KR101682937B1 - 감방사선성 수지 조성물, 층간 절연막 및 그의 형성 방법 - Google Patents
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- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 108
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 93
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 title claims abstract description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 108
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 48
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 41
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims abstract description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 4
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 36
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 35
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 30
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 14
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims description 9
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 5
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- HDFRDWFLWVCOGP-UHFFFAOYSA-N carbonothioic O,S-acid Chemical compound OC(S)=O HDFRDWFLWVCOGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 11
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 143
- 239000010408 film Substances 0.000 description 103
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 40
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 33
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 30
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 16
- 102100033806 Alpha-protein kinase 3 Human genes 0.000 description 15
- 101710082399 Alpha-protein kinase 3 Proteins 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 15
- JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 13
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 13
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 11
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 9
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 8
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 8
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 8
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OTTZHAVKAVGASB-UHFFFAOYSA-N hept-2-ene Chemical compound CCCCC=CC OTTZHAVKAVGASB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N (z)-2-cyano-3-thiophen-2-ylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C/C1=CC=CS1 QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N 0.000 description 7
- DWYHDSLIWMUSOO-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N1 DWYHDSLIWMUSOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- LJZJMIZQMNDARW-UHFFFAOYSA-N decan-3-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCC(CC)OC(=O)C(C)=C LJZJMIZQMNDARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZYVXFNCWRJNIQJ-UHFFFAOYSA-M 1-(4,7-dibutoxynaphthalen-1-yl)thiolan-1-ium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C12=CC(OCCCC)=CC=C2C(OCCCC)=CC=C1[S+]1CCCC1 ZYVXFNCWRJNIQJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LDZYRENCLPUXAX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC(C)=NC2=C1 LDZYRENCLPUXAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LABQKWYHWCYABU-UHFFFAOYSA-N 4-(3-sulfanylbutanoyloxy)butyl 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OCCCCOC(=O)CC(C)S LABQKWYHWCYABU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- RUDUCNPHDIMQCY-UHFFFAOYSA-N [3-(2-sulfanylacetyl)oxy-2,2-bis[(2-sulfanylacetyl)oxymethyl]propyl] 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCC(COC(=O)CS)(COC(=O)CS)COC(=O)CS RUDUCNPHDIMQCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- KNCDNPMGXGIVOM-UHFFFAOYSA-N propyl 3-hydroxypropanoate Chemical compound CCCOC(=O)CCO KNCDNPMGXGIVOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- WTVXIBRMWGUIMI-UHFFFAOYSA-N trifluoro($l^{1}-oxidanylsulfonyl)methane Chemical group [O]S(=O)(=O)C(F)(F)F WTVXIBRMWGUIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SSLASPHAKUVIRG-UHFFFAOYSA-N (2-methylcyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound CC1CCCCC1OC(=O)C=C SSLASPHAKUVIRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BXYWKXBAMJYTKP-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(3-sulfanylpropanoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)CCS BXYWKXBAMJYTKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VAJVDSVGBWFCLW-UHFFFAOYSA-N 3-Phenyl-1-propanol Chemical compound OCCCC1=CC=CC=C1 VAJVDSVGBWFCLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 4
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 4
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 4
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 4
- WHRLOJCOIKOQGL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)OC WHRLOJCOIKOQGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 4
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N Diazomethane Chemical class C=[N+]=[N-] YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical group C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- VTLHIRNKQSFSJS-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylbutanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylbutanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OCC(COC(=O)CC(C)S)(COC(=O)CC(C)S)COC(=O)CC(C)S VTLHIRNKQSFSJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- LWHOMMCIJIJIGV-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl) trifluoromethanesulfonate Chemical compound C1=CC(C(N(OS(=O)(=O)C(F)(F)F)C2=O)=O)=C3C2=CC=CC3=C1 LWHOMMCIJIJIGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYXAHUXQRATWDV-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxoisoindol-2-yl) trifluoromethanesulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(OS(=O)(=O)C(F)(F)F)C(=O)C2=C1 GYXAHUXQRATWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UYBDKTYLTZZVEB-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentahydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=C(O)C(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UYBDKTYLTZZVEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NFNNWCSMHFTEQD-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-(2,3,4,5,6-pentahydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=C(O)C(O)=C(O)C(O)=C1O NFNNWCSMHFTEQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRDYULMDEGRWRC-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O ZRDYULMDEGRWRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMBXCGGQNSVESQ-UHFFFAOYSA-N 1-Hexanethiol Chemical compound CCCCCCS PMBXCGGQNSVESQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPEXFJVZFNYXGU-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CPEXFJVZFNYXGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNCWGJBWFNIEFN-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2,4,4-tetrafluorooxetan-3-yl)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC1C(F)(F)OC1(F)F GNCWGJBWFNIEFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNVBWKQXWBFLEB-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2,4,4-tetrafluorooxetan-3-yl)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCCC1C(OC1(F)F)(F)F DNVBWKQXWBFLEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JFWFAUHHNYTWOO-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1COCC1OC1 JFWFAUHHNYTWOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCKQMFDZQUFKRD-UHFFFAOYSA-N 2-[(3-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C=CC1=CC=CC(COCC2OC2)=C1 OCKQMFDZQUFKRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQXNYVAALXGLQT-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[9-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]fluoren-9-yl]phenoxy]ethanol Chemical compound C1=CC(OCCO)=CC=C1C1(C=2C=CC(OCCO)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 NQXNYVAALXGLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 3-mercaptopropionate Chemical compound [O-]C(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RQPNXPWEGVCPCX-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylbutanoic acid Chemical compound CC(S)CC(O)=O RQPNXPWEGVCPCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDUZPNKSJOOIDA-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(OC(=O)C(=C)C)CCC2OC21 GDUZPNKSJOOIDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- MOYAFQVGZZPNRA-UHFFFAOYSA-N Terpinolene Chemical compound CC(C)=C1CCC(C)=CC1 MOYAFQVGZZPNRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofurfuryl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCO1 LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 2
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- NIDNOXCRFUCAKQ-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2C=CC1C(C(=O)O)C2C(O)=O NIDNOXCRFUCAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JDJWQETUMXXWPD-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)OC JDJWQETUMXXWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 2
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 2
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- AMUUFLNQHMIHRP-UHFFFAOYSA-N oxetan-3-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1COC1 AMUUFLNQHMIHRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 2
- LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,3,4,5-tetrahydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1O LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- FIABMSNMLZUWQH-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCCOC(=O)COC FIABMSNMLZUWQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N tetrabromomethane Chemical compound BrC(Br)(Br)Br HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical group C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- BKQXXLVXLSREHB-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)ON(C1=O)C(=O)C2=C3C1=CC=CC3=CC=C2 BKQXXLVXLSREHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLBURFVEHMDJPO-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxoisoindol-2-yl) 2-(trifluoromethyl)benzenesulfonate Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)C2=CC=CC=C2C1=O FLBURFVEHMDJPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEBSRRUJBHTDPG-UHFFFAOYSA-N (2,2,4-trifluorooxetan-3-yl)methyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCC1C(OC1F)(F)F ZEBSRRUJBHTDPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAVQOFIOWZTBJP-UHFFFAOYSA-N (2,2-difluorooxetan-3-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1COC1(F)F PAVQOFIOWZTBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTAVRFMHGDRNQR-UHFFFAOYSA-N (2,2-difluorooxetan-3-yl)methyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCC1C(OC1)(F)F ZTAVRFMHGDRNQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWRVAXMLZCMVSL-UHFFFAOYSA-N (2,4,6-trihydroxyphenyl)-(3,4,5-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 QWRVAXMLZCMVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDKXCMCPUBYZBF-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxo-3,4-diphenylpyrrol-1-yl) 2-(trifluoromethyl)benzenesulfonate Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C1=O WDKXCMCPUBYZBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKHVDAUOODACDU-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 3-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)propanoate Chemical compound O=C1CCC(=O)N1OC(=O)CCN1C(=O)C=CC1=O JKHVDAUOODACDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRHKHLYZXJWYMP-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 4-fluorobenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1S(=O)(=O)ON1C(=O)CCC1=O PRHKHLYZXJWYMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLARLSIGSPVYHX-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 6-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)hexanoate Chemical compound O=C1CCC(=O)N1OC(=O)CCCCCN1C(=O)C=CC1=O VLARLSIGSPVYHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKRLWHAZMUFONP-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) trifluoromethanesulfonate Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)ON1C(=O)CCC1=O OKRLWHAZMUFONP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUICZTPNFZHUMW-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-3-yl) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)OC1C(=O)NC(C1)=O AUICZTPNFZHUMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDROXNKXVHPNBJ-UHFFFAOYSA-N (2,6-dihydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=C(O)C=CC=C1O ZDROXNKXVHPNBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIBYQTLCOMYUAP-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-4-methylphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O DIBYQTLCOMYUAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIJJAQMJSXOBIE-UHFFFAOYSA-N (2-methylcyclohexyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC1CCCCC1OC(=O)C(C)=C KIJJAQMJSXOBIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBAZJHNEFIPCQJ-UHFFFAOYSA-N (2-methyloxetan-3-yl)methyl prop-2-enoate Chemical compound CC1OCC1COC(=O)C=C CBAZJHNEFIPCQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMIODTBPFKLUMF-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl hydrogen carbonate Chemical compound OC(=O)OCC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O PMIODTBPFKLUMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLDWUFCUUXXYTB-UHFFFAOYSA-N (2-oxo-1,2-diphenylethyl) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OC(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=CC=CC=C1 DLDWUFCUUXXYTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWMWRSCIFDZZGW-UHFFFAOYSA-N (2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCOC1=O MWMWRSCIFDZZGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSHKWPIEJYAPCL-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1(CC)COC1 RSHKWPIEJYAPCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWZREQONUGCFIT-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=CC(C(=O)C=2C(=C(O)C(O)=CC=2)O)=C1 HWZREQONUGCFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVHMFMMVURPZFE-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxy-3-methoxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1=C(O)C(OC)=CC(C(=O)C=2C(=C(O)C(O)=CC=2)O)=C1 FVHMFMMVURPZFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJMXUSNWBKGQEZ-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(O)C=C1 PJMXUSNWBKGQEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNHHRXSVKWWRJY-UHFFFAOYSA-N (5-methyl-5-bicyclo[2.2.1]hept-2-enyl)methanol Chemical compound C1C2C(C)(CO)CC1C=C2 WNHHRXSVKWWRJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N (S)-camphorsulfonic acid Chemical class C1C[C@@]2(CS(O)(=O)=O)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- MCVKQPXDZUEQQX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1',1'-tetramethyl-3,3'-spirobi[2h-indene] Chemical compound C12=CC=CC=C2C(C)(C)CC11C2=CC=CC=C2C(C)(C)C1 MCVKQPXDZUEQQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFCRODHVHXGTPC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12-pentacosafluorododecane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F CFCRODHVHXGTPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMMOLDZBACYVIN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-1-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(1,1,2,2,3,3-hexafluoropentoxy)propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]pentane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC KMMOLDZBACYVIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWFUGQANHCJOAR-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluorodecane Chemical compound CCCCCCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)F FWFUGQANHCJOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHMQIIWXKSTTCZ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-decafluorododecane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCCCCC(F)(F)C(F)F NHMQIIWXKSTTCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKNKAWHZNOFVLS-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(1,1,2,2-tetrafluoropropoxy)octane Chemical compound CCCCCCC(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(C)(F)F MKNKAWHZNOFVLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIZMPBJZAHNFGY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-hexoxyoctane Chemical compound CCCCCCOC(F)(F)C(F)(F)CCCCCC RIZMPBJZAHNFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940105324 1,2-naphthoquinone Drugs 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQIQJUCEFIYYOJ-UHFFFAOYSA-M 1-(4-butoxynaphthalen-1-yl)thiolan-1-ium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C12=CC=CC=C2C(OCCCC)=CC=C1[S+]1CCCC1 JQIQJUCEFIYYOJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BLLFPKZTBLMEFG-UHFFFAOYSA-N 1-(4-hydroxyphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O BLLFPKZTBLMEFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USRJNCZFXRJTNN-UHFFFAOYSA-N 1-(furan-2-yl)propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CC1=CC=CO1 USRJNCZFXRJTNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOHNQBSUXAVDOP-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[(2-methylphenyl)methylsulfanylmethyl]phenyl]ethanone Chemical compound C1=CC(C(=O)C)=CC=C1CSCC1=CC=CC=C1C NOHNQBSUXAVDOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPOPGHCRRJYPMP-UHFFFAOYSA-N 1-[diazo(methylsulfonyl)methyl]sulfonyl-4-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(C)(=O)=O)C=C1 DPOPGHCRRJYPMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEKIOKHXXBFTEU-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-9,10-diethoxy-3-nitroanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(OCC)=C3C=CC=CC3=C(OCC)C2=C1CC1=CC=CC=C1 GEKIOKHXXBFTEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CC1=CC=CC=C1 MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCCOCC(C)OC(C)=O FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNBHVKBYRFDOJK-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-yl propanoate Chemical compound CCCCOCC(C)OC(=O)CC FNBHVKBYRFDOJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODDDCGGSPAPBOS-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl propanoate Chemical compound CCOCC(C)OC(=O)CC ODDDCGGSPAPBOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004066 1-hydroxyethyl group Chemical group [H]OC([H])([*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- DOVZUKKPYKRVIK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-yl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC(C)COC DOVZUKKPYKRVIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVNBCIQRFGXLRD-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl propanoate Chemical compound CCCOCC(C)OC(=O)CC RVNBCIQRFGXLRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQDKDATTSERSA-UHFFFAOYSA-N 2,2,3-trifluorooxetane Chemical compound FC1COC1(F)F LFQDKDATTSERSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,4,4,5-hexamethylhexane-2-thiol Chemical compound CC(C)C(C)(C)C(C)(C)C(C)(C)S YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CO QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COXCGWKSEPPDAA-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)C#N COXCGWKSEPPDAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKUCBQKVLFQKCK-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2-difluorooxetan-3-yl)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC1COC1(F)F BKUCBQKVLFQKCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLSHFKONUOJZRD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2-difluorooxetan-3-yl)ethyl prop-2-enoate Chemical compound FC1(OCC1CCOC(C=C)=O)F DLSHFKONUOJZRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQFXOWPTQTLDP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCO OLQFXOWPTQTLDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPVMPEIGFUGTGN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenyloxetan-3-yl)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC1COC1C1=CC=CC=C1 FPVMPEIGFUGTGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethyl)isoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CCS)C(=O)C2=C1 UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCWMHBBURFAUMN-UHFFFAOYSA-N 2-(3-ethyloxetan-3-yl)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCC1(CC)COC1 VCWMHBBURFAUMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBZCNVNEJAFTJO-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chlorophenyl)-1-[2-(4-chlorophenyl)-4-methylphenyl]sulfonylsulfonyl-4-methylbenzene Chemical class C=1C(C)=CC=C(S(=O)(=O)S(=O)(=O)C=2C(=CC(C)=CC=2)C=2C=CC(Cl)=CC=2)C=1C1=CC=C(Cl)C=C1 QBZCNVNEJAFTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIHOJFNAXBGDSE-UHFFFAOYSA-N 2-(benzenesulfonyl)-2-diazonio-1-phenylethenolate Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])C(=O)C1=CC=CC=C1 YIHOJFNAXBGDSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNDCKNKAZCKUNN-UHFFFAOYSA-N 2-(oxetan-3-yl)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC1COC1 XNDCKNKAZCKUNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXDUXCHFVCYQFK-UHFFFAOYSA-N 2-(oxetan-3-yl)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCC1COC1 TXDUXCHFVCYQFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNYBOILAKBSWFG-UHFFFAOYSA-N 2-(phenylmethoxymethyl)oxirane Chemical compound C1OC1COCC1=CC=CC=C1 QNYBOILAKBSWFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYTPEWBYGVOCNF-UHFFFAOYSA-N 2-[(2,6-dinitrophenyl)methyl]benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1CC1=C([N+]([O-])=O)C=CC=C1[N+]([O-])=O UYTPEWBYGVOCNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZADXFVHUPXKZBJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1COCC1OC1 ZADXFVHUPXKZBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BULSFYDUQQDBAH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(trifluoromethyl)oxetan-3-yl]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCCC1C(OC1)C(F)(F)F BULSFYDUQQDBAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXTDUWMOYVTUDQ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]-2-(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)oxetan-3-yl]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCC1C(OC1)(C(C(F)(F)F)(F)F)CCOC(C(=C)C)=O GXTDUWMOYVTUDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAUGGXUAHNSMKF-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-(1,1,2,2,3,3-hexafluoropentoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethanol Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)OCCOCCOCCOCCOCCOCCO MAUGGXUAHNSMKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZEANNAZZVVPKU-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)COC(C)COC(C)COC(C)COC(C)COC(C)CO ZZEANNAZZVVPKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAMWDNMXHHDTST-UHFFFAOYSA-N 2-[2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)naphthalen-1-yl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C1=C(C2=CC=C(C=C2C(=C1)C(Cl)(Cl)Cl)C(Cl)(Cl)Cl)C1=NC(=NC(=N1)C(Cl)(Cl)Cl)C(Cl)(Cl)Cl VAMWDNMXHHDTST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJKIWUMRLNQLFO-UHFFFAOYSA-N 2-[3-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]-2-(trifluoromethyl)oxetan-3-yl]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCC1(C(OC1)C(F)(F)F)CCOC(C(=C)C)=O YJKIWUMRLNQLFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAFWZKVQMVOANB-UHFFFAOYSA-N 2-[tert-butylsulfonyl(diazo)methyl]sulfonyl-2-methylpropane Chemical compound CC(C)(C)S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C(C)(C)C SAFWZKVQMVOANB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- CWDZHCWUNKXXPO-UHFFFAOYSA-N 2-decan-3-yloxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCOC(CCCCCCC)CC CWDZHCWUNKXXPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRIOFOZYCNWPSP-UHFFFAOYSA-N 2-decoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCCOCCCCCCCCCC NRIOFOZYCNWPSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 2-diethylaminoethanol Chemical compound CCN(CC)CCO BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGIHBNAOWIOPJC-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbicyclo[2.2.1]hept-5-ene-3-carboxylic acid Chemical compound C1C2C=CC1C(CC)C2C(O)=O JGIHBNAOWIOPJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 2-methoxypropanoate Chemical compound COC(C)C([O-])=O ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SSVKYZDOIWXDIO-UHFFFAOYSA-N 2-methylbicyclo[2.2.1]hept-5-ene-3-carboxylic acid Chemical compound C1C2C=CC1C(C)C2C(O)=O SSVKYZDOIWXDIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPCAFPAKZIJBRH-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;oxiran-2-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VPCAFPAKZIJBRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPCVNVLTHQVAPE-UHFFFAOYSA-N 2-propoxypropanoic acid Chemical compound CCCOC(C)C(O)=O CPCVNVLTHQVAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylbenzoic acid Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1C(O)=O WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVKWKEWFTVEVCF-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazole-4-sulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C1=CC=CC2=NNN=C12 WVKWKEWFTVEVCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WADCPEMKIBAJHH-UHFFFAOYSA-N 3,4-diphenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 WADCPEMKIBAJHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxypropanoic acid Chemical compound CCOCCC(O)=O JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSIKHBWUBSFBRZ-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropanoic acid Chemical compound COCCC(O)=O YSIKHBWUBSFBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-ol Chemical compound CCCOCCCO LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTPQZNNAUUSACC-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylpentanoic acid Chemical compound CCC(S)CC(O)=O PTPQZNNAUUSACC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOSONAGXTXMCDY-UHFFFAOYSA-N 4-(benzylsulfanylmethyl)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CSCC1=CC=CC=C1 IOSONAGXTXMCDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBLFJUWXERDUEN-UHFFFAOYSA-N 4-[(2,3,4-trihydroxyphenyl)methyl]benzene-1,2,3-triol Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C(O)=C1O NBLFJUWXERDUEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STCQADFDVULNEN-UHFFFAOYSA-N 4-[(2-methylphenyl)methylsulfanylmethyl]phenol Chemical compound CC1=CC=CC=C1CSCC1=CC=C(O)C=C1 STCQADFDVULNEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRPSWMCDEYMRPE-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C)C1=CC=C(O)C=C1 BRPSWMCDEYMRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHUUGQDYCYKQTC-UHFFFAOYSA-N 4-[2,2,2-tris(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC(C=1C=CC(O)=CC=1)(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 UHUUGQDYCYKQTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYIWTDSCYULDTJ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2,3,4-trihydroxyphenyl)propan-2-yl]benzene-1,2,3-triol Chemical compound C=1C=C(O)C(O)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C(O)=C1O NYIWTDSCYULDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXYSZTISEJBRHW-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenyl]propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(C(C)(C=2C=CC(O)=CC=2)C=2C=CC(O)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 WXYSZTISEJBRHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACQVEWFMUBXEMR-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-fluoro-6-nitrophenol Chemical compound OC1=C(F)C=C(Br)C=C1[N+]([O-])=O ACQVEWFMUBXEMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003143 4-hydroxybenzyl group Chemical group [H]C([*])([H])C1=C([H])C([H])=C(O[H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJSYPLCSZPEDCQ-UHFFFAOYSA-N 5-[2-(3-amino-4-methylphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]-2-methylaniline Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(C)C(N)=C1 HJSYPLCSZPEDCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHEGKRQSANCPRR-UHFFFAOYSA-N 5-ethylbicyclo[2.2.1]hept-2-en-5-ol Chemical compound C1C2C(CC)(O)CC1C=C2 IHEGKRQSANCPRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOAYPXDNINXAQH-UHFFFAOYSA-N 5-ethylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5-carboxylic acid Chemical compound C1C2C(CC)(C(O)=O)CC1C=C2 AOAYPXDNINXAQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCDOWRWNYHNLLA-UHFFFAOYSA-N 5-methoxybicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(OC)CC1C=C2 RCDOWRWNYHNLLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTLOQGFROIPGHZ-UHFFFAOYSA-N 5-methylbicyclo[2.2.1]hept-2-en-1-ol Chemical compound OC12C=CC(C(C1)C)C2 QTLOQGFROIPGHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCBPVYHMZBWMAZ-UHFFFAOYSA-N 5-methylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(C)CC1C=C2 PCBPVYHMZBWMAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAEDLGNYFJXAQC-UHFFFAOYSA-N 6-(furan-2-yl)-6-methylhept-1-en-3-one Chemical compound C=CC(=O)CCC(C)(C)C1=CC=CO1 IAEDLGNYFJXAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPEXFZCDQFHINE-UHFFFAOYSA-N 6-(furan-2-yl)hex-1-en-3-one Chemical compound C=CC(=O)CCCC1=CC=CO1 PPEXFZCDQFHINE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000000662 Anethum graveolens Species 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLWKZUXGERUYQE-UHFFFAOYSA-N C(CC)(=O)OOCCCC.C(CC)OCC(=O)O Chemical compound C(CC)(=O)OOCCCC.C(CC)OCC(=O)O RLWKZUXGERUYQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMONOXOCMIPNNU-UHFFFAOYSA-N C=CC(=O)OCCCC(O)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O Chemical compound C=CC(=O)OCCCC(O)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O WMONOXOCMIPNNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical class O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVGGHNCTFXOJCH-UHFFFAOYSA-N DDT Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(C(Cl)(Cl)Cl)C1=CC=C(Cl)C=C1 YVGGHNCTFXOJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVCPXLWAKNJIKK-UHFFFAOYSA-N Dimexano Chemical compound COC(=S)SSC(=S)OC FVCPXLWAKNJIKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZGQDNOIGFBYKF-UHFFFAOYSA-N Ethoxyacetic acid Natural products CCOCC(O)=O YZGQDNOIGFBYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100037815 Fas apoptotic inhibitory molecule 3 Human genes 0.000 description 1
- 101000878510 Homo sapiens Fas apoptotic inhibitory molecule 3 Proteins 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical class CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N Methyl-2-hydoxyisobutyric acid Chemical compound COC(=O)C(C)(C)O XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGBPBXMNDDUMJD-UHFFFAOYSA-N OCC1C(C2(C(=C(C1(C2)CO)CO)CO)CO)(CO)CO Chemical compound OCC1C(C2(C(=C(C1(C2)CO)CO)CO)CO)(CO)CO BGBPBXMNDDUMJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- RFFFKMOABOFIDF-UHFFFAOYSA-N Pentanenitrile Chemical compound CCCCC#N RFFFKMOABOFIDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDCBOTIENDVCBQ-UHFFFAOYSA-N TEPP Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OP(=O)(OCC)OCC IDCBOTIENDVCBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 1
- YCWINENYANGRAA-UHFFFAOYSA-N [1-oxo-1-(oxolan-2-ylmethoxy)propan-2-yl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)C(=O)OCC1CCCO1 YCWINENYANGRAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHRFHGAUSMKRCU-UHFFFAOYSA-N [2-(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)oxetan-3-yl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1COC1C(F)(F)C(F)(F)F OHRFHGAUSMKRCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSVDAPOIBBPGHO-UHFFFAOYSA-N [2-(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)oxetan-3-yl]methyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCC1C(OC1)C(C(F)(F)F)(F)F GSVDAPOIBBPGHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFZXEXIIXNJKEN-UHFFFAOYSA-N [2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)-2-(trifluoromethyl)oxetan-3-yl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCC1C(OC1)(C(F)(F)F)COC(C(=C)C)=O AFZXEXIIXNJKEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXPNOQRYNHVYJE-UHFFFAOYSA-N [2-(trifluoromethyl)oxetan-3-yl]methyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCC1C(OC1)C(F)(F)F NXPNOQRYNHVYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAAUVJUJVBJRSQ-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2-[[3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS YAAUVJUJVBJRSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFKJMDYQKVPGNM-UHFFFAOYSA-N [benzenesulfonyl(diazo)methyl]sulfonylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 QFKJMDYQKVPGNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLGXSTXZLFQYKJ-UHFFFAOYSA-N [cyclohexylsulfonyl(diazo)methyl]sulfonylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1CCCCC1 GLGXSTXZLFQYKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDTRPMUFAMGRNM-UHFFFAOYSA-N [diazo(trifluoromethylsulfonyl)methyl]sulfonyl-trifluoromethane Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C(F)(F)F FDTRPMUFAMGRNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical class CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- QCHNSJNRFSOCLJ-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonylmethylsulfonylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)CS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 QCHNSJNRFSOCLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UENWRTRMUIOCKN-UHFFFAOYSA-N benzyl thiol Chemical class SCC1=CC=CC=C1 UENWRTRMUIOCKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMJVDYDHTWAXDL-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-4-carboxylic acid Chemical compound C1CC2C=CC1(C(=O)O)C2 LMJVDYDHTWAXDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGKOKEBHGRCHSR-UHFFFAOYSA-N bis(3,4,5-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)=C1 IGKOKEBHGRCHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKRARXXOLDCMCX-UHFFFAOYSA-N butyl 2-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(C)C(=O)OCCCC IKRARXXOLDCMCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUEYQLJAKGLDNR-UHFFFAOYSA-N butyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)COCC VUEYQLJAKGLDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYRUCHOYGVFKLZ-UHFFFAOYSA-N butyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)OCC FYRUCHOYGVFKLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)COC IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMOACRKLCOIODC-UHFFFAOYSA-N butyl 3-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOCCC(=O)OCCCC BMOACRKLCOIODC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVWVAXBILFBQIZ-UHFFFAOYSA-N butyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCOCC MVWVAXBILFBQIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRIRSNXZGJWTQM-UHFFFAOYSA-N butyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCOC RRIRSNXZGJWTQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPCIWFUNUUCNOM-UHFFFAOYSA-N butyl 3-propoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCOCCC NPCIWFUNUUCNOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N captafol Chemical class C1C=CC[C@H]2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)C(Cl)Cl)C(=O)[C@H]21 JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- CURBACXRQKTCKZ-UHFFFAOYSA-N cyclobutane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1C(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O CURBACXRQKTCKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- NHAQFLFLZGBOBG-UHFFFAOYSA-N decan-3-yl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCC(CC)OC(=O)C=C NHAQFLFLZGBOBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- ZEFVHSWKYCYFFL-UHFFFAOYSA-N diethyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound CCOC(=O)CC(=C)C(=O)OCC ZEFVHSWKYCYFFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N diethyl fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N diethyl oxalate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)OCC WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000012156 elution solvent Substances 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- GQCPEYXPOKJFPV-UHFFFAOYSA-N ethyl 2,2-dihydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(O)O GQCPEYXPOKJFPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCOC(=O)COC JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGPIFKMWQYGTAU-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-propoxypropanoate Chemical compound CCCOC(C)C(=O)OCC KGPIFKMWQYGTAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIRSHSVIZQASRJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOCCC(=O)OCC GIRSHSVIZQASRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKIRSCKRJJUCNI-UHFFFAOYSA-N ethyl 7-bromo-1h-indole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC(Br)=C2NC(C(=O)OCC)=CC2=C1 FKIRSCKRJJUCNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethyl ether Natural products COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 229930182470 glycoside Natural products 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- UACSZOWTRIJIFU-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCO UACSZOWTRIJIFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006358 imidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- QBVBLLGAMALJGB-UHFFFAOYSA-N methyl 2-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(C)C(=O)OC QBVBLLGAMALJGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCOC(C)C(=O)OC YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSGBMDFJWFIEDF-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate Chemical compound COC(=O)C(O)C(C)C YSGBMDFJWFIEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVVSSORVCLNBOS-UHFFFAOYSA-N methyl 2-propoxyacetate Chemical compound CCCOCC(=O)OC AVVSSORVCLNBOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBCSBEIIIFLVQV-UHFFFAOYSA-N methyl 3-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOCCC(=O)OC VBCSBEIIIFLVQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMHHINXESLPPMV-UHFFFAOYSA-N methyl 3-propoxypropanoate Chemical compound CCCOCCC(=O)OC DMHHINXESLPPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006178 methyl benzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N methylene hexane Natural products CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKOPNUQPGUPYFM-UHFFFAOYSA-N n-[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCC1=CC(C)=C(O)C(C)=C1 YKOPNUQPGUPYFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-methylethanamine Chemical compound CCN(C)CC GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JIKUXBYRTXDNIY-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-phenylformamide Chemical compound O=CN(C)C1=CC=CC=C1 JIKUXBYRTXDNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005151 nonafluorobutanesulfonyl group Chemical group FC(C(C(S(=O)(=O)*)(F)F)(F)F)(C(F)(F)F)F 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- ZWWQICJTBOCQLA-UHFFFAOYSA-N o-propan-2-yl (propan-2-yloxycarbothioyldisulfanyl)methanethioate Chemical compound CC(C)OC(=S)SSC(=S)OC(C)C ZWWQICJTBOCQLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLZWNFNQMJAZGY-UHFFFAOYSA-N octaethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO GLZWNFNQMJAZGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N octane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCS KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- FOKLVOHHYNATHU-UHFFFAOYSA-N oxan-2-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCCO1 FOKLVOHHYNATHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZADZUSCZHASNAH-UHFFFAOYSA-N oxetan-3-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1COC1 ZADZUSCZHASNAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYOCIFXDRJJHPF-UHFFFAOYSA-N propyl 2-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(C)C(=O)OCCC GYOCIFXDRJJHPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXKPKHWZTLSCIB-UHFFFAOYSA-N propyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)OCC GXKPKHWZTLSCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJIYVZIALQOKQI-UHFFFAOYSA-N propyl 3-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOCCC(=O)OCCC HJIYVZIALQOKQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYVPXMGWHZBPIR-UHFFFAOYSA-N propyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCCOC(=O)CCOCC IYVPXMGWHZBPIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCMFJIHDWDKYIL-UHFFFAOYSA-N propyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCCOC(=O)CCOC JCMFJIHDWDKYIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTUFRRBSSNRYID-UHFFFAOYSA-N propyl 3-propoxypropanoate Chemical compound CCCOCCC(=O)OCCC YTUFRRBSSNRYID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- RVUYACAXXOCJAH-UHFFFAOYSA-N propyl ethaneperoxoate Chemical compound CCCOOC(C)=O RVUYACAXXOCJAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBONOZIMJLFIJZ-UHFFFAOYSA-N propyl propaneperoxoate Chemical compound CCCOOC(=O)CC FBONOZIMJLFIJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004309 pyranyl group Chemical group O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010421 standard material Substances 0.000 description 1
- 210000000130 stem cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
- OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene Chemical class C1CCSC1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical class CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005425 toluyl group Chemical group 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEROTHRUZYBWCY-UHFFFAOYSA-N tridecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C KEROTHRUZYBWCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical class OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005951 trifluoromethanesulfonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229940042596 viscoat Drugs 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
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Abstract
(과제) 플렉시블 디스플레이의 층간 절연막의 형성에 적합하게 사용되는 바와 같은 저온 그리고 단시간에서의 가열에 의한 소성이 가능함과 함께, 높은 방사선 감도를 갖는 감방사선성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
(해결 수단) 본 발명은, [A] (a1) 불포화 카본산 및/또는 불포화 카본산 무수물, 및 (a2) 에폭시기 함유 불포화 화합물을 함유하는 단량체를 공중합하여 이루어지는 공중합체의 알칼리 가용성 수지, [B] 1,2―퀴논디아지드 화합물 및, [C] 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물을 함유하는 층간 절연막 형성용 감방사선성 수지 조성물이다. [C]성분의 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
(화학식 1)
(해결 수단) 본 발명은, [A] (a1) 불포화 카본산 및/또는 불포화 카본산 무수물, 및 (a2) 에폭시기 함유 불포화 화합물을 함유하는 단량체를 공중합하여 이루어지는 공중합체의 알칼리 가용성 수지, [B] 1,2―퀴논디아지드 화합물 및, [C] 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물을 함유하는 층간 절연막 형성용 감방사선성 수지 조성물이다. [C]성분의 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
(화학식 1)
Description
본 발명은 플렉시블 디스플레이의 층간 절연막을 형성하기 위해 적합하게 사용되는 감방사선성 수지 조성물, 그 조성물로 형성되는 층간 절연막 및, 그의 형성 방법에 관한 것이다.
최근, 경량화, 소형화 등의 편리성의 향상에 의해, 액정 방식의 전자 페이퍼 등의 플렉시블 디스플레이가 보급되고 있다. 이러한 플렉시블 디스플레이의 기판으로서는, 유리 기판 대신에, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 등의 플라스틱 기판이 검토되고 있다. 그러나, 이들 플라스틱은, 가열시에 근소하게 신장·수축하여, 디스플레이로서의 기능을 저해한다는 문제가 있고, 내열성의 향상이 급선무가 되고 있다. 한편으로, 플라스틱 기판에 가해지는 열적인 스트레스를 경감시키기 위해, 플렉시블 디스플레이의 제조 프로세스의 저온화가 검토되고 있다. 플렉시블 디스플레이를 제조하는 데 있어 가장 고온이 요구되는 프로세스의 하나로 층간 절연막을 가열에 의해 소성하는 공정이 있으며, 이 가열 공정의 저온화가 요구되고 있다.
현재의 상태로는, 층간 절연막을 형성하는 재료로서는, 필요로 하는 패턴 형상을 얻기 위한 공정수가 적고, 또한 높은 표면 경도를 갖는 것이 바람직한 점에서, 감방사선성 수지 조성물이 폭넓게 사용되고 있다. 이러한 감방사선성 수지 조성물로서는, 예를 들면, 일본공개특허공보 2001―354822호에, 불포화 카본산 및/또는 그의 무수물, 에폭시기 함유 불포화 화합물 등으로 이루어지는 공중합체를 함유하는 감방사선성 수지 조성물이 개시되어 있으며, 카복실기와 에폭시기가 개열 반응함으로써, 층간 절연막으로서의 표면 경도를 얻도록 구성되어 있다. 그러나, 층간 절연막으로서 실제로 상업상 요구되는 레벨까지 표면 경도를 높이기 위해서는, 200℃ 이상의 고온에서의 가열 공정이 필요로 되어진다. 플라스틱 기판의 내열성을 고려하면, 가열 공정의 온도는 180℃ 이하인 것이 바람직하지만, 200℃ 이상의 고온으로 가열을 행한 경우, 기판의 변형을 발생시키는 경우가 있다.
또한, 일본공개특허공보 2008―77067호에는, 불포화 카본산 및/또는 그의 무수물, 에폭시기 함유 불포화 화합물 등으로 이루어지는 공중합체, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물, 광중합 개시제 및, 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 티올 화합물을 함유하는 액정 표시 소자의 스페이서를 형성하기 위한 네거티브형 감방사선성 수지 조성물이 개시되어 있다. 그러나, 당해 문헌의 감방사선성 수지 조성물은 방사선 감도, 기판에 대한 밀착성 등의 관점에서 우수하기는 하지만, 플라스틱 기판에 대응하기 위한 저온 가열에 의한 소성을 목적으로 하는 것은 아니다.
상기 사정을 감안하여, 일본공개특허공보 2009―4394호에는, 저온 경화 가능한 폴리이미드 전구체를 180℃ 이하에서 소성함으로써, 내(耐)용제성, 비(比)저항, 반도체 이동도 등의 점에서 우수한 플렉시블 디스플레이용 게이트 절연막이 얻어지는 것이 개시되어 있다. 그러나, 상기 문헌의 폴리이미드 전구체를 함유하는 도포액은 화학적인 경화계로서, 노광 현상에 의한 패턴 형성능을 갖지 않기 때문에, 미세한 패턴 형성은 불가능하다. 또한, 이러한 폴리이미드 전구체를 함유하는 도포액을 사용한 절연막의 형성에 있어서는, 경화막을 가열·소성하기까지 1시간 이상의 시간을 갖는다는 문제점이 있다. 그래서, 플렉시블 디스플레이용 절연막을 제조하기 위해 적합하게 사용될 수 있도록 저온 그리고 단시간에서의 가열·소성이 가능함과 함께, 간편한 제막 및 미세한 패턴 형성이 가능한 감방사선성을 갖는 수지 조성물의 개발이 강하게 요구되고 있다.
또한, 플렉시블 디스플레이의 디바이스 제작 프로세스에 있어서는, 층간 절연막의 상층에 도포를 행함으로써 적층물을 형성하는 것이 필요로 되어지는 경우가 있다. 따라서, 층간 절연막에는 높은 비유전율을 갖는 것에 더하여, 도포에 의한 적층물의 형성시에 사용하는 용매에 대한 내용제성이 우수한 것이 요구되고 있다.
본 발명은 상기와 같은 사정에 기초하여 이루어진 것으로, 그의 목적은 저온 그리고 단시간에서의 가열·소성이 가능함과 함께, 높은 방사선 감도를 갖고, 플렉시블 디스플레이의 층간 절연막의 형성에 적합하게 사용되는 감방사선성 수지 조성물을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 다른 목적은 내용제성 및 비유전율이 우수한 층간 절연막을 형성할 수 있는 감방사선성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 본 발명은,
[A] (a1) 불포화 카본산 및/또는 불포화 카본산 무수물, 및 (a2) 에폭시기 함유 불포화 화합물을 함유하는 단량체를 공중합하여 이루어지는 공중합체의 알칼리 가용성 수지,
[B] 1,2―퀴논디아지드 화합물 및,
[C] 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물을 함유하는 층간 절연막 형성용 감방사선성 수지 조성물이다.
당해 수지 조성물은, [A]성분인 알칼리 가용성 수지, [B]성분인 1,2―퀴논디아지드 화합물에 더하여, [C]성분인 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물인 가교제를 함유함으로써, 높은 방사선 감도를 가짐과 함께, 저온 그리고 단시간의 가열·소성에 의해 층간 절연막을 형성하는 것이 가능하며, 또한 내용제성 및 비유전율이 우수한 층간 절연막을 형성할 수 있기 때문에, 플렉시블 디스플레이의 층간 절연막의 형성 재료로서 적합하게 사용된다.
당해 감방사선성 수지 조성물에 있어서의 [C]성분인 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물은, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 1로 표시되는 화합물로서, 전형적으로는, 머캅토카본산과 다가 알코올과의 에스테르화물을 사용할 수 있다. [C]성분으로서 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 사용함으로써, 감방사선성 수지 조성물의 가열 공정에 있어서의 높은 경화성을 얻을 수 있다.
(화학식 1 중, R1은 메틸렌기, 탄소수 2∼10의 알킬렌기 또는 알킬메틸렌기이고, Y는 단결합, ―CO― 또는 ―O―CO―*(단, 「*」을 붙인 결합수(手)가 R1과 결합함)이며, n은 2∼10의 정수이고, X는 1개 또는 복수개의 에테르 결합을 가질 수 있는 탄소수 2∼70의 n가의 탄화 수소기, 또는 n이 3인 경우, 하기 화학식 2로 표시되는 기이다.
(화학식 2 중, 3개의 R2는, 각각 독립적으로, 메틸렌기 또는 탄소수 2∼6의 알킬렌기이고, 3개의 「*」은 각각 결합수인 것을 나타낸다.) )
당해 감방사선성 수지 조성물은, [D] 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 추가로 함유하는 것이 바람직하다. [D]성분으로서 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 사용함으로써, 감방사선성 수지 조성물의 가열 공정에 있어서의 더욱 높은 경화성을 얻을 수 있다.
(화학식 3 중, Z1, Z2, Z3 및 R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1∼20의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 탄화 수소기를 나타내고, Z2와 Z3은 서로 연결하여 환을 형성할 수도 있다.)
또한, 본 발명의 층간 절연막의 형성 방법은,
(1) 당해 감방사선성 수지 조성물의 도막을 기판상에 형성하는 공정,
(2) 공정 (1)에서 형성된 도막의 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정,
(3) 공정 (2)에서 방사선이 조사된 도막을 현상하는 공정 및,
(4) 공정 (3)에서 현상된 도막을 가열에 의해 소성하는 공정을 포함하고 있다.
또한, 여기에서 「소성」이란, 층간 절연막으로서 요구되는 표면 경도가 얻어지기까지 가열하는 것을 의미한다.
당해 감방사선성 수지 조성물을 사용하여, 상기의 공정에 의해 층간 절연막을 형성하는 경우에는, 감방사선성을 사용한 노광·현상에 의해 패턴을 형성하기 때문에, 용이하게 미세하고, 또한 정교한 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 당해 감방사선성 수지 조성물을 사용한 노광·현상에 의해, 저온 그리고 단시간의 가열에 의해 충분한 표면 경도를 갖는 층간 절연막을 형성할 수 있다.
당해 층간 절연막의 형성 방법에 있어서의 공정 (4)의 소성 온도는, 180℃ 이하인 것이 바람직하다. 감방사선성을 사용한 미세한 패턴 형성능에 더하여, 이와 같이 낮은 온도에서의 소성이 가능함으로써, 당해 방법은 플렉시블 디스플레이의 플라스틱 기판상으로의 층간 절연막의 형성을 위해 적합하게 사용된다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 층간 절연막 형성용 감방사선성 수지 조성물은, 높은 방사선 감도를 갖고, 또한 저온 그리고 단시간의 가열에 의해 표면 경도가 높은 층간 절연막을 형성하는 것이 가능하며, 내용제성 및 비유전율이 우수한 층간 절연막을 형성할 수 있다. 따라서, 당해 감방사선성 수지 조성물은 플렉시블 디스플레이의 층간 절연막의 형성 재료로서 적합하게 사용할 수 있다.
(발명을 실시하기 위한 형태)
발명에 의한 층간 절연막 형성용 감방사선성 수지 조성물은, [A]성분인 알칼리 가용성 수지, [B]성분인 1,2―퀴논디아지드 화합물, [C]성분인 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물(가교제) 및, 그 외의 임의 성분을 함유한다. 이하, 각 성분에 대해서 설명한다.
[A]성분
[A]성분은 (a1) 불포화 카본산 및/또는 불포화 카본산 무수물, 및 (a2) 에폭시기 함유 불포화 화합물을 함유하는 단량체를 공중합하여 이루어지는 공중합체의 알칼리 가용성 수지이다(이하, 이 공중합체를 「공중합체 [A]」라고 칭함). 공중합체 [A]는, 용매 중에서 중합 개시제의 존재하, 화합물(a1) 및 화합물(a2)을 함유하는 단량체를 라디칼 중합함으로써 제조할 수 있다. 또한, 공중합체 [A]의 제조에 있어서는, 화합물(a1) 및 화합물(a2)과 함께, 화합물(a3)로서 상기 (a1) 및 (a2) 이외의 불포화 화합물을 라디칼 중합하는 것이 바람직하다. 공중합체 [A]는, 화합물(a1)로부터 유도되는 구성 단위를, 화합물(a1) 및 (a2)(및 임의의 화합물(a3))로부터 유도되는 구성 단위의 합계에 기초하여, 바람직하게는 5∼40질량%, 특히 바람직하게는 5∼25질량% 함유하고 있다. 공중합체 [A]에 있어서의 화합물(a1)로부터 유도되는 구성 단위의 비율을 5∼40질량%로 함으로써, 공중합체의 알칼리 수용액에 대한 용해성을 최적화함과 함께, 방사선성 감도 및 현상성이 우수한 감방사선성 수지 조성물을 얻을 수 있다.
화합물(a1)은, 라디칼 중합성을 갖는 불포화 카본산 및/또는 불포화 카본산 무수물이다. 화합물(a1)의 구체예로서는, 모노카본산, 디카본산, 디카본산의 무수물, 다가 카본산의 모노〔(메타)아크릴로일옥시알킬〕에스테르, 양(兩) 말단에 카복실기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트, 카복실기를 갖는 다환식 화합물 및 그의 무수물 등을 들 수 있다.
이들 화합물(a1)의 구체예로서는,
모노카본산으로서, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산 등;
디카본산으로서, 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산 등;
디카본산의 무수물로서, 상기 디카본산으로서 예시한 화합물의 무수물 등;
다가 카본산의 모노〔(메타)아크릴로일옥시알킬〕에스테르로서, 숙신산 모노〔2―(메타)아크릴로일옥시에틸〕, 프탈산 모노〔2―(메타)아크릴로일옥시에틸〕 등;
양 말단에 카복실기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트로서, ω―카복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등;
카복실기를 갖는 다환식 화합물 및 그의 무수물로서, 5―카복시비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5,6―디카복시비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―카복시―5―메틸비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―카복시―5―에틸비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―카복시―6―메틸비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―카복시―6―에틸비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5,6―디카복시비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔 무수물 등을 각각 들 수 있다.
이들 화합물(a1) 중에서도, 모노카본산, 디카본산의 무수물이 바람직하게 사용된다. 특히, 아크릴산, 메타크릴산, 무수말레산이, 공중합 반응성, 알칼리 수용액에 대한 용해성 및 입수의 용이성에서 바람직하게 사용된다. 이들 화합물 (a1)은 단독으로 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
공중합체 [A]는 화합물(a2)로부터 유도되는 구성 단위를, 화합물(a1) 및 (a2)(및 임의의 화합물(a3))로부터 유도되는 구성 단위의 합계에 기초하여, 바람직하게는 10∼80질량%, 특히 바람직하게는 30∼80질량% 함유하고 있다. 공중합체 [A]에 있어서의 화합물(a2)로부터 유도되는 구성 단위의 비율을 10∼80질량%로 함으로써, 우수한 내용제성 및 내알칼리성을 갖는 층간 절연막을 형성하는 것이 가능해진다.
화합물(a2)은 라디칼 중합성을 갖는 에폭시기 함유 불포화 화합물이다. 여기에서의 에폭시기로서는, 옥시라닐기(1,2―에폭시 구조), 옥세타닐기(1,3―에폭시 구조)를 들 수 있다.
옥시라닐기를 갖는 불포화 화합물의 구체예로서는, 아크릴산 글리시딜, 메타크릴산 글리시딜, α―에틸아크릴산 글리시딜, α―n―프로필아크릴산 글리시딜, α―n―부틸아크릴산 글리시딜, 아크릴산―3,4―에폭시부틸, 메타크릴산―3,4―에폭시부틸, 아크릴산―6,7―에폭시헵틸, 메타크릴산―6,7―에폭시헵틸, α―에틸아크릴산―6,7―에폭시헵틸, o―비닐벤질글리시딜 에테르, m―비닐벤질글리시딜 에테르, p―비닐벤질글리시딜 에테르, 3,4―에폭시사이클로헥실 메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 옥시라닐기를 갖는 에폭시기 함유 불포화 화합물 중에서도, 메타크릴산 글리시딜, 메타크릴산―6,7―에폭시헵틸, o―비닐벤질글리시딜 에테르, m―비닐벤질글리시딜 에테르, p―비닐벤질글리시딜 에테르, 3,4―에폭시사이클로헥실 메타크릴레이트 등이, 공중합 반응성 및 수지 조성물의 경화성 향상의 관점에서 바람직하게 사용된다.
옥세타닐기를 갖는 불포화 화합물의 구체예로서는, 3―(아크릴로일옥시메틸) 옥세탄, 3―(아크릴로일옥시메틸)―2―메틸옥세탄, 3―(아크릴로일옥시메틸)―3―에틸옥세탄, 3―(아크릴로일옥시메틸)―2―트리플루오로메틸옥세탄, 3―(아크릴로일옥시메틸)―2―펜타플루오로에틸옥세탄, 3―(아크릴로일옥시메틸)―2―페닐옥세탄, 3―(아크릴로일옥시메틸)―2,2―디플루오로옥세탄, 3―(아크릴로일옥시메틸)―2,2,4―트리플루오로옥세탄, 3―(아크릴로일옥시메틸)―2,2,4,4―테트라플루오로옥세탄, 3―(2―아크릴로일옥시에틸)옥세탄, 3―(2―아크릴로일옥시에틸)―2―에틸옥세탄, 3―(2―아크릴로일옥시에틸)―3―에틸옥세탄, 3―(2―아크릴로일옥시에틸)―2―트리플루오로메틸옥세탄, 3―(2―아크릴로일옥시에틸)―2―펜타플루오로에틸옥세탄, 3―(2―아크릴로일옥시에틸)―2―페닐옥세탄, 3―(2―아크릴로일옥시에틸)―2,2―디플루오로옥세탄, 3―(2―아크릴로일옥시에틸)―2,2,4―트리플루오로옥세탄, 3―(2―아크릴로일옥시에틸)―2,2,4,4―테트라플루오로옥세탄 등의 아크릴산 에스테르;
3―(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3―(메타크릴로일옥시메틸)―2―메틸옥세탄, 3―(메타크릴로일옥시메틸)―3―에틸옥세탄, 3―(메타크릴로일옥시메틸)―2―트리플루오로메틸옥세탄, 3―(메타크릴로일옥시메틸)―2―펜타플루오로에틸옥세탄, 3―(메타크릴로일옥시메틸)―2―페닐옥세탄, 3―(메타크릴로일옥시메틸)―2,2―디플루오로옥세탄, 3―(메타크릴로일옥시메틸)―2,2,4―트리플루오로옥세탄, 3―(메타크릴로일옥시메틸)―2,2,4,4―테트라플루오로옥세탄, 3―(2―메타크릴로일옥시에틸)옥세탄, 3―(2―메타크릴로일옥시에틸)―2―에틸옥세탄, 3―(2―메타크릴로일옥시에틸)―3―에틸옥세탄, 3―(2―메타크릴로일옥시에틸)―2―트리플루오로메틸옥세탄, 3―(2―메타크릴로일옥시에틸)―2―펜타플루오로에틸옥세탄, 3―(2―메타크릴로일옥시에틸)―2―페닐옥세탄, 3―(2―메타크릴로일옥시에틸)―2,2―디플루오로옥세탄, 3―(2―메타크릴로일옥시에틸)―2,2,4―트리플루오로옥세탄, 3―(2―메타크릴로일옥시에틸)―2,2,4,4―테트라플루오로옥세탄 등의 메타크릴산 에스테르 등을 들 수 있다. 이들 화합물(a2)은 단독으로 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용되는 공중합체 [A]는, 임의 성분인 화합물(a3)로부터 유도되는 구성 단위를, 화합물(a1) 및 (a2), 및 화합물(a3)로부터 유도되는 구성 단위의 합계에 기초하여, 바람직하게는 1∼50질량%, 특히 바람직하게는 5∼50질량% 함유할 수도 있다. 이 구성 단위의 비율을 1∼50질량%로 함으로써, 알칼리 수용액에 대한 현상성 및, 형성되는 층간 절연막의 내용제성이 모두 우수한 감방사선성 수지 조성물을 얻을 수 있다.
화합물(a3)은, 상기의 화합물(a1) 및 화합물(a2) 이외의 것으로서, 라디칼 중합성을 갖는 불포화 화합물이라면 특별히 제한되는 것은 아니다. 화합물(a3)의 예로서는, 메타크릴산 쇄상 알킬에스테르, 메타크릴산 환상 알킬에스테르, 수산기를 갖는 메타크릴산 에스테르, 아크릴산 환상 알킬에스테르, 메타크릴산 아릴에스테르, 아크릴산 아릴에스테르, 불포화 디카본산 디에스테르 , 비사이클로 불포화 화합물, 말레이미드 화합물, 불포화 방향족 화합물, 공역 디엔, 테트라하이드로푸란 골격을 함유하는 불포화 화합물, 푸란 골격을 함유하는 불포화 화합물, 테트라하이드로피란 골격을 함유하는 불포화 화합물, 피란 골격을 함유하는 불포화 화합물, 하기 화학식 4로 표시되는 골격을 함유하는 불포화 화합물, 하기 화학식 5로 표시되는 페놀성 수산기 함유 불포화 화합물 및, 그 외의 불포화 화합물을 들 수 있다.
(화학식 4 중, R4는 수소 원자 또는 메틸기이고, m은 1이상의 정수이다.)
(화학식 5 중, R5는 수소 원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기이고, R6∼R10은 같거나 다르며, 수소 원자, 하이드록실기 또는 탄소수 1∼4의 알킬기이고, B는 단결합, ―COO―, 또는 ―CONH―이고, p는 0∼3의 정수이나, 단, R6∼R10의 적어도 1개는 하이드록실기이다.)
화합물(a3)의 구체예로서는,
메타크릴산 쇄상 알킬에스테르로서, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n―부틸메타크릴레이트, sec―부틸메타크릴레이트, t―부틸메타크릴레이트, 2―에틸헥실메타크릴레이트, 이소데실메타크릴레이트, n―라우릴메타크릴레이트, 트리데실메타크릴레이트, n―스테아릴메타크릴레이트 등;
메타크릴산 환상 알킬에스테르로서, 사이클로헥실메타크릴레이트, 2―메틸사이클로헥실메타크릴레이트, 트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸―8―일메타크릴레이트, 트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸―8―일옥시에틸메타크릴레이트, 이소보로닐메타크릴레이트 등;
수산기를 갖는 메타크릴산 에스테르로서, 하이드록시메틸메타크릴레이트, 2―하이드록시에틸메타크릴레이트, 3―하이드록시프로필메타크릴레이트, 4―하이드록시부틸메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노메타크릴레이트, 2,3―디하이드록시프로필메타크릴레이트, 2―메타크릴옥시에틸글리코사이드, 4―하이드록시페닐메타크릴레이트 등;
아크릴산 환상 알킬에스테르로서, 사이클로헥실아크릴레이트, 2―메틸사이클로헥실아크릴레이트, 트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸―8―일아크릴레이트, 트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸―8―일옥시에틸아크릴레이트, 이소보로닐아크릴레이트 등;
메타크릴산 아릴에스테르로서, 페닐메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트 등;
아크릴산 아릴에스테르로서, 페닐아크릴레이트, 벤질아크릴레이트 등;
불포화 디카본산 디에스테르로서, 말레산 디에틸, 푸마르산 디에틸, 이타콘산 디에틸 등;
비사이클로 불포화 화합물로서, 비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―메틸비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―에틸비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―메톡시비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―에톡시비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5,6―디메톡시비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5,6―디에톡시비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―t―부톡시카보닐비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―사이클로헥실옥시카보닐비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―페녹시카보닐비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5,6―디(t―부톡시카보닐)비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5,6―디(사이클로헥실옥시카보닐) 비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―(2'―하이드록시에틸)비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5,6―디하이드록시비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5,6―디(하이드록시메틸) 비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5,6―디(2'―하이드록시에틸)비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―하이드록시―5―메틸비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―하이드록시―5―에틸비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔, 5―하이드록시메틸―5―메틸비사이클로[2.2.1]헵트―2―엔 등;
말레이미드 화합물로서, N―페닐말레이미드, N―사이클로헥실말레이미드, N―벤질말레이미드, N―(4―하이드록시페닐)말레이미드, N―(4―하이드록시벤질)말레이미드, N―숙신이미딜―3―말레이미드벤조에이트, N―숙신이미딜―4―말레이미드부티레이트, N―숙신이미딜―6―말레이미드카프로에이트, N―숙신이미딜―3―말레이미드프로피오네이트, N―(9―아크리디닐)말레이미드 등;
불포화 방향족 화합물로서, 스티렌, α―메틸스티렌, m―메틸스티렌, p―메틸스티렌, 비닐톨루엔, p―메톡시스티렌 등;
공역 디엔으로서, 1,3―부타디엔, 이소프렌, 2,3―디메틸―1,3―부타디엔 등;
테트라하이드로푸란 골격을 함유하는 불포화 화합물로서, 테트라하이드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 2―메타크릴로일옥시―프로피온산 테트라하이드로푸르푸릴에스테르, 3―(메타)아크릴로일옥시테트라하이드로푸란―2―온 등 ;
푸란 골격을 함유하는 불포화 화합물로서, 2―메틸―5―(3―푸릴)―1―펜텐―3―온, 푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 1―푸란―2―부틸―3―엔―2―온, 1―푸란―2―부틸―3―메톡시―3―엔―2―온, 6―(2―푸릴)―2―메틸―1―헥센―3―온, 6―푸란―2―일―헥스―1―엔―3―온, 아크릴산―2―푸란―2―일―1―메틸―에틸에스테르, 6―(2―푸릴)―6―메틸―1―헵텐―3―온 등;
테트라하이드로피란 골격을 함유하는 불포화 화합물로서, (테트라하이드로피란―2―일)메틸메타크릴레이트, 2,6―디메틸―8―(테트라하이드로피란―2―일옥시)―옥트―1―엔―3―온, 2―메타크릴산 테트라하이드로피란―2―일에스테르, 1―(테트라하이드로피란―2―옥시)―부틸―3―엔―2―온 등;
피란 골격을 함유하는 불포화 화합물로서, 4―(1,4―디옥사―5―옥소―6―헵테닐)―6―메틸―2―피란, 4―(1,5―디옥사―6―옥소―7―옥테닐)―6―메틸―2―피란 등;
상기 화학식 4로 표시되는 골격을 함유하는 불포화 화합물로서, 폴리에틸렌글리콜(n=2∼10)모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(n=2∼10)모노(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
또한, 상기 화학식 5로 표시되는 페놀성 수산기 함유 불포화 화합물로서, B와 m의 정의에 의해 하기 화학식 6∼10으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
(화학식 6 중, q는 1 내지 3의 정수이고, R5, R6, R7, R8, R9 및 R10의 정의는 상기 화학식 5에서 정의한 바와 같다.)
(화학식 7 중, R5, R6, R7, R8, R9 및 R10의 정의는 상기 화학식 5에서 정의한 바와 같다.)
(화학식 8 중, r은 1 내지 3의 정수이고, R5, R6, R7, R8, R9 및 R10의 정의는 상기 화학식 5에서 정의한 바와 같다.)
(화학식 9 중, R5, R6, R7, R8, R9 및 R10의 정의는 상기 화학식 5에서 정의한 바와 같다.)
(화학식 10 중, R5, R6, R7, R8, R9 및 R10의 정의는 상기 화학식 5에서 정의한 바와 같다.)
그 외의 불포화 화합물의 예로서는, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 염화 비닐, 염화 비닐리덴, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 아세트산 비닐을 각각 들 수 있다.
이들 화합물(a3)의 예 중에서도, 메타크릴산 쇄상 알킬에스테르, 메타크릴산 환상 알킬에스테르, 말레이미드 화합물, 테트라하이드로푸란 골격을 함유하는 불포화 화합물, 푸란 골격을 함유하는 불포화 화합물, 테트라하이드로피란 골격을 함유하는 불포화 화합물, 피란 골격을 함유하는 불포화 화합물, 상기 화학식 4로 표시되는 골격을 함유하는 불포화 화합물, 상기 화학식 5로 표시되는 페놀성 수산기 함유 불포화 화합물, 불포화 방향족 화합물, 아크릴산 환상 알킬에스테르가 바람직하게 사용된다. 이들 중에서도 특히, 스티렌, t―부틸메타크릴레이트 n―라우릴메타크릴레이트, 트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸―8―일메타크릴레이트, p―메톡시스티렌, 2―메틸사이클로헥실아크릴레이트, N―페닐말레이미드, N―사이클로헥실말레이미드, 테트라하이드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(n=2∼10)모노(메타)아크릴레이트, 3―(메타)아크릴로일옥시테트라하이드로푸란―2―온, 4―하이드록시벤질(메타)아크릴레이트, 4―하이드록시페닐(메타)아크릴레이트, o―하이드록시스티렌, p―하이드록시스티렌, α―메틸―p―하이드록시스티렌이 공중합 반응성 및 알칼리 수용액에 대한 용해성의 관점에서 바람직하다. 이들 화합물(a3)은 단독으로 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
공중합체 [A]의 각 구성 성분의 바람직한 구체예로서는, 메타크릴산/트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸―8―일메타크릴레이트/2―메틸사이클로헥실아크릴레이트/메타크릴산 글리시딜/N―(3,5―디메틸―4―하이드록시벤질)메타크릴아미드, 메타크릴산/테트라하이드로푸르푸릴메타크릴레이트/메타크릴산 글리시딜/N―사이클로헥실말레이미드/n―라우릴메타크릴레이트/α―메틸―p―하이드록시스티렌, 스티렌/메타크릴산/메타크릴산 글리시딜/(3―메타크릴로일옥시메틸)―3―에틸옥세탄/트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸―8―일메타크릴레이트, 메타크릴산/트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸―8―일메타크릴레이트/2―메틸사이클로헥실아크릴레이트/메타크릴산 글리시딜/스티렌을 들 수 있다.
공중합체 [A]의 GPC(겔 투과 크로마토그래피)에 의한 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(이하, 「Mw」라고 함)은, 바람직하게는 2×103∼1×105, 보다 바람직하게는 5×103∼5×104이다. 공중합체 [A]의 Mw를 2×103∼1×105으로 함으로써, 감방사선성 수지 조성물의 방사선 감도 및 현상성(원하는 패턴 형상을 정확하게 형성하는 특성)을 높일 수 있다.
또한, 공중합체 [A]의 분자량 분포 「Mw/Mn」(여기에서 「Mn」은, 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정한 공중합체 [A]의 폴리스티렌 환산 수 평균 분자량임)은, 바람직하게는 5.0 이하, 보다 바람직하게는 3.0 이하이다. 공중합체 [A]의 Mw/Mn을 5.0 이하로 함으로써, 얻어지는 층간 절연막의 현상성을 높일 수 있다. 공중합체 [A]를 포함하는 감방사선성 수지 조성물은, 현상할 때에 현상잔사를 생성하는 일 없이 용이하게 원하는 패턴 형상을 형성할 수 있다.
공중합체 [A]를 제조하기 위한 중합 반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 알코올류, 에테르류, 글리콜에테르, 에틸렌글리콜알킬에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 알킬에테르, 프로필렌글리콜 모노알킬에테르, 프로필렌글리콜 모노알킬에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노알킬에테르 프로피오네이트, 방향족 탄화 수소류, 케톤류, 그 외의 에스테르류 등을 들 수 있다.
이들 용매로서는,
알코올류로서, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 벤질알코올, 2―페닐에틸알코올, 3―페닐―1―프로판올 등;
에테르류로서, 예를 들면 테트라하이드로푸란 등;
글리콜에테르로서, 예를 들면 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르 등;
에틸렌글리콜 알킬에테르 아세테이트로서, 예를 들면 메틸셀로솔브 아세테이트, 에틸셀로솔브 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트 등;
디에틸렌글리콜 알킬에테르로서, 예를 들면 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르 등;
프로필렌글리콜 모노알킬에테르로서, 예를 들면 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르 등;
프로필렌글리콜 모노알킬에테르 아세테이트로서, 예를 들면 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르 아세테이트 등;
프로필렌글리콜 모노알킬에테르 프로피오네이트로서, 예를 들면 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 프로피오네이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르 프로피오네이트, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르 프로피오네이트, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르 프로피오네이트 등;
방향족 탄화 수소류로서, 예를 들면 톨루엔, 크실렌 등;
케톤류로서, 예를 들면 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4―하이드록시―4―메틸―2―펜타논 등;
그 외의 에스테르류로서, 예를 들면 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 프로필, 아세트산 부틸, 2―하이드록시프로피온산 에틸, 2―하이드록시―2―메틸프로피온산 메틸, 2―하이드록시―2―메틸프로피온산 에틸, 하이드록시아세트산 메틸, 하이드록시아세트산 에틸, 하이드록시아세트산 부틸, 락트산 메틸, 락트산 에틸, 락트산 프로필, 락트산 부틸, 3―하이드록시프로피온산 메틸, 3―하이드록시프로피온산 에틸, 3―하이드록시프로피온산 프로필, 3―하이드록시프로피온산 부틸, 2―하이드록시―3―메틸부탄산 메틸, 메톡시아세트산 메틸, 메톡시아세트산 에틸, 메톡시아세트산 프로필, 메톡시아세트산 부틸, 에톡시아세트산 메틸, 에톡시아세트산 에틸, 에톡시아세트산 프로필, 에톡시아세트산 부틸, 프로폭시아세트산 메틸, 프로폭시아세트산 에틸, 프로폭시아세트산 프로필, 프로폭시아세트산 부틸, 부톡시아세트산 메틸, 부톡시아세트산 에틸, 부톡시아세트산 프로필, 부톡시아세트산 부틸, 2―메톡시프로피온산 메틸, 2―메톡시프로피온산 에틸, 2―메톡시프로피온산 프로필, 2―메톡시프로피온산 부틸, 2―에톡시프로피온산 메틸, 2―에톡시프로피온산 에틸, 2―에톡시프로피온산 프로필, 2―에톡시프로피온산 부틸, 2―부톡시프로피온산 메틸, 2―부톡시프로피온산 에틸, 2―부톡시프로피온산 프로필, 2―부톡시프로피온산 부틸, 3―메톡시프로피온산 메틸, 3―메톡시프로피온산 에틸, 3―메톡시프로피온산 프로필, 3―메톡시프로피온산 부틸, 3―에톡시프로피온산 메틸, 3―에톡시프로피온산 에틸, 3―에톡시프로피온산 프로필, 3―에톡시프로피온산 부틸, 3―프로폭시프로피온산 메틸, 3―프로폭시프로피온산 에틸, 3―프로폭시프로피온산 프로필, 3―프로폭시프로피온산 부틸, 3―부톡시프로피온산 메틸, 3―부톡시프로피온산 에틸, 3―부톡시프로피온산 프로필, 3―부톡시프로피온산 부틸 등의 에스테르류를 각각 들 수 있다.
이들 용매 중, 에틸렌글리콜 알킬에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 알킬에테르, 프로필렌글리콜 모노알킬에테르, 프로필렌글리콜 알킬에테르 아세테이트가 바람직하고, 특히, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트가 바람직하다.
공중합체 [A]를 제조하기 위한 중합 반응에 사용되는 중합 개시제로서는, 일반적으로 라디칼 중합 개시제로서 알려져 있는 것을 사용할 수 있다. 라디칼 중합 개시제로서는, 예를 들면
2,2'―아조비스이소부티로니트릴, 2,2'―아조비스―(2,4―디메틸발레로니트릴), 2,2'―아조비스―(4―메톡시―2,4―디메틸발레로니트릴) 등의 아조 화합물;
벤조일퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, t―부틸퍼옥시피발레이트, 1,1'―비스―(t―부틸퍼옥시)사이클로헥산 등의 유기 과산화물; 및 과산화 수소를 들 수 있다.
라디칼 중합 개시제로서 과산화물을 사용하는 경우에는, 과산화물을 환원제와 함께 사용하여 레독스형 개시제로 할 수도 있다.
공중합체 [A]를 제조하기 위한 중합 반응에 있어서는, 분자량을 조정하기 위해, 분자량 조정제를 사용할 수 있다. 분자량 조정제의 구체예로서는,
클로로포름, 4브롬화 탄소 등의 할로겐화 탄화 수소류;
n―헥실머캅탄, n―옥틸머캅탄, n―도데실머캅탄, t―도데실머캅탄, 티오글리콜산 등의 머캅탄류;
디메틸크산토겐 설파이드, 디이소프로필크산토겐 디설파이드 등의 크산토겐류;
터피놀렌, α―메틸스티렌 다이머 등을 들 수 있다.
[B]성분
본 발명의 감방사선성 수지 조성물에 사용되는 [B]성분은, 방사선 조사에 의해 카본산을 발생하는 1,2―퀴논디아지드 화합물이다. 1,2―퀴논디아지드 화합물로서, 페놀성 화합물 또는 알코올성 화합물(이하, 「모핵」이라고 함)과 1,2―나프토퀴논디아지드술폰산 할라이드와의 축합물을 사용할 수 있다.
상기 모핵으로서는, 예를 들면 트리하이드록시 벤조페논, 테트라하이드록시 벤조페논, 펜타하이드록시 벤조페논, 헥사하이드록시 벤조페논, (폴리하이드록시페닐)알칸, 그 외의 모핵을 들 수 있다.
이들 모핵으로서는,
트리하이드록시 벤조페논으로서, 예를 들면 2,3,4―트리하이드록시 벤조페논, 2,4,6―트리하이드록시 벤조페논 등;
테트라하이드록시 벤조페논으로서, 예를 들면 2,2',4,4'―테트라하이드록시 벤조페논, 2,3,4,3'―테트라하이드록시 벤조페논, 2,3,4,4'―테트라하이드록시 벤조페논, 2,3,4,2'―테트라하이드록시―4'―메틸 벤조페논, 2,3,4,4'―테트라하이드록시―3'― 메톡시 벤조페논 등;
펜타하이드록시 벤조페논으로서, 예를 들면 2,3,4,2',6'―펜타하이드록시 벤조페논 등;
헥사하이드록시 벤조페논으로서, 예를 들면 2,4,6,3',4',5'―헥사하이드록시 벤조페논, 3,4,5,3',4',5'―헥사하이드록시 벤조페논 등;
(폴리하이드록시페닐)알칸으로서, 예를 들면 비스(2,4―디하이드록시페닐) 메탄, 비스(p―하이드록시페닐)메탄, 트리스(p―하이드록시페닐)메탄, 1,1,1―트리스(p―하이드록시페닐)에탄, 비스(2,3,4―트리하이드록시페닐)메탄, 2,2―비스(2,3,4―트리하이드록시페닐)프로판, 1,1,3―트리스(2,5―디메틸―4―하이드록시페닐)―3―페닐프로판, 4,4'―〔1―〔4―〔1―〔4―하이드록시페닐〕―1―메틸에틸〕페닐〕에틸리덴〕비스페놀, 비스(2,5―디메틸―4―하이드록시페닐)―2―하이드록시페닐메탄, 3,3,3',3'―테트라메틸―1,1'―스피로비인덴―5,6,7,5',6',7'―헥산올, 2,2,4―트리메틸―7,2',4'―트리하이드록시플라반 등;
그 외의 모핵으로서, 예를 들면 2―메틸―2―(2,4―디하이드록시페닐)―4―(4―하이드록시페닐)―7―하이드록시크로만, 1―[1―(3―{1―(4―하이드록시페닐)―1―메틸에틸}―4,6―디하이드록시페닐)―1―메틸에틸]―3―(1―(3―{1―(4―하이드록시페닐)―1―메틸에틸}―4,6―디하이드록시페닐)―1―메틸에틸)벤젠, 4,6―비스{1―(4―하이드록시페닐)―1―메틸에틸}―1,3―디하이드록시벤젠을 들 수 있다.
이들 모핵 중, 2,3,4,4'―테트라하이드록시 벤조페논, 1,1,1―트리(p―하이드록시페닐)에탄, 4,4'―〔1―〔4―〔1―〔4―하이드록시페닐〕―1―메틸에틸〕페닐〕에틸리덴〕비스페놀이 바람직하다.
또한, 1,2―나프토퀴논디아지드술폰산 할라이드로서는, 1,2―나프토퀴논디아지드술폰산 클로라이드가 바람직하다. 1,2―나프토퀴논디아지드술폰산 클로라이드의 구체예로서는, 1,2―나프토퀴논디아지드―4―술폰산 클로라이드 및 1,2―나프토퀴논디아지드―5―술폰산 클로라이드를 들 수 있다. 이 중에서도, 1,2―나프토퀴논디아지드―5―술폰산 클로라이드를 사용하는 것이 특히 바람직하다.
페놀성 화합물 또는 알코올성 화합물(모핵)과, 1,2―나프토퀴논디아지드술폰산 할라이드와의 축합 반응에 있어서는, 페놀성 화합물 또는 알코올성 화합물 중의 OH기수에 대하여, 바람직하게는 30∼85몰%, 보다 바람직하게는 50∼70몰%에 상당하는 1,2―나프토퀴논디아지드술폰산 할라이드를 사용할 수 있다. 축합 반응은 공지의 방법에 의해 실시할 수 있다.
또한, 1,2―퀴논디아지드 화합물로서는, 상기 예시한 모핵의 에스테르 결합을 아미드 결합으로 변경한 1,2―나프토퀴논디아지드술폰산 아미드류, 예를 들면 2,3,4―트리아미노벤조페논―1,2―나프토퀴논디아지드―4―술폰산 아미드 등도 적합하게 사용된다.
이들 [B]성분은 단독으로 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 감방사선성 수지 조성물에 있어서의 [B]성분의 사용 비율은, [A]성분의 알칼리 가용성 수지 100질량부에 대하여, 바람직하게는 5∼100질량부이며, 보다 바람직하게는 10∼50질량부이다. [B]성분의 사용 비율이 5∼100질량부일 때, 현상액이 되는 알칼리 수용액에 대한 방사선의 조사 부분과 미조사 부분과의 용해도의 차가 커져, 패터닝 성능이 양호해지고, 또한 얻어지는 층간 절연막의 내용제성도 양호해진다.
[C]성분
본 발명의 감방사선성 수지 조성물에 사용되는 [C]성분은, 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물이다. [C]성분의 화합물은 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 한 특별히 한정되는 것은 아니지만, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
(화학식 1)
(화학식 1 중, R1은 메틸렌기, 탄소수 2∼10의 알킬렌기 또는 알킬메틸렌기이고, Y는 단결합, ―CO― 또는 ―O―CO―*(단, 「*」을 붙인 결합수가 R1과 결합함)이며, n은 2∼10의 정수이고, X는 1개 또는 복수개의 에테르 결합을 가질 수 있는 탄소수 2∼70의 n가의 탄화 수소기, 또는 n이 3인 경우, 하기 화학식 2로 표시되는 기이다.
(화학식 2)
(화학식 2 중, 3개의 R2는, 각각 독립적으로, 메틸렌기 또는 탄소수 2∼6의 알킬렌기이고, 3개의 「*」은, 각각 결합수인 것을 나타낸다.) )
상기 화학식 1로 표시되는 화합물로서, 전형적으로는, 머캅토카본산과 다가 알코올과의 에스테르화물 등을 사용할 수 있다. 이러한 에스테르화물을 사용함으로써, 높은 경화성을 갖는 감방사선성 수지 조성물을 얻을 수 있다. 에스테르화물을 구성하는 머캅토카본산으로서는, 예를 들면 티오글리콜산, 3―머캅토프로피온산, 3―머캅토부탄산, 3―머캅토펜탄산 등을 사용할 수 있다. 또한, 에스테르화물을 구성하는 다가 알코올로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 테트라에틸렌글리콜, 디펜타에리스리톨, 1,4―부탄디올, 펜타에리스리톨 등을 들 수 있다.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 바람직한 구체예로서는, 트리메틸올프로판트리스(3―머캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3―머캅토프로피오네이트), 테트라에틸렌글리콜비스(3―머캅토프로피오네이트), 디펜타에리스리톨헥사키스(3―머캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨테트라키스(티오글리콜레이트), 1,4―비스(3―머캅토부티릴옥시)부탄, 펜타에리스리톨테트라키스(3―머캅토부티레이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3―머캅토펜틸레이트), 1,3,5―트리스(3―머캅토부틸옥시에틸)―1,3,5―트리아진―2,4,6(1H,3H,5H)―트리온 등을 들 수 있다.
[C]성분의 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물로서는, 하기 화학식 11 또는 화학식 12로 표시되는 화합물을 사용할 수도 있다.
(화학식 11에 있어서, R11은, 메틸렌기 또는 탄소수 2∼20의 알킬렌기이고, R12는 메틸렌기 또는 탄소수 2∼6의 직쇄 또는 분지 알킬렌기이고, s는 1∼20의 정수를 나타내며, 화학식 12에 있어서, R은, 같거나 다르며, ―H, ―OH 또는 화학식 13으로 표시되는 기이나, 단, 화학식 12에 있어서의 4개의 R의 적어도 1개는 화학식 13으로 표시되는 기이다.
(화학식 13에 있어서, R13은 메틸렌기 또는 탄소수 2∼6의 직쇄 또는 분지 알킬렌기이다. ) )
[C]성분의 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. [C]성분의 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물의 바람직한 사용량은, [A]성분의 알칼리 가용성 수지 100질량부에 대하여, 0.1∼60질량부, 더욱 바람직하게는 1∼50질량부이다. [C]성분의 사용량을 0.1∼60질량부로 한 감방사선성 수지 조성물을 사용함으로써, 1시간 이하의 짧은 가열 시간으로, 충분한 표면 경도를 갖는 층간 절연막을 얻을 수 있다.
그 외의 임의 성분
본 발명의 감방사선성 수지 조성물은 상기의 [A], [B] 및 [C]성분을 필수 성분으로서 함유하지만, 그 외 필요에 따라서, [D] 이미다졸환 함유 화합물인 가교 보조제, [E] 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 2중 결합을 갖는 중합성 화합물, [F] 공중합체 [A] 이외의 에폭시 수지, [G] 계면 활성제, [H] 밀착 보조제, [I] 감열성 산발생제를 함유할 수 있다.
[D]성분의 가교 보조제는, 하기의 화학식 3으로 표시되는 이미다졸환 함유 화합물이다.
(화학식 3)
(화학식 3 중, Z1, Z2, Z3 및 R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1∼20의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 탄화 수소기를 나타내고, Z2와 Z3은 서로 연결하여 환을 형성할 수도 있다.)
화학식 3 중의 탄화 수소기의 구체예로서는,
메틸기, 에틸기, n―프로필기, i―프로필기, n―부틸기, i―부틸기, sec―부틸기, t―부틸기, n―펜틸기, n―헥실기, n―헵틸기, n―옥틸기, n―노닐기, n―데실기, n―운데실기, n―도데실기, n―트리데실기, n―테트라데실기, n―펜타데실기, n―헥사데실기, n―헵타데실기, n―옥타데실기, n―노나데실기, n―에이코실기 등의 탄소수 1∼20의 알킬기;
사이클로프로필기, 사이클로부틸기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기 등의 탄소수 3∼20의 사이클로알킬기;
페닐기, 톨루일기, 벤질기, 메틸벤질기, 크실릴기, 메시틸기, 나프틸기, 안트릴기 등의 탄소수 6∼20의 아릴기;
노르보닐기, 트리사이클로데카닐기, 테트라사이클로도데실기, 아다만틸기, 메틸아다만틸기, 에틸아다만틸기, 부틸아다만틸기 등의 탄소수 6∼20의 가교(bridged) 지환식 탄화 수소기 등을 들 수 있다.
또한, 상기 탄화 수소기는 치환되어 있을 수도 있고, 이 치환기의 구체예로서는,
하이드록실기;
카복실기;
하이드록시메틸기, 1―하이드록시에틸기, 2―하이드록시에틸기, 1―하이드록시프로필기, 2―하이드록시프로필기, 3―하이드록시프로필기, 1―하이드록시부틸기, 2―하이드록시부틸기, 3―하이드록시부틸기, 4―하이드록시부틸기 등의 탄소수 1∼4의 하이드록시알킬기;
메톡실기, 에톡실기, n―프로폭실기, i―프로폭실기, n―부톡실기, 2―메틸프로폭실기, 1―메틸프로폭실기, t―부톡실기 등의 탄소수 1∼4의 알콕실기;
시아노기;
시아노메틸기, 2―시아노에틸기, 3―시아노프로필기, 4―시아노부틸기 등의 탄소수 2∼5의 시아노알킬기;
메톡시카보닐기, 에톡시카보닐기, t―부톡시카보닐기 등의 탄소수 2∼5의 알콕시카보닐기;
메톡시카보닐메톡실기, 에톡시카보닐메톡실기, t―부톡시카보닐메톡실기 등의 탄소수 3∼6의 알콕시카보닐알콕실기;
불소, 염소 등의 할로겐 원자;
플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기 등의 플루오로알킬기 등을 들 수 있다.
상기 화학식 3에 있어서는, Z2 및 Z3이 서로 연결되어, 환상 구조, 바람직하게는 방향족환, 또는 탄소수 2∼20의 포화 또는 불포화의 질소 함유 복소환을 형성할 수도 있다. 이 질소 함유 복소환으로서는, 예를 들면 하기 화학식 14의 벤즈이미다졸환을 형성할 수도 있다.
(화학식 14 중, W는, 서로 독립적으로, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1∼20의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 탄화 수소기를 나타내고, 화학식 중의 점선은, 상기 화학식 3에 있어서의 이미다졸환 중의, Z2 및 Z3이 결합되어 있는 탄소 원자간의 결합, 즉 Z2, Z3 및 2개의 N으로 둘러싸인 탄소―탄소 2중 결합을 나타내는 것이다.)
또한, 화학식 14의 W의 탄화 수소기로서는, 상기 화학식 3 중의 탄화 수소기와 동일한 것을 들 수 있다. 상기와 같은 Z2 및 Z3이 서로 연결되어 벤즈이미다졸 환을 형성하고 있는 화합물을 사용함으로써, 높은 경화성을 갖는 감방사선성 수지 조성물을 얻을 수 있다.
특히 바람직한 [D]성분의 화합물로서는, 2―페닐벤즈이미다졸, 2―메틸이미다졸, 2―메틸벤즈이미다졸을 들 수 있다. [D]성분의 이미다졸환 함유 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 임의 성분인 [D]성분의 이미다졸환 함유 화합물을 사용하는 경우의 전형적인 사용량은, [A]성분의 알칼리 가용성 수지 100질량부에 대하여 0.01∼10질량부이다. 감방사선성 수지 조성물에 있어서의 [D]성분의 사용량을 0.01∼10질량부로 함으로써, 더욱 높은 표면 경도를 갖는 층간 절연막을 얻을 수 있다.
[E]성분의 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 2중 결합을 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들면 단관능 (메타)아크릴레이트, 2관능 (메타)아크릴레이트, 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트를 적합하게 사용할 수 있다.
단관능 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면 2―하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 카비톨(메타)아크릴레이트, 이소보로닐(메타)아크릴레이트, 3―메톡시부틸(메타)아크릴레이트, 2―(메타)아크릴로일옥시에틸―2―하이드록시프로필프탈레이트 등을 들 수 있다. 이들 단관능 (메타)아크릴레이트의 시판품의 예로는서는, 아로닉스(ARONIX) M―101, 동(同) M―111, 동 M―114(이상, 토아고세이 가부시키가이샤 제조), KAYARAD TC―110S, 동 TC―120S(이상, 닛폰카야쿠 가부시키가이샤 제조), 비스코트(VISCOAT) 158, 동 2311(이상, 오사카유키카가쿠코교 가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있다.
2관능 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6―헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9―노난디올디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페녹시에탄올플루오렌디아크릴레이트, 비스페녹시에탄올플루오렌디아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 2관능 (메타)아크릴레이트의 시판품으로서는, 예를 들면 아로닉스 M―210, 동 M―240, 동 M―6200(이상, 토아고세이 가부시키가이샤 제조), KAYARAD HDDA, 동 HX―220, 동 R―604(이상, 닛폰카야쿠 가부시키가이샤 제조), 비스코트 260, 동 312, 동 335HP(이상, 오사카유키카가쿠코교 가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있다.
3관능 이상의 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리((메타)아크릴로일옥시에틸)포스페이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트의 시판품으로서는, 예를 들면 아로닉스 M―309, 동 M―400, 동 M―405, 동 M―450, 동 M―7100, 동 M―8030, 동 M―8060(이상, 토아고세이 가부시키가이샤 제조), KAYARAD TMPTA, 동 DPHA, 동 DPCA―20, 동 DPCA―30, 동 DPCA―60, 동 DPCA―120(이상, 닛폰카야쿠 가부시키가이샤 제조), 비스코트 295, 동 300, 동 360, 동 GPT, 동 3PA, 동 400(이상, 오사카유키카가쿠코교 가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있다.
이들 메타(아크릴레이트)류 중, 감방사선성 수지 조성물의 경화성 개선의 관점에서, 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트가 바람직하게 사용된다. 그 중에서도, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트가 특히 바람직하다. 이들 단관능, 2관능 또는 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트는 단독으로 또는 조합하여 사용된다.
감방사선성 수지 조성물에 있어서의 [E]성분의 사용 비율은, 공중합체 [A] 100질량부에 대하여, 바람직하게는 50질량부 이하, 보다 바람직하게는 30질량부 이하이다. 이러한 비율로 [E]성분을 함유시킴으로써, 감방사선성 수지 조성물의 경화성을 향상시킬 수 있음과 함께, 기판상으로의 도막 형성 공정에 있어서의 막 거칠어짐의 발생을 억제하는 것이 가능해진다.
[F]성분인 공중합체 [A] 이외의 에폭시 수지는, 감방사선성 수지 조성물에 포함되는 각 성분과의 상용성(相溶性)에 악영향을 미치는 것이 아닌 한 특별히 한정되는 것은 아니다. 그러한 에폭시 수지의 예로서, 바람직하게는 비스페놀A형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 환상 지방족 에폭시 수지, 글리시딜에스테르형 에폭시 수지, 글리시딜아민형 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지, 글리시딜 메타아크릴레이트를 (공)중합한 수지 등을 들 수 있다. 이들 중, 비스페놀A형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 글리시딜에스테르형 에폭시 수지 등이 특히 바람직하다.
감방사선성 수지 조성물에 있어서의 [F]성분의 사용 비율은, 공중합체 [A] 100질량부에 대하여, 바람직하게는 30질량부 이하이다. 이러한 비율로 [F]성분을 사용함으로써, 감방사선성 수지 조성물의 경화성을 더욱 향상시킬 수 있다. 또한, 공중합체 [A]도 「에폭시 수지」라고 할 수 있지만, 알칼리 가용성을 갖는 점에서 [F]성분과는 다르다. [F]성분은 알칼리 불용성이다.
감방사선성 수지 조성물에는, 도막 형성시의 도포성을 더욱 향상시키기 위해, 「G」성분으로서 계면 활성제를 사용할 수 있다. 적합하게 사용할 수 있는 계면 활성제로서는, 불소계 계면 활성제, 실리콘계 계면 활성제 및 비이온계 계면 활성제를 들 수 있다.
불소계 계면 활성제의 예로서는, 1,1,2,2―테트라플루오로옥틸(1,1,2,2―테트라플루오로프로필)에테르, 1,1,2,2―테트라플루오로옥틸헥실에테르, 옥타에틸렌글리콜디(1,1,2,2―테트라플루오로부틸)에테르, 헥사에틸렌글리콜(1,1,2,2,3,3―헥사플루오로펜틸)에테르, 옥타프로필렌글리콜디(1,1,2,2―테트라플루오로부틸)에테르, 헥사프로필렌글리콜디(1,1,2,2,3,3―헥사플루오로펜틸)에테르 등의 플루오로에테르류; 퍼플루오로도데실술폰산 나트륨; 1,1,2,2,8,8,9,9,10,10―데카플루오로도데칸, 1,1,2,2,3,3―헥사플루오로데칸 등의 플루오로알칸류; 플루오로알킬벤젠술폰산 나트륨류; 플루오로알킬옥시에틸렌에테르류; 플루오로알킬암모늄요다이드류; 플루오로알킬폴리옥시에틸렌에테르류; 퍼플루오로알킬폴리옥시에탄올류; 퍼플루오로알킬알콕시레이트류; 불소계 알킬에스테르류 등을 들 수 있다.
이들 불소계 계면 활성제의 시판품으로서는, BM―1000, BM―1100(이상, BM Chemie사 제조), 메가팩(MEGAFACE) F142D, 동 F172, 동 F173, 동 F183, 동 F178, 동 F191, 동 F471(이상, 다이닛폰잉키카가쿠코교 가부시키가이샤 제조), 플루오라드(FLUORAD) FC―170C, 동 FC―171, 동 FC―430, 동 FC―431(이상, 스미토모쓰리엠 가부시키가이샤 제조), 서프론(SURFLON) S―112, 동 S―113, 동 S―131, 동 S―141, 동 S―145, 동 S―382, 동 SC―101, 동 SC―102, 동 SC―103, 동 SC―104, 동 SC―105, 동 SC―106(아사히가라스 가부시키가이샤 제조), 에프톱 EF301, 동 303, 동 352(신아키타카세이 가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있다.
실리콘계 계면 활성제의 구체예로서는, 시판되고 있는 상품명으로, DC3PA, DC7PA, FS―1265, SF―8428, SH11PA, SH21PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, SH―190, SH―193, SZ―6032(이상, 도레·다우코닝·실리콘 가부시키가이샤 제조), TSF―4440, TSF―4300, TSF―4445, TSF―4446, TSF―4460, TSF―4452(이상, GE 도시바실리콘 가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있다.
비이온계 계면 활성제로서는, 예를 들면 폴리옥시에틸렌 라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌 스테아릴에테르, 폴리옥시에틸렌 올레일에테르 등의 폴리옥시에틸렌 알킬에테르류; 폴리옥시에틸렌 옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌 노닐페닐에테르 등의 폴리옥시에틸렌 아릴에테르류; 폴리옥시에틸렌 디라우레이트, 폴리옥시에틸렌 디스테아레이트 등의 폴리옥시에틸렌 디알킬에스테르류; (메타)아크릴산계 공중합체류 등을 들 수 있다. 비이온계 계면 활성제의 대표적인 시판품으로서는, 폴리플로우(POLYFLOW) No. 57, 95(쿄에이샤카가쿠 가부시키가이샤 제조)를 들 수 있다. 이들 계면 활성제는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
감방사선성 수지 조성물에 있어서, 「G」성분의 계면 활성제는, 공중합체 [A] 100질량부에 대하여, 바람직하게는 5질량부 이하, 보다 바람직하게는 2질량부 이하로 사용된다. [G] 계면 활성제의 사용량을 5질량부 이하로 함으로써, 기판상에 도막을 형성할 때의 막 거칠어짐을 억제할 수 있다.
본 발명의 감방사선성 수지 조성물에 있어서는, 기판과의 접착성을 향상시키기 위해 [H]성분인 밀착 보조제를 사용할 수 있다. 이러한 밀착 보조제로서는, 관능성 실란 커플링제가 바람직하게 사용된다. 관능성 실란 커플링제의 예로서는, 카복실기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기(바람직하게는 옥시라닐기) 등의 반응성 치환기를 갖는 실란 커플링제 등을 들 수 있다. 관능성 실란 커플링제의 구체예로서는, 트리메톡시실릴벤조산, γ―메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐트리메톡시실란, γ―이소시아네이토프로필트리에톡시실란, γ―글리시독시프로필트리메톡시실란, β―(3,4―에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 감방사선성 수지 조성물에 있어서, 이러한 밀착 보조제는, 공중합체 [A] 100질량부에 대하여, 바람직하게는 1질량부 이상 20질량부 이하, 보다 바람직하게는 3질량부 이상 15질량부 이하의 양으로 사용된다. 밀착 보조제의 양을 1질량부 이상 20질량부 이하로 함으로써, 형성되는 층간 절연막과 기체(基體)와의 밀착성이 개선된다.
[I]성분의 감열성 산발생제는, 열을 가함으로써, [A]성분을 경화시킬 때의 촉매로서 작용하는 산성 활성 물질을 방출할 수 있는 화합물로 정의된다. 이러한 [I]성분의 화합물을 사용함으로써, 감방사선성 수지 조성물의 현상 후의 가열 공정에 있어서의 [A]성분의 경화 반응을 보다 촉진시켜, 표면 경도 및 내열성이 우수한 층간 절연막을 형성할 수 있다.
[I]성분의 감열성 산발생제에는, 이온성 화합물 및 비이온성 화합물이 포함된다. 이온성 화합물로서는, 중금속이나 할로겐 이온을 포함하지 않는 것이 바람직하다. 이온성의 감열성 산발생제의 예로서는, 트리페닐술포늄, 1―디메틸티오나프탈렌, 1―디메틸티오―4―하이드록시나프탈렌, 1―디메틸티오―4,7―디하이드록시나프탈렌, 4―하이드록시페닐디메틸술포늄, 벤질―4―하이드록시페닐메틸술포늄, 2―메틸벤질―4―하이드록시페닐메틸술포늄, 2―메틸벤질―4―아세틸페닐메틸술포늄, 2―메틸벤질―4―벤조일옥시페닐메틸술포늄, 이들의 메탄술폰산염, 트리플루오로메탄술폰산염, 캄포술폰산염, p―톨루엔술폰산염, 헥사플루오로포스폰산염 등을 들 수 있다. 또한, 벤질술포늄염의 시판품의 예로서는, SI―60, SI―80, SI―100, SI―110, SI―145, SI―150, SI―80L, SI―100L, SI―110L, SI―145L, SI―150L, SI―160L, SI―180L(산신카가쿠코교 가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있다.
비이온성의 감열성 산발생제의 예로서는, 예를 들면 할로겐 함유 화합물, 디아조메탄 화합물, 술폰 화합물, 술폰산 에스테르 화합물, 카본산 에스테르 화합물, 인산 에스테르 화합물, 술폰이미드 화합물, 술폰벤조트리아졸 화합물 등을 들 수 있다.
할로겐 함유 화합물의 예로서는, 할로알킬기 함유 탄화 수소 화합물, 할로알킬기 함유 헤테로 환상 화합물 등을 들 수 있다. 바람직한 할로겐 함유 화합물의 예로서는, 1,1―비스(4―클로로페닐)―2,2,2―트리클로로에탄, 2―페닐―4,6―비스(트리클로로메틸)―s―트리아진, 2―나프틸―4,6―비스(트리클로로메틸)―s―트리아진 등을 들 수 있다.
디아조메탄 화합물의 예로서는, 비스(트리플루오로메틸술포닐)디아조메탄, 비스(사이클로헥실술포닐)디아조메탄, 비스(페닐술포닐)디아조메탄, 비스(p―톨릴술포닐)디아조메탄, 비스(2,4―크실릴술포닐)디아조메탄, 비스(p―클로로페닐술포닐)디아조메탄, 메틸술포닐―p―톨루엔술포닐디아조메탄, 사이클로헥실술포닐(1,1―디메틸에틸술포닐)디아조메탄, 비스(1,1―디메틸에틸술포닐)디아조메탄, 페닐술포닐(벤조일)디아조메탄 등을 들 수 있다.
술폰 화합물의 예로서는, β―케토술폰 화합물, β―술포닐술폰 화합물, 디아릴디술폰 화합물 등을 들 수 있다. 바람직한 술폰 화합물의 예로서는, 4―트리스펜아실술폰, 메시틸펜아실술폰, 비스(페닐술포닐)메탄, 4―클로로페닐―4―메틸페닐디술폰 화합물 등을 들 수 있다.
술폰산 에스테르 화합물의 예로서는, 알킬술폰산 에스테르, 할로알킬술폰산 에스테르, 아릴술폰산 에스테르, 이미노술포네이트 등을 들 수 있다. 바람직한 술폰산 에스테르 화합물의 예로서는, 벤조인토실레이트, 피로갈롤트리메실레이트, 니트로벤질―9,10―디에톡시안트라센―2―술포네이트, 2,6―디니트로벤질벤젠술포네이트 등을 들 수 있다. 이미노술포네이트의 시판품의 예로서는, PAI―101(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조), PAI―106(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조), CGI―1311(치바스페셜티케미칼즈 가부시키가이샤 제조)을 들 수 있다.
카본산 에스테르 화합물의 예로서는, 카본산 o―니트로벤질에스테르를 들 수 있다.
술폰이미드 화합물의 예로서는, N―(트리플루오로메틸술포닐옥시)숙신이미드(상품명 「SI―105」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(캄포술포닐옥시)숙신이미드(상품명 「SI―106」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(4―메틸페닐술포닐옥시)숙신이미드(상품명 「SI―101」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(2―트리플루오로메틸페닐술포닐옥시)숙신이미드, N―(4―플루오로페닐술포닐옥시)숙신이미드, N―(트리플루오로메틸술포닐옥시)프탈이미드, N―(캄포술포닐옥시)프탈이미드, N―(2―트리플루오로메틸페닐술포닐옥시)프탈이미드, N―(2―플루오로페닐술포닐옥시)프탈이미드, N―(트리플루오로메틸술포닐옥시)디페닐말레이미드(상품명 「PI―105」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(캄포술포닐옥시)디페닐말레이미드, N―(4―메틸페닐술포닐옥시)디페닐말레이미드, N―(2―트리플루오로메틸페닐술포닐옥시)디페닐말레이미드, N―(4―플루오로페닐술포닐옥시) 디페닐말레이미드, N―(페닐술포닐옥시)비사이클로[2.2.1]헵트―5―엔―2,3―디카복실이미드(상품명 「NDI―100」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(4―메틸페닐술포닐옥시)비사이클로[2.2.1]헵트―5―엔―2,3―디카복실이미드(상품명 「NDI―101」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(트리플루오로메탄술포닐옥시)비사이클로[2.2.1]헵트―5―엔―2,3―디카복실이미드(상품명 「NDI―105」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(노나플루오로부탄술포닐옥시)비사이클로[2.2.1]헵트―5―엔―2,3―디카복실이미드(상품명「NDI―109」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(캄포술포닐옥시)비사이클로[2.2.1]헵트―5―엔―2,3―디카복실이미드(상품명「NDI―106 」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(캄포술포닐옥시)―7―옥사비사이클로[2.2.1]헵트―5―엔―2,3―디카복실이미드, N―(트리플루오로메틸술포닐옥시)―7―옥사비사이클로[2.2.1]헵트―5―엔―2,3―디카복실이미드, N―(4―메틸페닐술포닐옥시)비사이클로[2.2.1]헵트―5―엔―2,3―디카복실이미드, N―(4―메틸페닐술포닐옥시)―7―옥사비사이클로[2.2.1]헵트―5―엔―2,3―디카복실이미드, N―(2―트리플루오로메틸페닐술포닐옥시)비사이클로[2.2.1]헵트―5―엔―2,3―디카복실이미드, N―(2―트리플루오로메틸페닐술포닐옥시)―7―옥사비사이클로[2.2.1]헵트―5―엔―2,3―디카복실이미드, N―(4―플루오로페닐술포닐옥시)비사이클로[2.2.1]헵트―5―엔―2,3―디카복실이미드, N―(4―플루오로페닐술포닐옥시)―7―옥사비사이클로[2.2.1]헵트―5―엔―2,3―디카복실이미드, N―(트리플루오로메틸술포닐옥시) 비사이클로[2.2.1]헵탄―5,6―옥시―2,3―디카복실이미드, N―(캄포술포닐옥시)비사이클로[2.2.1]헵탄―5,6―옥시―2,3―디카복실이미드, N―(4―메틸페닐술포닐옥시)비사이클로[2.2.1]헵탄―5,6―옥시―2,3―디카복실이미드, N―(2―트리플루오로메틸페닐술포닐옥시)비사이클로[2.2.1]헵탄―5,6―옥시―2,3―디카복실이미드, N―(4―플루오로페닐술포닐옥시)비사이클로[2.2.1]헵탄―5,6―옥시―2,3―디카복실이미드,
N―(트리플루오로메틸술포닐옥시)나프틸디카복실이미드(상품명 「NAI―105」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(캄포술포닐옥시)나프틸디카복실이미드(상품명 「NAI―106」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(4―메틸페닐술포닐옥시)나프틸디카복실이미드(상품명「NAI―101」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(페닐술포닐옥시)나프틸디카복실이미드(상품명 「NAI―100」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(2―트리플루오로메틸페닐술포닐옥시)나프틸디카복실이미드, N―(4―플루오로페닐술포닐옥시)나프틸디카복실이미드, N―(펜타플루오로에틸술포닐옥시)나프틸디카복실이미드, N―(헵타플루오로프로필술포닐옥시)나프틸디카복실이미드, N―(노나플루오로부틸술포닐옥시)나프틸디카복실이미드(상품명 「NAI―109」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(에틸술포닐옥시)나프틸디카복실이미드, N―(프로필술포닐옥시)나프틸디카복실이미드, N―(부틸술포닐옥시)나프틸디카복실이미드(상품명 「NAI―1004」(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조)), N―(펜틸술포닐옥시)나프틸디카복실이미드, N―(헥실술포닐옥시)나프틸디카복실이미드, N―(헵틸술포닐옥시)나프틸디카복실이미드, N―(옥틸술포닐옥시)나프틸디카복실이미드, N―(노닐술포닐옥시)나프틸디카복실이미드 등을 들 수 있다.
감열성 산발생제의 그 외의 예로서는, 1―(4―n―부톡시나프탈렌―1―일)테트라하이드로티오페늄 트리플루오로메탄술포네이트, 1―(4,7―디부톡시―1―나프탈레닐)테트라하이드로티오페늄 트리플루오로메탄술포네이트 등의 테트라하이드로티오페늄염을 들 수 있다.
여기까지 든 감열성 산발생제 중에서도, [A]성분의 경화 반응의 촉매 작용의 관점에서, 벤질―4―하이드록시페닐메틸술포늄 헥사플루오로포스페이트, 1―(4,7―디부톡시―1―나프탈레닐)테트라하이드로티오페늄 트리플루오로메탄술포네이트, N―(트리플루오로메틸술포닐옥시)나프틸 디카복실이미드가 특히 바람직하다.
[I]성분의 감열성 산발생제는 1종을 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다. [I]성분을 사용하는 경우의 양은, [A]성분 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1질량부∼10질량부, 더욱 바람직하게는 1질량부∼5질량부이다. [I]성분의 사용량을 0.1질량부∼10질량부로 함으로써, 포지티브형 감방사선성 조성물의 방사선 감도를 최적화하여, 투명성을 유지하면서 표면 경도가 높은 층간 절연막을 형성할 수 있다.
감방사선성
수지 조성물
본 발명의 감방사선성 수지 조성물은, 상기의 [A], [B] 및 [C]성분과, 임의 성분([D]∼[I]성분)을 균일하게 혼합함으로써 조제된다. 통상, 감방사선성 수지 조성물은, 바람직하게는 적당한 용매에 용해시켜 용액 상태로 보존하여 사용된다. 예를 들면, 용매 중에서, [A], [B] 및 [C]성분과, 임의 성분을 소정 비율로 혼합함으로써, 용액 상태의 감방사선성 수지 조성물을 조제할 수 있다.
감방사선성 수지 조성물의 조제에 사용되는 용매로서는, 상기의 [A], [B] 및 [C]성분과, 임의 성분([D]∼[I]성분)의 각 성분을 균일하게 용해시키고, 또한 각 성분과 반응하지 않는 것인 한, 특별히 한정되는 것은 아니다. 이러한 용매로서는, 공중합체 [A]를 제조하기 위해 사용할 수 있는 용매로서 예시한 용매와 동일한 것을 들 수 있다.
이러한 용매 중, 각 성분의 용해성, 각 성분과의 비(非)반응성, 도막 형성의 용이성 등의 관점에서, 알코올류, 글리콜에테르, 에틸렌글리콜 알킬에테르 아세테이트, 에스테르류 및 디에틸렌글리콜 알킬에테르가 바람직하게 사용된다. 이들 용매 중, 벤질알코올, 2―페닐에틸알코올, 3―페닐―1―프로판올, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 2― 또는 3―메톡시프로피온산 메틸, 2― 또는 3―에톡시프로피온산 에틸이 특히 바람직하게 사용될 수 있다.
또한, 형성되는 도막의 막두께의 면내 균일성을 높이기 위해, 상기 용매와 함께 고비점(高沸点) 용매를 병용할 수도 있다. 병용할 수 있는 고비점 용매로서는, 예를 들면 N―메틸포름아미드, N,N―디메틸포름아미드, N―메틸포름아닐리드, N―메틸아세트아미드, N,N―디메틸아세트아미드, N―메틸피롤리돈, 디메틸술폭사이드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세토닐아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1―옥탄올, 1―노난올, 아세트산 벤질, 벤조산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레산 디에틸, γ―부티로락톤, 탄산 에틸렌, 탄산 프로필렌, 페닐셀로솔브 아세테이트 등을 들 수 있다. 이들 고비점 용매 중, N―메틸피롤리돈, γ―부티로락톤, N,N―디메틸아세트아미드가 바람직하다.
감방사선성 수지 조성물의 용매로서, 고비점 용매를 병용하는 경우, 그의 사용량은, 용매 전량에 대하여 50질량% 이하, 바람직하게는 40질량% 이하, 더욱 바람직하게는 30질량% 이하로 할 수 있다. 고비점 용매의 사용 비율을 50질량% 이하로 함으로써, 도막의 막두께 균일성을 높임과 동시에, 방사선 감도의 저하를 억제할 수 있다.
감방사선성 수지 조성물을 용액 상태로 하여 조제하는 경우, 용액 중에 차지하는 용매 이외의 성분(즉, 공중합체 [A], [B] 및 [C]성분과, 그 외의 임의 성분의 합계량)의 비율은, 사용 목적이나 원하는 막두께 등에 따라서 임의로 설정할 수 있지만, 바람직하게는 5∼50질량%, 보다 바람직하게는 10∼40질량%, 더욱 바람직하게는 15∼35질량%이다. 이와 같이 하여 조제된 감방사선성 수지 조성물 용액은, 공경 0.2㎛ 정도의 밀리포어 필터 등을 사용하여 여과한 후, 사용에 제공할 수도 있다.
층간 절연막의 형성
다음으로, 상기의 감방사선성 수지 조성물을 사용하여, 본 발명의 층간 절연막을 형성하는 방법에 대해서 기술한다. 당해 방법은 이하의 공정을 이하의 기재순으로 포함한다.
(1) 본 발명의 감방사선성 수지 조성물의 도막을 기판상에 형성하는 공정,
(2) 공정 (1)에서 형성된 도막의 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정,
(3) 공정 (2)에서 방사선이 조사된 도막을 현상하는 공정 및,
(4) 공정 (3)에서 현상된 도막을 가열에 의해 소성하는 공정.
(1)
감방사선성
수지 조성물의 도막을 기판상에 형성하는 공정
상기 (1)의 공정에 있어서는, 본 발명의 감방사선성 수지 조성물 용액을 기판 표면에 도포하고, 바람직하게는 프리베이킹을 행함으로써 용제를 제거하여, 감방사선성 수지 조성물의 도막을 형성한다. 사용할 수 있는 기판의 종류로서는, 예를 들면, 유리 기판, 실리콘 웨이퍼, 플라스틱 기판 및, 이들 표면에 각종 금속이 형성된 기판을 들 수 있다. 상기 플라스틱 기판으로서는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트, 폴리이미드 등의 플라스틱으로 이루어지는 수지 기판을 들 수 있다.
조성물 용액의 도포 방법으로서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 스프레이법, 롤 코팅법, 회전 도포법(스핀 코팅법), 슬릿 다이 도포법, 바 도포법, 잉크젯법 등의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 이들 도포 방법 중에서도, 스핀 코팅법, 바 도포법, 슬릿 다이 도포법이 바람직하다. 프리베이킹의 조건으로서는, 각 성분의 종류, 사용 비율 등에 따라서도 다르지만, 예를 들면, 60∼90℃에서 30초간∼10분간 정도로 할 수 있다. 형성되는 도막의 막두께는, 프리베이킹 후의 값으로서, 바람직하게는 0.1∼8㎛이며, 보다 바람직하게는 0.1∼6㎛이며, 더욱 바람직하게는 0.1∼4㎛이다.
(2) 도막의 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정
상기 (2)의 공정에서는, 형성된 도막에 소정의 패턴을 갖는 마스크를 통하여, 방사선을 조사한다. 이때 사용되는 방사선으로서는, 예를 들면 자외선, 원자외선, X선, 하전 입자선 등을 들 수 있다.
상기 자외선으로서는, 예를 들면 g선(파장 436㎚), i선(파장 365㎚) 등을 들 수 있다. 원자외선으로서는, 예를 들면 KrF 엑시머 레이저 등을 들 수 있다. X선으로서는, 예를 들면 싱크로트론 방사선 등을 들 수 있다. 하전 입자선으로서는, 예를 들면 전자선 등을 들 수 있다. 이들 방사선 중, 자외선이 바람직하며, 자외선 중에서도 g선 및/또는 i선을 포함하는 방사선이 특히 바람직하다. 노광량으로서는, 30∼1,500J/㎡로 하는 것이 바람직하다.
(3) 현상 공정
(3)의 현상 공정에 있어서, 상기 (2)의 공정에서 방사선이 조사된 도막에 대하여 현상을 행하고, 방사선의 조사 부분을 제거하여, 원하는 패턴을 형성할 수 있다. 현상 처리에 사용되는 현상액으로서는, 예를 들면 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산 나트륨, 규산 나트륨, 메타규산 나트륨, 암모니아, 에틸아민, n―프로필아민, 디에틸아민, 디에틸아미노에탄올, 디―n―프로필아민, 트리에틸아민, 메틸디에틸아민, 디메틸에탄올아민, 트리에탄올아민, 테트라메틸암모늄 하이드록사이드, 테트라에틸암모늄 하이드록사이드, 피롤, 피페리딘, 1,8―디아자비사이클로〔5,4,0〕―7―운데센, 1,5―디아자비사이클로〔4,3,0〕―5―노난 등의 알칼리(염기성 화합물) 수용액을 사용할 수 있다. 또한, 상기의 알칼리 수용액에 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기 용매나 계면 활성제를 적당량 첨가한 수용액, 또는 감방사선성 수지 조성물을 용해하는 각종 유기 용매를 소량 포함하는 알칼리 수용액을 현상액으로서 사용할 수 있다. 또한, 현상 방법으로서는, 예를 들면, 퍼들법, 딥핑법, 요동 침지법, 샤워법 등의 적절한 방법을 사용할 수 있다. 현상 시간은 감방사선성 수지 조성물의 조성에 따라서 다르지만, 예를 들면 30∼120초간으로 할 수 있다.
이 현상 공정 후에, 패터닝된 박막에 대하여 유수(流水) 세정에 의한 린스 처리를 행하고, 이어서, 고압 수은등 등에 의한 방사선을 전면(全面)에 조사(후노광)함으로써, 박막 중에 잔존하는 1,2―퀴논디아지드 화합물의 분해 처리를 행하는 것이 바람직하다.
(4) 가열 공정
이어서, (4) 가열 공정에 있어서, 핫 플레이트, 오븐 등의 가열 장치를 사용하여, 이 박막을 가열·소성 처리(포스트 베이킹 처리)함으로써 박막의 경화를 행한다. 상기의 후노광에 있어서의 노광량은, 바람직하게는 2,000∼5,000J/㎡ 정도이다. 또한, 이 가열 공정에 있어서의 소성 온도는, 바람직하게는 120∼180℃이며, 특히 바람직하게는 120∼150℃이다. 가열 시간은 가열 기기의 종류에 따라서 다르지만, 예를 들면, 핫 플레이트상에서 가열 처리를 행하는 경우에는 5∼40분간, 오븐 안에서 가열 처리를 행하는 경우에는 30∼80분간으로 할 수 있으며, 특히 바람직하게는 핫 플레이트상에서 가열 처리를 행하는 경우에는 30분간 이내, 오븐 안에서 가열 처리를 행하는 경우에는 60분간 이내이다. 이와 같이 하여, 목적으로 하는 층간 절연막에 대응하는 패턴 형상 박막을 기판의 표면상에 형성할 수 있다.
상기한 바와 같이, 저온 그리고 단시간의 가열에 의해 형성되는 본 발명의 층간 절연막은, 후술하는 실시예로부터도 분명해지는 바와 같이, 충분한 표면 경도를 가짐과 함께, 내용제성 및 비유전율이 우수하다. 따라서, 이 층간 절연막은 플렉시블 디스플레이의 층간 절연막으로서 적합하게 사용된다.
(실시예)
이하, 합성예 및 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
이하에 있어서, 공중합체의 중량 평균 분자량(Mw) 및 수평균 분자량(Mn)은, 하기의 조건에 의한 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정했다.
측정 장치 : 「HLC8220 시스템」(토소 가부시키가이샤 제조)
분리 칼럼 : TSKgelGMHHR―N(토소 가부시키가이샤 제조)의 4개를 직렬로 접속
칼럼 온도 : 40℃
용출 용매 : 테트라하이드로푸란(와코준야쿠코교 가부시키가이샤 제조)
유속 : 1.0mL/분
시료 농도 : 1.0질량%
시료 주입량 : 100㎕
검출기 : 시차 굴절계
표준 물질 : 단분산 폴리스티렌
또한, 감방사선성 수지 조성물의 용액 점도는, E형 점도계(도쿄케이키 가부시키가이샤 제작)를 사용하여 30℃에 있어서 측정했다.
공중합체의 합성예
[합성예 1]
냉각관, 교반기를 구비한 플라스크에, 2,2'―아조비스(2,4―디메틸발레로니트릴) 7질량부, 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르 200질량부를 넣었다. 이어서 메타크릴산 16질량부, 트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸―8―일 메타크릴레이트 16질량부, 2―메틸사이클로헥실 아크릴레이트 20질량부, 메타크릴산 글리시딜 40질량부, 스티렌 10질량부를 넣고, 질소 치환한 후, 완만하게 교반을 시작했다. 용액의 온도를 70℃로 상승시키고, 이 온도를 4시간 유지함으로써, 공중합체 [A―1]을 함유하는 중합체 용액을 얻었다. 이 공중합체 [A―1]의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(Mw)은 8,000, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.3이었다. 또한, 여기에서 얻어진 중합체 용액의 고형분 농도(중합체 용액에 포함되는 공중합체의 질량이 중합체 용액의 전중량에서 차지하는 비율을 말함. 이하 동일)는 34.4질량%였다.
[합성예 2]
냉각관, 교반기를 구비한 플라스크에, 2,2'―아조비스(2,4―디메틸발레로니트릴) 8질량부 및, 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르 220질량부를 넣었다. 이어서, 메타크릴산 11질량부, 테트라하이드로푸르푸릴 메타크릴레이트 12질량부, 메타크릴산 글리시딜 40질량부, N―사이클로헥실 말레이미드 15질량부, n―라우릴 메타크릴레이트 10질량부, α―메틸―p―하이드록시스티렌 10질량부를 넣고, 질소 치환한 후, 완만하게 교반을 시작했다. 용액의 온도를 70℃로 상승시키고, 이 온도를 5시간 유지함으로써, 공중합체 [A―2]를 함유하는 중합체 용액을 얻었다. 이 공중합체 [A―2]의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(Mw)은 8,000, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.3이었다. 또한, 여기에서 얻어진 중합체 용액의 고형분 농도는 31.9질량%였다.
[비교 합성예 1]
냉각관, 교반기를 구비한 플라스크에, 질소 기류하, 2,2―비스(3―아미노―4―메틸페닐)헥사플루오로프로판 18질량부를 넣고, N―메틸―2―피롤리돈 75질량부에 용해시킨 후, 1,2,3,4―사이클로부탄 테트라카본산 무수물 9.5질량부를 가하고, 이를 실온에서 8시간 교반하여 중합 반응을 행했다. 얻어진 폴리아미드산의 용액을 N―메틸―2―피롤리돈으로 10질량%로 희석했다. 이 용액에 이미드화 촉매로서 무수 아세트산 26질량부, 피리딘 16질량부를 가하여, 실온에서 30분간 반응시키고, 그 후 40℃에서 90분간 반응시켜 폴리이미드 용액을 얻었다. 이 용액을 대량의 메탄올 및 물의 혼합 용액 중에 투입하고, 얻어진 백색 침전을 여과 분별하여, 건조시켜, 백색의 폴리이미드 [P―1]의 분말을 얻었다. 이 폴리이미드 분말을 프로필렌글리콜 모노메틸에테르에 용해시켜, 폴리이미드 [P―1]을 함유하는 용액을 얻었다.
<수지 조성물의 조제>
[실시예 1]
[A]성분으로서 합성예 1의 공중합체 [A―1]을 함유하는 용액을, 공중합체 100질량부(고형분)에 상당하는 양 및, [B]성분으로서 4,4'―〔 1―〔4―〔1―〔4―하이드록시페닐〕―1―메틸에틸〕 페닐〕 에틸리덴〕비스페놀(1.0몰)과, 1,2―나프토퀴논디아지드―5―술폰산 클로라이드(2.0몰)와의 축합물(B―1) 30질량부 및, [C]성분(가교제)으로서 펜타에리스리톨 테트라키스(3―머캅토프로피오네이트)(C―1) 30질량부를 첨가하고, 추가로, 고형분 농도가 30질량%가 되도록 용매로서 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르를 첨가한 후, 구경 0.2㎛의 멤브레인 필터로 여과함으로써, 감방사선성 수지 조성물(S―1)을 조제했다.
[실시예 2]
[A]성분으로서 합성예 1의 공중합체 [A―1]을 함유하는 용액을, 공중합체 100질량부(고형분)에 상당하는 양 및, [B]성분으로서 4,4'―〔 1―〔4―〔1―〔4―하이드록시페닐〕―1―메틸에틸〕페닐〕에틸리덴〕비스페놀(1.0몰)과, 1,2―나프토퀴논디아지드―5―술폰산 클로라이드(2.0몰)와의 축합물(B―1) 30질량부 및, [C]성분(가교제)으로서 펜타에리스리톨 테트라키스(3―머캅토프로피오네이트)(C―1) 30질량부 및, [D]성분(가교 보조제)으로서 2―페닐벤즈이미다졸(D―1) 0.5질량부를 첨가하고, 추가로, 고형분 농도가 30질량%가 되도록 용매로서 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르를 첨가한 후, 구경 0.2㎛의 멤브레인 필터로 여과함으로써, 감방사선성 수지 조성물(S―2)을 조제했다.
[실시예 3]
공중합체 [A―1] 대신에 공중합체 [A―2]를 사용한 것 이외는, 실시예 2와 동일하게 하여 각 성분을 배합하여, 감방사선성 수지 조성물(S―3)을 조제했다.
[실시예 4]
[C]성분으로서 화합물(C―1) 대신에, 트리메틸올프로판 트리스(3―머캅토프로피오네이트)(C―2)를 사용한 것 이외는, 실시예 2와 동일하게 하여 각 성분을 배합하여, 감방사선성 수지 조성물(S―4)을 조제했다.
[실시예 5]
[C]성분으로서 화합물(C―1) 대신에, 디펜타에리스리톨 헥사키스(3―머캅토프로피오네이트)(C―3)를 사용한 것 이외는, 실시예 2와 동일하게 하여 각 성분을 배합하여, 감방사선성 수지 조성물(S―5)을 조제했다.
[실시예 6]
[D]성분으로서 화합물(D―1) 대신에, 2―메틸이미다졸(D―2)을 사용한 것 이외는, 실시예 2와 동일하게 하여 각 성분을 배합하여, 감방사선성 수지 조성물(S―6)을 조제했다.
[실시예 7]
[D]성분으로서 화합물(D―1) 대신에, 2―메틸벤즈이미다졸(D―3)을 사용한 것 이외는, 실시예 2와 동일하게 하여 각 성분을 배합하여, 감방사선성 수지 조성물(S―7)을 조제했다.
[실시예 8]
[C]성분으로서 화합물(C―1) 대신에, 1,3,5―트리스(3―머캅토부틸옥시에틸)―1,3,5―트리아진―2,4,6(1H,3H,5H)―트리온(C―4)을 사용한 것 이외는, 실시예 2와 동일하게 하여 각 성분을 배합하여, 감방사선성 수지 조성물(S―8)을 조제했다.
[실시예 9]
[C]성분으로서 화합물(C―1) 대신에, 펜타에리스리톨 테트라키스(3―머캅토부티레이트)(C―5)를 사용한 것 이외는, 실시예 2와 동일하게 하여 각 성분을 배합하여, 감방사선성 수지 조성물(S―9)을 조제했다.
[실시예 10]
[C]성분으로서 화합물(C―1) 대신에, 펜타에리스리톨 테트라키스(3―머캅토펜틸레이트)(C―6)를 사용한 것 이외는, 실시예 2와 동일하게 하여 각 성분을 배합하여, 감방사선성 수지 조성물(S―10)을 조제했다.
[실시예 11]
[C]성분으로서 화합물(C―1) 대신에, 테트라에틸렌글리콜 비스(3―머캅토프로피오네이트)(C―7)를 사용한 것 이외는, 실시예 2와 동일하게 하여 각 성분을 배합 하여, 감방사선성 수지 조성물(S―11)을 조제했다.
[실시예 12]
[C]성분으로서 화합물(C―1) 대신에, 펜타에리스리톨테트라키스(티오글리콜레이트)(C―8)를 사용한 것 이외는, 실시예 2와 동일하게 하여 각 성분을 배합하여, 감방사선성 수지 조성물(S―12)을 조제했다.
[실시예 13]
[C]성분으로서 화합물(C―1) 대신에, 1,4―비스(3―머캅토부티릴옥시)부탄(C―9)을 사용한 것 이외는, 실시예 2와 동일하게 하여 각 성분을 배합하여, 감방사선성선 수지 조성물(S―13)을 조제했다.
[실시예 14]
[I]성분으로서, 벤질―4―하이드록시페닐메틸술포늄 헥사플루오로포스페이트(I―1)를 사용한 것 이외는, 실시예 9와 동일하게 하여 각 성분을 배합하여, 감방사선성선 수지 조성물(S―14)을 조제했다.
[실시예 15]
[I]성분으로서, 1―(4,7―디부톡시―1―나프탈레닐)테트라하이드로티오페늄 트리플루오로메탄술포네이트(I―2)를 사용한 것 이외는, 실시예 9와 동일하게 하여 각 성분을 배합하여, 감방사선성 수지 조성물(S―15)을 조제했다.
[실시예 16]
[I]성분으로서, N―(트리플루오로메틸술포닐옥시)나프틸 디카복실이미드(I―3)를 사용한 것 이외는, 실시예 9와 동일하게 하여 각 성분을 배합하여, 감방사선성 수지 조성물(S―16)을 조제했다.
[비교예 1]
[C]성분을 사용하지 않은 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 각 성분을 배합하여, 감방사선성 수지 조성물(s―1)을 조제했다.
[비교예 2 및 3]
이들 비교예의 조성물(s―2)로서, 비교 합성예 1에서 얻어진 폴리이미드 [P―1]을 함유하는 용액을 준비했다.
[참고예 1]
본 참고예용으로서, 실시예 2와 동일한 감방사선성 수지 조성물(S―2)을 조제했다.
표 1 중, 성분의 약칭은 다음의 화합물을 나타낸다.
C―1 : 펜타에리스리톨 테트라키스(3―머캅토프로피오네이트)
C―2 : 트리메틸올프로판 트리스(3―머캅토프로피오네이트)
C―3 : 디펜타에리스리톨 헥사키스(3―머캅토프로피오네이트)
C―4 : 1,3,5―트리스(3―머캅토부틸옥시에틸)―1,3,5―트리아진―2,4,6(1H,3H,5H)―트리온
C―5 : 펜타에리스리톨 테트라키스(3―머캅토부티레이트)
C―6 : 펜타에리스리톨 테트라키스(3―머캅토펜틸레이트)
C―7 : 테트라에틸렌글리콜 비스(3―머캅토프로피오네이트)
C―8 : 펜타에리스리톨 테트라키스(티오글리콜레이트)
C―9 : 1,4―비스(3―머캅토부티릴옥시)부탄
D―1 : 2―페닐벤즈이미다졸
D―2 : 2―메틸이미다졸
D―3 : 2―메틸벤즈이미다졸
I―1 : 벤질―4―하이드록시페닐메틸술포늄 헥사플루오로포스페이트
I―2 : 1―(4,7―디부톡시―1―나프탈레닐)테트라하이드로티오페늄 트리플루오로메탄술포네이트
I―3 : N―(트리플루오로메틸술포닐옥시)나프틸 디카복실이미드(미도리카가쿠 가부시키가이샤 제조의「NAI―105」)
<층간 절연막으로서의 특성 평가>
상기와 같이 조제한 수지 조성물을 사용하여, 이하와 같이 층간 절연막으로서의 각종 특성을 평가했다.
〔방사선 감도의 평가〕
실시예 16을 제외하고, 실리콘 기판상에 스피너를 사용하여, 상기 조성물(S―1)∼(S―15) 및 (s―1)∼(s―2) 중 어느 하나를 도포한 후, 90℃에서 2분간 핫 플레이트상에서 프리베이킹하여 막두께 3.0㎛의 도막을 형성했다. 얻어진 도막에 폭 10㎛의 라인·앤드·스페이스 패턴을 갖는 패턴 마스크를 통하여, 수은 램프에 의해 소정량의 자외선을 조사했다. 이어서 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 2.38질량% 수용액으로 이루어지는 현상액을 사용하여, 25℃에서 60초 현상 처리를 행한 후, 초순수로 1분간 유수 세정을 행했다. 이때, 폭 10㎛의 라인·앤드·스페이스 패턴을 형성 가능한 최소 자외선 조사량을 측정했다. 이 값이 800J/㎡ 미만인 경우, 감도가 양호하다고 할 수 있다. 이 값을 방사선 감도로서 표 1에 나타냈다.
실시예 16에서는, 실리콘 기판 대신에 PET 필름(테이진 테트론 필름 O3, 두께 188㎛)을 사용하여, 상기 조성물(S―16)을 사용하여 바코터에 의해 도막을 형성했다. 90℃에서 2분간 클린 오븐에서 프리베이킹하여 막두께 3.0㎛의 도막을 형성했다. 그 후의 평가는 전압 유지율의 평가를 제외하고 실시예 1∼15와 동일하게 하여 행했다.
〔내용제성의 평가〕
실리콘 기판상에 스피너를 사용하여, 상기 조성물(S―1)∼(S―16) 및 (s―1)∼(s―2)의 어느 하나를 도포한 후, 90℃에서 2분간 핫 플레이트상에서 프리베이킹하여 막두께 3.0㎛의 도막을 형성했다. 얻어진 도막에 수은 램프에 의해 적산 조사량이 3,000J/㎡가 되도록 자외선을 조사했다. 이어서, 이 실리콘 기판을 핫 플레이트상에서, 실시예 1∼16 및 비교예 1∼2에 대해서는 150℃, 30분 가열함으로써, 비교예 3에 대해서는 150℃, 60분 가열함으로써, 또한 참고예 1에 대해서는 220℃, 30분 가열함으로써, 도막의 가열 처리를 행하여, 얻어진 경화막의 막두께(T1)를 측정했다. 그리고, 이 경화막이 형성된 실리콘 기판을, 70℃로 온도 제어된 디메틸술폭사이드 중에 20분간 침지시킨 후, 당해 경화막의 막두께(t1)를 측정하고, 침지에 의한 막두께 변화율{(t1―T1)/T1}×100〔%〕을 산출했다. 이 값의 절대치가 5% 미만인 경우에 내용제성은 우량하다고 할 수 있다. 결과를 표 1에 나타냈다.
〔비유전율의 평가〕
실리콘 기판상에 스피너를 사용하여, 상기 조성물 (S―1)∼(S―16) 및 (s―1)∼(s―2) 중 어느 하나를 도포한 후, 90℃에서 2분간 핫 플레이트상에서 프리베이킹하여 막두께 3.0㎛의 도막을 형성했다. 캐논 가부시키가이샤 제작의 MPA―600FA 노광기를 사용하여, 적산 조사량이 9,000J/㎡가 되도록 얻어진 도막을 노광하고, 이 기판을 클린 오븐 안에서 150℃로 30분 가열함으로써, SUS 기판상에 경화막을 형성했다. 증착법에 의해, 이 경화막상에 Pt/Pd 전극 패턴을 형성하여 유전율 측정용 샘플을 작성했다. 이 전극 패턴을 갖는 기판에 대해서, 요코가와·휴렛팩커드 가부시키가이샤 제작의 HP16451B 전극 및 HP4284A 프레시전 LCR 미터를 사용하여, 주파수 10kHz에서 CV법에 의해 비유전율의 측정을 행했다. 이 값이 3.9 이하일 때, 유전율은 양호하다고 할 수 있다. 측정 결과를 표 1에 나타냈다.
〔연필 경도(표면 경도)의 평가〕
상기의 〔내용제성의 평가〕에서 형성된 경화막을 갖는 기판에 대해서, JIS K―5400―1990의 8.4.1 연필 긁기 시험에 의해, 경화막의 연필 경도(표면 경도)를 측정했다. 이 값이 3H 또는 그보다 클 경우, 층간 절연막으로서의 표면 경도는 양호하며, 그 경화막을 형성하기 위해 사용한 수지 조성물은 충분한 경화성을 갖는다고 할 수 있다.
표 1에 나타난 결과로부터, 실시예 1∼16에서 조제된 감방사선성 수지 조성물은, 높은 방사선 감도를 갖고, 저온 그리고 단시간의 가열에 의해 높은 표면 경도를 갖는 경화막을 얻을 수 있음과 함께, 그 경화막은 우수한 내용제성 및 비유전율을 겸하고 있는 것을 알 수 있었다. 한편, [C]성분을 사용하지 않은 비교예 1에 있어서는, 저온 그리고 단시간의 가열에 의해서는 충분한 경화성이 발현되지 않고, 경화막의 내용제성 및 비유전율도 떨어져 있었다. 폴리이미드 용액을 사용하는 비교예 2 및 3에 있어서는, 노광 현상에 의한 패턴 형성이 가능하지 않고, 또한, 저온 그리고 단시간의 가열에 의해서는 충분한 경화성이 발현되지 않고, 경화막의 내용제성도 떨어져 있었다. 또한, 실시예 2에 있어서의 제(諸)특성의 평가 결과는, 실시예 2와 동일한 감방사선성 수지 조성물을 사용하여 가열 온도 및 시간을 크게 한 참고예 1에서 얻어진 평가 결과와 동등했다. 즉, 본 발명의 감방사선성 수지 조성물을 사용함으로써, 종래보다도 저온 그리고 단시간으로, 요구되는 표면 경도 등의 제특성을 만족하는 층간 절연막을 형성 가능한 것을 알 수 있었다.
<산업상 사용가능성>
본 발명의 감방사선성 수지 조성물은, 저온 그리고 단시간의 가열에 의해 층간 절연막을 형성하는 것이 가능하며, 내용제성 및 비유전율이 우수한 층간 절연막을 형성할 수 있기 때문에, 플렉시블 디스플레이의 층간 절연막의 형성 재료로서 적합하게 사용할 수 있다.
Claims (7)
- [A] (a1) 불포화 카본산과 불포화 카본산 무수물 중 어느 한쪽 또는 양쪽 모두, 및 (a2) 에폭시기 함유 불포화 화합물을 함유하는 단량체를 공중합함으로써 얻어지는 공중합체의 알칼리 가용성 수지에, 추가로,
[B] 1,2―퀴논디아지드 화합물 및,
가교제로서의 [C] 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물
을 함유하는 것을 특징으로 하는 감방사선성 수지 조성물. - 제1항에 있어서,
[C]성분의 1분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물이, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 감방사선성 수지 조성물:
(화학식 1)
(화학식 1 중, R1은 메틸렌기, 탄소수 2∼10의 알킬렌기 또는 알킬메틸렌기이고, Y는 단결합, ―CO― 또는 ―O―CO―*(단, 「*」을 붙인 결합수(手)가 R1과 결합함)이며, n은 2∼10의 정수이고, X는 1개 또는 복수개의 에테르 결합을 가질 수 있는 탄소수 2∼70의 n가의 탄화 수소기, 또는 n이 3인 경우, 하기 화학식 2로 표시되는 기임:
(화학식 2)
(화학식 2 중, 3개의 R2는, 각각 독립적으로, 메틸렌기 또는 탄소수 2∼6의 알킬렌기이고, 3개의 「*」은, 각각 결합수인 것을 나타냄)). - 제2항에 있어서,
[C]성분의 화학식 1로 표시되는 화합물이, 머캅토카본산과 다가 알코올과의 에스테르화물인 감방사선성 수지 조성물. - (1) 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 감방사선성 수지 조성물의 도막을 기판상에 형성하는 공정,
(2) 공정 (1)에서 형성된 도막의 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정,
(3) 공정 (2)에서 방사선이 조사된 도막을 현상하는 공정 및,
(4) 공정 (3)에서 현상된 도막을 가열에 의해 소성하는 공정
을 포함하는 층간 절연막의 형성 방법. - 제5항에 있어서,
공정 (4)의 소성 온도가 180℃ 이하인 층간 절연막의 형성 방법. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 감방사선성 수지 조성물로 형성된 층간 절연막.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2009-089624 | 2009-04-01 | ||
JP2009089624 | 2009-04-01 | ||
JPJP-P-2010-013224 | 2010-01-25 | ||
JP2010013224 | 2010-01-25 | ||
JP2010031492A JP5585112B2 (ja) | 2009-04-01 | 2010-02-16 | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜及びその形成方法 |
JPJP-P-2010-031492 | 2010-02-16 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100109848A KR20100109848A (ko) | 2010-10-11 |
KR101682937B1 true KR101682937B1 (ko) | 2016-12-06 |
Family
ID=42945045
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100026651A KR101682937B1 (ko) | 2009-04-01 | 2010-03-25 | 감방사선성 수지 조성물, 층간 절연막 및 그의 형성 방법 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101682937B1 (ko) |
CN (1) | CN101859067A (ko) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5736718B2 (ja) * | 2010-10-18 | 2015-06-17 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法 |
JP5510347B2 (ja) * | 2011-01-26 | 2014-06-04 | Jsr株式会社 | ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法 |
JP6552346B2 (ja) | 2015-09-04 | 2019-07-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007131658A (ja) | 2005-11-08 | 2007-05-31 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 樹脂組成物、硬化物、カラーフィルター、スペーサー、tft素子平坦化膜、および液晶表示装置 |
JP2007191566A (ja) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Jsr Corp | 新規樹脂及びそれを用いた感放射線性樹脂組成物 |
JP2009053667A (ja) | 2007-07-30 | 2009-03-12 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズとそれらの製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3965868B2 (ja) | 2000-06-12 | 2007-08-29 | Jsr株式会社 | 層間絶縁膜およびマイクロレンズ |
JP5212596B2 (ja) | 2006-05-24 | 2013-06-19 | 日産化学工業株式会社 | 有機トランジスタ |
JP5051365B2 (ja) | 2006-08-24 | 2012-10-17 | Jsr株式会社 | 感光性樹脂組成物、表示パネル用スペーサーおよび表示パネル |
CN100535748C (zh) * | 2006-11-28 | 2009-09-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 液晶显示器用彩色滤光片的红色光阻组合物及其应用 |
US8361696B2 (en) * | 2007-01-15 | 2013-01-29 | Lg Chem, Ltd. | Polymer resin compounds and photoresist composition including new polymer resin compounds |
-
2010
- 2010-03-25 KR KR1020100026651A patent/KR101682937B1/ko active IP Right Grant
- 2010-03-31 CN CN201010147524A patent/CN101859067A/zh active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007131658A (ja) | 2005-11-08 | 2007-05-31 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 樹脂組成物、硬化物、カラーフィルター、スペーサー、tft素子平坦化膜、および液晶表示装置 |
JP2007191566A (ja) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Jsr Corp | 新規樹脂及びそれを用いた感放射線性樹脂組成物 |
JP2009053667A (ja) | 2007-07-30 | 2009-03-12 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズとそれらの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101859067A (zh) | 2010-10-13 |
KR20100109848A (ko) | 2010-10-11 |
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---|---|---|---|
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
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