TWI553406B - 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、液晶顯示元件之陣列基板、硬化膜之形成方法及液晶顯示元件之陣列基板之形成方法 - Google Patents

感放射線性樹脂組成物、硬化膜、液晶顯示元件之陣列基板、硬化膜之形成方法及液晶顯示元件之陣列基板之形成方法 Download PDF

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Description

感放射線性樹脂組成物、硬化膜、液晶顯示元件之陣列基板、硬化膜之形成方法及液晶顯示元件之陣列基板之形成方法
本發明關於感放射線性樹脂組成物、硬化膜、液晶顯示元件的陣列基板、硬化膜的形成方法及液晶顯示元件的陣列基板的形成方法。
近年來，電子紙等可撓性顯示器正在普及。就該可撓性顯示器的基板而言，已研究了聚對苯二甲酸乙二酯等塑膠基板。由於該基板在加熱時伸長或收縮，存在著損害作為顯示器之功能的問題，因而有在研究可撓性顯示器的製造程序的低溫化。製造可撓性顯示器時所需溫度最高的程序之一是存在藉由加熱層間絕緣膜而進行燒製的步驟，正在尋求該燒製步驟達到低溫化。
在目前情況下，就形成層間絕緣膜等硬化膜的材料而言，用於獲得必需圖案形狀的步驟數少，並且可得到高表面硬度的感放射線性樹脂組成物得到了廣泛使用。就所述感放射線性樹脂組成物而言，已知的是含有：由不飽和羧酸和/或其酐、含環氧基的不飽和化合物等形成的共聚物的感放射線性樹脂組成物，其構成使得可以藉由羧基和環氧基的反應獲得作為硬化膜的表面硬度(參見日本特開2001-354822號公報)。但是，就層間絕緣膜而言，為了將表面硬度提高至能夠達到實際商業上需要的水準，需要超過200℃高溫的燒製步驟。因此，還考慮了藉由添加作為環氧類材料的硬化劑使用的胺化合物，即使在低溫下也能進行交聯反應的策略，其中，添加一般的胺化合物時，可能會導致其與組成物中存在的環氧基之隨時間進行而發生的反應，從而降低了儲存穩定性。
另外，已開發了含有即使進行低溫燒製也能夠進行硬化的聚醯亞胺前驅物的可撓性顯示器的柵極絕緣膜用塗布液的技術(參見日本特開2009-4394號公報)。但是，該塗布液不具有藉由曝光顯影而形成圖案的能力，因此不可能形成微細圖案。而且，由於硬化反應性不充分，燒製在1小時以上的時間，另外得到的層間絕緣膜等硬化膜也達不到令人滿意的水準。而且，在可撓性顯示器的製作工藝中，存在著在層間絕緣膜的上層形成積層物的情形。在這種情況下，要求對於形成賦予層間絕緣膜以高相對介電常數的積層物時使用的溶劑具有耐溶劑性。
基於這種情況，非常需要開發出適合於製造可撓性顯示器用硬化膜的感放射線性樹脂組成物。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2001-354822號公報
[專利文獻2]日本特開2009-4394號公報
本發明是基於以上這種情況而做出的，其目的是提供兼具低溫燒製和儲存穩定性、並且具有高的感放射線性的感放射線性樹脂組成物、以及適宜用作可撓性顯示器的作為表面硬度、耐溶劑性及相對介電常數優異的層間絕緣膜、保護膜或隔離物的硬化膜。
用於解決上述問題的發明為：
感放射線性樹脂組成物，其含有：
[A]具有(A1)含有羧基的結構單元及(A2)含環氧基的結構單元的共聚物(以下，也稱為「[A]共聚物」)；
[B]醌二疊氮化合物；以及
[C]由包含下述式(1)表示的化合物、下述式(2)表示的化合物、三級胺化合物、胺鹽、鏻鹽、脒鹽、醯胺化合物、酮亞胺化合物、封端型異氰酸酯化合物、含有咪唑環的化合物及籠合化合物的群組中選出的至少一種硬化劑(以下，有時也稱為「[C]硬化劑」)。
(式(1)中，R1~R6各自獨立地為氫原子、拉電子性基團或胺基。其中，R1~R6中的至少一個為拉電子性基團，並且R1~R6中的至少一個為胺基。另外，上述胺基的全部或部分氫原子可以被碳原子數1~6的烷基取代。
式(2)中，R7~R16各自獨立地為氫原子、拉電子性基團或胺基。其中，R7~R16中的至少一個為胺基。另外，上述胺基的全部或部分氫原子可以被碳原子數1~6的烷基取代。A為單鍵、羰基、羰氧基、羰基亞甲基、亞磺醯基、磺醯基、亞甲基或碳原子數2~6的伸烷基。其中，上述亞甲基及伸烷基的全部或部分氫原子可以被氰基、鹵素原子或氟烷基取代。)
該感放射線性樹脂組成物，除了[A]共聚物、[B]醌二疊氮化合物外，藉由含有選自上述特定化合物的[C]硬化劑，在具有高放射線敏感度的同時，還對[A]共聚物具有的環氧基等發生作為有效的硬化催化劑的作用，結果兼具儲存穩定性和低溫燒製。另外，由該感放射線性樹脂組成物形成的硬化膜的表面硬度、耐溶劑性及相對介電常數優異，因此適宜被用作可撓性顯示器的層間絕緣膜、保護膜或隔離物的形成材料。
較佳的[C]硬化劑是由包含上述式(1)及式(2)表示的化合物的群組中選出的至少一種物質。藉由選擇具有胺基和缺電子基團的上述特定化合物作為[C]硬化劑，可以使該感放射線性樹脂組成物兼具更高水準的儲存穩定性和低溫燒製，而且可以進一步提高所獲得的硬化膜的相對介電常數等。
由於該感放射線性樹脂組成物達到了如上所述的效果，因此適合於形成作為層間絕緣膜、保護膜或隔離物的硬化膜。
較佳的上述液晶配向劑是含有具光配向性基團的感放射線性聚合物的液晶配向劑、或含有不具光配向性基團的聚醯亞胺的液晶配向劑。
本發明的硬化膜的形成方法具有：
(1)在基板上形成該感放射線性樹脂組成物的塗膜的步驟；
(2)對上述塗膜的至少一部分照射放射線的步驟；
(3)使經過上述放射線照射的塗膜顯影的步驟；及
(4)對經過上述顯影的塗膜進行燒製的步驟。
使用該感放射線性樹脂組成物，藉由上述步驟形成硬化膜時，由於是藉由利用感放射線性的曝光、顯影來形成圖案，因而能夠容易地形成微細而精巧的圖案。另外，使用該感放射線性樹脂組成物形成的硬化膜即使進行低溫燒製也具有足夠的表面硬度等。
該形成方法中步驟(4)的燒製溫度較佳為200℃以下。除了利用感放射線性的微細圖案形成能力外，由於可以進行這種低溫下的燒製，該形成方法適合被用於在可撓性顯示器的塑膠基板上形成層間絕緣膜等硬化膜。
本發明還包含由該感放射線性樹脂組成物形成的作為層間絕緣膜、保護膜或隔離物的硬化膜。
還有，本說明書中的所謂「燒製」是指對硬化膜加熱至獲得所需要的強度。另外，曝光時照射的「放射線」是包含可見光、紫外線、遠紫外線、X放射線、帶電粒子束等的概念。
根據本發明的感放射線性樹脂組成物，可以提供兼具低溫燒製和儲存穩定性，並且具有高感放射線性的感放射線性樹脂組成物、以及適合作為可撓性顯示器用的表面硬度、耐溶劑性及相對介電常數優異的層間絕緣膜、作為保護膜或隔離物的硬化膜。
 [用以實施發明之形態] ＜感放射線性樹脂組成物＞
本發明的感放射線性樹脂組成物含有[A]共聚物、[B]醌二疊氮化合物及[C]硬化劑。另外，只要不損害本發明的效果還可以含有任選的成分。以下，對各種成分進行詳細說明。
＜[A]共聚物＞
[A]共聚物是使(A1)由包含不飽和羧酸及不飽和羧酸酐的群組中選出的至少一種單體(以下，有時也稱為「(A1)化合物」)和(A2)含環氧基的不飽和化合物(以下，有時也稱為「(A2)化合物」)進行共聚形成的共聚物。
對於[A]共聚物，例如可以藉由在溶劑中存在聚合引發劑的情況下，使提供含羧基結構單元的(A1)化合物和提供含環氧基結構單元的(A2)化合物進行共聚來製造。另外，可以再加入(A3)提供含羥基結構單元的含羥基不飽和化合物(以下，有時也稱為「(A3)化合物」)，形成共聚物。而且，在製造[A]共聚物時，可以與上述(A1)化合物、(A2)化合物及(A3)化合物一起，再加入(A4)化合物(提供源自於上述(A1)、(A2)及(A3)化合物的結構單元以外的結構單元的不飽和化合物)，形成共聚物。
[(A1)化合物]
就(A1)化合物而言，能夠列舉不飽和單羧酸、不飽和二羧酸、不飽和二羧酸的酐、多元羧酸的單[(甲基)丙烯醯氧基烷基]酯、兩個末端具有羧基和羥基的聚合物的單(甲基)丙烯酸酯、具有羧基的不飽和多環式化合物及其酐等。
就不飽和單羧酸而言，能夠列舉例如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等；就不飽和二羧酸而言，能夠列舉例如馬來酸、富馬酸、檸康酸、中康酸、衣康酸等；就不飽和二羧酸的酐而言，能夠列舉例如作為上述二羧酸例示的化合物的酐等；就多元羧酸的單[(甲基)丙烯醯氧基烷基]酯而言，能夠列舉例如琥珀酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯]、鄰苯二甲酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯]等；就兩個末端具有羧基和羥基的聚合物的單(甲基)丙烯酸酯而言，能夠列舉例如ω-羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯等；就具羧基的不飽和多環式化合物及其酐而言，能夠列舉例如5-羧基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羧基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羧基雙環[2.2.1]庚-2-烯酐等。
在這些物質中，較佳係單羧酸、二羧酸酐，從共聚反應性、對鹼水溶液的溶解性及獲得容易性上考慮，更佳係丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸酐。這些(A1)化合物可以單獨使用，也可以混合使用兩種以上。
就(A1)化合物的使用比例而言，基於(A1)化合物及(A2)化合物(必要時任選的(A3)化合物及(A4)化合物)的合計，較佳為5質量%~30質量%，更佳為10質量%~25質量%。藉由使(A1)化合物的使用比例於上述範圍內，可以得到[A]共聚物對鹼水溶液的溶解性達到最佳化，同時敏感度優異的感放射線性樹脂組成物。
[(A2)化合物]
(A2)化合物是含環氧基的不飽和化合物。就環氧基而言，能夠列舉環氧乙烷基(1,2-環氧結構)、氧雜環丁烷基(1,3-環氧結構)。
就具有環氧乙烷基的不飽和化合物而言，能夠列舉例如丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸2-甲基縮水甘油酯、α-乙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丁基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸3,4-環氧丁酯、甲基丙烯酸3,4-環氧丁酯、丙烯酸6,7-環氧庚酯、甲基丙烯酸6,7-環氧庚酯、α-乙基丙烯酸-6,7-環氧庚酯、鄰乙烯基苄基縮水甘油醚、間乙烯基苄基縮水甘油醚、對乙烯基苄基縮水甘油醚、甲基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯等。在這些物質中，從提高共聚反應性及硬化膜的耐溶劑性等方面考慮，較佳係甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸2-甲基縮水甘油酯、甲基丙烯酸-6,7-環氧庚酯、鄰乙烯基苄基縮水甘油醚、間乙烯基苄基縮水甘油醚、對乙烯基苄基縮水甘油醚、甲基丙烯酸3,4-環氧環己酯。
就具有氧雜環丁烷基的不飽和化合物而言，能夠列舉例如3-(丙烯醯氧基甲基)氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-2-甲基氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-3-乙基氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-2-三氟甲基氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-2-五氟乙基氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-2-苯基氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-2,2-二氟氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-2,2,4-三氟氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-2,2,4,4-四氟氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-2-乙基氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-3-乙基氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-2-三氟甲基氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-2-五氟乙基氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-2-苯基氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-2,2-二氟氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-2,2,4-三氟氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-2,2,4,4-四氟氧雜環丁烷等丙烯酸酯；3-(甲基丙烯醯氧基甲基)氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-2-甲基氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-3-乙基氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-2-三氟甲基氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-2-五氟乙基氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-2-苯基氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-2,2-二氟氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-2,2,4-三氟氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-2,2,4,4-四氟氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-2-乙基氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-3-乙基氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-2-三氟甲基氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-2-五氟乙基氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-2-苯基氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-2,2-二氟氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-2,2,4-三氟氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-2,2,4,4-四氟氧雜環丁烷等甲基丙烯酸酯等。這些(A2)化合物可以單獨使用，也可以混合使用兩種以上。
就(A2)化合物的使用比例而言，基於(A1)化合物及(A2)化合物(必要時任選的(A3)化合物及(A4)化合物)的合計，較佳為5質量%~60質量%，更佳為10質量%~50質量%。藉由使(A2)化合物的使用比例於上述範圍內，能夠形成具有優異的耐溶劑性等的硬化膜。
[(A3)化合物]
就(A3)化合物而言，能夠列舉具有羥基的(甲基)丙烯酸酯、下述式(3)表示的含酚性羥基的不飽和化合物等。
上述式(3)中，R17為氫原子或碳原子數1~4的烷基。R18~R22各自獨立地為氫原子、羥基或碳原子數1~4的烷基。Y為單鍵、-COO-、或-CONH-。p為0~3的整數。其中，R18~R22中的至少一個為羥基。
就上述具有羥基的(甲基)丙烯酸酯而言，能夠列舉例如(甲基)丙烯酸羥基甲酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥基丁酯、聚乙二醇(n=2~10)單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(n=2~10)單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-2,3-二羥基丙酯、2-甲基丙烯醯氧乙基糖苷等。
就上述式(3)表示的含有酚性羥基的不飽和化合物而言，取決於Y和p的定義，能夠列舉例如下述式(3-1)~式(3-5)表示的化合物等。
上述式(3-1)中，q為1~3的整數。R17~R22與上述式(3)中的含義相同。
上述式(3-2)中，R17~R22與上述式(3)中的含義相同。
上述式(3-3)中，r為1~3的整數。R17~R22與上述式(3)中的含義相同。
上述式(3-4)中，R17~R22與上述式(3)中的含義相同。
上述式(3-5)中，R17~R22與上述式(3)中的含義相同。
在這些(A3)化合物中，較佳係甲基丙烯酸-2-羥基乙酯、甲基丙烯酸-4-羥基苯酯、鄰羥基苯乙烯、對羥基苯乙烯、α-甲基-對羥基苯乙烯。這些(A3)化合物可以單獨使用，也可以混合使用兩種以上。
就(A3)化合物的使用比例而言，基於(A1)化合物、(A2)化合物及(A3)化合物(必要時任選的(A4)化合物)的合計，較佳為5質量%~30質量%，更佳為10質量%~25質量%。藉由使(A3)化合物的使用比例於上述範圍內，能夠形成具有優異耐溶劑性等的硬化膜。
[(A4)化合物]
(A4)化合物，只要是上述的(A1)化合物、(A2)化合物及(A3)化合物以外的不飽和化合物就沒有特別的限制。就(A4)化合物而言，能夠列舉例如甲基丙烯酸鏈狀烷基酯、甲基丙烯酸環狀烷基酯、丙烯酸鏈狀烷基酯、丙烯酸環狀烷基酯、甲基丙烯酸芳基酯、丙烯酸芳基酯、不飽和二羧酸二酯、雙環不飽和化合物、馬來醯亞胺化合物、不飽和芳香族化合物、共軛二烯烴、含有四氫呋喃骨架、呋喃骨架、四氫哌喃骨架、哌喃骨架、下述式(4)表示的骨架的不飽和化合物及其它的不飽和化合物等。
上述式(4)中，R23為氫原子或甲基。s為1以上的整數。
就甲基丙烯酸鏈狀烷基酯而言，能夠列舉例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸第二丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸異癸酯、甲基丙烯酸正月桂酯、甲基丙烯酸十三烷基酯、甲基丙烯酸正十八烷基酯等。
就甲基丙烯酸環狀烷基酯而言，能夠列舉例如甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸2-甲基環己酯、甲基丙烯酸三環[5.2.1.02,6]癸-8-酯、甲基丙烯酸三環[5.2.1.02,6]癸-8-基氧乙酯、甲基丙烯酸異冰片酯等。
就丙烯酸鏈狀烷基酯而言，能夠列舉例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸第二丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸異癸酯、丙烯酸正月桂酯、丙烯酸十三烷基酯、丙烯酸正十八烷基酯等。
就丙烯酸環狀烷基酯而言，能夠列舉例如丙烯酸環己酯、丙烯酸2-甲基環己酯、丙烯酸三環[5.2.1.02,6]癸-8-酯、丙烯酸三環[5.2.1.02,6]癸-8-基氧基乙酯、丙烯酸異冰片酯等。
就甲基丙烯酸芳基酯而言，能夠列舉例如甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苄酯等。
就丙烯酸芳基酯而言，能夠列舉例如丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯等。
就不飽和二羧酸二酯而言，能夠列舉例如馬來酸二乙酯、富馬酸二乙酯、衣康酸二乙酯等。
就雙環不飽和化合物而言，能夠列舉例如雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-甲氧基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-乙氧基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二甲氧基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二乙氧基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-第三丁氧羰基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-環己氧羰基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-苯氧羰基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(第三丁氧羰基)雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(環己氧羰基)雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-(2’-羥基乙基)雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羥基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(羥基甲基)雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(2’-羥基乙基)雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羥基-5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羥基-5-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羥基甲基-5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯等。
就馬來醯亞胺化合物而言，能夠列舉例如N-苯基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺、N-苄基馬來醯亞胺、N-(4-羥基苯基)馬來醯亞胺、N-(4-羥基苄基)馬來醯亞胺、N-琥珀醯亞胺基-3-馬來醯亞胺苯甲酸酯、N-琥珀醯亞胺基-4-馬來醯亞胺丁酸酯、N-琥珀醯亞胺基-6-馬來醯亞胺己酸酯、N-琥珀醯亞胺基-3-馬來醯亞胺丙酸酯、N-(9-吖啶基)馬來醯亞胺等。
就不飽和芳香族化合物而言，能夠列舉例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、間甲基苯乙烯、對甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、對甲氧基苯乙烯等。
就共軛二烯烴而言，能夠列舉例如1,3-丁二烯、異戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯等。
就含有四氫呋喃骨架的不飽和化合物而言，能夠列舉例如四氫糠基(甲基)丙烯酸酯、2-甲基丙烯醯氧基-丙酸四氫糠基酯、3-(甲基)丙烯醯氧基四氫呋喃-2-酮等。
就含有呋喃骨架的不飽和化合物而言，能夠列舉例如2-甲基-5-(3-呋喃基)-1-戊烯-3-酮、(甲基)丙烯酸糠酯、1-呋喃-2-丁基-3-烯-2-酮、1-呋喃-2-丁基-3-甲氧基-3-烯-2-酮、6-(2-呋喃基)-2-甲基-1-己烯-3-酮、6-呋喃-2-基-己-1-烯-3-酮、丙烯酸-2-呋喃-2-基-1-甲基-乙基酯、6-(2-呋喃基)-6-甲基-1-庚烯-3-酮等。
就含有四氫哌喃骨架的不飽和化合物而言，能夠列舉例如甲基丙烯酸(四氫哌喃-2-基)甲酯、2,6-二甲基-8-(四氫哌喃-2-基氧)-辛-1-烯-3-酮、2-甲基丙烯酸四氫哌喃-2-基酯、1-(四氫哌喃-2-氧)-丁基-3-烯-2-酮等。
就含有哌喃骨架的不飽和化合物而言，能夠列舉例如4-(1,4-二氧雜-5-氧-6-庚烯基)-6-甲基-2-哌喃、4-(1，5-二氧雜-6-氧-7-辛烯基)-6-甲基-2-哌喃等。
就其它的不飽和化合物而言，能夠列舉例如丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、偏氯乙烯、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、醋酸乙烯酯等。
在這些(A4)化合物中，較佳係甲基丙烯酸鏈狀烷基酯、甲基丙烯酸環狀烷基酯、馬來醯亞胺化合物、含有四氫呋喃骨架、呋喃骨架、四氫哌喃骨架、哌喃骨架、上述式(4)表示的骨架的不飽和化合物、不飽和芳香族化合物、丙烯酸環狀烷基酯。在此等中，從共聚反應性對鹼水溶液的溶解性方面考慮，較佳係苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸正月桂酯、甲基丙烯酸三環[5.2.1.02,6]癸-8-酯、對甲氧基苯乙烯、丙烯酸2-甲基環己酯、N-苯基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺、四氫糠基(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇(n=2~10)單(甲基)丙烯酸酯、3-(甲基)丙烯醯氧基四氫呋喃-2-酮。這些(A4)化合物可以單獨使用，也可以混合使用兩種以上。
就(A4)化合物的使用比例而言，基於(A1)化合物、(A2)化合物及(A4)化合物(及任選的(A3)化合物)的合計，較佳為10質量%~70質量%，更佳為20質量%~60質量%。藉由使(A4)化合物的使用比例處於上述範圍內，能夠形成耐溶劑性等優異的硬化膜。
＜[A]共聚物的合成方法＞
[A]共聚物可以藉由例如在溶劑中存在聚合引發劑的情況下，使上述(A1)化合物及(A2)化合物(任選的(A3)化合物及(A4)化合物)進行共聚來製造。
就用於製造[A]共聚物的聚合反應中使用的溶劑而言，能夠列舉例如醇、二醇醚、乙二醇烷基醚醋酸酯、二乙二醇單烷基醚、二乙二醇二烷基醚、二丙二醇二烷基醚、丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基醚醋酸酯、丙二醇單烷基醚丙酸酯、酮、酯等。
就醇而言，能夠列舉例如苄醇等；就二醇醚而言，能夠列舉例如乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚等；就乙二醇烷基醚醋酸酯而言，能夠列舉例如乙二醇單丁基醚醋酸酯、二乙二醇單乙基醚醋酸酯等；就二乙二醇單烷基醚而言，能夠列舉例如二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚等；就二乙二醇二烷基醚而言，能夠列舉例如二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇乙基甲基醚等；就二丙二醇二烷基醚而言，能夠列舉例如二丙二醇二甲基醚、二丙二醇二乙基醚、二丙二醇乙基甲基醚等；就丙二醇單烷基醚而言，能夠列舉例如丙二醇甲基醚、丙二醇乙基醚、丙二醇丙基醚、丙二醇丁基醚等；就丙二醇單烷基醚醋酸酯而言，能夠列舉例如丙二醇單甲基醚醋酸酯、丙二醇單乙基醚醋酸酯等；就丙二醇單烷基醚丙酸酯而言，能夠列舉例如丙二醇甲基醚丙酸酯、丙二醇乙基醚丙酸酯、丙二醇丙基醚丙酸酯等；就酮而言，能夠列舉例如甲基乙基酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、甲基異戊酮等；就酯而言，能夠列舉例如醋酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸3-甲氧基丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥基醋酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸甲酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸甲酯等。
在這些溶劑中，較佳係醋酸3-甲氧基丁酯、乙二醇烷基醚醋酸酯、二乙二醇單烷基醚、二乙二醇二烷基醚、丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基醚醋酸酯，更佳係醋酸3-甲氧基丁酯、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇甲基乙基醚、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基醚醋酸酯。
就用於製造[A]共聚物的聚合反應中使用的聚合引發劑而言，可以使用一般作為自由基聚合引發劑公知的物質。就自由基聚合引發劑而言，能夠列舉例如2,2’-偶氮雙異丁腈(AIBN)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙-(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)等偶氮化合物；過氧化苯甲醯、過氧化月桂醯、過氧化新戊酸第三丁酯、1,1’-雙(過氧化第三丁基)環己烷等有機過氧化物及過氧化氫。使用過氧化物作為自由基聚合引發劑時，也可以將過氧化物與還原劑同時使用作為氧化還原型引發劑。
在用於製造[A]共聚物的聚合反應中，為了調節分子量，可以使用分子量調節劑。分子量調節劑能夠列舉例如氯仿、四溴化碳等鹵化烴類；正己基硫醇、正辛基硫醇、正十二烷基硫醇、第三一十二烷基硫醇、巰基乙酸等硫醇類；二甲基硫化黃原酸、二異丙基二硫黃原酸等黃原酸類；對二烯、α-甲基苯乙烯二聚體等。
就[A]共聚物的重量平均分子量(Mw)而言，較佳為1,000~30,000，更佳為5,000~20,000。藉由使[A]共聚物的Mw於上述範圍內，可以提高該感放射線性樹脂組成物的敏感度及顯影性。還有，本說明書中聚合物的Mw及數量平均分子量(Mn)是按下述的條件藉由凝膠滲透色譜(GPC)測定的。
裝置：GPC-101(昭和電工公司)
管柱：連接GPC-KF-801、GPC-KF-802、GPC-KF-803及GPC-KF-804
流動相：四氫呋喃
管柱溫度：40℃
流速：1.0mL/分
試樣濃度：1.0質量%
試樣注入量：100μL
檢測器：差示折射儀
標準物質：單分散聚苯乙烯
＜[B]醌二疊氮化合物＞
本發明的感放射線性樹脂組成物中使用的[B]醌二疊氮化合物是藉由放射線的照射而產生羧酸的1,2-醌二疊氮化合物。就1,2-醌二疊氮化合物而言，可以使用酚性化合物或醇性化合物(以下，稱為「母核」)和鹵化1,2-萘醌二疊氮化物磺酸的縮合物。
就上述母核而言，能夠列舉例如三羥基二苯甲酮、四羥基二苯甲酮、五羥基二苯甲酮、六羥基二苯甲酮、(多羥基苯基)烷烴、其它的母核等。
就三羥基二苯甲酮而言，能夠列舉例如2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,4,6-三羥基二苯甲酮等；就四羥基二苯甲酮而言，能夠列舉例如2,2’,4,4’-四羥基二苯甲酮、2,3,4,3’-四羥基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羥基二苯甲酮、2,3,4,2’-四羥基-4’-甲基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羥基-3’-甲氧基二苯甲酮等；就五羥基二苯甲酮而言，能夠列舉例如2,3,4,2’,6’-五羥基二苯甲酮等；就六羥基二苯甲酮而言，能夠列舉例如2,4,6,3’,4’,5’-六羥基二苯甲酮、3,4,5,3’,4’,5’-六羥基二苯甲酮等；就(多羥基苯基)烷烴而言，能夠列舉例如雙(2,4-二羥基苯基)甲烷、雙(對羥基苯基)甲烷、三(對羥基苯基)甲烷、1,1,1-三(對羥基苯基)乙烷、雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷、2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷、1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷、4,4’-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙叉基]雙酚、雙(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷、3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-螺雙茚-5,6,7,5’,6’,7’-己醇、2,2,4-三甲基-7,2’,4’-三羥基黃烷等；就其它的母核而言，能夠列舉例如2-甲基-2-(2,4-二羥基苯基)-4-(4-羥基苯基)-7-羥基苯并氫化哌喃、1-[1-(3-{1-(4-羥基苯基)-1-甲基乙基}-4,6-二羥基苯基)-1-甲基乙基]-3-(1-(3-{1-(4-羥基苯基)-1-甲基乙基}-4,6-二羥基苯基)-1-甲基乙基)苯、4,6-雙{1-(4-羥基苯基)-1-甲基乙基}-1,3-二羥基苯等。
在這些母核中，較佳係2,3,4,4’-四羥基二苯甲酮、1,1,1-三(對羥基苯基)乙烷、4,4’-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙叉基]雙酚。
就鹵化1,2-萘醌二疊氮化物磺酸而言，較佳係1,2-萘醌二疊氮化物磺醯氯。就1,2-萘醌二疊氮化物磺醯氯而言，能夠列舉例如1,2-萘醌二疊氮化物-4-磺醯氯、1,2-萘醌二疊氮化物-5-磺醯氯等。在此等中，更佳為1,2-萘醌二疊氮化物-5-磺醯氯。
在酚性化合物或醇性化合物(母核)和鹵化1,2-萘醌二疊氮化物磺酸的縮合反應中，相對於酚性化合物或醇性化合物中的OH基數，較佳為使用相當於30~85莫耳%，更佳為50~70莫耳%的鹵化1,2-萘醌二疊氮化物磺酸。縮合反應可按公知的方法實施。
另外，就1,2-醌二疊氮化合物而言，也適宜使用將上述例示的母核的酯鍵轉變為醯胺鍵的1,2-萘醌二疊氮化物磺酸醯胺類，例如2,3,4-三胺基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮化物-4-磺酸醯胺等。
這些[B]醌二疊氮化合物可以單獨使用或組合使用兩種以上。就該感放射線性樹脂組成物中[B]醌二疊氮化合物的使用比例而言，相對於[A]共聚物100質量份，較佳為5質量份~100質量份，更佳為10質量份~50質量份。藉由使[B]醌二疊氮化合物的使用比例於上述範圍內，可以使照射放射線部分和未照射放射線部分對作為顯影液的鹼水溶液的溶解度之差變大、圖案化性能良好、以及獲得的硬化膜的耐溶劑性良好。
＜[C]硬化劑＞
該感放射線性樹脂組成物含有的[C]硬化劑是由上述式(1)表示的化合物、上述式(2)表示的化合物、三級胺化合物、胺鹽、鏻鹽、脒鹽、醯胺化合物、酮亞胺化合物、封端型異氰酸酯化合物、含咪唑環的化合物及籠合化合物構成的群組中選出的至少一種物質。藉由使該感放射線性樹脂組成物含有選自上述特定化合物的[C]硬化劑，可以兼具儲存穩定性和低溫燒製。以下，對各種化合物進行詳細描述。
[上述式(1)及上述式(2)表示的化合物]
[C]硬化劑較佳為由包含上述式(1)及式(2)表示的化合物的群組中選出的至少一種。藉由選擇具有胺基和缺電子基團的上述特定化合物作為[C]硬化劑，可以使該感放射線性樹脂組成物兼具更高水準的儲存穩定性和低溫燒製，而且可進一步提高所獲得的硬化膜的相對介電常數等。
上述式(1)中，R1~R6各自獨立地為氫原子、拉電子性基團或胺基。其中，R1~R6中的至少一個為拉電子性基團，並且R1~R6中的至少一個為胺基，上述胺基的全部或部分氫原子可以被碳原子數1~6的烷基取代。
上述式(2)中，R7~R16各自獨立地為氫原子、拉電子性基團或胺基。其中，R7~R16中的至少一個為胺基。另外，上述胺基的全部或部分氫原子可以被碳原子數1~6的烷基取代。A為單鍵、羰基、羰氧基、羰基亞甲基、亞磺醯基、磺醯基、亞甲基或碳原子數2~6的伸烷基。其中，上述亞甲基及伸烷基的全部或部分氫原子可以被氰基、鹵素原子或氟烷基取代。
就上述R1~R16表示的拉電子性基團而言，能夠列舉例如鹵素原子、氰基、硝基、三氟甲基、羧基、醯基、烷基磺醯基、烷基氧磺醯基、二氰基乙烯基、三氰基乙烯基、磺醯基等。在這些基團中，較佳係硝基、烷基氧磺醯基、三氟甲基。就A所示的基團而言，較佳係磺醯基、可以被氟烷基取代的亞甲基。
就上述式(1)及式(2)表示的化合物而言，較佳係2,2-雙(4-胺基苯基)六氟丙烷、2,3-雙(4-胺基苯基)丁二腈、4,4’-二胺基二苯甲酮、4,4’-二胺基苯基苯甲酸酯、4,4’-二胺基二苯基碸、1,4-二胺基-2-氯苯、1,4-二胺基-2-溴苯、1,4-二胺基-2-碘苯、1,4-二胺基-2-硝基苯、1,4-二胺基-2-三氟甲基苯、2,5-二胺基苄腈、2,5-二胺基苯乙酮、2,5-二胺基苯甲酸、2,2’-二氯聯苯胺、2,2’-二溴聯苯胺、2,2’-二碘聯苯胺、2,2’-二硝基聯苯胺、2,2’-雙(三氟甲基)聯苯胺、3-胺基苯磺酸乙酯、3,5-雙三氟甲基-1,2-二胺基苯、4-胺基硝基苯、N,N-二甲基-4-硝基苯胺，更佳係4,4’-二胺基二苯基碸、2,2-雙(4-胺基苯基)六氟丙烷、2,2’-雙(三氟甲基)聯苯胺、3-胺基苯磺酸乙酯、3,5-雙三氟甲基-1,2-二胺基苯、4-胺基硝基苯、N,N-二甲基-4-硝基苯胺。
上述式(1)及式(2)表示的化合物可以單獨使用或混合兩種以上使用。就上述式(1)及式(2)表示的化合物的含有比例而言，相對於[A]共聚物100質量份，較佳為0.1質量份~20質量份，更佳為0.2質量份~10質量份。藉由使上述式(1)及式(2)表示的化合物的含有比例於上述範圍內，可以使該感放射線性樹脂組成物兼具更高水準的儲存穩定性和低溫燒製。
[三級胺化合物]
如果使反應性高的一般一級胺化合物及二級胺化合物與環氧化合物共存，則在組成物溶液的儲存中胺對環氧基的親核動作導致硬化反應的進行，可能會損害製品的品質。但是，使用三級胺時，由於反應性比較低，即使在組成物中與環氧化合物共存，也具有良好的儲存穩定性。
就三級胺化合物而言，可以使用由包含下述式(5)表示的化合物的群組中選出的至少一種物質。
上述式(5)中，R24~R26各自獨立地為碳原子數1~20的烷基、碳原子數6~18的芳基或碳原子數7~30的芳烷基。其中，R24及R25也可以相互鍵結，與兩者鍵結的氮原子一起形成環結構。上述烷基、芳基及芳烷基的部分或全部氫原子可以被取代。
就上述R24~R26所示的上述碳原子數1~20的烷基而言，能夠列舉例如直鏈狀或支鏈狀的甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、月桂基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基等。
就上述R24~R26所示的碳原子數6~18的芳基而言，能夠列舉例如苯基、萘基等。
就上述R24~R26所示的碳原子數7~30的芳烷基而言，能夠列舉例如苄基、苯乙基等。
就三級胺化合物而言，能夠列舉例如三甲基胺、三乙基胺、N,N-二甲基苄基胺、三苯基胺、三丁基胺、三辛基胺、三(十二烷基)胺、二丁基苄基胺、三萘基胺、N-乙基-N-甲基苯胺、N,N-二乙基苯胺、N-苯基-N-甲基苯胺、N,N-二甲基-對甲苯胺、N,N-二甲基-4-溴苯胺、N,N-二甲基-4-甲氧基苯胺、N-苯基哌啶、N-(4-甲氧基苯基)哌啶、N-苯基-1,2,3,4-四氫異喹啉、6-苄基氧-N-苯基-7-甲氧基-1,2,3,4-四氫異喹啉、N,N’-二甲基哌、N,N-二甲基環己基胺、2-二甲基胺基甲基苯酚、2,4,6-參(二甲基胺基甲基)苯酚等。
在這些三級胺化合物中，較佳係三辛基胺、2-二甲基胺基甲基苯酚。三級胺化合物可以單獨使用或混合兩種以上使用。就該感放射線性樹脂組成物中三級胺化合物的含有比例而言，相對於[A]共聚物100質量份，較佳為0.1質量份~10質量份，更佳為0.2質量份~5質量份。藉由使三級胺化合物的含有比例於上述特定範圍內，可以使該感放射線性樹脂組成物兼具高水準的儲存穩定性和低溫燒製。
[胺鹽及鏻鹽]
可以使用由下述式(6)表示的化合物構成的群組中選出的至少一種物質作為胺鹽及鏻鹽。
上述式(6)中，A1為氮原子或磷原子。R27~R30各自獨立地為氫原子、碳原子數1~20的烷基、碳原子數6~18的芳基或碳原子數7~30的芳烷基。其中，這些基團的部分或全部氫原子可以被取代。Q-為1價陰離子。
就上述R27~R30所示的碳原子數1~20的烷基而言，能夠列舉例如直鏈狀或支鏈狀的甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、月桂基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基等。
就上述R27~R30所示的碳原子數6~18的芳基而言，能夠列舉例如苯基、萘基等。
就上述R27~R30所示的碳原子數7~30的芳烷基而言，能夠列舉例如苄基、苯乙基等。
就上述Q-所示的1價陰離子而言，能夠列舉例如氯離子、溴離子、碘離子、氰離子、硝酸根、亞硝酸根、次氯酸根、亞氯酸根、氯酸根、過氯酸根、過錳酸根、碳酸氫根、磷酸二氫根、硫化氫離子、硫氰酸根、羧酸根、磺酸根、苯氧陰離子、四氟硼酸根、四芳基硼酸根、六氟銻酸根等。
A1為氮原子時，即就銨鹽而言，能夠列舉例如四甲基氯化銨、四丁基氯化銨、十二烷基二甲基苄基氯化銨、辛基三甲基氯化銨、癸基三甲基氯化銨、十二烷基三甲基氯化銨、十四烷基三甲基氯化銨、鯨蠟基三甲基氯化銨、硬脂基三甲基氯化銨、十六烷基三甲基溴化銨、苄基三甲基氯化銨、苄基三乙基氯化銨、氯化苯甲烴銨、溴化苯甲烴銨、二癸基二甲基氯化銨、二硬脂基二甲基氯化銨。
A1為磷原子時，即就鏻鹽而言，能夠列舉例如四苯基鏻‧四苯基硼酸鹽、四苯基鏻‧四(對甲苯基)硼酸鹽、四苯基鏻‧四(對乙基苯基)硼酸鹽、四苯基鏻‧四(對甲氧基苯基)硼酸鹽、四苯基鏻‧四(對乙氧基苯基)硼酸鹽、四苯基鏻‧四(對第三丁氧基苯基)硼酸鹽、四苯基鏻‧四(間甲苯基)硼酸鹽、四苯基鏻‧四(間甲氧基苯基)硼酸鹽、三(對甲苯基)苯基鏻‧四(對甲苯基)硼酸鹽、四(對甲苯基)鏻‧四(對甲苯基)硼酸鹽、三(對甲氧基苯基)苯基鏻‧四(對甲苯基)硼酸鹽、四苯基鏻硫氰酸鹽、丁基三苯基鏻硫氰酸鹽、甲基三苯基鏻硫氰酸鹽、對甲苯基三苯基鏻硫氰酸鹽、苄基三苯基鏻六氟銻酸鹽、對氯苄基三苯基鏻六氟銻酸鹽、對甲基苄基三苯基鏻六氟銻酸鹽、對甲氧基苄基三苯基鏻六氟銻酸鹽、α-甲基苄基三苯基鏻六氟銻酸鹽、肉桂基三苯基鏻六氟銻酸鹽、2-羥基-5-硝基苄基三苯基鏻六氟銻酸鹽、1-萘基甲基三苯基鏻六氟銻酸鹽、3-三甲基甲矽烷基-4-三甲基甲矽烷氧基苄基三苯基鏻六氟銻酸鹽、對甲氧基苄基三(對氯苯基)鏻六氟銻酸鹽、對甲氧基苄基三(對甲基苯基)鏻六氟銻酸鹽、肉桂基三(對氯苯基)鏻六氟銻酸鹽、對甲氧基苄基三苯基鏻六氟磷酸鹽、1-芘基甲基-三苯基鏻六氟銻酸鹽、1-芘基甲基-丁基二苯基鏻六氟銻酸鹽、9-蒽基甲基-三苯基鏻六氟銻酸鹽、四丁基鏻癸酸鹽、三(第三丁基)鏻‧四苯基硼酸鹽、二-第三丁基甲基鏻‧四苯基硼酸鹽、對甲苯基三苯基鏻‧四(對甲苯基)硼酸鹽、四苯基鏻‧四氟硼酸鹽等。
在這些胺鹽及鏻鹽中，較佳係四甲基氯化銨、丁基三苯基鏻硫氰酸鹽。胺鹽及鏻鹽可以單獨使用或混合兩種以上使用。就該感放射線性樹脂組成物中胺鹽及鏻鹽的含有比例而言，相對於[A]共聚物100質量份，較佳為0.1質量份~10質量份，更佳為0.5質量份~5質量份。藉由使胺鹽及鏻鹽的含有比例於上述特定範圍內，可以使該感放射線性樹脂組成物兼具更高水準的儲存穩定性和低溫燒製。
[脒鹽]
就脒鹽而言，可以使用由包含下述式(7)表示化合物的鹽的群組中選出的至少一種物質。
上述式(7)中，m為2~6的整數。其中，伸烷基具有的部分或全部氫原子可以被有機基團取代。還有，上述伸烷基是指四氫嘧啶環中的伸烷基及式(7)中(CH2)m表示的伸烷基二者。
就上述伸烷基可以作為取代基具有的有機基團而言，能夠列舉例如甲基、乙基、異丙基、正丁基、第三丁基、正己基等碳原子數1~6的烷基；羥基甲基、2-羥基乙基、1-羥基丙基、2-羥基丙基、3-羥基丙基、2-羥基異丙基、3-羥基-第三丁基、6-羥基己基等碳原子數1~6的羥基烷基；二甲基胺基、甲基乙基胺基、二乙基胺基、二異丙基胺基、二丁基胺基、第三丁基甲基胺基、二正己基胺基等碳原子數2~12的二烷基胺基等。
就上述式(7)表示的化合物而言，能夠列舉1,5-二氮雜雙環[4,3,0]-壬烯-5(DBN)、1,5-二氮雜雙環[4,4,0]-癸烯-5、1,8-二氮雜雙環[5,4,0]-十一烯-7(DBU)、5-羥基丙基-1,8-二氮雜雙環[5,4,0]-十一烯-7、5-二丁基胺基-1,8-二氮雜雙環[5,4,0]-十一烯-7等。在這些物質中,較佳係DBN及DBU。
就用於使上述式(7)表示的化合物形成鹽的酸而言，能夠列舉有機酸及無機酸。
就有機酸而言，能夠列舉例如羧酸、單烷基碳酸、芳香族羥基化合物、磺酸等。
就羧酸而言，能夠列舉例如甲酸、醋酸、2-乙基己酸、異戊酸等飽和脂肪酸；丙烯酸、巴豆酸、甲基丙烯酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、富馬酸、馬來酸、棕櫚油酸、油酸、亞油酸、亞麻酸、異油酸、桐油酸、花生四烯酸、桂皮酸、萘甲酸、苯甲酸、甲基苯甲酸等不飽和羧酸；氯醋酸、氰基醋酸、二氯醋酸、三氯醋酸、三甲基醋酸、氟醋酸、溴醋酸、甲氧基醋酸、巰基醋酸、碘醋酸、乙烯基醋酸、草醯醋酸、苯基醋酸、苯氧基醋酸等α取代醋酸；草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、壬二酸、辛二酸、癸二酸等二羧酸；二醇酸、乳酸、檸檬酸、d-酒石酸、中酒石酸、抗壞血酸、扁桃酸等羥基羧酸；丙酮酸、乙醯丙酸等酮羧酸；2-氯丙酸、3-氯丙酸等鹵代羧酸。
就單烷基碳酸而言，能夠列舉例如甲基碳酸、乙基碳酸等。
就芳香族羥基化合物而言，能夠列舉例如苯酚、甲基苯酚、鄰苯二酚、萘酚等。
就磺酸而言，能夠列舉例如辛基苯磺酸、丁基苯磺酸、甲苯磺酸、苯磺酸、甲磺酸等。
就無機酸而言，能夠列舉例如鹽酸、氟化氫酸、溴酸等鹵酸；碳酸；及過氯酸、過溴酸等過鹵化氫酸等。
在這些酸中，較佳係羧酸、芳香族羥基化合物、磺酸，更佳係飽和脂肪酸、芳香族羥基化合物、磺酸，特佳為作為強酸的磺酸，最佳為甲苯磺酸、甲磺酸、辛基苯磺酸。就脒鹽而言，較佳係DBU和甲苯磺酸的鹽、DBU和辛基苯磺酸的鹽、DBN和甲苯磺酸的鹽、DBN和辛基苯磺酸的鹽。
脒鹽可以單獨使用或混合兩種以上使用。就該感放射線性樹脂組成物中脒鹽的含有比例而言，相對於[A]共聚物100質量份，較佳為0.1質量份~10質量份，更佳為0.5質量份~5質量份。藉由使脒鹽的含有比例於上述特定範圍內，可以使該感放射線性樹脂組成物兼具更高水準的儲存穩定性和低溫燒製。
[醯胺化合物]
就醯胺化合物而言，可以使用由包含下述式(8)~(10)表示的具有醯胺基的化合物的群組中選出的至少一種物質。
上述式(8)中，R31及R32各自獨立地為氫原子、碳原子數1~12的烷基、環己基、苯基、萘基、乙烯基或2-吡啶基。其中，上述碳原子數1~12的烷基、苯基及萘基可以被碳原子數1~6的烷基、鹵素原子、羥基、羧基或乙醯基取代。
上述式(9)中，R33及R34各自獨立地為氫原子、碳原子數1~12的烷基或環己基。A2為亞甲基、碳原子數2~12的伸烷基、伸苯基、伸萘基或伸乙烯基。其中，上述亞甲基、碳原子數2~12的伸烷基、伸苯基及伸萘基可以被碳原子數1~6的烷基、鹵素原子取代。
上述式(10)中，R35及R36各自獨立地為氫原子、碳原子數1~12的烷基或環己基。A3為亞甲基、碳原子數2~12的伸烷基、伸苯基、伸萘基或伸乙烯基。其中，上述亞甲基、碳原子數2~12的伸烷基、伸苯基及伸萘基可以被碳原子數1~6的烷基、鹵素原子取代。
上述式(8)表示的醯胺化合物是分子內具有一個醯胺鍵的化合物。就其具體例子而言，能夠列舉例如乙醯胺、N-甲基乙醯胺、N-乙基乙醯胺、N-正丙基乙醯胺、N-異丙基乙醯胺、N-正丁基乙醯胺、N-異丁基乙醯胺、N-第三丁基乙醯胺、N-正己基乙醯胺、N-正辛基乙醯胺、N-正十二烷基乙醯胺、丙醯胺、丁醯胺、戊醯胺、異戊醯胺、辛醯胺、乙醯苯胺、乙醯乙醯苯胺、鄰乙醯胺苯甲酸、間乙醯胺苯甲酸、對乙醯胺苯甲酸、鄰乙醯胺苯酚、間乙醯胺苯酚、對乙醯胺苯酚、乙醯胺萘、鄰苯二甲醯胺酸、丙烯醯胺、苯甲醯胺、萘醯胺、菸鹼醯胺、異菸鹼醯胺等。
在這些物質中，從能夠提高室溫下的儲存穩定性、所獲得硬化膜的耐熱性、電壓保持率等方面考慮，較佳係乙醯胺、N-甲基乙醯胺、鄰苯二甲醯胺酸。
上述式(9)及(10)表示的化合物是分子內中具有兩個醯胺鍵的化合物。就其具體例子而言，能夠列舉例如鄰苯二甲醯胺、間苯二甲醯胺、對苯二甲醯胺、丙二醯胺、琥珀醯胺、戊二醯胺、己二醯胺、庚二醯胺、辛二醯胺、壬二醯胺、癸二醯胺、馬來醯胺、富馬醯胺、N,N’-二甲基-鄰苯二甲醯胺、N,N’-二甲基-間苯二甲醯胺、N,N’-二甲基-對苯二甲醯胺、N,N’-二乙醯基-鄰苯二胺、N,N’-二乙醯基-間苯二胺、N,N’-二乙醯基-對苯二胺、N,N’-二丙醯基-鄰苯二胺、N,N’-二丙醯基-間苯二胺、N,N’-二丙醯基-對苯二胺、N,N’-二乙醯基-伸乙基二胺、N,N’-二乙醯基-伸丙基二胺、N,N’-二乙醯基-亞丁基二胺、N,N’-二乙醯基-六亞甲基二胺、N,N’-二乙醯基-十二烷基亞甲基二胺、N,N’-二苯甲醯基-伸乙基二胺、N,N’-二苯甲醯基-伸丙基二胺、N,N’-二苯甲醯基-亞丁基二胺、N,N’-二苯甲醯基-六亞甲基二胺、N,N’-二苯甲.醯基-十二烷基亞甲基二胺、N,N’-二萘甲醯基-伸乙基二胺、N,N’-二萘甲醯基-伸丙基二胺、N,N’-二萘甲醯基-亞丁基二胺、N,N’-二萘甲醯基-六亞甲基二胺、N,N’-二萘甲醯基-十二烷基亞甲基二胺等。
在這些物質中，從能夠兼具高水準的儲存穩定性和低溫燒製方面考慮，較佳係間苯二甲醯胺、己二醯胺、N,N’-二乙醯基-對伸苯基二胺、N,N’-二乙醯基-六亞甲基二胺。
醯胺化合物可以單獨使用或混合兩種以上使用。就該感放射線性樹脂組成物中醯胺化合物的含有比例而言，相對於[A]共聚物100質量份，較佳為0.1質量份~10質量，更佳為0.5質量份~5質量。藉由使醯胺化合物的含有比例於上述特定範圍內，可以使該感放射線性樹脂組成物兼具更高水準的儲存穩定性和低溫燒製。
[酮亞胺化合物]
酮亞胺化合物可以藉由酮和胺的反應獲得。
就酮而言，能夠列舉例如乙基甲基酮、異戊基甲基酮、異丁基甲基酮、甲基第三丁基酮、乙基丁基酮、乙基異丁基酮、甲基戊基酮、二丙基酮、3-甲基-2-己酮、2-辛酮、3-辛酮、4-辛酮、甲基環己基酮、甲基環己酮等。
就胺而言，能夠列舉例如2,5-二甲基-2,5-己二胺、薄荷烷二胺、1,4-雙(2-胺基-2-甲基丙基)哌、在分子的兩個末端的伸丙基分支碳上鍵結了胺基的聚丙二醇、乙二胺、三亞甲基二胺、丙二胺、四亞甲基二胺、丁二胺、五亞甲基二胺、六亞甲基二胺、七亞甲基二胺、八亞甲基二胺、二伸乙基三胺、三伸乙基四胺、四伸乙基五胺、五伸乙基六胺、三甲基六亞甲基二胺、N-胺基乙基哌、亞胺基雙丙基胺、甲基亞胺基雙丙基胺、如H2N(CH2CH2O)2(CH2)2NH2般的在胺氮上鍵結了亞甲基的聚醚骨架的二胺、1,5-二胺基-2-甲基戊烷、聚乙二胺、異佛爾酮二胺、1,3-雙胺基甲基環己烷(1,3BAC)、1-環己基胺基-3-胺基丙烷、降莰烷骨架的二亞甲基胺(NBDA)、下述式表示的化合物等。
另外，可以使用胺基烷氧基矽烷作為胺。就胺基烷氧基矽烷而言，能夠列舉例如下述式(11)表示的化合物。
上述式中，R37為碳原子數1~6的烷基、碳原子數1~6的烷氧基或1價的矽氧烷衍生基團。R38為可以含有氮原子的伸烷基。R39為烷氧基。u為0~3的整數。
就R37所示的碳原子數1~6的烷基而言，較佳為甲基、乙基、丙基。就R37所示的碳原子數1~6的烷氧基而言，較佳係甲氧基、乙氧基、丙氧基。就R37所示的1價矽氧烷衍生基團而言，較佳係矽烷氧基。在這些物質中，更佳係甲氧基、乙氧基。
就R38所示的可以含氮原子的伸烷基之伸烷基而言，較佳係碳原子數1~6的伸烷基。就不含氮原子的伸烷基而言，較佳係亞甲基、伸乙基、伸丙基。就含氮原子的伸烷基而言，較佳係在上述不含氮原子的2價烴基中所例示的烴基上具有亞胺基(-NH-)的基團。在此等中，更佳係亞甲基、伸丙基、-C2H4NHC3H6-。
就R39所示的烷氧基而言，較佳係碳原子數1~6的烷氧基，更佳係甲氧基、乙氧基。
就藉由酮和胺基烷氧基矽烷的反應得到的含有矽的酮亞胺而言，能夠列舉例如下述式(12)表示的化合物、具有下述式(13)表示的結構單元的縮聚物等。
上述式(12)中，R40及R41各自獨立地為部分或全部氫原子可以被取代的1價烴基。其中，R40及R41也可以和它們分別鍵結的碳原子一起形成環結構。R42為碳原子數1~6的烷基或碳原子數1~6的烷氧基。R43為可以含有氮原子的伸烷基。R44為烷氧基。v為0~3的整數。
上述式(13)中，R45及R46各自獨立地為部分或全部氫原子可以被取代的1價烴基。其中，R45及R46也可以和它們分別鍵結的碳原子一起形成環結構。R47為可以含有氮原子的伸烷基。R48為碳原子數1~6的烷基或碳原子數1~6的烷氧基。
具有上述式(13)表示的結構單元的縮聚物的末端可以鍵結例如氫原子、甲基、乙基、丙基等碳原子數1~6的烷基；甲氧基、乙氧基、丙氧基等碳原子數1~6的烷氧基。
在這些胺中，較佳係具有脂環式結構或芳香環結構的二胺。就適合的酮亞胺而言，能夠列舉下述式(14)表示的化合物。
上述式(14)中，R49~R52各自獨立地為部分或全部氫原子可以被取代的1價烴基。其中，R49及R50也可以和它們分別鍵結的碳原子一起形成環結構。另外，R51及R52也可以和它們分別鍵結的碳原子一起形成環結構。R53為可以被取代的2價烴基。
就R49~R52所示的1價烴基而言，能夠列舉1價的脂肪族烴基、1價的脂環式烴基、1價的芳香族烴基。就1價的脂肪族烴基而言，能夠列舉例如碳原子數1~20的烷基、碳原子數2~20的烯基、碳原子數2~20的炔基。就1價的脂環式烴基而言，能夠列舉例如碳原子數3~20的環烷基。就1價的芳香族烴基而言，能夠列舉例如碳原子數6~20的芳基。
就上述碳原子數1~20的烷基而言，較佳係碳原子數1~12的烷基，更佳係碳原子數1~6的烷基。就較佳的具體例子而言，能夠列舉甲基、乙基、異丙基、丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、1,1-二甲基丙基、1-甲基丁基、1,1-二甲基丁基、己基。
就上述碳原子數2~20的烯基而言，較佳係碳原子數2~10的烯基，更佳係碳原子數2~6的烯基。就較佳的具體例子而言，能夠列舉乙烯基、烯丙基、丁烯基、己烯基。
就上述碳原子數2~20的炔基而言，較佳係碳原子數2~10的炔基，更佳係碳原子數2~6的炔基。就較佳的具體例子而言，能夠列舉乙炔基、丙炔基。
就上述碳原子數3~20的環烷基而言，較佳係碳原子數3~12的環烷基，更佳係碳原子數3~8的環烷基。就較佳的具體例子而言，能夠列舉環丙基、環丁基、環戊基、1-甲基環戊基、1-乙基環戊基、環己基。
就上述碳原子數6~20的芳基而言，較佳係碳原子數6~14的芳基。就較佳的具體例子而言，能夠列舉苯基、萘基、茚基、蒽基，更佳係苯基、2-萘基，特佳係苯基。
就R53所示的2價烴基而言，能夠列舉2價的脂肪族烴基、2價的脂環式烴基、2價的芳香族烴基、伸烷基-伸環烷基-伸烷基、伸環烷基-伸烷基-伸環烷基、伸烷基-伸芳基-伸烷基。
就上述2價的脂肪族烴基而言，能夠列舉例如碳原子數1~20的伸烷基、碳原子數2~20的伸烯基、碳原子數2~20的伸炔基。就2價的脂環式烴基而言，能夠列舉例如碳原子數3~20的伸環烷基、碳原子數3~20的伸環烯基。就2價的芳香族烴基而言，能夠列舉例如碳原子數6~20的伸芳基。
就上述碳原子數1~20的伸烷基而言，較佳係碳原子數1~12的伸烷基，更佳係碳原子數1~6的伸烷基。就較佳的具體例子而言，能夠列舉亞甲基、伸乙基、甲基伸乙基、三亞甲基、四亞甲基、五亞甲基、六亞甲基。
就上述碳原子數3~20的伸環烷基而言，較佳係碳原子數3~12的伸環烷基，更佳係碳原子數3~6的伸環烷基。就較佳的具體例子而言，能夠列舉伸環丙基、伸環丁基、伸環戊基、伸環己基。另外，就碳原子數3~20的伸環烯基而言，較佳係碳原子數3~12的伸環烯基，更佳係碳原子數3~6的伸環烯基。就較佳的具體例子而言，能夠列舉伸環丁烯基、伸環戊烯基、伸環己烯基。
就上述碳原子數6~18的2價的芳香族烴基而言，能夠列舉伸苯基、伸聯苯基、伸萘基、伸菲基、伸蒽基等伸芳基等。
就伸烷基-伸環烷基-伸烷基而言，較佳係碳原子數1~6的伸烷基-碳原子數3~12的伸環烷基-碳原子數1~6的伸烷基，特佳係碳原子數1~6的伸烷基-碳原子數3~6的伸環烷基-碳原子數1~6的伸烷基。就伸環烷基-伸烷基-伸環烷基而言，較佳係碳原子數3~12的伸環烷基-碳原子數1~6的伸烷基-碳原子數3~12的伸環烷基，特佳係碳原子數3~6的伸環烷基-碳原子數1~6的伸烷基-碳原子數3~6的伸環烷基。
就上述伸烷基-伸芳基-伸烷基而言，較佳係碳原子數1~6的伸烷基-碳原子數6~14的伸芳基-碳原子數1~6的伸烷基，特佳係碳原子數1~6的伸烷基-碳原子數6~10的伸芳基-碳原子數1~6的伸烷基。
酮亞胺的製造方法沒有特別的限制，例如可以藉由使酮和胺在室溫下或加熱下進行攪拌脫水反應來獲得。就反應溫度而言，較佳為20℃~150℃，更佳為50℃~110℃。就反應時間而言，較佳為2小時~24小時，更佳為2小時~5小時。
酮亞胺可以從市售產品獲得，能夠列舉例如H-3、H-30(以上，三菱化學公司生產)。
酮亞胺化合物可以單獨使用或混合兩種以上使用。就該感放射線性樹脂組成物中酮亞胺化合物的含有比例而言，相對於[A]共聚物100質量份，較佳為0.1質量份~10質量份，更佳為0.5質量份~5質量份。藉由使酮亞胺化合物的含有比例於上述特定範圍內，可以使該感放射線性樹脂組成物兼具更高水準的儲存穩定性和低溫燒製。
[封端型異氰酸酯化合物]
封端型多異氰酸酯化合物是使異氰酸酯基與含有活性氫的化合物(封端劑)進行反應形成的常溫惰性的物質。是具有一旦加熱，則封端劑離解而重新生成異氰酸酯基的性質的物質。藉由使該感放射線性樹脂組成物含有封端型多異氰酸酯，可以作為有效的交聯劑而進行異氰酸酯-羥基交聯反應，可以使該感放射線性樹脂組成物兼具高水準的儲存穩定性和低溫燒製。
封端型多異氰酸酯化合物可以由脂肪族或脂環族二異氰酸酯衍生的多異氰酸酯和具有活性氫的化合物(封端劑)藉由公知的反應獲得。
就二異氰酸酯而言，能夠列舉例如四亞甲基二異氰酸酯、戊烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯(HDI)、2,2,4-三甲基-1,6-二異氰酸酯基己烷、2,4,4-三甲基-1,6-二異氰酸酯基己烷、賴氨酸二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)、1,3-雙(異氰酸酯基甲基)環己烷、4,4-二環己基甲烷二異氰酸酯、降冰片烯二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、三二異氰酸酯、二甲代苯胺異氰酸酯、1,4-四亞甲基二異氰酸酯、1,5-五亞甲基二異氰酸酯、1,6-六亞甲基二異氰酸酯、3-異氰酸酯甲基-3,5,5-三甲基環己基二異氰酸酯等。
就市售產品而言，能夠列舉例如就用甲基乙基酮的肟對異氰酸酯基進行封端而形成者而言，能夠列舉DURANATE TPA-B80E、TPA-B80X、E402-B80T、MF-B60XN、MF-B60X、MF-B80M(以上，旭化成Chemicals公司生產)；就用活性亞甲基對異氰酸酯基進行封端而形成者而言，能夠列舉DURANATE MF-K60X(旭化成工業公司生產)；就具有(甲基)丙烯醯基的異氰酸酯化合物的封端物而言，能夠列舉Karenz MOI-BP、Karenz MOI-BM(以上，昭和電工公司生產)。在這些物質中，使用DURANATE E402-B80T、MF-K60X時表現出高可撓性，藉由形成與其它品種的混合系統，可以自由地控制其硬度，因此較佳。
就由二異氰酸酯衍生的多異氰酸酯而言，能夠列舉例如異氰脲酸酯型多異氰酸酯、縮二脲型多異氰酸酯、胺基甲酸酯型多異氰酸酯、脲基甲酸酯型多異氰酸酯等。從硬化性方面考慮，較佳係異氰脲酸酯型多異氰酸酯。
就封端劑而言，能夠列舉例如醇類化合物、酚類化合物、活性亞甲基類化合物、硫醇類化合物、酸醯胺類化合物、酸醯亞胺類化合物、咪唑類化合物、吡唑類化合物、尿素類化合物、肟類化合物、胺類化合物、亞胺類化合物、吡啶類化合物等。
就醇類化合物而言，能夠列舉例如甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、2-乙基己醇、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑、甲基卡必醇、苄醇、環己醇等；就酚類化合物而言，能夠列舉例如苯酚、甲基苯酚、乙基苯酚、丁基苯酚、壬基苯酚、二壬基苯酚、苯乙烯化苯酚、羥基苯甲酸酯等；就活性亞甲基類化合物而言，能夠列舉例如丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、乙醯丙酮等；就硫醇類化合物而言，能夠列舉例如丁基硫醇、十二烷基硫醇等；就酸醯胺類化合物而言，能夠列舉例如乙醯苯胺、醋酸醯胺、ε-己內醯胺、δ-戊內醯胺、γ-丁內醯胺等；就酸醯亞胺類化合物而言，能夠列舉例如琥珀醯亞胺、馬來醯亞胺等；就咪唑類化合物而言，能夠列舉例如咪唑、2-甲基咪唑等；就吡唑類化合物而言，能夠列舉例如3-甲基吡唑、3,5-二甲基吡唑、3,5-乙基吡唑等；就尿素類化合物而言，能夠列舉例如尿素、硫脲、伸乙基脲等；就肟類化合物而言，能夠列舉例如甲醛肟、乙醛肟、丙酮肟、甲基乙基酮肟、環己酮肟等；就胺類化合物而言，能夠列舉例如二苯基胺、苯胺、咔唑等；就亞胺類化合物而言，能夠列舉例如乙亞胺、聚乙亞胺等；就吡啶類化合物而言，能夠列舉例如2-羥基吡啶、2-羥基喹啉等。
封端型多異氰酸酯化合物可以單獨使用或混合兩種以上。就該感放射線性樹脂組成物中封端型多異氰酸酯化合物的含有吡例而言，相對於[A]共聚物100質量份，較佳為1質量份~40質量份，更佳為3質量份~20質量份。藉由使封端型多異氰酸酯化合物的含有吡例於上述範圍，可以使該感放射線性樹脂組成物兼具更高水準的儲存穩定性和低溫燒製。
[含咪唑環的化合物]
就含咪唑環的化合物而言，可以使用由包含下述式(15)表示的化合物的群組中選出的至少一種物質。
上述式(15)中，A5、A6、A7及R54各自獨立地為氫原子或可以具有取代基的碳原子數1~20的直鏈狀、支鏈狀或環狀的烴基。另外，A6和A7可以相互連接形成環。
就A5、A6、A7及R54所示的碳原子數1~20的直鏈狀、支鏈狀或環狀的烴基而言，能夠列舉例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、正十九烷基、正二十烷基等碳原子數1~20的烷基；環丙基、環丁基、環戊基、環己基等碳原子數3~20的環烷基；苯基、甲苯基、苄基、甲基苄基、二甲苯基、2，4，6-三甲苯基、萘基、蒽基等碳原子數6~20的芳基；降莰烷基、三環癸烷基、四環十二烷基、金剛烷基、甲基金剛烷基、乙基金剛烷基、丁基金剛烷基等碳原子數6~20的脂環式橋烴基等。
上述烴基可以被取代，就該取代基的具體例子而言，能夠列舉羥基；羧基；羥基甲基、1-羥基乙基、2-羥基乙基、1-羥基丙基、2-羥基丙基、3-羥基丙基、1-羥基丁基、2-羥基丁基、3-羥基丁基、4-羥基丁基等碳原子數1~4的羥基烷基；甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、2-甲基丙氧基、1-甲基丙氧基、第三丁氧基等碳原子數1~4的烷氧基；氰基；氰基甲基、2-氰基乙基、3-氰基丙基、4-氰基丁基等碳原子數2~5的氰基烷基；甲氧羰基、乙氧羰基、第三丁氧羰基等碳原子數2~5的烷氧羰基；甲氧羰基甲氧基、乙氧羰基甲氧基、第三丁氧羰基甲氧基等碳原子數3~6的烷氧羰基烷氧基；氟、氯等鹵素原子；氟甲基、三氟甲基、五氟乙基等氟烷基等。
就上述A6和A7相互連接形成的環而言，較佳可列舉芳香環、碳原子數2~20的飽和或不飽和的含氮雜環。就A6和A7相互連接形成的環為苯環時的含咪唑環的化合物而言，能夠列舉下述式(16)表示的化合物。
上述式(16)中，R54及A5與上述式(15)中的含義相同。R55~R58各自獨立地為可以具有取代基的碳原子數1~20的直鏈狀、支鏈狀或環狀的烴基。還有，就R55~R58所示的烴基而言，能夠列舉與上述式(15)中的烴基相同的基團。
就含咪唑環的化合物而言，較佳係2-苯基聯咪唑、2-甲基咪唑、2-甲基聯咪唑。含咪唑環的化合物可以單獨使用或混合兩種以上使用。就含咪唑環的化合物的含有比例而言，相對於[A]共聚物100質量份，較佳為0.1質量份~10質量份，更佳為0.2質量份~5質量份。藉由使含咪唑環的化合物的含有比例於上述特定範圍內，可以使該感放射線性樹脂組成物兼具更高水準的儲存穩定性和低溫燒製。
[籠合化合物]
本說明書中所謂的「籠合化合物」是指在下述式(17)表示的四酚類化合物、或式(18)表示的二羧酸類化合物中籠合咪唑化合物或聯咪唑化合物而形成的化合物。
上述式(17)中，X為單鍵、亞甲基或碳原子數2~6的伸烷基。R59~R66各自獨立地為氫原子、碳原子數1~12的烷基、可以具有取代基的苯基、鹵素原子或碳原子數1~12的烷氧基。
上述式(18)中，R67為碳原子數1~12的烷基、碳原子數1~12的烷氧基、硝基或羥基。
較佳係上述式(17)表示的四酚類化合物是上述式(17-1)表示的化合物。藉由形成上述式(17-1)表示的四酚類化合物，可以進一步提高儲存穩定性和促進低溫硬化。
上述式(17-1)中，X及R59~R66與上述式(17)中的含義相同。
就四酚類化合物而言，只要是上述式(17-1)表示的化合物就沒有特別的限制，能夠列舉例如1,1,2,2-肆(4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3-甲基-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3,5-二甲基-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3-氯-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3,5-二氯-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3-溴-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3,5-二溴-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3-第三丁基-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3,5-二第三丁基-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3-氟-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3,5-二氟-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3-甲氧基-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3,5-二甲氧基-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3-氯-5-甲基-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3-溴-5-甲基-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3-甲氧基-5-甲基-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3-第三丁基-5-甲基-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3-氯-5-溴-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆(3-氯-5-苯基-4-羥基苯基)乙烷、1,1,2,2-肆[(4-羥基-3-苯基)苯基]乙烷、1,1,3,3-肆(4-羥基苯基)丙烷、1,1,3,3-肆(3-甲基-4-羥基苯基)丙烷、1,1,3,3-肆(3,5-二甲基-4-羥基苯基)丙烷、1,1,3,3-肆(3-氯-4-羥基苯基)丙烷、1,1,3,3-肆(3,5-二氯-4-羥基苯基)丙烷、1,1,3,3-肆(3-溴-4-羥基苯基)丙烷、1,1,3,3-肆(3,5-二溴-4-羥基苯基)丙烷、1,1,3,3-肆(3-苯基-4-羥基苯基)丙烷、1,1,3,3-肆(3,5-二苯基-4-羥基苯基)丙烷、1,1,3,3-肆(3-甲氧基-4-羥基苯基)丙烷、1,1,3,3-肆(3,5-二甲氧基-4-羥基苯基)丙烷、1,1,3,3-肆(3-第三丁基-4-羥基苯基)丙烷、1,1,3,3-肆(3,5-二第三丁基-4-羥基苯基)丙烷、1,1,4,4-肆(4-羥基苯基)丁烷、1,1,4,4-肆(3-甲基-4-羥基苯基)丁烷、1,1,4,4-肆(3,5-二甲基-4-羥基苯基)丁烷、1,1,4,4-肆(3-氯-4-羥基苯基)丁烷、1,1,4,4-肆(3,5-二氯-4-羥基苯基)丁烷、1,1,4,4-肆(3-甲氧基-4-羥基苯基)丁烷、1,1,4,4-肆(3,5-二甲氧基-4-羥基苯基)丁烷、1,1,4,4-肆(3-溴-4-羥基苯基)丁烷、1,1,4,4-肆(3,5-二溴-4-羥基苯基)丁烷、1,1,4,4-肆(3-第三丁基-4-羥基苯基)丁烷、1,1,4,4-肆(3,5-二第三丁基-4-羥基苯基)丁烷、肆(4-羧基苯基)乙烷、肆(4-羧基苯基)乙烷四甲基酯、肆(4-羧基苯基)乙烷四乙基酯、肆(4-羧基苯基)乙烷四正丙基酯、肆(4-羧基苯基)乙烷四苄基酯、肆(3,5-二甲基-4-羧基苯基)乙烷、肆(3,5-二甲基-4-羧基苯基)乙烷四甲基酯、肆(3,5-二甲基-4-羧基苯基)乙烷四乙基酯、肆(3,5-二甲基-4-羧基苯基)乙烷四正丙基酯、肆(3,5-二甲基-4-羧基苯基)乙烷四苄基酯、肆(4-羧基苯基)乙烷四鈉鹽、肆(4-羧基苯基)乙烷四鉀鹽、肆(3-羧基苯基)乙烷、肆(3-羧基苯基)乙烷四甲基酯、肆(3-羧基-4,5-二甲基苯基)乙烷、肆(3-羧基苯基)乙烷四乙基酯、肆(3-羧基苯基)乙烷四正丙基酯、肆(3-羧基苯基)乙烷四苄基酯、肆(3-羧基-4,5-二甲基苯基)乙烷、肆(3-羧基-4,5-二甲基苯基)乙烷四甲基酯、肆(3-羧基-4,5-二甲基苯基)乙烷四乙基酯、肆(3-羧基-4,5-二甲基苯基)乙烷四正丙基酯、肆(3,5-二甲基-4-羧基苯基)乙烷四苄基酯、肆(3-羧基苯基)乙烷四鈉鹽、肆(3-羧基苯基)乙烷四鉀鹽等。
在此等中，使用以1,1’,2,2’-肆(4-羥基苯基)乙烷籠合的咪唑化合物或聯咪唑化合物時，該感放射線性樹脂組成物在室溫下的儲存穩定性更優異，並且在加熱時容易釋放出硬化促進劑，因此較佳。
就二羧酸類化合物而言，只要是上述式(2)表示的化合物就沒有特別的限制，能夠列舉例如5-硝基鄰苯二甲酸、5-羥基鄰苯二甲酸、5-甲基鄰苯二甲酸、5-甲氧基鄰苯二甲酸、4-硝基鄰苯二甲酸、4-羥基鄰苯二甲酸、4-甲基鄰苯二甲酸、4-甲氧基鄰苯二甲酸等。在此等中，較佳係5-硝基鄰苯二甲酸、5-羥基鄰苯二甲酸。
由於咪唑化合物和上述四酚類化合物或二羧酸類化合物形成了穩定的籠合化合物，因此提高了該感放射線性樹脂組成物室溫下的儲存穩定性。另外，由於咪唑化合物與環氧基的反應性優異，因此有助於200℃以下的低溫硬化。
就咪唑化合物而言，能夠列舉在上述含咪唑環的化合物的項目中說明的上述式(15)表示的化合物等。
作為具體的咪唑化合物，能夠列舉例如咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑、2-異丙基咪唑、2-正丙基咪唑、2-十一烷基-1H-咪唑、2-十七烷基-1H-咪唑、1,2-二甲基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基-1H-咪唑、4-甲基-2-苯基-1H-咪唑、2-苯基-4-甲基咪唑、1-苄基-2-甲基咪唑、1-氰基乙基-2-甲基咪唑、1-氰基乙基-2-乙基-4-甲基咪唑、1-氰基乙基-2-十一烷基咪唑、1-氰基乙基-2-苯基咪唑、1-氰基乙基-2-乙基-4-甲基咪唑偏苯三酸鹽、1-氰基乙基-2-十一烷基咪唑偏苯三酸鹽、1-氰基乙基-2-苯基咪唑偏苯三酸鹽、2,4-二胺基-6-[2’-甲基咪唑基-(1’)]-乙基-s-三、2,4-二胺基-6-(2’-十一烷基咪唑基-)-乙基-s-三、2,4-二胺基-6-[2’-乙基-4-咪唑基-(1’)]-乙基-s-三、2,4-二胺基-6-[2’-甲基咪唑基-(1’)]-乙基-s-三異氰脲酸加成物、2-苯基咪唑異氰脲酸加成物、2-甲基咪唑異氰脲酸加成物、2-苯基-4,5-二羥基甲基咪唑、2-苯基-4-甲基-5-羥基甲基咪唑、1-氰基乙基-2-苯基-4,5-二(2-氰基乙氧基)甲基咪唑、1-十二烷基-2-甲基-3-苄基咪唑氯化物、1-苄基-2-苯基咪唑鹽酸鹽、1-苄基-2-苯基咪唑偏苯三酸鹽等。
較佳係上述咪唑化合物具有1個以上碳原子數1~6的取代基。由於這種咪唑化合物被穩定地籠合，因此不會對該感放射線性樹脂組成物的儲存穩定性造成不良影響，並且立體障礙小，反應性優異，籠合崩解時可以發揮低溫硬化性。
就上述具有1個以上碳原子數1~6的取代基的咪唑化合物而言，能夠列舉例如2-甲基咪唑、2-苯基咪唑等具有1個碳原子數1~6的取代基的咪唑化合物；2-乙基-4-甲基咪唑、1,2-二甲基咪唑、2-苯基-4-甲基-5-羥基甲基咪唑等碳原子數具有兩個1~6的取代基的咪唑化合物等。
就用上述四酚類化合物或二羧酸類化合物籠合上述咪唑化合物的方法而言，沒有特別的限制，能夠列舉例如日本特開平11-071449號公報中記載的方法等。
在這些咪唑化合物中，從使組成物兼具高水準的儲存穩定性和硬化促進性方面考慮，較佳係2-苯基-4-甲基-5-羥基甲基咪唑。
就聯咪唑化合物而言，能夠列舉在上述含咪唑環的化合物的項目中說明的上述式(16)表示的化合物等。
就聯咪唑化合物而言，能夠列舉例如2-甲基聯咪唑、4-甲基聯咪唑、5-甲基聯咪唑、6-甲基聯咪唑、7-甲基聯咪唑、2-甲基-6-甲基聯咪唑、2-甲基-6-甲基聯咪唑、2-甲基-5-甲基聯咪唑、2-甲基-5-甲基聯咪唑、2-乙基-6-甲基聯咪唑、2-甲基-6-乙基聯咪唑、2-乙基-5-甲基聯咪唑、2-甲基-5-乙基聯咪唑等。
在此等中，從使組成物兼具高水準的儲存穩定性和硬化促進性方面考慮，較佳係2-甲基聯咪唑、2-甲基-6-甲基聯咪唑、2-甲基-5-甲基聯咪唑。
上述聯咪唑化合物較佳係具有1個以上碳原子數1~6的取代基。由於這種咪唑化合物被穩定地籠合，因此不會對該感放射線性樹脂組成物的儲存穩定性造成不良影響，並且立體障礙小，因此，反應性優異，籠合崩解時可以發揮低溫硬化性。
就上述具有1個以上碳原子數1~6的取代基之聯咪唑化合物而言，能夠列舉例如2-甲基聯咪唑等具有1個碳原子數1~6的取代基之聯咪唑化合物；2-甲基-6-甲基聯咪唑、2-甲基-5-甲基聯咪唑等具有兩個碳原子數1~6的取代基之聯咪唑化合物等。
籠合化合物可以單獨使用或混合兩種以上使用。就籠合化合物的含有比例而言，相對於[A]共聚物100質量份，較佳為0.1質量份~10質量份，更佳為0.5質量份~5質量份。藉由使籠合化合物的含有比例於上述特定範圍內，可以使該感放射線性樹脂組成物兼具更高水準的儲存穩定性和低溫燒製。
＜其它任意成分＞
該感放射線性樹脂組成物，除了上述的[A]共聚物、[B]醌二疊氮化合物、[C]硬化劑外，必要時可以在不損害本發明效果的範圍內含有界面活性劑、黏接助劑、耐熱性增強劑、熱敏性酸產生劑等任意成分。這些任意成分可以單獨使用，也可以混合使用兩種以上。以下，對各種成分進行詳細描述。
[界面活性劑]
界面活性劑是為了進一步提高感放射線性樹脂組成物的覆膜形成性而使用的。就界面活性劑而言，能夠列舉例如氟類界面活性劑、聚矽氧樹脂類界面活性劑及其它的界面活性劑。
就氟類界面活性劑而言，較佳係末端、主鏈及側鏈的中的至少一個部位上具有氟烷基和/或伸氟烷基的化合物，能夠列舉例如1,1,2,2-四氟-正辛基(1,1,2,2-四氟-正丙基)醚、1,1,2,2-四氟-正辛基(正己基)醚、六乙二醇二(1,1,2,2,3,3-六氟-正戊基)醚、八乙二醇二(1,1,2,2-四氟-正丁基)醚、六丙二醇二(1,1,2,2,3,3-六氟-正戊基)醚、八丙二醇二(1,1,2,2-四氟-正丁基)醚、全氟-正十二烷磺酸鈉、1,1,2,2,3,3-六氟-正癸烷、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-十氟-正十二烷、及氟烷基苯磺酸鈉、氟烷基磷酸鈉、氟烷基羧酸鈉、二甘油四(氟烷基聚氧乙烯醚)、氟烷基碘化銨、氟烷基甜菜鹼、其他氟烷基聚氧乙烯醚、全氟烷基聚氧乙醇、全氟烷基烷氧化物、羧酸氟烷基酯等。
就氟類界面活性劑的市售產品而言，能夠列舉例如BM-1000、BM-1100(以上，BM CHEMIE公司)、MEGAFAC F142D、MEGAFAC F172、MEGAFAC F173、MEGAFAC F183、MEGAFAC F178、MEGAFAC F191、MEGAFAC F471、MEGAFAC F476(以上，大日本油墨化學工業公司)、Fluorad FC-170C、Fluorad FC-171、Fluorad FC-430、Fluorad FC-431(以上，住友3M公司)、surflon S-112、surflon S-113、surflon S-131、surflon S-141、surflon S-145、surflon S-382、surflon SC-101、surflon SC-102、surflon SC-103、surflon SC-104、surflon SC-105、surflon SC-106(以上，旭硝子公司)、Eftop EF301、Eftop EF 303、Eftop EF 352(以上，新秋田化成公司)、FTERGENT FT-100、FTERGENT FT-110、FTERGENT FT-140A、FTERGENT FT-150、FTERGENT FT-250、FTERGENT FT-251、FTERGENT FT-300、FTERGENT FT-310、FTERGENT FT-400S、FTERGENT FTX-218、FTERGENT FTX-251(以上，NEOS公司)等。
就聚矽氧樹脂類界面活性劑的市售產品而言，能夠列舉例如TORAY SILICONE DC3PA、TORAY SILICONE DC7PA、TORAY SILICONE SH11PA、TORAY SILICONE SH21PA、TORAY SILICONE SH28PA、TORAY SILICONE SH29PA、TORAY SILICONE SH30PA、TORAY SILICONE SH-190、TORAY SILICONE SH-193、TORAY SILICONE SZ-6032、TORAY SILICONE SF-8428、TORAY SILICONE DC-57、TORAY SILICONE DC-190(以上，TORAY‧DOW CORNING‧SILICONE公司)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452(以上，GE Toshiba Silicones公司)、有機矽氧烷聚合物KP341(信越化學工業公司)等。
就其它的界面活性劑而言，能夠列舉例如聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚等聚氧乙烯烷基醚；聚氧乙烯-正辛基苯基醚、聚氧乙烯-正壬基苯基醚等聚氧乙烯芳基醚；聚氧乙烯二月桂酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯等聚氧乙烯二烷基酯等非離子類界面活性劑、(甲基)丙烯酸類共聚物POLYFLOW No.57、POLYFLOW No.95(以上，共榮社化學公司)等。
就界面活性劑的使用量而言，相對於[A]共聚物100質量份，較佳為1.0質量份以下，更佳為0.7質量份以下。如果界面活性劑的使用量超過1.0質量份，則容易產生膜不勻。
[黏接助劑]
黏接助劑是為了進一步提高所獲得的圖案和基板的黏接性而使用的。就黏接助劑而言，較佳係具有羧基、甲基丙烯醯基、乙烯基、異氰酸酯基、環氧乙烷基等具有反應性官能基的官能性矽烷偶合劑，能夠列舉例如三甲氧基甲矽烷基苯甲酸、γ-甲基丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、γ-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷、γ-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、β-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等。
作為黏接助劑的使用量，相對於[A]共聚物100質量份，較佳為20質量份以下，更佳為15質量份以下。如果黏接助劑的使用量超過20質量份，則容易產生顯影殘留。
[耐熱性提高劑]
就耐熱性提高劑而言，能夠列舉例如N-(烷氧基甲基)甘脲化合物、N-(烷氧基甲基)三聚氰胺化合物等。
就N-(烷氧基甲基)甘脲化合物而言，能夠列舉例如N,N’,N”,N’’’-四(甲氧基甲基)甘脲、N,N,N’,N’-四(乙氧基甲基)甘脲、N,N,N’,N’-四(正丙氧基甲基)甘脲、N,N,N’,N’-四(異丙氧基甲基)甘脲、N,N,N’,N’-四(正丁氧基甲基)甘脲、N,N,N’,N’-四(第三丁氧基甲基)甘脲等。在這些N-(烷氧基甲基)甘脲化合物中，較佳係N,N,N’,N’-四(甲氧基甲基)甘脲。
就N-(烷氧基甲基)三聚氰胺化合物而言，能夠列舉例如N,N,N’,N’,N”,N”-六(甲氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N’,N’,N”,N”-六(乙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N’,N’,N”,N”-六(正丙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N’,N’,N”,N”-六(異丙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N’,N’,N”,N”-六(正丁氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N’,N’,N”,N”-六(第三丁氧基甲基)三聚氰胺等。在這些N-(烷氧基甲基)三聚氰胺化合物中，較佳係N,N,N’,N’,N”,N”-六(甲氧基甲基)三聚氰胺。就市售產品而言，能夠列舉例如NIKALAC N-2702、NIKALAC MW-30M(以上，Sanwa Chemical公司)等。
就耐熱性提高劑的使用量而言，相對於[A]共聚物100質量份，較佳為50質量份以下，更佳為30質量份以下。如果耐熱性提高劑的摻合量超過50質量份，則可能導致敏感度下降，圖案形狀變差。
[熱敏性酸產生劑]
熱敏性酸產生劑被定義為藉由加熱使[A]共聚物硬化時能夠釋放出起催化劑作用的酸性活性物質的化合物。藉由使用這種熱敏性酸產生劑，可以在感放射線性組成物的顯影後的加熱步驟中促進[A]共聚物的硬化反應，形成表面硬度及耐熱性優異的硬化膜。
熱敏性酸產生劑包含離子性化合物及非離子性化合物。就離子性化合物而言，較佳係不含有重金屬及鹵素離子者。就離子性的熱敏性酸產生劑而言，能夠列舉例如三苯基鋶、1-二甲基硫萘、1-二甲基硫-4-羥基萘、1-二甲基硫-4,7-二羥基萘、4-羥基苯基二甲基鋶、苄基-4-羥基苯基甲基鋶、2-甲基苄基-4-羥基苯基甲基鋶、2-甲基苄基-4-乙醯基苯基甲基鋶、2-甲基苄基-4-苯甲醯基氧苯基甲基鋶、它們的甲烷磺酸鹽、三氟甲烷磺酸鹽、樟腦磺酸鹽、對甲苯磺酸鹽、六氟磷酸鹽等。另外，就苄基鋶鹽的市售產品而言，能夠列舉例如SI-60、SI-80、SI-100、SI-110、SI-145、SI-150、SI-80L、SI-100L、SI-110L、SI-145L、SI-150L、SI-160L、SI-180L(以上，三新化學工業公司)等。
就非離子性的熱敏性酸產生劑而言，能夠列舉例如含鹵素化合物、重氮甲烷化合物、碸化合物、磺酸酯化合物、羧酸酯化合物、磷酸酯化合物、碸醯亞胺化合物、碸苯并三唑化合物等。
就含鹵素化合物而言，能夠列舉例如含鹵烷基的烴化合物、含鹵烷基的雜環狀化合物等。就較佳的含鹵素化合物而言，能夠列舉1,1-雙(4-氯苯基)-2,2,2-三氯乙烷、2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-萘基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三。
就重氮甲烷化合物而言，能夠列舉例如雙(三氟甲基磺醯基)重氮甲烷、雙(環己基磺醯基)重氮甲烷、雙(苯基磺醯基)重氮甲烷、雙(對甲苯基磺醯基)重氮甲烷、雙(2,4-二甲苯磺醯基)重氮甲烷、雙(對氯苯基磺醯基)重氮甲烷、甲基磺醯基-對甲苯磺醯基重氮甲烷、環己基磺醯基(1,1-二甲基乙基磺醯基)重氮甲烷、雙(1,1-二甲基乙基磺醯基)重氮甲烷、苯基磺醯基(苯甲醯基)重氮甲烷等。
就碸化合物而言，能夠列舉例如β-酮碸化合物、β-磺醯基碸化合物、二芳基二碸化合物等。就較佳的碸化合物而言，能夠列舉4-三苯甲醯甲基碸、2,4,6-三甲苯基苯甲醯甲基碸、雙(苯基磺醯基)甲烷、4-氯苯基-4-甲基苯基二碸化合物。
就磺酸酯化合物而言，能夠列舉例如烷基磺酸酯、鹵烷基磺酸酯、芳基磺酸酯、亞胺基磺酸酯等。就較佳的磺酸酯化合物而言，能夠列舉苯偶姻對甲苯磺酸酯、焦酚三甲磺酸酯、硝基苄基-9,10-二乙氧基蒽-2-磺酸酯、2,6-二硝基苄基苯磺酸酯。作為亞胺基磺酸酯的市售產品，能夠列舉例如PAI-101、PAI-106(以上，Midori Kagaku公司)、CGI-1311(Ciba Speciality Chemicals公司)等。
就羧酸酯化合物而言，能夠列舉例如羧酸鄰硝基苄基酯等。
就碸醯亞胺化合物而言，能夠列舉例如N-(三氟甲基磺醯氧基)琥珀醯亞胺(商品名「SI-105」，Midori Kagaku公司)、N-(樟腦磺醯氧基)琥珀醯亞胺(商品名「SI-106」，Midori Kagaku公司)、N-(4-甲基苯基磺醯氧基)琥珀醯亞胺(商品名「SI-101」，Midori Kagaku公司)、N-(2-三氟甲基苯基磺醯氧基)琥珀醯亞胺、N-(4-氟苯基磺醯氧基)琥珀醯亞胺、N-(三氟甲基磺醯氧基)鄰苯二甲醯亞胺、N-(樟腦磺醯氧基)鄰苯二甲醯亞胺、N-(2-三氟甲基苯基磺醯氧基)鄰苯二甲醯亞胺、N-(2-氟苯基磺醯氧基)鄰苯二甲醯亞胺、N-(三氟甲基磺醯氧基)二苯基馬來醯亞胺(商品名「PI-105」，Midori Kagaku公司)、N-(樟腦磺醯氧基)二苯基馬來醯亞胺、4-甲基苯基磺醯氧基)二苯基馬來醯亞胺、N-(2-三氟甲基苯基磺醯氧基)二苯基馬來醯亞胺、N-(4-氟苯基磺醯氧基)二苯基馬來醯亞胺、N-(4-氟苯基磺醯氧基)二苯基馬來醯亞胺、N-(苯基磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基醯亞胺(商品名「NDI-100」，Midori Kagaku公司)、N-(4-甲基苯基磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基醯亞胺(商品名「NDI-101」，Midori Kagaku公司)、N-(三氟甲烷磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2.3-二羧基醯亞胺(商品名「NDI-105」，Midori Kagaku公司)、N-(九氟丁烷磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基醯亞胺(商品名「NDI-109」，Midori Kagaku公司)、N-(樟腦磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基醯亞胺(商品名「NDI-106」，Midori Kagaku公司)、N-(樟腦磺醯氧基)-7-氧雜雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基醯亞胺、N-(三氟甲基磺醯氧基)-7-氧雜雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基醯亞胺、N-(4-甲基苯基磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基醯亞胺、N-(4-甲基苯基磺醯氧基)-7-氧雜雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基醯亞胺、N-(2-三氟甲基苯基磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基醯亞胺、N-(2-三氟甲基苯基磺醯氧基)-7-氧雜雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基醯亞胺、N-(4-氟苯基磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基醯亞胺、N-(4-氟苯基磺醯氧基)-7-氧雜雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基醯亞胺、N-(三氟甲基磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚烷-5,6-氧-2,3-二羧基醯亞胺、N-(樟腦磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚烷-5,6-氧-2,3-二羧基醯亞胺、N-(4-甲基苯基磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚烷-5,6-氧-2,3-二羧基醯亞胺、N-(2-三氟甲基苯基磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚烷-5,6-氧-2,3-二羧基醯亞胺、N-(4-氟苯基磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚烷-5,6-氧-2,3-二羧基醯亞胺、N-(三氟甲基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺(商品名「NAI-105」，Midori Kagaku公司)、N-(樟腦磺醯氧基)萘二甲醯亞胺(商品名「NAI-106」，Midori Kagaku公司)、N-(4-甲基苯基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺(商品名「NAI-101」，Midori Kagaku公司)、N-(苯基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺(商品名「NAI-100」，Midori Kagaku公司)、N-(2-三氟甲基苯基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺、N-(4-氟苯基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺、N-(五氟乙基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺、N-(七氟丙基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺、N-(九氟丁基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺(商品名「NAI-109」，Midori Kagaku公司)、N-(乙基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺、N-(丙基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺、N-(丁基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺(商品名「NAI-1004」，Midori Kagaku公司)、N-(戊基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺、N-(己基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺、N-(庚基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺、N-(辛基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺、N-(壬基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺等。
就其它的熱敏性酸產生劑而言，能夠列舉例如1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩三氟甲烷磺酸鹽、1-(4,7-二丁氧基-1-萘基)四氫噻吩三氟甲烷磺酸鹽等四氫噻吩鹽。
在這些熱敏性酸產生劑中，從[A]共聚物硬化反應的催化劑作用方面考慮，更佳係苄基-4-羥基苯基甲基鋶六氟磷酸鹽、1-(4,7-二丁氧基-1-萘基)四氫噻吩三氟甲烷磺酸鹽、N-(三氟甲基磺醯氧基)萘二甲醯亞胺。
就熱敏性酸產生劑的使用量而言，相對於[A]共聚物100質量份，較佳為0.1質量份~10質量份，更佳為1質量份~5質量份。藉由使熱敏性酸產生劑的使用量於上述範圍內，可以使感放射線性組成物的敏感度達到最佳化，形成在保持透明性的同時表面硬度高的硬化膜。
＜感放射線性樹脂組成物的配製方法＞
本發明的感放射線性樹脂組成物是藉由將[A]共聚物、[B]醌二疊氮化合物、[C]硬化劑及必要時的任意成分進行均勻混合而配製的。該感放射線性樹脂組成物，較佳係溶解在適當溶劑中在溶液狀下使用。
就在該感放射線性樹脂組成物的配製中使用的溶劑而言，可使用能均勻溶解必需成分及任意成分，不與各成分反應的溶劑。就這種溶劑而言，能夠列舉與上述作為可被用於製造[A]共聚物的溶劑而例示的溶劑相同的溶劑。
在這種溶劑中，從各成分的溶解性、與各成分的反應性、覆膜形成的容易性等方面考慮，能夠列舉例如乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇單正丙基醚、乙二醇單正丁基醚、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二醇單正丙基醚、二乙二醇單正丁基醚、三乙二醇單甲基醚、三乙二醇單乙基醚、丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚、丙二醇單正丙基醚、丙二醇單正丁基醚、二丙二醇單甲基醚、二丙二醇單乙基醚、二丙二醇單正丙基醚、二丙二醇單正丁基醚、三丙二醇單甲基醚、三丙二醇單乙基醚等(聚)伸烷基二醇單烷基醚類；醋酸乙二醇單甲基醚、醋酸乙二醇單乙基醚、醋酸乙二醇單正丙基醚、醋酸乙二醇單正丁基醚、醋酸二乙二醇單甲基醚、醋酸二乙二醇單乙基醚、醋酸二乙二醇單正丙基醚、醋酸二乙二醇單正丁基醚、醋酸丙二醇單甲基醚、醋酸丙二醇單乙基醚、醋酸3-甲氧基丁基、醋酸3-甲基-3-甲氧基丁基等醋酸(聚)伸烷基二醇單烷基醚類；二乙二醇二甲基醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙基醚、四氫呋喃等其它醚類；甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮、雙丙酮醇(4-羥基-4-甲基戊-2-酮)、4-羥基-4-甲基己烷-2-酮等酮類；丙二醇二醋酸酯、1,3-亞丁基二醇二醋酸酯、1,6-己二醇二醋酸酯等二醋酸酯類；乳酸甲酯、乳酸乙酯等乳酸烷基酯類；醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸異丙酯、醋酸正丁酯、醋酸異丁酯、甲酸正戊酯、醋酸異戊酯、丙酸正丁酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸異丙酯、丁酸正丁酯、羥基醋酸乙酯、乙氧基醋酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等其它酯類；甲苯、二甲苯等芳香族烴類；N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺等醯胺類等。
在這些溶劑中，從溶解性、顏料分散性、塗布性等方面考慮，較佳係丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚、醋酸乙二醇單甲基醚、醋酸丙二醇單甲基醚、醋酸丙二醇單乙基醚、醋酸3-甲氧基丁酯、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇甲基乙基醚、環己酮、2-庚酮、3-庚酮、1,3-亞丁基二醇二醋酸酯、1,6-己二醇二醋酸酯、乳酸乙酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、醋酸正丁酯、醋酸異丁酯、甲酸正戊酯、醋酸異戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸異丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸乙酯。溶劑可單獨使用或使用兩種以上。
另外，也可以與上述溶劑一起，同時使用苄基乙基醚、二正己基醚、丙酮基丙酮、異佛爾酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、醋酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、馬來酸二乙酯、γ-己內酯、碳酸亞乙酯、碳酸亞丙酯、乙二醇單苯基醚醋酸酯等高沸點溶劑。上述高沸點溶劑可以單獨使用或使用兩種以上。
就溶劑的含有量而言沒有限制，其中從獲得的感放射線性樹脂組成物的塗布性、穩定性等方面考慮，較佳是使該感放射線性樹脂組成物中除溶劑以外的各種成分的合計濃度為5質量%~50質量%的量，更佳為使其為10質量%~40質量%的量。將該感放射線性樹脂組成物配製成溶液狀態時，固體含量濃度(組成物溶液中溶劑以外的成分)可根據使用目的及預期的膜厚值等設定為任意的濃度(例如5質量%~50質量%)。更佳的固體含量濃度，根據在基板上形成覆膜的方法而有所不同，下文對此進行說明。使用孔徑0.5μm左右的微孔過濾器等對如此配製的組成物溶液進行過濾後，可以進行使用。
＜硬化膜的形成方法＞
該感放射線性樹脂組成物兼具低溫燒製和儲存穩定性，並且具有高感放射線性，能夠形成適宜用作可撓性顯示器的作為表面硬度、耐溶劑性及相對介電常數優異的層間絕緣膜、保護膜或隔離物的硬化膜。
本發明的硬化膜的形成方法具有：
(1)在基板上形成該感放射線性樹脂組成物的塗膜的步驟；
(2)對上述塗膜的至少一部分照射放射線的步驟；
(3)使經過上述放射線照射的塗膜顯影的步驟；及
(4)對經過上述顯影的塗膜進行燒製的步驟。
使用該感放射線性樹脂組成物，藉由上述步驟形成硬化膜時，由於是藉由利用感放射線性的曝光、顯影來形成圖案，因而能夠容易地形成微細而精巧的圖案。另外，使用該感放射線性樹脂組成物形成的硬化膜即使進行低溫燒製也具有足夠的表面硬度等。以下，對各個步驟進行詳細說明。
[(1)步驟]
在本步驟中，在基板表面上塗布該感放射線性樹脂組成物的溶液，較佳係藉由預烘焙而除去溶劑，形成感放射線性樹脂組成物的塗膜。就能夠使用的基板的種類而言，能夠列舉例如玻璃基板、矽片、塑膠基板、及在它們的表面上形成各種金屬而得到的基板。作為上述塑膠基板，能夠列舉由聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯、聚醚碸、聚碳酸酯、聚醯亞胺等塑膠形成的樹脂基板。
就塗布方法而言，可以採用例如噴塗法、輥塗法、旋轉塗布法(旋塗法)、縫模塗布法、棒塗布法、噴墨法等適當的方法。在這些塗布方法中，較佳係旋塗法、棒塗布法、縫模塗布法。預烘焙的條件根據各成分的種類、使用比例等而有所不同，可設定為例如在60℃~90℃下進行30秒~10分鐘左右。就形成的塗膜膜厚而言，以預烘後的值計，較佳為0.1μm~8μm，更佳為0.1μm~6μm，特佳為0.1μm~4μm。
[(2)步驟]
在本步驟中，透過具有規定圖案的光罩對藉由(1)步驟形成的塗膜照射放射線。就此時使用的放射線而言，能夠列舉例如紫外線、遠紫外線、X放射線、帶電粒子束等。
就上述紫外線而言，能夠列舉例如g線(波長436nm)、i線(波長365nm)等。就遠紫外線而言，能夠列舉例如KrF準分子雷射等。就X放射線而言，能夠列舉例如同步加速器放射線等。就帶電粒子束而言，能夠列舉例如電子束等。在這些放射線中，較佳係紫外線，特佳係紫外線中含有g線和/或i線的放射線。曝光量較佳為30J/m2~1,500J/m2。
[(3)步驟]
在本步驟，對藉由(2)步驟照射了放射線的塗膜進行顯影，除被放射線照射的部分，能夠形成預期的圖案。作為顯影處理中使用的顯影液，可以使用例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨水、乙基胺、正丙基胺、二乙胺、二乙基胺基乙醇、二正丙基胺、三乙基胺、甲基二乙基胺、二甲基乙醇胺、三乙醇胺、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5,4,0]-7-十一烯、1,5-二氮雜雙環[4,3,0]-5-壬烷等鹼(鹼性化合物)的水溶液。另外，也可以使用在上述鹼的水溶液中加入適量甲醇、乙醇等水溶性有機溶劑、界面活性劑後形成的水溶液、或含有少量能夠溶解感放射線性樹脂組成物的各種有機溶劑的鹼水溶液作為顯影液。另外，就顯影方法而言，可以利用例如盛液法(旋覆浸沒法)、浸泡法、搖動浸漬法、噴啉法等適當方法。就顯影時間而言，根據感放射線性樹脂組成物的組成而有所不同，例如可設定為30秒~120秒。
在該顯影步驟後，藉由流水洗滌對圖案化的塗膜進行漂洗處理，接著，較佳係利用高壓水銀燈等進行全面地放射線照射(後曝光)，從而進行塗膜中殘留的[B]醌二疊氮化合物的分解處理。
[(4)步驟]
在本步驟中，使用對經過(3)步驟顯影的塗膜進行燒製的加熱板、烘箱等加熱裝置，對該塗膜進行加熱、燒製處理(後烘焙處理)，從而進行塗膜的硬化。上述後曝光中的曝光量較佳為2,000J/m2~5,000J/m2左右。另外，本步驟中的燒製溫度較佳為200℃以下。除了利用感放射線性形成微細圖案的能力外，由於可以在如這樣在低溫下進行燒製，因而該形成方法適宜被用於在可撓性顯示器的塑膠基板上形成層間絕緣膜等硬化膜。就燒製溫度而言，更佳為120℃~180℃，特佳為120℃~150℃。燒製時間根據加熱設備的種類而有所不同，例如在加熱板上進行加熱處理時設定為5分~40分，在烘箱中進行加熱處理時設定為30分~80分，特佳在加熱板上進行加熱處理時為30分鐘以內，在烘箱中進行加熱處理時為60分鐘以內。按照這種方式，就可以在基板的表面上形成與目標層間絕緣膜等硬化膜對應的圖案狀塗膜。
＜液晶顯示元件的陣列基板的形成方法＞
液晶顯示元件是藉由在貼合彩色濾光器和陣列基板而形成的液晶單元中封入液晶而形成的。本發明的液晶顯示元件的陣列基板具備本發明的硬化膜、積層於該硬化膜上且由液晶配向劑形成的配向膜。
[步驟(5)]
本發明的陣列基板的形成方法具有上述該硬化膜形成方法的步驟(1)~(4)、及(5)在經過燒製的塗膜上塗布液晶配向劑，並藉由在200℃以下加熱而形成配向膜的步驟。如果採用該陣列基板的形成方法，則能夠形成具備液晶配向用配向膜的陣列基板。
上述液晶配向劑較佳為含有具有光配向性基團的感放射線性聚合物(以下，也稱為「感放射線性聚合物」)的液晶配向劑、或含有不具光配向性基團的聚醯亞胺(以下，也稱為「聚醯亞胺」)的液晶配向劑。
就上述液晶配向劑的塗布方法而言，可以採用例如噴塗法、輥塗法、旋轉塗布法(旋塗法)、狹縫塗布法(縫模塗布法)、棒塗布法、噴墨法等適當的方法。在這些方法中，較佳係旋塗法或狹縫塗布法。另外，塗布液晶配向劑後，藉由對塗布面加熱，能夠形成配向膜。上述液晶配向劑均可以在低溫(例如200℃以下)的加熱溫度下形成配向膜。另外，上述液晶配向劑，也可以在不損害本發明效果的情況下含有例如硬化劑、硬化催化劑、硬化促進劑、環氧化合物、官能性矽烷化合物、界面活性劑、光敏化劑等作為任意成分。以下，對感放射線性聚合物及聚醯亞胺進行詳細說明。
＜感放射線性聚合物＞
感放射線性聚合物具有的光配向性基團是藉由光照射可賦予膜以各向同性的官能團，藉由光異構化反應或光二量化反應賦予膜各向異性。就光配向性基團而言，能夠列舉源自於由例如包含偶氮苯、二苯乙烯、α-亞胺基-β-酮酯、螺哌喃、螺、桂皮酸、查耳酮、苯乙烯基吡啶、亞苄基苄甲內醯胺、香豆素、二苯基乙炔及蒽的群組選出的至少一種化合物的結構上具有的基團。就光配向性基團而言，較佳係源自於桂皮酸的結構上具有的基團。
就感放射線性聚合物而言，較佳係直接或藉由連接基團鍵結了光配向性基團的聚合物。就這種感放射線性聚合物而言，能夠列舉例如聚醯胺酸、聚醯亞胺等聚合物上鍵結光配向性基團而形成的聚合物等。另外，就感放射線性聚合物而言，能夠列舉具有聚醯胺酸、聚醯亞胺及其它聚合物，並且該其它聚合物具有光配向性基團的聚合物。就其它聚合物的基本骨架而言，能夠列舉例如聚(甲基)丙烯酸酯、聚(甲基)丙烯醯胺、聚乙烯基醚、聚烯烴、聚有機矽氧烷等。
就感放射線性聚合物而言，較佳係以聚醯胺酸、聚醯亞胺、聚有機矽氧烷作為基本骨架的聚合物，更佳係聚有機矽氧烷。感放射線性聚合物可以藉由例如國際公開WO2009/025386號中記載的方法進行合成。
＜聚醯亞胺＞
不具有光配向性基團的聚醯亞胺可以由不具有光配向性基團的聚醯胺酸脫水閉環進行醯亞胺化來合成。上述聚醯胺酸可以按照例如日本特開2010-97188號公報中記載的方法，使四羧酸二酐和二胺進行反應來合成。
聚醯亞胺可以是作為前驅物的聚醯胺酸具有的醯胺酸結構全部脫水閉環形成的完全醯亞胺化物，也可以是醯胺酸結構的僅一部分脫水閉環形成的同時存在醯胺酸結構和醯亞胺環結構的部分醯亞胺化物。就聚醯亞胺的醯亞胺化率而言，較佳為30%以上，更佳為50%以上99%以下，特佳為65%以上99%以下。醯亞胺化率表示相對於聚醯亞胺的醯胺酸結構的數量和醯亞胺環結構的數量的合計，醯亞胺環結構的數量所占的比例用百分率表示者。
本發明亦適合包含具備由液晶配向用配向膜形成的硬化膜的彩色濾光器。該彩色濾光器的耐熱性、耐溶劑性、電壓保持率等優異。就形成這種彩色濾光器使用的配向膜的液晶配向劑而言，較佳係含有感放射線性聚合物。
[實施例]
以下，基於實施例對本發明進行詳細說明，但本發明並不能被解釋為局限於該實施例。
＜[A]共聚物的合成＞ [合成例1]
在裝備了冷凝管及攪拌器的燒瓶中，加入7質量份2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)及220質量份二乙二醇甲基乙基醚。接著，加入16質量份作為(A1)化合物的甲基丙烯酸、40質量份作為(A2)化合物的甲基丙烯酸縮水甘油酯、10質量份作為(A4)化合物的苯乙烯、14質量份甲基丙烯酸三環[5.2.1.02,6]癸-8-酯、20質量份2-甲基環己基丙烯酸酯，進行氮氣置換，一邊緩慢攪拌，一邊將溶液的溫度升高到70℃，在該溫度下保持4小時進行聚合，從而得到含有共聚物(A-1)的溶液。得到的聚合物溶液的固體含量濃度為34.4%，共聚物(A-1)的Mw為8,000，分子量分佈(Mw/Mn)為2.3。
[合成例2]
在裝備了冷凝管及攪拌器的燒瓶中，加入8質量份2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)及220質量份二乙二醇甲基乙基醚。接著，加入13質量份作為(A1)化合物的甲基丙烯酸、40質量份作為(A2)化合物的甲基丙烯酸縮水甘油酯、10質量份作為(A3)化合物的α-甲基-對羥基苯乙烯、10質量份作為(A4)化合物的苯乙烯、12質量份四氫糠基甲基丙烯酸酯、15質量份N-環己基馬來醯亞胺及10質量份正月桂基甲基丙烯酸酯，進行氮氣置換後，一邊緩慢攪拌，一邊將溶液的溫度升高到70℃，在該溫度下保持5小時進行聚合，從而得到含有共聚物(A-2)的溶液。得到的聚合物溶液的固體含量濃度為31.9%，共聚物(A-2)的Mw為8,000，分子量分佈(Mw/Mn)為2.3。
[比較合成例1]
在裝備了冷凝管及攪拌器的燒瓶中，加入5質量份AIBN及220質量份丙二醇單甲基醚醋酸酯。接著加入80質量份甲基丙烯酸烯丙酯、20質量份作為(A1)化合物的甲基丙烯酸，一邊緩慢攪拌，一邊將溶液的溫度升高到80℃，在該溫度下保持5小時進行聚合，從而得到含有共聚物(CA-1)的溶液。得到的聚合物溶液的固體含量濃度為31.0%，共聚物(CA-1)的Mw為10,000，分子量分佈(Mw/Mn)為2.3。
＜感放射線性樹脂組成物的配製＞ [實施例1]
添加相當於100質量份共聚物(固體含量)的量的含共聚物(A-1)的溶液、30質量份作為[B]醌二疊氮化合物的(B-1)、及0.5質量份(C-1)，再添加作為溶劑的二乙二醇甲基乙基醚使固體含量濃度為30質量%，然後用孔徑0.2μm的膜過濾器進行過濾，從而配製成感放射線性樹脂組成物。
[實施例2~13及比較例1~2]
混合表1所示種類、配合量的各種成分，添加作為溶劑的二乙二醇甲基乙基醚使固體含量濃度為30質量%，然後，用孔徑0.2μm的膜過濾器進行過濾，從而配製各感放射線性樹脂組成物。還有，欄中的「-」表示不使用該成分。
表1所示的感放射線性樹脂組成物的配製中使用的各種成分的詳細情況如以下所示。
＜[B]醌二疊氮化合物＞
B-1：4,4’-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙叉基]雙酚(1.0莫耳)和1,2-萘醌二疊氮化物-5-磺醯氯(2.0莫耳)的縮合物
B-2：1,1,1-三(對羥基苯基)乙烷和1,2-萘醌二疊氮化物-5-磺醯氯(2.0莫耳)的縮合物
＜[C]硬化劑＞
C-1：三辛胺
C-2：2-苯基聯咪唑
C-3：氯化四甲基銨
C-4：丁基三苯基鏻硫氰酸鹽
C-5：1,8-二氮雜雙環[5,4,0]-十一烯-7(DBU)的甲苯磺酸鹽
C-6：N,N’-二乙醯基-對苯二胺
C-7：N,N-雙(1,3-二甲基丁叉基)二甲苯二胺
C-8：TPA-B80E(旭化成Chemicals公司，HDI類封端型異氰酸酯，固體含量80%，有效異氰酸酯含量12.3%)
C-9：4,4’-二胺基二苯基碸
C-10：3-胺基苯磺酸乙酯
C-11：5-硝基鄰苯二甲酸和2-苯基-4-甲基-5-羥基甲基咪唑按2:1混合形成的籠合化合物
c-1：辛基胺
＜評價＞
對於配製的感放射線性樹脂組成物及後述形成的硬化物，進行下述評價。結果一起列於表1中。
[儲存穩定性]
將得到的感放射線性樹脂組成物在40℃的烘箱中放置1週，測定加熱前後的黏度，求出黏度變化率(%)。此時，將黏度變化率作為儲存穩定性，其為5%以下時判定為儲存穩定性良好，超過5%時判定為儲存穩定性不良。黏度是使用E型黏度計(VISCONIC ELD.R，東機產業公司)在25℃下進行測定。
[敏感度]
使用旋塗機在矽基板上塗布作為實施例及比較例配製的所有感放射線性樹脂組成物，然後在加熱板上於90℃預烘焙2分鐘，形成膜厚3.0μm的塗膜。在得到的塗膜上，透過具有寬10μm的線空比圖案的光罩，用水銀燈照射規定量的紫外線。然後使用由四甲基氫氧化銨2.38質量%水溶液組成的顯影液，在25℃下進行60秒顯影處理，然後用超純水進行1分鐘的流水洗滌。此時，測定能夠形成寬10μm的線空比圖案的最小紫外線照射量。該值不足850J/m2時，判定為敏感度良好。
[耐溶劑性]
使用旋塗機在矽基板上塗布作為實施例及比較例配製的所有感放射線性樹脂組成物，然後在加熱板上於90℃預烘焙2分鐘，形成膜厚3.0μm的塗膜。在得到的塗膜上，用水銀燈按照累積照射量達到3,000J/m2的量照射紫外線。然後，對於該矽基板，就實施例1~13及比較例1~2而言在加熱板上於150℃下加熱30分鐘。就比較例3及4而言在150℃下加熱60分鐘。測定得到的硬化膜的膜厚(T1)。然後，將形成了該硬化膜的矽基板在溫度控制在70℃的二甲基亞碸中浸漬20分鐘，然後測定該硬化膜的膜厚(t1)，由下式計算膜厚變化率，將其作為耐溶劑性。
膜厚變化率={(t1-T1)/T1}×100(%)
該值的絕對值不足5%時，判定為耐溶劑性優良。
[表面硬度]
對於在耐溶劑性的評價中形成的具有硬化膜的基板，按照JIS K-5400-1990的8.4.1鉛筆劃痕試驗，測定硬化膜的鉛筆硬度，將其作為表面硬度。該值為3H以上時，作為硬化膜的表面硬度為良好，判定為用於形成該硬化膜的感放射線性樹脂組成物具有充足的硬化性。
[相對介電常數]
使用旋塗機在SUS基板上塗布作為實施例及比較例配製的所有感放射線性樹脂組成物，然後在加熱板上於90℃預烘焙2分鐘，形成膜厚3.0μm的塗膜。使用CANON公司的MPA-600FA曝光機，按累積照射量達到9,000J/m2的量使得到的塗膜曝光，將該基板在無塵烘箱內於150℃下加熱30分鐘，從而在SUS基板上形成硬化膜。利用蒸鍍法在該硬化膜上形成Pt/Pd電極圖案，製成介電常數測定用試樣。對於具有該電極圖案的基板，使用橫河‧Hewlett-Packard公司的HP16451B電極及HP4284A精密LCR測試儀(Precision LCR meter)，在10kHz頻率下藉由CV法測定相對介電常數。該值為3.9以下時，判定為介電常數良好。
由表1的結果可知，本發明的感放射線性樹脂組成物具有高放射線敏感度，藉由低溫和短時間的加熱就可以得到具有高表面硬度的硬化膜，同時該硬化膜兼具優異的耐溶劑性及相對介電常數。
[產業上之可利用性]
根據本發明的感放射線性樹脂組成物，可以提供兼具低溫燒製和儲存穩定性，並且具有高感放射線性的感放射線性樹脂組成物、及適宜用於可撓性顯示器的作為表面硬度、耐溶劑性及相對介電常數優異的層間絕緣膜、保護膜或隔離物的硬化膜。

Claims (9)

  1. 一種感放射線性樹脂組成物，其含有：[A]具有(A1)來自由丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、馬來酸、富馬酸、檸康酸、中康酸、衣康酸、琥珀酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯]、鄰苯二甲酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯]、ω-羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯、5-羧基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羧基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羧基雙環[2.2.1]庚-2-烯酐所選出之化合物的含羧基的結構單元及(A2)來自由丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸2-甲基縮水甘油酯、α-乙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丁基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸3,4-環氧丁酯、甲基丙烯酸3,4-環氧丁酯、丙烯酸6,7-環氧庚酯、甲基丙烯酸6,7-環氧庚酯、α-乙基丙烯酸-6,7-環氧庚酯、鄰乙烯基苄基縮水甘油醚、間乙烯基苄基縮水甘油醚、對乙烯基苄基縮水甘油醚、甲基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、3-(丙烯醯氧基甲基)氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-2-甲基氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-3-乙基氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-2-三氟甲基氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-2-五氟乙基氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-2-苯基氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-2,2-二氟氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲 基)-2,2,4-三氟氧雜環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基)-2,2,4,4-四氟氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-2-乙基氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-3-乙基氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-2-三氟甲基氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-2-五氟乙基氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-2-苯基氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-2,2-二氟氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-2,2,4-三氟氧雜環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基)-2,2,4,4-四氟氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-2-甲基氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-3-乙基氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-2-三氟甲基氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-2-五氟乙基氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-2-苯基氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-2,2-二氟氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-2,2,4-三氟氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基)-2,2,4,4-四氟氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-2-乙基氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-3-乙基氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-2-三氟甲基氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-2-五氟乙基氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-2-苯基氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-2,2-二氟氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙基)-2,2,4-三氟氧雜環丁烷、3-(2-甲基丙烯醯氧基乙 基)-2,2,4,4-四氟氧雜環丁烷所選出之化合物的含環氧基的結構單元的共聚物；[B]醌二疊氮化合物；以及[C]由包含下述式(1)表示的化合物、下述式(2)表示的化合物、三級胺化合物、胺鹽、鏻鹽、脒鹽、醯胺化合物、酮亞胺化合物、封端型異氰酸酯化合物、含有咪唑環的化合物及籠合化合物的群組中選出的至少一種硬化劑， 式(1)中，R1~R6各自獨立地為氫原子、拉電子性基團或胺基，其中，R1~R6中的至少一個為拉電子性基團，並且R1~R6中的至少一個為胺基，另外，上述胺基的全部或部分氫原子可以被碳原子數1~6的烷基取代，式(2)中，R7~R16各自獨立地為氫原子、拉電子性 基團或胺基，其中，R7~R16中的至少一個為胺基，另外，上述胺基的全部或部分氫原子可以被碳原子數1~6的烷基取代，A為單鍵、羰基、羰氧基、羰基亞甲基、亞磺醯基、磺醯基、亞甲基或碳原子數2~6的伸烷基，其中，上述亞甲基及伸烷基的全部或部分氫原子可以被氰基、鹵素原子或氟烷基取代。
  2. 如申請專利範圍第1項的感放射線性樹脂組成物，其中，[C]硬化劑是由包含上述式(1)及式(2)表示的化合物的群組中選出的至少一種。
  3. 如申請專利範圍第1或2項的感放射線性樹脂組成物，其係被用於形成作為層間絕緣膜、保護膜或隔離物的硬化膜。
  4. 一種作為層間絕緣膜、保護膜或隔離物的硬化膜，其係由如申請專利範圍第3項的感放射線性樹脂組成物所形成。
  5. 一種液晶顯示元件的陣列基板，其具備如申請專利範圍第4項的硬化膜以及配向膜，該配向膜係積層於該硬化膜上，並且由液晶配向劑形成。
  6. 如申請專利範圍第5項的液晶顯示元件的陣列基板，其中，上述液晶配向劑是含有帶光配向性基團的感放射線性聚合物的液晶配向劑、或含有不帶光配向性基團的聚醯亞胺的液晶配向劑。
  7. 一種硬化膜的形成方法，其具有：(1)在基板上塗布如申請專利範圍第3項的感放射線性樹脂組成物，形成塗膜的步驟； (2)對上述塗膜的至少一部分照射放射線的步驟；(3)使經過上述放射線照射的塗膜顯影的步驟；及(4)對經過上述顯影的塗膜進行燒製的步驟。
  8. 如申請專利範圍第7項的硬化膜的形成方法，其中，上述步驟(4)的燒製溫度為200℃以下。
  9. 一種液晶顯示元件的陣列基板的形成方法，其具有如申請專利範圍第7項的步驟(1)~(4)、及(5)在經過燒製的塗膜上塗布液晶配向劑，並藉由在200℃以下的加熱而形成配向膜的步驟。
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