TWI568681B - 高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法 - Google Patents
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Description
本發明關於一種高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法。
近年來,藉由中和反應造成的金屬氫氧化物析出反應等所生成的高密度污泥(HDS(High Density Solids)污泥)逐漸受到矚目。高密度污泥富沉降性與脫水性,被認為在減少污泥體積方面為有用的。高密度污泥一般而言藉著以下所述的方法生成。亦即將含鋁離子等無機系離子的原水,依序以不溶化處理槽及凝集沉澱槽作處理,將凝集沉澱槽所得到的分離污泥供給至污泥改質槽。然後,在污泥改質槽使鹼吸附在分離污泥而生成吸附污泥之後,使此吸附污泥與無機性排水中的無機系離子接觸,而在吸附污泥表面形成不溶化物。以如此的方式對原水作處理時,會生成高密度污泥。
為了生成這種高密度污泥,新建可生成高密度污泥的水處理裝置(以下稱為「高密度污泥生成型水處理裝置」)為理所當然的,另外還可考慮藉由改造含凝集沉澱槽而原本設置的水處理裝置,而改換成高密度污泥生成型水處理裝置。此時,若開始對高密度污泥生成型水處理裝置供給原水,則特別是在將原本設置的水處理裝置改換成高密度污泥生成型水處理裝置的情況,由於排出原水的工廠在全面運作的狀態,因此原水的流量或無機系離子濃度變高的情形很多。因此,在短期間起動高密度污泥生成型水處理裝置,亦即,在高密度污泥生成型水處理裝置中,在短期間提高高密度污泥的濃度變得極為重要。
在高密度污泥生成型水處理裝置中,在短期間提高高密度污泥的濃度的方法,已知在下述專利文獻1中有記載。在下述專利文獻1中提出了藉由在將原水供給至反應槽(相當於不溶化處理槽)之前,將含無機系離子源的化合物與不溶化劑添加至反應槽,不實施污泥的排泥而使污泥積蓄在固液分離槽,充分確保當作種晶的污泥之後,將原水供給至反應槽,可在短期間進行水處理裝置的起動。
專利文獻1:日本特開2006-272121號公報
但是在上述專利文獻1記載的方法中,從縮短高密度污泥生成型水處理裝置起動時間的觀點看來,仍然有改進的空間。
本發明鑑於上述狀況而完成,目的為提供一種高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法,可在短期間進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
本發明人等為了解決上述課題而潛心反覆研究。首先,在專利文獻1的起動方法中,由於不使固液分離槽內的分離污泥排泥而使其積蓄,因此槽內的污泥量非常多。所以,本發明人等考慮到可能是在起動初期階段,固液分離槽內過量存在的凝絮物,使得高密度污泥的改質效果被分散掉,因此在系統內循環的高密度污泥的比例不太會增加,無法在短期間提高該高密度污泥的濃度。於是,本發明人等進一步潛心反覆研究的結果,發現藉著在起動初期階段,將固液分離槽槽內的分離污泥區域的體積比例控制為一定值以下,可解決上述課題,而使本發明達到完成。
亦即本發明為一種高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法,其係在高密度污泥生成型水處理裝置的正式運轉之前,所進行的高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法,該高密度污泥生成型水處理裝置係具備:使所導入的含無機系離子排水中的無機系離子不溶化之不溶化處理槽;使由前述不溶化處理槽導入的排出水沉降分離成處理水與分離污泥之沉澱槽;連接前述沉澱槽與前述不溶化處理槽之分離污泥供給線;設置於前述分離污泥供給線上,使含有與前述無機系離子形成不溶化物的相對離子之含相對離子的物質吸附在由前述沉澱槽經過前述分離污泥供給線導入的分離污泥的表面,將所得到的吸附污泥供給至前述不溶化處理槽之污泥改質槽;將前述含相對離子的物質供給至前述污泥改質槽之含相對離子的物質供給手段;並藉由重覆進行包含下述的一連串步驟,生成高密度污泥,以進行正式運轉:使導入前述不溶化處理槽的含無機系離子排水與由前述污泥改質槽供給的前述吸附污泥接觸,使前述含無機系離子排水中的無機系離子與前述吸附污泥之前述相對離子反應而不溶化之不溶化步驟;使由前述不溶化處理槽導入的排出水,在前述沉澱槽沉降分離成處理水與分離污泥之沉降分離步驟;使由前述沉澱槽排出的前述分離污泥的至少一部分,經過前述分離污泥供給線供給至前述污泥改質槽之分離污泥供給步驟;使前述含相對離子的物質吸附在導入前述污泥改質槽的前述分離污泥的表面而生成吸附污泥之吸附污泥生成步驟;其特徵為:包含藉由重覆進行前述一連串步驟,而由前述裝置內的低密度污泥生成高密度污泥之高密度污泥生成步驟,在該高密度污泥生成步驟中,包含前述沉澱槽內的前述沉澱槽,污泥界面下方區域(分離污泥區域)的體積相對於槽內液體的液面下方區域(槽內液體區域)的體積的比例的污泥體積比例控制為30vol%以下之控制步驟。
依據此高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法,含無機系離子排水會被導入不溶化處理槽。另一方面,藉由含相對離子的物質供給手段,將含相對離子的物質供給至污泥改質槽,則含相對離子的物質會吸附在分離污泥的表面而生成吸附污泥,此吸附污泥會由污泥改質槽供給至不溶化處理槽。此時,在不溶化處理槽,藉由使含無機系離子排水與吸附污泥接觸,使含無機系離子排水中的無機系離子與吸附污泥的相對離子反應而不溶化。然後,來自不溶化處理槽的排出水被導入沉澱槽,沉降分離成分離污泥與處理水。於是,分離污泥的至少一部分由沉澱槽經過分離污泥供給線而供給至污泥改質槽,如上述般,在污泥改質槽生成吸附污泥,此吸附污泥由污泥改質槽供給至不溶化處理槽。如此一來,藉由重覆進行上述一連串步驟,會生成高密度污泥。
然後,重覆進行此一連串步驟,使高密度污泥生成並增加,同時將分離污泥區域的體積相對於槽內液體區域的體積的比例的污泥體積比例控制為30vol%以下。藉此,可抑制在沉澱槽中分離污泥中的高密度污泥比率變低,並可抑制過量的凝絮物所造成的高密度污泥的生成的遲緩。因此,依據本發明之高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法,可在短期間充分生成高密度污泥,其結果,可在短期間提高高密度污泥的濃度。亦即可在短期間進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。其結果,可及早進行起動後的正式運轉。
在上述起動方法中,係以將前述污泥體積比例控制為4~30vol%為佳。
此情況下,高密度污泥生成型水處理裝置之起動時,可在較短期間充分生成高密度污泥,能夠在較短期間提高高密度污泥的濃度。亦即,可在較短期間進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
上述起動方法進一步包含:將前述含無機系離子排水導入前述不溶化處理槽之排水導入步驟;將藉由前述沉澱槽中的沉降分離所得到的處理水排出之處理水排出步驟,而在前述含無機系離子排水為工廠排水的情況下特別有效。
這是因為在開始對高密度污泥生成型水處理裝置供給工廠排水時,排出工廠排水的工廠在全面運作的狀態,在工廠排水的流量或無機系離子濃度變高的情況下,藉由沉澱槽中的沉降分離所得到的處理水,其水質容易惡化,因此在短期間起動高密度污泥生成型水處理裝置的重要性更高。
採取沉澱槽中污泥濃度為C1(g/L)的分離污泥,置於量筒,靜置24小時,將污泥沉降分離後的污泥濃縮比例定為R,靜置24小時後沉降污泥區域中的污泥濃度定為C2(g/L),則以C2=C1/R表示。此處,濃縮比例R,係由量筒中污泥區域的容量比(靜置24小時後的污泥區域之容量/靜置24小時前的污泥區域的容量)所計算出的比例。本發明中的高密度污泥,在無機系離子為Al3+、Fe2+、Fe3+、Cr2+、F-、PO4 2-或SO4 2-的情況,是指C2為150g/L以上的污泥,在無機系離子為Cu2+、Mn2+、Ni2+或Zn2+的情況,是指C2為50g/L以上這種污泥。另外,污泥濃度的單位亦可不採用g/L而採用wt%。此情況下,本發明中的高密度污泥,在無機系離子為Al3+、Fe2+、Fe3+、Cr2+、F-、PO4 2-或SO4 2-的情況,是指C2為15wt%以上這種污泥,在無機系離子為Cu2+、Mn2+、Ni2+或Zn2+的情況,是指C2為5wt%以上這種污泥。另外,將不滿足上述條件的污泥定為低密度污泥。
依據本發明之高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法,可在短期間進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
以下針對本發明之第1及第2實施形態作詳細說明。
先針對本發明所關連之高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法之第1實施形態作詳細說明。
首先,在說明起動方法之前,使用圖1對於用於實施本發明所關連之高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法之高密度污泥生成型水處理裝置進行說明。圖1表示實施本發明所關連之高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法所用的高密度污泥生成型水處理裝置其中一例之流程圖。
如圖1所示般,高密度污泥生成型水處理裝置係具備:第1不溶化處理槽1、第2不溶化處理槽2、凝集處理槽3、沉澱槽4、污泥改質槽5。
第1不溶化處理槽1係與導入含有無機系離子的含無機系離子排水的導入線L1連接,第1不溶化處理槽1與第2不溶化處理槽2係藉由中間線L2而連接,第2不溶化處理槽2與凝集處理槽3係藉由中間線L3而連接,凝集處理槽3與沉澱槽4係藉由中間線L4而連接。
沉澱槽4與污泥改質槽5,係藉由將沉澱槽4所得到的分離污泥11供給至污泥改質槽5之分離污泥供給線L5而連接,污泥改質槽5與第1不溶化處理槽1,係藉由將污泥改質槽5所得到的吸附污泥供給至第1不溶化處理槽1之吸附污泥供給線L11而連接。
在沉澱槽4連接有將處理水排出的處理水排出線L7,由分離污泥供給線L5分支出將沉澱槽4所得到的分離污泥11排出的污泥排出線L6。在分離污泥供給線L5中,設置有污泥供給泵P2、流量計6及污泥濃度計7,在污泥排出線L6設置有排泥泵P1。此處,污泥供給泵P2與污泥濃度計7電連接,以污泥濃度計7測得的污泥濃度為基準,藉由污泥供給泵P2,可控制分離污泥11往污泥改質槽5的供給量。
第1不溶化處理槽1係透過線L8而與pH調整劑供給槽8連接,第2不溶化處理槽2係透過線L9而與pH調整劑供給槽9連接,凝集處理槽3係透過線L10而與凝集劑供給槽10連接。
可經過設置有閥V1的線L12,而將含與無機系離子形成不溶化物的相對離子的含相對離子的物質導入污泥改質槽5。另外,在本實施形態中,含相對離子的物質供給手段係由閥V1及線L12所構成。
接下來,針對高密度污泥生成型水處理裝置之運轉方法作說明。運轉方法,包含正式運轉步驟、與其之前所進行的起動步驟。
首先,針對高密度污泥生成型水處理裝置之起動步驟作說明。在本實施形態中,以隨著新建排出含無機系離子排水的工廠而新建高密度污泥生成型水處理裝置的情況為例作說明。
在隨著新建排出含無機系離子排水的工廠而新建高密度污泥生成型水處理裝置的情況,在起動步驟開始時,沉澱槽4中的污泥濃度為0g/L。因此,起動步驟,包含起動開始後所進行的污泥積蓄步驟、與其後所進行生成高密度污泥的高密度污泥生成步驟。
首先,針對污泥積蓄步驟作說明。在污泥積蓄步驟中,使含無機系離子排水(例如工廠排水)經過導入線L1導入第1不溶化處理槽1(排水導入步驟)。此處,含無機系離子排水中的無機系離子為例如金屬離子、氟離子、磷酸根離子、硫酸根離子、亞硫酸根離子、碳酸根離子的任一者皆可。就金屬離子而言,可列舉例如Fe2+、Fe3+、Cu2+、Mn2+、Cr2+、Co2+、Ni2+、Zn2+、Cd2+等重金屬離子、或Mg3+、Al3+等輕金屬離子等。此時,為了在凝集處理槽3中使污泥凝集,而由pH調整劑供給槽8經過線L8,將pH調整劑供給至第1不溶化處理槽1。第1不溶化處理槽1槽內液體的pH,通常適當地調整在pH4~12的範圍。此時的pH隨著所生成的不溶化物而不同。pH調整劑可採用例如苛性鈉、硫酸或鹽酸等。
來自第1不溶化處理槽1的排出水,會經過中間線L2而導入第2不溶化處理槽2。為了在凝集處理槽3中使污泥凝集,而由pH調整劑供給槽9經過線L9,將pH調整劑供給至第2不溶化處理槽2。此時,第2不溶化處理槽2槽內液體的pH通常與第1不溶化處理槽1相同,適當地調整在pH4~12的既定範圍。此時的pH隨著所生成的不溶化物而不同。例如Al3+、Fe3+、F-、SO4 2-調整在pH6.0~8.0的範圍;Cr2+、Cu2+、Mn2+、Ni2+、Zn2+調整在pH9.5~11.0的範圍;PO4 -調整在pH9.0~10.0的範圍。pH調整劑與第1不溶化處理槽1相同地,可採用苛性鈉、硫酸等。
來自第2不溶化處理槽2的排出水,會經過中間線L3導入凝集處理槽3。由凝集劑供給槽10經過線L10,將凝集劑供給至凝集處理槽3。凝集劑只要是具有凝集機能之物,則不受特別限制,而一般而言可使用高分子凝集劑。高分子凝集劑可適當採用非離子系高分子凝集劑、陰離子系高分子凝集劑、陽離子系高分子凝集劑之任一者,而例如在含無機系離子排水為含鋁離子的排水的情況下,以非離子系高分子凝集劑、陰離子系高分子凝集劑作為上述高分子凝集劑為有效的。
來自凝集處理槽3的排出水,會經過中間線L4導入沉澱槽4,在沉澱槽4沉降分離成處理水與分離污泥11(沉降分離步驟)。處理水會經過處理水排出線L7而由沉澱槽4排出(處理水排出步驟)。
在本實施形態中,隨著新建排出含無機系離子排水的工廠而新建高密度污泥生成型水處理裝置。因此,高密度污泥開始生成不久,工廠還在剛新建完成的階段,由工廠排出的含無機系離子排水的流量及無機系離子的濃度很低。因此,沉澱槽4是在幾乎沒有分離污泥11的狀態。因此,暫時不使排泥泵P1運轉,而使分離污泥11積蓄。
不久之後,工廠成為全面運作的狀態,由工廠排出的含無機系離子排水的流量及無機系離子的濃度變大,則沉澱槽4中的分離污泥11的量徐緩增加。
在上述污泥積蓄步驟中,測定沉澱槽4內的污泥界面S下方區域(分離污泥區域)R2的體積相對於沉澱槽4槽內液體的液面下方區域(槽內液體區域)R1的體積的比例(以下稱為「污泥體積比例」)(參照圖2)。另外,污泥界面S是指分離污泥區域R2的最上面,分離污泥區域R2包含分離污泥11。
此處,上述污泥體積比例可採用以下方式作判定。亦即,首先預先確認沉澱槽4的槽內液體區域R1的體積與沉澱槽4的槽內液體水面在內壁面的位置的關係。只要確認了此關係,則藉著確認槽內液體中的分離污泥區域R2的污泥界面S的位置、以及槽內液體的液面L的位置,即可判定上述污泥體積比例。分離污泥區域R2的污泥界面S的位置,可藉由例如設置於沉澱槽4的污泥界面計(未圖示)作確認。
然後,當上述污泥體積比例到達5~15vol%的既定值,則開始污泥循環步驟,亦即高密度污泥生成步驟。
具體而言,分離污泥11的至少一部分,係藉由污泥供給泵P2,由沉澱槽4經過分離污泥供給線L5供給至污泥改質槽5(分離污泥供給步驟)。分離污泥11只要將其至少一部分供給至污泥改質槽5即可,可因應必要僅供給一部分,或可全部供給。
由含相對離子的物質供給槽(未圖示)經過線L12,將含相對離子的物質導入污泥改質槽5。藉此,使含相對離子的物質中的相對離子吸附在導入污泥改質槽5的分離污泥11的表面而生成吸附污泥(吸附污泥生成步驟)。含相對離子的物質只要含可與無機系離子形成不溶化物的相對離子即可。在無機系離子為例如金屬離子的情況下,相對離子可採用氫氧根離子。此情況下,含相對離子的物質可採用含氫氧根離子的物質,例如Ca(OH)2或NaOH等。另外,含相對離子的物質還可採用含氯離子的物質,例如CaCl2。在無機系離子為氟離子的情況下,相對離子除了氫氧根離子以外,還可使用Ca2+等。在無機系離子為磷酸根離子、硫酸根離子、亞硫酸根離子的情況下,可使用Fe2+、Fe3+或Ca2+等。如此一來,所生成的吸附污泥會由污泥改質槽5經過吸附污泥供給線L11而供給至第1不溶化處理槽1。然後,在第1不溶化處理槽1使含無機系離子排水與吸附污泥接觸。藉此,使含無機系離子排水中的無機系離子與吸附污泥的相對離子反應而不溶化(不溶化步驟)。此時,為了使無機系離子與相對離子反應而不溶化,通常將第1不溶化處理槽1槽內液體的pH適當地調整在pH4~12的既定範圍,情況隨著所生成的不溶化物而不同。此時,pH如上述般,可藉由從pH調整劑供給槽8經過線L8供給pH調整劑而調整。pH調整劑可採用上述苛性鈉、硫酸或鹽酸等。
來自第1不溶化處理槽1的排出水,會經過中間線L2導入第2不溶化處理槽2。在第2不溶化處理槽2中,由pH調整劑供給槽9經過線L9供給pH調整劑。此時,第2不溶化處理槽2槽內液體的pH通常與第1不溶化處理槽1相同地,因應所生成的不溶化處理物而適當地調整在pH4~12的既定範圍。pH調整劑可採用上述苛性鈉、硫酸等。
來自第2不溶化處理槽2的排出水,會經過中間線L3導入凝集處理槽3。由凝集劑供給槽10經過線L10,將凝集劑供給至凝集處理槽3。凝集劑可採用上述凝集劑。
來自凝集處理槽3的排出水,會經過中間線L4導入沉澱槽4,在沉澱槽4沉降分離成處理水與分離污泥11(沉降分離步驟)。處理水會經過處理水排出線L7而由沉澱槽4排出(處理水排出步驟)。
然後如上述般,分離污泥11的至少一部分會藉由污泥供給泵P2,由沉澱槽4經過分離污泥供給線L5而供給至污泥改質槽5(分離污泥供給步驟)。
藉由重覆進行上述一連串步驟,而生成高密度污泥。
接下來,繼續使高密度污泥的生成、增加,同時設定控制目標值以使上述污泥體積比例成為30vol%以下,而開始進行控制(參照圖2)。
此時,預先在5~15vol%的範圍內決定既定值,其後續步驟會依照上述污泥體積比例的控制目標值小於、同等、大於上述既定值而有所不同。
在高密度污泥生成步驟開始後,使排泥泵P1運轉,經過污泥排出線L6開始排泥,以減少沉澱槽4中的污泥量。然後,當上述污泥體積比例到達控制目標值,則藉由調整排泥泵P1的輸出以限制排泥量,而將污泥體積比例控制為控制目標值。
在高密度污泥生成步驟之開始後,使排泥泵P1運轉,經過污泥排出線L6開始排泥,藉由調整排泥泵P1的輸出以限制排泥量,而將污泥體積比例控制為控制目標值。
在高密度污泥生成步驟開始後,不使排泥泵P1運轉,使得經過污泥排出線L6的排泥不開始進行。如此一來,污泥量會增加,上述污泥體積比例到達控制目標值。在此階段,使排泥泵P1運轉,經過污泥排出線L6而開始排泥,在沉澱槽4中少量逐漸進行排泥。然後,藉由調整排泥泵P1的輸出以限制排泥量,而將上述污泥體積比例控制為控制目標值。
此時,排泥量係藉由作業員監測污泥界面計(未圖示)或污泥濃度計7等同時使泵P1輸出而調整。另外,排泥量係依照經驗預先確認在起動步驟中每單位時間的排泥量(排泥速度),以該排泥速度與排泥時間為基準而決定即可。
為了將上述污泥體積比例控制為30vol%以下,具體而言,只要藉由設置於沉澱槽4的污泥界面計監測污泥界面S的位置,當污泥界面S的位置到達既定位置,則藉由排泥泵P1使分離污泥11經過分離污泥供給線L5及污泥排出線L6排出即可。
如上述般,藉著控制污泥體積比例,可抑制在沉澱槽4中分離污泥11中的高密度污泥的比率變低,並可抑制過量的凝絮物造成的高密度污泥的生成遲緩。因此,依據高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法,可在短期間充分生成高密度污泥,其結果,可在短期間提高高密度污泥的濃度。亦即可在短期間進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。其結果,可及早進行起動後的正式運轉。另外,以使沉澱槽4內的污泥體積比例超過體積的30vol%的方式進行控制,則無法在短期間充分生成高密度污泥,提高高密度污泥的濃度明顯需要花費時間。
另外,在本實施形態,起動步驟的初期所進行的污泥積蓄步驟中,使污泥增加至暫定的污泥量(例如5~15vol%)之後,進行高密度污泥生成步驟。藉此,在高密度污泥生成步驟使污泥循環的過程中,即使從污泥改質槽5、第1不溶化處理槽1、第2不溶化處理槽2及凝集處理槽3將污泥取出,最終返回沉澱槽4的污泥量減少,仍然能夠確保高密度污泥的生成所需要的污泥量。
污泥體積比例係以控制為4~30vol%為佳,控制為10~20vol%為較佳。此情況下,在高密度污泥生成型水處理裝置起動時,可在較短期間充分提高高密度污泥濃度。亦即,可在較短期間進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。其結果,可更及早進行起動後的運轉。
如以上所述般,起動步驟結束。此處,起動步驟結束與否,係依照高密度污泥是否充分生成而定。然後,高密度污泥的生成是否充分的判定基準,會隨著作為處理對象的排水中的無機系離子的種類而不同。亦即,在無機系離子為Al3+、Fe2+、Fe3+、Cr2+、F-、PO4 2-或SO4 2-的情況下,該等容易使污泥濃度上昇。因此,在污泥濃度到達150~350g/L(適合為200~300g/L)的範圍內任意設定的數值的時間點,判定為起動步驟結束。另一方面,在無機系離子為Cu2+、Mn2+、Ni2+、Zn2+的情況下,該等難以使污泥濃度上昇。因此,在污泥濃度到達50~150g/L(適合為80~120g/L)的範圍內任意設定的數值的時間點,判定為起動步驟結束。另外,高密度污泥是否充分生成的判定基準隨著無機系離子的種類而不同,是因為由無機系離子所產生的高密度化的難易度,亦即改質的難易度的不同所造成。另外,以污泥濃度為基準進行高密度污泥生成與否的判定,其理由如以下所述。亦即,由於在廠房難以進行污泥結晶構造的確認或污泥的乾燥等,因此並不直接測定污泥密度而測定污泥濃度,而以污泥濃度為基準來推測污泥的充分高密度化,可使得起動步驟結束的判定變得容易。
如以上所述般,當起動步驟結束,則進行正式運轉步驟。在正式運轉步驟,在沉澱槽4的分離污泥11中會充分生成高密度污泥。因此,沉澱槽4中上述污泥體積比例沒有必要控制為30vol%以下,故亦可控制為超過30vol%的污泥體積比例。此情況下,起動步驟結束後,有必要增加沉澱槽4中的污泥量。但是,在正式運轉步驟中,沉澱槽4中的污泥體積比例通常為50vol%以下。另外還可在起動後控制為30vol%以下污泥體積比例,而此情況的污泥體積比例與起動步驟時的污泥體積比例相同。
接下來,針對本發明所關連之高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法之第2實施形態作詳細說明。在本實施形態中,針對高密度污泥生成型水處理裝置為在不具有污泥改質槽5的水處理裝置(以下稱為「原本設置的水處理裝置」)設置污泥改質槽5的情況,亦即將原本設置的水處理裝置加以改造的情況作說明。另外,本實施形態中,與第1實施形態相同或同等構成要素,係採用相同符號並省略重複的說明。
在將原本設置的水處理裝置改造成高密度污泥生成型水處理裝置的情況,使原本設置的水處理裝置持續進行水處理運轉,同時在分離污泥供給線L5上設置污泥改質槽5,當設置結束,則來自沉澱槽4的分離污泥11會供給至污泥改質槽5,而開始污泥的高密度化。亦即開始起動步驟。此時,將排水供給至原本設置的水處理裝置的工廠,通常是在全面運作的狀態。因此,高密度污泥開始生成,同時由工廠排出的含無機系離子排水的流量及無機系離子的濃度變大,在沉澱槽4中也大多存在著足量的分離污泥11。具體而言以20~50vol%的污泥體積比例存在分離污泥11的情形很多。
所以,本實施形態在起動步驟不含污泥積蓄步驟這點,與第1實施形態不同。亦即,在本實施形態中,不使污泥積蓄在沉澱槽4,以使沉澱槽4中上述污泥體積比例為30vol%以下的方式開始進行控制。此處,在起動步驟開始時,在沉澱槽4中上述污泥體積比例大於30vol%的情況下,使排泥泵P1運轉以減少污泥量。然後,在上述污泥體積比例到達30vol%以下的控制目標值之後,將上述污泥體積比例控制為控制目標值。另一方面,起動步驟開始時,在沉澱槽4中上述污泥體積比例為30vol%以下的情況,因應必要使排泥泵P1運轉以增加或減少污泥量。然後,在上述污泥體積比例到達30vol%以下的控制目標值之後,將上述污泥體積比例控制為控制目標值。
本發明並不受上述實施形態限定。例如在上述實施形態中設置有凝集處理槽3,然而也可省略凝集處理槽3。
以下列舉實施例,較具體地對本發明的內容作說明,而本發明並不受下述實施例限定。
如以下所述般,進行圖1所示的高密度污泥生成型水處理裝置之起動。另外,所採用的高密度污泥生成型水處理裝置,在沉澱槽4不存在分離污泥11,亦即沉澱槽4中的污泥體積比例為0%。
首先,作為處理對象的含無機系離子排水採用鋁離子濃度為1000mg/L的鋁排水(以下稱為「Al排水」),使其經過導入線L1而導入第1不溶化處理槽1。
此時適當地供給硫酸以調整pH值,使第1不溶化處理槽1槽內液體中的pH值成為6.5左右。但是在第1不溶化處理槽1中,pH會大幅變動。然後,來自第1不溶化處理槽1的排出水會經過中間線L2導入第2不溶化處理槽2。由pH調整劑供給槽9經過線L9,適當地將作為pH調整劑的苛性鈉、硫酸供給至第2不溶化處理槽2,將第2不溶化處理槽2槽內液體中的pH值調整成7.0。
來自第2不溶化處理槽2的排出水會經過中間線L3而導入凝集處理槽3。由凝集劑供給槽10經過線L10,將高分子凝集劑供給至凝集處理槽3。
來自凝集處理槽3的排出水會經過中間線L4導入沉澱槽4,而在沉澱槽4沉降分離成處理水與分離污泥。處理水會經過處理水排出線L7而由沉澱槽4排出。如此一來,污泥積蓄在沉澱槽4。
然後在污泥積蓄的時候,測定沉澱槽4中的污泥體積比例。
此處污泥體積比例,係如以下的方式判定。亦即,首先預先確認沉澱槽4的槽內液體區域R1的體積與沉澱槽4的槽內液體水面在內壁面的位置的關係,藉著確認槽內液體中的分離污泥區域R2的污泥界面S的位置、以及槽內液體的液面L的位置,判定上述污泥體積比例。分離污泥區域R2的污泥界面S的位置,係藉由設置於沉澱槽4的污泥界面計(未圖示)作確認。
然後,在本實施例中,首先使污泥積蓄至10vol%,當上述污泥體積比例到達10vol%,則開始污泥循環步驟,亦即高密度污泥生成步驟。
具體而言,首先藉由污泥供給泵P2,使分離污泥的一部分由沉澱槽4經過分離污泥供給線L5供給至污泥改質槽5。另一方面,在污泥改質槽5中,經過線L12,導入含相對離子的物質的氫氧化鈣。然後使導入的氫氧化鈣吸附在分離污泥11的表面,而生成吸附污泥。
接下來,將吸附污泥由污泥改質槽5經過吸附污泥供給線L11供給至第1不溶化處理槽1,在第1不溶化處理槽1使Al排水與吸附污泥接觸。藉此,使Al排水中的鋁離子與吸附污泥的相對離子的氫氧根離子反應而不溶化。此時,pH係藉由從pH調整劑供給槽8經過線L8供給作為pH調整劑的硫酸而調整。
來自第1不溶化處理槽1的排出水,會經過中間線L2而導入第2不溶化處理槽2。由pH調整劑供給槽9經過線L9將作為pH調整劑的苛性鈉及硫酸供給至第2不溶化處理槽2。
來自第2不溶化處理槽2的排出水,會經過中間線L3導入凝集處理槽3。由凝集劑供給槽10,將高分子凝集劑供給至凝集處理槽3。
來自凝集處理槽3的排出水會經過中間線L4而導入沉澱槽4,在沉澱槽4沉降分離成處理水與分離污泥11。處理水會經過處理水排出線L7而由沉澱槽4排出。
藉由重覆進行上述一連串步驟,而生成高密度污泥。另一方面,在污泥體積比例到達10vol%之後,在沉澱槽4進行排泥,使沉澱槽4中的污泥體積比例減少至3vol%。
其後,在沉澱槽4中進行排泥,將上述污泥體積比例控制為3vol%,同時使污泥高密度化。
此處,沉澱槽4中上述污泥體積比例,係如以下方式判定。亦即,預先確認導入沉澱槽4的槽內液體的體積與沉澱槽4的槽內液體水面在內壁面的位置的關係,以此關係為基準,藉著確認槽內液體中的分離污泥區域R2的污泥界面S的位置、以及槽內液體區域R1之液面L的位置,判定槽內液體區域R1中的分離污泥區域R2的體積的比例的污泥體積比例。
沉澱槽4中上述污泥體積比例的控制,具體而言如以下所述方式進行。亦即,藉由調整排泥泵P1的輸出以限制排泥量,使污泥體積比例成為控制目標值而進行。另外,使用設置於沉澱槽4的污泥界面計監測污泥界面S的位置,在確認了污泥界面S的位置大幅遠離上述污泥體積比例為3vol%的位置的情況下,以適當人力調整污泥的排出量。
藉著以上的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將污泥體積比例控制為4vol%以外,係以與實施例1同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將污泥體積比例控制為6vol%以外,係以與實施例1同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了在污泥體積比例到達10vol%之後,將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為10vol%以外,係以與實施例1同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了在污泥體積比例到達10vol%之後,繼續在沉澱槽4使污泥的量增加,在沉澱槽4中的污泥體積比例到達15vol%之後,將污泥體積比例控制為15vol%以外,係以與實施例1同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了在污泥體積比例到達10vol%之後,繼續在沉澱槽4使污泥的量增加,在污泥體積比例到達20vol%之後,將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為20vol%以外,係以與實施例1同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了在污泥體積比例到達10vol%之後,繼續在沉澱槽4使污泥的量增加,在污泥體積比例到達25vol%之後,將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為25vol%以外,係以與實施例1同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了在污泥體積比例到達10vol%之後,繼續在沉澱槽4使污泥的量增加,在污泥體積比例到達30vol%之後,將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為30vol%以外,係以與實施例1同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了在污泥體積比例到達10vol%之後,繼續在沉澱槽4中使污泥的量增加,在污泥體積比例到達32vol%之後,將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為32vol%以外,係以與實施例1同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了在污泥體積比例到達10vol%之後,繼續在沉澱槽4中使污泥的量增加,在污泥體積比例到達50vol%之後,將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為50vol%以外,係以與實施例1同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
對於實施例1~8及比較例1、2的各個起動方法,在間隔1天後將沉澱槽4中的分離污泥11(污泥濃度C1)取出並置於量筒,測量量筒中污泥區域的容量比(靜置24小時後污泥區域的容量/靜置24小時前污泥區域的容量)以作為靜置24小時後污泥的濃縮比例R。算出靜置24小時後的污泥濃度C2(=C1/R)。此時,污泥濃度C1係以污泥濃度計7作測定。然後,分別測定實施例1~8及比較例1、2中的污泥濃度C2到達300g/L的時間。將結果揭示於表1。
另外,圖3表示關於實施例4及比較例1,沉澱槽4中的污泥濃度的逐時變化的結果之圖形。
如表1所示般,可知實施例1~8的起動方法與比較例1~2的起動方法相比,污泥濃度到達300g/L的時間顯著縮短。此結果也可由觀察圖3而明白。亦即,若將實施例4的折線圖與比較例1的折線圖作比較,則可知由測定開始之後,隨著時間經過,實施例4的折線圖與比較例1的折線圖差距大幅拉開。由此結果可知,與比較例1相比,實施例4的污泥濃度在較短期間到達300g/L。另外,在到達150g/L 、200g/L的期間亦觀察到與上述同樣的傾向。此處,污泥濃度150g/L,係充分生成高密度污泥的基準污泥濃度。
由表1所示的結果可知,特別是在將沉澱槽4的污泥體積比例定為5vol%~25vol%時,污泥濃度到達300g/L的時間更顯著地縮短。
所以確認了依據本發明,可在短期間進行以Al排水作為處理對象的高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將作為處理對象的含無機系離子排水由鋁排水變更為含鐵離子的排水(鐵離子(Fe3+)濃度:1000mg/L),將供給至污泥改質槽5的含相對離子的物質、與鐵離子形成不溶化物的相對離子、第1不溶化處理槽1中的pH及第2不溶化處理槽2中的pH如表2所示般作設定,將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為15vol%以外,係以與實施例5同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為35vol%以外,係以與實施例9同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將作為處理對象的含無機系離子排水由鋁排水變更為含鉻離子的排水(鉻離子(Cr2+)濃度:1000mg/L),將供給至污泥改質槽5的含相對離子的物質、與鉻離子形成不溶化物的相對離子、第1不溶化處理槽1中的pH及第2不溶化處理槽2中的pH如表2所示般作設定,將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為13vol%以外,係以與實施例5同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為33vol%以外,係以與實施例10同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將作為處理對象的含無機系離子排水由鋁排水變更為含氟離子的排水(氟離子(F-)濃度:1000mg/L),將供給至污泥改質槽5的含相對離子的物質、與氟離子形成不溶化物的相對離子、第1不溶化處理槽1中的pH及第2不溶化處理槽2中的pH如表2所示般作設定,將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為10vol%以外,係以與實施例4同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為32vol%以外,係以與實施例11同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將作為處理對象的含無機系離子排水由鋁排水變更為含磷酸根離子的排水(磷酸根離子(PO4 2-)濃度:1000mg/L),將供給至污泥改質槽5的含相對離子的物質、與磷酸根離子形成不溶化物的相對離子、第1不溶化處理槽1中的pH及第2不溶化處理槽2中的pH如表2所示般作設定,將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為10vol%以外,係以與實施例4同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為33vol%以外,係以與實施例12同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將作為處理對象的含無機系離子排水由鋁排水變更為含硫酸根離子的排水(硫酸根離子(SO4 2-)濃度;1000mg/L),將供給至污泥改質槽5的含相對離子的物質、與硫酸根離子形成不溶化物的相對離子、第1不溶化處理槽1中的pH及第2不溶化處理槽2中的pH如表2所示般作設定,將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為10vol%以外,係以與實施例4同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為33vol%以外,係以與實施例13同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
對於實施例9~13及比較例3~7的各個起動方法,在間隔1天後將沉澱槽4中的分離污泥11(污泥濃度C1)取出並置於量筒,測量量筒中污泥區域的容量比(靜置24小時後的污泥區域的容量/靜置24小時前的污泥區域的容量)以作為靜置24小時後污泥的濃縮比例R,算出靜置24小時後的污泥濃度C2(=C1/R)。此時,污泥濃度C1係以污泥濃度計7作測定。然後,分別測定實施例9~13及比較例3~7中的污泥濃度C2到達300g/L的時間。將結果揭示於表2。
另外,圖4表示關於實施例9及比較例3,沉澱槽4中的污泥濃度的逐時變化的結果之圖形、圖5表示關於實施例10及比較例4,沉澱槽4中的污泥濃度的逐時變化的結果之圖形、圖6表示關於實施例11及比較例5,沉澱槽4中的污泥濃度的逐時變化的結果之圖形、圖7表示關於實施例12及比較例6,沉澱槽4中的污泥濃度的逐時變化的結果之圖形、圖8表示關於實施例13及比較例7,沉澱槽4中的污泥濃度的逐時變化的結果之圖形。
如表2所示般,可知與比較例3~7的起動方法相比,實施例9~13的起動方法污泥濃度到達300g/L的時間顯著縮短。此結果也可由觀察圖4~圖8而明白。亦即,例如將實施例9的折線圖與比較例3的折線圖作比較,則可知由測定開始之後,隨著時間經過,實施例9的折線圖與比較例3的折線圖差距大幅拉開。由此結果可知,與比較例3相比,實施例9的污泥濃度會在較短期間到達300g/L。另外,在到達150g/L、200g/L的期間亦觀察到與上述同樣的傾向。此結果,在實施例10~13的起動方法中亦為相同。
所以確認了依據本發明,以Fe排水、Cr排水、F排水、PO4排水、SO4排水作為處理對象的高密度污泥生成型水處理裝置之起動皆可在短期間進行。
除了將作為處理對象的含無機系離子排水由鋁排水變更為含銅離子的排水(銅離子(Cu2+)濃度:1000mg/L),將供給至污泥改質槽5的含相對離子的物質、與銅離子形成不溶化物的相對離子、第1不溶化處理槽1中的pH及第2不溶化處理槽2中的pH如表3所示般作設定,將上述污泥體積比例控制為12vol%以外,係以與實施例5同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將污泥體積比例控制為33vol%以外,係以與實施例14同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將作為處理對象的含無機系離子排水由鋁排水變更為含錳離子的排水(錳離子(Mn2+)濃度:1000mg/L),將供給至污泥改質槽5的含相對離子的物質、與錳離子形成不溶化物的相對離子、第1不溶化處理槽1中的pH及第2不溶化處理槽2中的pH如表3所示般作設定,將上述污泥體積比例控制為12vol%以外,係以與實施例5同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將污泥體積比例控制為32vol%以外,係以與實施例15同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置的之起動。
除了將作為處理對象的含無機系離子排水由鋁排水變更為含鎳離子的排水(鎳離子(Ni2+)濃度:1000mg/L),將供給至污泥改質槽5的含相對離子的物質、與鎳離子形成不溶化物的相對離子、第1不溶化處理槽1中的pH及第2不溶化處理槽2中的pH如表3所示般作設定,將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為12vol%以外,係以與實施例5同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為33vol%以外,係以與實施例16同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將作為處理對象的含無機系離子排水由鋁排水變更為含鋅離子的排水(鋅離子(Zn2+)濃度:1000mg/L),將供給至污泥改質槽5的含相對離子的物質、與鋅離子形成不溶化物的相對離子、第1不溶化處理槽1中的pH及第2不溶化處理槽2中的pH如表3所示般作設定,將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為12vol%以外,係以與實施例5同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
除了將沉澱槽4中的污泥體積比例控制為33vol%以外,係以與實施例17同樣的方式,進行高密度污泥生成型水處理裝置之起動。
對於實施例14~17及比較例8~11的各個起動方法,在間隔1天後將沉澱槽4中的分離污泥11(污泥濃度C1)取出並置於量筒,測量量筒中污泥區域的容量比(靜置24小時後污泥區域的容量/靜置24小時前污泥區域的容量)以作為靜置24小時後污泥的濃縮比例R,算出靜置24小時後的污泥濃度C2(=C1/R)。此時,污泥濃度C1係以污泥濃度計7作測定。然後,分別測定實施例14~17及比較例8~11中的污泥濃度C2到達100g/L的時間。將結果揭示於表3。
另外,圖10表示關於實施例14及比較例9,沉澱槽4中的污泥濃度的經時變化的結果之圖形,圖11表示關於實施例15及比較例10,沉澱槽4中的污泥濃度的逐時變化的結果之圖形,圖12表示關於實施例17及比較例11,沉澱槽4中的污泥濃度的逐時變化的結果之圖形。
如表3所示般,可知實施例14~17的起動方法與比較例8~11的起動方法相比,污泥濃度到達100g/L的時間顯著縮短。此結果也可由觀察圖9~圖12而明白。亦即,例如實施例14的折線圖與比較例8的折線圖作比較,則可知由測定開始之後,隨著時間經過,實施例14的折線圖與比較例8的折線圖差距大幅拉開。由此結果可知,與比較例8相比,實施例14的污泥濃度會在較短期間到達100g/L。另外,在到達50g/L、80g/L的期間亦觀察到與上述同樣的傾向。此結果,在實施例14~17的起動方法中亦為相同。
所以確認了依據本發明,以Cu排水、Mn排水、Ni排水及Zn排水作為處理對象的高密度污泥生成型水處理裝置之起動皆可在短期間進行。
1...第1不溶化處理槽
2...第2不溶化處理槽
3...凝集處理槽
4...沉澱槽
5...污泥改質槽
L5...分離污泥供給線
L12...線(含相對離子的物質供給手段)
V1...閥(含相對離子的物質供給手段)
R1...槽內液體區域
R2...分離污泥區域
S...污泥界面
L...液面
圖1表示本發明所關連之高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法中,作為對象之高密度污泥生成型水處理裝置其中一例之流程圖。
圖2表示沉澱槽中之分離污泥區域及槽內液體區域之示意圖。
圖3表示實施例4及比較例1所關連之起動方法在實施時所得到的污泥的濃度與經過日數的關係之圖形。
圖4表示實施例9及比較例3所關連之起動方法在實施時所得到的污泥的濃度與經過日數的關係之圖形。
圖5表示實施例10及比較例4所關連之起動方法在實施時所得到的污泥的濃度與經過日數的關係之圖形。
圖6表示實施例11及比較例5所關連之起動方法在實施時所得到的污泥的濃度與經過日數的關係之圖形。
圖7表示實施例12及比較例6所關連之起動方法在實施時所得到的污泥的濃度與經過日數的關係之圖形。
圖8表示實施例13及比較例7所關連之起動方法在實施時所得到的污泥的濃度與經過日數的關係之圖形。
圖9表示實施例14及比較例8所關連之起動方法在實施時所得到的污泥的濃度與經過日數的關係之圖形。
圖10表示實施例15及比較例9所關連之起動方法在實施時所得到的污泥的濃度與經過日數的關係之圖形。
圖11表示實施例16及比較例10所關連之起動方法在實施時所得到的污泥的濃度與經過日數的關係之圖形。
圖12表示實施例17及比較例11所關連之起動方法在實施時所得到的污泥的濃度與經過日數的關係之圖形。
Claims (6)
- 一種高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法,其係在高密度污泥生成型水處理裝置的正式運轉之前,所進行的高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法,該高密度污泥生成型水處理裝置係具備:使所導入的含無機系離子排水中的無機系離子不溶化之不溶化處理槽、使由前述不溶化處理槽導入的排出水沉降分離成處理水與分離污泥之沉澱槽、連接前述沉澱槽與前述不溶化處理槽之分離污泥供給線、設置於前述分離污泥供給線上,使含有與前述無機系離子形成不溶化物的相對離子之含相對離子的物質吸附在由前述沉澱槽經過前述分離污泥供給線導入的分離污泥的表面,將所得到的吸附污泥供給至前述不溶化處理槽的污泥改質槽、以及將前述含相對離子的物質供給至前述污泥改質槽之含相對離子的物質供給手段,且藉由重覆進行包含下述的一連串步驟,生成高密度污泥,以進行正式運轉:使導入前述不溶化處理槽的含無機系離子排水與由前述污泥改質槽供給的前述吸附污泥接觸,以使前述含無機系離子排水中的無機系離子與前述吸附污泥之前述相對離子反應而不溶化之不溶化步驟、 使由前述不溶化處理槽導入的排出水在前述沉澱槽沉降分離成處理水與分離污泥之沉降分離步驟、使由前述沉澱槽排出的前述分離污泥的至少一部分經過前述分離污泥供給線供給至前述污泥改質槽之分離污泥供給步驟、使前述含相對離子的物質吸附在導入前述污泥改質槽的前述分離污泥的表面而生成吸附污泥之吸附污泥生成步驟,該起動方法之特徵為:包含藉由重覆進行前述一連串步驟,而由前述裝置內的低密度污泥生成高密度污泥之高密度污泥生成步驟;在該高密度污泥生成步驟中,包含將污泥體積比例控制為4~30vol%之控制步驟,該污泥體積比例,係前述沉澱槽內的污泥界面下方區域(分離污泥區域)的體積相對於前述沉澱槽槽內液體的液面下方區域(槽內液體區域)的體積之比例。
- 如申請專利範圍第1項之高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法,其中進一步包含:在前述不溶化處理槽導入前述含無機系離子排水之排水導入步驟、藉由前述沉澱槽中的沉降分離而將所得到的處理水排出之處理水排出步驟;前述含無機系離子排水係工廠排水。
- 如申請專利範圍第1項之高密度污泥生成型水處 理裝置之起動方法,其中在前述高密度污泥生成步驟之前,進一步包含在前述不溶化處理槽導入前述含無機系離子排水,使由前述不溶化處理槽導入的排出水在前述沉澱槽沉降分離成處理水與分離污泥,並使污泥積蓄在前述沉澱槽的污泥積蓄步驟;在前述污泥積蓄步驟開始時,前述污泥體積比例係0vol%。
- 如申請專利範圍第3項之高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法,其中預先在5~15%的範圍內決定既定值,在前述污泥體積比例之控制目標值未達前述既定值的情況下,在前述污泥積蓄步驟中,使前述污泥體積比例到達既定值,在前述高密度污泥生成步驟中,藉由在前述沉澱槽進行排泥,使前述沉澱槽中的前述污泥體積比例減少,使前述污泥體積比例到達前述控制目標值之後,在前述沉澱槽進行排泥,同時將前述污泥體積比例控制為前述控制目標值,在前述污泥體積比例之控制目標值與前述既定值同等的情況下,在前述高密度污泥生成步驟中,在前述沉澱槽進行排泥,同時將前述污泥體積比例控制為前述控制目標值,在前述污泥體積比例之控制目標值大於前述既定值的情況下,在前述污泥積蓄步驟中,使前述污泥體積比例到 達前述既定值,進一步在前述高密度污泥生成步驟中,在前述沉澱槽不進行排泥,使前述沉澱槽中的前述污泥體積比例增加,並使前述污泥體積比例到達前述控制目標值之後,在前述沉澱槽進行排泥,同時將前述污泥體積比例控制為控制目標值。
- 如申請專利範圍第1或2項之高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法,其中,無機系離子係Al3+、Fe2+、Fe3+、Cr2+、F-、PO4 2-或SO4 2-,在污泥濃度到達設定在150~350g/L範圍內的既定值的時間點,判定為起動步驟結束。
- 如申請專利範圍第1或2項之高密度污泥生成型水處理裝置之起動方法,其中無機系離子係Cu2+、Mn2+、Ni2+或Zn2+,在污泥濃度到達設定在50~150g/L範圍內的既定值的時間點,判定為起動步驟結束。
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