間乾燥した。表面を流水で１０秒間
洗浄し、２５℃の空気を吹き付けることで乾燥を行っ
た。次に配向膜用樹脂層を形成するため、長鎖アルキル
変性ポリビニルアルコール（商品名；ポバールＭＰ−２
０３、クラレ（株）製）の２重量％溶液を塗布液３３と
し、２５ｍｌ／ｍ²で塗布し、６０℃で１分間乾燥し
た。配向膜用樹脂層をあらかじめ形成したウェブ１０を
送り、配向膜用樹脂層の表面にラビング処理を施して配
向膜を形成した。ラビング処理におけるラビングローラ
の回転周速を５．０ｍ／秒とし、ウェブ１０に対する押
しつけ圧力を９．８×１０^-3Ｐａに設定した。なお、こ
のときのウェブ１０の表面粗さは、Ｒａ値で０．３μｍ
であった。

【００３７】得られたウェブ１０に対し、さらに同様の
塗布工程によって、実施例１と同様に、液晶性化合物の
メチルエチルケトン溶液を塗布し、乾燥工程を経て、光
学補償シートを得た。液晶層の塗膜の塗布スジを検査す
るとともに、ウェブ１０に対する塗膜の密着性を測定し
た。密着性については、得られた光学補償シートの任意
の部分を３０ｃｍ×２５ｃｍに裁断し、２５℃、相対湿
度６０％の条件下で１日放置した後、液晶性化合物を塗
布した面側に、幅１．２ｃｍ、長さ１０ｃｍの接着テー
プ（商品名；セロテープＮｏ．４０５、ニチバン（株）
製）を貼り付け、１秒間で剥がし取り、剥離の状態にて
評価した。本実施例では、得られた塗膜に塗布スジはほ
とんど認められず、密着性も良好であった。

【００３８】実施例３の結果より、Ｒａ値が１．０μｍ
以下のウェブの塗布面を、けん化処理によって作成する
ことにより、下引き層を塗設することなく塗膜の密着性
を向上し、塗布スジのない良好な塗膜を得ることができ
ることがわかった。

【００３９】〔実施例４〕ウェブ１０として下引き層の
ない厚み１００μｍのセルローストリアセテート基材
（商品名；フジタック、富士写真フイルム（株）製）を
用いた。このウェブ１０に対し、塗布液を塗布する前に
次の２工程を順に経た。まず、第１工程として、コロナ
放電処理を施した。コロナ放電処理は、ウェブ１０を８
０ｍ／分で搬送させ、帯電器５０の電極印加電圧を７ｋ
Ｖに設定し、塗布面に単極性の電荷を与えた。帯電器５
０には、直流電圧電源としてＴＲＥＫ社製のＭｏｄｅｌ
−１６６４を用いた。第２工程として長鎖アルキル変性
ポリビニルアルコール（商品名；ポバールＭＰ−２０
３、クラレ（株）製）の２重量％溶液を２５ｍｌ／ｍ²
で塗布し、６０℃で１分間乾燥して配向膜用樹脂層の塗
膜を形成した。配向膜用樹脂層をあらかじめ形成したウ
ェブ１０を送り、配向膜用樹脂層の表面にラビング処理
を施して配向膜を形成した。ラビング処理におけるラビ
ングローラの回転周速を５．０ｍ／秒とし、ウェブ１０
に対する押しつけ圧力を９．８×１０^-3Ｐａに設定し
た。なお、このときのウェブ１０の表面粗さは、Ｒａ値
で０．５μｍであった。

【００４０】表面をコロナ放電処理して得られたウェブ
１０に対し、さらに同様の塗布工程によって、実施例１
と同様に、液晶性化合物のメチルエチルケトン溶液を塗
布したあと加熱乾燥し、紫外線照射を実施した。塗布ス
ジの検査及びウェブ１０に対する塗膜の密着性を実施例
３と同様に実施した。得られた塗膜には、塗布スジがほ
とんど認められず、密着性も良好であった。

【００４１】実施例４の結果より、Ｒａ値が１．０μｍ
以下のウェブの塗布面に対し、コロナ放電処理を行うこ
とによって、下引き層を塗設することなく塗膜の密着性
を向上し、塗布スジのない良好な塗膜を得ることができ
ることがわかった。

【００４２】〔実施例５〕比較例２と同様のウェブ１０
を５０ｍ／分で搬送しながら１４０℃に設定した加熱ゾ
ーンを通過させることにより３分間熱処理を行い、室温
まで冷却した後、表面粗さ測定を行ったところ、表面に
はＲａ値１．０μｍ以上の凹凸はほとんどみられなかっ
た。このウェブ１０に対し、実施例１と同様に、液晶性
化合物のメチルエチルケトン溶液を塗布した。得られた
塗膜３３ｂに塗布スジはほとんど認められず、良好であ
った。

【００４３】〔実施例６〕比較例２と同様のウェブ１０
を、２個を１対として５対のヒートロール６０を１４０
℃に設定し、これらに挟み込んで、上下面から圧力がか
かるようにして加熱し、搬送した。室温まで冷却した
後、表面粗さ測定を行ったところ、表面にはＲａ値１．
０μｍ以上の凹凸はほとんどみられなかった。このウェ
ブ１０に対し、実施例１と同様に、液晶性化合物のメチ
ルエチルケトン溶液を塗布した。得られた塗膜に塗布ス
ジはほとんど認められず、良好であった。

【００４４】

【発明の効果】以上のように、本発明の塗布方法によ
り、様々な塗布系で塗布スジのない良好な塗膜を形成す
ることが可能になり、精密薄膜塗布を連続的に行うこと
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（Ａ）は本発明を実施したウェブの表面粗さ測
定用サンプル台の断面図であり、（Ｂ）は従来の表面粗
さ測定用サンプル台の断面図である。

【図２】本発明の別の実施形態であるウェブの表面粗さ
測定方法の断面図である。

【図３】本発明を実施したスロットダイの断面図であ
る。

【図４】本発明を実施したけん化処理工程の断面図であ
る。

【図５】本発明を実施したコロナ処理工程の断面図であ
る。

【図６】本発明を実施したヒートロール加熱工程の斜視
図である。

【図７】下引き層塗設によるウェブの波状変形の斜視図
である。

【符号の説明】

１０ウェブ３３塗布液３３ａビード４２アルカリ溶液５０帯電器６０ヒートロール

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ０５Ｄ 3/12 Ｂ０５Ｄ 3/12 Ｃ (72)発明者片桐良伸神奈川県南足柄市中沼210番地富士写真フイルム株式会社内Ｆターム(参考） 4D075 AC02 AC72 BB05X BB23X BB49X BB68X CA13 CA24 CA48 CB02 CB03 DA04 DB06 DB07 DB18 DB36 DB38 DB40 DB48 DB53 DC24 DC27 EA07 EA19 EB22

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ウェブの表面に、塗膜の湿潤膜厚が２０
μｍ以下となるように塗布液を塗布する方法において、
表面粗さの中心線平均粗さＲａが１μｍ以下の前記ウェ
ブ、あるいは前記Ｒａが１μｍより大きい凹凸部分が進
行方向において連続して１０ｃｍ未満の前記ウェブを用
いることを特徴とする塗布方法。
【請求項２】前記ウェブ上にビードを介して前記塗布
液を塗布することを特徴とする請求項１記載の塗布方
法。
【請求項３】前記ウェブに前記塗布液を塗布する前
に、前記ウェブの少なくとも塗布面に対しけん化処理を
行うことを特徴とする請求項１または２に記載の塗布方
法。
【請求項４】前記ウェブに前記塗布液を塗布する前
に、前記ウェブの少なくとも塗布面に対し、コロナ放電
処理、グロー放電処理、プラズマ処理のいずれかひとつ
の処理を行うことを特徴とする請求項１または２記載の
塗布方法。
【請求項５】前記ウェブに前記塗布液を塗布する前
に、前記ウェブの少なくとも塗布面を加熱することを特
徴とする請求項１ないし４いずれかひとつ記載の塗布方
法。
【請求項６】前記ウェブを挟み込んで支持しながら搬
送する少なくとも２つのヒートロールを塗布工程の前に
設置し、前記ウェブを前記ヒートロールで加熱すること
を特徴とする請求項１ないし５いずれかひとつ記載の塗
布方法。